DE102019111096A1 - Device for agitation of a fluid and arrangement and method for wet chemical processing of a substrate - Google Patents
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Abstract
Mit der vorliegenden Erfindung wird eine Vorrichtung für eine intensive, gerichtete und reproduzierbare Agitation eines Fluids sowie eine Anordnung und ein Verfahren zur nasschemischen Bearbeitung eines Substrats mit reproduzierbaren Ergebnissen bereitgestellt.Dazu wird aus einer Zentrifugalbeschleunigung, die das Fluid erfährt, eine radiale Strömung erzeugt, die mit Hilfe geeigneter Mittel umgelenkt und auf die zu bearbeitende Oberfläche eines Substrates, welches in einem definierten Abstand in einer Halterung angeordnet ist, gerichtet wird und die Oberfläche des Substrates während der nasschemischen Bearbeitung gezielt und homogen anströmt.The present invention provides a device for intensive, directional and reproducible agitation of a fluid and an arrangement and a method for wet chemical processing of a substrate with reproducible results. For this purpose, a radial flow is generated from a centrifugal acceleration experienced by the fluid, which deflected with the aid of suitable means and directed onto the surface of a substrate to be processed, which is arranged at a defined distance in a holder, and the surface of the substrate flows in a targeted and homogeneous manner during the wet chemical processing.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Agitation eines Fluids sowie eine Anordnung und ein dazugehöriges Verfahren zur nasschemischen Bearbeitung eines Substrats.The present invention relates to a device for agitating a fluid and to an arrangement and an associated method for the wet-chemical processing of a substrate.
Mit Hilfe von nasschemischen Prozessen werden in der Halbleiterfertigung, der Oberflächen- oder Elektroniktechnologie planare Substrate in einem fluidischen Bad geätzt, galvanisiert oder anderweitig chemisch behandelt. Diese Prozesse können in Prozessgeschwindigkeit und -ausbeute durch die Diffusionsgeschwindigkeit von frischem Fluid zur Oberfläche hin und verbrauchtem Fluid von der Oberfläche weg, limitiert werden. Mit Hilfe einer geeigneten Agitation des Bades kann diese Begrenzung umgangen werden. Ideal ist hierbei eine homogene, reproduzierbare und gerichtete Anströmung des Substrates mit frischem Fluid.With the help of wet chemical processes, planar substrates are etched, electroplated or otherwise chemically treated in a fluidic bath in semiconductor production, surface or electronics technology. These processes can be limited in process speed and yield by the diffusion speed of fresh fluid towards the surface and used fluid away from the surface. This limitation can be circumvented with the help of suitable agitation of the bath. A homogeneous, reproducible and directed flow onto the substrate with fresh fluid is ideal here.
Im Labormaßstab werden chemische Bäder oft durch Schwenken auf Rüttelplatten (,Shaker‘) und Ähnlichem bewegt oder mit Hilfe eines Magnetrührers oder eines direkt angetriebenen Rührers gerührt (
Die bekannten Rührer oder Shaker haben den Nachteil, dass mit ihnen in dem fluidischen Bad keine gerichtete Strömung erzeugt wird. Außerdem stellen Rührer eine potentielle Gefahr für das zu bearbeitende Substrat dar und müssen so betrieben werden, dass eine Berührung der bewegten Teile mit der Substratoberfläche ausgeschlossen ist. Dies gelingt durch eine räumliche Trennung von Substrat und Rührer, wie in
Für Aufbauten mit Pumpen zur gerichteten Anströmung, wie z.B. in
Schließlich kann das Einblasen von Luft in ein Ätzbad nicht für alle fluidischen Bäder angewendet werden. Beispielsweise sind Entwicklerbäder empfindlich gegenüber Oxidation. Bei anderen Gasen kann eine Verdunstung des Lösemittels stark beschleunigt werden und sich so die Konzentration im Fluidbad ändern. Bäder die Tenside zur besseren Benetzung enthalten, können zu übermäßigem Schäumen neigen.Finally, blowing air into an etching bath cannot be used for all fluidic baths. For example, developer baths are sensitive to oxidation. With other gases, evaporation of the solvent can be greatly accelerated and the concentration in the fluid bath can change. Baths that contain surfactants for better wetting can tend to foam excessively.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, die aus dem Stand der Technik bekannten Nachteile zu überwinden und eine Vorrichtung für eine intensive, gerichtete und reproduzierbare Agitation eines Fluids bereitzustellen, bei der die Größe und Anzahl der mit dem Fluid in Kontakt stehenden Oberflächen minimiert ist, Totvolumina und Hinterschneidungen vermieden werden und auch die Menge an eingesetztem Fluid reduziert werden kann.
Ein weiterer Aspekt der vorliegenden Erfindung ist es, eine Anordnung und ein dazugehöriges Verfahren zur nasschemischen Bearbeitung eines Substrats vorzugsweise für Einzelprozesse geringer Losgröße mit reproduzierbaren Ergebnissen bereitzustellen, wobei das Substrat insbesondere eine dreidimensional strukturierte Oberfläche aufweist, wie sie beispielsweise bei der Prozessierung von MEMS (MikroElektronisch / Mechanische Systeme) auf Waferbasis vorkommt.The object of the present invention is to overcome the disadvantages known from the prior art and to provide a device for intensive, directed and reproducible agitation of a fluid, in which the size and number of surfaces in contact with the fluid is minimized, dead volumes and undercuts can be avoided and the amount of fluid used can also be reduced.
Another aspect of the present invention is to provide an arrangement and an associated method for wet-chemical processing of a substrate, preferably for individual processes of small batch sizes with reproducible results, the substrate in particular having a three-dimensionally structured surface, such as is used, for example, in the processing of MEMS (microelectronic / Mechanical systems) occurs on a wafer basis.
Erfindungsgemäß gelingt die Lösung dieser Aufgabe mit den Merkmalen des ersten, sechsten und siebenten Patentanspruches. Vorteilhafte Ausgestaltungen der erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Agitation eines Fluids sind in den Unteransprüchen angegeben.According to the invention, this object is achieved with the features of the first, sixth and seventh patent claims. Advantageous embodiments of the device according to the invention for agitating a fluid are specified in the subclaims.
Kern der vorliegenden Erfindung ist die Umwandlung einer rotatorischen Bewegung eines Rührers in eine gerichtete Fluidströmung nach dem Prinzip eines Radialverdichters. Hierbei wird aus einer Zentrifugalbeschleunigung, die das Fluid erfährt, eine radiale Strömung erzeugt, die mit Hilfe geeigneter Mittel umgelenkt und auf die zu bearbeitende Oberfläche eines Substrates gerichtet ist, welches in einem definierten Abstand in einer Halterung angeordnet ist. Die Umwandlung einer radialen Fluidbewegung in eine gerichtete Fluidströmung kann genutzt werden, um ein Substrat während einer nasschemischen Badbehandlung gezielt und homogen anzuströmen. Der Aufbau der vorgeschlagenen Vorrichtung erlaubt ihre einfache, sichere Anwendung und Reinigung. Sie besteht nur aus wenigen Teilen, die keine Hinterschneidungen aufweisen und aus korrosionsbeständigen Werkstoffen (z.B. Kunststoff) hergestellt werden können. Die Vorrichtung kommt ohne metallische Werkstoffe in Kontakt zum Fluid aus. Für die Bereitstellung einer rotatorischen Bewegung außerhalb des Fluids können handelsübliche Standardkomponenten verwendet werden.The core of the present invention is the conversion of a rotational movement of a stirrer into a directed fluid flow according to the principle of a radial compressor. Here, a radial flow is generated from a centrifugal acceleration experienced by the fluid, which is deflected with the aid of suitable means and directed onto the surface to be processed of a substrate which is arranged at a defined distance in a holder. The conversion of a radial fluid movement into a directed fluid flow can be used to target a substrate in a targeted and homogeneous manner during a wet chemical bath treatment. The structure of the proposed The device allows it to be used and cleaned easily and safely. It consists of only a few parts that have no undercuts and can be made of corrosion-resistant materials (e.g. plastic). The device manages without metallic materials in contact with the fluid. Commercially available standard components can be used to provide a rotational movement outside the fluid.
Wie aus
Die in
In the
In
Zur nasschemischen Bearbeitung eines Substrats wird die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Agitation eines Fluids parallel zu einer Halterung (Patsche) (
Bei bereits durchgeführten Anwendungstest hat sich gezeigt, dass für die Vorrichtung zur Agitation eines Fluids verschiedene Optimierungsmöglichkeiten denkbar sind. So können z.B. zur Vermeidung eines kapillaren Aufsteigens des Fluids zwischen den drei Teileinheiten diese mit geeigneten Nuten (
Schließlich ist es auch denkbar, anstelle der Schraubverbindung für die drei Teileinheiten der Vorrichtung eine Klemmschiene zu verwenden.In application tests that have already been carried out, it has been shown that various optimization options are conceivable for the device for agitating a fluid. For example, to avoid a capillary rise of the fluid between the three sub-units, these can be fitted with suitable grooves (
Finally, it is also conceivable to use a clamping rail instead of the screw connection for the three sub-units of the device.
Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Agitation eines Fluids kann eine intensive, gerichtete und reproduzierbare Anströmung einer Subtratoberfläche in einem chemischen Bad (z.B. Ätzbad) realisiert werden. Sie zeichnet sich durch einen geringen Fluidverbrauch, durch einen hinterschneidungsfreien Aufbau ohne die Möglichkeit zur Bildung von Ablagerungen und durch die Metallfreiheit der im Fluidbad befindlichen Bauteile aus und ist preiswert in ihrer Herstellung. Die erfindungsgemäße Vorrichtung ist darüber hinaus leicht zu reinigen und verzichtet auf externe Pumpen und Schlauchanordnungen, wodurch nur eine minimale Anzahl von Bauteilen in Kontakt mit dem Fluid steht. Die Agitationsvorrichtung ist dafür geeignet, einzelne Substrate zu prozessieren und korrosive Gefahrstoffe in verschiedenen fluidischen Bädern sicher zu handhaben (kein Spritzen, kein Umkippen, kein Bersten des Gefäßes, kein Überlaufen, kein Überschäumen). Weiterhin ist sie einfach und schnell in Betrieb zu nehmen und ermöglicht eine schonende Behandlung des Substrates (keine Berührung mit bewegten Teilen, kein Vibrieren, keine zusätzliche Krafteinwirkungen), einen einfachen und schnellen Wechsel der Substrate, eine sichere Demontage sowie eine einfache und schnelle Reinigung nach ihrer Verwendung. Die Vorrichtung kann als Tischgerät für einzelnen Substrate ausgeführt oder, aus mehreren Einheiten zusammengesetzt, als Anlage betrieben werden.With the device according to the invention for agitating a fluid, an intensive, directed and reproducible flow onto a substrate surface in a chemical bath (eg etching bath) can be realized. It is characterized by low fluid consumption, by a structure free of undercuts without the possibility of deposits forming and by the fact that the components in the fluid bath are free of metal and are inexpensive to manufacture. The device according to the invention is also easy to clean and dispenses with external pumps and hose arrangements, which means that only a minimal number of components are used Is in contact with the fluid. The agitation device is suitable for processing individual substrates and for safely handling corrosive hazardous substances in various fluidic baths (no spraying, no tipping over, no bursting of the vessel, no overflowing, no foaming over). Furthermore, it is quick and easy to put into operation and enables gentle treatment of the substrate (no contact with moving parts, no vibration, no additional forces), simple and quick change of the substrates, safe dismantling and simple and quick cleaning their use. The device can be designed as a tabletop device for individual substrates or, composed of several units, operated as a system.
BezugszeichenlisteList of reference symbols
- 11
- - Ansaugeinheit- suction unit
- 22
- - Auströmeinheit- discharge unit
- 3a, b, c3a, b, c
- - Durchbrüche- breakthroughs
- 44th
- - Rührelement- stirring element
- 55
- - Zwischenelement- intermediate element
- 66th
- - Rührkammer- stirring chamber
- 7b, c7b, c
- - Mittel zur Verteilung, Umlenkung und Weiterleitung des Fluidstroms- Means for distributing, deflecting and forwarding the fluid flow
- 88th
- - Kavität- Cavity
- 99
- - Behälter- Container
- 1010
- - Fluid- fluid
- 1111
- - Patsche- fuck
- 1212
- - Substrat- substrate
- 1313
- - Nut- Nut
- 1414th
- - geschlitzte Platte- slotted plate
- 1515th
- - kontaktloser Antrieb- contactless drive
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN THE DESCRIPTION
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Zitierte PatentliteraturPatent literature cited
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- DE 19813232 C2 [0003]DE 19813232 C2 [0003]
- JP 60119728 A2 [0003]JP 60119728 A2 [0003]
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