DE102018221338A1 - Electrode stack for a galvanic cell - Google Patents

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Abstract

Vorgestellt wird ein Elektrodenstapel für eine Galvanische Zelle, wobei der Elektrodenstapel Schichten mit einem Kathoden-Trägermaterial oder einem Anoden-Trägermaterial aufweist. Dabei weist der Elektrodenstapel an mindestens einer Seite mindestens eine abgeschrägte Fläche mit einem Winkel von mindestens 95 Grad zu den Grenzflächen zwischen den Schichten des Elektrodenstapels auf.An electrode stack for a galvanic cell is presented, the electrode stack having layers with a cathode carrier material or an anode carrier material. The electrode stack has at least one beveled surface on at least one side with an angle of at least 95 degrees to the interfaces between the layers of the electrode stack.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Elektrodenstapel für eine Galvanische Zelle sowie ein Herstellungsverfahren für einen Elektrodenstapel für eine Galvanische Zelle.The present invention relates to an electrode stack for a galvanic cell and a manufacturing method for an electrode stack for a galvanic cell.

Stand der TechnikState of the art

Ein wichtiger Erfolgsfaktor für elektrifizierte Antriebe und viele weitere Anwendungen sind effiziente und robuste Speichersysteme. Neben der bereits weit verbreiteten Lithiumionen-Technologie nehmen auch sogenannte PLIT-Systeme an Bedeutung zu (PLIT = post Li-ion technologies).An important success factor for electrified drives and many other applications are efficient and robust storage systems. In addition to the already widespread lithium ion technology, so-called PLIT systems are also gaining in importance (PLIT = post Li-ion technologies).

Aus der DE 10 2016 203918 A1 ist ein Verfahren zur Herstellung eines Elektrodenstapels (10) für eine Batteriezelle bekannt.From the DE 10 2016 203918 A1 is a method of manufacturing an electrode stack ( 10th ) known for a battery cell.

Offenbarung der ErfindungDisclosure of the invention

Vorgestellt wird ein Elektrodenstapel für eine Galvanische Zelle, wobei der Elektrodenstapel Schichten aufweist, wobei die Schichtenfolge mindestens eine Schicht mit Kathoden-Trägermaterial (Kathodenträgerschicht) sowie eine Kathodenbeschichtung und / oder mindestens eine Schicht mit Anoden-Trägermaterial (Anodenträgerschicht) sowie eine Anodenbeschichtung umfasst.An electrode stack for a galvanic cell is presented, the electrode stack having layers, the layer sequence comprising at least one layer with cathode support material (cathode support layer) and a cathode coating and / or at least one layer with anode support material (anode support layer) and an anode coating.

Der Elektrodenstapel wird derart bearbeitet, dass eine abgeschrägte Fläche bzw. Fase entsteht, so dass die Auftragung von Separatorschichten auf der abgeschrägten Fläche bzw. Fase vereinfacht wird, insbesondere, dass bei Auftragung von Separatorschichten auf einer Oberfläche des Elektrodenstapels auch die schräge Fläche bzw. Fase mitbeschichtet werden kann.The electrode stack is processed in such a way that a chamfered surface or chamfer is created, so that the application of separator layers on the chamfered surface or chamfer is simplified, in particular that when applying separator layers on a surface of the electrode stack, the chamfered surface or chamfer is also simplified can also be coated.

Dazu weist der Elektrodenstapel an mindestens einer Seite mindestens eine abgeschrägte Fläche mit einem Winkel von mindestens 95 Grad zu den Grenzflächen zwischen den Schichten des Elektrodenstapels auf. In einer besonders bevorzugten Ausgestaltung beträgt der Winkel zwischen 105 Grad und 150 Grad. Für diesen Winkelbereich wird die Beschichtung der abgeschrägten Fläche mit Separatorschichten besonders vereinfacht, ohne dass die Abschrägung zu große negative Auswirkungen auf die sonstige Struktur des Elektrodenstapels hat.For this purpose, the electrode stack has at least one beveled surface on at least one side with an angle of at least 95 degrees to the interfaces between the layers of the electrode stack. In a particularly preferred embodiment, the angle is between 105 degrees and 150 degrees. For this angular range, the coating of the beveled surface with separator layers is particularly simplified, without the beveling having too great negative effects on the other structure of the electrode stack.

Hierdurch wird eine umschließende Einhüllung einer Elektrode mit Ausnahme der Fähnchen durch nicht elektronisch leitende Materialien ermöglicht, welche die Konzipierung der elektrischen Isolation der Galvanischen Zelle deutlich vereinfacht bzw. zu einer Reduktion der benötigten Bauteile führen kann. Die jeweils realisierten Vorteile können davon abhängen, welche Elektrode bzw. ob beide Elektroden mit Separatorschichten beschichtet werden.This enables an encapsulation of an electrode with the exception of the flags by non-electronically conductive materials, which significantly simplifies the design of the electrical insulation of the galvanic cell or can lead to a reduction in the required components. The advantages realized can depend on which electrode or whether both electrodes are coated with separator layers.

Vorteilhafterweise können Anode und Kathode lateral die gleiche Ausdehnung haben, da die Bildung von elektrischen Kurzschlüssen vermieden wird. Anforderungen an die Ausrichtung werden geringer, da die Anode nicht unbedingt größer sein muss.The anode and cathode can advantageously have the same lateral extension since the formation of electrical short circuits is avoided. Alignment requirements decrease as the anode does not necessarily have to be larger.

Zudem kann die Bauraumausnutzung optimiert werden, da im Bereich des Kathodenfähnchens kein zusätzlicher Separatorüberstand für die Isolation vorgesehen werden muss.In addition, the space utilization can be optimized, since no additional separator protrusion has to be provided for the insulation in the area of the cathode flag.

Auch das Ausbrechen von Grafitspänen, die zu einem Kurzschluss in der Zelle führen könnten, kann vermieden werden.The breaking out of graphite chips, which could lead to a short circuit in the cell, can also be avoided.

In einer bevorzugten Ausgestaltung wird eine Abschrägung ausgehend von der Unterfläche und eine Abschrägung ausgehend von der Oberfläche des Elektrodenstapels angesetzt, die jeweils einen Winkel größer 95 Grad bzw. bevorzugterweise einen Winkel zwischen 105 und 150 Grad zu Grenzflächen zwischen den Schichten des Elektrodenverbunds bilden. Hierdurch kann ein Aufbringen der Separatorschichten von zwei Seite aus erfolgen und somit der Aufbringprozess verbessert werden.In a preferred embodiment, a chamfer starting from the lower surface and a chamfer starting from the surface of the electrode stack are applied, each of which forms an angle greater than 95 degrees or preferably an angle between 105 and 150 degrees to interfaces between the layers of the electrode composite. In this way, the separator layers can be applied from two sides and the application process can thus be improved.

Der beschriebene Elektrodenstapel bzw. die beschriebenen Verfahren zur Herstellung eines Elektrodenstapels werden in bevorzugten Ausgestaltungen für einen Akkumulator eingesetzt. In alternativen Ausgestaltungen können sie für eine Brennstoffzelle eingesetzt werden.The electrode stack described and the methods described for producing an electrode stack are used in preferred configurations for an accumulator. In alternative configurations, they can be used for a fuel cell.

FigurenlisteFigure list

Nachfolgend ist die Erfindung unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen und anhand von Ausführungsbeispielen näher beschrieben. Dabei zeigen

  • 1 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel und eine Schnittfläche,
  • 2 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel mit Separatorschichten und eine Schnittfläche,
  • 3 schematisch einen beispielhaften Ausschnitt aus einer beispielhaften Galvanischen Zelle,
  • 4 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel mit einer schrägen Schnittfläche,
  • 5 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel nach einem Schnitt entlang einer schrägen Schnittfläche,
  • 6 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel nach einem Schnitt entlang einer schrägen Schnittfläche und mit aufgebrachter Separatorschicht,
  • 7 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel nach zwei Schnitten entlang schrägen Schnittflächen und mit aufgebrachter Separatorschicht,
  • 8 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel mit auf Oberfläche und Unterfläche aufgebrachten Separatorschichten nach einem Schnitt entlang einer schrägen Schnittfläche,
  • 8 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel mit auf Oberfläche und Unterfläche aufgebrachten Separatorschichten nach einem Schnitt entlang einer schrägen Schnittfläche und mit auf der Schnittfläche aufgebrachter Separatorschicht und
  • 9 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel mit auf Oberfläche und Unterfläche aufgebrachten Separatorschichten nach zwei Schnitten entlang schrägen Schnittflächen und mit auf den Schnittflächen aufgebrachten Separatorsch ichten.
The invention is described in more detail below with reference to the accompanying drawings and using exemplary embodiments. Show
  • 1 schematically an exemplary electrode stack and a cut surface,
  • 2nd schematically an exemplary electrode stack with separator layers and a cut surface,
  • 3rd schematically shows an exemplary section from an exemplary galvanic cell,
  • 4th schematically an exemplary electrode stack with an oblique cut surface,
  • 5 schematically shows an exemplary electrode stack after a cut along an oblique cut surface,
  • 6 schematically shows an exemplary electrode stack after a cut along an oblique cut surface and with an applied separator layer,
  • 7 schematically an exemplary electrode stack after two cuts along oblique cut surfaces and with an applied separator layer,
  • 8th schematically an exemplary electrode stack with separator layers applied to the surface and lower surface after a cut along an oblique cut surface,
  • 8th schematically shows an exemplary electrode stack with separator layers applied to the surface and lower surface after a cut along an oblique cut surface and with a separator layer and applied to the cut surface
  • 9 schematically shows an exemplary electrode stack with separator layers applied to the surface and bottom surface after two cuts along oblique cut surfaces and with separator layers applied to the cut surfaces.

Beschreibung der AusführungsbeispieleDescription of the embodiments

Der Elektrodenverbund in Galvanischen Zellen, insbesondere Akkumulatoren wie PLIT-Zellen ist üblicherweise ein Elektrodenstapel (Stack). Er besteht aus einer kontinuierlichen Abfolge von Anoden-, Separator- und Kathodenschichten.The electrode assembly in galvanic cells, in particular accumulators such as PLIT cells, is usually an electrode stack. It consists of a continuous sequence of anode, separator and cathode layers.

Die Anoden- und Kathodenblätter können hierfür beispielsweise mittels Laserprozess aus einem kontinuierlichen Band herausgeschnitten werden. Üblicherweise beträgt der Winkel zwischen der Schnittfläche oder Schnittkante und den Grenzflächen zwischen den Schichten (bzw. der Elektrodenoberfläche) ungefähr 90 Grad. Lediglich die kegelförmige Ausbildung der Schnittkante durch den Laserprozess kann zu einer geringfügigen Abweichung führen.For this purpose, the anode and cathode sheets can be cut out of a continuous band, for example by means of a laser process. The angle between the cut surface or cut edge and the interfaces between the layers (or the electrode surface) is usually approximately 90 degrees. Only the conical shape of the cutting edge through the laser process can lead to a slight deviation.

In 1 ist als Elektrodenstapel ein Kathodenverbund 1 gezeigt mit einem Kathoden-Trägermaterial 12 sowie Kathodenbeschichtungen 11 und 13. Der Elektrodenstapel wurde entlang einer Schnittfläche 100 abgeschnitten.In 1 is a cathode composite as an electrode stack 1 shown with a cathode support material 12 as well as cathode coatings 11 and 13 . The electrode stack was along an intersection 100 cut off.

Bringt man nun im Nachhinein eine Separatorschicht (wie zum Beispiel einen Festkörperionenleiter) mittels eines herkömmlichen Dünn- oder Dickschichtverfahrens auf, so bleibt die Schnittfläche bzw. Schnittkante unbeschichtet.If you subsequently apply a separator layer (such as a solid ion conductor) using a conventional thin or thick layer process, the cut surface or cut edge remains uncoated.

In 2 ist als Elektrodenstapel ein Kathodenverbund 2 gezeigt. Dieser geht aus dem Kathodenverbund in 1 hervor, indem Separatorschicht 25 auf die Schicht 13 sowie Separatorschicht 24 auf die Schicht 11 aufgebracht wurde. Entlang der Schnittfläche 200 bleibt der Kathodenverbund 2 ohne Separatorschicht.In 2nd is a cathode composite as an electrode stack 2nd shown. This goes out of the cathode assembly 1 emerged by separator layer 25th on the shift 13 and separator layer 24th on the shift 11 was applied. Along the cutting surface 200 remains the cathode composite 2nd without separator layer.

Dies führt zum einen zu einem erhöhten Aufwand für das Trennen von positivem und negativem Potential innerhalb des Elektrodenstapels. Die Kathode sollte deswegen kleiner sein als Anode und Separator, um Dendritenbildung und direkte elektrische Kurzschlüsse zu vermeiden. Zum anderen geht von der freistehenden Kante der größeren Elektrode (üblicherweise der Anode) eine erhöhte Gefahr eines Kurzschlusses mit der Umgebung aus. Insbesondere an der Position, an der das Kathodenfähnchen aus dem Elektrodenverbund heraustritt, ist dies zu berücksichtigen.On the one hand, this leads to an increased effort for the separation of positive and negative potential within the electrode stack. The cathode should therefore be smaller than the anode and separator to avoid dendrite formation and direct electrical short circuits. On the other hand, the free-standing edge of the larger electrode (usually the anode) poses an increased risk of a short circuit with the surroundings. This must be taken into account in particular at the position at which the cathode flag emerges from the electrode assembly.

Elektrodenstapel aus andere Prozessabläufen, bei denen z.B. die Separatorschichten vor dem Zuschneiden der Elektrodenblätter auf eine der Elektrodenbahnen aufgebracht werden, haben bei der Isolation des Elektrodenverbundes das gleiche Problem.Electrode stacks from other processes, in which e.g. the separator layers are applied to one of the electrode tracks before the electrode sheets are cut, have the same problem with the insulation of the electrode assembly.

In 3 ist ein Elektrodenstapel 3 gezeigt, welcher ein Kathodenträgermaterial 12 mit einem Kathodenfähnchen 121, eine Kathodenbeschichtung 11, eine Kathodenbeschichtung 13, eine Separatorschicht 34, ein Anodenträgermaterial 32, eine Anodenbeschichtung 31 und eine Anodenbeschichtung 33 aufweist. Insbesondere dort, wo das Kathodenfähnchen 121 aus dem Elektrodenstapel heraustritt und sich in der Nähe des an der Schnittfläche freiliegenden, d.h. keine Separatorschicht aufweisenden Anoden-Trägermaterials 32 befindet, besteht eine erhöhte Kurzschlussgefahr.In 3rd is an electrode stack 3rd shown which is a cathode support material 12 with a cathode flag 121 , a cathode coating 11 , a cathode coating 13 , a separator layer 34 , an anode support material 32 , an anode coating 31 and an anode coating 33 having. Especially where the cathode flag 121 emerges from the electrode stack and in the vicinity of the anode carrier material that is exposed at the cut surface, ie, has no separator layer 32 there is an increased risk of short circuit.

4 zeigt einen Elektrodenstapel 4, der in der Schichtabfolge dem Elektrodenstapel in 1 entspricht. 4th shows an electrode stack 4th that in the layer sequence of the electrode stack in 1 corresponds.

Als Material der Kathodenbeschichtungen können verschiedene Elektrodenzusammensetzungen eingesetzt werden, z.B. NCA, NCM811, NCM11, LFP oder Schwefel, plus Binder und Leitruß. Bei einem entsprechenden Anodenverbund als Elektrodenstapel können als Material für die Anodenbeschichtungen beispielsweise metallisches Lithium bzw. mit Indium legiertes Lithium oder andere Zusammensetzungen wie Kohlenstoff oder Silizium und Kohlenstoff, plus Binder und Leitruß eingesetzt werden. Als Trägermaterialien kann eine leitfähige Trägerstruktur wie z.B. eine Metallfolie, ein Streckmetall oder ein leitfähiges Gewebe eingesetzt werden.Various electrode compositions can be used as the material of the cathode coatings, e.g. NCA, NCM811, NCM11, LFP or sulfur, plus binder and conductive carbon black. In the case of a corresponding anode composite as an electrode stack, metallic lithium or lithium alloyed with indium or other compositions such as carbon or silicon and carbon, plus binder and conductive carbon black can be used as the material for the anode coatings. A conductive support structure such as e.g. a metal foil, an expanded metal or a conductive fabric can be used.

Für den Elektrodenstapel ist nun eine abgeschrägte Schnittfläche 400 vorgesehen.There is now a beveled cut surface for the electrode stack 400 intended.

In 5 ist der Elektrodenstapel aus 4 nach Schnitt entlang der Schnittfläche 400 gezeigt. Durch den Schnitt entlang der abgeschrägten Schnittfläche ist eine Fase bzw. abgeschrägte Fläche 400 entstanden. Zwischen der abgeschrägten Fläche 400 und den Grenzflächen zwischen den Schichten 13 und 12 bzw. 11 und 12 (bzw. zu mindestens einer Oberfläche des Elektrodenstapels, welcher durch die Außenflächen der Beschichtungen 11 und 13 gebildet wird) soll dabei ein Winkel 401 größer 95 Grad, insbesondere zwischen 105 Grad und 150 Grad entstehen. In 5 the electrode stack is out 4th after cutting along the cutting surface 400 shown. Due to the cut along the beveled cut surface, there is a chamfer or beveled surface 400 emerged. Between the beveled surface 400 and the interfaces between the layers 13 and 12 respectively. 11 and 12 (or to at least one surface of the electrode stack which passes through the outer surfaces of the coatings 11 and 13 an angle 401 greater than 95 degrees, especially between 105 degrees and 150 degrees.

Das Konturschneiden der Elektrodenblätter, auf die später der Separator aufgebracht werden soll, wird durch eine Änderung der Strahlstellung in 4 im Vergleich zu 1 so ausgeführt, dass eine umlaufende Fase entsteht. Die umlaufende Fase weist dabei insbesondere Winkel zwischen 30 Grad und 75 Grad zu einer Oberfläche auf (entsprechend zwischen 105 Grad und 150 Grad zur anderen Oberfläche).The contour cutting of the electrode sheets, to which the separator is later to be applied, is changed by changing the beam position in 4th compared to 1 designed so that a circumferential chamfer is created. The circumferential chamfer has in particular angles between 30 degrees and 75 degrees to one surface (correspondingly between 105 degrees and 150 degrees to the other surface).

Hierdurch wird es deutlich erleichtert, auf die entsprechenden Elektrodenblätter die Separatorbeschichtung so aufzubringen, dass auch die Schnittfläche bzw. Schnittkante isoliert ist.This makes it considerably easier to apply the separator coating to the corresponding electrode sheets in such a way that the cut surface or cut edge is also insulated.

Der Elektrodenstapel aus 6 entspricht dem Elektrodenstapel aus 5, nachdem auf dessen Oberflächen gebildet durch die Außenflächen der Beschichtungen 11 und 13 sowie auf die abgeschrägte Fläche bzw. Fase eine Separatorschicht 60 aufgetragen wurde.The electrode stack out 6 corresponds to the electrode stack 5 after being formed on its surfaces by the outer surfaces of the coatings 11 and 13 and a separator layer on the chamfered surface or chamfer 60 was applied.

Das Beschichtungsverfahren kann dabei schrittweise nacheinander oder auch parallel für die Oberseite und Unterseite des Elektrodenstapels durchgeführt werden.The coating process can be carried out step by step or in parallel for the top and bottom of the electrode stack.

In einer bevorzugten Ausgestaltung wird das spezielle Vorgehen nur für einen der Elektrodentypen Kathode bzw. Anode angewendet, in diesem Fall dann vorzugsweise für die Kathode. In einer alternativen Ausgestaltung kann es auch für Kathode und Anode angewendet werden.In a preferred embodiment, the special procedure is only used for one of the electrode types cathode or anode, in this case then preferably for the cathode. In an alternative embodiment, it can also be used for the cathode and anode.

Die Anbringung der Fase kann auch beidseitig erfolgen. In 7 ist als Elektrodenstapel ein Kathodenverbund 7 mit einem Kathoden-Trägermaterial 12 sowie Kathodenbeschichtungen 11 und 13 gezeigt. Von den beiden Oberflächen gebildet durch die Außenflächen der Kathodenbeschichtungen 11 und 13 ausgehend wurde der Elektrodenstapel durch zwei Schnittflächen an der Seite abgeschrägt. Dabei geht die eine Schnittfläche von der Unterseite aus (hier gebildet durch die Außenfläche Beschichtung 11) und die andere Schnittfläche von der Oberseite (hier gebildet durch die Außenfläche der Beschichtung 13). Wie zu 6 beschrieben kann nun eine Separatorschicht 70 von oben und unten (nacheinander oder parallel) derart aufgebracht werden, dass auch die abgeschrägten Flächen an der Seite des Elektrodenstapels isoliert werden.The chamfer can also be attached on both sides. In 7 is a cathode composite as an electrode stack 7 with a cathode support material 12 as well as cathode coatings 11 and 13 shown. Formed by the two surfaces by the outer surfaces of the cathode coatings 11 and 13 starting from this, the electrode stack was beveled by two cut surfaces on the side. One cut surface starts from the underside (here formed by the outer surface coating 11 ) and the other cut surface from the top (here formed by the outer surface of the coating 13 ). How to 6 A separator layer can now be described 70 from above and below (one after the other or in parallel) in such a way that the chamfered surfaces on the side of the electrode stack are also isolated.

In einer alternativen Ausgestaltung erfolgt das Konturschneiden der Elektrodenblätter nach dem Aufbringen des Separators auf den Oberflächen des Elektrodenstapels. In 8 ist als Elektrodenstapel 8 ein Kathodenverbund gezeigt mit einem Kathoden-Trägermaterial 12, Kathodenbeschichtungen 11 und 13 sowie bereits vor dem Schnitt entlang der Schnittfläche 800 aufgebrachten Separatorschichten 84 (auf Schicht 11) und 85 (auf Beschichtung 13). Die abgeschrägte Fläche bzw. Fase entlang der Schnittfläche 800 entspricht dabei der zu den 4 und 5 beschriebenen. Der Elektrodenstapel in 9 entspricht dem Elektrodenstapel in 8, nachdem auf die abgeschrägte Fläche bzw. Fase eine Separatorschicht 96 aufgebracht wurde. In 10 ist als Elektrodenstapel ein Kathodenverbund 100 gezeigt mit einem Kathodenschicht 12, Kathodenbeschichtungen 11 und 13 sowie bereits vor dem Schneiden aufgebrachten Separatorschichten 104 (auf Beschichtung 11) und 105 (auch Beschichtung 13). Vergleichbar wie zu 7 beschrieben können auch hier als Fase zwei abgeschrägte Flächen vorgesehen werden, auf welche dann die Separatorschicht 110 aufgetragen werden kann.In an alternative embodiment, the contour cutting of the electrode sheets takes place after the separator has been applied to the surfaces of the electrode stack. In 8th is as an electrode stack 8th a cathode composite shown with a cathode support material 12 , Cathode coatings 11 and 13 as well as before the cut along the cutting surface 800 applied separator layers 84 (on shift 11 ) and 85 (on coating 13 ). The chamfered surface or chamfer along the cut surface 800 corresponds to that of 4th and 5 described. The electrode stack in 9 corresponds to the electrode stack in 8th , after a separator layer on the bevelled surface or chamfer 96 was applied. In 10th is a cathode composite as an electrode stack 100 shown with a cathode layer 12 , Cathode coatings 11 and 13 as well as separator layers applied before cutting 104 (on coating 11 ) and 105 (also coating 13 ). Comparable to 7 As described here, two chamfered surfaces can also be provided as the chamfer, on which the separator layer then 110 can be applied.

Für das Aufbringen der Separatorschichten kommen jeweils verschiedene Prozesse in Frage, z.B. Aerosol Deposition, Physical Vapor Deposition, Chemical Vapor Deposition, Sputtern, Spray-Verfahren, Siebdruck. Mögliche Materialien für die Separatorschichten umfassen keramische Isolatoren wie zum Beispiel Aluminiumoxid oder Titanoxid sowie Kunststoffisolatoren wie zum Beispiel PP oder PE.Different processes can be used to apply the separator layers, e.g. Aerosol deposition, physical vapor deposition, chemical vapor deposition, sputtering, spray processes, screen printing. Possible materials for the separator layers include ceramic insulators such as aluminum oxide or titanium oxide and plastic insulators such as PP or PE.

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Claims (15)

Elektrodenstapel (5, 6, 7) für eine Galvanische Zelle, wobei der Elektrodenstapel (5, 6, 7) Schichten (11, 12, 13) mit einem Kathoden-Trägermaterial (12) oder einem Anoden-Trägermaterial aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrodenstapel (5, 6, 7) an mindestens einer Seite mindestens eine abgeschrägte Fläche (400) mit einem Winkel (401) von mindestens 95 Grad zu den Grenzflächen zwischen den Schichten (11, 12, 13) des Elektrodenstapels (5, 6, 7) aufweist.Electrode stack (5, 6, 7) for a galvanic cell, the electrode stack (5, 6, 7) having layers (11, 12, 13) with a cathode carrier material (12) or an anode carrier material, characterized in that the electrode stack (5, 6, 7) has at least one beveled surface (400) on at least one side with an angle (401) of at least 95 degrees to the interfaces between the layers (11, 12, 13) of the electrode stack (5, 6, 7). Elektrodenstapel (5, 6, 7) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Winkel (401) zwischen der abgeschrägten Fläche (400) und den Grenzflächen zwischen 105 und 150 Grad beträgt.Electrode stack (5, 6, 7) after Claim 1 , characterized in that the angle (401) between the beveled surface (400) and the interfaces is between 105 and 150 degrees. Elektrodenstapel (5, 6, 7) nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Seite zwei abgeschrägte Flächen aufweist.Electrode stack (5, 6, 7) according to one of the preceding claims, characterized in that the at least one side has two beveled surfaces. Elektrodenstapel (5, 6, 7) nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass auf die abgeschrägte Fläche eine Separatorschicht (60, 70) aufgebracht ist.Electrode stack (5, 6, 7) according to one of the preceding claims, characterized in that a separator layer (60, 70) is applied to the beveled surface. Elektrodenstapel (5, 6, 7) nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Galvanische Zelle einen Akkumulator bildet.Electrode stack (5, 6, 7) according to one of the preceding claims, characterized in that the galvanic cell forms an accumulator. Elektrodenstapel (5, 6, 7) nach einem Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Galvanische Zelle eine Brennstoffzelle bildet.Electrode stack (5, 6, 7) after a Claims 1 to 4th , characterized in that the galvanic cell forms a fuel cell. Verfahren zur Herstellung eines Elektrodenstapels (5) für eine Galvanische Zelle, wobei der Elektrodenstapel (5) Schichten (11, 12, 13) mit einem Kathoden-Trägermaterial (12) oder einem Anoden-Trägermaterial aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrodenstapel (5, 6) an mindestens einer Seite in einem Winkel (401) von mindestens 95 Grad zu den Grenzflächen zwischen den Schichten des Elektrodenstapels abgeschrägt wird.Method for producing an electrode stack (5) for a galvanic cell, the electrode stack (5) having layers (11, 12, 13) with a cathode carrier material (12) or an anode carrier material, characterized in that the electrode stack (5 , 6) bevelled on at least one side at an angle (401) of at least 95 degrees to the interfaces between the layers of the electrode stack. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Winkel (401) zwischen der abschrägten Fläche (400) und den Grenzflächen zwischen 105 und 150 Grad beträgt.Procedure according to Claim 7 , characterized in that the angle (401) between the beveled surface (400) and the interfaces is between 105 and 150 degrees. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Abschrägen durch ein Schneidverfahren, insbesondere ein Laserschneiden erfolgt.Procedure according to Claim 8 , characterized in that the chamfering is carried out by a cutting method, in particular laser cutting. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass auf die abgeschrägte Fläche (400) eine Separatorschicht aufgetragen wird.Procedure according to one of the Claims 7 to 9 , characterized in that a separator layer is applied to the beveled surface (400). Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Separatorschicht keramische Isolatoren, insbesondere Aluminiumoxid oder Titanoxid aufweist.Procedure according to Claim 10 , characterized in that the separator layer has ceramic insulators, in particular aluminum oxide or titanium oxide. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Auftragen der Separatorschicht mittels Aerosol Deposition, Physical Vapor Deposition, Chemical Vapor Deposition, Sputtern, Spray-Verfahren oder Siebdruck erfolgt.Procedure according to one of the Claims 10 or 11 , characterized in that the application of the separator layer takes place by means of aerosol deposition, physical vapor deposition, chemical vapor deposition, sputtering, spray process or screen printing. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrodenstapel (5) an der mindestens einen Seite mit zwei Flächen abgeschrägt wird.Procedure according to one of the Claims 7 to 12 , characterized in that the electrode stack (5) is chamfered on at least one side with two surfaces. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Galvanische Zelle einen Akkumulator bildet.Procedure according to one of the Claims 7 to 13 , characterized in that the galvanic cell forms an accumulator. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Galvanische Zelle eine Brennstoffzelle bildet.Procedure according to one of the Claims 7 to 13 , characterized in that the galvanic cell forms a fuel cell.
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