DE102018203213A1 - Method for producing at least one nanostructure-containing layer on at least one electronic element of a printed circuit board useful for a camera system and injection molding device having a structural plate with at least one nanodegativstructure for producing a nanostructure-containing layer - Google Patents
Method for producing at least one nanostructure-containing layer on at least one electronic element of a printed circuit board useful for a camera system and injection molding device having a structural plate with at least one nanodegativstructure for producing a nanostructure-containing layer Download PDFInfo
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Abstract
Der hier vorgestellte Ansatz betrifft ein Verfahren zum Herstellen zumindest einer eine Nanostruktur (115) aus einer Mehrzahl von zapfenförmigen Erhebungen, insbesondere mit einer Höhe von 100-200 nm aufweisenden entspiegelnden Schicht (120) auf zumindest einem Elektronikelement (125) eines Leiterplatten-Nutzens (130) für ein Kamerasystem. Das Verfahren weist einen Schritt des Zuführens und einen Schritt des Spritzgießens auf. Im Schritt des Zuführens wird zumindest ein Nutzenabschnitt des Nutzens (130) in eine Spritzgießvorrichtung (100) mit zumindest einer eine Nanonegativstruktur (110) der herzustellenden Nanostruktur (115) aufweisenden Strukturplatte (105) zugeführt, wobei der Nutzenabschnitt das zumindest eine Elektronikelement (125) umfasst. Im Schritt des Spritzgießens wird ein Schichtmaterial (135) an das Elektronikelement (125) gespritzt, wobei im Schritt des Spritzgießens das Schichtmaterial (135) zwischen das Elektronikelement (125) und die Nanonegativstruktur (110) der Strukturplatte (105) gespritzt wird, um als die entspiegelnde Schicht (120) eine abgeformte Strukturoberfläche der Nanonegativstruktur (110) zu erzeugen. The approach presented here relates to a method for producing at least one antireflective layer (120) comprising a plurality of cone-shaped elevations, in particular having a height of 100-200 nm, on at least one electronic element (125) of a printed circuit board ( 130) for a camera system. The method comprises a step of supplying and a step of injection molding. In the step of feeding, at least one benefit section of the utility (130) is fed into an injection molding apparatus (100) having at least one structural plate (105) having a nanocontrol structure (110) of the nanostructure (115) to be produced, wherein the utility section comprises the at least one electronic element (125). includes. In the step of injection molding, a layer material (135) is sprayed to the electronic element (125), wherein in the injection molding step, the layer material (135) is injected between the electronic element (125) and the nanocondensate structure (110) of the pattern plate (105) the antireflective layer (120) to produce a molded structural surface of the nano negative structure (110).
Description
Stand der TechnikState of the art
Der Ansatz geht aus von einer Vorrichtung oder einem Verfahren nach Gattung der unabhängigen Ansprüche.The approach is based on a device or a method according to the preamble of the independent claims.
Es gibt Verfahren, bei denen zum Schutze eines Bildaufnehmers ein Kunststoffmaterial in einem aufgeheizten Spritzgießwerkzeug direkt auf eine Oberfläche eines Schaltungsträgers gespritzt wird. Dadurch wird der Bildaufnehmer gereinigt und anschließend geschützt.There are methods in which a plastic material in a heated injection mold is injected directly onto a surface of a circuit substrate to protect an image receptor. As a result, the image sensor is cleaned and then protected.
Die
Offenbarung der ErfindungDisclosure of the invention
Vor diesem Hintergrund werden mit dem hier vorgestellten Ansatz ein Verfahren zum Herstellen zumindest einer eine Nanostruktur aufweisenden Schicht auf zumindest einem Elektronikelement eines Leiterplatten-Nutzens für ein Kamerasystem sowie eine Spritzgießvorrichtung mit einer Strukturplatte mit zumindest einer Nanonegativstruktur zum Herstellen einer eine Nanostruktur aufweisenden Schicht gemäß den Hauptansprüchen vorgestellt. Durch die in den abhängigen Ansprüchen aufgeführten Maßnahmen sind vorteilhafte Weiterbildungen und Verbesserungen der im unabhängigen Anspruch angegebenen Vorrichtung möglich.Against this background, with the approach presented here, a method for producing at least one nanostructure-containing layer on at least one electronic element of a printed circuit board benefit for a camera system and an injection molding device with a structural plate having at least one nanodegativstruktur for producing a nanostructure having layer according to the main claims presented. The measures listed in the dependent claims advantageous refinements and improvements of the independent claim device are possible.
Die mit dem vorgestellten Ansatz erreichbaren Vorteile bestehen darin, dass ein hier vorgestelltes Verfahren in nur einem Schritt des Spritzgießens ein Herstellen einer entspiegelnden Nanostruktur-Schicht auf einem Elektronikelement oder auch mehrerer Nanostruktur-Schichten auf mehreren Elektronikelementen ermöglicht.The advantages that can be achieved with the presented approach are that a method presented here makes it possible to produce an anti-reflection nanostructure layer on an electronic element or even several nanostructure layers on a plurality of electronic elements in just one step of the injection molding.
Es wird ein Verfahren zum Herstellen zumindest einer eine Nanostruktur aus einer Mehrzahl von zapfenförmigen Erhebungen, insbesondere mit einer Höhe von 100-200 nm aufweisenden entspiegelnden Schicht auf zumindest einem Elektronikelement eines Leiterplatten-Nutzens für ein Kamerasystem vorgestellt. Hierbei kann es sich um eine Nanostruktur handeln, wie sie in der
Das Verfahren weist einen Schritt des Zuführens und einen Schritt des Spritzgießens auf. Im Schritt des Zuführens wird zumindest ein Nutzenabschnitt des Nutzens in eine Spritzgießvorrichtung mit zumindest einer eine Nanonegativstruktur der herzustellenden Nanostruktur aufweisenden Strukturplatte zugeführt, wobei der Nutzenabschnitt das zumindest eine Elektronikelement umfasst. Im Schritt des Spritzgießens wird ein Schichtmaterial an das Elektronikelement gespritzt, wobei im Schritt des Spritzgießens das Schichtmaterial zwischen das Elektronikelement und die Nanonegativstruktur der Strukturplatte gespritzt wird, um als die entspiegelnde Schicht eine abgeformte Strukturoberfläche der Nanonegativstruktur zu erzeugen.The method comprises a step of supplying and a step of injection molding. In the step of supplying, at least one benefit section of the benefit is supplied to an injection molding apparatus having at least one structural plate having a nanocontrast structure of the nanostructure to be produced, wherein the utility section comprises the at least one electronic element. In the step of injection molding, a layer material is injected to the electronic element, wherein in the injection molding step, the layer material is injected between the electronic element and the nanocontrast structure of the structure plate to produce as the antireflective layer a molded structure surface of the nano negative structure.
Mittels des hier vorgestellten Verfahrens ist vorteilhafterweise eine Herstellung einer eine Nanostruktur aufweisenden entspiegelnden Schicht durch ein Spritzgießen an eine entsprechende Nanonegativstruktur ermöglicht. Die entspiegelnde Schicht ist demnach schnell und einfach als ein Abdruck der Nanonegativstruktur erzeugbar. Dies ermöglicht unter Verwendung einer entsprechenden Strukturplatte vorteilhafterweise ein schnelles vielfaches Herstellen von derartigen entspiegelnden Schichten, beispielsweise auch gleichzeitig.By means of the method presented here, it is advantageously possible to produce an antireflecting layer having a nanostructure by injection molding to a corresponding nano-negative structure. The antireflective layer can therefore be produced quickly and simply as an imprint of the nano-negative structure. This advantageously makes it possible, using a corresponding structural plate, to rapidly produce such anti-reflective layers in rapid succession, for example simultaneously.
Das Verfahren kann einen Schritt des Bereitstellens aufweisen, in dem eine UV-Strahlung bereitgestellt wird, die dazu ausgebildet ist, um ein Vernetzen des im Schritt des Spritzgießens gespritzten Schichtmaterials auf oder an dem zumindest einen Elektronikelement zu bewirken. Als die UV-Strahlung ist eine Ultraviolettstrahlung zu verstehen, welche beispielsweise von einer UV-Lampe bereitgestellt werden kann. Durch das Vernetzen kann ein Aushärten des Schichtmaterials beschleunigt werden. So kann der Nutzen mit der Schicht ohne lange Wartezeiten zum Aushärten schnell weiterbearbeitet werden.The method may include a step of providing in which UV radiation is provided which is adapted to effect crosslinking of the layer material sprayed in the step of injection molding on or on the at least one electronic element. As the UV radiation is to be understood ultraviolet radiation, which may be provided for example by a UV lamp. By crosslinking, hardening of the layer material can be accelerated. Thus, the benefits with the layer without long waiting times for curing can be processed quickly.
Im Schritt des Zuführens kann der Nutzenabschnitt des Nutzens in die Spritzgießvorrichtung zugeführt werden, bei der die Strukturplatte zumindest eine weitere Nanonegativstruktur der herzustellenden Nanostruktur aufweist, wobei der Nutzenabschnitt zumindest ein weiteres Elektronikelement umfasst, wobei im Schritt des Spritzgießens das Schichtmaterial zwischen das weitere Elektronikelement und die weitere Nanonegativstruktur gespritzt wird, um als eine weitere entspiegelnde Schicht eine weitere abgeformte Strukturoberfläche der weiteren Nanonegativstruktur an dem weiteren Elektronikelement zu erzeugen. Eine Ausformung der weiteren Nanonegativstruktur kann hierbei einer Ausformung der Nanonegativstruktur entsprechen oder zumindest ähneln, um die beschriebene Nanostruktur auch auf dem weiteren Elektronikelement erzeugen zu können. So sind vorteilhafterweise in dem einen Schritt des Spritzgießens zwei Schichten auf zwei Elektronikelementen herstellbar. Entsprechend können auch drei Schichten auf drei Elektronikelementen oder vier Schichten auf vier Elektronikelementen hergestellt werden.In the step of supplying, the benefit portion of the benefit may be supplied to the injection molding apparatus, wherein the structural plate has at least one further nanocondensed structure of the nanostructure to be produced, wherein the benefit portion comprises at least one further electronic element, wherein in the injection molding step, the layer material between the further electronic element and the another nanocontrast structure is sprayed in order to produce, as a further anti-reflective layer, a further molded-on structure surface of the further nanoconative structure on the further electronic element. A shaping of the further nanocontrast structure can in this case be a shaping of the Nano-negative structure correspond or at least similar, in order to generate the described nanostructure on the other electronic element can. Thus, two layers can advantageously be produced on two electronic elements in the one step of injection molding. Accordingly, three layers can be produced on three electronic elements or four layers on four electronic elements.
Es ist weiterhin von Vorteil, wenn das Verfahren gemäß einer Ausführungsform einen Schritt des weiteren Zuführens ansprechend auf den Schritt des Spritzgießens aufweist, wobei im Schritt des weiteren Zuführens der Nutzen bewegt wird, wodurch zumindest ein zusätzlicher Nutzenabschnitt des Nutzens der Spritzgießvorrichtung zugeführt wird, wobei der zusätzliche Nutzenabschnitt zumindest ein zusätzliches Elektronikelement umfasst. Entsprechend kann das Verfahren einen Schritt des weiteren Spritzgießens des Schichtmaterials an das zusätzliche Elektronikelement aufweisen, wobei im Schritt des weiteren Spritzgießens das Schichtmaterial zwischen das zusätzliche Elektronikelement und die Nanonegativstruktur der Strukturplatte gespritzt wird, um als eine zusätzliche entspiegelnde Schicht eine zusätzliche abgeformte Strukturoberfläche der Nanonegativstruktur zu erzeugen.It is further advantageous if, according to one embodiment, the method comprises a step of further feeding in response to the step of injection molding, wherein in the step of further feeding the utility is moved, whereby at least one additional benefit portion of the benefit is supplied to the injection molding apparatus, wherein the additional benefit section comprises at least one additional electronic element. Accordingly, the method may comprise a step of further injection molding of the layer material to the additional electronic element, wherein in the step of further injection molding the layer material is injected between the additional electronic element and the nanodegativstructure of the structure plate, as an additional anti-reflective layer to an additional molded structural surface of the nanodivisible structure produce.
Ein derartiges Bewegen oder Durchführen des Nutzens durch die Spritzgießvorrichtung ermöglicht ein schnelles und automatisiertes Anspritzen von entspiegelnden Schichten an eine Vielzahl von Elektronikelementen. Auch der zusätzliche Nutzenabschnitt kann hierbei eine Mehrzahl von Leiterplatten mit jeweils einem zusätzlichen Elektronikelement aufweisen, welche beispielsweise im Schritt des weiteren Spritzgießens gleichzeitig angespritzt werden, um eine Mehrzahl der zusätzlichen entspiegelnden Schichten herzustellen.Such movement or performance of the injection molding apparatus allows for rapid and automated injection molding of anti-reflective coatings onto a plurality of electronic elements. In this case, the additional use section may also comprise a plurality of printed circuit boards, each with an additional electronic element, which are injection-molded simultaneously, for example in the step of further injection molding, to produce a plurality of the additional anti-reflective layers.
Im Schritt des Spritzgießens kann als das Schichtmaterial ein transparentes Schichtmaterial und/oder ein Kunststoffmaterial an das Elektronikelement gespritzt werden. Im Schritt des Spritzgießens kann vorteilhafterweise auch als das Schichtmaterial ein niedrigviskoses Schichtmaterial an das Elektronikelement gespritzt werden. Ein niedrigviskoses Schichtmaterial lässt sich besonders vorteilhaft in die zapfenförmige Nanonegativstruktur einfügen.In the step of injection molding, as the layer material, a transparent layer material and / or a plastic material can be injected to the electronic element. In the step of injection molding, a low-viscosity layer material can advantageously also be sprayed onto the electronic element as the layer material. A low-viscosity layer material can be inserted particularly advantageously into the cone-shaped nanocontrast structure.
Das Verfahren kann auch einen Schritt des Anordnens aufweisen, in dem vor dem Schritt des Spritzgießens eine Schutzkappe auf dem Elektronikelement angeordnet wird, wobei im Schritt des Spritzgießens das Schichtmaterial an die Schutzkappe des Elektronikelements gespritzt wird, wobei im Schritt des Spritzgießens das Schichtmaterial zwischen die Schutzkappe und die Nanonegativstruktur der Strukturplatte gespritzt wird, um als die entspiegelnde Schicht eine abgeformte Strukturoberfläche der Nanonegativstruktur auf oder an der Schutzkappe des Elektronikelements zu erzeugen.The method may also include a step of arranging, by placing a protective cap on the electronic component prior to the step of injection molding, wherein in the step of injection molding, the layer material is injected to the protective cap of the electronic element, wherein in the step of injection molding, the layer material between the protective cap and spraying the nanocontrast structure of the structural plate to produce, as the anti-reflection layer, a molded structural surface of the nanocontrast structure on or on the protective cap of the electronic element.
Eine derartige Schutzkappe kann dazu ausgebildet sein, um ein Durchdringen einer Ultraviolettstrahlung zu dem Elektronikelement zu verhindern. Als Bildaufnehmer ausgeformte Elektronikelemente beispielsweise können empfindlich gegenüber ultravioletter Strahlung sein und sollten deshalb vor dieser geschützt werden.Such a protective cap may be configured to prevent penetration of ultraviolet radiation to the electronic element. For example, electronic elements formed as imagers may be sensitive to ultraviolet radiation and should therefore be protected from them.
Im Schritt des Spritzgießens kann das Schichtmaterial an das Elektronikelement gespritzt werden, wobei das Schichtmaterial eine Temperatur von 15 bis 25 Grad Celsius aufweist.In the step of injection molding, the layer material can be injected to the electronic element, wherein the layer material has a temperature of 15 to 25 degrees Celsius.
Bei einer geringen Temperatur von 15 bis 25 Grad, welche als Raumtemperatur zu verstehen ist, kann vorteilhafterweise ein hoher Temperatureintrag in die Spritzgießvorrichtung, beispielsweise in ein verwendetes Spritzgießwerkzeug, und/oder eine Beschädigung eines empfindlichen Elektronikelements verhindert werden. Höhere Temperaturen können Bildaufnehmer beschädigen.At a low temperature of 15 to 25 degrees, which is to be understood as room temperature, advantageously a high temperature input into the injection molding apparatus, for example into a used injection molding tool, and / or damage to a sensitive electronic element can be prevented. Higher temperatures can damage imagers.
Eine Spritzgießvorrichtung weist eine Strukturplatte auf, die zumindest eine Nanonegativstruktur zum Herstellen einer eine Nanostruktur aus einer Mehrzahl von zapfenförmigen Erhebungen, insbesondere mit einer Höhe von 100-200 nm aufweisenden entspiegelnden Schicht auf zumindest einem Elektronikelement eines Leiterplatten-Nutzens für ein Kamerasystem aufweist.An injection molding apparatus has a structural plate which has at least one nanodegativstruktur for producing a anti-reflective layer comprising a nanostructure of a plurality of peg-shaped elevations, in particular having a height of 100-200 nm on at least one electronic element of a PCB benefit for a camera system.
Die Spritzgießvorrichtung kann zumindest eine Komponente eines Spritzgießwerkzeugs, beispielsweise einen Formeinsatz, aufweisen.The injection molding apparatus may comprise at least one component of an injection molding tool, for example a mold insert.
Unter Verwendung einer solchen Spritzgießvorrichtung ist das zuvor vorgestellte Verfahren durchführbar. Die Nanonegativstruktur der Strukturplatte kann hierbei dazu ausgeformt sein, um die entspiegelnde Schicht herzustellen, bei der die zapfenförmigen Erhebungen der Nanostruktur matrixförmig angeordnet sind und/oder eine Breite im Mittel von weniger als 200 nm aufweisen und/oder um die entspiegelnde Schicht herzustellen, die eine mittlere effektive Brechzahl n von zwischen 1,08 und 1,25 aufweist. Eine derartige Schicht eignet sich gut zum Entspiegeln.Using such an injection molding apparatus, the previously presented method is feasible. The nano-negative structure of the structural plate may in this case be shaped to produce the antireflective layer, in which the peg-shaped elevations of the nanostructure are arranged in a matrix and / or have an average width of less than 200 nm and / or to produce the antireflective layer, which has a average effective refractive index n of between 1.08 and 1.25. Such a layer is well suited for anti-reflection.
Die Strukturplatte der Spritzgießvorrichtung kann zumindest eine benachbart zu der Nanonegativstruktur angeordnete Kennzeichnungseinrichtung aufweisen, die dazu ausgeformt ist, um beim Herstellen der entspiegelnden Schicht benachbart zu der Nanostruktur eine Kennzeichnung auf oder in der Schicht zu erzeugen. Produktionsfehler beim Herstellen der Schicht sind somit schnell und einfach anhand der erzeugten Kennzeichnung nachvollziehbar.The structural plate of the injection molding apparatus may include at least one identification device disposed adjacent to the nanocontrast structure and configured to create an indicia on or within the layer in forming the antireflective layer adjacent to the nanostructure. Production errors in the production of the layer are thus quickly and easily traceable based on the generated label.
Die Strukturplatte kann als eine mittels eines Ätzverfahrens in einen Formeinsatz der Spritzgießvorrichtung geätzte Platte ausgeformt sein und/oder ein Kunststoffmaterial aufweisen und/oder transparent ausgeformt sein. The structural plate may be formed as a plate etched into a mold insert of the injection molding apparatus by means of an etching process and / or may have a plastic material and / or be formed in a transparent manner.
Ein Kamerasystem mit einem Elektronikelement weist eine entspiegelnde Schicht auf, die unter Verwendung einer Variante des zuvor vorgestellten Verfahrens hergestellt wurde. Das Elektronikelement kann ein Bildaufnehmer des Kamerasystems sein, wobei der Bildaufnehmer dank der Schicht vorteilhafterweise sowohl entspiegelt als auch geschützt ist.A camera system with an electronic element has an anti-reflective layer, which was produced using a variant of the previously presented method. The electronic element may be an image sensor of the camera system, wherein the image sensor is advantageously both anti-reflective and protected thanks to the layer.
Vorgestellt wird letztlich ein Verwenden einer Strukturplatte, um eine entspiegelnde Schicht auf zumindest einem Elektronikelement eines Leiterplatten-Nutzens für ein Kamerasystem herzustellen. Ein derartiges Verwenden schafft vorteilhafterweise eine neue Verwendung einer Strukturplatte.Finally, it is envisioned to use a structural plate to produce an anti-reflective coating on at least one electronic element of circuit board usage for a camera system. Such use advantageously provides a new use of a structural panel.
Ausführungsbeispiele des hier vorgestellten Ansatzes sind in den Zeichnungen dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigt:
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1 eine seitliche Darstellung eines Querschnitts einer Spritzgießvorrichtung mit einer Strukturplatte mit zumindest einer Nanonegativstruktur zum Herstellen einer eine Nanostruktur aufweisenden entspiegelnden Schicht auf zumindest einem Elektronikelement eines Leiterplatten-Nutzens für ein Kamerasystem gemäß einem Ausführungsbeispiel; -
2 eine seitliche Darstellung eines Querschnitts einer Strukturplatte mit einer Nanonegativstruktur gemäß einem Ausführungsbeispiel; -
3 eine schematische Aufsicht auf eine Strukturplatte mit einer Nanonegativstruktur gemäß einem Ausführungsbeispiel; -
4 eine seitliche Darstellung eines Querschnitts einer Spritzgießvorrichtung mit einer Strukturplatte gemäß einem Ausführungsbeispiel; -
5 eine schematische Aufsicht auf eine Spritzgießvorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel; -
6 eine schematische Aufsicht auf eine Spritzgießvorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel; und -
7 ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen zumindest einer eine Nanostruktur aufweisenden entspiegelnden Schicht auf zumindest einem Elektronikelement eines Leiterplatten-Nutzens für ein Kamerasystem gemäß einem Ausführungsbeispiel.
-
1 a side view of a cross section of an injection molding apparatus having a structural plate with at least one nano negative structure for producing a nano-structure anti-reflective coating on at least one electronic element of a printed circuit board benefits for a camera system according to an embodiment; -
2 a side view of a cross section of a structural plate with a nano negative structure according to an embodiment; -
3 a schematic plan view of a structural plate with a nano negative structure according to an embodiment; -
4 a side view of a cross section of an injection molding with a structural plate according to an embodiment; -
5 a schematic plan view of an injection molding apparatus according to an embodiment; -
6 a schematic plan view of an injection molding apparatus according to an embodiment; and -
7 a flowchart of a method for producing at least one nanostructure anti-reflective coating on at least one electronic element of a printed circuit board benefits for a camera system according to an embodiment.
In der nachfolgenden Beschreibung günstiger Ausführungsbeispiele des vorliegenden Ansatzes werden für die in den verschiedenen Figuren dargestellten und ähnlich wirkenden Elemente gleiche oder ähnliche Bezugszeichen verwendet, wobei auf eine wiederholte Beschreibung dieser Elemente verzichtet wird.In the following description of favorable embodiments of the present approach, the same or similar reference numerals are used for the elements shown in the various figures and similar acting, with a repeated description of these elements is omitted.
Umfasst ein Ausführungsbeispiel eine „und/oder“-Verknüpfung zwischen einem ersten Merkmal und einem zweiten Merkmal, so ist dies so zu lesen, dass das Ausführungsbeispiel gemäß einer Ausführungsform sowohl das erste Merkmal als auch das zweite Merkmal und gemäß einer weiteren Ausführungsform entweder nur das erste Merkmal oder nur das zweite Merkmal aufweist.If an exemplary embodiment comprises a "and / or" link between a first feature and a second feature, then this is to be read so that the embodiment according to one embodiment, both the first feature and the second feature and according to another embodiment either only first feature or only the second feature.
Die Strukturplatte
Zumindest ein hier dargestellter Nutzenabschnitt des Leiterplatten-Nutzens
Ein Schichtmaterial
Die Spritzgießvorrichtung
Das Schichtmaterial
Im Folgenden werden Details der Spritzgießvorrichtung
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1 zeigt eine Prinzipskizze eines UV-Spritzgießwerkzeugs inForm der Spritzgießvorrichtung 100 mit einer Schutzschichtauf dem Nutzen 130 .
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1 shows a schematic diagram of a UV injection molding tool in the form ofinjection molding 100 with a protective coating on thebenefit 130 ,
Die hier gezeigte Spritzgießvorrichtung
Zur Herstellung der entspiegelnden Schicht
Das gemäß diesem Ausführungsbeispiel niedrigviskose und/oder transparente Schichtmaterial
Sobald alle Hohlräume, zuvor als Kavitäten
Die Nanonegativstruktur
Die Strukturplatte
Gemäß diesem Ausführungsbeispiel weist die Strukturplatte
Dabei kann es sich um die anhand von
Gemäß diesem Ausführungsbeispiel sind die Elektronikelemente
Eine Aufgabe der hier vorgestellten Spritzgießvorrichtung
Die Spritzgießvorrichtung
Die empfindlichen Elektronikelemente
Die Schaltungsträger werden als kompakter und stabiler Leiterplatten-Nutzen
Über den Angussverteiler
Anders ausgedrückt zeigt
In die Strukturen oder benachbart zu den Strukturen in der Schicht ist fortlaufend jeweils eine Kavitätennummer
Dabei kann es sich um ein Verfahren
Das Verfahren
Mittels des Verfahrens ist die entspiegelnde Schicht auf dem Elektronikelement herstellbar, wobei die Schicht die Nanostruktur aus einer Mehrzahl von zapfenförmigen Erhebungen aufweist, welche insbesondere eine Höhe von 100-200 nm aufweisen.By means of the method, the anti-reflective layer can be produced on the electronic element, wherein the layer has the nanostructure of a plurality of peg-shaped elevations, which in particular have a height of 100-200 nm.
Das Verfahren weist einen Schritt
Im Schritt
Gemäß einem Ausführungsbeispiel wird im Schritt
Im Schritt
Im Schritt
Im Schritt
Die hier vorgestellten Verfahrensschritte können wiederholt sowie in einer anderen als in der beschriebenen Reihenfolge ausgeführt werden.The method steps presented here can be repeated and executed in a sequence other than that described.
Ein hier vorgestellter Ansatz ist direkt am erzeugten Bauteil, insbesondere an der hergestellten Schicht, durch Betrachtung einer Oberfläche mit spezieller Mikrostruktur und/oder der in
Das hier vorgestellte Verfahren
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
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Zitierte PatentliteraturCited patent literature
- DE 102013106392 B4 [0003, 0006]DE 102013106392 B4 [0003, 0006]
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