DE102018004054A1 - Manufacturing method for a security element - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Sicherheitselementes (S), das auf einem transparenten Substratfilm (1) eine Metallschicht (2), die in bestimmtem Muster angeordnete Lücken (3) aufweist, auf der Metallschicht (2) eine lichtabsorbierende Schicht (4), die Öffnungen (5) hat, welche zu den Lücken (3) in der Metallschicht (2) deckungsgleich sind, und darüber eine vollflächige, auch die Öffnungen (5) und Lücken (3) überdeckende Farbeffektschicht (6) aufweist, wobei zur Herstellung folgende Schritte ausgeführt werden:- auf dem Substratfilm (1) wird an Stellen, an denen die Metallschicht (2) die Lücken (3) aufweisen soll, eine Waschfarbe (7) aufgebracht, und auf den mit der Waschfarbe (7) versehenen Substratfilm (1) wird vollflächig die Metallschicht (2) aufgebracht und durch Entfernen der Waschfarbe (7) in den Lücken (3) entfernt,- über der Metallschicht (2) wird die lichtabsorbierende Schicht (4) so aufgebracht, dass sie auch die Lücken (3) in der Metallschicht (2) überspannt,- in der Schicht (4) werden die Öffnungen (5) erzeugt, wobei die mit den Lücken (3) versehene Metallschicht (2) als Maske verwendet wird, und- auf der mit den Öffnungen (5) versehenen Schicht (4) wird die Farbeffektschicht (6) aufgebracht.The invention relates to a method for producing a security element (S) comprising on a transparent substrate film (1) a metal layer (2) which has gaps (3) arranged in a certain pattern, a light-absorbing layer (4) on the metal layer (2). , which has openings (5), which are congruent to the gaps (3) in the metal layer (2), and above a full-surface, also the openings (5) and gaps (3) covering color effect layer (6), wherein for the production the following steps are carried out: on the substrate film (1), a wash ink (7) is applied at locations where the metal layer (2) is to have the gaps (3), and onto the substrate film provided with the wash ink (7) ( 1), the metal layer (2) is applied over the entire area and removed by removing the wash ink (7) in the gaps (3), - over the metal layer (2), the light-absorbing layer (4) is applied so that it also the gaps (3 ) in the metal Layer (2) spans, - in the layer (4), the openings (5) are produced, wherein the gap (3) provided with the metal layer (2) is used as a mask, and- on the provided with the openings (5) Layer (4), the color effect layer (6) is applied.

Description

Die Erfindung betrifft ein Herstellungsverfahren für ein Sicherheitselement, das auf einem transparenten Substratfilm eine Metallschicht, die in bestimmtem Muster angeordnete Lücken aufweist, auf der Metallschicht eine lichtabsorbierende Schicht, die Öffnungen hat, welche zu den Lücken der Metallschicht deckungsgleich sind, und darüber eine vollflächige, auch die Öffnungen und Lücken überdeckende Farbeffektschicht aufweist.The invention relates to a method of producing a security element comprising, on a transparent substrate film, a metal layer having defined patterns in a specific pattern, on the metal layer a light-absorbing layer having openings congruent with the gaps of the metal layer, and above that a full-surface, also has the color effect layer covering openings and gaps.

Ein solches Sicherheitselement ist beispielsweise in der WO 2003/061980 A1 geschildert. Die Lücken in der Metallschicht, die im Stand der Technik auch als Demetallisierungen bezeichnet werden, bieten einem Betrachter ein Positiv- oder Negativbild dar, und die über der lichtabsorbierenden Schicht angeordnete Flüssigkristallschicht erzeugt einen sehr prägnanten Colour-Shift-Effekt. Zur Herstellung des Sicherheitselementes sieht diese Veröffentlichung vor, auf dem Substratfilm vollflächig die Metallschicht aufzubringen und darüber die lichtabsorbierende Schicht. Diese wird strukturiert und dient dann für einen Ätzprozess auch zum Ätzen der darunterliegenden Metallschicht. Auf diese Weise werden zuerst die Öffnungen in der lichtabsorbierenden Schicht und dann die dazu passenden Lücken in der Metallschicht erzeugt. Anschließend wird vollflächig mit der Flüssigkristallschicht abgedeckt.Such a security element is for example in the WO 2003/061980 A1 portrayed. The gaps in the metal layer, which are also referred to in the art as demetallization, provide a viewer with a positive or negative image, and the liquid crystal layer disposed over the light absorbing layer produces a very concise color-shift effect. For the production of the security element, this publication provides, on the substrate film over the entire surface to apply the metal layer and above the light-absorbing layer. This is structured and then serves for an etching process also for etching the underlying metal layer. In this way, first the openings in the light absorbing layer and then the mating gaps in the metal layer are created. Subsequently, the whole surface is covered with the liquid crystal layer.

Die WO 2016/177391 A1 befasst sich ebenfalls mit der Herstellung eines Sicherheitselementes der geschilderten Art. Allerdings liegt hier der transparente Substratfilm zwischen der mit Lücken versehenen Metallschicht und der mit den Öffnungen versehenen lichtabsorbierenden Schicht, über welcher wiederum die vollflächige Flüssigkristallschicht angeordnet ist. Dieser Aufbau erfordert zweiseitig angreifende Prozesse, zum Schaffen der Lücken auf der einen Seite des Substratfilms und der Öffnungen auf der anderen Seite. Naturgemäß ist dies aufwendig und ist zudem schwierig dahingehend, dass die Deckungsgleichheit zwischen den Lücken in der Metallschicht auf der einen Seite des Substratfilms und den Öffnungen in der lichtabsorbierenden Schicht auf der anderen Seite des Substratfilms nur schwierig herzustellen ist.The WO 2016/177391 A1 also deals with the production of a security element of the kind described. However, here is the transparent substrate film between the metal layer provided with gaps and provided with the openings light-absorbing layer, on which in turn the full-surface liquid crystal layer is arranged. This construction requires two-sided attacking processes to create the gaps on one side of the substrate film and the openings on the other side. Of course, this is expensive and is also difficult in that the registration uniformity between the gaps in the metal layer on one side of the substrate film and the openings in the light absorbing layer on the other side of the substrate film is difficult to produce.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Sicherheitselement, das auf einem transparenten Substratfilm eine Metallschicht, die im bestimmten Muster angeordnete Lücken aufweist, auf der Metallschicht eine lichtabsorbierende Schicht, die Öffnungen hat, welche zu den Lücken der Metallschicht deckungsgleich sind, und darüber eine vollflächige, auch die Öffnungen und Lücken überdeckende Farbeffektschicht aufweist, anzugeben, mit dem eine einfache Herstellung möglich ist.It is an object of the present invention to provide a security element comprising, on a transparent substrate film, a metal layer having gaps of a certain pattern on the metal layer, a light-absorbing layer having openings congruent with the gaps of the metal layer, and an over-all surface also has the color effect layer covering the openings and gaps, to indicate with which a simple production is possible.

Die Erfindung ist in den unabhängigen Ansprüchen definiert. Die abhängigen Ansprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen.The invention is defined in the independent claims. The dependent claims relate to advantageous developments.

Die Erfindung sieht ein Verfahren zum Herstellen des genannten Sicherheitselementes vor, das auf einem transparenten Substratfilm eine Metallschicht aufweist, die in bestimmtem Muster Lücken hat. Auf der Metallschicht befindet sich eine lichtabsorbierende Schicht. Diese hat Öffnungen, welche zu den Lücken der Metallschicht deckungsgleich sind. Über der lichtabsorbierenden Schicht ist vollflächig eine Farbeffektschicht vorgesehen, die auch die Öffnungen und Lücken überdeckt. Zur Herstellung wird in einem Metallisierungs-/ Demetallisierungsschritt auf dem Substratfilm an den Stellen, an denen die Metallschicht die Lücken aufweisen soll, eine Waschfarbe aufgebracht. Auf den mit der Waschfarbe versehenen Substratfilm wird vollflächig die Metallschicht aufgebracht. Durch Entfernen der Waschfarbe wird die Metallschicht in den Lücken demetallisiert und damit bemustert. Anschließend wird über der Metallschicht die lichtabsorbierende Schicht aufgebracht. Sie wird so aufgebracht, dass sie auch die Lücken in der Metallschicht überdeckt.The invention provides a method for producing the said security element, which has a metal layer on a transparent substrate film which has gaps in a specific pattern. On the metal layer is a light-absorbing layer. This has openings which are congruent to the gaps of the metal layer. Over the light-absorbing layer, a color effect layer is provided over the whole area, which also covers the openings and gaps. For production, a wash color is applied to the substrate film in a metallization / demetallization step at the locations where the metal layer is to have the gaps. On the substrate provided with the wash ink film is applied over the entire surface of the metal layer. By removing the wash paint, the metal layer in the gaps is demetallized and patterned. Subsequently, the light-absorbing layer is applied over the metal layer. It is applied in such a way that it also covers the gaps in the metal layer.

Daraufhin wird die lichtabsorbierende Schicht so bearbeitet, dass die Öffnungen erzeugt werden. Dabei wird die mit den Lücken versehene Metallschicht als Maske verwendet.Thereafter, the light-absorbing layer is processed so that the openings are formed. The metal layer provided with the gaps is used as a mask.

Hierfür gibt es mehrere Möglichkeiten. In einer Version wird die lichtabsorbierende Schicht als Fotolack ausgebildet, und die Metallschicht dient in einem Lithographieschritt als Maske. Der Fotolack ist dazu ein Positiv-Fotolack, damit bei der Entwicklung die Öffnungen an den Stellen entstehen, die durch die Lücken in der Metallschicht hindurch belichtet wurden. In einer Alternative hierzu werden die Öffnungen durch Ablation mittels Strahlung, insbesondere hochintensiver Laserstrahlung, erzeugt, die durch die Lücken in der Metallschicht eingestrahlt wird. Auch hier dienen die Lücken und damit das Muster in der Metallschicht als Maske, so dass die Anforderungen an die Präzision der Bestrahlung deutlich reduziert sind. Es muss nicht, wie in anderen Laserablationsverfahren üblich, der Laserstrahl hochpräzise geführt werden, weil sich Ungenauigkeit in der Laserbestrahlung auf die Ablationsgenauigkeit auswirken würde. Vielmehr sorgt die Maske in der Metallschicht automatisch dafür, dass die Öffnungen nur dort durch Ablation entstehen, an denen die Metallschicht Lücken hat.There are several possibilities for this. In one version, the light-absorbing layer is formed as a photoresist, and the metal layer serves as a mask in a lithography step. The photoresist is a positive photoresist for this, so that during development, the openings are formed at the places that have been exposed through the gaps in the metal layer. In an alternative to this, the openings are produced by ablation by means of radiation, in particular high-intensity laser radiation, which is irradiated through the gaps in the metal layer. Again, the gaps and thus the pattern in the metal layer serve as a mask, so that the requirements for the precision of the irradiation are significantly reduced. It is not necessary, as usual in other laser ablation procedures, to guide the laser beam with high precision, since inaccuracy in the laser irradiation would affect the ablation accuracy. Rather, the mask in the metal layer automatically ensures that the openings are formed only by ablation, where the metal layer has gaps.

In beiden Versionen erfolgt also ein Belichten durch den Substratfilm und durch die Metallschicht hindurch. Auf diese Weise ist automatisch eine perfekte Passerung und Deckungsgleichheit zwischen den Lücken in der Metallschicht, welche als Maske dienen, und den Öffnungen in der lichtabsorbierenden Schicht erreicht.Thus, in both versions, exposure takes place through the substrate film and through the metal layer. In this way, a perfect registration and coincidence is automatically achieved between the gaps in the metal layer, which serve as a mask, and the openings in the light-absorbing layer.

Auf die derart mit den Öffnungen versehenen Schicht wird die Farbeffektschicht, z. B. eine Flüssigkristallschicht, aufgebracht. On the thus provided with the openings layer, the color effect layer, for. B. a liquid crystal layer applied.

In einer Weiterbildung des Verfahrens wird ein Sicherheitsfaden ausgebildet, beispielsweise indem ein transparenter Substratfilm entsprechend geschnitten wird.In a development of the method, a security thread is formed, for example by a transparent substrate film being cut accordingly.

Die Erfindung umfasst gleichermaßen ein Sicherheitselement, das nach dem genannten Verfahren hergestellt wird sowie ein Wertdokument mit einem solchen Sicherheitselement. In dieser Ausgestaltung ist ein Wertdokument, beispielsweise eine Banknote, ein Ausweisdokument, ein Scheck, eine elektronisch auslesbare Karte etc. als Wertdokument mit einem Sicherheitselement der genannten Art ausgestaltet.The invention equally comprises a security element which is produced according to the said method and a value document with such a security element. In this embodiment, a value document, for example a banknote, an identity document, a check, an electronically readable card, etc., is designed as a value document with a security element of the type mentioned.

Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen, die ebenfalls erfindungswesentliche Merkmale offenbaren, noch näher erläutert. Diese Ausführungsbeispiele dienen lediglich der Veranschaulichung und sind nicht als einschränkend auszulegen. Beispielsweise ist eine Beschreibung eines Ausführungsbeispiels mit einer Vielzahl von Elementen oder Komponenten nicht dahingehend auszulegen, dass alle diese Elemente oder Komponenten zur Implementierung notwendig sind. Vielmehr können andere Ausführungsbeispiele auch alternative Elemente und Komponenten, weniger Elemente oder Komponenten oder zusätzliche Elemente oder Komponenten enthalten. Elemente oder Komponenten verschiedener Ausführungsbespiele können miteinander kombiniert werden, sofern nichts anderes angegeben ist. Modifikationen und Abwandlungen, welche für eines der Ausführungsbeispiele beschrieben werden, können auch auf andere Ausführungsbeispiele anwendbar sein. Zur Vermeidung von Wiederholungen werden gleiche oder einander entsprechende Elemente in verschiedenen Figuren mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet und nicht mehrmals erläutert. In den Figuren zeigen:

  • 1 eine Draufsicht auf eine Banknote mit einem Sicherheitselement,
  • 2 eine schematische Schnittdarstellung durch das Sicherheitselement der 1 und
  • 3A-F verschiedene Stufen der Herstellung des Sicherheitselements der 1 und 2.
The invention will be explained in more detail by means of embodiments with reference to the accompanying drawings, which also disclose features essential to the invention. These embodiments are merely illustrative and are not to be construed as limiting. For example, a description of an embodiment having a plurality of elements or components is not to be construed as requiring all of these elements or components for implementation. Rather, other embodiments may include alternative elements and components, fewer elements or components, or additional elements or components. Elements or components of various embodiments may be combined with each other unless otherwise specified. Modifications and modifications described for one of the embodiments may also be applicable to other embodiments. To avoid repetition, the same or corresponding elements in different figures are denoted by the same reference numerals and not explained several times. In the figures show:
  • 1 a top view of a banknote with a security element,
  • 2 a schematic sectional view through the security element of 1 and
  • 3A-F different stages of manufacturing the security element of 1 and 2 ,

1 zeigt schematisch eine Banknote B mit einem Sicherheitselement S. Die Banknote B ist auf einem Banknotenpapier gedruckt, und das Sicherheitselement S ist als Sicherheitsfaden ausgestaltet, welcher in das Banknotenpapier eingearbeitet wurde. Es kann auch als Folienelement ausgestaltet und aufgebracht werden. 1 schematically shows a banknote B with a security element S , The banknote B is printed on a banknote paper, and the security element S is designed as a security thread, which has been incorporated into the banknote paper. It can also be designed and applied as a film element.

2 zeigt schematisch eine Schnittdarstellung durch das Sicherheitselement S der 1. Das Sicherheitselement S ist auf einem Substratfilm 1, beispielsweise einem Polymerfilm, aufgebaut und umfasst eine Metallschicht 2 mit darüber liegender lichtabsorbierender Schicht 4. In der Metallschicht 2 sind Lücken 3 gebildet, die in einem Muster angeordnet sind, welches Information, beispielsweise einen Text etc. kodiert. Damit diese Lücken 3 ihre Wirkung entfalten können, sind deckungsgleich dazu in der lichtabsorbierenden Schicht 4 Öffnungen 5 ausgebildet. Auf diese Weise kann Licht durch die Öffnungen 5 und die Lücken 3 fallen, so dass bei einer Betrachtung des Sicherheitselementes S, z. B. von der Seite des Substrates 1 her, die durch das Muster der Lücken 3 und Öffnungen 5 kodierte Information erkennbar ist. Über der lichtabsorbierenden Schicht befindet sich eine Farbeffektschicht, hier in Form einer Flüssigkristallschicht 6. Sie erzeugt bei geeigneter Betrachtung einen Farbeffekt. 2 schematically shows a sectional view through the security element S of the 1 , The security element S is on a substrate film 1 , For example, a polymer film, constructed and includes a metal layer 2 with overlying light-absorbing layer 4 , In the metal layer 2 are gaps 3 formed, which are arranged in a pattern, which information, such as a text, etc. encoded. So these gaps 3 their effect can unfold, are congruent in the light-absorbing layer 4 openings 5 educated. In this way, light can pass through the openings 5 and the gaps 3 fall, so when looking at the security element S , z. B. from the side of the substrate 1 forth through the pattern of gaps 3 and openings 5 coded information is recognizable. Above the light-absorbing layer is a color effect layer, here in the form of a liquid-crystal layer 6 , It produces a color effect when considered appropriate.

Zur Herstellung des Sicherheitselementes S werden die in den 3A bis 3F gezeigten Verfahrensschritte ausgeführt.For the production of the security element S will be in the 3A to 3F executed process steps shown.

In einem ersten Schritt wird ein polymerer Substratfilm 1 bereitgestellt und mit einer Waschfarbe 7 an denjenigen Stellen versehen, an denen später das Muster Lücken in der Metallschicht 2 aufweisen soll. Den dann vorliegenden Zustand zeigt 3A.In a first step, a polymeric substrate film is formed 1 provided and with a wash 7 provided at those points where later the pattern gaps in the metal layer 2 should have. The then present state shows 3A ,

Anschließend wird, wie 3B zeigt, die Metallschicht 2 auf den Substratfilm 1 und über die Waschfarbe 7 aufgetragen.Subsequently, how 3B shows the metal layer 2 on the substrate film 1 and about the wash color 7 applied.

Nach Entfernen der Waschfarbe 7 mit der darüber liegenden Metallschicht 2 erhält man den Zustand, der in 3C gezeigt ist. Auf dem Substratfilm 1 befindet sich die Metallschicht 2 mit den Lücken 3 an den gewünschten Stellen, die durch die Ortsverteilung der Waschfarbe 7 vorgegeben waren.After removing the wash color 7 with the overlying metal layer 2 you get the state in 3C is shown. On the substrate film 1 is the metal layer 2 with the gaps 3 at the desired locations, by the local distribution of the washing color 7 were predetermined.

Anschließend wird in einer Ausführungsform vollflächig, d. h. auch über den Lücken 3 auf die Metallschicht 2 ein Fotolack 4 aufgebracht. Es handelt sich dabei um einen Positiv-Fotolack, der an belichteten Stellen in einem Entwicklungsprozess entfernt wird. Mit diesem Zustand, der in 3D gezeigt ist, wird am Fotolack 4 ein Lithographieschritt ausgeführt. Dabei wird der Fotolack 4 durch die Metallschicht 2, welche das Muster mit den Lücken 3 hat, belichtet. Nach dem anschließenden Entwicklungsschritt hat der Fotolack 4 deckungsgleich zu den Lücken 3 Öffnungen 5, wie 3E zeigt. Dadurch, dass die bemusterte Metallschicht 2 als Maske für den Lithographieschritt am Fotolack 4 diente, sind die Lücken 3 in der Metallschicht 2 in perfekter Passerung zu den Öffnungen 5 im Fotolack.Subsequently, in one embodiment, the entire surface, ie also over the gaps 3 on the metal layer 2 a photoresist 4 applied. It is a positive photoresist that is removed at exposed areas in a development process. With this state in 3D is shown on the photoresist 4 carried out a lithography step. This is the photoresist 4 through the metal layer 2 showing the pattern with the gaps 3 has, exposed. After the subsequent development step, the photoresist has 4 congruent with the gaps 3 openings 5 , how 3E shows. Because of the patterned metal layer 2 as a mask for the lithography step on the photoresist 4 served, are the gaps 3 in the metal layer 2 in perfect registration with the openings 5 in the photoresist.

In einer alternativen Ausführungsform wird eine (nicht notwendigerweise als Fotolack ausgebildete) lichtabsorbierende Schicht 4 mittels Strahlung, die durch die Lücken 3 in der Metallschicht 2 eingestrahlt wird, ablatiert. In an alternative embodiment, a light-absorbing layer (not necessarily formed as a photoresist) is formed 4 by means of radiation passing through the gaps 3 in the metal layer 2 is irradiated, ablated.

Abschließend wird, wie 3F zeigt, über der lichtabsorbierenden Schicht die Flüssigkristallschicht 6 als Farbeffektschicht aufgetragen. Andere Farbeffektschichten sind dem Fachmann als Alternativen bekannt. Auf diese Weise ist das Sicherheitselement S fertiggestellt.In conclusion, how 3F shows, over the light absorbing layer, the liquid crystal layer 6 applied as a color effect layer. Other color effect layers are known to those skilled in the art as alternatives. This is the security element S completed.

Als Materialien für Substratfilm 1, Metallschicht 2, Fotolack 4 und Flüssigkristallschicht 6 kommen diejenigen Materialien in Frage, die im Zusammenhang mit einem anderen Herstellverfahren, d. h. einer anderen Abfolge von Schritten in der WO 2003/061980 A1 oder der WO 2016/177391 A1 genannt sind. Der Offenbarungsgehalt dieser Veröffentlichungen wird diesbezüglich hier vollumfänglich durch Inbezugnahme eingebunden.As materials for substrate film 1 , Metal layer 2 , Photoresist 4 and liquid crystal layer 6 those materials come into question that are related to another manufacturing process, ie a different sequence of steps in the WO 2003/061980 A1 or the WO 2016/177391 A1 are called. The content of these publications is hereby incorporated in full by reference.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

SS
Sicherheitselementsecurity element
BB
Banknotebill
11
Substratsubstratum
22
Metallschichtmetal layer
33
Lückegap
44
Fotolackphotoresist
55
Öffnungopening
66
Flüssigkristallschichtliquid crystal layer
77
Waschfarbewashable ink

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • WO 2003/061980 A1 [0002, 0023]WO 2003/061980 A1 [0002, 0023]
  • WO 2016/177391 A1 [0003, 0023]WO 2016/177391 A1 [0003, 0023]

Claims (7)

Verfahren zum Herstellen eines Sicherheitselementes (S), das auf einem transparenten Substratfilm (1) eine Metallschicht (2), die in bestimmtem Muster angeordnete Lücken (3) aufweist, auf der Metallschicht (2) eine lichtabsorbierende Schicht (4), die Öffnungen (5) hat, welche zu den Lücken (3) in der Metallschicht (2) deckungsgleich sind, und darüber eine vollflächige, auch die Öffnungen (5) und Lücken (3) überdeckende Farbeffektschicht (6) aufweist, wobei zur Herstellung folgende Schritte ausgeführt werden: - auf dem Substratfilm (1) wird an Stellen, an denen die Metallschicht (2) die Lücken (3) aufweisen soll, eine Waschfarbe (7) aufgebracht, und auf den mit der Waschfarbe (7) versehenen Substratfilm (1) wird vollflächig die Metallschicht (2) aufgebracht und durch Entfernen der Waschfarbe (7) in den Lücken (3) entfernt, - über der Metallschicht (2) wird die lichtabsorbierende Schicht (4) so aufgebracht, dass sie auch die Lücken (3) in der Metallschicht (2) überspannt, - in der Schicht (4) werden die Öffnungen (5) erzeugt, wobei die mit den Lücken (3) versehene Metallschicht (2) als Maske verwendet wird, und - auf der mit den Öffnungen (5) versehenen Schicht (4) wird die Farbeffektschicht (6) aufgebracht.Method for producing a security element (S) comprising, on a transparent substrate film (1), a metal layer (2) having defined patterns (3) on the metal layer (2), a light-absorbing layer (4), the openings ( 5), which are congruent to the gaps (3) in the metal layer (2), and above a full-surface, also the openings (5) and gaps (3) overlapping color effect layer (6), wherein the following steps are carried out for the preparation : - On the substrate film (1) is at locations where the metal layer (2) to have the gaps (3), applied a wash (7), and on the provided with the wash ink (7) substrate film (1) is the entire surface of the Applied metal layer (2) and removed by removing the wash paint (7) in the gaps (3), over the metal layer (2), the light-absorbing layer (4) is applied so that it also spans the gaps (3) in the metal layer (2), - In the layer (4), the openings (5) are generated, wherein the gaps (3) provided with the metal layer (2) is used as a mask, and - On the provided with the openings (5) layer (4), the color effect layer (6) is applied. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der transparenten Substratfilm (1) in als Sicherheitsfaden ausgebildet, z. B. geschnitten wird.Method according to Claim 1 , wherein the transparent substrate film (1) formed as a security thread, z. B. is cut. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Farbeffektschicht eine Flüssigkristallschicht (6) ist.Method according to Claim 1 or 2 wherein the color effect layer is a liquid crystal layer (6). Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die lichtabsorbierende Schicht ein Positiv-Fotolack (4) ist und die Öffnungen (5) lithographisch erzeugt werden.Method according to one of Claims 1 to 3 in which the light-absorbing layer is a positive photoresist (4) and the openings (5) are lithographically produced. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Öffnungen (5) durch Ablation mittels Strahlung erzeugt werden, die durch die Lücken (3) in der Metallschicht (2) auf die lichtabsorbierende Schicht (4) eingestrahlt wird.Method according to one of Claims 1 to 3 in that the openings (5) are produced by ablation by means of radiation which is radiated through the gaps (3) in the metal layer (2) onto the light-absorbing layer (4). Sicherheitselement, hergestellt nach einem der obigen Verfahren.Security element made according to one of the above methods. Wertdokument mit einem Sicherheitselement (S) nach Anspruch 6.Value document with a security element (S) after Claim 6 ,
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