DE102017206039A1

DE102017206039A1 - MIRROR, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING A LITHOGRAPHIC APPARATUS

Info

Publication number: DE102017206039A1
Application number: DE102017206039.5A
Authority: DE
Inventors: Pascal Marsollek
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2016-04-13
Filing date: 2017-04-07
Publication date: 2017-10-19
Also published as: DE102016206113A1

Abstract

Es wird ein Spiegel (200) für eine Lithographieanlage (100) offenbart, welcher einen Spiegelkörper (204), und mindestens eine Anschlussanordnung (206), welche über mindestens eine Befestigungsstelle (302) mit dem Spiegelkörper (204) verbunden ist, aufweist. Die Anschlussanordnung (206) weist eine erste Schnittstelle (314) zum Verbinden des Spiegels (200) mit einem Halterahmen (400) eines Prüfturms (412) und eine zweite Schnittstelle (316) zum Verbinden des Spiegels (200) mit einem Halterahmen (500) eines optischen Systems (508) auf.A mirror (200) for a lithography system (100) is disclosed which has a mirror body (204) and at least one connection arrangement (206) which is connected to the mirror body (204) via at least one attachment point (302). The terminal arrangement (206) has a first interface (314) for connecting the mirror (200) to a holding frame (400) of a test tower (412) and a second interface (316) for connecting the mirror (200) to a holding frame (500). an optical system (508).

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Spiegel für eine Lithographieanlage, eine Lithographieanlage und ein Verfahren zum Herstellen einer Lithographieanlage.The present invention relates to a mirror for a lithography system, a lithography system and a method for producing a lithography system.

Die Lithographie wird zur Herstellung mikro- und nanostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Lithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat (z. B. ein Siliziumwafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.Lithography is used to fabricate micro- and nanostructured devices such as integrated circuits. The lithography process is performed with a lithography system having an illumination system and a projection system. The image of a mask (reticle) illuminated by means of the illumination system is projected by the projection system onto a substrate (eg a silicon wafer) coated with a photosensitive layer (photoresist) and arranged in the image plane of the projection system in order to apply the mask structure to the photosensitive layer Transfer coating of the substrate.

Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm, verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von – wie bisher – brechenden Optiken, das heißt Linsen, eingesetzt werden. Driven by the quest for ever smaller structures in the manufacture of integrated circuits, EUV lithography systems are currently being developed which use light having a wavelength in the range of 0.1 nm to 30 nm, in particular 13.5 nm. In such EUV lithography equipment, because of the high absorption of most materials of light of this wavelength, reflective optics, that is, mirrors, must be used instead of - as before - refractive optics, that is, lenses.

Bevor eine Lithographieanlage in Betrieb genommen wird, werden die Spiegel genau vermessen. Dabei werden die Spiegel in der Einbaulage in unterschiedlichen Prüftürmen vermessen, d.h. die Ausrichtung der Spiegel in den Prüftürmen ist die gleiche wie im Betrieb der Lithographieanlage. Nachdem ein Spiegel vermessen wurde, kann die Spiegeloberfläche nachbearbeitet werden. Dieses Vorgehen wird teils als aufwendig empfunden.Before a lithography system is put into operation, the mirrors are precisely measured. The mirrors are measured in the installation position in different test towers, i. The orientation of the mirrors in the test towers is the same as in the operation of the lithography system. After a mirror has been measured, the mirror surface can be reworked. This procedure is sometimes perceived as consuming.

Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, demgegenüber eine Verbesserung zu schaffen.Against this background, an object of the present invention is to provide an improvement on the other hand.

Demgemäß wird ein Spiegel für eine Lithographieanlage bereitgestellt, aufweisend einen Spiegelkörper, und mindestens eine Anschlussanordnung, welche über mindestens eine Befestigungsstelle mit dem Spiegelkörper verbunden ist, wobei die Anschlussanordnung eine erste Schnittstelle zum Verbinden des Spiegels mit einem Halterahmen eines Prüfturms und eine zweite Schnittstelle zum Verbinden des Spiegels mit einem Halterahmen eines optischen Systems aufweist.Accordingly, a mirror is provided for a lithography system, comprising a mirror body, and at least one connection arrangement, which is connected to the mirror body via at least one attachment location, wherein the connection arrangement has a first interface for connecting the mirror to a support frame of a test tower and a second interface for connecting of the mirror having a holding frame of an optical system.

Dadurch, dass der Spiegel die Anschlussanordnung mit der ersten Schnittstelle und der zweiten Schnittstelle aufweist, kann der Spiegel in einem Prüfturm vermessen werden, bei dem die Ausrichtung des Spiegels von der Einbaulage in dem optischen System der Lithographieanlage abweicht. Diese Vermessung kann insbesondere bei Spiegeln angewendet werden, bei denen die Oberflächendeformation weniger kritisch ist, wie beispielsweise Spiegel mit streifendem Lichteinfall (Engl.: gracing incidence mirror). Bei den Spiegeln mit streifendem Lichteinfall ist der Winkel zwischen dem Lichteinfall und der Normalen der optischen Fläche des Spiegels insbesondere größer 50°, größer 60°, größer 70° oder größer 80°. Die Ausrichtung des Spiegels in einem Prüfturm kann sich demnach von der Ausrichtung des Spiegels in dem optischen System unterscheiden.Because the mirror has the connection arrangement with the first interface and the second interface, the mirror can be measured in a test tower, in which the orientation of the mirror deviates from the mounting position in the optical system of the lithography system. This measurement can be applied particularly to mirrors where surface deformation is less critical, such as grazing incidence mirror. In the case of the grazing light mirrors, the angle between the light incidence and the normal of the optical surface of the mirror is in particular greater than 50 °, greater than 60 °, greater than 70 ° or greater than 80 °. The orientation of the mirror in a test tower may thus differ from the orientation of the mirror in the optical system.

Vorteilhaft wird so ermöglicht, dass verschiedene Spiegel mit unterschiedlicher Einbaulage in der Lithographieanlage in einem einzigen Prüfturm vermessen werden können, weil jeder Spiegel eine für diesen Prüfturm passende Schnittstelle aufweist. Alternativ können auch nur weniger Prüftürme, beispielsweise zwei oder drei Prüftürme, verwendet werden. Insgesamt lässt sich die Anzahl der zur Vermessung der Spiegel benötigten Prüftürme verringern.Advantageously, it is thus made possible that different mirrors with different mounting position can be measured in the lithography system in a single test tower, because each mirror has an interface suitable for this test tower. Alternatively, only a few test towers, for example two or three test towers, can be used. Overall, it is possible to reduce the number of test towers needed to measure the mirrors.

Bei dem optischen System kann es sich beispielsweise um eine Projektionsoptik oder ein Beleuchtungssystem handeln.The optical system can be, for example, a projection optics or a lighting system.

In einem Bereich des Spiegels kann lediglich eine Anschlussanordnung vorgesehen sein. Auf eine weitere Anschlussanordnung im gleichen Bereich des Spiegelkörpers kann verzichtet werden. Dadurch kann die Herstellung des Spiegels vereinfacht werden, da jede Anschlussanordnung am Spiegelkörper befestigt wird, und jede Befestigung zu zusätzlichen Deformationen des Spiegels führen kann. Demnach kann eine möglichst geringe Zahl an Anschlussanordnungen zu einer Fertigungsvereinfachung führen. Zusätzlich kann eine möglichst geringe Zahl an Anschlussanordnungen zu einer Performanceverbesserung (Performanceverbesserung in Bezug auf die Passedeformation) führen, da weniger Anschlussanordnungen zu einer geringeren Deformation im Spiegelkörper führen können.In one area of the mirror, only one connection arrangement can be provided. On a further connection arrangement in the same region of the mirror body can be omitted. Thereby, the manufacture of the mirror can be simplified, since each terminal assembly is attached to the mirror body, and each attachment can lead to additional deformation of the mirror. Accordingly, the smallest possible number of connection arrangements can lead to a simplification of production. In addition, the smallest possible number of connection arrangements can lead to a performance improvement (performance improvement with regard to the pass deformation), since fewer connection arrangements can lead to a smaller deformation in the mirror body.

Dadurch, dass nur wenige Anschlussanordnungen vorgesehen sind, kann ein kleiner Spiegel-Rohling vorgesehen werden. Dadurch können Materialkosten eingespart werden.Because only a few connection arrangements are provided, a small mirror blank can be provided. This can save material costs.

Ein Prüfturm weist eine Halterung für den Spiegel (wird auch als Fassung bezeichnet) und eine Messtechnik auf. Dabei kann die Messtechnik ein Interferometer umfassen. Mit einem Prüfturm kann die Spiegelpasse, d.h. die Form der optischen Fläche, vermessen werden. Aufgrund des Unterschieds in der Ausrichtung des Spiegels in dem optischen System im Vergleich zur Messung in dem Prüfturm, wird der Gravitationseffekt als Vorhalt in die Spiegelpasse mit eingerechnet, wenn die optische Fläche überarbeitet wird.A test tower has a holder for the mirror (also called socket) and a measuring technique. The measurement technique may include an interferometer. With a test tower, the mirror mount, ie the shape of the optical Surface, to be measured. Due to the difference in the orientation of the mirror in the optical system compared to the measurement in the test tower, the gravitational effect is taken into account as a derivative in the mirror alignment when the optical surface is revised.

Weiter können mehrere Schnittstellen, insbesondere zwei, drei, vier oder fünf Schnittstellen, in einer Anschlussanordnung vorgesehen werden. Dadurch ist es möglich die Anschlussanordnung zur Verbindung des Spiegels in mehreren unterschiedlichen Ausrichtungen zu verwenden, z.B. wenn der Spiegel in mehreren Prüftürmen vermessen wird.Furthermore, a plurality of interfaces, in particular two, three, four or five interfaces, can be provided in a connection arrangement. This makes it possible to use the connection arrangement for connecting the mirror in several different orientations, e.g. when the mirror is measured in several test towers.

Gemäß einer Ausführungsform des Spiegels weist eine Verbindungsrichtung der ersten Schnittstelle in Gravitationsrichtung, wenn der Spiegel mit dem Halterahmen des Prüfturms verbunden ist, und eine Verbindungsrichtung der zweiten Schnittstelle weist in Gravitationsrichtung, wenn der Spiegel mit dem Halterahmen des optischen Systems verbunden ist. Der Spiegel ist immer so ausgerichtet, dass die Verbindungsrichtung der Schnittstelle an der der Spiegel befestigt ist, in Gravitationsrichtung weist. Vorteilhafterweise kann die Schnittstelle, an der der Spiegel gerade befestigt ist, senkrecht zur Gravitationsrichtung weich ausgelegt sein. Dabei bedeutet weich, dass die Schnittstelle senkrecht zur Gravitationsrichtung eine gewisse Flexibilität aufweist. Im Gegensatz dazu weist die Schnittstelle in Gravitationsrichtung eine wesentlich geringere Flexibilität auf.According to an embodiment of the mirror, a connecting direction of the first interface in the direction of gravity when the mirror is connected to the holding frame of the test tower, and a connecting direction of the second interface points in the direction of gravity when the mirror is connected to the holding frame of the optical system. The mirror is always oriented in such a way that the direction of connection of the interface to which the mirror is mounted points in the direction of gravity. Advantageously, the interface to which the mirror is just attached may be designed to be soft perpendicular to the direction of gravity. Soft means that the interface has some flexibility perpendicular to the direction of gravity. In contrast, the interface in the direction of gravity has a much lower flexibility.

Dabei kann die Verbindungsrichtung einer Schnittstelle diejenige Richtung sein, mit der ein Gegenkopplungsstück mit einem Kopplungsstück der Schnittstelle in Eingriff gebracht wird.In this case, the connection direction of an interface may be that direction with which a negative feedback piece is brought into engagement with a coupling piece of the interface.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist die Verbindungsrichtung der ersten Schnittstelle einen Winkel zu der Verbindungsrichtung der zweiten Schnittstelle auf. Vorteilhafterweise können dadurch mit einer Anschlussanordnung zwei Verbindungsrichtungen realisiert werden. Dabei kann der Winkel zwischen der Verbindungsrichtung der ersten Schnittstelle und der Verbindungsrichtung der zweiten Schnittstelle größer 15°, größer 30° oder größer 45° sein.According to a further embodiment of the mirror, the connecting direction of the first interface has an angle to the connecting direction of the second interface. Advantageously, two connection directions can thereby be realized with one connection arrangement. In this case, the angle between the connection direction of the first interface and the connection direction of the second interface can be greater than 15 °, greater than 30 ° or greater than 45 °.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels ist der Winkel zwischen der Verbindungsrichtung der ersten Schnittstelle und der Verbindungsrichtung der zweiten Schnittstelle gleich einem Winkel zwischen einer ersten Ausrichtung des Spiegels in dem Prüfturm und einer zweiten Ausrichtung des Spiegels in dem optischen System. Die Verbindungsrichtung einer Schnittstelle und die Ausrichtung des Spiegels hängen zusammen. Deswegen können die möglichen Ausrichtungen des Spiegels über die Anordnung der Schnittstellen in der Anschlussanordnung bestimmt werden.According to another embodiment of the mirror, the angle between the connection direction of the first interface and the connection direction of the second interface is equal to an angle between a first orientation of the mirror in the test tower and a second orientation of the mirror in the optical system. The connection direction of an interface and the orientation of the mirror are related. Therefore, the possible orientations of the mirror can be determined via the arrangement of the interfaces in the terminal arrangement.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist die erste Schnittstelle und/oder die zweite Schnittstelle eine Basis, ein Gelenk und ein Kopplungsstück auf, das Gelenk ist mit der Basis und das Kopplungsstück ist mit dem Gelenk verbunden, und das Kopplungsstück ist eingerichtet, mit einem Gegenkopplungsstück in Verbindungsrichtung in Eingriff gebracht zu werden. Das Gegenkopplungsstück kann mit dem Halterahmen eines Prüfturms oder eines optischen Systems verbunden sein. Weiter können das Kopplungsstück und das Gegenkopplungsstück miteinander lösbar verbunden werden.According to a further embodiment of the mirror, the first interface and / or the second interface comprises a base, a hinge and a coupling piece, the hinge is connected to the base and the coupling piece is connected to the hinge, and the coupling piece is set up with a counter-coupling piece to be engaged in the connecting direction. The negative feedback piece may be connected to the support frame of a test tower or an optical system. Further, the coupling piece and the counter coupling piece can be detachably connected to each other.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weisen die erste Schnittstelle und/oder die zweite Schnittstelle ein Festkörpergelenk und/oder ein Kardangelenk auf. Vorteilhafterweise kann eine Schnittstelle mit einem Festkörpergelenk oder mit einem Kardangelenk so ausgeführt werden, dass sie senkrecht zu der Verbindungsrichtung weich ausgebildet ist, d.h. eine gewisse Flexibilität aufweist.According to a further embodiment of the mirror, the first interface and / or the second interface have a solid-state joint and / or a universal joint. Advantageously, an interface with a solid-state joint or with a universal joint can be made to be soft perpendicular to the connecting direction, i. has a certain flexibility.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist die Anschlussanordnung ein einteiliges und/oder einstückiges Bauteil auf, welches die erste Schnittstelle und die zweite Schnittstelle umfasst. Dabei ist ein einteiliges Bauteil ein Bauteil, welches nur aus einem Teil besteht. Das Teil kann aus einem Stück gefertigt sein oder aus mehreren Teilstücken zusammengebaut sein, wobei die mehreren Teilstücke miteinander verbunden sind. Ein einstückiges Bauteil ist dagegen ein Bauteil, welches aus einem Stück hergestellt wurde.According to a further embodiment of the mirror, the connection arrangement has a one-part and / or one-piece component which comprises the first interface and the second interface. Here, a one-piece component is a component which consists of only one part. The part may be made in one piece or assembled from a plurality of sections, the plurality of sections being connected together. By contrast, a one-piece component is a component that has been produced in one piece.

Die Anschlussanordnung umfasst die Schnittstellen. Genauer umfasst die Anschlussanordnung die Basis einer Schnittstelle. Das Gelenk und das Kopplungsstück der Schnittstelle können dagegen lösbar mit der Basis der Schnittstelle verbunden sein. Demnach weist das Bauteil der Anschlussanordnung nur die Basis der Schnittstelle auf.The connection arrangement comprises the interfaces. More specifically, the terminal arrangement comprises the base of an interface. The joint and the coupling piece of the interface, however, can be detachably connected to the base of the interface. Accordingly, the component of the connection arrangement has only the basis of the interface.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist die Anschlussanordnung ein erstes Bauteil und ein zweites Bauteil, welches von dem ersten Bauteil getrennt vorgesehen ist, auf. Jedes der Bauteile weist eine Befestigungsstelle zum Verbinden mit dem Spiegelkörper auf. Das erste Bauteil umfasst die erste Schnittstelle und das zweite Bauteil umfasst die zweite Schnittstelle. Vorteilhafterweise weist jedes der Bauteile eine Schnittstelle auf, wobei jede Schnittstelle eine unterschiedliche Verbindungsrichtung vorsieht. Dadurch kann der Spiegel entsprechend der Verbindungsrichtung der jeweiligen Schnittstelle unterschiedlich ausgerichtet an einem Halterahmen befestigt werden. According to a further embodiment of the mirror, the connection arrangement has a first component and a second component, which is provided separately from the first component. Each of the components has an attachment point for connection to the mirror body. The first component comprises the first interface and the second component comprises the second interface. Advantageously, each of the components has an interface, wherein each interface provides a different connection direction. As a result, the mirror can be fastened differently aligned with a holding frame in accordance with the connection direction of the respective interface.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist der Spiegel drei Anschlussanordnungen auf. Mittels drei Anschlussanordnungen kann der Spiegel stabil gelagert werden. Jede der Anschlussanordnungen kann mit einem oder mehreren Aktoren verbunden sein. Alternativ kann der Spiegel auch mehr als drei Anschlussanordnungen aufweisen. Prinzipiell kann der Spiegel so gelagert werden, dass er in bis zu sechs Freiheitsgraden, d.h. in drei translatorischen Freiheitsgraden und drei rotatorischen Freiheitsgraden, ausgerichtet werden kann.According to a further embodiment of the mirror, the mirror has three connection arrangements. By means of three connection arrangements, the mirror can be stably stored. Each of the terminal assemblies may be connected to one or more actuators. Alternatively, the mirror may also have more than three terminal arrangements. In principle, the mirror can be stored so that it can be used in up to six degrees of freedom, i. in three translational degrees of freedom and three rotational degrees of freedom, can be aligned.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels ist mindestens eine Befestigungsstelle mit dem Spiegelkörper verklebt oder verlötet. Vorteilhafterweise kann die Anschlussanordnung mittels Kleben oder Löten geeignet an dem Spiegelkörper befestigt werden. Dabei verursacht eine stoffschlüssige Verbindung weniger Spannungen im Spiegelkörper als eine mechanische Verbindung. According to a further embodiment of the mirror, at least one fastening point is glued or soldered to the mirror body. Advantageously, the connection arrangement can be suitably fixed to the mirror body by means of gluing or soldering. In this case, a cohesive connection causes less stress in the mirror body than a mechanical connection.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist der Spiegel zu jeder Anschlussanordnung zumindest eine Aufnahmegeometrie am Spiegelkörper auf, welche mit einer Befestigungsstelle der Anschlussanordnung verbunden ist. Dabei ist eine Aufnahmegeometrie ein Bereich des Spiegelkörpers, welcher mit einer Anschlussanordnung verbunden sein kann. Die Aufnahmegeometrie kann eine Ausnehmung aufweisen, welche Spannungen, die aufgrund der Verbindung von Spiegelkörper und Anschlussanordnung entstehen, ausgleichen kann. Alternativ kann eine Aufnahmegeometrie auch mehrere Ausnehmungen, insbesondere zwei, drei, vier oder fünf Ausnehmungen aufweisen.According to a further embodiment of the mirror, the mirror has, for each connection arrangement, at least one receiving geometry on the mirror body, which is connected to an attachment point of the connection arrangement. In this case, a receiving geometry is a region of the mirror body, which can be connected to a connection arrangement. The receiving geometry may have a recess which can compensate for stresses that arise due to the connection of mirror body and connection arrangement. Alternatively, a receiving geometry can also have a plurality of recesses, in particular two, three, four or five recesses.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist der Spiegel zumindest eine weitere Aufnahmegeometrie zum Ableiten von Wärme, zum Verbinden mit einem Aktor, zum Begrenzen der Auslenkung des Spiegels und/oder zum Arretieren des Spiegels beim Transportieren des Spiegels auf. Vorteilhafterweise kann eine Aufnahmegeometrie des Spiegelkörpers, welche nicht mit einer Anschlussanordnung verbunden ist, auch anderweitig genutzt werden.According to a further embodiment of the mirror, the mirror has at least one further receiving geometry for dissipating heat, for connecting to an actuator, for limiting the deflection of the mirror and / or for locking the mirror when transporting the mirror. Advantageously, a receiving geometry of the mirror body, which is not connected to a connection arrangement, also be used elsewhere.

Ferner wird eine Lithographieanlage, insbesondere EUV- oder DUV-Lithographieanlage, mit einem Spiegel, wie vorstehend beschrieben, bereitgestellt. EUV steht für „extreme ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 und 30 nm. DUV steht für „deep ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 und 250 nm.Furthermore, a lithography system, in particular EUV or DUV lithography system, with a mirror, as described above, provided. EUV stands for "extreme ultraviolet" and denotes a working light wavelength between 0.1 and 30 nm. DUV stands for "deep ultraviolet" and denotes a working light wavelength between 30 and 250 nm.

Weiter wird ein Verfahren zum Herstellen einer Lithographieanlage bereitgestellt. Das Verfahren weist die folgenden Schritte auf: a) Vermessen einer optischen Fläche eines Spiegels in einem Prüfturm in einer ersten Ausrichtung des Spiegels, b) Bearbeiten der optischen Fläche des Spiegels entsprechend den Ergebnissen der Vermessung, und c) Einbauen des Spiegels in ein optisches System in einer zweiten Ausrichtung des Spiegels, wobei sich die erste Ausrichtung von der zweiten Ausrichtung unterscheidet.Furthermore, a method for producing a lithography system is provided. The method comprises the following steps: a) measuring an optical surface of a mirror in a test tower in a first orientation of the mirror, b) processing the optical surface of the mirror according to the results of the measurement, and c) incorporating the mirror into an optical system in a second orientation of the mirror, wherein the first orientation is different from the second orientation.

Dadurch, dass ein solcher Spiegel in einem Prüfturm eine unterschiedliche Ausrichtung als in einem optischen System aufweisen kann, ist es möglich mehrere Spiegel der Lithographieanlage in nur einem Prüfturm oder in nur wenigen Prüftürmen zu vermessen. Damit lässt sich die Anzahl der benötigten Prüftürme reduzieren.Because such a mirror can have a different orientation in a test tower than in an optical system, it is possible to measure several mirrors of the lithography system in only one test tower or in only a few test towers. This reduces the number of required test towers.

Nachdem der Spiegel vermessen wurde, kann die optische Fläche des Spiegels nachbearbeitet werden. Dabei wird vorteilhaft die Gravitation als Deformationstreiber bei unterschiedlichen Ausrichtungen des Spiegels bei der Nachbearbeitung der optischen Fläche berücksichtigt.After the mirror has been measured, the optical surface of the mirror can be reworked. In this case, gravitation is advantageously taken into account as a deformation driver in the case of different orientations of the mirror in the subsequent processing of the optical surface.

In dem Prüfturm kann insbesondere die Wellenfront der vom Spiegel reflektierten Strahlung mit einer Soll-Wellenfront verglichen werden. Die Abweichung der Wellenfront der vom Spiegel reflektierten Strahlung zur Soll-Wellenfront lässt Rückschlüsse auf die Oberflächendeformation des Spiegels zu.In particular, the wavefront of the radiation reflected by the mirror can be compared to a desired wavefront in the test tower. The deviation of the wavefront of the reflected radiation from the mirror to the desired wavefront allows conclusions about the surface deformation of the mirror.

Gemäß einer Ausführungsform des Verfahrens wird der Spiegel mit einer ersten Schnittstelle an einem Halterahmen des Prüfturms befestigt und mit einer zweiten Schnittstelle an einem Halterahmen des optischen Systems befestigt. Vorteilhafterweise sind zwei verschiedenen Schnittstellen vorgesehen, so dass der Spiegel mit jeder Schnittstelle in einer anderen Ausrichtung gehalten werden kann.According to one embodiment of the method, the mirror is fastened with a first interface to a holding frame of the test tower and fastened with a second interface to a holding frame of the optical system. Advantageously, two different interfaces are provided so that the mirror can be held in a different orientation with each interface.

Die für den vorgeschlagenen Spiegel und die vorgeschlagene Lithographieanlage beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für das vorgeschlagene Verfahren entsprechend und umgekehrt.The embodiments and features described for the proposed mirror and the proposed lithography system apply accordingly to the proposed method and vice versa.

Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmale oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.Further possible implementations of the invention also include not explicitly mentioned combinations of features or embodiments described above or below with regard to the exemplary embodiments. The skilled person will also add individual aspects as improvements or additions to the respective basic form of the invention.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.Further advantageous embodiments and aspects of the invention are the subject of the dependent claims and the embodiments of the invention described below. Furthermore, the invention will be explained in more detail by means of preferred embodiments with reference to the attached figures.

1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage; 1A shows a schematic view of an EUV lithography system;

1B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage; 1B shows a schematic view of a DUV lithography system;

2 zeigt eine Ansicht der Spiegelrückseite eines Spiegels; 2 shows a view of the mirror back of a mirror;

3 zeigt eine Schnittansicht des Spiegels aus 2; 3 shows a sectional view of the mirror 2 ;

4 zeigt eine Schnittansicht des Spiegels aus 2 verbunden mit einem Halterahmen eines Prüfturms; 4 shows a sectional view of the mirror 2 connected to a holding frame of a test tower;

5 zeigt eine Schnittansicht des Spiegels aus 2 verbunden mit einem Halterahmen einer Projektionsoptik; 5 shows a sectional view of the mirror 2 connected to a holding frame of a projection optics;

6 zeigt eine vergrößerte Ansicht der in 4 dargestellten ersten Schnittstelle; 6 shows an enlarged view of the in 4 illustrated first interface;

7 zeigt eine schematische Ansicht des Gelenks aus 6; 7 shows a schematic view of the joint 6 ;

8 zeigt eine Schnittansicht eines weiteren Spiegels; 8th shows a sectional view of another mirror;

9 zeigt eine Schnittansicht eines weiteren Spiegels; und 9 shows a sectional view of another mirror; and

10 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen einer Lithographieanlage. 10 shows a flowchart of a method for producing a lithographic system.

Falls nichts anderes angegeben ist, bezeichnen gleiche Bezugszeichen in den Figuren gleiche oder funktionsgleiche Elemente. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.Unless otherwise indicated, like reference numerals in the figures denote like or functionally identical elements. It should also be noted that the illustrations in the figures are not necessarily to scale.

1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage 100A, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht EUV für „extremes Ultraviolett“ (Engl.: extreme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 und 30 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 sind jeweils in einem Vakuum-Gehäuse vorgesehen, wobei jedes Vakuum-Gehäuse mit Hilfe einer nicht näher dargestellten Evakuierungsvorrichtung evakuiert wird. Die Vakuum-Gehäuse sind von einem nicht näher dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem die Antriebsvorrichtungen zum mechanischen Verfahren bzw. Einstellen der optischen Elemente vorgesehen sind. Ferner können auch elektrische Steuerungen und dergleichen in diesem Maschinenraum vorgesehen sein. 1A shows a schematic view of an EUV lithography system 100A which is a beam shaping and illumination system 102 and a projection system 104 includes. EUV stands for "extreme ultraviolet" (Engl.: Extreme ultraviolet, EUV) and refers to a working light wavelength between 0.1 and 30 nm. The beam shaping and illumination system 102 and the projection system 104 are each provided in a vacuum housing, wherein each vacuum housing is evacuated by means of an evacuation device, not shown. The vacuum housings are surrounded by a machine room, not shown, in which the drive devices are provided for the mechanical method or adjustment of the optical elements. Furthermore, electrical controls and the like may be provided in this engine room.

Die EUV-Lithographieanlage 100A weist eine EUV-Lichtquelle 106A auf. Als EUV-Lichtquelle 106A kann beispielsweise eine Plasmaquelle oder ein Synchrotron vorgesehen sein, welche Strahlung 108A im EUV-Bereich (extrem ultravioletten Bereich), also z.B. im Wellenlängenbereich von 0,1 nm bis 30 nm aussenden. Im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A gebündelt und die gewünschte Betriebswellenlänge aus der EUV-Strahlung 108A herausgefiltert. Die von der EUV-Lichtquelle 106A erzeugte EUV-Strahlung 108A weist eine relativ niedrige Transmissivität durch Luft auf, weshalb die Strahlführungsräume im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und im Projektionssystem 104 evakuiert sind. The EUV lithography system 100A has an EUV light source 106A on. As an EUV light source 106A For example, a plasma source or a synchrotron can be provided, which radiation 108A in the EUV range (extreme ultraviolet range), ie in the wavelength range from 0.1 nm to 30 nm, for example. In the beam-forming and lighting system 102 becomes the EUV radiation 108A bundled and the desired operating wavelength from the EUV radiation 108A filtered out. The from the EUV light source 106A generated EUV radiation 108A has a relatively low transmissivity by air, which is why the beam guiding spaces in the beam-forming and lighting system 102 and in the projection system 104 are evacuated.

Das in 1A dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 weist fünf Spiegel 110, 112, 114, 116, 118 auf. Nach dem Durchgang durch das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A auf die Photomaske (Engl.: reticle) 120 geleitet. Die Photomaske 120 ist ebenfalls als reflektives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Weiter kann die EUV-Strahlung 108A mittels eines Spiegels 136 auf die Photomaske 120 gelenkt werden. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 122 oder dergleichen abgebildet wird. This in 1A illustrated beam shaping and illumination system 102 has five mirrors 110 . 112 . 114 . 116 . 118 on. After passing through the beam shaping and lighting system 102 becomes the EUV radiation 108A on the photomask (English: reticle) 120 directed. The photomask 120 is also designed as a reflective optical element and can be outside the systems 102 . 104 be arranged. Next, the EUV radiation 108A by means of a mirror 136 on the photomask 120 be steered. The photomask 120 has a structure which, by means of the projection system 104 reduced to a wafer 122 or the like is mapped.

Das Projektionssystem 104 weist sechs Spiegel M1–M6 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 122 auf. Dabei können einzelne Spiegel M1–M6 des Projektionssystems 104 symmetrisch zur optischen Achse 124 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Spiegel der EUV-Lithographieanlage 100A nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Spiegel vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel i.d.R. an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt. The projection system 104 has six mirrors M1-M6 for imaging the photomask 120 on the wafer 122 on. In this case, individual mirrors M1-M6 of the projection system 104 symmetrical to the optical axis 124 of the projection system 104 be arranged. It should be noted that the number of mirrors of the EUV lithography system 100A is not limited to the number shown. It can also be provided more or less mirror. Furthermore, the mirrors are usually curved at the front for beam shaping.

1B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage 100B, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht DUV für „tiefes Ultraviolett“ (Engl.: deep ultraviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 und 250 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 sind von einem nicht näher dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem die Antriebsvorrichtungen zum mechanischen Verfahren bzw. Einstellen der optischen Elemente vorgesehen sind. Die DUV-Lithographieanlage 100B weist ferner eine Steuereinrichtung 126 zum Steuern verschiedener Komponenten der DUV-Lithographieanlage 100B auf. Dabei ist die Steuereinrichtung 126 mit dem Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102, einer DUV-Lichtquelle 106B, einer Halterung 128 der Photomaske 120 (Engl.: reticle stage) und einer Halterung 130 des Wafers 122 (Engl.: wafer stage) verbunden. 1B shows a schematic view of a DUV lithography system 100B which is a beam shaping and illumination system 102 and a projection system 104 includes. DUV stands for "deep ultraviolet" (English: deep ultraviolet, DUV) and denotes a wavelength of the working light between 30 and 250 nm. The beam shaping and illumination system 102 and the projection system 104 are surrounded by a machine room, not shown, in which the drive devices are provided for the mechanical method or adjustment of the optical elements. The DUV lithography system 100B also has a control device 126 for controlling various components of the DUV lithography system 100B on. In this case, the control device 126 with the beam shaping and illumination system 102 , a DUV light source 106B , a holder 128 the photomask 120 (English: reticle stage) and a holder 130 of the wafer 122 (Engl .: wafer stage) connected.

Die DUV-Lithographieanlage 100B weist eine DUV-Lichtquelle 106B auf. Als DUV-Lichtquelle 106B kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher Strahlung 108B im DUV-Bereich bei 193 nm emittiert. The DUV lithography system 100B has a DUV light source 106B on. As a DUV light source 106B For example, an ArF excimer laser can be provided, which radiation 108B in the DUV area 193 nm emitted.

Das in 1B dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 leitet die DUV-Strahlung 108B auf eine Photomaske 120. Die Photomaske 120 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 122 oder dergleichen abgebildet wird.This in 1B illustrated beam shaping and illumination system 102 directs the DUV radiation 108B on a photomask 120 , The photomask 120 is designed as a transmissive optical element and can be outside the systems 102 . 104 be arranged. The photomask 120 has a structure which, by means of the projection system 104 reduced to a wafer 122 or the like is mapped.

Das Projektionssystem 104 weist mehrere Linsen 132 und/oder Spiegel 134 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 122 auf. Dabei können einzelne Linsen 132 und/oder Spiegel 134 des Projektionssystems 104 symmetrisch zur optischen Achse 124 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Linsen und Spiegel der DUV-Lithographieanlage 100B nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Linsen und/oder Spiegel vorgesehen sein. Insbesondere weist das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 der DUV-Lithographieanlage 100B mehrere Linsen und/oder Spiegel auf. Des Weiteren sind die Spiegel i.d.R. an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.The projection system 104 has several lenses 132 and / or mirrors 134 for imaging the photomask 120 on the wafer 122 on. This can be individual lenses 132 and / or mirrors 134 of the projection system 104 symmetrical to the optical axis 124 of the projection system 104 be arranged. It should be noted that the number of lenses and mirrors of the DUV lithography system 100B is not limited to the number shown. There may also be more or fewer lenses and / or mirrors. In particular, the beamforming and illumination system 102 the DUV lithography system 100B several lenses and / or mirrors. Furthermore, the mirrors are usually curved at the front for beam shaping.

Im Folgenden wird ein Spiegel 200 beschrieben. Bei dem Spiegel 200 kann es sich um einen der Spiegel M1–M6 des Projektionssystems 104 der EUV-Lithographieanlage 100A handeln. Bei dem Spiegel 200 kann es sich auch um einen Spiegel des Projektionssystems 104 der DUV-Lithographieanlage 100B handeln.The following is a mirror 200 described. At the mirror 200 it can be one of the mirrors M1-M6 of the projection system 104 the EUV lithography system 100A act. At the mirror 200 It can also be a mirror of the projection system 104 the DUV lithography system 100B act.

Das entsprechende Projektionssystem 104 kann ein Immersionsobjektiv aufweisen. Dabei kann eine Immersionsflüssigkeit zur Verbesserung der Auflösung des Immersionsobjektivs eingesetzt werden.The corresponding projection system 104 may have an immersion objective. In this case, an immersion liquid can be used to improve the resolution of the immersion objective.

2 zeigt eine Ansicht der Spiegelrückseite 202 des Spiegels 200. Der Spiegel 200 weist einen Spiegelkörper 204 und drei Anschlussanordnungen 206 auf. Mittels der Anschlussanordnungen 206 wird der Spiegel 200 mit einem Prüfturm oder mit einer Projektionsoptik eines Projektionssystems 104 verbunden. 2 shows a view of the mirror back 202 of the mirror 200 , The mirror 200 has a mirror body 204 and three terminal arrangements 206 on. By means of the connection arrangements 206 becomes the mirror 200 with a test tower or with a projection optics of a projection system 104 connected.

Der Spiegel 200 umfasst mindestens eine Anschlussanordnung 206. Alternativ kann der Spiegel auch mehrere Anschlussanordnungen 206 aufweisen. Idealerweise umfasst der Spiegel 200 mindestens drei Anschlussanordnungen 206, da der Spiegel 200 dann stabil gelagert werden kann. Weiter kann der Spiegel 200 in bis zu sechs Freiheitsgraden positionierbar sein. Insbesondere kann der Spiegel 200 mittels der mindestens drei Anschlussanordnungen 206 bezüglich zweier orthogonaler Achsen, welche in der Ebene der Spiegelrückseite 202 angeordnet sein können, verkippt werden. Prinzipiell wäre auch ein Spiegel 200 mit einer Anschlussanordnung 206 denkbar, an welcher eine Manipulation in sechs Freiheitsgraden durchgeführt wird. Ein Spiegel 200 an welchem an unterschiedlichen Anschlussanordnungen 206 eine Manipulation mit einer unterschiedlichen Anzahl an Freiheitsgraden durchgeführt werden kann, ist ebenfalls denkbar. The mirror 200 comprises at least one connection arrangement 206 , Alternatively, the mirror can also have several connection arrangements 206 exhibit. Ideally, the mirror includes 200 at least three connection arrangements 206 because the mirror 200 then stable stored. Next, the mirror 200 be positionable in up to six degrees of freedom. In particular, the mirror can 200 by means of the at least three connection arrangements 206 with respect to two orthogonal axes, which in the plane of the mirror back 202 can be arranged, tilted. In principle, it would also be a mirror 200 with a connection arrangement 206 conceivable, at which a manipulation in six degrees of freedom is performed. A mirror 200 on which at different connection arrangements 206 a manipulation with a different number of degrees of freedom can be performed is also conceivable.

3 zeigt eine Schnittansicht des Spiegels 200 entlang der Linie III-III aus 2. Zu sehen ist der Spiegelkörper 204 und eine der Anschlussanordnungen 206. Die Anschlussanordnung 206 ist auf der Spiegelrückseite 202 angeordnet, welche sich gegenüber einer optischen Fläche 300 des Spiegels 200 befindet. Dabei kann die optische Fläche 300 eine Krümmung aufweisen. Vorteilhaft ist eine Anordnung der Anschlussanordnung 206 nicht direkt hinter der optischen Fläche 300, sondern seitlich versetzt, so dass die Deformation des Spiegels 200 bei der stoffschlüssigen Verbindung zwischen der Anschlussanordnung 206 und dem Spiegelkörper 204 außerhalb des optisch aktiven Bereichs ist. Alternativ kann auch eine oder mehrere der Anschlussanordnungen 206 auf der Spiegelmantelfläche 320, d.h. seitlich des optisch aktiven Bereichs, angeordnet werden. Entsprechend kann eine Anschlussanordnung 206 auch auf der Spiegelmantelfläche 320 versetzt zum optisch aktiven Bereich angeordnet werden. 3 shows a sectional view of the mirror 200 along the line III-III 2 , You can see the mirror body 204 and one of the terminal arrangements 206 , The connection arrangement 206 is on the mirror back 202 arranged, which are opposite to an optical surface 300 of the mirror 200 located. In this case, the optical surface 300 have a curvature. An arrangement of the connection arrangement is advantageous 206 not directly behind the optical surface 300 but laterally offset so that the deformation of the mirror 200 in the cohesive connection between the connection arrangement 206 and the mirror body 204 outside the optically active region. Alternatively, one or more of the terminal arrangements 206 on the mirror surface 320 , that are arranged laterally of the optically active region. Accordingly, a connection arrangement 206 also on the mirror surface 320 offset from the optically active region can be arranged.

Wie in 3 gezeigt, ist die Anschlussanordnung 206 über eine Befestigungsstelle 302 mit dem Spiegelkörper 204 verbunden. Dabei ist die gezeigte Befestigungsstelle 302 ein rotationssymmetrischer Bereich der Anschlussanordnung 206. Alternativ kann die Befestigungsstelle 302 auch unsymmetrisch sein. Prinzipiell kann die Befestigungsstelle 302 jede beliebige Form aufweisen. Weiter kann eine Klebung so unterteilt werden, dass kleine Pads im Kontakt mit dem Spiegelkörper 204 stehen. In einer weiteren Alternative können auch mehrere Befestigungsstellen 302 bei einer Anschlussanordnung 206 vorgesehen sein.As in 3 shown is the connection arrangement 206 via an attachment point 302 with the mirror body 204 connected. Here is the attachment point shown 302 a rotationally symmetric region of the connection arrangement 206 , Alternatively, the attachment point 302 also be asymmetrical. In principle, the attachment point 302 have any shape. Further, a bond can be divided so that small pads in contact with the mirror body 204 stand. In a further alternative, also several attachment points 302 in a connection arrangement 206 be provided.

Die Anschlussanordnung 206 ist über die Befestigungsstelle 302 mittels eines Klebers 304 oder einer Lot 306 mit dem Spiegelkörper 204 verklebt oder verlötet. Genauer ist die Anschlussanordnung 206 mit einer Aufnahmegeometrie 308 des Spiegelkörpers 204 verbunden. Die Aufnahmegeometrie 308 kann eine Ausnehmung 310 aufweisen. Die Ausnehmung 310 kann beispielsweise eine zylinderförmige oder eine quaderförmige Form aufweisen. In die Ausnehmung 310 des Spiegelkörpers 204 kann ein Bereich 312 der Anschlussanordnung 206 ragen. Die Ausnehmung 310 kann Spannungen ausgleichen, welche durch die Befestigung der Anschlussanordnung 206 an dem Spiegelkörper 204 hervorgerufen werden können. Dementsprechend werden Deformationen der optischen Fläche 300 verhindert oder minimiert.The connection arrangement 206 is over the attachment point 302 by means of an adhesive 304 or a lot 306 with the mirror body 204 glued or soldered. More specifically, the connection arrangement 206 with a recording geometry 308 of the mirror body 204 connected. The recording geometry 308 can be a recess 310 exhibit. The recess 310 may for example have a cylindrical or a cuboid shape. In the recess 310 of the mirror body 204 can be an area 312 the connection arrangement 206 protrude. The recess 310 can compensate for stresses caused by the attachment of the terminal assembly 206 on the mirror body 204 can be caused. Accordingly, deformations of the optical surface 300 prevented or minimized.

Die in 3 dargestellte Anschlussanordnung 206 weist eine erste Schnittstelle 314 und eine zweite Schnittstelle 316 auf. Dabei sind die beiden Schnittstellen 314, 316 in zwei unterschiedliche Richtungen ausgerichtet. Alternativ kann die Anschlussanordnung 206 auch mehr als zwei Schnittstellen 314, 316 aufweisen. Dabei können alle Schnittstellen 314, 316 in unterschiedlichen Richtungen ausgerichtet sein.In the 3 illustrated connection arrangement 206 has a first interface 314 and a second interface 316 on. Here are the two interfaces 314 . 316 aligned in two different directions. Alternatively, the connection arrangement 206 also more than two interfaces 314 . 316 exhibit. All interfaces can do this 314 . 316 be aligned in different directions.

Wie in 3 zu sehen, weist die Anschlussanordnung 206 ein einstückiges Bauteil 318 auf, d.h. das Bauteil 318 ist aus einem Stück gefertigt. Dabei enthält das Bauteil 318 die erste Schnittstelle 314 und die zweite Schnittstelle 316. Alternativ kann das Bauteil 318 auch einteilig sein, aber nicht aus einem Stück gefertigt sein. In diesem Fall besteht das Bauteil 318 aus mehreren miteinander verbundenen Teilstücken. As in 3 to see, has the connection arrangement 206 a one-piece component 318 on, ie the component 318 is made of one piece. The component contains this 318 the first interface 314 and the second interface 316 , Alternatively, the component 318 also be one-piece, but not be made in one piece. In this case, the component consists 318 from several interconnected sections.

4 zeigt eine Schnittansicht des Spiegels 200 aus 2, wobei der Spiegel 200 mit einem Halterahmen 400 (Engl.: force frame) eines Prüfturms 412 verbunden ist. Dazu wird ein Gegenkopplungsstück 402 mit der ersten Schnittstelle 314 verbunden. Dabei weist die Verbindungsrichtung 404 der ersten Schnittstelle 314 in Gravitationsrichtung 406. 4 shows a sectional view of the mirror 200 out 2 , where the mirror 200 with a support frame 400 (English: force frame) of a test tower 412 connected is. This is a negative feedback piece 402 with the first interface 314 connected. In this case, the connection direction 404 the first interface 314 in the direction of gravity 406 ,

Die erste Schnittstelle 314 kann so ausgebildet sein, dass sie senkrecht zu der Verbindungsrichtung 404 weich ist. Entlang der Verbindungsrichtung 404 ist die erste Schnittstelle 314 dagegen starr. Der Spiegel 200 kann mittels mehrerer erster Schnittstellen 314 mehrerer Anschlussanordnungen 206 gehalten und/oder positioniert werden.The first interface 314 may be formed so as to be perpendicular to the connecting direction 404 is soft. Along the connecting direction 404 is the first interface 314 against it rigid. The mirror 200 can by means of several first interfaces 314 several connection arrangements 206 held and / or positioned.

Mittels des Prüfturms 412 kann die Beschaffenheit der optischen Fläche 300 des Spiegels 200 vermessen werden. Dazu kann die Wellenfront einer an der optischen Fläche 300 reflektierten Strahlung mit einer Soll-Wellenfront verglichen werden. Dies erlaubt Rückschlüsse auf Deformationen der optischen Fläche 300.By means of the test tower 412 can the nature of the optical surface 300 of the mirror 200 be measured. For this purpose, the wavefront of a on the optical surface 300 reflected radiation to be compared with a desired wavefront. This allows conclusions about deformations of the optical surface 300 ,

Die Anschlussanordnung 206 ist fest mit dem Spiegelkörper 204 verbunden. Daher kann die erste Ausrichtung 408 des Spiegels 200 in dem Prüfturm 412 über die Anschlussanordnung 206 definiert werden. Dementsprechend kann die erste Ausrichtung 408 über eine Begrenzung 410 des Bereichs der Anschlussanordnung 206 definiert werden, welcher die erste Schnittstelle 314 aufweist. Die Begrenzung 410 ist dabei der Verlauf eines Randes desjenigen Bereichs der Anschlussanordnung 206, in welchem die erste Schnittstelle 314 ausgebildet ist. Aufgrund der in der 4 gezeigten Ausbildung von Anschlussanordnung 206 und erster Schnittstelle 314, ist die erste Ausrichtung 408 senkrecht zur Verbindungsrichtung 404 der ersten Schnittstelle 314.The connection arrangement 206 is fixed to the mirror body 204 connected. Therefore, the first orientation 408 of the mirror 200 in the test tower 412 via the connection arrangement 206 To be defined. Accordingly, the first orientation 408 over a boundary 410 the area of the connection arrangement 206 be defined, which is the first interface 314 having. The limit 410 is the course of an edge of that area of the connection arrangement 206 in which the first interface 314 is trained. Because of in the 4 shown training of connection arrangement 206 and first interface 314 , is the first alignment 408 perpendicular to the connection direction 404 the first interface 314 ,

5 zeigt eine Schnittansicht des Spiegels 200 aus 2, wobei der Spiegel 200 mit einem Halterahmen 500 (Engl.: force frame) einer Projektionsoptik 508 eines Projektionssystems 104 verbunden ist. Dabei ist die Projektionsoptik 508 ein Teilbereich des Projektionssystems 104 oder identisch mit diesem. Weiter wird ein Gegenkopplungsstück 402 mit der zweiten Schnittstelle 316 verbunden. Dabei weist die Verbindungsrichtung 502 der zweiten Schnittstelle 316 in Gravitationsrichtung 406. 5 shows a sectional view of the mirror 200 out 2 , where the mirror 200 with a support frame 500 (English: force frame) of a projection optics 508 a projection system 104 connected is. Here is the projection optics 508 a partial area of the projection system 104 or identical to this. Next is a negative feedback piece 402 with the second interface 316 connected. In this case, the connection direction 502 the second interface 316 in the direction of gravity 406 ,

Die zweite Schnittstelle 316 kann so ausgebildet sein, dass sie senkrecht zu der Verbindungsrichtung 502 weich ist. Entlang der Verbindungsrichtung 502 ist die zweite Schnittstelle 316 dagegen starr. Der Spiegel 200 kann mittels mehrerer zweiter Schnittstellen 316 mehrerer Anschlussanordnungen 206 gehalten und/oder positioniert werden.The second interface 316 may be formed so as to be perpendicular to the connecting direction 502 is soft. Along the connecting direction 502 is the second interface 316 against it rigid. The mirror 200 can by means of several second interfaces 316 several connection arrangements 206 held and / or positioned.

Die Verbindungsrichtung 404 der ersten Schnittstelle 314 ist unterschiedlich zu der Verbindungsrichtung 502 der zweiten Schnittstelle 316. Dementsprechend weisen die Verbindungsrichtungen 404, 502 einen Winkel α zueinander auf.The connection direction 404 the first interface 314 is different from the connection direction 502 the second interface 316 , Accordingly, the connection directions 404 . 502 an angle α to each other.

Da die Anschlussanordnung 206 fest mit dem Spiegelkörper 204 verbunden ist, kann auch die zweite Ausrichtung 504 des Spiegels 200 in der Projektionsoptik 508 über die Anschlussanordnung 206 definiert werden. Dementsprechend kann die zweite Ausrichtung 504 über eine Begrenzung 506 des Bereichs der Anschlussanordnung 206 definiert werden, welcher die zweite Schnittstelle 316 aufweist. Die Begrenzung 506 ist dabei der Verlauf eines Randes desjenigen Bereichs der Anschlussanordnung 206, in welchem die zweite Schnittstelle 316 ausgebildet ist. Aufgrund der in der 5 gezeigten Ausbildung von Anschlussanordnung 206 und zweiter Schnittstelle 316, ist die zweite Ausrichtung 504 senkrecht zur Verbindungsrichtung 502 der zweiten Schnittstelle 316.Because the connection arrangement 206 firmly with the mirror body 204 can also be the second orientation 504 of the mirror 200 in the projection optics 508 via the connection arrangement 206 To be defined. Accordingly, the second orientation 504 over a boundary 506 the area of the connection arrangement 206 to be defined, which is the second interface 316 having. The limit 506 is the course of an edge of that area of the connection arrangement 206 in which the second interface 316 is trained. Because of in the 5 shown training of connection arrangement 206 and second interface 316 , is the second alignment 504 perpendicular to the connection direction 502 the second interface 316 ,

Sowohl die erste Schnittstelle 314 als auch die zweite Schnittstelle 316 haben eine vorgegebene Verbindungsrichtung 404, 502, nämlich die Gravitationsrichtung. Aus diesem Grund ergibt sich zwischen Verbindungsrichtung 404, 502 und Ausrichtung 408, 504 immer der gleiche Zusammenhang. Dementsprechend ist auch der Winkel α zwischen der Verbindungsrichtung 404 der ersten Schnittstelle 314 und der Verbindungsrichtung 502 der zweiten Schnittstelle 316 gleich einem Winkel β zwischen einer ersten Ausrichtung 408 des Spiegels 200 in dem Prüfturm 412 und einer zweiten Ausrichtung 504 des Spiegels 200 in der Projektionsoptik 508. Generell kann der Winkel β frei gewählt werden. Entscheidend sind dann die Wirkungsrichtungen der ersten Schnittstelle 314 und der zweiten Schnittstelle 316.Both the first interface 314 as well as the second interface 316 have a given connection direction 404 . 502 , namely the direction of gravity. That's why between connection direction 404 . 502 and registration 408 . 504 always the same connection. Accordingly, the angle α between the connecting direction 404 the first interface 314 and the connection direction 502 the second interface 316 equal to an angle β between a first orientation 408 of the mirror 200 in the test tower 412 and a second orientation 504 of the mirror 200 in the projection optics 508 , In general, the angle β can be chosen freely. Decisive are then the directions of action of the first interface 314 and the second interface 316 ,

Prinzipiell kann durch die Anschlussanordnungen 206 erreicht werden, dass verschiedene Spiegel 200 in dem gleichen Prüfturm 412 vermessen werden können. Dadurch kann die Anzahl der Prüftürme 412 reduziert werden. In principle, through the connection arrangements 206 be achieved that different mirrors 200 in the same test tower 412 can be measured. This allows the number of test towers 412 be reduced.

Weiter können auch mehr als zwei Schnittstellen 314, 316 in einer Anschlussanordnung 206 vorgesehen sein, welche unterschiedliche Verbindungsrichtungen 404, 502 aufweisen. So kann der Spiegel 200 in verschiedenen Prüftürmen 412 in unterschiedlichen Ausrichtungen 408, 504 vermessen werden. Next can also have more than two interfaces 314 . 316 in a connection arrangement 206 be provided, which different directions of connection 404 . 502 exhibit. So can the mirror 200 in different test towers 412 in different orientations 408 . 504 be measured.

6 zeigt eine vergrößerte Ansicht des Bereichs VI aus 4. Dargestellt ist die erste Schnittstelle 314. Die erste Schnittstelle 314 weist eine Basis 600, ein Gelenk 602 und ein Kopplungsstück 604 auf. Die Basis 600 ist ein Teilbereich der Anschlussanordnung 206. Das Gelenk 602 ist mit der Basis 600 verbunden. Weiter ist das Kopplungsstück 604 mit dem Gelenk 602 verbunden. 6 shows an enlarged view of the area VI 4 , Shown is the first interface 314 , The first interface 314 has a base 600 , a joint 602 and a coupler 604 on. The base 600 is a partial area of the connection arrangement 206 , The joint 602 is with the base 600 connected. Next is the coupling piece 604 with the joint 602 connected.

Das Kopplungsstück 604 ist derart ausgebildet, dass es mit dem Gegenkopplungsstück 402 in Verbindungsrichtung 404 in Eingriff gebracht werden kann, um mit diesem verbunden zu werden. Die Verbindungsrichtung 404 entspricht der Gravitationsrichtung. In 6 entspricht die Verbindungsrichtung 404 der Z-Richtung.The coupling piece 604 is formed such that it with the negative feedback piece 402 in the connection direction 404 can be engaged to be connected to this. The connection direction 404 corresponds to the direction of gravity. In 6 corresponds to the connection direction 404 the Z direction.

Das Gelenk 602 kann fest oder lösbar mit der Basis 600 verbunden sein. Ist das Gelenk 602 fest mit der Basis 600 verbunden, dann können sogenannte reproduzierbare Fehler vermieden werden, die sich dadurch ergeben, dass lösbare Verbindungen nie exakt gleich verbunden sind.The joint 602 Can be firm or detachable with the base 600 be connected. Is the joint 602 stuck with the base 600 connected, then so-called reproducible errors can be avoided, which result from the fact that detachable connections are never connected exactly the same.

Die zweite Schnittstelle 316 kann analog wie die in 6 beschriebene erste Schnittstelle 314 aufgebaut sein.The second interface 316 can be analogous to the one in 6 described first interface 314 be constructed.

7 zeigt eine schematische Ansicht des Schnitts VII-VII durch 6. Schematisch dargestellt ist das Gelenk 602 in der XY-Ebene. Das Gelenk 602 kann eine erste Schwenkachse 700 und eine zweite Schwenkachse 702 aufweisen. Die beiden Schwenkachsen 700, 702 können orthogonal zueinander sein. Das Gelenk 602 koppelt die Basis 600 und das Kopplungsstück 604, so dass das Kopplungsstück 604 gegenüber der Basis 600 geschwenkt werden kann. Dementsprechend kann das Gelenk 602 um die beiden Schwenkachsen 700, 702 gedreht werden. Damit ist das Gelenk 602 in der XY-Ebene weich, d.h. flexibel. In Z-Richtung senkrecht zur XY-Ebene ist das Gelenk 602 dagegen starr. Insbesondere kann das Gelenk 602 ein Festkörpergelenk und/oder ein Kardangelenk aufweisen. 7 shows a schematic view of the section VII-VII 6 , Schematically represented is the joint 602 in the XY plane. The joint 602 can be a first pivot axis 700 and a second pivot axis 702 exhibit. The two pivot axes 700 . 702 can be orthogonal to each other. The joint 602 couples the base 600 and the coupler 604 so that the coupling piece 604 opposite the base 600 can be swiveled. Accordingly, the joint 602 around the two pivot axes 700 . 702 to be turned around. This is the joint 602 soft in the XY plane, ie flexible. In the Z direction perpendicular to the XY plane is the joint 602 against it rigid. In particular, the joint can 602 have a solid-state joint and / or a universal joint.

8 zeigt eine Schnittansicht eines weiteren Spiegels 200. Im Gegensatz zu den in den 3, 4 und 5 dargestellten Spiegeln 200, weist der in der 8 dargestellte Spiegel 200 eine Anschlussanordnung 206 auf, die in ein erstes Bauteil 800 und ein zweites Bauteil 802 aufgeteilt ist. Die beiden Bauteile 800, 802 sind getrennt voneinander angeordnet und nicht miteinander verbunden. Sowohl das erste Bauteil 800 als auch das zweite Bauteil 802 sind mittels einer Befestigungsstelle 302 eines jeweiligen Bauteils 800, 802 mit dem Spiegelkörper 204 verbunden. Für jedes Bauteil 800, 802 kann eine separate Aufnahmegeometrie 308 vorgesehen sein. Alternativ kann eine Aufnahmegeometrie 308 auch für jedes Bauteil 800, 802 eine Ausnehmung 310 vorsehen, in die das Bauteil ragen kann. 8th shows a sectional view of another mirror 200 , Unlike in the 3 . 4 and 5 represented mirrors 200 , points in the 8th illustrated mirrors 200 a connection arrangement 206 on that in a first component 800 and a second component 802 is divided. The two components 800 . 802 are separated from each other and not connected. Both the first component 800 as well as the second component 802 are by means of an attachment point 302 a respective component 800 . 802 with the mirror body 204 connected. For every component 800 . 802 can be a separate recording geometry 308 be provided. Alternatively, a recording geometry 308 also for every component 800 . 802 a recess 310 provide, in which the component can protrude.

Weiter weist das erste Bauteil 800 die erste Schnittstelle 314 und das zweite Bauteil 802 die zweite Schnittstelle 316 auf. Dabei weisen die Verbindungsrichtung 404 der ersten Schnittstelle 314 und die Verbindungsrichtung 502 der zweiten Schnittstelle 316 in unterschiedliche Richtungen. Dementsprechend kann der Spiegel 200 über seine Schnittstellen 314, 316 in unterschiedlichen Ausrichtungen befestigt werden. Prinzipiell kann der Spiegel 200 beliebig viele Bauteile 800, 802 aufweisen. Dabei umfasst jedes Bauteil 800, 802 eine Schnittstelle 314, 316.Next, the first component 800 the first interface 314 and the second component 802 the second interface 316 on. In this case, the connection direction 404 the first interface 314 and the connection direction 502 the second interface 316 in different directions. Accordingly, the mirror can 200 over its interfaces 314 . 316 be attached in different orientations. In principle, the mirror 200 any number of components 800 . 802 exhibit. In this case, each component comprises 800 . 802 an interface 314 . 316 ,

9 zeigt eine Schnittansicht eines weiteren Spiegels 200. Der in 9 dargestellt Spiegel zeigt zwei Aufnahmegeometrien 308. An einer Aufnahmegeometrie 308 ist die Anschlussanordnung 206 befestigt. An der anderen Aufnahmegeometrie 308 ist dagegen keine Anschlussanordnung 206 vorgesehen. Die freie Aufnahmegeometrie 308 kann dazu genutzt werden, weitere Anschlüsse mit unterschiedlicher Funktionalität an dem Spiegelkörper 204 zu befestigen. Beispielsweise kann ein Anschluss zum Ableiten von Wärme vorgesehen werden. Weiter kann die Aufnahmegeometrie mit einem Aktor verbunden werden. Zudem kann ein Anschluss vorgesehen werden, welcher die Auslenkung des Spiegels begrenzt. Außerdem kann ein Anschluss vorgesehen werden, mit dem der Spiegel 200 bei einem Transport arretiert werden kann. 9 shows a sectional view of another mirror 200 , The in 9 The mirror shows two recording geometries 308 , At a recording geometry 308 is the connection arrangement 206 attached. At the other recording geometry 308 is no connection arrangement 206 intended. The free recording geometry 308 can be used to further connections with different functionality on the mirror body 204 to fix. For example, a port for dissipating heat may be provided. Furthermore, the receiving geometry can be connected to an actuator. In addition, a connection can be provided which limits the deflection of the mirror. In addition, a connection can be provided, with which the mirror 200 can be locked in a transport.

10 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen einer Lithographieanlage 100. Dabei wird mit den folgenden Schritten ein Spiegel 200 der Lithographieanlage 100 hergestellt. In einem ersten Schritt S1 wird eine optische Fläche 300 eines Spiegels 200 in einem Prüfturm 412 in einer ersten Ausrichtung 408 des Spiegels 200 vermessen. Dazu wird, wie in 4 dargestellt, eine erste Schnittstelle 314 der Anschlussanordnung 206 mit dem Halterahmen 400 eines Prüfturms 412 verbunden, um den Spiegel 200 zu lagern und zu positionieren. 10 shows a flowchart of a method for producing a lithographic system 100 , The following steps will become a mirror 200 the lithography plant 100 produced. In a first step S1 becomes an optical surface 300 a mirror 200 in a test tower 412 in a first orientation 408 of the mirror 200 measured. This will, as in 4 shown, a first interface 314 the connection arrangement 206 with the support frame 400 a test tower 412 connected to the mirror 200 to store and position.

In einem zweiten Schritt S2 wird die optische Fläche 300 des Spiegels 200 entsprechend den Ergebnissen der Vermessung aus Schritt S1 bearbeitet. Bei der Bearbeitung kann die optische Fläche 300 insbesondere poliert werden. Dabei wird der Gravitationseffekt auf den Spiegel 200 berücksichtigt, der sich dadurch ergibt, dass der Spiegel 200 bei der Vermessung in Schritt S1 die erste Ausrichtung 408 und in Einbaulage in der Projektionsoptik 508 die zweite Ausrichtung 504 aufweist. Die Schritte S1 und S2 können sich mehrfach wiederholen.In a second step S2, the optical surface 300 of the mirror 200 processed according to the results of the measurement from step S1. During processing, the optical surface 300 in particular be polished. Thereby the gravitational effect on the mirror becomes 200 taken into account, which results from the fact that the mirror 200 in the measurement in step S1, the first orientation 408 and in installation position in the projection optics 508 the second alignment 504 having. The steps S1 and S2 can be repeated several times.

In einem dritten Schritt S3 wird der Spiegel 200 in eine Projektionsoptik 508 in der zweiten Ausrichtung 504 des Spiegels 200 eingebaut. Dazu wird, wie in 5 dargestellt, eine zweite Schnittstelle 316 der Anschlussanordnung 206 mit dem Halterahmen 500 einer Projektionsoptik 508 verbunden, um den Spiegel 200 zu lagern und zu positionieren. Dabei unterscheiden sich die erste Ausrichtung 408 und die zweite Ausrichtung 504.In a third step S3, the mirror 200 in a projection optics 508 in the second orientation 504 of the mirror 200 built-in. This will, as in 5 shown, a second interface 316 the connection arrangement 206 with the support frame 500 a projection optics 508 connected to the mirror 200 to store and position. The first orientation is different 408 and the second alignment 504 ,

Zuvor wurden die Spiegel 200, insbesondere in den 4 und 5, als hängende Spiegel 200 dargestellt. Die Spiegel 200 können jedoch auch nicht hängend gelagert und positioniert werden. Insbesondere können die Spiegel 200 stehend gelagert und positioniert werden.Previously, the mirrors were 200 , especially in the 4 and 5 as a hanging mirror 200 shown. The mirror 200 However, they can not be stored and positioned without hanging. In particular, the mirrors can 200 be stored and positioned standing.

Obwohl die Erfindung anhand verschiedener Ausführungsbeispiele beschrieben wurde, ist sie darauf keineswegs beschränkt, sondern vielfältig modifizierbar.Although the invention has been described with reference to various embodiments, it is by no means limited thereto, but variously modifiable.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

100100: Lithographieanlage lithography system
100A100A: EUV-Lithographieanlage EUV lithography system
100B100B: DUV-Lithographieanlage DUV lithography system
102102: Strahlformungs- und Beleuchtungssystem Beam shaping and lighting system
104104: Projektionssystem projection system
106A106A: EUV-Lichtquelle EUV-light source
106B106B: DUV-Lichtquelle DUV light source
108A108A: EUV-Strahlung EUV radiation
108B108B: DUV-Strahlung DUV radiation
110110: Spiegel mirror
112112: Spiegel mirror
114114: Spiegel mirror
116116: Spiegel mirror
118118: Spiegel mirror
120120: Photomaske photomask
122122: Wafer wafer
124124: optische Achse des Projektionssystems optical axis of the projection system
126126: Steuereinrichtung control device
128128: Halterung der Photomaske Holder of the photomask
130130: Halterung des Wafers Holder of the wafer
132132: Linse lens
134134: Spiegel mirror
136136: Spiegel mirror
200200: Spiegel mirror
202202: Spiegelrückseite Mirror back
204204: Spiegelkörper mirror body
206206: Anschlussanordnung terminal assembly
300300: optische Fläche optical surface
302302: Befestigungsstelle fastening point
304304: Kleber Glue
306306: Lot solder
308308: Aufnahmegeometrie recording geometry
310310: Ausnehmung recess
312312: Bereich der Anschlussanordnung Area of the connection arrangement
314314: erste Schnittstelle first interface
316316: zweite Schnittstelle second interface
318318: Bauteil component
320320: Spiegelmantelfläche Mirror casing surface
400400: Halterahmen eines Prüfturms Holding frame of a test tower
402402: Gegenkopplungsstück Negative feedback piece
404404: Verbindungsrichtung der ersten Schnittstelle Connection direction of the first interface
406406: Gravitationsrichtung gravity direction
408408: erste Ausrichtung first orientation
410410: Begrenzung limit
412412: Prüfturm test tower
500500: Halterahmen einer Projektionsoptik Holding frame of a projection optics
502502: Verbindungsrichtung der zweiten Schnittstelle Connection direction of the second interface
504504: zweite Ausrichtung second alignment
506506: Begrenzung limit
508508: Projektionsoptik projection optics
600600: Basis Base
602602: Gelenk joint
604604: Kopplungsstück coupling piece
700700: erste Schwenkachse first pivot axis
702702: zweite Schwenkachse second pivot axis
800800: erstes Bauteil first component
802802: zweites Bauteil second component
M1–M6M1-M6: Spiegel mirror
α, βα, β: Winkel angle
S1–S3S1-S3: Verfahrensschritte steps

Claims

Mirror ( 200 ) for a lithography plant ( 100 ), comprising a mirror body ( 204 ), and at least one connection arrangement ( 206 ), which via at least one attachment point ( 302 ) with the mirror body ( 204 ) connected is, the connection arrangement ( 206 ) a first interface ( 314 ) for connecting the mirror ( 200 ) with a holding frame ( 400 ) of a test tower ( 412 ) and a second interface ( 316 ) for connecting the mirror ( 200 ) with a holding frame ( 500 ) of an optical system ( 508 ) having.

Mirror according to claim 1, wherein a connecting direction ( 404 ) of the first interface ( 314 ) in the direction of gravity ( 406 ), if the mirror ( 200 ) with the holding frame ( 400 ) of the test tower ( 412 ), and wherein a connection direction ( 502 ) of the second interface ( 316 ) in the direction of gravity ( 406 ), if the mirror ( 200 ) with the holding frame ( 500 ) of the optical system ( 508 ) connected is.

Mirror according to claim 2, wherein the connecting direction ( 404 ) of the first interface ( 314 ) an angle (α) to the direction of connection ( 502 ) of the second interface ( 316 ) having.

Mirror according to claim 3, wherein the angle (α) between the connecting direction ( 404 ) of the first interface ( 314 ) and the connection direction ( 502 ) of the second interface ( 316 ) equals an angle (β) between a first orientation ( 408 ) of the mirror ( 200 ) in the test tower ( 412 ) and a second orientation ( 504 ) of the mirror ( 200 ) in the optical system ( 508 ).

Mirror according to one of claims 1 to 4, wherein the first interface ( 314 ) and / or the second interface ( 316 ) One Base ( 600 ), a joint ( 602 ) and a coupling piece ( 604 ), the joint ( 602 ) with the base ( 600 ) and the coupling piece ( 604 ) with the joint ( 602 ), and the coupling piece ( 604 ) is arranged, with a negative feedback piece ( 402 ) in the connection direction ( 404 . 502 ) to be engaged.

Mirror according to one of claims 1 to 5, wherein the first interface ( 314 ) and / or the second interface ( 316 ) have a solid-state joint and / or a universal joint.

Mirror according to one of claims 1 to 6, wherein the connection arrangement ( 206 ) a one-piece and / or one-piece component ( 318 ), which is the first interface ( 314 ) and the second interface ( 316 ).

Mirror according to one of claims 1 to 6, wherein the connection arrangement ( 206 ) a first component ( 800 ) and a second component ( 802 ), which of the first component ( 800 ) is provided separately, each of the components ( 800 . 802 ) an attachment point ( 302 ) for connection to the mirror body ( 204 ), and the first component ( 800 ) the first interface ( 314 ) and the second component ( 802 ) the second interface ( 316 ).

Mirror according to one of claims 1 to 8, wherein the mirror ( 200 ) three connection arrangements ( 206 ) having.

Mirror according to one of claims 1 to 9, wherein at least one attachment point ( 302 ) with the mirror body ( 204 ) is glued or soldered.

Mirror according to one of claims 1 to 10, wherein the mirror ( 200 ) to each terminal arrangement ( 206 ) at least one receiving geometry ( 308 ) on the mirror body ( 204 ), which with an attachment point ( 302 ) of the connection arrangement ( 206 ) connected is.

A mirror according to claim 11, wherein the mirror ( 200 ) at least one further recording geometry ( 308 ) for dissipating heat, for connecting to an actuator, for limiting the deflection of the mirror ( 200 ) and / or for locking the mirror ( 200 ) when transporting the mirror ( 200 ) having.

Lithography plant ( 100 ) with a mirror ( 200 ) according to one of claims 1 to 12.

Method for producing a lithography system ( 100 ), comprising the steps of: a) measuring an optical surface ( 300 ) of a mirror ( 200 ) in a test tower ( 412 ) in a first orientation ( 408 ) of the mirror ( 200 ), b) working the optical surface ( 300 ) of the mirror ( 200 ) according to the results of the measurement, and c) installation of the mirror ( 200 ) into an optical system ( 508 ) in a second orientation ( 504 ) of the mirror ( 200 ), where the first orientation ( 408 ) from the second orientation ( 504 ) is different.

The method of claim 14, wherein the mirror ( 200 ) with a first interface ( 314 ) on a holding frame ( 400 ) of the test tower ( 412 ) and with a second interface ( 316 ) on a holding frame ( 500 ) of the optical system ( 508 ) is attached.