DE102016223917A1 - Interferometer component and method for producing an interferometer component - Google Patents

Interferometer component and method for producing an interferometer component Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Interferometerbauelement (200), das eine Substratschicht (204) mit zumindest einer Lichtdurchlasszone (202) zum Lenken von Licht durch die Substratschicht (204) und einen optischen Resonator (212) aus zumindest einem ersten teildurchlässigen Spiegelelement (208) und einem zweiten teildurchlässigen Spiegelelement (210) aufweist, wobei der optische Resonator (212) der Lichtdurchlasszone (202) gegenüberliegend angeordnet ist. Die Lichtdurchlasszone (202) ist zumindest abschnittsweise mit einer Reflexionsschicht (206) zum Reflektieren von in die Lichtdurchlasszone (202) fallendem Licht beschichtet.The invention relates to an interferometer component (200) comprising a substrate layer (204) having at least one light transmission zone (202) for directing light through the substrate layer (204) and an optical resonator (212) comprising at least a first partially transmissive mirror element (208) and a second partially transmissive mirror element (210), wherein the optical resonator (212) of the light transmission zone (202) is arranged opposite. The light transmission zone (202) is at least partially coated with a reflective layer (206) for reflecting light falling into the light transmission zone (202).

Description

Stand der TechnikState of the art

Die Erfindung geht aus von einer Vorrichtung oder einem Verfahren nach Gattung der unabhängigen Ansprüche.The invention is based on a device or a method according to the preamble of the independent claims.

Herkömmliche mikromechanische Fabry-Perot-Interferometer bestehen in der Regel aus zwei Spiegelelementen, die auf einem Substrat über einem Durchgangsloch angeordnet sind.Conventional micromechanical Fabry-Perot interferometers usually consist of two mirror elements, which are arranged on a substrate via a through hole.

Die DE 10 2006 021 538 A1 beschreibt beispielsweise ein Fourier-Spektrometer mit einer lichtdurchlässigen Platte und zumindest einer spiegelnden Fläche, die dazu dient, einen an der Platte reflektierten Teil einer Wellenfront zurück in die Platte zu lenken.The DE 10 2006 021 538 A1 describes, for example, a Fourier spectrometer with a translucent plate and at least one reflecting surface which serves to direct a part of a wavefront reflected on the plate back into the plate.

Offenbarung der ErfindungDisclosure of the invention

Vor diesem Hintergrund werden mit dem hier vorgestellten Ansatz ein Interferometerbauelement und ein Verfahren zum Herstellen eines Interferometerbauelements gemäß den Hauptansprüchen vorgestellt. Durch die in den abhängigen Ansprüchen aufgeführten Maßnahmen sind vorteilhafte Weiterbildungen und Verbesserungen der im unabhängigen Anspruch angegebenen Vorrichtung möglich.Against this background, an interferometer component and a method for producing an interferometer component according to the main claims are presented with the approach presented here. The measures listed in the dependent claims advantageous refinements and improvements of the independent claim device are possible.

Es wird ein Interferometerbauelement mit folgenden Merkmalen vorgestellt:

  • einer Substratschicht mit zumindest einer Lichtdurchlasszone zum Lenken von Licht durch die Substratschicht, wobei die Lichtdurchlasszone zumindest abschnittsweise mit einer Reflexionsschicht zum Reflektieren von in die Lichtdurchlasszone fallendem Licht beschichtet ist; und
  • einem optischen Resonator aus zumindest einem ersten teildurchlässigen Spiegelelement und einem zweiten teildurchlässigen Spiegelelement, wobei der optische Resonator der Lichtdurchlasszone gegenüberliegend angeordnet ist.
An interferometer component with the following features is presented:
  • a substrate layer having at least one light transmission zone for directing light through the substrate layer, the light transmission zone being coated, at least in sections, with a reflection layer for reflecting light falling into the light transmission zone; and
  • an optical resonator comprising at least a first partially transmissive mirror element and a second partially transparent mirror element, wherein the optical resonator is arranged opposite the light transmission zone.

Unter einer Substratschicht kann eine Schicht aus einem lichtdurchlässigen Material verstanden werden. Unter einer Lichtdurchlasszone kann etwa eine Vertiefung, ein Graben oder ein Durchgangsloch in der Substratschicht verstanden werden. Unter einer Reflexionsschicht kann eine zumindest abschnittsweise auf die Lichtdurchlasszone aufgebrachte Verspiegelung, etwa in Form einer Metallschicht oder eines dielektrischen Multilagenstapels, verstanden werden. Unter einem optischen Resonator kann insbesondere ein Fabry-Perot-Interferometer verstanden werden. Unter einem Spiegelelement kann etwa eine Spiegelschicht oder -platte verstanden werden. Die beiden Spiegelelemente können hierbei beispielsweise parallel in einem bestimmten Abstand zueinander angeordnet sein. Der Abstand kann mittels einer geeigneten Spiegelaktuierung variierbar sein.A substrate layer may be understood as meaning a layer of a light-transmissive material. A light transmission zone can be understood to mean, for example, a depression, a trench or a through hole in the substrate layer. A reflection layer may be understood to mean an at least partially applied reflection on the light transmission zone, for example in the form of a metal layer or a dielectric multilayer stack. An optical resonator may, in particular, be understood to be a Fabry-Perot interferometer. Under a mirror element can be understood as a mirror layer or plate. The two mirror elements may in this case be arranged, for example, parallel to one another at a specific distance. The distance can be varied by means of a suitable Spiegelaktuierung.

Der hier vorgestellte Ansatz beruht auf der Erkenntnis, dass durch Aufbringen einer reflektiven Schicht auf eine Aussparung in einem Substrat eines optischen Filterbauelements, etwa eines Fabry-Perot-Interferometers, Intensitätsverluste beim Durchtritt des Lichts durch die Aussparung, etwa durch Einkoppeln des Lichts in die Wände der Aussparung, effektiv reduziert werden können. Somit kann sichergestellt werden, dass ein Großteil des einfallenden Lichts in den Akzeptanzraumwinkel des Filterbauelements trifft. Beispielsweise kann das Filterbauelement als mikromechanisches Fabry-Perot-Interferometer mit verspiegelten Kavernenwänden zur Verringerung der Verluste der Lichtintensität beim Durchtritt realisiert sein.The approach presented here is based on the finding that by applying a reflective layer to a recess in a substrate of an optical filter device, such as a Fabry-Perot interferometer, intensity losses in the passage of light through the recess, such as by coupling the light in the walls the recess, can be effectively reduced. Thus, it can be ensured that a majority of the incident light hits the acceptance space angle of the filter component. By way of example, the filter component can be realized as a micromechanical Fabry-Perot interferometer with mirrored cavity walls in order to reduce the losses of light intensity during passage.

Für den Verlust von Lichtintensität an den Wänden eines mikromechanischen Interferometers existieren im Wesentlichen zwei Mechanismen: zum einen die Transmission von Licht ins Substrat verbunden mit einer Brechung aus dem Akzeptanzraumwinkel des Detektors oder einer Absorption im Substrat, zum anderen die Streuung von Licht an Oberflächenrauigkeiten der Wände von Durchgangslöchern im Substrat.Essentially two mechanisms exist for the loss of light intensity on the walls of a micromechanical interferometer: on the one hand the transmission of light into the substrate associated with a refraction from the acceptance space angle of the detector or an absorption in the substrate, and on the other hand the scattering of light at surface roughnesses of the walls of through holes in the substrate.

Die Transmission von Lichtstrahlen, die auf die Substratwand des Durchgangslochs treffen, lässt sich gemäß dem hier vorgestellten Ansatz durch Aufbringen einer Verspiegelung deutlich verringern. Zur Verspiegelung können entweder separate Schichten abgeschieden werden oder - gemäß einer besonders vorteilhaften Ausführungsform - die Schichten der Spiegelelemente verwendet werden.The transmission of light rays which strike the substrate wall of the through-hole can be significantly reduced by applying a mirror coating according to the approach presented here. For mirroring, either separate layers can be deposited or, according to a particularly advantageous embodiment, the layers of the mirror elements can be used.

Gemäß einer Ausführungsform kann die Lichtdurchlasszone durch ein Durchgangsloch gebildet sein. Dadurch kann die Lichtdurchlasszone präzise und mit geringem Aufwand realisiert werden.According to an embodiment, the light transmission zone may be formed by a through hole. As a result, the light transmission zone can be realized precisely and with little effort.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann die Lichtdurchlasszone eine Mesa-Struktur aufweisen. Die Mesa-Struktur kann zumindest abschnittsweise mit der Reflexionsschicht beschichtet sein. Unter einer Mesa-Struktur kann eine tafelbergförmige Struktur aus zumindest einer Erhebung mit ebener Oberfläche und steilen Flanken verstanden werden. Hierbei kann die Reflexionsschicht zumindest abschnittsweise auf die Flanken der Erhebung aufgebracht sein. Durch diese Ausführungsform kann das Licht kontrolliert und mit geringen Intensitätsverlusten durch die Substratschicht in den optischen Resonator geleitet werden.According to a further embodiment, the light transmission zone may have a mesa structure. The mesa structure may be coated at least in sections with the reflective layer. Under a mesa structure can be understood a Tafelbergförmige structure of at least one survey with a flat surface and steep edges. Here, the reflection layer can be applied at least in sections on the flanks of the survey. By means of this embodiment, the light can be controlled and passed through the substrate layer into the optical resonator with low intensity losses.

Ferner ist es vorteilhaft, wenn die Lichtdurchlasszone durch zumindest einen ersten Graben und einen zweiten Graben in der Substratschicht gebildet ist. Dabei können der erste Graben und der zweite Graben eine Lichtdurchlasszone zum Durchlassen von Licht durch die Substratschicht begrenzen. Die Reflexionsschicht kann zumindest abschnittsweise den ersten Graben oder, zusätzlich oder alternativ, den zweiten Graben auskleiden. Unter einem Graben kann eine längliche Vertiefung in der Substratschicht verstanden werden. Auch durch diese Ausführungsform kann mit verhältnismäßig geringem Fertigungsaufwand sichergestellt werden, dass einfallendes Licht mit möglichst geringen Intensitätsverlusten in den optischen Resonator gelangt. Furthermore, it is advantageous if the light transmission zone is formed by at least one first trench and a second trench in the substrate layer. Here, the first trench and the second trench may define a light transmission zone for transmitting light through the substrate layer. The reflection layer can at least partially line the first trench or, additionally or alternatively, the second trench. Under a trench, an elongated recess in the substrate layer can be understood. Also by this embodiment can be ensured with relatively little manufacturing effort that incident light passes with the least possible loss of intensity in the optical resonator.

Das Interferometerbauelement kann gemäß einer weiteren Ausführungsform eine Abstandsänderungseinrichtung zum Ändern eines Abstands zwischen dem ersten Spiegelelement und dem zweiten Spiegelelement aufweisen. Unter einer Abstandsänderungseinrichtung kann ein beispielsweise magnetischer oder sonstiger geeigneter Aktor zum Bewegen zumindest eines der beiden Spiegelelemente verstanden werden. Durch diese Ausführungsform kann der Abstand zwischen den beiden Spiegelelementen präzise eingestellt werden.The interferometer component may according to a further embodiment have a distance changing device for changing a distance between the first mirror element and the second mirror element. A distance changing device can be understood to mean, for example, a magnetic or other suitable actuator for moving at least one of the two mirror elements. By this embodiment, the distance between the two mirror elements can be precisely adjusted.

Die Reflexionsschicht kann je nach Ausführungsform als Metallschicht oder, zusätzlich oder alternativ, als dielektrischer Lagenverbund, auf Multilagenstapel genannt, realisiert sein. Dabei kann die Reflexionsschicht zumindest teilweise aus dem gleichen Material wie das erste Spiegelelement oder das zweite Spiegelelement oder wie beide Spiegelelemente gefertigt sein. Durch diese Ausführungsform kann das Interferometerbauelement besonders kostengünstig hergestellt werden.Depending on the embodiment, the reflection layer can be realized as a metal layer or, additionally or alternatively, as a dielectric layer composite called a multilayer stack. In this case, the reflection layer can be made at least partially of the same material as the first mirror element or the second mirror element or as both mirror elements. By this embodiment, the interferometer can be made particularly inexpensive.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann das Interferometerbauelement zumindest eine weitere Substratschicht mit zumindest einer weiteren Lichtdurchlasszone zum Lenken von Licht durch die weitere Substratschicht aufweisen. Dabei kann die weitere Lichtdurchlasszone zumindest abschnittsweise mit einer weiteren Reflexionsschicht zum Reflektieren von in die weitere Lichtdurchlasszone fallendem Licht beschichtet sein. Der optische Resonator kann der weiteren Lichtdurchlasszone gegenüberliegend zwischen der Substratschicht und der weiteren Substratschicht angeordnet sein. Durch diese Ausführungsform kann die Effizienz des Interferometerbauelements gesteigert werden.According to a further embodiment, the interferometer component may have at least one further substrate layer with at least one further light transmission zone for directing light through the further substrate layer. In this case, the further light transmission zone can be coated at least in sections with a further reflection layer for reflecting light falling into the further light transmission zone. The optical resonator may be arranged opposite to the further light transmission zone between the substrate layer and the further substrate layer. By this embodiment, the efficiency of the interferometer device can be increased.

Der hier vorgestellte Ansatz schafft ferner ein Verfahren zum Herstellen eines Interferometerbauelements, wobei das Verfahren folgende Schritte umfasst:

  • Erzeugen einer Substratschicht mit zumindest einer Lichtdurchlasszone zum Lenken von Licht durch die Substratschicht;
  • Beschichten zumindest eines Abschnitts der Lichtdurchlasszone mit einer Reflexionsschicht zum Reflektieren von in die Lichtdurchlasszone fallendem Licht; und
  • Bilden eines optischen Resonators aus zumindest einem ersten teildurchlässigen Spiegelelement und einem zweiten teildurchlässigen Spiegelelement, wobei der optische Resonator der Lichtdurchlasszone gegenüberliegend angeordnet wird.
The approach presented here also provides a method for producing an interferometer component, the method comprising the following steps:
  • Forming a substrate layer having at least one light transmission zone for directing light through the substrate layer;
  • Coating at least a portion of the light transmission zone with a reflective layer for reflecting light incident in the light transmission zone; and
  • Forming an optical resonator of at least a first partially transmissive mirror element and a second partially transparent mirror element, wherein the optical resonator of the light transmission zone is arranged opposite.

Durch dieses Verfahren wird eine schnelle und kostengünstige Herstellung des Interferometerbauelements in großen Stückzahlen ermöglicht.By this method, a fast and inexpensive production of the interferometer component is made possible in large numbers.

Dieses Verfahren kann beispielsweise in Software oder Hardware oder in einer Mischform aus Software und Hardware, beispielsweise in einem Steuergerät, implementiert sein.This method can be implemented, for example, in software or hardware or in a mixed form of software and hardware, for example in a control unit.

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigt:

  • 1 eine schematische Darstellung eines Interferometers;
  • 2 eine schematische Darstellung eines Interferometerbauelements gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 3 eine schematische Darstellung eines Interferometerbauelements gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 4 eine schematische Darstellung eines Interferometerbauelements gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 5 eine schematische Darstellung eines Interferometerbauelements gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 6 eine schematische Darstellung einer Substratschicht gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 7 eine schematische Darstellung einer Substratschicht gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 8 eine schematische Darstellung einer Substratschicht gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 9 ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens gemäß einem Ausführungsbeispiel; und
  • 10 eine schematische Darstellung einer Vorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel.
Embodiments of the invention are illustrated in the drawings and explained in more detail in the following description. It shows:
  • 1 a schematic representation of an interferometer;
  • 2 a schematic representation of an interferometer according to an embodiment;
  • 3 a schematic representation of an interferometer according to an embodiment;
  • 4 a schematic representation of an interferometer according to an embodiment;
  • 5 a schematic representation of an interferometer according to an embodiment;
  • 6 a schematic representation of a substrate layer according to an embodiment;
  • 7 a schematic representation of a substrate layer according to an embodiment;
  • 8th a schematic representation of a substrate layer according to an embodiment;
  • 9 a flowchart of a method according to an embodiment; and
  • 10 a schematic representation of a device according to an embodiment.

In der nachfolgenden Beschreibung günstiger Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden für die in den verschiedenen Figuren dargestellten und ähnlich wirkenden Elemente gleiche oder ähnliche Bezugszeichen verwendet, wobei auf eine wiederholte Beschreibung dieser Elemente verzichtet wird.In the following description of favorable embodiments of the present invention are for the in the various figures illustrated and similar elements used the same or similar reference numerals, wherein a repeated description of these elements is omitted.

1 zeigt eine schematische Darstellung eines Interferometers 100. Das Interferometer 100 umfasst zwei einander gegenüberliegende Spiegel 102, deren Abstand durch eine Spiegelaktuierung 104 variierbar ist. Die beiden Spiegel 102 fungieren als Fabry-Perot-Resonator. Mithilfe mehrerer Pfeile sind ferner Lichtintensitätsverluste dargestellt, die beim Einfallen eines Lichtstrahls 106 in den Fabry-Perot-Resonator durch eine Kaverne 108 eines Substrats 110 durch Transmission oder Streuung entstehen können. 1 shows a schematic representation of an interferometer 100 , The interferometer 100 includes two opposing mirrors 102 whose distance through a Spiegelaktuierung 104 is variable. The two mirrors 102 act as a Fabry-Perot resonator. Several arrows also show light intensity losses that occur when a light beam collapses 106 into the Fabry-Perot resonator through a cavern 108 a substrate 110 can be caused by transmission or scattering.

2 zeigt eine schematische Darstellung eines Interferometerbauelements 200 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Gezeigt ist ein Querschnitt durch ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Filterbauelements mit partieller Beschichtung der Wände einer Lichtdurchlasszone 202 in einer Substratschicht 204, hier eines Durchgangsloches, mit einer Reflexionsschicht 206. Das Interferometerbauelement 200 umfasst ein erstes teildurchlässiges Spiegelelement 208 in Form einer Spiegelschicht und ein dazu beabstandet und im Wesentlichen parallel angeordnetes zweites teildurchlässiges Spiegelelement 210, ebenfalls in Form einer Spiegelschicht. Die beiden Spiegelelemente 208, 210 bilden zusammen einen optischen Resonator 212, hier einen Fabry-Perot-Resonator, der über das erste Spiegelelement 208 an der Substratschicht 204 befestigt ist. Dabei wird die Lichtdurchlasszone 202 durch das erste Spiegelelement 208 abgedeckt. 2 shows a schematic representation of an interferometer device 200 according to an embodiment. Shown is a cross section through an embodiment of a filter device according to the invention with partial coating of the walls of a light transmission zone 202 in a substrate layer 204, here a through-hole, with a reflection layer 206 , The interferometer component 200 comprises a first semitransparent mirror element 208 in the form of a mirror layer and a second partially transmissive mirror element 210 spaced apart from it and arranged substantially parallel, likewise in the form of a mirror layer. The two mirror elements 208 , 210 together form an optical resonator 212 , here a Fabry-Perot resonator, via the first mirror element 208 at the substrate layer 204 is attached. At the same time, the light transmission zone becomes 202 through the first mirror element 208 covered.

Gemäß diesem Ausführungsbeispiel ist die Reflexionsschicht 206 an zwei einander gegenüberliegenden Kavernenwänden der Lichtdurchlasszone 202 aufgebracht, sodass auf diese Wandabschnitte fallendes Licht durch Reflexion an der Reflexionsschicht 206 in Richtung des optischen Resonators 212 gelenkt wird. Dadurch können Intensitätsverluste beim Durchtritt des Lichts durch die Substratschicht 204 reduziert werden.According to this embodiment, the reflection layer is 206 at two opposite cavern walls of the light transmission zone 202 applied so that light falling on these wall sections by reflection on the reflective layer 206 in the direction of the optical resonator 212 is steered. As a result, intensity losses during the passage of light through the substrate layer 204 be reduced.

Eine optionale Abstandsänderungseinrichtung 214 dient zur Spiegelaktuierung, durch die der Abstand zwischen den beiden Spiegelelementen 208, 210 präzise geändert werden kann.An optional distance changing device 214 Used for Spiegelaktuierung, by the distance between the two mirror elements 208 . 210 can be changed precisely.

3 zeigt eine schematische Darstellung eines Interferometerbauelements 200 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Gezeigt ist ein Querschnitt durch ein weiteres Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Filterbauelements bestehend aus zwei Substraten mit Beschichtung der Wände beider Durchgangslöcher. Das Interferometerbauelement 200 weist im Unterschied zu dem vorangehend anhand von 1 beschriebenen Interferometerbauelement zusätzlich zur Substratschicht 204 eine weitere Substratschicht 304 mit einer weiteren Lichtdurchlasszone 302 zum Leiten von Licht durch die weitere Substratschicht 304 auf, hier beispielhaft ebenfalls in Form eines Durchgangsloches. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel weist die weitere Lichtdurchlasszone 302 eine weitere Reflexionsschicht 306 in Form einer die weitere Lichtdurchlasszone 302 vollständig auskleidenden reflektiven Kavernenwandbeschichtung auf. Dazu analog ist auch die Lichtdurchlasszone 202 vollständig durch die Reflexionsschicht 206 ausgekleidet. Die weitere Substratschicht 304 ist auf eine dem ersten Spiegelelement 208 abgewandte Oberfläche des zweiten Spiegelelements 210 aufgebracht, sodass der optische Resonator 212 zwischen den beiden Substratschichten 202, 304 angeordnet ist. 3 shows a schematic representation of an interferometer device 200 according to an embodiment. Shown is a cross section through another embodiment of a filter device according to the invention consisting of two substrates with coating of the walls of both through holes. The interferometer component 200 differs from the previous one with reference to 1 described interferometer component in addition to the substrate layer 204 another substrate layer 304 with another light transmission zone 302 for guiding light through the further substrate layer 304 on, here also by way of example in the form of a through hole. According to this embodiment, the further light transmission zone 302 another reflection layer 306 in the form of the further light transmission zone 302 completely lining reflective cavern wall coating. Analogously, the light transmission zone 202 is completely through the reflection layer 206 lined. The further substrate layer 304 is on a the first mirror element 208 remote surface of the second mirror element 210 applied so that the optical resonator 212 between the two substrate layers 202 . 304 is arranged.

Die weitere Lichtdurchlasszone 302 wird dabei durch das zweite Spiegelelement 210 abgedeckt.The further light transmission zone 302 is covered by the second mirror element 210.

Wie aus der in 3 gezeigten Querschnittsdarstellung ersichtlich, können die beiden Lichtdurchlasszonen 202, 302 unterschiedlich breit sein oder einen keilförmigen Querschnitt aufweisen.As from the in 3 shown cross-sectional view, the two light transmission zones 202 . 302 be different widths or have a wedge-shaped cross-section.

4 zeigt eine schematische Darstellung eines Interferometerbauelements 200 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Gezeigt ist ein Querschnitt durch ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Filterbauelements bestehend aus zwei Substraten, die für einen interessanten Wellenlängenbereich transparent sind, mit Beschichtung der Wände einer Mesa-Struktur. Das Interferometerbauelement 200 entspricht im Wesentlichen dem vorangehend anhand von 3 beschriebenen Interferometerbauelement, mit dem Unterschied, dass die Substratschicht 204 keine Lichtdurchlasszone aufweist und die weitere Lichtdurchlasszone 302 durch eine Mesa-Struktur gebildet ist, die beispielhaft eine durch ein ringförmig umlaufendes Durchgangsloch 400 begrenzte Erhebung 402 mit ebener Oberfläche umfasst. Dabei ist die weitere Reflexionsschicht 306 als reflektive Seitenwandbeschichtung auf je eine Flanke der Erhebung 402 aufgebracht. 4 shows a schematic representation of an interferometer device 200 according to an embodiment. Shown is a cross section through an embodiment of a filter device according to the invention consisting of two substrates, which are transparent for an interesting wavelength range, with coating of the walls of a mesa structure. The interferometer component 200 essentially corresponds to the above with reference to 3 described interferometer device, with the difference that the substrate layer 204 has no light transmission zone and the further light transmission zone 302 is formed by a mesa structure, for example, by an annular circumferential through hole 400 limited survey 402 with a flat surface. Here is the further reflection layer 306 as a reflective sidewall coating on each flank of the survey 402 applied.

5 zeigt eine schematische Darstellung eines Interferometerbauelements 200 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Gezeigt ist ein Querschnitt durch ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Filterbauelements bestehend aus zwei Substraten mit Beschichtung der Wände einer Grabenstruktur um einen Durchlassbereich. Im Unterschied zu 4 ist die Substratschicht 204 hier wiederum mit der Lichtdurchlasszone 202 realisiert. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel ist die Lichtdurchlasszone 202 allerdings durch ein ringförmig umlaufenden Graben 500 in der Substratschicht 204 gebildet. Der Graben 500 ist mit der Reflexionsschicht 206 beschichtet, hier in Form einer reflektiven Seitenwandbeschichtung, und begrenzt eine Lichtdurchlasszone 504, durch die Licht in den optischen Resonator 212 fällt. Die weitere Lichtdurchlasszone 302 weist in 5 keine Reflexionsschicht auf. 5 shows a schematic representation of an interferometer device 200 according to an embodiment. Shown is a cross section through an exemplary embodiment of a filter component according to the invention consisting of two substrates with coating of the walls of a trench structure around a passage region. In contrast to 4 is the substrate layer 204 here again with the light transmission zone 202 realized. According to this embodiment, the light transmission zone 202 however, by a circular encircling ditch 500 in the substrate layer 204 educated. The ditch 500 is with the reflective layer 206 coated, here in the form of a reflective sidewall coating, and defines a light transmission zone 504 , through the light in the optical resonator 212 falls. The further light transmission zone 302 points in 5 no reflective layer.

Die 6 bis 8 zeigen beispielhaft Querschnitte bei einer Prozesssequenz zur Beschichtung der Wände einer Lichtdurchlasszone in Form eines Durchgangsloches. Ein vorderseitiger Aufbau der optischen Kavität ist darin nicht dargestellt.The 6 to 8th show exemplary cross sections in a process sequence for coating the walls of a light transmission zone in the form of a through hole. A front structure of the optical cavity is not shown therein.

6 zeigt eine schematische Darstellung einer Substratschicht 204 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Gezeigt ist ein Querschnitt der Substratschicht 204 nach Ätzen einer rückseitigen Kaverne mit rauen Kavernenwänden. Die Kaverne bildet dabei die Lichtdurchlasszone 202 und ist durch eine Ätzstoppschicht 600 oder durch eine Spiegelschicht, hier eine das erste Spiegelelement 208 bildende Spiegelschicht, abgedeckt. 6 shows a schematic representation of a substrate layer 204 according to an embodiment. Shown is a cross section of the substrate layer 204 after etching a back cavity with rough cavern walls. The cavern forms the light transmission zone 202 and is through an etch stop layer 600 or by a mirror layer, here a the first mirror element 208 forming mirror layer, covered.

7 zeigt eine schematische Darstellung einer Substratschicht 204 gemäß einem Ausführungsbeispiel, beispielsweise der vorangehend anhand von 6 beschriebenen Substratschicht. Gezeigt ist ein Querschnitt der Substratschicht 204 nach Glättung der Kavernenwände durch isotropes Ätzen oder thermische Behandlung und Abscheidung der Reflexionsschicht 206 wenigstens auf der Rückseite, hier auf den Durchgangslochwänden. 7 shows a schematic representation of a substrate layer 204 according to an embodiment, for example, the above with reference to 6 described substrate layer. Shown is a cross section of substrate layer 204 after smoothing cavern walls by isotropic etching or thermal treatment and deposition of the reflective layer 206 at least on the back, here on the through-hole walls.

8 zeigt eine schematische Darstellung einer Substratschicht 204 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Gezeigt ist ein Querschnitt der Substratschicht 204 aus 7 nach anisotropem Entfernen der Reflexionsschicht 206 auf den horizontalen Flächen. 8th shows a schematic representation of a substrate layer 204 according to an embodiment. Shown is a cross section of the substrate layer 204 out 7 after anisotropic removal of the reflection layer 206 on the horizontal surfaces.

9 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens 900 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Das Verfahren 900 kann beispielsweise zur Herstellung eines vorangehend anhand der 1 bis 8 beschriebenen Interferometerbauelements durchgeführt werden. Dabei wird in einem Schritt 910 die Substratschicht mit der Lichtdurchlasszone erzeugt. In einem weiteren Schritt 920 wird zumindest ein Abschnitt der Lichtdurchlasszone mit der Reflexionsschicht beschichtet. Schließlich wird in einem Schritt 930 der optische Resonator aus den beiden teildurchlässigen Spiegelelementen gebildet. Dies erfolgt derart, dass der optische Resonator der Lichtdurchlasszone gegenüberliegt. 9 shows a flowchart of a method 900 according to an embodiment. The procedure 900 For example, for the preparation of a preceding on the basis of 1 to 8th described interferometer can be performed. It is in one step 910 generates the substrate layer with the light transmission zone. In a further step 920, at least a portion of the light transmission zone is coated with the reflective layer. Finally, in one step 930 the optical resonator is formed from the two partially transmissive mirror elements. This is done in such a way that the optical resonator faces the light transmission zone.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel wird im Schritt 910 die Lichtdurchlasszone durch Ätzen einer rückseitigen Kaverne oder Ausnehmung in die Substratschicht gebildet. Hierbei erfolgt beispielsweise anschließend eine Glättung der Kavernenwände durch isotropes Ätzen, beispielsweise mit KOH, XeF2 oder SF6, oder durch eine thermische Behandlung.According to one embodiment, in step 910 the light transmission zone is formed by etching a back cavity or recess in the substrate layer. In this case, for example, then a smoothing of the cavern walls by isotropic etching, for example with KOH, XeF2 or SF6, or by a thermal treatment.

Im Schritt 920 erfolgt die Abscheidung reflektiver Schichten wenigstens auf der Rückseite, beispielsweise mittels Atomlagen- oder physikalischer Gasphasenabscheidung, um die Reflexionsschicht zu bilden. Hierbei erfolgt etwa auch ein anisotropes Entfernen der Verspiegelungsschichten auf den horizontalen Flächen, beispielsweise durch gerichtetes Plasmaätzen.In step 920 The deposition of reflective layers occurs at least on the back, for example by means of atomic layer or physical vapor deposition, to form the reflective layer. An anisotropic removal of the mirroring layers on the horizontal surfaces, for example by directed plasma etching, also takes place in this case.

Ein derart hergestelltes Interferometerbauelement bietet den Vorteil einer erhöhten Lichtausbeute beim Lichtdurchtritt durch die Lichtdurchlasszone.An interferometer component produced in this way offers the advantage of an increased light yield when light passes through the light transmission zone.

Werden die Spiegelschichten zumindest eines der Spiegelelemente der optischen Kavität zur Herstellung der Reflexionsschicht verwendet, so wird der Prozess beispielsweise so geführt, dass zunächst eine Kaverne im Substratwafer angelegt wird. Die Kaverne muss dabei nicht vollständig durch das Substrat gehen. Nachfolgend wird vorteilhaft eine Glättung der Wände der Durchgangslöcher mittels eines isotropen Ätzverfahrens durchgeführt, bevor die Schichten der Spiegelelemente beidseitig abgeschieden werden. Rückseitig werden die Schichten dann auf den horizontalen Flächen mittels eines anisotropen Ätzverfahrens entfernt.If the mirror layers of at least one of the mirror elements of the optical cavity are used to produce the reflection layer, the process is carried out, for example, in such a way that initially a cavity is applied in the substrate wafer. The cavern does not have to go completely through the substrate. Subsequently, a smoothing of the walls of the through holes is advantageously carried out by means of an isotropic etching process before the layers of the mirror elements are deposited on both sides. On the back side, the layers are then removed on the horizontal surfaces by means of an anisotropic etching process.

10 zeigt eine schematische Darstellung einer Vorrichtung 1000 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Die Vorrichtung 1000 kann beispielsweise im Kontext eines Verfahrens, wie es vorangehend anhand von 9 beschrieben ist, verwendet werden. Die Vorrichtung 1000 umfasst eine erste Einheit 1010 zum Erzeugen einer Substratschicht, eine zweite Einheit 1020 zum Beschichten der Lichtdurchlasszone sowie eine dritte Einheit 1030 zum Bilden des optischen Resonators. 10 shows a schematic representation of a device 1000 according to an embodiment. The device 1000 For example, in the context of a method as previously described by 9 is described. The device 1000 includes a first unit 1010 for producing a substrate layer, a second unit 1020 for coating the light transmission zone and a third unit 1030 for forming the optical resonator.

Nachfolgend werden verschiedene Ausführungsbeispiele des hier vorgestellten Ansatzes nochmals mit anderen Worten zusammengefasst.Below, various embodiments of the approach presented here are summarized again in other words.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel umfasst das mikromechanische Interferometerbauelement mindestens ein Substrat, zwei durch einen Spalt voneinander beabstandete, übereinander angeordnete Spiegelelemente, mindestens einen Durchgangsbereich durch das Substrat und eine Verspiegelung, die wenigstens teilweise auf den begrenzenden Wänden des Durchgangsbereichs aufgebracht ist.According to one exemplary embodiment, the micromechanical interferometer component comprises at least one substrate, two mirror elements arranged one above the other at a distance from one another, at least one passage region through the substrate and a mirror coating at least partially applied to the delimiting walls of the passage region.

Der Durchgangsbereich ist etwa durch ein Durchgangsloch realisiert. Der Durchgangsbereich ist dann durch die Wände des Durchgangsloches begrenzt, wobei die Reflexionsschicht, nachfolgend auch Verspiegelung genannt, teilweise auf den Wänden des Durchgangsloches aufgebracht ist.The passage area is realized approximately through a through hole. The passage area is then bounded by the walls of the through-hole, the reflective layer, below also called mirror coating, partially applied to the walls of the through hole.

Der Durchgangsbereich ist ein geschlossener Teil des im interessanten Wellenlängenbereich transparenten Substrats. Der Durchgangsbereich kann etwa durch einen Graben begrenzt sein. Der Graben ist entweder vollständig oder teilweise durch das Substrat strukturiert. Dementsprechend ist die Verspiegelung beispielsweise in den Graben um den Durchgangsbereich eingebracht.The passage region is a closed part of the transparent substrate in the interesting wavelength range. The passage area may be limited by a trench. The trench is either completely or partially structured by the substrate. Accordingly, the reflective coating is introduced, for example, into the trench around the passage region.

Gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel ist der Durchgangsbereich als ein freigestellter Teil des Substrats realisiert, auch Mesa-Struktur genannt. Der Durchgangsbereich ist dann durch die Seitenwände der Mesa-Struktur begrenzt. Die Verspiegelung ist zumindest teilweise teilweise auf den Wänden der Mesa-Struktur aufgebracht.According to a further embodiment, the passage region is realized as an exempted part of the substrate, also called a mesa structure. The passageway area is then bounded by the sidewalls of the mesa structure. The mirror coating is at least partially applied partially on the walls of the mesa structure.

Die Verspiegelung ist je nach Ausführungsbeispiel als eine Metallschicht oder, zusätzlich oder alternativ, als ein dielektrischer Multilagenstapel realisiert.Depending on the exemplary embodiment, the mirroring is realized as a metal layer or, additionally or alternatively, as a dielectric multilayer stack.

Die Verspiegelung besteht beispielsweise aus denselben Schichtmaterialien oder -dicken wie zumindest eines der Spiegelelemente und kann mit diesen simultan abgeschieden werden.The mirror coating consists for example of the same layer materials or thicknesses as at least one of the mirror elements and can be deposited with these simultaneously.

Die Durchgangsbereichsbegrenzung, d. h. die Durchgangslöcher, Mesa- oder Grabenwände, können nach der Erzeugung geglättet werden, etwa durch Behandlung mit einer isotropen Ätze, durch thermisches Annealen oder durch Oxidation.The passage area boundary, i. H. the through holes, mesa or trench walls can be smoothed after production, such as by treatment with an isotropic etch, by thermal annealing or by oxidation.

Umfasst ein Ausführungsbeispiel eine „und/oder“-Verknüpfung zwischen einem ersten Merkmal und einem zweiten Merkmal, so ist dies so zu lesen, dass das Ausführungsbeispiel gemäß einer Ausführungsform sowohl das erste Merkmal als auch das zweite Merkmal und gemäß einer weiteren Ausführungsform entweder nur das erste Merkmal oder nur das zweite Merkmal aufweist.If an exemplary embodiment comprises a "and / or" link between a first feature and a second feature, then this is to be read so that the embodiment according to one embodiment, both the first feature and the second feature and according to another embodiment either only first feature or only the second feature.

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • DE 102006021538 A1 [0003]DE 102006021538 A1 [0003]

Claims (8)

Interferometerbauelement (200) mit folgenden Merkmalen: einer Substratschicht (204) mit zumindest einer Lichtdurchlasszone (202) zum Lenken von Licht durch die Substratschicht (204), wobei die Lichtdurchlasszone (202) zumindest abschnittsweise mit einer Reflexionsschicht (206) zum Reflektieren von in die Lichtdurchlasszone (202) fallendem Licht beschichtet ist; und einem optischen Resonator (212) aus zumindest einem ersten teildurchlässigen Spiegelelement (208) und einem zweiten teildurchlässigen Spiegelelement (210), wobei der optische Resonator (212) der Lichtdurchlasszone (202) gegenüberliegend angeordnet ist.Interferometer component (200) with the following features: a substrate layer (204) having at least one light transmission zone (202) for directing light through the substrate layer (204), the light transmission zone (202) being at least partially coated with a reflective layer (206) for reflecting light falling into the light transmission zone (202) ; and an optical resonator (212) comprising at least a first partially transmissive mirror element (208) and a second partially transparent mirror element (210), wherein the optical resonator (212) is arranged opposite the light transmission zone (202). Interferometerbauelement (200) gemäß Anspruch 1, bei dem die Lichtdurchlasszone (202) durch ein Durchgangsloch gebildet ist.Interferometer component (200) according to Claim 1 in which the light transmission zone (202) is formed by a through hole. Interferometerbauelement (200) gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, bei dem die Lichtdurchlasszone (202) eine Mesa-Struktur (400, 402) aufweist, wobei die Mesa-Struktur (400, 402) zumindest abschnittsweise mit der Reflexionsschicht (206) beschichtet ist.Interferometer component (200) according to one of the preceding claims, wherein the light transmission zone (202) has a mesa structure (400, 402), wherein the mesa structure (400, 402) at least partially coated with the reflective layer (206). Interferometerbauelement (200) gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, bei dem die Lichtdurchlasszone (202) durch zumindest einen ersten Graben (500) und einen zweiten Graben (502) in der Substratschicht (204) gebildet ist, wobei der ringförmig umlaufende Graben (500) eine Lichtdurchlasszone (504) zum Durchlassen von Licht durch die Substratschicht (204) begrenzen, wobei die Reflexionsschicht (206) zumindest abschnittsweise den ersten Graben (500) und/oder den zweiten Graben (502) auskleidet.The interferometric device (200) of any one of the preceding claims, wherein the light transmission zone (202) is formed by at least a first trench (500) and a second trench (502) in the substrate layer (204), the annular circumferential trench (500) forming a Light transmission zone (504) for transmitting light through the substrate layer (204) limit, wherein the reflection layer (206) at least partially lines the first trench (500) and / or the second trench (502). Interferometerbauelement (200) gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, mit einer Abstandsänderungseinrichtung (214) zum Ändern eines Abstands zwischen dem ersten Spiegelelement (208) und dem zweiten Spiegelelement (210).An interferometer device (200) according to any one of the preceding claims, including distance changing means (214) for changing a distance between the first mirror element (208) and the second mirror element (210). Interferometerbauelement (200) gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, bei dem die Reflexionsschicht (206) als Metallschicht und/oder als dielektrischer Lagenverbund realisiert ist und/oder zumindest teilweise das gleiche Material wie das erste Spiegelelement (208) und/oder das zweite Spiegelelement (210) aufweist.Interferometer component (200) according to one of the preceding claims, wherein the reflection layer (206) is realized as a metal layer and / or as a dielectric layer composite and / or at least partially the same material as the first mirror element (208) and / or the second mirror element (210 ) having. Interferometerbauelement (200) gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, mit zumindest einer weiteren Substratschicht (304) mit zumindest einer weiteren Lichtdurchlasszone (302) zum Lenken von Licht durch die weitere Substratschicht (304), wobei die weitere Lichtdurchlasszone (302) zumindest abschnittsweise mit einer weiteren Reflexionsschicht (306) zum Reflektieren von in die weitere Lichtdurchlasszone (302) fallendem Licht beschichtet ist, wobei der optische Resonator (212) der weiteren Lichtdurchlasszone (302) gegenüberliegend zwischen der Substratschicht (204) und der weiteren Substratschicht (304) angeordnet ist.Interferometerbauelement (200) according to one of the preceding claims, with at least one further substrate layer (304) having at least one further light transmission zone (302) for directing light through the further substrate layer (304), wherein the further light transmission zone (302) at least in sections with another Reflection layer (306) is coated for reflecting light falling into the further light transmission zone (302), wherein the optical resonator (212) of the further light transmission zone (302) is arranged opposite between the substrate layer (204) and the further substrate layer (304). Verfahren (900) zum Herstellen eines Interferometerbauelements (200), wobei das Verfahren (900) folgende Schritte umfasst: Erzeugen (910) einer Substratschicht (204) mit zumindest einer Lichtdurchlasszone (202) zum Lenken von Licht durch die Substratschicht (204); Beschichten (920) zumindest eines Abschnitts der Lichtdurchlasszone (202) mit einer Reflexionsschicht (206) zum Reflektieren von in die Lichtdurchlasszone (202) fallendem Licht; und Bilden (930) eines optischen Resonators (212) aus zumindest einem ersten teildurchlässigen Spiegelelement (208) und einem zweiten teildurchlässigen Spiegelelement (210), wobei der optische Resonator (212) der Lichtdurchlasszone (202) gegenüberliegend angeordnet wird.A method (900) for making an interferometer device (200), the method (900) comprising the steps of: Forming (910) a substrate layer (204) having at least one light transmission zone (202) for directing light through the substrate layer (204); Coating (920) at least a portion of the light transmission zone (202) with a reflective layer (206) for reflecting light falling into the light transmission zone (202); and Forming (930) an optical resonator (212) of at least a first partially transparent mirror element (208) and a second partially transparent mirror element (210), the optical resonator (212) being arranged opposite the light transmission zone (202).
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006021538A1 (en) 2006-05-08 2007-11-22 Frank Palme Stationary optical-flat Fourier transform interferometer for static Fourier-spectrometer, has plate spitting wave front into identical, mirror imaged wave fronts, which has optical path difference produced as position-dependent function
DE102008019600A1 (en) * 2008-04-18 2009-10-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Stacked construction optical device and method of making the same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5440110B2 (en) * 2009-03-30 2014-03-12 株式会社リコー Spectral characteristic acquisition apparatus, spectral characteristic acquisition method, image evaluation apparatus, and image forming apparatus
JP5988690B2 (en) * 2012-05-18 2016-09-07 浜松ホトニクス株式会社 Spectroscopic sensor
JP6264810B2 (en) * 2013-09-27 2018-01-24 セイコーエプソン株式会社 Interference filter, optical filter device, optical module, and electronic apparatus

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006021538A1 (en) 2006-05-08 2007-11-22 Frank Palme Stationary optical-flat Fourier transform interferometer for static Fourier-spectrometer, has plate spitting wave front into identical, mirror imaged wave fronts, which has optical path difference produced as position-dependent function
DE102008019600A1 (en) * 2008-04-18 2009-10-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Stacked construction optical device and method of making the same

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