DE102016208006A1

DE102016208006A1 - Optical arrangement, lithography system and method for changing a numerical aperture

Info

Publication number: DE102016208006A1
Application number: DE102016208006.7A
Authority: DE
Inventors: Stefan Hembacher
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2016-05-10
Filing date: 2016-05-10
Publication date: 2017-04-27

Abstract

Die vorliegende Erfindung beschreibt eine optische Anordnung (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), aufweisend einen Strahlengang (202) für Projektionslicht (208) zum Abbilden von lithographischen Strukturen (210), wobei der Strahlengang (202) eine optische Achse (222) umfasst, eine Blendenanordnung (204) mit mindestens einer lichtbeschränkenden Kante (224) zum Begrenzen des Strahlengangs (202), und eine Positioniereinrichtung (206), welche eingerichtet ist, die mindestens eine lichtbeschränkende Kante (224) entlang der optischen Achse (222) zum Ändern einer numerischen Apertur der Blendenanordnung (204) zu bewegen.The present invention describes an optical arrangement (200) for a lithography system (100A, 100B), comprising a projection path (202) for projection light (208) for imaging lithographic structures (210), wherein the optical path (202) has an optical axis (222 ), an aperture arrangement (204) having at least one light-restricting edge (224) for limiting the beam path (202), and a positioning device (206) which is arranged, the at least one light-limiting edge (224) along the optical axis (222) to change a numerical aperture of the shutter assembly (204).

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Anordnung für eine Lithographieanlage, eine Lithographieanlage mit einer solchen optischen Anordnung sowie ein Verfahren zum Ändern einer numerischen Apertur einer Blendenanordnung einer optischen Anordnung für eine Lithographieanlage. The present invention relates to an optical arrangement for a lithography system, to a lithography system having such an optical arrangement, and to a method for changing a numerical aperture of a diaphragm arrangement of an optical arrangement for a lithography system.

Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche eine Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat (z. B. ein Siliziumwafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen. Microlithography is used to fabricate microstructured devices such as integrated circuits. The microlithography process is performed with a lithography system having an illumination system and a projection system. The image of a mask (reticle) illuminated by means of the illumination system is projected by the projection system onto a substrate (eg a silicon wafer) coated with a photosensitive layer (photoresist) and arranged in the image plane of the projection system in order to apply the mask structure to the photosensitive layer Transfer coating of the substrate.

Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von – wie bisher – brechenden Optiken, das heißt Linsen, eingesetzt werden. Driven by the quest for ever smaller structures in the manufacture of integrated circuits, EUV lithography systems are currently being developed which use light with a wavelength in the range of 0.1 nm to 30 nm, in particular 13.5 nm. In such EUV lithography equipment, because of the high absorption of most materials of light of this wavelength, reflective optics, that is, mirrors, must be used instead of - as before - refractive optics, that is, lenses.

Die erreichbare Auflösung mit der lithographische Strukturen abgebildet werden können, hängt maßgeblich von der numerischen Apertur NA der Blendenanordnung einer optischen Anordnung, beispielsweise einem Projektionssystem, ab. Um die numerische Apertur in Lithographieanlagen zu verändern, werden beispielsweise NA-Wechsler zum Wechseln der Blendenanordnung eingesetzt. Ein NA-Wechsler ist eine mechanische Anordnung mit der Blendenanordnungen ausgewechselt werden können. Dabei werden Blendenanordnungen mit unterschiedlichen Öffnungen in den Strahlengang gebracht. Um die Blendenanordnungen wechseln zu können, werden in der optischen Anordnung, also beispielsweise in dem die Atmosphäre des Projektionssystems aufrecht erhaltendem Gehäuse des Projektionssystems, Außenöffnungen vorgesehen. Es ist jedoch in der Regel wünschenswert, ein möglichst hermetisch abgeschlossenes System zu verwenden, das einen in situ Betrieb ermöglicht. The achievable resolution with which lithographic structures can be imaged depends largely on the numerical aperture NA of the diaphragm arrangement of an optical arrangement, for example a projection system. In order to change the numerical aperture in lithography equipment, for example, NA changer are used to change the aperture arrangement. A NA changer is a mechanical arrangement with the aperture arrangements can be replaced. In this case, aperture arrangements with different openings are brought into the beam path. In order to be able to change the diaphragm arrangements, external openings are provided in the optical arrangement, that is to say for example in the housing of the projection system which maintains the atmosphere of the projection system. However, it is usually desirable to use a hermetically sealed system that allows in situ operation.

Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, eine verbesserte optische Anordnung für eine Lithographieanlage bereitzustellen. Es ist eine weitere Aufgabe eine verbesserte Lithographieanlage mit einer solchen optischen Anordnung sowie ein verbessertes Verfahren zum Ändern einer numerischen Apertur einer Blendenanordnung einer optischen Anordnung bereitzustellen. Against this background, an object of the present invention is to provide an improved optical arrangement for a lithography system. It is a further object to provide an improved lithography apparatus having such an optical arrangement and an improved method of changing a numerical aperture of an aperture arrangement of an optical arrangement.

Demgemäß wird eine optische Anordnung für eine Lithographieanlage bereitgestellt, aufweisend einen Strahlengang für Projektionslicht zum Abbilden von lithographischen Strukturen, wobei der Strahlengang eine optische Achse umfasst,
eine Blendenanordnung mit mindestens einer lichtbeschränkenden Kante zum Begrenzen des Strahlengangs, und eine Positioniereinrichtung, welche eingerichtet ist, die mindestens eine lichtbeschränkende Kante entlang der optischen Achse zum Ändern einer numerischen Apertur der Blendenanordnung zu bewegen. Accordingly, an optical arrangement for a lithography system is provided, comprising a beam path for projection light for imaging lithographic structures, wherein the beam path comprises an optical axis,
a diaphragm assembly having at least one light-restricting edge for limiting the beam path; and positioning means arranged to move the at least one light-restricting edge along the optical axis to change a numerical aperture of the diaphragm assembly.

Dadurch, dass die mindestens eine lichtbeschränkende Kante entlang der optischen Achse bewegt wird, kann auf einfache Weise die numerische Apertur der Blendenanordnung verändert werden. Die Strahlen des Strahlengangs für Projektionslicht zum Abbilden von lithographischen Strukturen können konvergent oder divergent verlaufen. Insbesondere verläuft der Strahlengang konisch. Dadurch bewirkt eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante in Richtung der optischen Achse des Strahlengangs, dass der Strahlengang teilweise abgeschattet wird. Eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante in Richtung der optischen Achse des Strahlengangs bewirkt demnach eine Änderung der Begrenzung des Strahlengangs. Dementsprechend wird mittels dieser Änderung eine Änderung der numerischen Apertur erreicht. Man spricht bei den lichtbeschränken Kanten auch von lichtbestimmenden Kanten, da der Strahlengang auch mit Hilfe der Blendenanordnung, und insbesondere mit Hilfe der Kanten, bestimmt wird. By moving the at least one light-restricting edge along the optical axis, the numerical aperture of the diaphragm arrangement can be changed in a simple manner. The beams of the beam path for projection light for imaging lithographic structures may be convergent or divergent. In particular, the beam path is conical. As a result, movement of the light-limiting edge in the direction of the optical axis of the beam path causes the beam path to be partially shaded. A movement of the light-limiting edge in the direction of the optical axis of the beam path thus causes a change in the boundary of the beam path. Accordingly, by means of this change, a change of the numerical aperture is achieved. In the case of the light-limited edges, one also speaks of light-determining edges, since the beam path is also determined with the aid of the diaphragm arrangement, and in particular with the aid of the edges.

Insofern sind der Strahlengang (d.h. alle abbildenden Strahlen des Projektionslichts) und die lichtbeschränkende Kante so relativ zueinander angeordnet, dass eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante entlang der optischen Achse des Strahlengangs zu einer Beschränkung des Strahlengangs führt. As such, the optical path (i.e., all imaging rays of the projection light) and the light confining edge are positioned relative to each other such that movement of the light confining edge along the optical axis of the optical path results in confinement of the optical path.

Vorzugsweise wird daher keine Irisblende geschaffen, bei der Blendenteile senkrecht in den Strahlengang bzw. zur optischen Achse verfahren werden. Die lichtbeschränkenden Kanten werden vorzugsweise auch nicht gedreht oder geschwenkt, Preferably, therefore, no iris diaphragm is created in which diaphragm parts are moved vertically into the beam path or to the optical axis. The light-limiting edges are preferably also not rotated or pivoted,

Vorteilhafterweise kann aufgrund der Bewegung der mindestens einen lichtbeschränkenden Kante entlang der optischen Achse und der damit verbundenen Änderung der numerischen Apertur der Blendenanordnung auf einen Wechsel der Blendenanordnung verzichtet werden, wenn die numerische Apertur verändert werden soll. Dadurch braucht keine veränderte unterschiedliche Blendenanordnung in die optische Anordnung eingebracht zu werden, falls die numerische Apertur der eingebauten Blendenanordnung geändert werden soll. Insbesondere benötigt die Lithographieanlage keine Außenöffnung im Tragrahmen (Engl.: force frame) und/oder im Sensorrahmen (Engl.: sensor frame), durch welche eine Blendenanordnung ausgetauscht werden könnte. Advantageously, due to the movement of the at least one light-restricting edge along the optical axis and the associated change in the numerical aperture of the Aperture arrangement to dispense with a change of the aperture arrangement when the numerical aperture is to be changed. As a result, no modified different diaphragm arrangement need be introduced into the optical arrangement if the numerical aperture of the built-in diaphragm arrangement is to be changed. In particular, the lithographic system requires no external opening in the support frame (English: force frame) and / or in the sensor frame (Engl .: sensor frame), through which an aperture arrangement could be replaced.

Weiter kann es genügen, wenn die mindestens eine lichtbeschränkende Kante in lediglich einem Freiheitsgrad entlang der optischen Achse beweglich ist. Dadurch kann bereits eine Veränderung der Beschränkung des Strahlengangs realisiert werden. Dies kann sowohl zur Verringerung der Kosten als auch zur Verringerung des benötigten Bauraums beitragen. Further, it may be sufficient if the at least one light-restricting edge is movable in only one degree of freedom along the optical axis. This can already be realized a change in the limitation of the beam path. This can both reduce costs and reduce the space required.

Je größer die numerische Apertur ist, desto konischer kann der Strahlengang verlaufen. Vorteilhafterweise ist die notwendige Bewegung der lichtbeschränkenden Kante zur Veränderung der numerischen Apertur umso kleiner, je konischer der Strahlengang ist. The larger the numerical aperture, the more conical the beam path can go. Advantageously, the more conical the beam path, the smaller the necessary movement of the light-restricting edge for changing the numerical aperture.

Unter „entlang der optischen Achse“ ist in einer Richtung parallel zur optischen Achse zu verstehen. Eine Bewegung der Blende bzw. der lichtbeschränkenden Kanten kann dabei einen Anteil parallel zur optischen Achse und eine Anteil senkrecht zur optischen Achse aufweisen. Die Bewegung erfolgt nun vorzugsweise als lineare Verschiebung mit einem nichtverschwindenden Anteil parallel zum Verlauf der optischen Achse. By "along the optical axis" is meant to be in a direction parallel to the optical axis. A movement of the diaphragm or of the light-limiting edges can have a portion parallel to the optical axis and a portion perpendicular to the optical axis. The movement now preferably takes place as a linear displacement with a non-vanishing proportion parallel to the course of the optical axis.

Mit „optische Achse“ des Strahlengangs ist insbesondere die Richtung des Strahlengangs gemeint. Bei einem konischen Strahlengang kann die Richtung des Strahlengangs in der Mitte der konischen Strahlung verlaufen. Dabei wird der Strahlengang durch alle abbildenden Strahlen des Projektionslichts gebildet. By "optical axis" of the beam path is meant in particular the direction of the beam path. With a conical beam path, the direction of the beam path can run in the middle of the conical radiation. The beam path is formed by all the imaging rays of the projection light.

Unter einem konischen Strahlengang ist ein Strahlengang zu verstehen, welcher eine konische Form aufweist. Unter der konischen Form wird hier eine Form verstanden, welche entsteht, wenn man alle Punkte eines in einer Ebene liegenden, begrenzten Flächenstücks geradlinig mit einem Punkt außerhalb der Ebene verbindet. Das begrenzte Flächenstück braucht nicht notwendigerweise rund zu sein. A conical beam path is to be understood as a beam path which has a conical shape. The conical shape is understood here to mean a shape which results when all points of a plane surface area lying in a plane are connected in a straight line with an out-of-plane point. The limited area does not necessarily have to be round.

Gemäß einer Ausführungsform der optischen Anordnung weist diese ferner ein optisches Element auf, wobei die Bewegung entlang der optischen Achse eine Bewegung entlang einer Flächennormalen einer Oberfläche des optischen Elements umfasst. Dabei kommt es bei der Bewegung auf die Bewegung der lichtbeschränkenden Kante an. Die Flächennormale steht senkrecht zur Oberfläche des optischen Elements. Vorteilhafterweise können die Richtung der optischen Achse und die Richtung der Flächennormalen parallel sein. Dabei ist zu beachten, dass die Oberfläche des optischen Elements gekrümmt sein kann. Daher kann die Flächennormale an unterschiedlichen Positionen auf der Oberfläche in unterschiedliche Richtungen weisen. Die Richtungen der optischen Achse und der Flächennormalen werden daher nur an einem Punkt auf einer gekrümmten Oberfläche parallel sein. According to one embodiment of the optical arrangement, the latter furthermore has an optical element, wherein the movement along the optical axis comprises a movement along a surface normal of a surface of the optical element. The movement depends on the movement of the light-limiting edge. The surface normal is perpendicular to the surface of the optical element. Advantageously, the direction of the optical axis and the direction of the surface normal can be parallel. It should be noted that the surface of the optical element may be curved. Therefore, the surface normal can point in different directions at different positions on the surface. The directions of the optical axis and the surface normal will therefore be parallel only at one point on a curved surface.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung weist die Blendenanordnung mehrere Blendenelemente, insbesondere drei Blendenelemente, mit jeweils einer lichtbeschränkenden Kante auf. Es kann notwendig sein eine Blendenanordnung zu verwenden, welche keine durchgehende geometrische Form aufweist. Eine solche Blendenanordnung besitzt keine durchgehende lichtbeschränkende Kante. Vielmehr sind die lichtbeschränkenden Kanten der Blendenelemente dann örtlich verteilt. Beispielsweise sind die lichtbeschränkenden Kanten der Blendenelemente dann gegeneinander und/oder in Bezug auf die optische Achse verschoben. According to a further embodiment of the optical arrangement, the diaphragm arrangement has a plurality of diaphragm elements, in particular three diaphragm elements, each having a light-limiting edge. It may be necessary to use a shutter assembly which does not have a continuous geometric shape. Such a diaphragm arrangement has no continuous light-limiting edge. Rather, the light-limiting edges of the diaphragm elements are then distributed locally. For example, the light-limiting edges of the diaphragm elements are then shifted from each other and / or with respect to the optical axis.

In Ausführungsformen verläuft die Richtung, in denen die Blendenelemente verschoben werden parallel oder antiparallel, und jedes Blendenelement wird ausschließlich linear bzw. geradlinig bewegt. In embodiments, the direction in which the aperture elements are translated is parallel or antiparallel, and each aperture element is moved only linearly.

Eine Blendenanordnung mit mehreren Blendenelementen und damit mit mehreren nichtzusammenhängenden lichtbeschränkenden Kanten kann insbesondere für anamorphotische Abbildungssysteme geeignet sein. Anamorphotische Abbildungssysteme besitzen in unterschiedlichen Raumrichtungen unterschiedliche Abbildungsverhältnisse. An aperture arrangement having a plurality of aperture elements and thus having a plurality of non-contiguous light-limiting edges may be particularly suitable for anamorphic imaging systems. Anamorphic imaging systems have different imaging ratios in different spatial directions.

Unter nichtzusammenhängend ist zu verstehen, dass die lichtbeschränkenden Kanten in räumlicher Hinsicht voneinander getrennt sind. In einer Projektionsrichtung, beispielsweise entlang der optischen Achse, kann dennoch eine zusammenhängende und von den jeweiligen Projektionen der lichtbeschränkenden Kanten umschlossene Fläche vorliegen. Man kann insofern von einer Fläche der „Blendenöffnung in Projektion“ sprechen. By non-contiguous is meant that the light-constraining edges are spatially separated. In a projection direction, for example along the optical axis, there may nevertheless be a coherent surface enclosed by the respective projections of the light-restricting edges. In this respect one can speak of an area of the "aperture in projection".

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung sind die Blendenelemente getrennt voneinander und relativ zueinander entlang der optischen Achse beweglich. Vorteilhafterweise kann die separate Bewegung jedes einzelnen Blendenelements den Strahlengang beeinflussen und damit die numerische Apertur der Blendenanordnung verändern. Insbesondere wird der Strahlengang durch die lichtbeschränkende Kante eines Blendenelements beschnitten, so dass ein Teil des Strahlengangs abgeschattet wird. According to a further embodiment of the optical arrangement, the diaphragm elements are movable apart from each other and relative to each other along the optical axis. Advantageously, the separate movement of each individual diaphragm element can influence the beam path and thus change the numerical aperture of the diaphragm arrangement. In particular, the beam path is through the light-limiting edge of a diaphragm element cropped so that a part of the beam path is shaded.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung ist zumindest ein Blendenelement ortsfest verbunden. Dabei ist das zumindest eine Blendenelement ortsfest in Bezug auf die optische Achse. Vorteilhafterweise kann schon die Bewegung eines Blendenelements ausreichen, um die numerische Apertur der Blendenanordnung zu verändern. Je weniger Blendenelemente bewegt werden, desto geringer ist die Komplexität der optischen Anordnung und desto geringer sind dann auch die Kosten der optischen Anordnung. According to a further embodiment of the optical arrangement, at least one diaphragm element is connected in a stationary manner. In this case, the at least one diaphragm element is stationary with respect to the optical axis. Advantageously, even the movement of a diaphragm element can be sufficient to change the numerical aperture of the diaphragm arrangement. The fewer aperture elements are moved, the lower the complexity of the optical arrangement and the lower the cost of the optical arrangement.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung ist zumindest ein Blendenelement ausschließlich entlang der optischen Achse zum Ändern der numerischen Apertur der Blendenanordnung beweglich. Dabei ist die mindestens eine lichtbeschränkende Kante ausschließlich linear in einer Richtung beweglich. According to a further embodiment of the optical arrangement, at least one diaphragm element is movable exclusively along the optical axis for changing the numerical aperture of the diaphragm arrangement. The at least one light-limiting edge is exclusively linearly movable in one direction.

Dadurch, dass sich das Blendenelement mit der lichtbeschränkenden Kante ausschließlich linear entlang der optischen Achse bewegt, können die Komplexität und damit auch die Kosten der optischen Anordnung gering gehalten werden. The fact that the aperture element moves with the light-limiting edge only linear along the optical axis, the complexity and thus the cost of the optical arrangement can be kept low.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung sind zumindest zwei Blendenelemente beweglich, und die zumindest zwei beweglichen Blendenelemente begrenzen in einer Bewegungsrichtung entlang der optischen Achse eine konstante Fläche. Dabei ist die konstante Fläche diejenige Fläche, welche in Richtung der optischen Achse, also in Bewegungsrichtung, zu sehen ist und welche durch die lichtbeschränkenden Kanten der Blendenelemente begrenzt wird. Die konstante Fläche ist demnach die Projektion in eine Ebene senkrecht zur optischen Achse. Vorteilhafterweise können die zumindest zwei Blendenelemente zusammen bewegt werden. Dadurch ändert sich ihr relativer Abstand nicht und die Fläche, die sie begrenzen, bleibt konstant. Die gemeinsame Bewegung der zumindest zwei Blendenelemente kann die Komplexität der optischen Anordnung verringern. Dadurch können Kosten gespart werden. According to a further embodiment of the optical arrangement, at least two diaphragm elements are movable, and the at least two movable diaphragm elements define a constant area in a direction of movement along the optical axis. In this case, the constant area is that area which can be seen in the direction of the optical axis, that is to say in the direction of movement, and which is delimited by the light-limiting edges of the panel elements. The constant area is therefore the projection in a plane perpendicular to the optical axis. Advantageously, the at least two diaphragm elements can be moved together. As a result, their relative distance does not change and the area they limit remains constant. The joint movement of the at least two aperture elements can reduce the complexity of the optical arrangement. This can save costs.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung weist der Strahlengang eine konische Form auf. Dadurch kann eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante entlang der optischen Achse des Strahlengangs eine Änderung der numerischen Apertur bewirken. According to a further embodiment of the optical arrangement, the beam path has a conical shape. As a result, movement of the light-restricting edge along the optical axis of the beam path can cause a change in the numerical aperture.

Alternativ weisen die Strahlen des Strahlengangs zumindest im Bereich der Blendenanordnung einen nicht parallelen Verlauf auf. Alternatively, the rays of the beam path, at least in the region of the diaphragm arrangement on a non-parallel course.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung ist die mindestens eine lichtbeschränkende Kante widerstandsfähig gegenüber dem Projektionslicht im Wellenlängenbereich von 0,1 nm bis 250 nm. Dabei bedeutet widerstandsfähig, dass die lichtbeschränkende Kante weder ihre Form aufgrund der Einstrahlung mit dem Projektionslicht verändert noch Teile der lichtbeschränkenden Kante aufgrund der Einstrahlung mit dem Projektionslicht verdampfen. According to a further embodiment of the optical arrangement, the at least one light-restricting edge is resistant to the projection light in the wavelength range from 0.1 nm to 250 nm. Resistant means that the light-limiting edge neither changes its shape due to the irradiation with the projection light nor parts of the light-limiting Vaporize the edge due to the irradiation with the projection light.

Eine ungewollte Formänderung der lichtbeschränkenden Kante würde ebenfalls zu einer ungewollten Änderung der numerischen Apertur führen. Weiter kann die optische Anordnung im Vakuum angeordnet sein. Dabei kann der Druck des Vakuums in dem Bereich von 10^–7 bis 10^–12 mbar (Ultrahochvakuum) liegen. An unwanted change in shape of the light-restricting edge would also lead to an unwanted change in the numerical aperture. Furthermore, the optical arrangement can be arranged in a vacuum. The pressure of the vacuum may be in the range of 10 ^-7 to 10 ^-12 mbar (ultrahigh vacuum).

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung weist die Blendenanordnung eine Blendenöffnung auf, welche durch mindestens zwei lichtbeschränkende Kanten gebildet ist. Alle vorhandenen lichtbeschränkenden Kanten der Blendenanordnung bilden zusammen die Blendenöffnung. Vorteilhafterweise kann die Blendenöffnung mit mehreren lichtbeschränkenden Kanten an den Strahlengang angepasst werden. Dabei kann es sich insbesondere um einen anamorphotischen Strahlengang handeln, bei welchem die Blendenanordnung angepasst wird. According to a further embodiment of the optical arrangement, the diaphragm arrangement has an aperture which is formed by at least two light-limiting edges. All existing light-limiting edges of the diaphragm assembly together form the aperture. Advantageously, the aperture can be adapted to the beam path with a plurality of light-limiting edges. This may in particular be an anamorphic beam path in which the diaphragm arrangement is adapted.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung sind mindestens zwei lichtbeschränkende Kanten der Blendenöffnung nichtzusammenhängend angeordnet. Vorteilhafterweise kann die Blendenanordnung auf diese Weise den zur Verfügung stehenden knappen Bauraum in der optischen Anordnung optimal ausnutzen. Weiter kann eine Blendenöffnung mit nichtzusammenhängenden Kanten für einen anamorphotischen Strahlengang von Vorteil sein. According to a further embodiment of the optical arrangement, at least two light-limiting edges of the aperture are arranged discontinuously. Advantageously, the diaphragm arrangement can optimally utilize the available scarce space in the optical arrangement in this way. Further, an aperture with discontinuous edges may be advantageous for an anamorphic beam path.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung ist die Blendenöffnung in Form, Größe und/oder Fläche konstant. Die Blendenöffnung kann über die Parameter Form, Größe und/oder Fläche beschrieben werden. Dabei ist die Fläche diejenige Fläche, welche in Richtung der optischen Achse, also in Bewegungsrichtung, zu sehen ist und welche durch die lichtbeschränkenden Kanten der Blendenelemente begrenzt wird. Die Fläche ist demnach die Projektion in eine Ebene senkrecht zur optischen Achse. Ist einer der Parameter konstant oder sind sogar mehrere der Parameter konstant, dann stehen mindestens zwei Blendenelemente in einer festen räumlichen Beziehung zueinander. Dadurch kann zumindest ein Bereich der Blendenanordnung, aufweisend mindestens zwei Blendenelemente, zusammen bewegt werden. Dies reduziert die Komplexität der Blendenanordnung. According to a further embodiment of the optical arrangement, the aperture is constant in shape, size and / or area. The aperture can be described using the parameters shape, size and / or area. In this case, the surface is that surface which can be seen in the direction of the optical axis, ie in the direction of movement, and which is bounded by the light-limiting edges of the diaphragm elements. The surface is therefore the projection in a plane perpendicular to the optical axis. If one of the parameters is constant or even several of the parameters are constant, then at least two diaphragm elements are in a fixed spatial relationship to one another. As a result, at least one region of the diaphragm arrangement, comprising at least two diaphragm elements, be moved together. This reduces the complexity of the aperture arrangement.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung verläuft der Strahlengang innerhalb der Blendenöffnung. Bei der Blendenanordnung handelt es sich demnach vorzugsweise um eine Art Aperturblende. Dabei ist eine Aperturblende eine Blende, welche den Strahlengang von außen begrenzt. Im Gegensatz dazu ist eine Obskurationsblende eine Blende, welche innerhalb des Strahlengangs angeordnet ist, um Strahlen, die auf eine bestimmte Fläche innerhalb des Strahlengangs fallen, zu blockieren. According to a further embodiment of the optical arrangement of the beam path extends within the aperture. The diaphragm arrangement is therefore preferably a type of aperture diaphragm. In this case, an aperture diaphragm is a diaphragm which limits the beam path from the outside. In contrast, an obscuration stop is an aperture located within the beam path to block rays falling on a particular area within the beam path.

Ferner wird eine Lithographieanlage, insbesondere eine EUV- oder DUV-Lithographieanlage, mit einer optischen Anordnung, wie vorstehend beschrieben, bereitgestellt. EUV steht für „extreme ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts (bzw. Projektionslichts) zwischen 0,1 und 30 nm. DUV steht für „deep ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts (bzw. Projektionslichts) zwischen 30 und 250 nm. Furthermore, a lithography system, in particular an EUV or DUV lithography system, having an optical arrangement as described above, is provided. EUV stands for "extreme ultraviolet" and denotes a wavelength of the working light (or projection light) between 0.1 and 30 nm. DUV stands for "deep ultraviolet" and denotes a wavelength of the working light (or projection light) between 30 and 250 nm.

Weiter wird ein Verfahren zum Ändern einer numerischen Apertur einer Blendenanordnung einer optischen Anordnung für eine Lithographieanlage beschrieben. Dabei wird mindestens eine lichtbeschränkende Kante einer Blendenanordnung entlang einer optischen Achse eines Strahlengangs für Projektionslicht zum Ändern der numerischen Apertur bewegt. Furthermore, a method for changing a numerical aperture of a diaphragm arrangement of an optical arrangement for a lithography system is described. In this case, at least one light-limiting edge of a diaphragm arrangement is moved along an optical axis of a beam path for projection light for changing the numerical aperture.

Die numerische Apertur kann mittels der Bewegung der lichtbeschränkenden Kante der Blendenanordnung entlang der optischen Achse des Strahlengangs geändert werden. Vorteilhafterweise kann damit auf einen Wechsel der Blendenanordnung zum Verändern der numerischen Apertur verzichtet werden. Unter einem Wechsel der Blendenanordnung ist ein Austausch der Blendenanordnung zu verstehen. The numerical aperture can be changed by means of the movement of the light-limiting edge of the diaphragm arrangement along the optical axis of the beam path. Advantageously, it is thus possible to dispense with a change of the diaphragm arrangement for changing the numerical aperture. Under a change in the aperture arrangement is an exchange of the aperture arrangement to understand.

Die für die vorgeschlagene optische Anordnung beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für die vorgeschlagene Lithographieanlage und das vorgeschlagene Verfahren entsprechend und umgekehrt. The embodiments and features described for the proposed optical arrangement apply to the proposed lithographic system and the proposed method and vice versa.

Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmale oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen. Further possible implementations of the invention also include not explicitly mentioned combinations of features or embodiments described above or below with regard to the exemplary embodiments. The skilled person will also add individual aspects as improvements or additions to the respective basic form of the invention.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert. Further advantageous embodiments and aspects of the invention are the subject of the dependent claims and the embodiments of the invention described below. Furthermore, the invention will be explained in more detail by means of preferred embodiments with reference to the attached figures.

1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage; 1A shows a schematic view of an EUV lithography system;

1B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage; 1B shows a schematic view of a DUV lithography system;

2 zeigt eine schematische Ansicht einer optischen Anordnung; 2 shows a schematic view of an optical arrangement;

3 zeigt eine schematische Ansicht einer weiteren optischen Anordnung; 3 shows a schematic view of another optical arrangement;

4A zeigt eine schematische Ansicht der in der 3 dargestellten Blendenanordnung aus der Richtung der optischen Achse; 4A shows a schematic view of the in the 3 shown aperture arrangement from the direction of the optical axis;

4B zeigt eine schematische Ansicht einer alternativen Blendenanordnung zu der in der 4A dargestellten Blendenanordnung; 4B shows a schematic view of an alternative aperture arrangement to that in the 4A illustrated aperture arrangement;

5A zeigt eine schematische Ansicht einer alternativen Blendenanordnung zu der in der 4A dargestellten Blendenanordnung; 5A shows a schematic view of an alternative aperture arrangement to that in the 4A illustrated aperture arrangement;

5B zeigt eine schematische Ansicht einer alternativen Blendenanordnung zu der in der 5A dargestellten Blendenanordnung; 5B shows a schematic view of an alternative aperture arrangement to that in the 5A illustrated aperture arrangement;

6 zeigt eine schematische Schnittansicht der Blendenanordnung aus 3 aus einer Richtung senkrecht zur optischen Achse; 6 shows a schematic sectional view of the diaphragm assembly 3 from a direction perpendicular to the optical axis;

7 zeigt eine schematische Schnittansicht der Blendenanordnung aus 6 mit verschobenem Blendenelement; und 7 shows a schematic sectional view of the diaphragm assembly 6 with displaced diaphragm element; and

8 zeigt eine schematische Ansicht einer weiteren optischen Anordnung. 8th shows a schematic view of another optical arrangement.

In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind. In the figures, the same or functionally identical elements have been given the same reference numerals, unless stated otherwise. It should also be noted that the illustrations in the figures are not necessarily to scale.

1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage 100A, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht EUV für „extremes Ultraviolett“ (Engl.: extreme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 und 30 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 sind jeweils in einem nicht gezeigten Vakuum-Gehäuse vorgesehen, wobei jedes Vakuum-Gehäuse mit Hilfe einer nicht dargestellten Evakuierungsvorrichtung evakuiert wird. Die Vakuum-Gehäuse sind von einem nicht dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem die Antriebsvorrichtungen zum mechanischen Verfahren bzw. Einstellen der optischen Elemente vorgesehen sind. Ferner können auch elektrische Steuerungen und dergleichen in diesem Maschinenraum vorgesehen sein. 1A shows a schematic view of an EUV lithography system 100A which is a beam shaping and illumination system 102 and a projection system 104 includes. EUV stands for "extreme ultraviolet" (Engl.: Extreme ultraviolet, EUV) and refers to a working light wavelength between 0.1 and 30 nm. The beam shaping and illumination system 102 and the projection system 104 are each provided in a vacuum housing, not shown, wherein each vacuum housing is evacuated by means of an evacuation device, not shown. The vacuum housings are surrounded by a machine room, not shown, in which the drive devices are provided for the mechanical method or adjustment of the optical elements. Furthermore, electrical controls and the like may be provided in this engine room.

Die EUV-Lithographieanlage 100A weist eine EUV-Lichtquelle 106A auf. Als EUV-Lichtquelle 106A kann beispielsweise eine Plasmaquelle (oder ein Synchrotron) vorgesehen sein, welche Strahlung 108A im EUV-Bereich (extrem ultravioletter Bereich), also z.B. im Wellenlängenbereich von 5 nm bis 20 nm, aussendet. Im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A gebündelt und die gewünschte Betriebswellenlänge aus der EUV-Strahlung 108A herausgefiltert. Die von der EUV-Lichtquelle 106A erzeugte EUV-Strahlung 108A weist eine relativ niedrige Transmissivität durch Luft auf, weshalb die Strahlführungsräume im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und im Projektionssystem 104 evakuiert sind. The EUV lithography system 100A has an EUV light source 106A on. As an EUV light source 106A For example, a plasma source (or a synchrotron) can be provided, which radiation 108A in the EUV range (extreme ultraviolet range), ie in the wavelength range from 5 nm to 20 nm, for example. In the beam-forming and lighting system 102 becomes the EUV radiation 108A bundled and the desired operating wavelength from the EUV radiation 108A filtered out. The from the EUV light source 106A generated EUV radiation 108A has a relatively low transmissivity by air, which is why the beam guiding spaces in the beam-forming and lighting system 102 and in the projection system 104 are evacuated.

Das in 1A dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 weist fünf Spiegel 110, 112, 114, 116, 118 auf. Nach dem Durchgang durch das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A auf die Photomaske (Engl.: reticle) 120 geleitet. Die Photomaske 120 ist ebenfalls als reflektives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Weiter kann die EUV-Strahlung 108A mittels eines Spiegels 122 auf die Photomaske 120 gelenkt werden. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird. This in 1A illustrated beam shaping and illumination system 102 has five mirrors 110 . 112 . 114 . 116 . 118 on. After passing through the beam shaping and lighting system 102 becomes the EUV radiation 108A on the photomask (English: reticle) 120 directed. The photomask 120 is also designed as a reflective optical element and can be outside the systems 102 . 104 be arranged. Next, the EUV radiation 108A by means of a mirror 122 on the photomask 120 be steered. The photomask 120 has a structure which, by means of the projection system 104 reduced to a wafer 124 or the like is mapped.

Das Projektionssystem 104 (auch als Projektionsobjektiv bezeichnet) weist sechs Spiegel M1–M6 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Spiegel M1–M6 des Projektionssystems 104 symmetrisch zur optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Spiegel der EUV-Lithographieanlage 100A nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Spiegel vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel i.d.R. an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt. The projection system 104 (also referred to as projection lens) has six mirrors M1-M6 for imaging the photomask 120 on the wafer 124 on. In this case, individual mirrors M1-M6 of the projection system 104 symmetrical to the optical axis 126 of the projection system 104 be arranged. It should be noted that the number of mirrors of the EUV lithography system 100A is not limited to the number shown. It can also be provided more or less mirror. Furthermore, the mirrors are usually curved at the front for beam shaping.

1B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage 100B, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht DUV für „tiefes Ultraviolett“ (Engl.: deep ultraviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 und 250 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 können – wie bereits mit Bezug zu 1A beschrieben – in einem Vakuumgehäuse angeordnet und/oder von einem Maschinenraum mit entsprechenden Antriebsvorrichtungen umgeben sein. 1B shows a schematic view of a DUV lithography system 100B which is a beam shaping and illumination system 102 and a projection system 104 includes. DUV stands for "deep ultraviolet" (English: deep ultraviolet, DUV) and refers to a wavelength of working light between 30 and 250 nm. The beam shaping and illumination system 102 and the projection system 104 can - as already related to 1A described - arranged in a vacuum housing and / or surrounded by a machine room with corresponding drive devices.

Die DUV-Lithographieanlage 100B weist eine DUV-Lichtquelle 106B auf. Als DUV-Lichtquelle 106B kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher Strahlung 108B im DUV-Bereich bei beispielsweise 193 nm emittiert. The DUV lithography system 100B has a DUV light source 106B on. As a DUV light source 106B For example, an ArF excimer laser can be provided, which radiation 108B in the DUV area at for example 193 nm emitted.

Das in 1B dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 leitet die DUV-Strahlung 108B auf eine Photomaske 120. Die Photomaske 120 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird. This in 1B illustrated beam shaping and illumination system 102 directs the DUV radiation 108B on a photomask 120 , The photomask 120 is designed as a transmissive optical element and can be outside the systems 102 . 104 be arranged. The photomask 120 has a structure which, by means of the projection system 104 reduced to a wafer 124 or the like is mapped.

Das Projektionssystem 104 weist mehrere Linsen 128 und/oder Spiegel 130 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Linsen 128 und/oder Spiegel 130 des Projektionssystems 104 symmetrisch zur optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Linsen und Spiegel der DUV-Lithographieanlage 100B nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Linsen und/oder Spiegel vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt. The projection system 104 has several lenses 128 and / or mirrors 130 for imaging the photomask 120 on the wafer 124 on. This can be individual lenses 128 and / or mirrors 130 of the projection system 104 symmetrical to the optical axis 126 of the projection system 104 be arranged. It should be noted that the number of lenses and mirrors of the DUV lithography system 100B is not limited to the number shown. There may also be more or fewer lenses and / or mirrors. Furthermore, the mirrors are usually curved at their front for beam shaping.

Ein Spalt zwischen der letzten Linse 128 und dem Wafer 124 kann durch ein flüssiges Medium 132 ersetzt sein, welches einen Brechungsindex > 1 aufweist. Das flüssige Medium kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein solcher Aufbau wird auch als Immersionslithographie bezeichnet und weist eine erhöhte photolithographische Auflösung auf. A gap between the last lens 128 and the wafer 124 can be through a liquid medium 132 be replaced, which has a refractive index> 1. The liquid medium may be, for example, high purity water. Such a structure is also referred to as immersion lithography and has an increased photolithographic resolution.

Eine optische Anordnung 200 wird nachfolgend als Teil eines Projektionssystems 104 einer EUV-Lithographieanlage beschrieben. Prinzipiell kann die optische Anordnung aber in allen Bereichen einer Lithographieanlage 100A, 100B zum Einsatz kommen in denen die Strahlen eines Strahlengangs 202 nicht parallel verlaufen. Insbesondere sind Bereiche geeignet, in denen der Strahlengang 202 eine konische Form aufweist. An optical arrangement 200 subsequently becomes part of a projection system 104 an EUV lithography system described. In principle, however, the optical arrangement can be used in all areas of a lithography system 100A . 100B are used in which the rays of a beam path 202 not parallel. In particular, areas are suitable in which the beam path 202 has a conical shape.

2 zeigt eine schematische Ansicht einer optischen Anordnung 200. Die optische Anordnung 200 weist einen Strahlengang 202, eine Blendenanordnung 204 und eine Positioniereinrichtung 206 auf. 2 shows a schematic view of an optical arrangement 200 , The optical arrangement 200 has a beam path 202 , an aperture arrangement 204 and a positioning device 206 on.

Der Strahlengang 202 aus Projektionslicht 208 bildet lithographische Strukturen 210 aus einer Objektebene 212, in welcher die Photomaske 120 angeordnet ist, auf eine Bildebene 214, in welcher der Wafer 124 angeordnet ist, ab. 2 zeigt, wie ein Objektpunkt 216 auf einen Bildpunkt 218 abgebildet wird. Der Verlauf des Strahlengangs 202 wird symbolisch mittels einer Linse 220 vereinfacht dargestellt. Weiter umfasst der Strahlengang 202 eine optische Achse 222. The beam path 202 from projection light 208 forms lithographic structures 210 from an object plane 212 in which the photomask 120 is arranged on an image plane 214 in which the wafer 124 is arranged, from. 2 shows how an object point 216 on a pixel 218 is shown. The course of the beam path 202 becomes symbolic by means of a lens 220 shown in simplified form. Furthermore, the beam path comprises 202 an optical axis 222 ,

Die optische Achse 222 verläuft in der Richtung des Strahlengangs 202. Bei einem konischen Strahlengang 202 kann die Richtung des Strahlengangs 202 in der Mitte der konischen Strahlung verlaufen. The optical axis 222 runs in the direction of the beam path 202 , With a conical beam path 202 can change the direction of the beam path 202 run in the middle of the conical radiation.

Die Blendenanordnung 204 weist mindestens eine lichtbeschränkende Kante 224 auf. Die lichtbeschränkende Kante 224 begrenzt den Strahlengang 202. Wie in der 2 zu sehen ist, werden erste Strahlen 226 des Strahlengangs 202 des Projektionslichts 208 geblockt während zweite Strahlen 228 des Strahlengangs 202 des Projektionslichts 208 an der lichtbeschränkenden Kante 224 vorbeiführen. Dabei sind die zweiten Strahlen 228 die äußersten Strahlen des Strahlengangs 202 die nicht geblockt werden. The aperture arrangement 204 has at least one light-limiting edge 224 on. The light-limiting edge 224 limits the beam path 202 , Like in the 2 you can see the first rays 226 of the beam path 202 of the projection light 208 blocked during second rays 228 of the beam path 202 of the projection light 208 at the light-limiting edge 224 lead past. Here are the second rays 228 the outermost rays of the beam path 202 which will not be blocked.

Die zweiten Strahlen 228 und die optische Achse 222 bilden einen Winkel α. Über den Winkel a lässt sich die numerische Apertur NA berechnen. Dabei gilt: NA = n·sinα. Dabei ist n der Brechungsindex des Mediums zwischen Objektiv, bzw. in 2 der Linse 220, und dem Wafer 124. Die numerische Apertur beschreibt das Vermögen der optischen Anordnung 200 Projektionslicht 208 zu fokussieren und ist somit eine die Auflösung begrenzende physikalische Größe. Die optische Anordnung 200 kann im Vakuum angeordnet sein. Der Wafer 124 wird meist außerhalb des Vakuums angeordnet. Daher befindet sich zwischen der Linse 220 (bzw. dem Objektiv) und dem Wafer 124 Luft mit einem Brechungsindex von nahezu 1. The second rays 228 and the optical axis 222 form an angle α. The angle a can be used to calculate the numerical aperture NA. Where: NA = n · sinα. Here, n is the refractive index of the medium between the lens, or in 2 the lens 220 , and the wafer 124 , The numerical aperture describes the capacity of the optical arrangement 200 projection light 208 to focus and thus is a resolution limiting physical quantity. The optical arrangement 200 can be arranged in a vacuum. The wafer 124 is usually placed outside the vacuum. Therefore, it is located between the lens 220 (or the lens) and the wafer 124 Air with a refractive index of nearly 1.

Die Positioniereinrichtung 206 ist eingerichtet, die lichtbeschränkende Kante 224 entlang der optischen Achse 222 zu bewegen. In 2 entspricht die Bewegung entlang der optischen Achse 222 einer linearen Bewegung in Z-Richtung. The positioning device 206 is set up, the light-limiting edge 224 along the optical axis 222 to move. In 2 corresponds to the movement along the optical axis 222 a linear movement in the Z direction.

In der optischen Anordnung 200 kann es Bereiche geben, in denen das Projektionslicht 208 (genauer das Strahlenbündel des Strahlengangs 202) parallel, konvergent (auf ein Zentrum zu) oder divergent (von einem Zentrum weg) verläuft. Aufgrund des in der 2 gezeigten konvergenten Strahlengangs 202 in dem Bereich der Blendenanordnung 204, führt eine Bewegung der lichtbeschränkende Kante 224 entlang der optischen Achse 222 zu einer Änderung des Winkels α und damit zu einer Änderung der numerischen Apertur der Blendenanordnung 204. In the optical arrangement 200 There may be areas where the projection light 208 (more precisely, the beam of the beam path 202 ) parallel, convergent (toward a center) or divergent (away from a center). Because of in the 2 shown convergent beam path 202 in the area of the aperture arrangement 204 , performs a movement of the light-limiting edge 224 along the optical axis 222 to a change in the angle α and thus to a change in the numerical aperture of the diaphragm arrangement 204 ,

Die Positioniereinrichtung 206 kann über eine mechanische Verbindung 230 mit der Blendenanordnung 204 gekoppelt sein. Alternativ kann die Blendenanordnung 204 mittels der Positioniereinrichtung 206 auch magnetisch bewegt werden. Die Positioniereinrichtung 206 kann zumindest einen Lorentz-Aktor oder zumindest einen Piezo-Aktor aufweisen. Der Lorentz-Aktor weist eine oder mehrere Spulen auf, um auf die Blendenanordnung eine Lorentz-Kraft auszuüben. The positioning device 206 can be via a mechanical connection 230 with the aperture arrangement 204 be coupled. Alternatively, the aperture arrangement 204 by means of the positioning device 206 also be moved magnetically. The positioning device 206 may comprise at least one Lorentz actuator or at least one piezo actuator. The Lorentz actuator has one or more coils to apply a Lorentz force to the diaphragm assembly.

Der Strahlengang 202 kann sich innerhalb der optischen Anordnung 200 verschieben. Eine solche Verschiebung könnte sich bei einer Änderung der Beleuchtungseinstellungen im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 ergeben. Bei einer Verschiebung des Strahlengangs 202 verläuft der Strahlengang 202 räumlich versetzt in der optischen Anordnung 200. Deshalb kann die Positioniereinrichtung 206 eingerichtet sein, eine Verschiebung des Strahlengangs 202 innerhalb der optischen Anordnung 200 ausgleichen. Dementsprechend kann dann die Blendenanordnung 204 in allen Raumrichtungen entsprechend positioniert werden. The beam path 202 can be within the optical arrangement 200 move. Such a shift could occur if the illumination settings in the beamforming and illumination system change 102 result. With a shift of the beam path 202 the beam path runs 202 spatially offset in the optical arrangement 200 , Therefore, the positioning 206 be set up, a shift of the beam path 202 within the optical arrangement 200 compensate. Accordingly, then the aperture arrangement 204 be positioned accordingly in all spatial directions.

3 zeigt eine schematische Ansicht einer weiteren optischen Anordnung 200. Die optische Anordnung 200 weist ferner ein optisches Element 300 auf. Dabei umfasst das optische Element 300 eine Oberfläche 302 mit einer Flächennormalen 304, welche von der Position auf der Oberfläche 302 abhängt. Die optische Achse 222 und die Flächennormale 304 können parallel sein. In diesem Fall entspricht eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante 224 entlang der optischen Achse 222 einer Bewegung entlang der Flächennormalen 304. 3 shows a schematic view of another optical arrangement 200 , The optical arrangement 200 further comprises an optical element 300 on. In this case, the optical element comprises 300 a surface 302 with a surface normal 304 which from the position on the surface 302 depends. The optical axis 222 and the surface normals 304 can be parallel. In this case, a movement corresponds to the light-restricting edge 224 along the optical axis 222 a movement along the surface normals 304 ,

Alternativ kann eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante 224 in einer anderen Richtung als parallel zur Flächennormalen 304 an einer bestimmten Position auf der Oberfläche 302 günstiger sein. Dabei ist diejenige Richtung günstig, welche einen möglichst geringen Verfahrweg der Blendenanordnung 204 zum Ändern der numerischen Apertur erlaubt. Ein möglichst geringer Verfahrweg lässt sich in einem Bereich des Strahlengangs 202 realisieren, welcher stark divergent oder stark konvergent ist, weil dann bereits eine geringe Bewegung eines Blendenelements 314 zu einer starken Begrenzung des Strahlengangs 202 führt. Alternatively, a movement of the light-limiting edge 224 in a different direction than parallel to the surface normal 304 at a certain position on the surface 302 be cheaper. In this case, the direction is favorable, which is the smallest possible travel of the aperture arrangement 204 allowed to change the numerical aperture. The smallest possible travel can be in one area of the beam path 202 realize which is highly divergent or highly convergent, because then already a slight movement of a diaphragm element 314 to a strong limitation of the beam path 202 leads.

Die optische Anordnung 200 kann ferner ein weiteres optisches Element 306 aufweisen. Das weitere optische Element 306 ist bezogen auf den Strahlengang 202 hinter dem ersten optischen Element 300 angeordnet. Die Blendenanordnung 204 ist zwischen dem optischen Element 300 und dem weiteren optischen Element 306 angeordnet. Wie in 3 dargestellt, kann das optische Element 300 der vorletzte Spiegel 308 und das weitere optische Element 306 der letzte Spiegel 310 eines Projektionssystems 104 sein. Dabei bezieht sich die Angabe vorletzter und letzter auf die Anordnung der Spiegel 308, 310 im Strahlengang 202 vor dem Wafer 124. The optical arrangement 200 may also be another optical element 306 exhibit. The further optical element 306 is related to the beam path 202 behind the first optical element 300 arranged. The aperture arrangement 204 is between the optical element 300 and the other optical element 306 arranged. As in 3 shown, the optical element 300 the penultimate mirror 308 and the other optical element 306 the last mirror 310 a projection system 104 be. In this case, the information penultimate and last refers to the arrangement of the mirror 308 . 310 in the beam path 202 in front of the wafer 124 ,

Wie in 3 dargestellt, kann der Strahlengang 202 eine konische Form 312 aufweisen. Dadurch bewirkt eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante 224 entlang der optischen Achse 222 bzw. entlang der Flächennormalen 304 eine Änderung der numerischen Apertur. As in 3 shown, the beam path 202 a conical shape 312 exhibit. This causes a movement of the light-limiting edge 224 along the optical axis 222 or along the surface normals 304 a change of the numerical aperture.

Die Blendenanordnung 204 kann mehrere Blendenelemente 314 aufweisen. Insbesondere kann die Blendenanordnung 204 zwei, drei, vier, fünf oder sechs Blendenelemente 314 aufweisen. Jedes Blendenelement 314 kann jeweils eine lichtbeschränkende Kante 224 umfassen. The aperture arrangement 204 can have multiple aperture elements 314 exhibit. In particular, the diaphragm arrangement 204 two, three, four, five or six aperture elements 314 exhibit. Each panel element 314 can each have a light-limiting edge 224 include.

Die Blendenelemente 314 können einzeln entlang der optischen Achse 222 bzw. entlang der Flächennormalen 304 bewegt werden. Daher können die Blendenelemente 314 relativ zueinander entlang der der optischen Achse 222 bzw. entlang der Flächennormalen 304 beweglich sein. Es können aber auch mehrere Blendenelemente zusammen bewegt werden. The aperture elements 314 can be single along the optical axis 222 or along the surface normals 304 to be moved. Therefore, the aperture elements 314 relative to each other along the optical axis 222 or along the surface normals 304 be mobile. But it can also be moved together several aperture elements.

Weiter kann mindestens ein Blendenelement 314 fest mit der Lithographieanlage 100A verbunden sein, beispielsweise mit dem Tragrahmen der Lithographieanlage 100A. Demnach ändert das mindestens eine Blendenelement 314 seine relative Position gegenüber der Lithographieanlage 100A nicht. Next, at least one aperture element 314 firmly with the lithography plant 100A be connected, for example, with the support frame of the lithographic system 100A , Accordingly, the changes at least one aperture element 314 its relative position to the lithography system 100A Not.

Die Blendenelemente 314 können gleichförmig (in Amplitude und Richtung) bewegt werden. In einer weiteren Alternative kann eine nicht gleichförmige Bewegung (in Amplitude und Richtung) für die Blendenelemente 314 notwendig sein. The aperture elements 314 can be moved uniformly (in amplitude and direction). In another alternative, non-uniform motion (in amplitude and direction) may be for the aperture elements 314 to be necessary.

Beispielsweise für anamorphotische Abbildungssysteme sind Blendenanordnungen 204 geeignet, welche keine durchgehende geometrische Form aufweisen. Blendenanordnungen 204 bei denen die lichtbeschränkenden Kanten 224 nicht zusammen hängen, werden auch „Split-Stop“-Blendenanordnungen 204 genannt. For anamorphic imaging systems, for example, aperture arrangements are used 204 suitable, which do not have a continuous geometric shape. diaphragm arrangements 204 where the light-limiting edges 224 do not hang together, also become "split-stop" blending arrangements 204 called.

Zusätzlich können die Blendenelemente 314 auch lateral, d.h. in einer Richtung senkrecht zur optischen Achse verschoben werden. In addition, the aperture elements 314 also laterally, that is shifted in a direction perpendicular to the optical axis.

4A zeigt eine schematische Ansicht der in der 3 dargestellten Blendenanordnung 204 aus der Richtung der optischen Achse 222. Demnach ist die Richtung der optischen Achse 222 senkrecht zur Zeichenebene XY. Wie in 4A gezeigt, begrenzen vier Blendenelemente 314 den Strahlengang 202. Dabei sind die Blendenelemente 314 in der Richtung senkrecht zur Zeichenebene XY versetzt zueinander (siehe 3). Alternativ sind die Blendenelemente 314 in der Richtung senkrecht zur Zeichenebene XY nicht versetzt zueinander. 4A shows a schematic view of the in the 3 illustrated aperture arrangement 204 from the direction of the optical axis 222 , Accordingly, the direction of the optical axis 222 perpendicular to the XY plane. As in 4A shown, limit four aperture elements 314 the beam path 202 , Here are the aperture elements 314 offset in the direction perpendicular to the plane XY to each other (see 3 ). Alternatively, the aperture elements 314 in the direction perpendicular to the plane XY not offset from each other.

Die lichtbeschränkenden Kanten 224 der Blendenelemente 314 bilden eine Blendenöffnung 400. Prinzipiell sind zwei Blendenelemente 314 mit jeweils einer lichtbeschränkenden Kante 224 ausreichend, um eine Blendenöffnung 400 für eine Blendenanordnung 204 zu definieren. The light-limiting edges 224 the aperture elements 314 form an aperture 400 , In principle, two aperture elements 314 each with a light-limiting edge 224 sufficient to make an aperture 400 for a panel arrangement 204 define.

Die Blendenöffnung 400 kann eine Form 402, eine Größe 404 und eine Fläche 406 aufweisen. Dabei ist die Form 402 die geometrische Form der Blendenöffnung 400 aus der Richtung der optischen Achse 222 betrachtet. In 4A besitzt die Blendenöffnung 400 eine kreisförmige Form 402. Die Größe 404 kann bei kreisförmigen Blendenöffnungen 400 über den Abstand vom Mittelpunkt der Blendenöffnung 400 bis zu einer lichtbeschränkenden Kante 224 bestimmt werden. Bei Blendenöffnungen 400, welche von der kreisförmigen Form abweichen, ist die Berechnung der Größe 404 nur über mehrere verschiedene Abstände vom Mittelpunkt bis zu einer lichtbeschränkenden Kante 224 berechenbar. Weiter ist die Fläche 406 der Blendenöffnung 400 die Fläche 406, welche die lichtbeschränkenden Kanten 224 in Bewegungsrichtung entlang der optischen Achse 222 begrenzen. Dabei kann die Blendenöffnung in der Form 402, der Größe 404 und/oder der Fläche 406 konstant bleiben. The aperture 400 can a shape 402 , a size 404 and a surface 406 exhibit. Here is the shape 402 the geometric shape of the aperture 400 from the direction of the optical axis 222 considered. In 4A owns the aperture 400 a circular shape 402 , The size 404 Can with circular apertures 400 about the distance from the center of the aperture 400 up to a light-limiting edge 224 be determined. At apertures 400 which deviate from the circular shape is the calculation of the size 404 only over several different distances from the center to a light-limiting edge 224 predictable. Next is the area 406 the aperture 400 the area 406 , which are the light-limiting edges 224 in the direction of movement along the optical axis 222 limit. In this case, the aperture in the form 402 , the size 404 and / or the area 406 stay constant.

Der Strahlengang 202 verläuft in den dargestellten Beispielen innerhalb der Blendenöffnung 400. Genauer verläuft der Teil der Strahlung des Strahlengangs 202 innerhalb der Blendenöffnung 400, welcher nicht durch die lichtbeschränkenden Kanten 224 der Blendenelemente 314 abgeschattet wird. The beam path 202 runs in the illustrated examples within the aperture 400 , More precisely, the part of the radiation of the beam path runs 202 inside the aperture 400 which is not affected by the light-limiting edges 224 the aperture elements 314 is shadowed.

4B zeigt eine schematische Ansicht einer alternativen Blendenanordnung 204 zu der in der 4A dargestellten Blendenanordnung 204. Wie in 4B dargestellt, können die Ausdehnungen des Strahlengangs in X- und Y-Richtung unterschiedlich sein. Die Form 402 der Öffnung 400 der Blendenanordnung 204 kann in einem solchen Fall beispielsweise oval sein. Weiter kann die Form 402 der Öffnung 400 auch beliebig anders geformt sein. 4B shows a schematic view of an alternative aperture arrangement 204 to the one in the 4A illustrated aperture arrangement 204 , As in 4B shown, the dimensions of the beam path in the X and Y directions may be different. Form 402 the opening 400 the aperture arrangement 204 may for example be oval in such a case. Next, the shape 402 the opening 400 also be shaped differently.

5A zeigt eine schematische Ansicht einer alternativen Blendenanordnung 204 zu der in der 4A dargestellten Blendenanordnung 204. Im Gegensatz zu der in der 4A dargestellten Blendenanordnung 204 sind in der Blendenanordnung 204, welche in der 5A dargestellt ist, die lichtbeschränkenden Kanten 224 der Blendenöffnung 400 in der XY-Ebene nichtzusammenhängend angeordnet. In der Richtung der optischen Achse 222 sind die lichtbeschränkenden Kanten 224 versetzt oder nicht versetzt. 5A shows a schematic view of an alternative aperture arrangement 204 to the one in the 4A illustrated aperture arrangement 204 , Unlike in the 4A shown diaphragm arrangement 204 are in the aperture arrangement 204 which in the 5A is shown, the light-limiting edges 224 the aperture 400 disjointed in the XY plane. In the direction of the optical axis 222 are the light-limiting edges 224 offset or not offset.

Die lichtbeschränkenden Kanten 224 blockieren einen Teil des Projektionslichts 208. Das Projektionslicht 208 liegt in einem Wellenlängenbereich von 0,1 nm bis 250 nm. Vorteilhafterweise sind die lichtbeschränkenden Kanten 224 daher gegenüber dem Projektionslicht 208 widerstandsfähig, d.h. die Kanten werden durch das Projektionslicht 208 nicht beschädigt. The light-limiting edges 224 block part of the projection light 208 , The projection light 208 lies in a wavelength range of 0.1 nm to 250 nm. Advantageously, the light-limiting edges 224 therefore against the projection light 208 resistant, ie the edges are reflected by the projection light 208 not damaged.

5B zeigt eine schematische Ansicht einer alternativen Blendenanordnung 204 zu der in der 5A dargestellten Blendenanordnung 204. Wie in 5B dargestellt, können die Ausdehnungen des Strahlengangs in X- und Y-Richtung unterschiedlich sein. Die Anordnung und Geometrie der Blendenelemente 314 können in einem solchen Fall angepasst sein. 5B shows a schematic view of an alternative aperture arrangement 204 to the one in the 5A illustrated aperture arrangement 204 , As in 5B shown, the dimensions of the beam path in the X and Y directions may be different. The arrangement and geometry of the aperture elements 314 can be adjusted in such a case.

6 zeigt eine schematische Schnittansicht der Blendenanordnung 204 aus 3 aus einer Richtung senkrecht zur optischen Achse 222. Die Positioniereinrichtung 206 kann ein erstes Positionierelement 600 und ein zweites Positionierelement 602 aufweisen. Dabei können die Positionierelemente 600, 602 über mechanische Verbindungen 230 mit den Blendenelementen 314 verbunden sein. Auf diese Weise kann jedes Blendenelement 314 separat bewegt werden. Dabei sind Positionierelemente 600, 602 Einrichtungen, welche die Blendenelemente 314 in bis zu sechs Freiheitsgraden positionieren können. 6 shows a schematic sectional view of the diaphragm assembly 204 out 3 from a direction perpendicular to the optical axis 222 , The positioning device 206 can be a first positioning element 600 and a second positioning element 602 exhibit. In this case, the positioning elements 600 . 602 via mechanical connections 230 with the aperture elements 314 be connected. In this way, each aperture element 314 be moved separately. There are positioning elements 600 . 602 Facilities which the aperture elements 314 can position in up to six degrees of freedom.

Mindestens eines der Blendenelemente 314 kann ausschließlich entlang der optischen Achse 222 bewegbar sein, um die Komplexität der optischen Anordnung 200 zu reduzieren. Weiter kann zumindest eine lichtbeschränkende Kante 224 ausschließlich linear in einer Richtung, d.h. ohne Richtungsänderung, bewegbar sein. At least one of the aperture elements 314 can only be along the optical axis 222 be movable to the complexity of the optical arrangement 200 to reduce. Next, at least one light-limiting edge 224 be linear only in one direction, ie without change of direction, to be movable.

Werden die Blendenelemente 314 nur in Richtung der optischen Achse 222 bewegt, dann ändert sich ihr Abstand in Richtung senkrecht zur optischen Achse 222 nicht. Dabei bedeutet in Richtung der optischen Achse 222, das die Blendenelemente 314 parallel zur optischen Achse 222 bewegt werden. Damit begrenzen die Blendenelemente 314 in der Richtung entlang der optischen Achse 222 eine konstante Fläche 406. Be the aperture elements 314 only in the direction of the optical axis 222 moved, then their distance changes in the direction perpendicular to the optical axis 222 Not. This means in the direction of the optical axis 222 that the aperture elements 314 parallel to the optical axis 222 to be moved. This limits the aperture elements 314 in the direction along the optical axis 222 a constant area 406 ,

Die optische Anordnung 200 kann mindestens einen Sensor 604 zum Messen der Position zumindest eines Blendenelements 314 und zum Bestimmen des Verlaufs des Strahlengangs 202 aufweisen. Weiter kann die optische Anordnung 200 eine Steuereinrichtung 606 zum Anpassen einer Position des zumindest einen Blendenelements 314 in Abhängigkeit von dem bestimmten Verlauf des Strahlengangs 202 umfassen. Dabei ist die Steuereinrichtung 606 mit dem Sensor 604 und mit der Positioniereinrichtung 206 verbunden. The optical arrangement 200 can have at least one sensor 604 for measuring the position of at least one diaphragm element 314 and for determining the course of the beam path 202 exhibit. Next, the optical arrangement 200 a control device 606 for adjusting a position of the at least one aperture element 314 depending on the specific course of the beam path 202 include. In this case, the control device 606 with the sensor 604 and with the positioning device 206 connected.

7 zeigt eine schematische Schnittansicht der Blendenanordnung aus 6 mit einem verschobenen Blendenelement 314. Dabei ist das Blendenelement 314 entlang der optischen Achse 222, also in Z-Richtung, verschoben. Wie in der 7 zu erkennen ist, wird der Strahlengang 202 dadurch weiter begrenzt. Dies führt zu einer Änderung der numerischen Apertur der Blendenanordnung 204. 7 shows a schematic sectional view of the diaphragm assembly 6 with a shifted aperture element 314 , Here is the aperture element 314 along the optical axis 222 , ie in the Z-direction, shifted. Like in the 7 can be seen, the beam path 202 further limited. This leads to a change in the numerical aperture of the diaphragm arrangement 204 ,

8 zeigt eine schematische Ansicht einer weiteren optischen Anordnung 200. Im Gegensatz zu der in der 3 dargestellten optischen Anordnung 200 ist bei der in der 8 dargestellten optischen Anordnung 200 die Blendenanordnung 204 an einer anderen Stelle im Strahlengang 202 angeordnet. 8th shows a schematic view of another optical arrangement 200 , Unlike in the 3 illustrated optical arrangement 200 is at the in the 8th illustrated optical arrangement 200 the aperture arrangement 204 at another point in the beam path 202 arranged.

Der Wafer 124 ist bezogen auf den Strahlengang 202 hinter dem weiteren optischen Element 306 angeordnet. Die Blendenanordnung 204 ist zwischen dem weiteren optischen Element 306 und dem Wafer 124 angeordnet. Insbesondere kann die Blendenanordnung 204 in allen Bereichen angeordnet werden in denen der Strahlengang 202 divergent oder konvergent verläuft. The wafer 124 is related to the beam path 202 behind the other optical element 306 arranged. The aperture arrangement 204 is between the other optical element 306 and the wafer 124 arranged. In particular, the diaphragm arrangement 204 be arranged in all areas where the beam path 202 divergent or convergent runs.

Die Blendenanordnung 204 kann ferner zum Abschatten von Streulicht eingerichtet sein, um eine nicht gewünschte Belastung von Elementen der Lithographieanlage 100A zu vermeiden. The aperture arrangement 204 may also be configured to mask stray light to avoid unwanted loading of elements of the lithography system 100A to avoid.

Weiter wird ein Verfahren zum Ändern einer numerischen Apertur einer Blendenanordnung 204 einer optischen Anordnung 200 für eine Lithographieanlage 100A, 100B beschrieben. Dabei wird mindestens eine lichtbeschränkende Kante 224 einer Blendenanordnung 204 verschoben. Wie beispielsweise anhand von 3 beschrieben, wird die lichtbeschränkende Kante 224 entlang einer optischen Achse 222 eines Strahlengangs 202 für Projektionslicht (208) bewegt. Wie beispielsweise in den 2 und 3 beschrieben, handelt es sich um einen Strahlengang 202 mit nicht parallelen Strahlen. Insbesondere verläuft der Strahlengang konisch. Daher führt eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante 224 entlang der optischen Achse 222 zu einer Änderung der numerischen Apertur. Further, a method of changing a numerical aperture of a diaphragm assembly 204 an optical arrangement 200 for a lithography system 100A . 100B described. This is at least one light-limiting edge 224 an aperture arrangement 204 postponed. For example, based on 3 described, the light-limiting edge 224 along an optical axis 222 a beam path 202 for projection light ( 208 ) emotional. Such as in the 2 and 3 described, it is a beam path 202 with non-parallel rays. In particular, the beam path is conical. Therefore, a movement of the light-restricting edge 224 along the optical axis 222 to a change in the numerical aperture.

Obwohl die Erfindung vorliegend anhand bevorzugter Ausführungsbeispiele beschrieben wurde, ist sie darauf keineswegs beschränkt, sondern vielfältig modifizierbar. Beispielsweise könnte die Positioniereinrichtung 206 die mindestens eine lichtbeschränkende Kante 224 linear in eine Richtung bewegen, so dass zumindest eine Komponente der Richtung entlang der optischen Achse 222 verläuft. Sofern von „beweglich“ oder „bewegbar“ gesprochen wird, impliziert dies auch eine Durchführung der jeweiligen Bewegung bei einem entsprechenden Verfahren zum Betreiben der jeweiligen Anordnung. Although the invention has been described herein with reference to preferred embodiments, it is by no means limited thereto, but variously modifiable. For example, the positioning could 206 the at least one light-limiting edge 224 moving linearly in one direction so that at least one component of the direction along the optical axis 222 runs. If spoken of "movable" or "movable", this also implies a performance of the respective movement in a corresponding method for operating the respective arrangement.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

100A 100A: EUV-Lithographieanlage EUV lithography system
100B 100B: DUV-Lithographieanlage DUV lithography system
102 102: Strahlformungs- und Beleuchtungssystem Beam shaping and lighting system
104 104: Projektionssystem projection system
106A 106A: EUV-Lichtquelle EUV-light source
106B 106B: DUV-Lichtquelle DUV light source
108A 108A: EUV-Strahlung EUV radiation
108B 108B: DUV-Strahlung DUV radiation
110–118 110-118: Spiegel mirror
120 120: Photomaske photomask
122 122: Spiegel mirror
124 124: Wafer wafer
126 126: optische Achse optical axis
128 128: Linse lens
130 130: Spiegel mirror
132 132: Immersionsflüssigkeit Immersion liquid
200 200: optische Anordnung optical arrangement
202 202: Strahlengang beam path
204 204: Blendenanordnung diaphragm arrangement
206 206: Positioniereinrichtung positioning
208 208: Projektionslicht projection light
210 210: lithographische Strukturen lithographic structures
212 212: Objektebene object level
214 214: Bildebene image plane
216 216: Objektpunkt object point
218 218: Bildpunkt pixel
220 220: Linse lens
222 222: optische Achse optical axis
224 224: lichtbeschränkende Kante light-limiting edge
226 226: erste Strahlen first rays
228 228: zweite Strahlen second rays
230 230: mechanische Verbindung mechanical connection
300 300: optisches Element optical element
302 302: Oberfläche surface
304 304: Flächennormale surface normal
306 306: weiteres optisches Element another optical element
308 308: vorletzte Spiegel penultimate mirror
310 310: letzter Spiegel last mirror
312 312: konische Form conical shape
314 314: Blendenelement diaphragm element
400 400: Blendenöffnung aperture
402 402: Form shape
404 404: Größe size
406 406: Fläche area
600 600: erstes Positionierelement first positioning element
602 602: zweites Positionierelement second positioning element
604 604: Sensor sensor
606 606: Steuereinrichtung control device
M1–M6 M1-M6: Spiegel mirror
α α: Winkel angle
X, Y, Z X, Y, Z: Richtung direction

Claims

Optical arrangement ( 200 ) for a lithography plant ( 100A . 100B ), comprising: a beam path ( 202 ) for projection light ( 208 ) for imaging lithographic structures ( 210 ), wherein the beam path ( 202 ) an optical axis ( 222 ); a diaphragm arrangement ( 204 ) with at least one light-restricting edge ( 224 ) for limiting the beam path ( 202 ); and a positioning device ( 206 ), which is arranged, the at least one light-limiting edge ( 224 ) along the optical axis ( 222 ) for changing a numerical aperture of the diaphragm arrangement ( 204 ) to move.

An optical arrangement according to claim 1, further comprising an optical element ( 300 ), whereby the movement along the optical axis ( 222 ) a movement along a surface normal ( 304 ) of a surface ( 302 ) of the optical element ( 300 ).

Optical arrangement according to claim 1 or 2, wherein the diaphragm arrangement ( 204 ) multiple aperture elements ( 314 ), in particular three diaphragm elements ( 314 ), each with a light-limiting edge ( 224 ) having.

An optical arrangement according to claim 3, wherein the diaphragm elements ( 314 ) separated from each other and relative to each other along the optical axis ( 222 ) are movable.

Optical arrangement according to claim 3 or 4, wherein at least one aperture element ( 314 ) is fixedly connected.

Optical arrangement according to one of claims 3 to 5, wherein at least one aperture element ( 314 ) exclusively along the optical axis ( 222 ) for changing the numerical aperture of the diaphragm arrangement ( 204 ) is movable, and wherein the at least one light-restricting edge ( 224 ) is linearly movable in one direction only.

Optical arrangement according to one of claims 3 to 6, wherein at least two diaphragm elements ( 314 ) are movable, and the at least two movable diaphragm elements ( 314 ) in a direction of movement along the optical axis ( 222 ) a constant area ( 406 ) limit.

Optical arrangement according to one of claims 1 to 7, wherein the beam path ( 202 ) a conical shape ( 312 ) having.

Optical arrangement according to one of claims 1 to 8, wherein the at least one light-limiting edge ( 224 ) resistant to the projection light ( 208 ) in the wavelength range of 0.1 nm to 250 nm.

Optical arrangement according to one of claims 1 to 9, wherein the diaphragm arrangement ( 204 ) an aperture ( 400 ), which by at least two light-limiting edges ( 224 ) is formed.

An optical arrangement according to claim 10, wherein at least two light-restricting edges ( 224 ) of the aperture ( 400 ) are arranged discontinuously.

An optical arrangement according to claim 10, wherein the aperture ( 400 ) in shape ( 402 ), Size ( 404 ) and / or area ( 406 ) is constant.

Optical arrangement according to one of claims 10 to 12, wherein the beam path ( 202 ) within the aperture ( 400 ) runs.

Lithography plant ( 100A . 100B ) with an optical arrangement ( 200 ) according to one of claims 1 to 13.

Method for changing a numerical aperture of a diaphragm arrangement ( 204 ) of an optical arrangement ( 200 ) for a lithography plant ( 100A . 100B ), wherein at least one light-limiting edge ( 224 ) of a diaphragm arrangement ( 204 ) along an optical axis ( 222 ) of a beam path ( 202 ) for projection light ( 208 ) is moved to change the numerical aperture.