DE102016206986B4 - Method and device for determining a roundness form measurement deviation and ring gauge - Google Patents

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Abstract

Verfahren zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung eines Koordinatenmessgeräts (6), wobei eine Messfläche eines Lehrrings (1) mit dem Koordinatenmessgerät (6) vermessen wird, wobei die Messfläche des Lehrrings (1) mit einer Oberflächenmesseinrichtung (8) vermessen wird, wobei ein Messergebnis der Vermessung durch das Koordinatenmessgerät (6) in Abhängigkeit eines Messergebnis der Vermessung durch die Oberflächenmesseinrichtung (8) korrigiert wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts (6) in Abhängigkeit des korrigierten Messergebnis bestimmt wird, wobei in Abhängigkeit des Messergebnisses der Vermessung durch die Oberflächenmesseinrichtung (8) korrigierte Messpunkte bestimmt werden, wobei für alle oder ausgewählte korrigierte Messpunkte Abweichungswerte bestimmt werden, wobei ein Abweichungswert einen radialen Abstand eines Messpunkts von einem Minimumkreis bezeichnet, wobei die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts (6) als Spannweite der Abweichungswerte bestimmt wird oder wobei für alle oder ausgewählte unkorrigierte Messpunkte Abweichungswerte bestimmt werden, wobei ein Abweichungswert einen radialen Abstand eines Messpunkts von einem Minimumkreis bezeichnet, wobei diese Abweichungswerte in Abhängigkeit des Messergebnisses der Vermessung durch die Oberflächenmesseinrichtung (8) korrigiert werden, wobei die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts (6) als Spannweite der korrigierten Abweichungswerte bestimmt werden.Method for determining a roundness form measurement deviation of a coordinate measuring machine (6), a measuring surface of a ring gauge (1) being measured with the coordinate measuring machine (6), the measuring surface of the ring gauge (1) being measured with a surface measuring device (8), with a measurement result of the measurement by the coordinate measuring machine (6) is corrected as a function of a measurement result of the measurement by the surface measuring device (8), characterized in that the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine (6) is determined as a function of the corrected measurement result, the measurement result being the Measurement points corrected by the surface measuring device (8) can be determined, deviation values being determined for all or selected corrected measuring points, a deviation value denoting a radial distance of a measuring point from a minimum circle, the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring device äts (6) is determined as the range of the deviation values or wherein deviation values are determined for all or selected uncorrected measuring points, wherein a deviation value denotes a radial distance of a measuring point from a minimum circle, these deviation values depending on the measurement result of the measurement by the surface measuring device (8) be corrected, the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine (6) being determined as the range of the corrected deviation values.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung eines Koordinatenmessgeräts sowie einen Lehrring zur Bestimmung dieser Rundheit-Formmessabweichung.The invention relates to a method and a device for determining a roundness form measurement deviation of a coordinate measuring machine and a ring gauge for determining this roundness form measurement deviation.

Die Anforderungen an eine Genauigkeit von sogenannten 3-Achsen- sowie 4-Achsen-Koordinatenmessgeräten nehmen zu. Dies bedeutet u.a., dass eine sehr geringe höchst zulässige Formmessabweichung für Rundheit (Rundheit-Formmessabweichung, MPERONt) gewünscht wird.The demands on the accuracy of so-called 3-axis and 4-axis coordinate measuring machines are increasing. This means, among other things, that a very low maximum permissible form measurement deviation for roundness (roundness form measurement deviation , MPE RONt ) is desired.

Die WO 2013/ 068 044 A1 betrifft ein Verfahren zur Vorbereitung des Betriebes eines taktil antastenden Koordinatenmessgeräts, ein Verfahren zur Kalibrierung eines Tasters eines Koordinatenmessgeräts mit einer Kalibrierkugel und ein Verfahren zur Messwertkorrektur bei einem KMG. In dem Verfahren wird die Oberfläche der von einer Idealform einer Kugel abweichenden Kalibrierkugel mit einem Oberflächenmessgerät vermessen und Koordinaten mehrerer realer Oberflächenpunkte der Kalibrierkugel in einem Koordinatensystem der Kalibrierkugel bestimmt. Weiter wird ein Referenzmerkmal der Kalibrierkugel zu einem Koordinatensystem der Kalibrierkugel in Bezug gesetzt. Weiter wird die Kalibrierkugel in dem Messbereich des taktil antastenden Koordinatenmessgeräts angeordnet. Weiter wird das Koordinatensystem der Kalibrierkugel zu einem Koordinatensystem des Koordinatenmessgeräts in Bezug gesetzt, sodass Informationen über Positionen der realen Oberflächenpunkte der Kalibrierkugel in dem Koordinatensystem des Koordinatenmessgeräts vorhanden oder bestimmbar sind.
Diese Rundheit-Formmessabweichungen werden in der Regel an einem sogenannten Lehrring nachgewiesen. Lehrringe weisen jedoch herstellungsbedingte Ungenauigkeiten auf, die sich negativ auf die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts auswirken. Mit anderen Worten resultiert ein Anteil der Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts aus Ungenauigkeiten des Lehrrings. Somit kann die Rundheitsabweichung eines KMG, die mit einem Lehrring nachgewiesen wird, nicht besser sein als die Rundheitsabweichung des Lehrrings selbst.
The WO 2013/068 044 A1 relates to a method for preparing the operation of a tactile probing coordinate measuring machine, a method for calibrating a probe of a coordinate measuring machine with a calibration ball and a method for correcting measured values in a CMM. In the method, the surface of the calibration sphere, which deviates from an ideal shape of a sphere, is measured with a surface measuring device and coordinates of several real surface points of the calibration sphere are determined in a coordinate system of the calibration sphere. In addition, a reference feature of the calibration sphere is related to a coordinate system of the calibration sphere. The calibration ball is also arranged in the measuring area of the tactile coordinate measuring machine. Furthermore, the coordinate system of the calibration sphere is related to a coordinate system of the coordinate measuring machine, so that information about positions of the real surface points of the calibration sphere is available or can be determined in the coordinate system of the coordinate measuring machine.
These roundness form measurement deviations are usually verified on a so-called ring gauge. However, ring gauges have manufacturing-related inaccuracies that have a negative effect on the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine. In other words, a portion of the form measurement deviation of the coordinate measuring machine results from inaccuracies in the ring gauge. Thus, the roundness deviation of a CMM that is verified with a ring gauge cannot be better than the roundness deviation of the ring gauge itself.

Wird z.B. eine Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts mit einem Wert von 97 nm nachgewiesen und weist der Lehrring, z.B. laut Kalibrierschein, selbst eine Rundheitsabweichung 70 nm auf, so kann im ungünstigsten Fall davon ausgegangen werden, dass ca. 72 % der Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts durch die Ungenauigkeit des Lehrrings bedingt ist.If e.g. a roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine with a value of 97 nm is detected and the ring gauge, e.g. According to the calibration certificate, even a roundness deviation of 70 nm can be assumed in the worst case that approx. 72% of the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine is due to the inaccuracy of the ring gauge.

Die DE 195 39 148 A1 beschreibt ein Verfahren zur Koordinatenmessung an Werkstücken mit einem KMG (Koordinatenmessgerät) bei dem die ermittelten Messwerte mit gespeicherten Korrekturwerten verrechnet werden.The DE 195 39 148 A1 describes a method for coordinate measurement on workpieces with a CMM (coordinate measuring machine) in which the measured values are offset against stored correction values.

Die DE 603 00 331 T2 offenbart eine Koordinatenmessvorrichtung zum Prüfen der Abmessungen von Werkstücken.The DE 603 00 331 T2 discloses a coordinate measuring device for checking the dimensions of workpieces.

Die DE 10 2008 040 921 A1 offenbart einen Referenzkörper zur Überprüfung von optischen oder taktilen Messsonden.The DE 10 2008 040 921 A1 discloses a reference body for checking optical or tactile measuring probes.

Bisher wurde jedoch davon ausgegangen, dass Lehrringe derart hochgenau gefertigt sind, dass diese keine Fehler bei der Bestimmung der Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts bedingen.So far, however, it has been assumed that ring gauges are manufactured with such high precision that they do not cause any errors in the determination of the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine.

Es stellt sich somit das technische Problem, ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung eines Koordinatenmessgeräts sowie einen Lehrring für diese Bestimmung zu schaffen, die eine genauere Bestimmung der Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts ermöglichen.The technical problem thus arises of creating a method and a device for determining a roundness form measurement deviation of a coordinate measuring machine, as well as a ring gauge for this determination, which enable a more precise determination of the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine.

Die Lösung des technischen Problems ergibt sich durch die Gegenstände mit den Merkmalen der Ansprüche 1, 10 und 11. Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.The solution to the technical problem results from the objects with the features of claims 1, 10 and 11. Further advantageous embodiments of the invention emerge from the subclaims.

Vorgeschlagen wird ein Verfahren zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung eines Koordinatenmessgeräts. Diese Rundheit-Formmessabweichung (MPERONt) ist hierbei in der DIN EN ISO 12181-1:2011-07 sowie in der Richtlinie VDI/VDE 2617, Blatt 2.2, Stand Juli 2000 definiert. In dieser Norm sind ebenfalls Kenngrößen zur Rundheitsmessung definiert.A method is proposed for determining a roundness form measurement deviation of a coordinate measuring machine. This roundness form measurement deviation (MPE RONt ) is here in the DIN EN ISO 12181-1: 2011-07 as well as in the guideline VDI / VDE 2617, sheet 2.2, status July 2000. This standard also defines parameters for roundness measurement.

Das Koordinatenmessgerät kann insbesondere ein taktil antastendes Koordinatenmessgerät (KMG) sein. Das KMG kann insbesondere ein 3-Achsen-KMG oder ein 4-Achsen-KMG sein. Bei einem 3-Achsen-KMG kann ein Messkopfsystem und/oder ein Tastersystem entlang von drei Raumrichtungen, insbesondere senkrecht zueinander orientierten Raumrichtungen, bewegt werden. Hierzu kann das KMG drei rechtwinklig zueinander orientierte Linearführungen (Achsen) und pro Linearführung ein Längenmeßsystem und einen motorischen Antrieb. Weiter kann das KMG einen 3D-Scannning-Meßkopf aufweisen. Bei einem 4-Achsen-KMG kann das KMG zusätzlich einen Drehtisch umfassen, auf dem ein zu vermessendes Werkstück angeordnet werden kann. Der Drehtisch kann hierbei um eine Drehachse verdreht werden.The coordinate measuring machine can in particular be a tactile probe coordinate measuring machine (CMM). The CMM can in particular be a 3-axis CMM or a 4-axis CMM. In a 3-axis CMM, a measuring head system and / or a probe system can be moved along three spatial directions, in particular spatial directions oriented perpendicular to one another. For this purpose, the KMG can have three linear guides (axes) oriented at right angles to each other and a length measuring system and a motor drive for each linear guide. The CMM can also have a 3D scanning measuring head. In the case of a 4-axis CMM, the CMM can also include a turntable on which a workpiece to be measured can be arranged. The turntable can be rotated about an axis of rotation.

Es ist doch selbstverständlich auch möglich, dass das KMG ein optisch antastendes KMG ist. In diesem Fall kann das KMG ein optisches Messkopfsystem umfassen und ein berührungsloses Vermessen eines Messobjekts durchführen.It is of course also possible that the CMM is an optically probing CMM. In this case, the CMM can include an optical measuring head system and carry out a contactless measurement of a measurement object.

Derartige KMG sind aus dem Stand der Technik bekannt.Such CMMs are known from the prior art.

In dem Verfahren wird eine Messfläche eines Lehrrings mit dem KMG vermessen. Das Vermessen kann zur Bestimmung einer unkorrigierten Rundheit-Formmessabweichung des KMG dienen.In the process, a measuring surface of a ring gauge is measured with the CMM. The measurement can be used to determine an uncorrected roundness form measurement deviation of the CMM.

Der Lehrring kann insbesondere hohlzylinderförmig ausgebildet sein, wobei zumindest ein Teil der inneren Mantelfläche des Lehrrings die Messfläche ausbildet. Der Lehrring kann auch als Einstellring bezeichnet werden. Weiter kann der Lehrring eine äußere Mantelfläche und Stirnflächen aufweisen oder ausbilden. Es ist auch möglich, dass zumindest ein Teil der äußeren Mantelfläche des Lehrrings die Messfläche ausbildet. In diesem Fall muss der Lehrring nicht zwingend hohlzylinderförmig ausgebildet sein. Insbesondere kann der Lehrring in diesem Fall auch als sogenannter Lehrdorn ausgebildet sein. Somit umfasst der Begriff Lehrring im Sinne dieser Offenbarung auch einen Lehrdorn.The ring gauge can in particular be designed in the shape of a hollow cylinder, at least part of the inner circumferential surface of the ring gauge forming the measuring surface. The ring gauge can also be referred to as a setting ring. Furthermore, the ring gauge can have or form an outer jacket surface and end faces. It is also possible that at least part of the outer circumferential surface of the ring gauge forms the measuring surface. In this case, the ring gauge does not necessarily have to be designed as a hollow cylinder. In particular, the ring gauge can also be designed as a so-called plug gauge in this case. Thus, the term ring gauge in the sense of this disclosure also includes a mandrel.

Beim Vermessen kann z.B. ein Messkopf oder ein Tastelement des KMG, insbesondere eine Tastkugel oder ein optisches Sensor, des Koordinatenmessgerätes entlang der Messfläche, insbesondere entlang mindestens einer Scanning-Linie (Sollbahn), bewegt werden, wobei Messpunkte (KMG-Messpunkte) bestimmt werden. Die Scanning-Linie kann hierbei eine Linie auf der Messfläche bezeichnen, entlang derer Messpunkte erzeugt werden.When measuring, e.g. a measuring head or a probe element of the CMM, in particular a probe ball or an optical sensor, of the coordinate measuring machine can be moved along the measuring surface, in particular along at least one scanning line (target path), with measuring points (CMM measuring points) being determined. The scanning line can denote a line on the measuring surface along which measuring points are generated.

Dies kann auch als Messvorgang bezeichnet werden. Die Messpunkte können insbesondere Antastpunkte oder optisch erfasste Messpunkte sein. Insbesondere können Koordinaten von Messpunkten bestimmt werden, weiter insbesondere in einem Koordinatensystem des Koordinatenmessgeräts. Dies wird nachfolgend noch näher erläutert.This can also be referred to as a measurement process. The measuring points can in particular be touch points or optically recorded measuring points. In particular, coordinates of measuring points can be determined, further in particular in a coordinate system of the coordinate measuring device. This is explained in more detail below.

Die Scanning-Linie kann insbesondere eine geschlossene, insbesondere eine kreisförmige oder im Wesentlichen kreisförmige, Linie sein. Auch kann eine Scanning-Linie sich überlappende Abschnitte aufweisen. Ein überlappender Abschnitt kann bestimmt bzw. identifziert und dann bei einer nachfolgenden Auswertung nicht berücksichtigt werden. Die Scanning-Linie kann aber auch eine nicht geschlossene Linie sein, z.B. eine teilkreisförmige oder im Wesentlichen teilkreisförmige Linie.The scanning line can in particular be a closed, in particular a circular or essentially circular line. A scanning line can also have overlapping sections. An overlapping section can be determined or identified and then not taken into account in a subsequent evaluation. The scanning line can also be a non-closed line, e.g. a part-circular or substantially part-circular line.

Messpunkte in An- und Abfahrwegen zur Scanning-Linie können ebenfalls bestimmt bzw. identifziert und dann bei einer nachfolgenden Auswertung nicht berücksichtigt werden. Weiter kann die Scanning-Linie auf einer vorbestimmten Messhöhe relativ zum Lehrring liegen, Beispielsweise kann die Messhöhe als Abstand von einer Referenzebene bestimmt wird, wobei eine Stirnfläche des Lehrrings in dieser Referenzebene angeordnet ist. Der Abstand kann hierbei entlang einer Normalen zu dieser Referenzebene bestimmt werden. Selbstverständlich ist es auch möglich, mehrere Messpunktmengen durch Vermessen der Messfläche in verschiedenen Messhöhen zu bestimmen. Beispielsweise können Messpunktemengen in verschiedenen Messhöhen mit einem vorbestimmten Höhenabstand voneinander, beispielsweise einem Höhenabstand von 1 mm, bestimmt werden. Die Koordinaten der Messpunkte können hierbei in einem Koordinatensystem des Koordinatenmessgeräts bestimmt werden.Measurement points in the approach and departure paths to the scanning line can also be determined or identified and then not taken into account in a subsequent evaluation. Furthermore, the scanning line can lie at a predetermined measuring height relative to the ring gauge. For example, the measuring height can be determined as a distance from a reference plane, with an end face of the ring gauge being arranged in this reference plane. The distance can be determined along a normal to this reference plane. Of course, it is also possible to determine several sets of measuring points by measuring the measuring area at different measuring heights. For example, sets of measuring points can be determined at different measuring heights with a predetermined height distance from one another, for example a height distance of 1 mm. The coordinates of the measuring points can be determined in a coordinate system of the coordinate measuring machine.

Weiter wird die Messfläche des Lehrrings mit einer Oberflächenmesseinrichtung (OME) vermessen. Das Vermessen kann zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung des Lehrrings dienen.The measuring surface of the ring gauge is also measured with a surface measuring device (OME). The measurement can be used to determine a roundness form measurement deviation of the ring gauge.

Eine Oberflächenmesseinrichtung kann insbesondere auch als Formtester bezeichnet werden. Die Oberflächenmesseinrichtung ist hierbei von dem KMG verschieden. Eine Oberflächenmesseinrichtung kann z.B. ein Interferometer, beispielsweise eine Fizeau-Phaseninterferometer, umfassen. Vorzugsweise ist die Oberflächenmesseinrichtung eine taktil antastende Oberflächenmesseinrichtung. Eine solche Oberflächenmesseinrichtung kann ein in drei Raumrichtungen bewegbares Messkopfsystem oder Tastersystem umfassen. Gegebenenfalls kann eine solche Oberflächenmesseinrichtung auch einen drehbaren Drehtisch umfassen. Es ist jedoch möglich, dass eine aktorgestützte Bewegung nur entlang zwei von drei Raumrichtungen und eine Verdrehung des Drehtischs möglich ist. Eine beispielhafte Oberflächenmesseinrichtung kann z.B. der Formtester RONDCOM 65 der Carl Zeiss Industriellen Messtechnik GmbH sein.A surface measuring device can in particular also be referred to as a shape tester. The surface measuring device is different from the CMM. A surface measuring device can e.g. an interferometer such as a Fizeau phase interferometer. The surface measuring device is preferably a tactile surface measuring device. Such a surface measuring device can comprise a measuring head system or probe system that can be moved in three spatial directions. If necessary, such a surface measuring device can also comprise a rotatable turntable. However, it is possible that an actuator-supported movement is only possible along two of three spatial directions and a rotation of the turntable is possible. An exemplary surface measuring device can e.g. the form tester RONDCOM 65 from Carl Zeiss Industrielle Messtechnik GmbH.

Beim Vermessen kann z.B. ein Messkopf oder ein Tastelement der OME entlang der Messfläche, insbesondere entlang mindestens einer Scanning-Linie (Sollbahn) auf der Messfläche, bewegt werden, wobei Messpunkte (OME-Messpunkte) bestimmt werden. Die Messpunkte können insbesondere Antastpunkte sein. Insbesondere können Koordinaten von Messpunkten bestimmt werden, weiter insbesondere in einem Koordinatensystem der OME. Die Scanning-Linie kann insbesondere eine geschlossene Linie sein. Weiter kann die Scanning-Linie auf einer vorbestimmten Messhöhe relativ zum Lehrring liegen.When measuring, e.g. a measuring head or a probe element of the OME can be moved along the measuring surface, in particular along at least one scanning line (target path) on the measuring surface, with measuring points (OME measuring points) being determined. The measuring points can in particular be contact points. In particular, coordinates of measurement points can be determined, further in particular in a coordinate system of the OMR. The scanning line can in particular be a closed line. Furthermore, the scanning line can lie at a predetermined measuring height relative to the ring gauge.

Selbstverständlich ist es auch möglich, mehrere Messpunktmengen durch Vermessen der Messfläche in verschiedenen Messhöhen zu bestimmen. Beispielsweise können Messpunktemengen in verschiedenen Messhöhen mit einem vorbestimmten Höhenabstand voneinander, beispielsweise einem Höhenabstand von 1 mm, bestimmt werden. Die Koordinaten der Messpunkte können hierbei in einem Koordinatensystem der OME bestimmt werden.Of course, it is also possible to determine several sets of measuring points by measuring the measuring area at different measuring heights. For example, sets of measuring points can be determined at different measuring heights with a predetermined height distance from one another, for example a height distance of 1 mm. The coordinates of the measuring points can be determined in a coordinate system of the OMR.

Koordinaten von KMG-Messpunkten und OME-Messpunkten können in einem kartesischen Koordinatensystem erfasst werden, z.B. eine x-Koordinate (Koordinate entlang einer Längsachse), eine y-Koordinate (Koordinate entlang einer Querachse) und eine z-Koordinate (Koordinate entlang einer Vertikalachse).Coordinates of CMM measuring points and OMR measuring points can be recorded in a Cartesian coordinate system, e.g. an x coordinate (coordinate along a longitudinal axis), a y coordinate (coordinate along a transverse axis) and a z coordinate (coordinate along a vertical axis).

Insbesondere für eine bestimmte Messhöhe können Koordinate auch in ein Polarkoordinatensystem transformiert werden.In particular for a certain measurement height, coordinates can also be transformed into a polar coordinate system.

Die Scanning-Linie zum Vermessen mit dem Koordinatenmessgerät und die Scanning-Linie zum Vermessen mit der Oberflächenmesseinrichtung können voneinander verschieden sein. Insbesondere können diese auf verschiedenen Messhöhen liegen. Vorzugsweise liegen die Scanning-Linien jedoch auf gleicher Höhe oder ist ein Höhenabstand zwischen den Scanning-Linien kleiner als ein festgelegter Abstand. Vorzugsweise beträgt der Abstand weniger als 0.5 mm. Dies ist jedoch nicht zwingend. Je geringer der Abstand, desto genauer die Bestimmung der korrigierten Rundheit-Formmessabweichung. Jedoch kann auch bei größeren Abständen eine ausreichende Genauigkeit der korrigierten Rundheit-Formmessabweichung gegeben sein.The scanning line for measuring with the coordinate measuring machine and the scanning line for measuring with the surface measuring device can be different from one another. In particular, these can be at different measuring heights. However, the scanning lines are preferably at the same level or a height distance between the scanning lines is smaller than a specified distance. The distance is preferably less than 0.5 mm. However, this is not mandatory. The smaller the distance, the more precise the determination of the corrected roundness form measurement deviation. However, sufficient accuracy of the corrected roundness form measurement deviation can be given even with larger distances.

Weiter können für alle oder ausgewählte Messpunkte der OME OME-Abweichungswerte bestimmt werden. Ein OME-Abweichungswert bezeichnet hierbei einen radialen Abstand eines Messpunkts von einer Referenzlinie, insbesondere einem Referenzkreis, weiter insbesondere von einem Minimumkreis. Die Referenzlinie kann für eine Menge von Messpunkten, die entlang einer Scanning-Linie bestimmt wurden, durch Verfahren bestimmt werden, die dem Fachmann bekannt sind. So kann z.B. ein Minimumkreis für die Messpunkte der Menge bestimmt werden, wobei dieser Minimumkreis z.B. durch die dem Fachmann bekannte Tschebyscheff-Methode bestimmt wird.Furthermore, OMR deviation values can be determined for all or selected measuring points. An OMR deviation value here denotes a radial distance of a measuring point from a reference line, in particular a reference circle, further in particular from a minimum circle. The reference line can be determined for a set of measurement points that were determined along a scanning line by methods known to those skilled in the art. E.g. a minimum circle can be determined for the measuring points of the quantity, this minimum circle e.g. is determined by the Chebyshev method known to the person skilled in the art.

Hierbei kann von der Annahme ausgegangen werden, dass die durch Vermessen mit der Oberflächenmesseinrichtung bestimmte Rundheit-Formmessabweichung hauptsächlich oder ausschließlich aus der Rundheit-Formmessabweichung der Messfläche des Lehrrings resultiert, wobei Anteile dieser Rundheit-Formmessabweichung z.B. durch Ungenauigkeiten der Oberflächenmesseinrichtung minimal oder nicht vorhanden sind.It can be assumed here that the roundness form measurement deviation determined by measurement with the surface measuring device results mainly or exclusively from the roundness form measurement deviation of the measuring surface of the ring gauge, with parts of this roundness form measurement deviation e.g. are minimal or absent due to inaccuracies in the surface measuring device.

Somit kann durch die Oberflächenmesseinrichtung die tatsächliche Rundheit-Formmessabweichung des Lehrrings bestimmt werden.The actual roundness form measurement deviation of the ring gauge can thus be determined by the surface measuring device.

Weiter wird ein Messergebnis einer Vermessung durch das KMG (KMG-Messergebnis) in Abhängigkeit eines Messergebnisses der Vermessung durch die OME (OME-Messergebnis) korrigiert. Somit kann das OME-Messergebnis auch als Korrekturergebnis bezeichnet werden.Furthermore, a measurement result of a measurement by the KMG (KMG measurement result) is corrected as a function of a measurement result of the measurement by the OME (OME measurement result). The OMR measurement result can therefore also be referred to as a correction result.

Ein KMG-Messergebnis können alle oder ausgewählte Messpunkte oder KMG-Abweichungswerte entlang der Scanning-Linie sein. Ein OME-Messergebnis können alle oder ausgewählte OME-Abweichungswerte für Messpunkte entlang einer Scanning-Linie der OME sein. Dies wird nachfolgend noch näher erläutert.A CMM measurement result can be all or selected measurement points or CMM deviation values along the scanning line. An OMR measurement result can be all or selected OMR deviation values for measurement points along a scanning line of the OMR. This is explained in more detail below.

Insbesondere ist es möglich, dass das KMG-Messergebnis in Abhängigkeit des OME-Messergebnis zu verändern, beispielsweise durch Additions- oder Subtraktionsoperationen.In particular, it is possible to change the CMM measurement result as a function of the OMR measurement result, for example through addition or subtraction operations.

Die Korrektur der des KMG-Messergebnisses in Abhängigkeit des OME-Messergebnisses kann beispielsweise mittels einer festgelegten Rechenvorschrift erfolgen.The correction of the CMM measurement result as a function of the OME measurement result can be carried out, for example, by means of a fixed calculation rule.

Weiter wird die Rundheit-Formmessabweichung des KMG in Abhängigkeit des korrigierten Messergebnisses bestimmt.Furthermore, the roundness form measurement deviation of the CMM is determined depending on the corrected measurement result.

Weiter werden in Abhängigkeit des OME-Messergebnisses korrigierte Messpunkte, mit anderen Worten korrigierte Koordinaten der Messpunkte, bestimmt. Weiter werden für alle oder ausgewählte korrigierte Messpunkte Abweichungswerte bestimmt. Entsprechend den vorhergehenden Erläuterungen kann ein Abweichungswert einen radialen Abstand eines Messpunkts von einer Referenzlinie, insbesondere einem Referenzkreis, weiter insbesondere von einem Minimumkreis, vorzugsweise einem Tschebyscheff-Minimumkreis, bezeichnen. Die Rundheit-Formmessabweichung des KMG wird dann als Spannweite der Abweichungswerte bestimmt, z.B. als Differenz zwischen einem maximalen und einem minimalen Abweichungswert.Corrected measuring points, in other words corrected coordinates of the measuring points, are also determined as a function of the OMR measurement result. Furthermore, deviation values are determined for all or selected corrected measuring points. According to the explanations above, a deviation value can designate a radial distance of a measuring point from a reference line, in particular a reference circle, further in particular from a minimum circle, preferably a Chebyshev minimum circle. The roundness form measurement deviation of the CMM is then determined as the range of deviation values, e.g. as the difference between a maximum and a minimum deviation value.

Alternativ werden für alle oder ausgewählte unkorrigierte(n) Messpunkte Abweichungswerte (KMG-Abweichungswerte) entsprechend den vorhergehenden Erläuterungen bestimmt. Diese KMG-Abweichungswerte werden dann in Abhängigkeit des OME-Messergebnisses korrigiert. Die Rundheit-Formmessabweichung des KMG wird dann als Spannweite der korrigierten KMG-Abweichungswerte bestimmt.Alternatively, deviation values (CMM deviation values) are determined for all or selected uncorrected measurement points in accordance with the explanations given above. These CMM deviation values are then corrected depending on the OMR measurement result. The roundness form measurement deviation of the CMM is then recorded as Range of corrected CMM deviation values determined.

Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine genauere Bestimmung der Rundheit-Formmessabweichung des KMG.This advantageously results in a more precise determination of the roundness form measurement deviation of the CMM.

Dies wiederum ermöglicht, für ein KMG eine unkorrigierte Rundheit-Formmessabweichung und eine wie vorgeschlagen korrigierte Rundheit-Formmessabweichung anzugeben und beispielsweise in einem Formplot darzustellen. Dies ermöglicht in vorteilhafter Weise eine bessere Einschätzung, welcher Anteil der Rundheit-Formmessabweichung von den Ungenauigkeiten des KMG und welcher Anteil von den Ungenauigkeiten des Lehrrings stammt.This in turn makes it possible to specify an uncorrected roundness form measurement deviation and a corrected roundness form measurement deviation as proposed for a CMM and to represent them, for example, in a form plot. This advantageously enables a better assessment of what proportion of the roundness form measurement deviation comes from the inaccuracies of the CMM and what proportion comes from the inaccuracies of the ring gauge.

Es ist möglich, jedem Lehrring das OME-Messergebnisse (Korrekturergebnis) zuzuordnen. Dies kann beispielsweise erfolgen, indem die OME-Messergebnisse auf einer, insbesondere portablen oder zentralen, Speichereinrichtung gespeichert werden, wobei die gespeicherten OME-Messergebnisse einer eindeutigen Kennung des Lehrrings zugeordnet sind. In diesem Fall kann der Lehrring die eindeutige Kennung aufweisen, z.B. in Form eines Barcodes, einer Seriennummer oder eines auslesbaren Chips, der die Kennung bereitstellt. Eine zentrale Speichereinrichtung kann beispielsweise eine Servereinrichtung sein. Somit kann die korrigierte Rundheit-Formmessabweichung für mehrere KMG bestimmt werden. Beispielsweise kann die Messfläche durch verschiedene KMG vermessen, wobei das Messergebnis dann in Abhängigkeit des abgerufenen, lehrringspezifischen OME-Messergebnisses korrigiert wird.It is possible to assign the OMR measurement results (correction result) to each ring gauge. This can be done, for example, in that the OMR measurement results are stored on a particularly portable or central storage device, the stored OMR measurement results being assigned to a unique identifier of the ring gauge. In this case the ring gauge can have the unique identifier, e.g. in the form of a barcode, a serial number or a readable chip that provides the identifier. A central storage device can for example be a server device. This means that the corrected roundness form measurement deviation can be determined for several CMMs. For example, the measuring surface can be measured by different CMMs, the measurement result then being corrected as a function of the ring-gauge-specific OME measurement result called up.

In einer weiteren Ausführungsform werden Messpunkte entlang mindestens einer Scanning-Linie auf der Messfläche bestimmt, insbesondere Koordinaten (Raumkoordinaten) dieser Messpunkte. Dies wurde vorhergehend erläutert. Die Scanning-Soll-Linie kann hierbei kreisförmig sein und in einer vorbestimmten Messhöhe liegen.In a further embodiment, measuring points are determined along at least one scanning line on the measuring surface, in particular coordinates (spatial coordinates) of these measuring points. This was explained earlier. The scanning target line can be circular and lie at a predetermined measurement height.

Weiter werden die Messpunkte, insbesondere die Koordinaten, in Abhängigkeit des Messergebnisses der Vermessung durch die OME korrigiert. Weiter wird die Rundheit-Formmessabweichung des KMG in Abhängigkeit der korrigierten Messpunkte bestimmt. Dies wurde vorhergehend bereits erläutert.The measurement points, in particular the coordinates, are also corrected by the OME as a function of the measurement result of the measurement. Furthermore, the roundness form measurement deviation of the CMM is determined depending on the corrected measurement points. This has already been explained above.

Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine genauere Bestimmung der Rundheit-Formmessabweichung des KMG.This advantageously results in a more precise determination of the roundness form measurement deviation of the CMM.

In einer alternativen Ausführungsform werden mit dem Koordinatenmessgerät Messpunkte entlang mindestens einer Scanning-Linie auf der Messfläche bestimmt, wobei für alle oder ausgewählte Messpunkte jeweils ein punktspezifischer KMG-Abweichungswert bestimmt wird, wobei die KMG-Abweichungswerte in Abhängigkeit des Messergebnis der Vermessung durch die Oberflächenmesseinrichtung korrigiert werden, wobei die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts in Abhängigkeit der korrigierten Abweichungswerte bestimmt wird.In an alternative embodiment, the coordinate measuring device is used to determine measuring points along at least one scanning line on the measuring surface, a point-specific CMM deviation value being determined for all or selected measuring points, the CMM deviation values being corrected as a function of the measurement result of the measurement by the surface measuring device The roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine is determined as a function of the corrected deviation values.

Weiter können jedem punktspezifischen KMG-Abweichungswert die Koordinaten des entsprechenden Messpunktes zugeordnet sein.Furthermore, the coordinates of the corresponding measuring point can be assigned to each point-specific CMM deviation value.

Selbstverständlich ist es zusätzlich möglich, dass für alle oder ausgewählte Messpunkte eine Antastkraft und gegebenenfalls eine Richtung der Antastkraft bestimmt werden.Of course, it is also possible for a contact force and, if necessary, a direction of the contact force to be determined for all or selected measuring points.

Z.B. kann die Rundheit-Formmessabweichung als Spannweite der korrigierten Abweichungswerte bestimmt werden, z.B. als Differenz zwischen einem maximalen und einem minimalen Abweichungswert.E.g. the roundness form measurement deviation can be determined as the range of the corrected deviation values, e.g. as the difference between a maximum and a minimum deviation value.

Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine alternative, aber ebenfalls zuverlässige und genaue Bestimmung von Abweichungswerten, die durch Fehler des KMG sowie die Rundheit-Formmessabweichung des Lehrrings bedingt sind.This advantageously results in an alternative, but also reliable and precise determination of deviation values which are caused by errors in the CMM and the roundness / form measurement deviation of the ring gauge.

In einer weiteren Ausführungsform werden die KMG-Messpunkte oder die KMG-Abweichungswerte gefiltert. Insbesondere kann eine Tiefpassfilterung durchgeführt werden. Vorzugsweise, jedoch nicht zwingendermaßen, kann eine sogenannte Spline-Filterung durchgeführt werden.In a further embodiment, the CMM measurement points or the CMM deviation values are filtered. In particular, low-pass filtering can be carried out. So-called spline filtering can preferably, but not necessarily, be carried out.

Es ist möglich, dass die Koordinaten der Messpunkte gefiltert werden, wobei die gefilterten Messpunkte oder die in Abhängigkeit der gefilterten Messpunkte bestimmten KMG-Abweichungswerte in Abhängigkeit des OME-Messergebnisses korrigiert werden.It is possible for the coordinates of the measurement points to be filtered, with the filtered measurement points or the CMM deviation values determined as a function of the filtered measurement points being corrected as a function of the OMR measurement result.

Die Rundheit-Formmessabweichung des KMG kann dann auf Grundlage dieser gefilterten Messpunkte oder KMG-Abweichungswerte bestimmt werden.The roundness form measurement deviation of the CMM can then be determined on the basis of these filtered measurement points or CMM deviation values.

Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine genauere Bestimmung der Rundheit-Formmessabweichung, wobei die Genauigkeit weniger durch Messrauschen verringert wird.This advantageously results in a more precise determination of the roundness form measurement deviation, the accuracy being reduced less by measurement noise.

In einer weiteren Ausführungsform wird mit der Oberflächenmesseinrichtung für alle oder ausgewählte Punkte mindestens einer Scanning-Linie jeweils ein punktspezifischer OME-Abweichungswert bestimmt. Die Scanning-Linie ist hierbei eine Scanning-Linie der OME.In a further embodiment, a point-specific OMR deviation value is determined with the surface measuring device for all or selected points of at least one scanning line. The scanning line is here a scanning line of the OME.

Dies wurde vorhergehend erläutert. Weiter werden die Messpunkte oder die KMG-Abweichungswerte in Abhängigkeit der OME-Abweichungswerte korrigiert.This was explained earlier. The measuring points or the CMM deviation values are also corrected as a function of the OMR deviation values.

Z.B. kann die Korrektur erfolgen, indem von einem KMG-Messpunkt, insbesondere einer Koordinate, oder einem punktspezifischen KMG-Abweichungswert ein punktspezifischer OME-Abweichungswert oder ein von dem punktspezifischen OME-Abweichungswert abhängiger Wert abgezogen oder hinzuaddiert wird.E.g. The correction can be carried out by subtracting or adding a point-specific OME deviation value or a value that is dependent on the point-specific OME deviation value from a CMM measuring point, in particular a coordinate, or a point-specific CMM deviation value.

Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise, dass der Anteil der unkorrigierten Rundheit-Formmessabweichung des KMG, der durch Fehler des Lehrrings, also durch die Rundheit-Formmessabweichung des Lehrrings, bedingt ist, reduziert oder sogar eliminiert wird.This results in an advantageous manner that the portion of the uncorrected roundness form measurement deviation of the CMM, which is caused by errors in the ring gauge, i.e. due to the roundness form measurement deviation of the ring gauge, is reduced or even eliminated.

In einer weiteren Ausführungsform werden die Messpunkte (OME-Messpunkte) der OME-Abweichungswerte oder die OME-Abweichungswerte gefiltert. Werden die OME-Abweichungswerte für Messpunkten entlang mindestens einer Scanning-Linie der Oberflächenmesseinrichtung bestimmt, so können, entsprechend den Ausführungen zur Filterung der vom KMG erfassten Koordinaten, auch diese Koordinaten der Messpunkte gefiltert werden. Alternativ können die Abweichungswerte gefiltert werden. Vorzugsweise wird auch hier eine Tiefpassfilterung, insbesondere eine Spline-Filterung, durchgeführt.In a further embodiment, the measurement points (OMR measurement points) of the OMR deviation values or the OMR deviation values are filtered. If the OMR deviation values are determined for measuring points along at least one scanning line of the surface measuring device, then these coordinates of the measuring points can also be filtered in accordance with the explanations for filtering the coordinates recorded by the CMM. Alternatively, the deviation values can be filtered. Low-pass filtering, in particular spline filtering, is preferably carried out here as well.

Weiter ist es möglich, mehrere Filterungen durchzuführen, beispielsweise eine erste Tiefpassfilterung mit einer ersten Grenzfrequenz und eine weitere Tiefpassfilterung mit einer weiteren Grenzfrequenz, wobei die weitere Grenzfrequenz höher als die erste Grenzfrequenz ist. Somit können in der ersten Filterung niederfrequente bzw. langperiodische Störungen bzw. Formfehler korrigiert werden.It is also possible to carry out several filterings, for example a first low-pass filtering with a first cut-off frequency and a further low-pass filtering with a further cut-off frequency, the further cut-off frequency being higher than the first cut-off frequency. Thus, in the first filtering, low-frequency or long-period disturbances or form errors can be corrected.

Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine zuverlässige Reduktion von Messrauschen.This advantageously results in a reliable reduction in measurement noise.

In einer weiteren Ausführungsform werden die KMG-Messpunkte oder die KMG-Abweichungswerte und die OME-Abweichungswerte in ein gemeinsames Referenzkoordinatensystem transformiert. Das gemeinsame Referenzkoordinatensystem kann das Koordinatensystem des KMG, das Koordinatensystem der Oberflächenmesseinrichtung oder ein von diesen Koordinatensystemen verschiedenes Koordinatensystem sein. Dass die Abweichungswerte in das gemeinsame Referenzkoordinatensystem transformiert werden, kann bedeuten, dass die Koordinaten der Messpunkte, denen die jeweiligen Abweichungswerte zugeordnet sind, in das gemeinsame Referenzkoordinatensystem transformiert werden.In a further embodiment, the CMM measuring points or the CMM deviation values and the OMR deviation values are transformed into a common reference coordinate system. The common reference coordinate system can be the coordinate system of the CMM, the coordinate system of the surface measuring device or a coordinate system different from these coordinate systems. The fact that the deviation values are transformed into the common reference coordinate system can mean that the coordinates of the measuring points to which the respective deviation values are assigned are transformed into the common reference coordinate system.

Die Transformation der OME-Abweichungswerte in das gemeinsame Referenzkoordinatensystem kann bedeuten, dass die Koordinaten der OME-Messpunkte, denen die OME-Abweichungswerte zugeordnet sind, in das gemeinsame Referenzkoordinatensystem transformiert werden. Somit können auch die OME-Messpunkte in das gemeinsame Referenzkoordinatensystem transformiert und die OME-Abweichungswerte im gemeinsamen Referenzkoordinatensystem bestimmt werden.The transformation of the OMR deviation values into the common reference coordinate system can mean that the coordinates of the OMR measuring points to which the OMR deviation values are assigned are transformed into the common reference coordinate system. In this way, the OMR measurement points can also be transformed into the common reference coordinate system and the OMR deviation values can be determined in the common reference coordinate system.

Zur Transformation kann eine Position und/oder Orientierung des Lehrrings sowohl im Koordinatensystem des KMG als auch im Koordinatensystem der OME bestimmt werden. In Abhängigkeit dieser Positionen und Orientierungen kann dann die Transformation erfolgen. Dann können mittels einer bekannten oder bestimmbaren Transformationsvorschrift die Messpunkte oder die Abweichungswerte in das gemeinsame Koordinatensystem transformiert werden. Die Transformationsvorschrift kann insbesondere derart bestimmt werden, dass Messpunkte, die an der gleichen Stelle des Lehrrings erzeugt wurden, an die gleiche Position im gemeinsamen Koordinatensystem transformiert werden.For the transformation, a position and / or orientation of the ring gauge can be determined both in the coordinate system of the CMM and in the coordinate system of the OMR. The transformation can then take place as a function of these positions and orientations. The measuring points or the deviation values can then be transformed into the common coordinate system by means of a known or determinable transformation rule. The transformation rule can in particular be determined in such a way that measurement points that were generated at the same point on the ring gauge are transformed to the same position in the common coordinate system.

Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine vereinfachte Zuordnung eines OME-Abweichungswertes zu einem KMG-Messpunkt oder einem KMG-Abweichungswert, beispielsweise um den KMG-Messpunkt oder KMG-Abweichungswert mit dem OME-Abweichungswert oder einem davon abhängigen Wert zu korrigieren. Insgesamt wird in vorteilhafter Weise eine genauere Bestimmung von Abweichungswerten ermöglicht.This advantageously results in a simplified assignment of an OMR deviation value to a CMM measurement point or a CMM deviation value, for example in order to correct the CMM measurement point or CMM deviation value with the OMR deviation value or a value dependent on it. Overall, a more precise determination of deviation values is made possible in an advantageous manner.

In einer weiteren Ausführungsform wird der zu einem KMG-Messpunkt oder einem KMG-Abweichungswert korrespondierende OME-Abweichungswert durch Interpolation oder Extrapolation bestimmt. Es ist insbesondere möglich, dass für einen KMG-Messpunkt kein OME-Abweichungswert existiert, der im Referenzkoordinatensystem diesem Messpunkt zugeordnet oder in einem Raumbereich vorbestimmter Größe um diesen Messpunkt herum angeordnet ist. Dies kann insbesondere der Fall sein, wenn sich die Anzahl der Messpunkte, die beim Vermessen durch das KMG erfasst wurden, von der Anzahl der Messpunkte, die beim Vermessen durch die Oberflächenmesseinrichtung erfasst wurden, unterscheidet. Auch kann dies der Fall sein, wenn Messhöhen der Scanning-Linien voneinander verschieden sind.In a further embodiment, the OMR deviation value corresponding to a CMM measuring point or a CMM deviation value is determined by interpolation or extrapolation. In particular, it is possible that there is no OMR deviation value for a CMM measuring point that is assigned to this measuring point in the reference coordinate system or is arranged in a spatial area of a predetermined size around this measuring point. This can be the case in particular if the number of measuring points that were recorded during measurement by the CMM differs from the number of measurement points that were recorded during measurement by the surface measuring device. This can also be the case if the measuring heights of the scanning lines are different from one another.

Eine Inter- / Extrapolation kann insbesondere ein lineare, polynombasierte oder Spline-Interpolation sein.An inter- / extrapolation can in particular be a linear, polynomial-based or spline interpolation.

Eine Inter- / Extrapolation kann hierbei vorzugsweise auf Grundlage von Koordinaten von Messpunkten in einem Polarkoordinatensystem bzw. auf Grundlage von zwei Koordinaten der Messpunkte, insbesondere einer Koordinate entlang der Längsachse und einer Koordinaten entlang der Querachse, durchgeführt werden. Dies kann insbesondere dann erfolgen, wenn davon ausgegangen wird, dass die KMG-Messpunkte und die OME-Messpunkte in/mit der gleichen oder weniger als ein vorbestimmtes Maß voneinander verschiedenen Messhöhe(n) erfasst wurden.Inter- / extrapolation can preferably be based on coordinates of measurement points in a polar coordinate system or on Based on two coordinates of the measurement points, in particular one coordinate along the longitudinal axis and one coordinate along the transverse axis. This can take place in particular if it is assumed that the CMM measuring points and the OME measuring points were recorded in / with the same or less than a predetermined amount of different measuring height (s) from one another.

Es ist jedoch auch möglich, die Inter- / Extrapolation auf Grundlage von drei Koordinaten der Messpunkte durchzuführen. Hierzu können mit dem KMG und/oder der OME Messpunkte für eine Mehrzahl von Scanning-Linien in verschiedenen Messhöhen erzeugt werden. Auf Basis dieser Messpunkte kann dann die Inter- / Extrapolation erfolgen. Dies ermöglicht insbesondere auch die Berücksichtigung von verschiedenen Rundheit-Formmessabweichungen in verschiedenen Messhöhen. Diese verschiedenen Rundheit-Formmessabweichungen können insbesondere durch einen Geradheitsfehler bedingt sein.However, it is also possible to carry out the inter- / extrapolation on the basis of three coordinates of the measuring points. For this purpose, measuring points for a plurality of scanning lines at different measuring heights can be generated with the KMG and / or the OME. The inter- / extrapolation can then take place on the basis of these measuring points. In particular, this also enables the consideration of different roundness form measurement deviations at different measurement heights. These different roundness form measurement deviations can in particular be caused by a straightness error.

Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine genauere Bestimmung der korrigierten Messpunkte oder der korrigierten KMG-Abweichungswerte und somit eine genauere Bestimmung der Rundheit-Formmessabweichung des KMG.This advantageously results in a more precise determination of the corrected measuring points or the corrected CMM deviation values and thus a more precise determination of the roundness form measurement deviation of the CMM.

In einer weiteren Ausführungsform weist der Lehrring mindestens eine Referenzmarke auf, wobei die Lage der Referenzmarke mit dem Koordinatenmessgerät und der Oberflächenmesseinrichtung bestimmt wird. Die Lage wird hierbei im jeweiligen Koordinatensystem bestimmt.In a further embodiment, the ring gauge has at least one reference mark, the position of the reference mark being determined with the coordinate measuring device and the surface measuring device. The position is determined in the respective coordinate system.

Die Lage kann hierbei eine eindeutig bestimmbare Position der Referenzmarke (Referenzposition) und/oder eine eindeutige Orientierung der Referenzmarke (Referenzorientierung) bezeichnen oder umfassen. In Abhängigkeit der Lage der Referenzmarke kann auch eine Lage, also eine Position und/oder Orientierung, des Lehrrings im jeweiligen Koordinatensystem bestimmt werden. Insbesondere zur Bestimmung einer Referenzorientierung kann der Lehrring mehrere Referenzmarken aufweisen, beispielsweise entlang einer Linie, insbesondere entlang einer Radiallinie, angeordnete Referenzmarken. Diese Referenzmarken können zur Bestimmung von verschiedenen Referenzpositionen dienen.The position here can designate or include a clearly determinable position of the reference mark (reference position) and / or an unambiguous orientation of the reference mark (reference orientation). Depending on the position of the reference mark, a position, that is to say a position and / or orientation, of the ring gauge can also be determined in the respective coordinate system. In particular for determining a reference orientation, the ring gauge can have a plurality of reference marks, for example reference marks arranged along a line, in particular along a radial line. These reference marks can be used to determine different reference positions.

Weiter wird die Transformation in das gemeinsame Referenzkoordinatensystem in Abhängigkeit der Lage der Referenzmarke durchgeführt.The transformation into the common reference coordinate system is also carried out as a function of the position of the reference mark.

Beispielsweise kann eine Transformationsvorschrift für die Koordinaten der Punkte im Koordinatensystem des KMG und eine Transformationsvorschrift für die Koordinaten der Punkte im Koordinatensystem der Oberflächenmesseinrichtung derart bestimmt werden, dass die Lage der Referenzmarke bzw. die Lage des Lehrrings im gemeinsamen Referenzkoordinatensystem gleich ist oder sich nur um ein vorbestimmtes geringes Maß unterscheidet.For example, a transformation rule for the coordinates of the points in the coordinate system of the CMM and a transformation rule for the coordinates of the points in the coordinate system of the surface measuring device can be determined in such a way that the position of the reference mark or the position of the ring gauge in the common reference coordinate system is the same or only around one predetermined small amount differs.

Die Referenzmarke kann hierbei insbesondere derart ausgebildet sein, dass in mehreren Messvorgängen jeweils bestimmten Positionen und/oder Orientierungen gleich sind oder nur eine vorbestimmte geringe Abweichung voneinander aufweisen.In this case, the reference mark can in particular be designed in such a way that, in a plurality of measurement processes, respectively certain positions and / or orientations are the same or have only a predetermined slight deviation from one another.

Die Bestimmung der Lage der Referenzmarke kann in einem Scan-Vorgang erfolgen, der von dem Messvorgang zum Erzeugen von Messpunkten bzw. von Abweichungswerten verschieden ist.The position of the reference mark can be determined in a scanning process which is different from the measuring process for generating measuring points or deviation values.

Eine Referenzmarke kann insbesondere eine haptisch, also durch Antasten, erfassbare Referenzmarke sein. Hierbei kann die Lage der Referenzmarke durch ein taktil antastendes Messgerät, insbesondere durch ein Koordinatenmessgerät mit einem taktilen Sensor und durch eine Oberflächenmesseinrichtung, bestimmt werden.A reference mark can in particular be a haptically detectable reference mark, that is to say by touching it. Here, the position of the reference mark can be determined by a tactile measuring device, in particular by a coordinate measuring device with a tactile sensor and by a surface measuring device.

Eine Referenzmarke kann aber auch eine optisch, also durch optisches Erfassen, erfassbare Referenzmarke sein. Hierbei kann die Lage der Referenzmarke durch ein optisches Messgerät, insbesondere ein Koordinatenmessgerät mit einem optischen Sensor, bestimmt werden.However, a reference mark can also be a reference mark that can be detected optically, that is to say by optical detection. Here, the position of the reference mark can be determined by an optical measuring device, in particular a coordinate measuring device with an optical sensor.

Es ist möglich, dass in Abhängigkeit der Lage der Referenzmarke eine Referenzorientierung des Lehrrings bestimmt wird. Eine Referenzposition des Lehrrings kann insbesondere in diesem Fall auch als Position, insbesondere als x-Koordinate und y-Koordinate eines Mittelpunkts eines Referenzkreises bestimmt werden, wobei der Referenzkreis jeweils eine Referenzlinie für Messpunkte des KMG und für Messpunkte der OME, die entlang einer Scanning-Linie entlang der Messfläche erzeugt wurden, ist. Der Referenzkreis kann, wie vorhergehend erläutert, ein Minimumkreis sein.It is possible that a reference orientation of the ring gauge is determined depending on the position of the reference mark. In this case, a reference position of the ring gauge can also be determined as a position, in particular as the x-coordinate and y-coordinate of a center point of a reference circle, the reference circle each having a reference line for measuring points of the CMM and for measuring points of the OMR, which are located along a scanning Line generated along the measuring surface is. As previously explained, the reference circle can be a minimum circle.

Die Referenzorientierung kann insbesondere in Form eines Rotationswinkels um die zentrale Symmetrieachse des Lehrrings gegeben sein.The reference orientation can be given in particular in the form of an angle of rotation about the central axis of symmetry of the ring gauge.

Weiter vorgeschlagen wird ein Lehrring zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung eines Koordinatenmessgeräts. Ein solcher Lehrring wurde vorhergehend bereits erläutert.A ring gauge for determining a roundness form measurement deviation of a coordinate measuring machine is also proposed. Such a ring gauge has already been explained above.

Weiter weist der Lehrring mindestens eine Referenzmarke auf oder bildet diese aus. Weiter ist/sind die Lage, also eine Position und/oder eine Orientierung, der Referenzmarke(n) mit dem Koordinatenmessgerät bestimmbar. Auch kann die Lage der Referenzmarke mit einer gewünschten Oberflächenmesseinrichtung bestimmbar sein. Dies kann bedeuten, dass Koordinaten der Referenzmarke durch das KMG und gegebenenfalls durch die Oberflächenmesseinrichtung wiederholt und eindeutig, insbesondere in dem entsprechenden Koordinatensystem, bestimmt werden können.The ring gauge also has or forms at least one reference mark. Furthermore, the position, that is to say a position and / or an orientation, of the reference mark (s) can be determined with the coordinate measuring machine. The position of the reference mark can also be a desired Surface measuring device can be determined. This can mean that coordinates of the reference mark can be determined repeatedly and unambiguously by the CMM and possibly by the surface measuring device, in particular in the corresponding coordinate system.

Somit kann auch eine Position und/oder Orientierung des Lehrrings eindeutig in dem jeweiligen Koordinatensystem bestimmt werden.Thus, a position and / or orientation of the ring gauge can also be clearly determined in the respective coordinate system.

Die genaue und zuverlässige Bestimmung der Lage der Referenzmarke(n) ermöglicht in vorteilhafter Weise eine zuverlässige Transformation von Messpunkten in ein gemeinsames Referenzkoordinatensystem.The exact and reliable determination of the position of the reference mark (s) advantageously enables a reliable transformation of measuring points into a common reference coordinate system.

Ein derartiger Lehrring ermöglicht in vorteilhafter Weise, wie vorhergehend erläutert, die genauere Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung des KMG.Such a ring gauge advantageously enables, as explained above, the more precise determination of a roundness form measurement deviation of the CMM.

Weiter ist die Referenzmarke als Vertiefung im Bereich einer Stirnfläche des Lehrrings ausgebildet. Die Vertiefung kann insbesondere eine kegelförmige oder teilkegelförmige Vertiefung sein. Auch kann die Vertiefung eine pyramidenförmige oder teilpyramidenförmige Vertiefung sein. Dies ermöglicht in vorteilhafter Weise eine selbstzentrierende Antastung durch einen Taster eines Koordinatenmessgeräts und/oder einer Oberflächenmesseinrichtung und somit eine eindeutige und wiederholbare Bestimmung der Koordinaten der Referenzmarke. Selbstverständlich kann die Referenzmarke jedoch auch als zylinderförmige oder quaderförmige Vertiefung ausgebildet sein.The reference mark is also designed as a recess in the area of an end face of the ring gauge. The depression can in particular be a conical or part-conical depression. The depression can also be a pyramidal or partially pyramidal depression. This advantageously enables self-centering probing by means of a probe of a coordinate measuring machine and / or a surface measuring device and thus a clear and repeatable determination of the coordinates of the reference mark. Of course, the reference mark can also be designed as a cylindrical or cuboid recess.

Mehrere Referenzmarken, die jeweils als Vertiefungen ausgebildet sind, können voneinander verschiedene Radien aufweisen, um insbesondere das Antasten mit Tastkugeln verschiedener Radien zu ermöglichen. Dementsprechend kann auch eine maximale Breite von als Nuten ausgebildeten Referenzmarken voneinander verschieden sein.A plurality of reference marks, which are each designed as depressions, can have radii different from one another, in particular to enable probing with stylus balls of different radii. Accordingly, a maximum width of reference marks formed as grooves can also differ from one another.

Auch können mehrere Referenzmarken entlang einer geraden Linie, insbesondere einer Radiallinie des Lehrrings, angeordnet sein.Several reference marks can also be arranged along a straight line, in particular a radial line of the ring gauge.

Eine Vertiefung kann insbesondere zur Bestimmung eines Referenzpunkts dienen. Eine Linie, die durch mehrere entlang der Linie angeordneten Vertiefungen festgelegt ist, kann insbesondere zur Bestimmung einer Referenzorientierung dienen.A depression can be used in particular to determine a reference point. A line that is defined by a plurality of depressions arranged along the line can be used in particular to determine a reference orientation.

Durch das Anordnen der Referenzmarke im Bereich der Stirnfläche ergibt sich in vorteilhafter Weise, dass die Messfläche des Lehrrings keinen Bereich aufweist, der nicht zur Bestimmung der Rundheit-Formmessabweichung nutzbar ist. Die Messfläche weist keine Referenzmarke auf.By arranging the reference mark in the area of the end face, the result is advantageously that the measuring surface of the ring gauge does not have an area that cannot be used to determine the roundness form measurement deviation. The measuring surface has no reference mark.

Weiter ist die Referenzmarke oder eine weitere Referenzmarke als Nut im Bereich einer Stirnfläche des Lehrrings ausgebildet. Eine Nut kann hierbei insbesondere eine längliche Vertiefung bezeichnen. Die Nut kann insbesondere einen dreieckförmigen oder einen trapezförmigen Querschnitt aufweisen, wobei eine Querschnittsebene senkrecht zu einer zentralen Mittellinie der Nut orientiert ist.Furthermore, the reference mark or a further reference mark is designed as a groove in the area of an end face of the ring gauge. In this context, a groove can in particular denote an elongated depression. The groove can in particular have a triangular or trapezoidal cross section, a cross-sectional plane being oriented perpendicular to a central center line of the groove.

Auch beschrieben wird, dass die Referenzmarke oder eine weitere Referenzmarke als Nut im Bereich der Messfläche des Lehrrings ausgebildet sein kann. Die Nut kann sich hierbei parallel zu einer zentralen Längsachse des Lehrrings erstrecken. Weiter kann die Nut in einem (oberen oder unteren) Randbereich der Messfläche angeordnet sein.It is also described that the reference mark or another reference mark can be designed as a groove in the area of the measuring surface of the ring gauge. The groove can extend parallel to a central longitudinal axis of the ring gauge. Furthermore, the groove can be arranged in an (upper or lower) edge area of the measuring surface.

Es ist selbstverständlich möglich, dass alternativ oder kumulativ eine als Vertiefung ausgebildete Referenzmarke im Bereich der Messfläche angeordnet ist.It is of course possible that, alternatively or cumulatively, a reference mark designed as a recess is arranged in the area of the measuring surface.

Eine Nut, insbesondere die Mittellinie der Nut, kann insbesondere zur Bestimmung einer Referenzorientierung dienen.A groove, in particular the center line of the groove, can in particular serve to determine a reference orientation.

Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine einfache Erfassung der Lage der Referenzmarke, da ein Taster nicht durch eine aufwendige Steuerung in den Bereich der Stirnfläche bewegt werden muss. Auch ist es in vorteilhafter Weise möglich, die Lage der Referenzmarke mit einem Tastelement zu bestimmen, welches auch zur Vermessung genutzt wird, z.B. einem Scheibentaster.This advantageously results in a simple detection of the position of the reference mark, since a button does not have to be moved into the area of the end face by means of a complex control. It is also advantageously possible to determine the position of the reference mark with a feeler element which is also used for measuring, e.g. a disc button.

Weiter vorgeschlagen wird eine Vorrichtung zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung eines Koordinatenmessgeräts. Die Vorrichtung ermöglicht in vorteilhafter Weise die Durchführung eines Verfahrens gemäß einer in dieser Offenbarung beschriebenen Ausführungsform.A device for determining a roundness form measurement deviation of a coordinate measuring machine is also proposed. The device advantageously enables a method to be carried out in accordance with an embodiment described in this disclosure.

Die Vorrichtung umfasst mindestens eine Auswerteeinrichtung. Die Auswerteeinrichtung kann z.B. als Mikrocontroller ausgebildet sein oder einen solchen umfassen. Die Auswerteeinrichtung ist daten- und/oder signaltechnisch mit dem Koordinatenmessgerät und mit einer Oberflächenmesseinrichtung verbindbar. Hierzu kann die Auswerteeinrichtung beispielsweise entsprechende Schnittstellen aufweisen.The device comprises at least one evaluation device. The evaluation device can e.g. be designed as a microcontroller or include one. The evaluation device can be connected to the coordinate measuring device and to a surface measuring device in terms of data and / or signals. For this purpose, the evaluation device can have appropriate interfaces, for example.

Die Auswerteeinrichtung kann Teil des Koordinatenmessgeräts sein. Beispielsweise kann die Auswerteeinrichtung durch eine Steuer- und/oder Auswerteeinrichtung des Koordinatenmessgeräts ausgebildet werden. Alternativ oder kumulativ kann die Auswerteeinrichtung auch Teil der Oberflächenmesseinrichtung sein. Vorzugsweise ist jedoch die Auswerteeinrichtung nicht Teil des Koordinatenmessgeräts und nicht Teil der Oberflächenmesseinrichtung.The evaluation device can be part of the coordinate measuring machine. For example, the evaluation device can be formed by a control and / or evaluation device of the coordinate measuring device. Alternatively or cumulatively the evaluation device can also be part of the surface measuring device. However, the evaluation device is preferably not part of the coordinate measuring device and not part of the surface measuring device.

Mittels der Auswerteeinrichtung ist ein Messergebnis einer Vermessung einer Messfläche eines Lehrrings mit dem Koordinatenmessgerät in Abhängigkeit eines Messergebnisses einer Vermessung der Messfläche des Lehrrings mit der Oberflächenmesseinrichtung korrigierbar und die Rundheit-Formmessabweichung des KMG in Abhängigkeit des korrigierten Messergebnisses bestimmbar.By means of the evaluation device, a measurement result of a measurement of a measuring surface of a ring gauge with the coordinate measuring machine can be corrected as a function of a measurement result of a measurement of the measurement surface of the ring gauge with the surface measuring device and the roundness form measurement deviation of the CMM can be determined as a function of the corrected measurement result.

Weiter können mittels der Auswerteeinrichtung ein Messergebnis einer Vermessung einer Messfläche eines Lehrrings mit dem Koordinatenmessgerät und ein Messergebnis einer Vermessung der Messfläche des Lehrrings mit der Oberflächenmesseinrichtung bestimmbar sein.Furthermore, the evaluation device can be used to determine a measurement result of a measurement of a measuring surface of a ring gauge with the coordinate measuring device and a measurement result of a measurement of the measurement surface of the ring gauge with the surface measurement device.

Dies und entsprechende Vorteile wurden vorhergehend erläutert.This and corresponding advantages have been explained above.

Weiter kann die Auswerteeinrichtung mindestens eine Filtereinrichtung zur Filterung der KMG-Messpunkte, zur Filterung der OME-Messpunkte oder zur Filterung der KMG-Abweichungswerte und/oder zur Filterung der OME-Abweichungswerte umfassen oder ausbilden.Furthermore, the evaluation device can include or form at least one filter device for filtering the CMM measurement points, for filtering the OMR measurement points or for filtering the CMM deviation values and / or for filtering the OMR deviation values.

Weiter kann mittels der Auswerteeinrichtung die Lage mindestens einer Referenzmarke des Lehrrings bestimmbar sein. Weiter kann mittels der Auswerteeinrichtung eine Transformationsvorschrift zur Transformation der Abweichungswerte in ein gemeinsames Referenzkoordinatensystem bestimmbar und eine entsprechende Transformation durchführbar sein.Furthermore, the position of at least one reference mark of the ring gauge can be determined by means of the evaluation device. Furthermore, a transformation rule for transforming the deviation values into a common reference coordinate system can be determined and a corresponding transformation can be carried out by means of the evaluation device.

Weiter beschrieben wird ein System, welches die erläuterte Vorrichtung, das Koordinatenmessgerät und die Oberflächenmesseinrichtung umfasst. Hierbei sind das Koordinatenmessgerät und/oder die Oberflächenmesseinrichtung daten- und/oder signaltechnisch mit der Vorrichtung verbunden. Das System kann hierbei auch einen Lehrring gemäß einer der in dieser Offenbarung beschriebenen Ausführungsformen umfassen.A system is further described which comprises the explained device, the coordinate measuring machine and the surface measuring device. Here, the coordinate measuring device and / or the surface measuring device are connected to the device in terms of data and / or signals. The system can also include a ring gauge in accordance with one of the embodiments described in this disclosure.

Weiter beschrieben wird ein Computerprogrammprodukt, wobei in oder auf dem Computerprogrammprodukt ein Code zur Ausführung eines Verfahrens gemäß einer in dieser Offenbarung beschriebenen Ausführungsform gespeichert ist. Insbesondere kann das Computerprogrammprodukt ein Computerprogramm enthalten, welches Softwaremittel zur Durchführung eines solchen Verfahrens aufweist, wenn das Computerprogramm in einem Automatisierungssystem ausgeführt wird.A computer program product is further described, code for executing a method according to an embodiment described in this disclosure being stored in or on the computer program product. In particular, the computer program product can contain a computer program which has software means for carrying out such a method when the computer program is executed in an automation system.

Die Erfindung wird anhand eines Ausführungsbeispiels näher erläutert. Die Figuren zeigen:

  • 1 eine schematische Draufsicht auf einen Lehrring,
  • 2 einen Querschnitt durch den in 2 dargestellten Lehrring,
  • 3 eine exemplarische Darstellung von Messpunkten eines KMG in einem kartesischen Koordinatensystem,
  • 4 eine exemplarische Darstellung der Messpunkte aus 3 in einem Polarkoordinatensystem,
  • 5 eine exemplarische Darstellung von gefilterten Messpunkten des KMG in einem kartesischen Koordinatensystem,
  • 6 eine schematische Darstellung OME-Abweichungswerten für verschiedene Messhöhen,
  • 7 eine exemplarische Darstellung von OME-Abweichungswerten in einem Polarkoordinatensystem,
  • 8 eine exemplarische Darstellung der in 7 dargestellten Messwerte in einem kartesischen Koordinatensystem,
  • 9 eine exemplarische Darstellung von gefilterten OME-Abweichungswerten in einem Polarkoordinatensystem,
  • 10 eine exemplarische Darstellung der in 9 dargestellten Abweichungswerte in einem Polarkoordinatensystem,
  • 11 eine exemplarische Darstellung von ungefilterten KMG-Abweichungswerten und lagerichtigen OME-Abweichungswerten,
  • 12 eine exemplarische Darstellung von korrigierten und unkorrigierten Abweichungswerten in einem kartesischen Koordinatensystem,
  • 13 eine weitere exemplarische Draufsicht auf einen Lehrring,
  • 14 eine exemplarische Darstellung einer Gradheitsmessung an dem Lehrring,
  • 15 ein schematisches Flussdiagramm eines erfindungsgemäße Verfahrens und
  • 16 ein schematisches Blockschaltbild einer erfindungsgemäßen Vorrichtung.
The invention is explained in more detail using an exemplary embodiment. The figures show:
  • 1 a schematic plan view of a ring gauge,
  • 2 a cross section through the in 2 illustrated ring gauge,
  • 3 an exemplary representation of measuring points of a CMM in a Cartesian coordinate system,
  • 4th an exemplary representation of the measuring points 3 in a polar coordinate system,
  • 5 an exemplary representation of filtered measuring points of the CMM in a Cartesian coordinate system,
  • 6 a schematic representation of OMR deviation values for different measuring heights,
  • 7th an exemplary representation of OMR deviation values in a polar coordinate system,
  • 8th an exemplary representation of the in 7th displayed measured values in a Cartesian coordinate system,
  • 9 an exemplary representation of filtered OMR deviation values in a polar coordinate system,
  • 10 an exemplary representation of the in 9 displayed deviation values in a polar coordinate system,
  • 11 an exemplary representation of unfiltered CMM deviation values and correctly positioned OME deviation values,
  • 12 an exemplary representation of corrected and uncorrected deviation values in a Cartesian coordinate system,
  • 13 another exemplary top view of a ring gauge,
  • 14th an exemplary representation of a straightness measurement on the ring gauge,
  • 15th a schematic flow diagram of a method according to the invention and
  • 16 a schematic block diagram of a device according to the invention.

Nachfolgend bezeichnen gleiche Bezugszeichen Elemente mit gleichen oder ähnlichen technischen Merkmalen.In the following, the same reference symbols designate elements with the same or similar technical features.

In 1 ist schematisch eine Draufsicht auf einen erfindungsgemäßen Lehrring 1 dargestellt. Der Lehrring 1 ist hohlzylinderförmig ausgebildet und weist eine Stirnfläche 2 und eine Messfläche 3 auf, wobei die Messfläche 3 eine innere Mantelfläche des Hohlzylinders ist. Dargestellt sind weiter eine erste Achse x (Längsachse) und eine zweite Achse y (Querachse) eines kartesischen Koordinatensystems, wobei die Richtung der Achsen x, y durch Pfeile dargestellt sind.In 1 is a schematic plan view of a ring gauge according to the invention 1 shown. The ring gauge 1 is designed as a hollow cylinder and has an end face 2 and a measuring surface 3 on, being the measuring surface 3 is an inner jacket surface of the hollow cylinder. A first axis x (longitudinal axis) and a second axis y (transverse axis) of a Cartesian coordinate system are also shown, the direction of the axes x, y being shown by arrows.

Weiter dargestellt ist eine Vertiefung 4, insbesondere eine (teil-)kegelförmige Vertiefung im Bereich der Stirnfläche 2 des Lehrrings 1. Diese Vertiefung 4 bildet eine erste Referenzmarke.Another depression is shown 4th , in particular a (partially) conical recess in the area of the end face 2 of the ring gauge 1 . This depression 4th forms a first reference mark.

Weiter dargestellt ist eine erste Nut 5 im Bereich der Stirnfläche 2. Die Nut 5 kann insbesondere einen (teil-)pyramidenförmigen Querschnitt aufweisen, wobei eine Querschnittsebene orthogonal zu einer Mittellinie der ersten Nut 5 orientiert sein kann. In 1 ist dargestellt, dass sich die erste Nut 5 entlang der oder parallel zur Querachse y erstreckt.A first groove is also shown 5 in the area of the face 2 . The groove 5 can in particular have a (partially) pyramidal cross-section, with a cross-sectional plane orthogonal to a center line of the first groove 5 can be oriented. In 1 is shown that the first groove 5 extends along or parallel to the transverse axis y.

Eine Position der Vertiefung 4, insbesondere eines Referenzpunktes der Vertiefung 4, ist eindeutig und wiederholbar in dem kartesischen Koordinatensystem bestimmbar. Auch ist eine Position der ersten Nut 5, insbesondere eine Position entlang der Längsachse x, z.B. eines Mittelpunktes der Nut 5 sowie eine Orientierung der ersten Nut 5 in dem kartesischen Koordinatensystem bestimmbar.A position of depression 4th , in particular a reference point of the recess 4th , can be clearly and repeatedly determined in the Cartesian coordinate system. Also is a position of the first groove 5 , in particular a position along the longitudinal axis x, for example a center point of the groove 5 and an orientation of the first groove 5 determinable in the Cartesian coordinate system.

Die Ausführungen beziehen sich auf einen Lehrring 1 mit taktil erfassbaren Referenzmarken, deren Lagen insbesondere mit taktil antastenden Systemen erfassbar sind. Selbstverständlich ist auch vorstellbar, die Lagen der Referenzmarke mit optisch antastenden Systemen zu bestimmen.The explanations relate to a ring gauge 1 with tactile reference marks, the positions of which can be recorded in particular with tactile probing systems. Of course, it is also conceivable to determine the positions of the reference mark with optically probing systems.

Alternativ oder zusätzlich vorstellbar sind optische Referenzmarken, deren Lage z.B. durch einen optischen Sensor und eine entsprechende Bildauswertung bestimmbar ist. Daher gelten die Ausführungen ebenfalls für optische Referenzmarken und optisch antastende Systeme.Alternatively or additionally conceivable are optical reference marks whose position e.g. can be determined by an optical sensor and a corresponding image evaluation. The explanations therefore also apply to optical reference marks and optical probing systems.

2 zeigt einen schematischen Querschnitt durch den in 1 dargestellten Lehrring 1. Dargestellt sind die Stirnfläche 2 und die Messfläche 3. Weiter dargestellt ist eine weitere Nut 7, die sich parallel zu einer dritten Achse z (Vertikalachse) erstreckt. Die weitere Nut 7 ist hierbei im Bereich der Messfläche 3 angeordnet. Auch diese weitere Nut 7 bildet eine Referenzmarke aus. Somit ist die Position, insbesondere die Position entlang der Längsachse x, z.B. eines Mittelpunktes die Z-Achse), und/oder Orientierung der weiteren Nut 7 in dem kartesischen Koordinatensystem festgelegt. 2 shows a schematic cross section through the in 1 illustrated ring gauge 1 . The face is shown 2 and the measuring surface 3 . Another groove is also shown 7th which extends parallel to a third axis z (vertical axis). The other groove 7th is in the area of the measuring surface 3 arranged. Also this other groove 7th forms a reference mark. Thus the position, in particular the position along the longitudinal axis x, for example the Z axis of a center point, and / or the orientation of the further groove 7th set in the Cartesian coordinate system.

Die Position und/oder Orientierung der Referenzmarken können hierbei durch ein Koordinatenmessgerät 6 und auch durch eine Oberflächenmesseinrichtung 8 (siehe 16) bestimmt werden.The position and / or orientation of the reference marks can be determined by a coordinate measuring machine 6 and also by a surface measuring device 8th (please refer 16 ) can be determined.

Die erste und die weitere Nut 5, 7 dienen vorzugsweise zur Bestimmung der Referenzorientierung, also einer Orientierung des Lehrrings 1, in einem Koordinatensystem des KMG 6 und in einem Koordinatensystem der Oberflächenmesseinrichtung 8 (OME 8). Als Orientierung wird insbesondere ein Rotationswinkel um die zentrale Symmetrieachse des Lehrrings 1 bestimmt.The first and the next groove 5 , 7th are preferably used to determine the reference orientation, i.e. an orientation of the ring gauge 1 , in a coordinate system of the CMM 6 and in a coordinate system of the surface measuring device 8th (OME 8th ). An angle of rotation around the central axis of symmetry of the ring gauge is used as orientation 1 certainly.

Eine Referenzposition des Lehrrings 1 kann insbesondere als x-Koordinate und als y-Koordinate einer Position eines Mittelpunkts von Minimum-Kreisen zu Messpunkten des KMG 6 und der OME 8 bestimmt werden, wobei die Messpunkte beim Scannen entlang einer Scanning-Linie erzeugt wurden.A reference position of the ring gauge 1 can in particular as an x-coordinate and as a y-coordinate of a position of a center point of minimum circles to measuring points of the CMM 6 and the OME 8th can be determined, the measurement points being generated during scanning along a scanning line.

Eine Transformationsvorschrift für eine Transformation der Messpunkte des KMG 6 und der OME 8 in ein gemeinsames Koordinatensystem kann dann derart bestimmt werden, dass die Referenzpositionen und die Referenzorientierungen auf gleiche und nur um ein vorbestimmtes Maß voneinander abweichende Positionen/Orientierungen transformiert werden.A transformation rule for a transformation of the measuring points of the CMM 6 and the OME 8th A common coordinate system can then be determined in such a way that the reference positions and the reference orientations are transformed to the same positions / orientations which differ from one another only by a predetermined amount.

3 zeigt exemplarisch eine überhöhte Kurve 9 von Messpunkten, die mit einem KMG 6 entlang einer geschlossenen überlappenden Scanning-Linie auf der Messfläche 3 in einer vorbestimmten Messhöhe bestimmt wurden. Eine überhöhte Kurve bezeichnet hierbei eine Kurve von Messpunkten, die mit einem vorbestimmten Faktor multipliziert wurden, um eine verbesserte Visualisierung zu ermöglichen. Die Scanning-Linie kann hierbei auf einer ersten Messhöhe liegen, wobei die Messhöhe als Abstand von der Ebene, die die Stirnfläche 2 umfasst, entlang der Vertikalrichtung z gemessen wird. Die Kurve 9 stellt hierbei die Koordinaten dar, wobei die Koordinaten von aufeinander folgend bestimmten Messpunkten verbunden wurden. Weiter dargestellt ist eine kreisförmige Referenzkurve 10. Diese Referenzkurve 10 wurde auf Grundlage der Messpunkte als Minimumkreis für die Messpunkte der ersten Kurve 9, insbesondere als Tschebyscheff-Kreis, bestimmt. 3 shows an example of an excessive curve 9 of measuring points created with a CMM 6 along a closed, overlapping scanning line on the measuring surface 3 were determined at a predetermined measuring height. An exaggerated curve here denotes a curve of measurement points that have been multiplied by a predetermined factor in order to enable improved visualization. The scanning line can lie at a first measurement height, the measurement height being the distance from the plane containing the end face 2 includes, along the vertical direction z is measured. The curve 9 represents the coordinates, the coordinates of consecutively determined measuring points being connected. A circular reference curve is also shown 10 . This reference curve 10 was based on the measurement points as the minimum circle for the measurement points of the first curve 9 , especially as the Chebyshev district.

Ein punktspezifischer KMG-Abweichungswert kann hierbei als radialer Abstand eines Messpunktes von der kreisförmigen Referenzkurve 10 bestimmt werden.A point-specific CMM deviation value can be used as a radial distance between a measuring point and the circular reference curve 10 to be determined.

4 zeigt die in 3 dargestellten Messpunkte in einem Polarkoordinatensystem. Dargestellt ist hierbei der radiale Abstand R der Messpunkte von einem Mittelpunkt, insbesondere dem Mittelpunkt der kreisförmigen Referenzkurve 10 (siehe 3), für verschiedene Winkel α in einem Bereich von 0° bis 360°. Hierbei entspricht der Winkel von 0° einer Orientierung entlang der Längsachse x (siehe 1). 4th shows the in 3 shown measuring points in a polar coordinate system. What is shown here is the radial distance R of the measuring points from a center point, in particular the center point of the circular reference curve 10 (please refer 3 ), For different angles α in a range from 0 ° to 360 °. The angle of 0 ° corresponds to an orientation along the longitudinal axis x (please refer 1 ).

In 5 ist exemplarisch eine Kurve 11 von gefilterten Messpunkten des KMG 6 dargestellt. Hierzu wurde die in 3 dargestellten Messpunkte, insbesondere deren Koordinaten, mit einem Spline-Filter gefiltert, der eine Grenzwellenzahl von 150 Wellen pro Umdrehung aufweist. Ebenfalls dargestellt ist eine weitere kreisförmige Referenzkurve 12, die als Minimumkreis-Kreis für die gefilterten Messpunkte bestimmt wurde.In 5 is an example of a curve 11 of filtered measuring points of the CMM 6 shown. For this purpose, the in 3 shown measuring points, in particular their coordinates, filtered with a spline filter, which has a threshold number of 150 waves per revolution. Another circular reference curve is also shown 12 , which was determined as the minimum circle for the filtered measuring points.

6 zeigt eine schematische Darstellung von OME-Abweichungswerten D_OME (siehe z.B. 7) für verschiedene Messhöhen. 6 shows a schematic representation of OMR deviation values D_OME (see e.g. 7th ) for different measuring heights.

Eine erste OME-Formkurve 13 visualisiert OME-Abweichungswerte D_OME für eine erste Messhöhe, wobei ein Teilabschnitt der weiteren Nut 7 (2) in dieser ersten Messhöhe angeordnet ist. Allein aus Visualisierungsgründen ist zu den OME-Abweichungswerten D_OME ein erster Radiuswert (Dummy-Radiuswert) addiert, der jedoch nicht dem Innenradius des Lehrrings 1 entsprechen muss. Es ist ersichtlich, dass im Bereich der weiteren Nut 7 hohe OME-Abweichungswerte D_OME erzeugt werden, wobei diese in einem Bereich um 0° der ersten OME-Formkurve 13 dargestellt sind.A first OMR shape curve 13 visualizes OMR deviation values D_OME for a first measurement height, with a section of the further groove 7th ( 2 ) is arranged at this first measuring height. Only for reasons of visualization is the OMR deviation values D_OME a first radius value (dummy radius value) is added, but not the inner radius of the ring gauge 1 must correspond. It can be seen that in the area of the further groove 7th high OMR deviation values D_OME are generated, these in a range around 0 ° of the first OMR shape curve 13 are shown.

Die OME-Abweichungswerte D_OME werden hierbei in einem Koordinatensystem der Oberflächenmesseinrichtung 8 (siehe 16) dargestellt. Es ist ersichtlich, dass hierbei ein Winkel von 0° der Orientierung entlang der Querachse y (siehe 1) entspricht.The OMR deviation values D_OME are here in a coordinate system of the surface measuring device 8th (please refer 16 ) shown. It can be seen that an angle of 0 ° of the orientation along the transverse axis y (see 1 ) corresponds.

Weiter dargestellt sind eine zweite OME-Formkurve 14, eine dritte OME-Formkurve 15 und eine vierte OME-Formkurve 16, die jeweils OME-Abweichungswerte D_OME für voneinander verschiedene Messhöhen visualisieren. Hierzu sind zu den entsprechenden OME-Abweichungswerten D_OME jeweils verschiedene Radien zur verbesserten Visualisierung hinzuaddiert.A second OME shape curve is also shown 14th , a third OMR shape curve 15th and a fourth OMR shape curve 16 , the respective OMR deviation values D_OME visualize for different measuring heights. Please refer to the corresponding OMR deviation values D_OME different radii added for improved visualization.

7 zeigt eine exemplarische Darstellung von OME-Abweichungswerten D_OME für eine bestimmte Messhöhe in einem Polarkoordinatensystem. Hierbei stellt eine erste OME-Abweichungswert-Kurve 17 den Verlauf in dem Polarkoordinatensystem der Oberflächenmesseinrichtung 8 dar. Weiter dargestellt ist eine verschobene OME-Abweichungswert-Kurve 18. Diese ist um einen Differenzwinkel gegenüber der ersten OME-Abweichungswert-Kurve 17 verschoben. Der Differenzwinkel ist hierbei insbesondere derart gewählt, dass der Winkel von 0° der verschobenen OME-Abweichungswert-Kurve 18 einer Orientierung von 0° im Koordinatensystem der Koordinatenmesseinrichtung 6 entspricht. 7th shows an exemplary representation of OMR deviation values D_OME for a certain measuring height in a polar coordinate system. Here is a first OMR deviation value curve 17th the course in the polar coordinate system of the surface measuring device 8th Also shown is a shifted OMR deviation value curve 18th . This is about a difference angle compared to the first OMR deviation value curve 17th postponed. The difference angle is selected here in particular such that the angle of 0 ° of the shifted OME deviation value curve 18th an orientation of 0 ° in the coordinate system of the coordinate measuring device 6 corresponds.

Geht man, wie in 2 dargestellt, davon aus, dass die weitere Nut 7 bei einem Winkel von 90° in einem Polarkoordinatensystem des KMG 6 angeordnet ist und bei einem Winkel von 0° einem Polarkoordinatensystem der Oberflächenmesseinrichtung 8 angeordnet ist, so beträgt der Differenzwinkel beispielsweise 90°.If you go, as in 2 shown, assume that the further groove 7th at an angle of 90 ° in a polar coordinate system of the CMM 6 is arranged and at an angle of 0 ° a polar coordinate system of the surface measuring device 8th is arranged, the difference angle is for example 90 °.

Somit stellt die OME-Abweichungswert-Kurve 18 eine in ein gemeinsames Referenzkoordinatensystem, nämlich das Koordinatensystem des KMG, transformierte Kurve dar. Die OME-Abweichungswerte D_OME sind somit in das gemeinsame Referenzkoordinatensystem transformiert.Thus represents the OMR deviation value curve 18th represents a curve transformed into a common reference coordinate system, namely the coordinate system of the CMM. The OMR deviation values D_OME are thus transformed into the common reference coordinate system.

8 zeigt eine exemplarische überhöhte Darstellung eine Kurve 19 von verschobenen OME-Abweichungswerte D_OME, die in 7 dargestellt sind, in einem kartesischen Koordinatensystem. Dieses kann insbesondere das kartesische Koordinatensystem des KMG 6 sein, welches z.B. auch in 5 dargestellt ist. Um eine bessere Visualisierung zu ermöglichen, wurden die Abweichungswerten mit einem Faktor multipliziert (Überhöhung) und anschließend ein beliebiger Radiuswert (Dummy-Radius) addiert, wobei der Radiuswert in etwa dem Radius des zu vermessenden Lehrrings 1 entspricht. Ebenfalls dargestellt ist eine weitere kreisförmige Referenzkurve 20, die als Minimumkreis-Kreis für die verschobenen OME-Abweichungswerte bestimmt wurde. 8th shows an exemplary exaggerated representation of a curve 19th of shifted OMR deviation values D_OME , in the 7th are shown in a Cartesian coordinate system. In particular, this can be the Cartesian coordinate system of the CMM 6 be, which e.g. also in 5 is shown. To enable better visualization, the deviation values were multiplied by a factor (exaggeration) and then any desired radius value (dummy radius) was added, the radius value being roughly the radius of the ring gauge to be measured 1 corresponds. Another circular reference curve is also shown 20th which was determined as the minimum circle for the shifted OMR deviation values.

9 zeigt eine exemplarische Darstellung von gefilterten, verschobenen OME-Abweichungswerten D_OME_filt in einem Polarkoordinatensystem. Hierbei wurden die OME-Abweichungswerte D_OME (siehe 7) mit einem Spline-Filter gefiltert. Der Spline-Filter kann hierbei eine Grenzwellenzahl von 15 Wellen pro Umdrehung aufweisen. Selbstverständlich ist es alternativ oder zusätzlich auch möglich, eine (weitere) Spline-Filterung mit einer höheren Grenzwellenzahl anzuwenden. 9 shows an exemplary representation of filtered, shifted OMR deviation values D_OME_filt in a polar coordinate system. The OMR deviation values D_OME (please refer 7th ) filtered with a spline filter. The spline filter can have a threshold number of 15 waves per revolution. As an alternative or in addition, it is of course also possible to use (further) spline filtering with a higher threshold number.

10 zeigt eine exemplarische Kurve 21 dieser gefilterten, verschobenen OME-Abweichungswerte D_OME_filt in einem kartesischen Koordinatensystem wobei den gefilterten, verschobenen Abweichungswerte D_OME_filt ein beliebiger Radiuswert (Dummy-Radius) hinzuaddiert wurde. Ebenfalls dargestellt ist eine weitere kreisförmige Referenzkurve 22, die als Minimumkreis-Kreis für die verschobenen, gefilterten OME-Abweichungswerte D_OME_filt bestimmt wurde. 10 shows an exemplary curve 21st of these filtered, shifted OMR deviation values D_OME_filt in a Cartesian coordinate system with the filtered, shifted deviation values D_OME_filt any radius value (dummy radius) has been added. Another circular reference curve is also shown 22nd that act as the minimum circle for the shifted, filtered OMR deviation values D_OME_filt was determined.

11 stellt eine Kurve 23 von KMG-Abweichungswerten D_KMG und eine Kurve 24 von gefilterten, verschobenen OME-Abweichungswerten D_OME_filt in einem gemeinsamen Polarkoordinatensystem dar. Hierbei sind die gefilterten OME-Abweichungswerte D_OME_filt lagerichtig bzw. winkelrichtig zu den Abweichungswerten D KMG dargestellt. 11 represents a curve 23 of CMM deviation values D_KMG and a curve 24 of filtered, shifted OMR deviation values D_OME_filt in a common The polar coordinate system. Here are the filtered OMR deviation values D_OME_filt shown in the correct position or at the correct angle to the deviation values D KMG.

Die Kurve 23 entspricht hierbei der in 4 dargestellten Kurve, wobei jedoch ein Radiuswert in etwa der Höhe des Radius des Lehrrings 1 von den Werten der Kurve in 4 abgezogen wurde.The curve 23 corresponds to the in 4th shown curve, but with a radius value approximately the height of the radius of the ring gauge 1 from the values of the curve in 4th was withdrawn.

12 zeigt eine exemplarische Kurve 11 von gefilterten und überhöht dargestellten KMG-Messpunkten sowie eine Kurve 21 von gefilterten und überhöht dargestellten verschobenen OME-Abweichungswerte D_OME_filt, wobei den gefilterten, verschobenen Abweichungswerte D_OME_filt ein beliebiger Radiuswert (Dummy-Radius) hinzuaddiert wurde. Die Messpunkte und die Abweichungswerte D_OME_filt sind in einem gemeinsamen kartesischen Koordinatensystem dargestellt. 12 shows an exemplary curve 11 of filtered and exaggerated CMM measuring points and a curve 21st of filtered and exaggerated shifted OMR deviation values D_OME_filt , where the filtered, shifted deviation values D_OME_filt any radius value (dummy radius) has been added. The measuring points and the deviation values D_OME_filt are shown in a common Cartesian coordinate system.

Weiter dargestellt ist eine Kurve 25 von korrigierten Messpunkten des KMG. Die Punkte der Kurve 25 ergeben sich, indem von den Messpunkten der Kurve 11 die gefilterten und lagerichtig angeordneten OME-Abweichungswerte D_OME_filt abgezogen bzw. hinzuaddiert werden. Hierzu kann es notwendig sein, OME-Abweichungswerte D_OME_filt, die zu einem bestimmen KMG-Messpunkt korrespondieren, durch Interpolation zu bestimmen. Dies kann insbesondere in dem in 11 dargestellten gemeinsamen Polarkoordinatensystem erfolgen.A curve is also shown 25th of corrected measuring points of the CMM. The points of the curve 25th result by taking from the measuring points of the curve 11 the filtered and correctly positioned OMR deviation values D_OME_filt can be deducted or added. For this it may be necessary to use OMR deviation values D_OME_filt that correspond to a specific CMM measuring point can be determined by interpolation. This can be especially true in the in 11 shown common polar coordinate system.

Ebenfalls dargestellt ist eine weitere kreisförmige Referenzkurve 26, die als Minimumkreis-Kreis für die korrigierten Messpunkte der Kurve 25 bestimmt wurde.Another circular reference curve is also shown 26th that acts as the minimum circle for the corrected measurement points of the curve 25th was determined.

Die Rundheit-Formmessabweichung des KMG 6 kann als Spannweite der radialen Abweichungen der korrigierten Messpunkte der Kurve 25 von der kreisförmigen Referenzkurve bestimmt werden.The roundness form measurement deviation of the CMM 6 can be used as the range of the radial deviations of the corrected measurement points of the curve 25th can be determined from the circular reference curve.

13 zeigt eine schematische Draufsicht auf einen Lehrring 1 in einer weiteren Ausführungsform mit Referenzmarken. Dargestellt ist, dass der Lehrring 1 mehrere Vertiefungen 4, 4a, 4b, 4c, 4d, 4e, 4f aufweist, die im Bereich der Stirnfläche 2 angeordnet sind. Hierbei können mehrere, insbesondere drei, Vertiefungen 4a, ..., 4c; 4d, ..., 4f entlang einer Radiallinie angeordnet sein. Die entlang einer Radiallinie angeordneten Vertiefungen 4a, ..., 4f können hierbei verschiedene Maximalradien aufweisen. In 13 ist dargestellt, dass z.B. drei Vertiefungen 4a, 4b, 4c mit unterschiedlichen Maximalradien entlang einer ersten Radiallinie mit einer Orientierung von 45° angeordnet sind. Weiter sind drei weitere Vertiefungen 4d, 4e, 4f mit unterschiedlichen Maximalradien 4d, 4e, 4f entlang einer weiteren Radiallinie mit einer Orientierung von 0° angeordnet. 13 shows a schematic plan view of a ring gauge 1 in a further embodiment with reference marks. It is shown that the ring gauge 1 several wells 4th , 4a , 4b , 4c , 4d , 4e , 4f has that in the area of the end face 2 are arranged. Here, several, in particular three, depressions 4a , ..., 4c ; 4d , ..., 4f be arranged along a radial line. The depressions arranged along a radial line 4a , ..., 4f can have different maximum radii. In 13 is shown that, for example, three wells 4a , 4b , 4c are arranged with different maximum radii along a first radial line with an orientation of 45 °. Next are three more indentations 4d , 4e , 4f with different maximum radii 4d , 4e , 4f arranged along a further radial line with an orientation of 0 °.

14 zeigt eine exemplarische Darstellung eines Verlaufs von OME-Messpunkten von Scanning-Linie auf der Messfläche, wobei die Scanning-Linie parallel zur zentralen Mittellinie des Lehrrings orientiert ist. Der Verlauf verdeutlicht hierbei eine Geradheit der Messfläche parallel zur zentralen Mittellinie. Hierbei ist eine erste Geradheitskurve 32, die bei einem Winkel von etwa 180° im Koordinatensystem der OME 8 erzeugt wurde, dargestellt. Weiter dargestellt sind eine zweite Geradheitskurve 33, eine dritte Geradheitskurve 34 und eine vierte Geradheitskurve 35, die jeweils bei einem Winkel von etwa 135°, 90° und 45° im Koordinatensystem der OME 8 erzeugt wurden. Die Geradheitskurven 32,...,35 visualisieren Abweichungen von Messpunkten der Scanning-Linie von einer jeweiligen Minimum-Linie dieser Messpunkte, insbesondere einer Tschebyscheff-Linie. 14th shows an exemplary representation of a course of OMR measuring points of the scanning line on the measuring surface, the scanning line being oriented parallel to the central center line of the ring gauge. The course shows the straightness of the measuring surface parallel to the central center line. Here is a first straightness curve 32 at an angle of about 180 ° in the coordinate system of the OMR 8th was generated. A second straightness curve is also shown 33 , a third straightness curve 34 and a fourth straightness curve 35 , each at an angle of about 135 °, 90 ° and 45 ° in the coordinate system of the OMR 8th were generated. The straightness curves 32 , ..., 35 visualize deviations of measuring points of the scanning line from a respective minimum line of these measuring points, in particular a Chebyshev line.

14 verdeutlicht, dass für verschiedene Messhöhen verschiedene Rundheit-Formmessabweichungen existieren. Somit kann eine Rundheit-Formmessabweichung auch messhöhenspezifisch bestimmt werden. Weiter ist es möglich, für mehrere Messhöhen jeweils eine unkorrigierte und korrigierte Rundheit-Formmessabweichung zu bestimmen. 14th shows that there are different roundness form measurement deviations for different measuring heights. Thus, a roundness form measurement deviation can also be determined specifically for the measurement height. It is also possible to determine an uncorrected and corrected roundness form measurement deviation for several measurement heights.

15 zeigt ein schematisches Flussdiagramm eines erfindungsgemäßen Verfahrens. In einem ersten Schritt S1_KMG wird eine Messfläche 3 (siehe z.B. 1) eines Lehrrings 1 mit einem Koordinatenmessgerät 6 (siehe 16) vermessen. Hierbei werden die Koordinaten von KMG-Messpunkten entlang einer Scanning-Linie auf der Messfläche 3 bestimmt. Diese Koordinaten können z.B. von einer Auswerteeinrichtung 27 (siehe 16) eingelesen werden. 15th shows a schematic flow diagram of a method according to the invention. In a first step S1_KMG becomes a measuring surface 3 (see e.g. 1 ) a ring gauge 1 with a coordinate measuring machine 6 (please refer 16 ) measured. Here, the coordinates of CMM measuring points are taken along a scanning line on the measuring surface 3 certainly. These coordinates can be obtained from an evaluation device, for example 27 (please refer 16 ) can be read.

In einem zweiten Schritt S2 KMG kann, beispielsweise mittels der Auswerteeinrichtung 27, eine Position und gegebenenfalls Orientierung einer Referenzmarke, z.B. einer Vertiefung 4, 4a, ..., 4f, oder einer Nut 5, 7 in einem Koordinatensystem des KMG 6 bestimmt werden. Das Koordinatensystem kann ein kartesisches Koordinatensystem sein. In a second step S2 KMG can, for example, by means of the evaluation device 27 , a position and possibly orientation of a reference mark, z .B. a recess 4th , 4a , ..., 4f , or a groove 5 , 7th in a coordinate system of the CMM 6 to be determined. The coordinate system can be a Cartesian coordinate system.

In einem weiteren Schritt S1_OME können mittels einer Oberflächenmesseinrichtung 8 (siehe 16) OME-Abweichungswerte D_OME (siehe z.B. 7) für eine bestimmte Messhöhe der Messfläche des Lehrrings 1 bestimmt werden. Auch diese können beispielsweise durch die Auswerteeinrichtung 27 eingelesen werden. Koordinaten von Messpunkten, denen die OME-Abweichungswerte zugeordnet sind, können in einem Polarkoordinatensystem bestimmt werden.In a further step S1_OME can by means of a surface measuring device 8th (please refer 16 ) OMR deviation values D_OME (see e.g. 7th ) for a certain measuring height of the measuring surface of the ring gauge 1 to be determined. These can also, for example, by the evaluation device 27 can be read. Coordinates of measuring points to which the OMR deviation values are assigned can be determined in a polar coordinate system.

In einem weiteren Schritt S2 OME kann eine Position und gegebenenfalls Orientierung einer Referenzmarke im Koordinatensystem des Oberflächenmessgeräts 8 bestimmt werden.In a further step S2 OME can be a position and possibly an orientation of a Reference mark in the coordinate system of the surface measuring device 8th to be determined.

In einem weiteren Schritt S3 können die Koordinaten der Messpunkte des KMG sowie die Koordinaten der Messpunkte des OME, denen die OME-Abweichungswerten D_OME zugeordnet sind, in ein gemeinsames Referenzkoordinatensystem umgerechnet werden. Dies kann insbesondere derart erfolgen, dass die Positionen und gegebenenfalls Orientierungen von Referenzmarken in dem gemeinsamen Koordinatensystem gleich sind. Insbesondere können z.B. die Koordinaten der Messpunkte, denen die OME-Abweichungswerte D_OME zugeordnet sind, in ein Koordinatensystem des KMG 6 umgerechnet werden. Das gemeinsame Koordinatensystem kann ein kartesisches Koordinatensystem sein. Dies ist jedoch nicht zwingend.In a further step S3 the coordinates of the measuring points of the CMM as well as the coordinates of the measuring points of the OMR to which the OMR deviation values D_OME are assigned, are converted into a common reference coordinate system. This can be done in particular in such a way that the positions and possibly orientations of reference marks are the same in the common coordinate system. In particular, the coordinates of the measurement points to which the OMR deviation values D_OME are assigned to a coordinate system of the KMG 6 be converted. The common coordinate system can be a Cartesian coordinate system. However, this is not mandatory.

Es kann hierfür erforderlich sein, die in einem Polarkoordinatensystem bestimmten Messpunkte, denen OME-Abweichungswerte zugeordnet sind, in ein kartesisches Koordinatensystem umzurechnen. Die Transformation von einem kartesischen Koordinatensystem in ein Polarkoordinatensystem ist dem Fachmann hierbei bekannt.For this, it may be necessary to convert the measurement points determined in a polar coordinate system, to which OMR deviation values are assigned, into a Cartesian coordinate system. The transformation from a Cartesian coordinate system into a polar coordinate system is known to the person skilled in the art.

In einem weiteren Schritt S4 können die OME-Abweichungswerte D_OME gefiltert werden, beispielsweise mittels eines Spline-Filters. Dies wurde vorhergehend erläutert. Die Filterung kann in einem kartesischen Koordinatensystem erfolgen. Hierzu kann es notwendig sein, die OME-Abweichungswerte D_OME von einem Polarkoordinatensystem in ein kartesisches Koordinatensystem zu transformieren, wobei zu den OME-Abweichungswerten ein beliebiger Radiuswert (Dummy-Radius) hinzuaddiert werden kann. Die derart transformierten OME-Abweichungswerte können dann gefiltert und wieder in ein Polarkoordinatensystem transformiert werden. Hierzu kann der Radiuswert wieder von den transformierten OME-Abweichungswerten abgezogen werden.In a further step S4 can use the OMR deviation values D_OME be filtered, for example by means of a spline filter. This was explained earlier. The filtering can take place in a Cartesian coordinate system. For this it may be necessary to use the OMR deviation values D_OME to transform from a polar coordinate system into a Cartesian coordinate system, where any radius value (dummy radius) can be added to the OMR deviation values. The OMR deviation values transformed in this way can then be filtered and transformed again into a polar coordinate system. For this purpose, the radius value can again be subtracted from the transformed OMR deviation values.

In einem weiteren Schritt S5 können die Messpunkte des KMG in ein gemeinsames Polarkoordinatensystem transformiert werden. Weiter können interpolierte, gefilterte OME-Abweichungswerte bestimmt werden, wobei für jeden Messpunkt des KMG 6 ein interpolierter OME-Abweichungswert bestimmt wird, wobei der interpolierte OME-Abweichungswert aus den gefilterten OME-Abweichungswerten D_OME_filt bestimmt wird. Der interpolierte OME-Abweichungswert D_OME bezeichnet hierbei den Abweichungswert für einen Messpunkt des KMG 6.In a further step S5 the measuring points of the CMM can be transformed into a common polar coordinate system. Interpolated, filtered OMR deviation values can also be determined, with each measuring point of the CMM 6 an interpolated OMR deviation value is determined, the interpolated OMR deviation value from the filtered OMR deviation values D_OME_filt is determined. The interpolated OMR deviation value D_OME denotes the deviation value for a measuring point of the CMM 6 .

In einem weiteren Schritt S6 können dann diese interpolierten, gefilterten OME-Abweichungswerte in das gemeinsame kartesisches Koordinatensystem zurück transformiert werden. Weiter können dann diese interpolierten, gefilterten OME-Abweichungswerte D_OME_filt zu den Koordinaten der jeweiligen Messpunkte des KMG 6 hinzuaddiert werden. Insbesondere kann der interpolierte, gefilterte OME-Abweichungswert D_OME_filt durch die Transformation in das kartesische Koordinatensystem in einen Anteil entlang der Längsachse x und in einen Anteil der Querachse y aufgeteilt werden, wobei diese Anteile dann zu den entsprechenden Koordinatenwerten des Messpunkts des KMG 6 hinzuaddiert werden.In a further step S6 these interpolated, filtered OMR deviation values can then be transformed back into the common Cartesian coordinate system. These interpolated, filtered OMR deviation values can then also be used D_OME_filt to the coordinates of the respective measuring points of the CMM 6 can be added. In particular, the interpolated, filtered OMR deviation value D_OME_filt through the transformation into the Cartesian coordinate system into a part along the longitudinal axis x and a part along the transverse axis y are divided, with these shares then to the corresponding coordinate values of the measuring point of the CMM 6 can be added.

Die resultierenden korrigierten Messpunkte können in einem weiteren Schritt S7 gefiltert werden, insbesondere mit einer weiteren Spline-Filterung. Diese kann eine Grenzwellenlänge von 150 Wellen pro Umdrehung aufweisen.The resulting corrected measuring points can be used in a further step S7 be filtered, in particular with a further spline filtering. This can have a cutoff wavelength of 150 waves per revolution.

Weiter kann in für diese gefilterten korrigierten Messpunkte in einem weiteren Schritt S8 eine kreisförmige Referenzkurve, insbesondere ein Tschebyscheff-Kreis, bestimmt werden. Hiernach können in einem weiteren Schritt S9 KMG-Abweichungswerte bestimmt werden, insbesondere als radiale Abstände zu dieser kreisförmigen Referenzkurve. Weiter kann in Abhängigkeit dieser KMG-Abweichungswerte eine Rundheit-Formmessabweichung des KMG 6 bestimmt werden, insbesondere als Spannweite der KMG-Abweichungswerte.Furthermore, in a further step, corrected measuring points filtered for these can be used S8 a circular reference curve, in particular a Chebyshev circle, can be determined. You can then in a further step S9 KMG deviation values are determined, in particular as radial distances from this circular reference curve. Furthermore, depending on these CMM deviation values, a roundness form measurement deviation of the CMM 6 can be determined, in particular as the range of the CMM deviation values.

Eine unkorrigierte Rundheit-Formmessabweichung des KMG 6 kann insbesondere bestimmt werden, indem eine kreisförmige Referenzkurve für die unkorrigierten Messpunkte des KMG 6 bestimmt wird und KMG-Abweichungswerte als radiale Abstände der Messpunkte zu dieser Referenzkurve bestimmt werden. Dies ist in 15 nicht dargestellt.An uncorrected roundness form measurement deviation of the CMM 6 can in particular be determined by creating a circular reference curve for the uncorrected measurement points of the CMM 6 is determined and CMM deviation values are determined as radial distances between the measuring points and this reference curve. This is in 15th not shown.

Es ist z.B. möglich, dass eine unkorrigierte Rundheit-Formmessabweichung des KMG 6 0.984 µm beträgt. Eine wie vorgeschlagen ermittelte korrigierte Rundheit-Formmessabweichung des KMG 6 kann 0.606 µm betragen. Beträgt die Rundheit-Formmessabweichung des Lehrrings, z.B. laut Kalibrierschein, 0.693 µm, so wird die unkorrigierte Rundheit-Formmessabweichung um ca. 55% der Rundheit-Formmessabweichung des Lehrrings korrigiert.It is possible, for example, that an uncorrected roundness form measurement deviation of the CMM 6 0.984 µm. A corrected roundness form measurement deviation of the CMM determined as suggested 6 can be 0.606 µm. If the roundness form measurement deviation of the ring gauge, for example according to the calibration certificate, is 0.693 µm, the uncorrected roundness form measurement deviation is corrected by approx. 55% of the roundness form measurement deviation of the ring gauge.

16 zeigt ein schematisches Blockschaltbild einer erfindungsgemäßen Vorrichtung. Die Vorrichtung umfasst eine Auswerteeinrichtung 27. Diese ist daten- und/oder signaltechnisch mit einem KMG 6 und einer Oberflächenmesseinrichtung 8 verbunden. Das KMG 6 umfasst einen Messtisch 28, wobei auf dem Messtisch 28 ein Lehrring 1 (siehe 1) im dreidimensionalen Messbereich 36 des KMG 6 angeordnet werden kann. Der Übersichtlichkeit halber ist hierbei nur eine zweidimensionale Grundfläche des dreidimensionalen Messbereichs dargestellt. Das KMG 6 umfasst weiter eine verfahrbare Brücke 29, wobei eine Tastkugel 30 über einen Taststiftschaft (nicht dargestellt) mit einem Messkopf 37 an einer Pinole 31 und damit an der verfahrbaren Brücke 29 montiert ist. 16 shows a schematic block diagram of a device according to the invention. The device comprises an evaluation device 27 . This is data and / or signaling with a CMM 6 and a surface measuring device 8th connected. The KMG 6 includes a measuring table 28 , being on the measuring table 28 a ring gauge 1 (please refer 1 ) in the three-dimensional measuring range 36 of the KMG 6 can be arranged. For the sake of clarity, only a two-dimensional base area of the three-dimensional measurement area is shown here. The KMG 6 further comprises a movable one bridge 29 , being a stylus ball 30th via a stylus shaft (not shown) with a measuring head 37 on a quill 31 and thus on the movable bridge 29 is mounted.

Nur schematisch dargestellt ist die Oberflächenmesseinrichtung 8, die als taktile Oberflächenmesseinrichtung 8 ausgebildet sein kann. Zur Erzeugung von Messpunkten kann der Lehrring 1 im Messbereich des KMG angeordnet werden. Messpunkte können dann von der Auswerteeinrichtung 27 eingelesen werden. Hiernach kann der Lehrring 1 in einem Messbereich der Oberflächenmesseinrichtung 8 angeordnet werden. Die von der Oberflächenmesseinrichtung 8 erzeugten Messwerte können dann ebenfalls von der Auswerteeinrichtung 27 eingelesen werden.The surface measuring device is only shown schematically 8th used as a tactile surface measuring device 8th can be formed. The ring gauge can be used to generate measuring points 1 be arranged in the measuring range of the CMM. Measurement points can then be obtained from the evaluation device 27 can be read. After that, the ring gauge can 1 in a measuring range of the surface measuring device 8th to be ordered. The one from the surface measuring device 8th The measured values generated can then also be used by the evaluation device 27 can be read.

Weiter kann die Auswerteeinrichtung 27 dann die verbleibenden Schritte des in 15 dargestellten Verfahrens durchführen.The evaluation device can also 27 then the remaining steps of the in 15th perform the procedure shown.

BezugszeichenlisteList of reference symbols

11
LehrringRing gauge
22
StirnflächeFace
33
MessflächeMeasuring surface
44th
Vertiefungdeepening
4a, ..., 4f4a, ..., 4f
Vertiefungdeepening
55
erste Nutfirst groove
66th
KoordinatenmessgerätCoordinate measuring machine
77th
weitere Nutfurther groove
88th
OberflächenmesseinrichtungSurface measuring device
99
Kurve von unkorrigierten Messpunkten des KMGCurve of uncorrected measuring points of the CMM
1010
kreisförmige Referenzkurvecircular reference curve
1111
Kurve von gefilterten Messpunkten des KMGCurve of filtered measuring points of the CMM
1212
kreisförmige Referenzkurvecircular reference curve
1313th
erste Formkurve der Messfläche in einer ersten Messhöhefirst shape curve of the measuring surface at a first measuring height
1414th
zweite Formkurve der Messfläche in einer zweiten Messhöhesecond shape curve of the measuring surface at a second measuring height
1515th
dritte Formkurve der Messfläche in einer dritten Messhöhethird shape curve of the measuring surface at a third measuring height
1616
vierte Formkurve der Messfläche in einer vierten Messhöhefourth shape curve of the measuring surface at a fourth measuring height
1717th
Kurve von OME-AbweichungswertenCurve of OMR deviation values
1818th
verschobene Kurve von OME-Abweichungswertenshifted curve of OMR deviation values
1919th
Kurve von verschobenen OME-Abweichungswerten in einem kartesischen KoordinatensystemCurve of shifted OMR deviation values in a Cartesian coordinate system
2020th
kreisförmige Referenzkurvecircular reference curve
2121st
Kurve von gefilterten, verschobenen OME-Abweichungswerten in einem kartesischen KoordinatensystemCurve of filtered, shifted OMR deviation values in a Cartesian coordinate system
2222nd
kreisförmige Referenzkurvecircular reference curve
2323
KMG-AbweichungswerteCMM deviation values
2424
Kurve von gefilterten, verschobenen OME-Abweichungswerten in einem PolarkoordinatensystemCurve of filtered, shifted OMR deviation values in a polar coordinate system
2525th
Kurve von korrigierten Messpunkten des KMG 2 Curve of corrected measuring points of the CMM 2
2626th
kreisförmige Referenzkurvecircular reference curve
2727
AuswerteeinrichtungEvaluation device
2828
MesstischMeasuring table
2929
verfahrbare Brückemovable bridge
3030th
TastkugelStylus ball
3131
PinoleQuill
3232
erste Geradheitskurvefirst straightness curve
3333
erste Geradheitskurvefirst straightness curve
3434
erste Geradheitskurvefirst straightness curve
3535
erste Geradheitskurvefirst straightness curve
3636
MessbereichMeasuring range
3737
MesskopfMeasuring head
S1_KMGS1_KMG
VerfahrensschrittProcess step
S2_KMGS2_KMG
VerfahrensschrittProcess step
S1_OMES1_OME
VerfahrensschrittProcess step
S2_OMES2_OME
VerfahrensschrittProcess step
S3S3
VerfahrensschrittProcess step
S4S4
VerfahrensschrittProcess step
S5S5
VerfahrensschrittProcess step
S6S6
VerfahrensschrittProcess step
S7S7
VerfahrensschrittProcess step
S8S8
VerfahrensschrittProcess step
S9S9
VerfahrensschrittProcess step
xx
erste Raumachsefirst spatial axis
yy
zweite Raumachsesecond spatial axis
zz
dritte Raumachsethird spatial axis
D_KMGD_KMG
KMG-AbweichungswerteCMM deviation values
D_OMED_OME
OME-AbweichungswerteOMR deviation values
D_OME_filtD_OME_filt
gefilterte OME-Abweichungswertefiltered OMR deviation values

Claims (11)

Verfahren zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung eines Koordinatenmessgeräts (6), wobei eine Messfläche eines Lehrrings (1) mit dem Koordinatenmessgerät (6) vermessen wird, wobei die Messfläche des Lehrrings (1) mit einer Oberflächenmesseinrichtung (8) vermessen wird, wobei ein Messergebnis der Vermessung durch das Koordinatenmessgerät (6) in Abhängigkeit eines Messergebnis der Vermessung durch die Oberflächenmesseinrichtung (8) korrigiert wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts (6) in Abhängigkeit des korrigierten Messergebnis bestimmt wird, wobei in Abhängigkeit des Messergebnisses der Vermessung durch die Oberflächenmesseinrichtung (8) korrigierte Messpunkte bestimmt werden, wobei für alle oder ausgewählte korrigierte Messpunkte Abweichungswerte bestimmt werden, wobei ein Abweichungswert einen radialen Abstand eines Messpunkts von einem Minimumkreis bezeichnet, wobei die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts (6) als Spannweite der Abweichungswerte bestimmt wird oder wobei für alle oder ausgewählte unkorrigierte Messpunkte Abweichungswerte bestimmt werden, wobei ein Abweichungswert einen radialen Abstand eines Messpunkts von einem Minimumkreis bezeichnet, wobei diese Abweichungswerte in Abhängigkeit des Messergebnisses der Vermessung durch die Oberflächenmesseinrichtung (8) korrigiert werden, wobei die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts (6) als Spannweite der korrigierten Abweichungswerte bestimmt werden.Method for determining a roundness form measurement deviation of a coordinate measuring machine (6), a measuring surface of a ring gauge (1) being measured with the coordinate measuring machine (6), the measuring surface of the ring gauge (1) being measured with a surface measuring device (8), with a measurement result of the measurement by the coordinate measuring machine (6) is corrected as a function of a measurement result of the measurement by the surface measuring device (8), characterized in that the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine (6) is determined as a function of the corrected measurement result, the measurement result being the Measurement points corrected by the surface measuring device (8) can be determined, deviation values being determined for all or selected corrected measuring points, a deviation value denoting a radial distance of a measuring point from a minimum circle, the roundness form measurement deviation of the coordinate measurement räts (6) is determined as the range of the deviation values or wherein deviation values are determined for all or selected uncorrected measuring points, wherein a deviation value denotes a radial distance of a measuring point from a minimum circle, these deviation values depending on the measurement result of the measurement by the surface measuring device (8) are corrected, the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring device (6) being determined as the range of the corrected deviation values. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass mit dem Koordinatenmessgerät (6) Messpunkte entlang mindestens einer Scanning-Linie auf der Messfläche bestimmt werden, wobei die Messpunkte in Abhängigkeit des Messergebnis der Vermessung durch die Oberflächenmesseinrichtung (8) korrigiert werden, wobei die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts (6) in Abhängigkeit der korrigierten Messpunkte bestimmt wird.Procedure according to Claim 1 , characterized in that the coordinate measuring device (6) is used to determine measuring points along at least one scanning line on the measuring surface, the measuring points being corrected as a function of the measurement result of the measurement by the surface measuring device (8), the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring device ( 6) is determined depending on the corrected measuring points. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass mit dem Koordinatenmessgerät (6) Messpunkte entlang mindestens einer Scanning-Linie auf der Messfläche bestimmt werden, wobei für alle oder ausgewählte Punkte jeweils ein punktspezifischer KMG-Abweichungswert (D_KMG) bestimmt wird, wobei die KMG-Abweichungswerte (D_KMG) in Abhängigkeit des Messergebnis der Vermessung durch die Oberflächenmesseinrichtung (8) korrigiert werden, wobei die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts (6) in Abhängigkeit der korrigierten Abweichungswerte bestimmt wird.Procedure according to Claim 1 , characterized in that the coordinate measuring machine (6) is used to determine measuring points along at least one scanning line on the measuring surface, a point-specific CMM deviation value (D_KMG) being determined for all or selected points, the CMG deviation values (D_KMG) be corrected as a function of the measurement result of the measurement by the surface measuring device (8), the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring device (6) being determined as a function of the corrected deviation values. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass KMG-Messpunkte oder die KMG-Abweichungswerte (D_KMG) gefiltert werden.Procedure according to Claim 2 or 3 , characterized in that KMG measurement points or the KMG deviation values (D_KMG) are filtered. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass mit der Oberflächenmesseinrichtung (8) für alle oder ausgewählte Messpunkte mindestens einer Scanning-Linie jeweils ein punktspezifischer OME-Abweichungswert (D_OME) bestimmt wird, wobei die KMG-Messpunkte oder die KMG-Abweichungswerte (D KMG) in Abhängigkeit der OME-Abweichungswerte (D_OME) korrigiert werden.Method according to one of the Claims 2 to 4th , characterized in that a point-specific OME deviation value (D_OME) is determined with the surface measuring device (8) for all or selected measuring points of at least one scanning line, the KMG measuring points or the KMG deviation values (D KMG) depending on the OMR deviation values (D_OME) are corrected. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass OME-Messpunkte oder OME-Abweichungswerte (D_OME) gefiltert werden.Procedure according to Claim 5 , characterized in that OMR measurement points or OMR deviation values (D_OME) are filtered. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass KMG-Messpunkte oder KMG-Abweichungswerte (D_KMG) und OME-Abweichungswerte (D_OME) in ein gemeinsames Referenzkoordinatensystem transformiert werden.Method according to one of the Claims 5 to 6 , characterized in that KMG measuring points or KMG deviation values (D_KMG) and OME deviation values (D_OME) are transformed into a common reference coordinate system. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass der zu einem KMG-Messpunkt oder einem KMG-Abweichungswert (D_KMG) korrespondierende OME-Abweichungswert (D_OME) durch Inter- oder Extrapolation bestimmt wird.Method according to one of the Claims 5 to 7th , characterized in that the OME deviation value (D_OME) corresponding to a CMM measuring point or a CMM deviation value (D_KMG) is determined by interpolation or extrapolation. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Lehrring (1) mindestens eine Referenzmarke aufweist, wobei die Lage der mindestens einen Referenzmarke mit dem Koordinatenmessgerät (6) und mit der Oberflächenmesseinrichtung (8) bestimmt wird, wobei die Transformation in das gemeinsame Referenzkoordinatensystem in Abhängigkeit der Lage der mindestens einen Referenzmarke durchgeführt wird.Method according to one of the Claims 7 to 8th , characterized in that the ring gauge (1) has at least one reference mark, the position of the at least one reference mark being determined with the coordinate measuring device (6) and with the surface measuring device (8), the transformation into the common reference coordinate system depending on the position of the at least one reference mark is carried out. Lehrring zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung eines Koordinatenmessgeräts (6), wobei der Lehrring (1) mindestens eine Referenzmarke aufweist oder ausbildet, wobei die Lage der mindestens einen Referenzmarke mit dem Koordinatenmessgerät (6) bestimmbar ist, wobei die Referenzmarke als Vertiefung (4, 4a, ..., 4f) im Bereich einer Stirnfläche (2) des Lehrrings (1) ausgebildet ist und/oder wobei die Referenzmarke oder eine weitere Referenzmarke als Nut (5) im Bereich einer Stirnfläche (2) des Lehrrings (1) ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Messfläche keine Referenzmarke aufweist.Ring gauge for determining a roundness form measurement deviation of a coordinate measuring device (6), the ring gauge (1) having or forming at least one reference mark, the position of the at least one reference mark being determinable with the coordinate measuring device (6), the reference mark being a recess (4, 4a, ..., 4f) is formed in the area of an end face (2) of the ring gauge (1) and / or wherein the reference mark or another Reference mark is formed as a groove (5) in the area of an end face (2) of the ring gauge (1), characterized in that the measuring surface has no reference mark. Vorrichtung zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung eines Koordinatenmessgeräts (6), wobei die Vorrichtung mindestens eine Auswerteeinrichtung (27) umfasst, wobei die Auswerteeinrichtung daten- und/oder signaltechnisch mit dem Koordinatenmessgerät (6) und mit einer Oberflächenmesseinrichtung (8) verbindbar ist, wobei mittels der Auswerteeinrichtung (27) ein Messergebnis einer Vermessung einer Messfläche eines Lehrrings (1) mit dem Koordinatenmessgerät (6) in Abhängigkeit eines Messergebnis einer Vermessung der Messfläche des Lehrrings (1) mit der Oberflächenmesseinrichtung (8) korrigierbar ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts (6) in Abhängigkeit des korrigierten Messergebnis bestimmbar ist, wobei in Abhängigkeit des Messergebnisses der Vermessung durch die Oberflächenmesseinrichtung (8) korrigierte Messpunkte bestimmbar sind, wobei für alle oder ausgewählte korrigierte Messpunkte Abweichungswerte bestimmbar sind, wobei ein Abweichungswert einen radialen Abstand eines Messpunkts von einem Minimumkreis bezeichnet, wobei die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts (6) als Spannweite der Abweichungswerte bestimmbar sind oder wobei für alle oder ausgewählte unkorrigierte Messpunkte Abweichungswerte bestimmbar sind, wobei ein Abweichungswert einen radialen Abstand eines Messpunkts von einem Minimumkreis bezeichnet, wobei diese Abweichungswerte in Abhängigkeit des Messergebnisses der Vermessung durch die Oberflächenmesseinrichtung (8) korrigierbar sind, wobei die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts (6) als Spannweite der korrigierten Abweichungswerte bestimmbar ist.Device for determining a roundness form measurement deviation of a coordinate measuring device (6), the device comprising at least one evaluation device (27), wherein the evaluation device can be connected to the coordinate measuring device (6) and to a surface measuring device (8) in terms of data and / or signal technology, wherein by means of the evaluation device (27) a measurement result of a measurement of a measurement surface of a ring gauge (1) with the coordinate measuring device (6) can be corrected as a function of a measurement result of a measurement of the measurement surface of the ring gauge (1) with the surface measurement device (8), characterized in that the The roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine (6) can be determined as a function of the corrected measurement result, with corrected measurement points being determinable as a function of the measurement result of the measurement by the surface measurement device (8), deviation values being determinable for all or selected corrected measurement points, where ei n deviation value denotes a radial distance of a measuring point from a minimum circle, the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring device (6) being determinable as the range of the deviation values or where deviation values can be determined for all or selected uncorrected measurement points, with a deviation value representing a radial distance of a measurement point from one Denotes the minimum circle, these deviation values being correctable as a function of the measurement result of the measurement by the surface measuring device (8), the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine (6) being determinable as the range of the corrected deviation values.
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