DE102016206986B4 - Method and device for determining a roundness form measurement deviation and ring gauge - Google Patents
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Abstract
Verfahren zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung eines Koordinatenmessgeräts (6), wobei eine Messfläche eines Lehrrings (1) mit dem Koordinatenmessgerät (6) vermessen wird, wobei die Messfläche des Lehrrings (1) mit einer Oberflächenmesseinrichtung (8) vermessen wird, wobei ein Messergebnis der Vermessung durch das Koordinatenmessgerät (6) in Abhängigkeit eines Messergebnis der Vermessung durch die Oberflächenmesseinrichtung (8) korrigiert wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts (6) in Abhängigkeit des korrigierten Messergebnis bestimmt wird, wobei in Abhängigkeit des Messergebnisses der Vermessung durch die Oberflächenmesseinrichtung (8) korrigierte Messpunkte bestimmt werden, wobei für alle oder ausgewählte korrigierte Messpunkte Abweichungswerte bestimmt werden, wobei ein Abweichungswert einen radialen Abstand eines Messpunkts von einem Minimumkreis bezeichnet, wobei die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts (6) als Spannweite der Abweichungswerte bestimmt wird oder wobei für alle oder ausgewählte unkorrigierte Messpunkte Abweichungswerte bestimmt werden, wobei ein Abweichungswert einen radialen Abstand eines Messpunkts von einem Minimumkreis bezeichnet, wobei diese Abweichungswerte in Abhängigkeit des Messergebnisses der Vermessung durch die Oberflächenmesseinrichtung (8) korrigiert werden, wobei die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts (6) als Spannweite der korrigierten Abweichungswerte bestimmt werden.Method for determining a roundness form measurement deviation of a coordinate measuring machine (6), a measuring surface of a ring gauge (1) being measured with the coordinate measuring machine (6), the measuring surface of the ring gauge (1) being measured with a surface measuring device (8), with a measurement result of the measurement by the coordinate measuring machine (6) is corrected as a function of a measurement result of the measurement by the surface measuring device (8), characterized in that the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine (6) is determined as a function of the corrected measurement result, the measurement result being the Measurement points corrected by the surface measuring device (8) can be determined, deviation values being determined for all or selected corrected measuring points, a deviation value denoting a radial distance of a measuring point from a minimum circle, the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring device äts (6) is determined as the range of the deviation values or wherein deviation values are determined for all or selected uncorrected measuring points, wherein a deviation value denotes a radial distance of a measuring point from a minimum circle, these deviation values depending on the measurement result of the measurement by the surface measuring device (8) be corrected, the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine (6) being determined as the range of the corrected deviation values.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung eines Koordinatenmessgeräts sowie einen Lehrring zur Bestimmung dieser Rundheit-Formmessabweichung.The invention relates to a method and a device for determining a roundness form measurement deviation of a coordinate measuring machine and a ring gauge for determining this roundness form measurement deviation.
Die Anforderungen an eine Genauigkeit von sogenannten 3-Achsen- sowie 4-Achsen-Koordinatenmessgeräten nehmen zu. Dies bedeutet u.a., dass eine sehr geringe höchst zulässige Formmessabweichung für Rundheit (Rundheit-Formmessabweichung, MPERONt) gewünscht wird.The demands on the accuracy of so-called 3-axis and 4-axis coordinate measuring machines are increasing. This means, among other things, that a very low maximum permissible form measurement deviation for roundness (roundness form measurement deviation , MPE RONt ) is desired.
Die
Diese Rundheit-Formmessabweichungen werden in der Regel an einem sogenannten Lehrring nachgewiesen. Lehrringe weisen jedoch herstellungsbedingte Ungenauigkeiten auf, die sich negativ auf die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts auswirken. Mit anderen Worten resultiert ein Anteil der Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts aus Ungenauigkeiten des Lehrrings. Somit kann die Rundheitsabweichung eines KMG, die mit einem Lehrring nachgewiesen wird, nicht besser sein als die Rundheitsabweichung des Lehrrings selbst.The
These roundness form measurement deviations are usually verified on a so-called ring gauge. However, ring gauges have manufacturing-related inaccuracies that have a negative effect on the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine. In other words, a portion of the form measurement deviation of the coordinate measuring machine results from inaccuracies in the ring gauge. Thus, the roundness deviation of a CMM that is verified with a ring gauge cannot be better than the roundness deviation of the ring gauge itself.
Wird z.B. eine Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts mit einem Wert von 97 nm nachgewiesen und weist der Lehrring, z.B. laut Kalibrierschein, selbst eine Rundheitsabweichung 70 nm auf, so kann im ungünstigsten Fall davon ausgegangen werden, dass ca. 72 % der Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts durch die Ungenauigkeit des Lehrrings bedingt ist.If e.g. a roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine with a value of 97 nm is detected and the ring gauge, e.g. According to the calibration certificate, even a roundness deviation of 70 nm can be assumed in the worst case that approx. 72% of the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine is due to the inaccuracy of the ring gauge.
Die
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Bisher wurde jedoch davon ausgegangen, dass Lehrringe derart hochgenau gefertigt sind, dass diese keine Fehler bei der Bestimmung der Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts bedingen.So far, however, it has been assumed that ring gauges are manufactured with such high precision that they do not cause any errors in the determination of the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine.
Es stellt sich somit das technische Problem, ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung eines Koordinatenmessgeräts sowie einen Lehrring für diese Bestimmung zu schaffen, die eine genauere Bestimmung der Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts ermöglichen.The technical problem thus arises of creating a method and a device for determining a roundness form measurement deviation of a coordinate measuring machine, as well as a ring gauge for this determination, which enable a more precise determination of the roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine.
Die Lösung des technischen Problems ergibt sich durch die Gegenstände mit den Merkmalen der Ansprüche 1, 10 und 11. Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.The solution to the technical problem results from the objects with the features of
Vorgeschlagen wird ein Verfahren zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung eines Koordinatenmessgeräts. Diese Rundheit-Formmessabweichung (MPERONt) ist hierbei in der
Das Koordinatenmessgerät kann insbesondere ein taktil antastendes Koordinatenmessgerät (KMG) sein. Das KMG kann insbesondere ein 3-Achsen-KMG oder ein 4-Achsen-KMG sein. Bei einem 3-Achsen-KMG kann ein Messkopfsystem und/oder ein Tastersystem entlang von drei Raumrichtungen, insbesondere senkrecht zueinander orientierten Raumrichtungen, bewegt werden. Hierzu kann das KMG drei rechtwinklig zueinander orientierte Linearführungen (Achsen) und pro Linearführung ein Längenmeßsystem und einen motorischen Antrieb. Weiter kann das KMG einen 3D-Scannning-Meßkopf aufweisen. Bei einem 4-Achsen-KMG kann das KMG zusätzlich einen Drehtisch umfassen, auf dem ein zu vermessendes Werkstück angeordnet werden kann. Der Drehtisch kann hierbei um eine Drehachse verdreht werden.The coordinate measuring machine can in particular be a tactile probe coordinate measuring machine (CMM). The CMM can in particular be a 3-axis CMM or a 4-axis CMM. In a 3-axis CMM, a measuring head system and / or a probe system can be moved along three spatial directions, in particular spatial directions oriented perpendicular to one another. For this purpose, the KMG can have three linear guides (axes) oriented at right angles to each other and a length measuring system and a motor drive for each linear guide. The CMM can also have a 3D scanning measuring head. In the case of a 4-axis CMM, the CMM can also include a turntable on which a workpiece to be measured can be arranged. The turntable can be rotated about an axis of rotation.
Es ist doch selbstverständlich auch möglich, dass das KMG ein optisch antastendes KMG ist. In diesem Fall kann das KMG ein optisches Messkopfsystem umfassen und ein berührungsloses Vermessen eines Messobjekts durchführen.It is of course also possible that the CMM is an optically probing CMM. In this case, the CMM can include an optical measuring head system and carry out a contactless measurement of a measurement object.
Derartige KMG sind aus dem Stand der Technik bekannt.Such CMMs are known from the prior art.
In dem Verfahren wird eine Messfläche eines Lehrrings mit dem KMG vermessen. Das Vermessen kann zur Bestimmung einer unkorrigierten Rundheit-Formmessabweichung des KMG dienen.In the process, a measuring surface of a ring gauge is measured with the CMM. The measurement can be used to determine an uncorrected roundness form measurement deviation of the CMM.
Der Lehrring kann insbesondere hohlzylinderförmig ausgebildet sein, wobei zumindest ein Teil der inneren Mantelfläche des Lehrrings die Messfläche ausbildet. Der Lehrring kann auch als Einstellring bezeichnet werden. Weiter kann der Lehrring eine äußere Mantelfläche und Stirnflächen aufweisen oder ausbilden. Es ist auch möglich, dass zumindest ein Teil der äußeren Mantelfläche des Lehrrings die Messfläche ausbildet. In diesem Fall muss der Lehrring nicht zwingend hohlzylinderförmig ausgebildet sein. Insbesondere kann der Lehrring in diesem Fall auch als sogenannter Lehrdorn ausgebildet sein. Somit umfasst der Begriff Lehrring im Sinne dieser Offenbarung auch einen Lehrdorn.The ring gauge can in particular be designed in the shape of a hollow cylinder, at least part of the inner circumferential surface of the ring gauge forming the measuring surface. The ring gauge can also be referred to as a setting ring. Furthermore, the ring gauge can have or form an outer jacket surface and end faces. It is also possible that at least part of the outer circumferential surface of the ring gauge forms the measuring surface. In this case, the ring gauge does not necessarily have to be designed as a hollow cylinder. In particular, the ring gauge can also be designed as a so-called plug gauge in this case. Thus, the term ring gauge in the sense of this disclosure also includes a mandrel.
Beim Vermessen kann z.B. ein Messkopf oder ein Tastelement des KMG, insbesondere eine Tastkugel oder ein optisches Sensor, des Koordinatenmessgerätes entlang der Messfläche, insbesondere entlang mindestens einer Scanning-Linie (Sollbahn), bewegt werden, wobei Messpunkte (KMG-Messpunkte) bestimmt werden. Die Scanning-Linie kann hierbei eine Linie auf der Messfläche bezeichnen, entlang derer Messpunkte erzeugt werden.When measuring, e.g. a measuring head or a probe element of the CMM, in particular a probe ball or an optical sensor, of the coordinate measuring machine can be moved along the measuring surface, in particular along at least one scanning line (target path), with measuring points (CMM measuring points) being determined. The scanning line can denote a line on the measuring surface along which measuring points are generated.
Dies kann auch als Messvorgang bezeichnet werden. Die Messpunkte können insbesondere Antastpunkte oder optisch erfasste Messpunkte sein. Insbesondere können Koordinaten von Messpunkten bestimmt werden, weiter insbesondere in einem Koordinatensystem des Koordinatenmessgeräts. Dies wird nachfolgend noch näher erläutert.This can also be referred to as a measurement process. The measuring points can in particular be touch points or optically recorded measuring points. In particular, coordinates of measuring points can be determined, further in particular in a coordinate system of the coordinate measuring device. This is explained in more detail below.
Die Scanning-Linie kann insbesondere eine geschlossene, insbesondere eine kreisförmige oder im Wesentlichen kreisförmige, Linie sein. Auch kann eine Scanning-Linie sich überlappende Abschnitte aufweisen. Ein überlappender Abschnitt kann bestimmt bzw. identifziert und dann bei einer nachfolgenden Auswertung nicht berücksichtigt werden. Die Scanning-Linie kann aber auch eine nicht geschlossene Linie sein, z.B. eine teilkreisförmige oder im Wesentlichen teilkreisförmige Linie.The scanning line can in particular be a closed, in particular a circular or essentially circular line. A scanning line can also have overlapping sections. An overlapping section can be determined or identified and then not taken into account in a subsequent evaluation. The scanning line can also be a non-closed line, e.g. a part-circular or substantially part-circular line.
Messpunkte in An- und Abfahrwegen zur Scanning-Linie können ebenfalls bestimmt bzw. identifziert und dann bei einer nachfolgenden Auswertung nicht berücksichtigt werden. Weiter kann die Scanning-Linie auf einer vorbestimmten Messhöhe relativ zum Lehrring liegen, Beispielsweise kann die Messhöhe als Abstand von einer Referenzebene bestimmt wird, wobei eine Stirnfläche des Lehrrings in dieser Referenzebene angeordnet ist. Der Abstand kann hierbei entlang einer Normalen zu dieser Referenzebene bestimmt werden. Selbstverständlich ist es auch möglich, mehrere Messpunktmengen durch Vermessen der Messfläche in verschiedenen Messhöhen zu bestimmen. Beispielsweise können Messpunktemengen in verschiedenen Messhöhen mit einem vorbestimmten Höhenabstand voneinander, beispielsweise einem Höhenabstand von 1 mm, bestimmt werden. Die Koordinaten der Messpunkte können hierbei in einem Koordinatensystem des Koordinatenmessgeräts bestimmt werden.Measurement points in the approach and departure paths to the scanning line can also be determined or identified and then not taken into account in a subsequent evaluation. Furthermore, the scanning line can lie at a predetermined measuring height relative to the ring gauge. For example, the measuring height can be determined as a distance from a reference plane, with an end face of the ring gauge being arranged in this reference plane. The distance can be determined along a normal to this reference plane. Of course, it is also possible to determine several sets of measuring points by measuring the measuring area at different measuring heights. For example, sets of measuring points can be determined at different measuring heights with a predetermined height distance from one another, for example a height distance of 1 mm. The coordinates of the measuring points can be determined in a coordinate system of the coordinate measuring machine.
Weiter wird die Messfläche des Lehrrings mit einer Oberflächenmesseinrichtung (OME) vermessen. Das Vermessen kann zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung des Lehrrings dienen.The measuring surface of the ring gauge is also measured with a surface measuring device (OME). The measurement can be used to determine a roundness form measurement deviation of the ring gauge.
Eine Oberflächenmesseinrichtung kann insbesondere auch als Formtester bezeichnet werden. Die Oberflächenmesseinrichtung ist hierbei von dem KMG verschieden. Eine Oberflächenmesseinrichtung kann z.B. ein Interferometer, beispielsweise eine Fizeau-Phaseninterferometer, umfassen. Vorzugsweise ist die Oberflächenmesseinrichtung eine taktil antastende Oberflächenmesseinrichtung. Eine solche Oberflächenmesseinrichtung kann ein in drei Raumrichtungen bewegbares Messkopfsystem oder Tastersystem umfassen. Gegebenenfalls kann eine solche Oberflächenmesseinrichtung auch einen drehbaren Drehtisch umfassen. Es ist jedoch möglich, dass eine aktorgestützte Bewegung nur entlang zwei von drei Raumrichtungen und eine Verdrehung des Drehtischs möglich ist. Eine beispielhafte Oberflächenmesseinrichtung kann z.B. der Formtester RONDCOM 65 der Carl Zeiss Industriellen Messtechnik GmbH sein.A surface measuring device can in particular also be referred to as a shape tester. The surface measuring device is different from the CMM. A surface measuring device can e.g. an interferometer such as a Fizeau phase interferometer. The surface measuring device is preferably a tactile surface measuring device. Such a surface measuring device can comprise a measuring head system or probe system that can be moved in three spatial directions. If necessary, such a surface measuring device can also comprise a rotatable turntable. However, it is possible that an actuator-supported movement is only possible along two of three spatial directions and a rotation of the turntable is possible. An exemplary surface measuring device can e.g. the form tester RONDCOM 65 from Carl Zeiss Industrielle Messtechnik GmbH.
Beim Vermessen kann z.B. ein Messkopf oder ein Tastelement der OME entlang der Messfläche, insbesondere entlang mindestens einer Scanning-Linie (Sollbahn) auf der Messfläche, bewegt werden, wobei Messpunkte (OME-Messpunkte) bestimmt werden. Die Messpunkte können insbesondere Antastpunkte sein. Insbesondere können Koordinaten von Messpunkten bestimmt werden, weiter insbesondere in einem Koordinatensystem der OME. Die Scanning-Linie kann insbesondere eine geschlossene Linie sein. Weiter kann die Scanning-Linie auf einer vorbestimmten Messhöhe relativ zum Lehrring liegen.When measuring, e.g. a measuring head or a probe element of the OME can be moved along the measuring surface, in particular along at least one scanning line (target path) on the measuring surface, with measuring points (OME measuring points) being determined. The measuring points can in particular be contact points. In particular, coordinates of measurement points can be determined, further in particular in a coordinate system of the OMR. The scanning line can in particular be a closed line. Furthermore, the scanning line can lie at a predetermined measuring height relative to the ring gauge.
Selbstverständlich ist es auch möglich, mehrere Messpunktmengen durch Vermessen der Messfläche in verschiedenen Messhöhen zu bestimmen. Beispielsweise können Messpunktemengen in verschiedenen Messhöhen mit einem vorbestimmten Höhenabstand voneinander, beispielsweise einem Höhenabstand von 1 mm, bestimmt werden. Die Koordinaten der Messpunkte können hierbei in einem Koordinatensystem der OME bestimmt werden.Of course, it is also possible to determine several sets of measuring points by measuring the measuring area at different measuring heights. For example, sets of measuring points can be determined at different measuring heights with a predetermined height distance from one another, for example a height distance of 1 mm. The coordinates of the measuring points can be determined in a coordinate system of the OMR.
Koordinaten von KMG-Messpunkten und OME-Messpunkten können in einem kartesischen Koordinatensystem erfasst werden, z.B. eine x-Koordinate (Koordinate entlang einer Längsachse), eine y-Koordinate (Koordinate entlang einer Querachse) und eine z-Koordinate (Koordinate entlang einer Vertikalachse).Coordinates of CMM measuring points and OMR measuring points can be recorded in a Cartesian coordinate system, e.g. an x coordinate (coordinate along a longitudinal axis), a y coordinate (coordinate along a transverse axis) and a z coordinate (coordinate along a vertical axis).
Insbesondere für eine bestimmte Messhöhe können Koordinate auch in ein Polarkoordinatensystem transformiert werden.In particular for a certain measurement height, coordinates can also be transformed into a polar coordinate system.
Die Scanning-Linie zum Vermessen mit dem Koordinatenmessgerät und die Scanning-Linie zum Vermessen mit der Oberflächenmesseinrichtung können voneinander verschieden sein. Insbesondere können diese auf verschiedenen Messhöhen liegen. Vorzugsweise liegen die Scanning-Linien jedoch auf gleicher Höhe oder ist ein Höhenabstand zwischen den Scanning-Linien kleiner als ein festgelegter Abstand. Vorzugsweise beträgt der Abstand weniger als 0.5 mm. Dies ist jedoch nicht zwingend. Je geringer der Abstand, desto genauer die Bestimmung der korrigierten Rundheit-Formmessabweichung. Jedoch kann auch bei größeren Abständen eine ausreichende Genauigkeit der korrigierten Rundheit-Formmessabweichung gegeben sein.The scanning line for measuring with the coordinate measuring machine and the scanning line for measuring with the surface measuring device can be different from one another. In particular, these can be at different measuring heights. However, the scanning lines are preferably at the same level or a height distance between the scanning lines is smaller than a specified distance. The distance is preferably less than 0.5 mm. However, this is not mandatory. The smaller the distance, the more precise the determination of the corrected roundness form measurement deviation. However, sufficient accuracy of the corrected roundness form measurement deviation can be given even with larger distances.
Weiter können für alle oder ausgewählte Messpunkte der OME OME-Abweichungswerte bestimmt werden. Ein OME-Abweichungswert bezeichnet hierbei einen radialen Abstand eines Messpunkts von einer Referenzlinie, insbesondere einem Referenzkreis, weiter insbesondere von einem Minimumkreis. Die Referenzlinie kann für eine Menge von Messpunkten, die entlang einer Scanning-Linie bestimmt wurden, durch Verfahren bestimmt werden, die dem Fachmann bekannt sind. So kann z.B. ein Minimumkreis für die Messpunkte der Menge bestimmt werden, wobei dieser Minimumkreis z.B. durch die dem Fachmann bekannte Tschebyscheff-Methode bestimmt wird.Furthermore, OMR deviation values can be determined for all or selected measuring points. An OMR deviation value here denotes a radial distance of a measuring point from a reference line, in particular a reference circle, further in particular from a minimum circle. The reference line can be determined for a set of measurement points that were determined along a scanning line by methods known to those skilled in the art. E.g. a minimum circle can be determined for the measuring points of the quantity, this minimum circle e.g. is determined by the Chebyshev method known to the person skilled in the art.
Hierbei kann von der Annahme ausgegangen werden, dass die durch Vermessen mit der Oberflächenmesseinrichtung bestimmte Rundheit-Formmessabweichung hauptsächlich oder ausschließlich aus der Rundheit-Formmessabweichung der Messfläche des Lehrrings resultiert, wobei Anteile dieser Rundheit-Formmessabweichung z.B. durch Ungenauigkeiten der Oberflächenmesseinrichtung minimal oder nicht vorhanden sind.It can be assumed here that the roundness form measurement deviation determined by measurement with the surface measuring device results mainly or exclusively from the roundness form measurement deviation of the measuring surface of the ring gauge, with parts of this roundness form measurement deviation e.g. are minimal or absent due to inaccuracies in the surface measuring device.
Somit kann durch die Oberflächenmesseinrichtung die tatsächliche Rundheit-Formmessabweichung des Lehrrings bestimmt werden.The actual roundness form measurement deviation of the ring gauge can thus be determined by the surface measuring device.
Weiter wird ein Messergebnis einer Vermessung durch das KMG (KMG-Messergebnis) in Abhängigkeit eines Messergebnisses der Vermessung durch die OME (OME-Messergebnis) korrigiert. Somit kann das OME-Messergebnis auch als Korrekturergebnis bezeichnet werden.Furthermore, a measurement result of a measurement by the KMG (KMG measurement result) is corrected as a function of a measurement result of the measurement by the OME (OME measurement result). The OMR measurement result can therefore also be referred to as a correction result.
Ein KMG-Messergebnis können alle oder ausgewählte Messpunkte oder KMG-Abweichungswerte entlang der Scanning-Linie sein. Ein OME-Messergebnis können alle oder ausgewählte OME-Abweichungswerte für Messpunkte entlang einer Scanning-Linie der OME sein. Dies wird nachfolgend noch näher erläutert.A CMM measurement result can be all or selected measurement points or CMM deviation values along the scanning line. An OMR measurement result can be all or selected OMR deviation values for measurement points along a scanning line of the OMR. This is explained in more detail below.
Insbesondere ist es möglich, dass das KMG-Messergebnis in Abhängigkeit des OME-Messergebnis zu verändern, beispielsweise durch Additions- oder Subtraktionsoperationen.In particular, it is possible to change the CMM measurement result as a function of the OMR measurement result, for example through addition or subtraction operations.
Die Korrektur der des KMG-Messergebnisses in Abhängigkeit des OME-Messergebnisses kann beispielsweise mittels einer festgelegten Rechenvorschrift erfolgen.The correction of the CMM measurement result as a function of the OME measurement result can be carried out, for example, by means of a fixed calculation rule.
Weiter wird die Rundheit-Formmessabweichung des KMG in Abhängigkeit des korrigierten Messergebnisses bestimmt.Furthermore, the roundness form measurement deviation of the CMM is determined depending on the corrected measurement result.
Weiter werden in Abhängigkeit des OME-Messergebnisses korrigierte Messpunkte, mit anderen Worten korrigierte Koordinaten der Messpunkte, bestimmt. Weiter werden für alle oder ausgewählte korrigierte Messpunkte Abweichungswerte bestimmt. Entsprechend den vorhergehenden Erläuterungen kann ein Abweichungswert einen radialen Abstand eines Messpunkts von einer Referenzlinie, insbesondere einem Referenzkreis, weiter insbesondere von einem Minimumkreis, vorzugsweise einem Tschebyscheff-Minimumkreis, bezeichnen. Die Rundheit-Formmessabweichung des KMG wird dann als Spannweite der Abweichungswerte bestimmt, z.B. als Differenz zwischen einem maximalen und einem minimalen Abweichungswert.Corrected measuring points, in other words corrected coordinates of the measuring points, are also determined as a function of the OMR measurement result. Furthermore, deviation values are determined for all or selected corrected measuring points. According to the explanations above, a deviation value can designate a radial distance of a measuring point from a reference line, in particular a reference circle, further in particular from a minimum circle, preferably a Chebyshev minimum circle. The roundness form measurement deviation of the CMM is then determined as the range of deviation values, e.g. as the difference between a maximum and a minimum deviation value.
Alternativ werden für alle oder ausgewählte unkorrigierte(n) Messpunkte Abweichungswerte (KMG-Abweichungswerte) entsprechend den vorhergehenden Erläuterungen bestimmt. Diese KMG-Abweichungswerte werden dann in Abhängigkeit des OME-Messergebnisses korrigiert. Die Rundheit-Formmessabweichung des KMG wird dann als Spannweite der korrigierten KMG-Abweichungswerte bestimmt.Alternatively, deviation values (CMM deviation values) are determined for all or selected uncorrected measurement points in accordance with the explanations given above. These CMM deviation values are then corrected depending on the OMR measurement result. The roundness form measurement deviation of the CMM is then recorded as Range of corrected CMM deviation values determined.
Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine genauere Bestimmung der Rundheit-Formmessabweichung des KMG.This advantageously results in a more precise determination of the roundness form measurement deviation of the CMM.
Dies wiederum ermöglicht, für ein KMG eine unkorrigierte Rundheit-Formmessabweichung und eine wie vorgeschlagen korrigierte Rundheit-Formmessabweichung anzugeben und beispielsweise in einem Formplot darzustellen. Dies ermöglicht in vorteilhafter Weise eine bessere Einschätzung, welcher Anteil der Rundheit-Formmessabweichung von den Ungenauigkeiten des KMG und welcher Anteil von den Ungenauigkeiten des Lehrrings stammt.This in turn makes it possible to specify an uncorrected roundness form measurement deviation and a corrected roundness form measurement deviation as proposed for a CMM and to represent them, for example, in a form plot. This advantageously enables a better assessment of what proportion of the roundness form measurement deviation comes from the inaccuracies of the CMM and what proportion comes from the inaccuracies of the ring gauge.
Es ist möglich, jedem Lehrring das OME-Messergebnisse (Korrekturergebnis) zuzuordnen. Dies kann beispielsweise erfolgen, indem die OME-Messergebnisse auf einer, insbesondere portablen oder zentralen, Speichereinrichtung gespeichert werden, wobei die gespeicherten OME-Messergebnisse einer eindeutigen Kennung des Lehrrings zugeordnet sind. In diesem Fall kann der Lehrring die eindeutige Kennung aufweisen, z.B. in Form eines Barcodes, einer Seriennummer oder eines auslesbaren Chips, der die Kennung bereitstellt. Eine zentrale Speichereinrichtung kann beispielsweise eine Servereinrichtung sein. Somit kann die korrigierte Rundheit-Formmessabweichung für mehrere KMG bestimmt werden. Beispielsweise kann die Messfläche durch verschiedene KMG vermessen, wobei das Messergebnis dann in Abhängigkeit des abgerufenen, lehrringspezifischen OME-Messergebnisses korrigiert wird.It is possible to assign the OMR measurement results (correction result) to each ring gauge. This can be done, for example, in that the OMR measurement results are stored on a particularly portable or central storage device, the stored OMR measurement results being assigned to a unique identifier of the ring gauge. In this case the ring gauge can have the unique identifier, e.g. in the form of a barcode, a serial number or a readable chip that provides the identifier. A central storage device can for example be a server device. This means that the corrected roundness form measurement deviation can be determined for several CMMs. For example, the measuring surface can be measured by different CMMs, the measurement result then being corrected as a function of the ring-gauge-specific OME measurement result called up.
In einer weiteren Ausführungsform werden Messpunkte entlang mindestens einer Scanning-Linie auf der Messfläche bestimmt, insbesondere Koordinaten (Raumkoordinaten) dieser Messpunkte. Dies wurde vorhergehend erläutert. Die Scanning-Soll-Linie kann hierbei kreisförmig sein und in einer vorbestimmten Messhöhe liegen.In a further embodiment, measuring points are determined along at least one scanning line on the measuring surface, in particular coordinates (spatial coordinates) of these measuring points. This was explained earlier. The scanning target line can be circular and lie at a predetermined measurement height.
Weiter werden die Messpunkte, insbesondere die Koordinaten, in Abhängigkeit des Messergebnisses der Vermessung durch die OME korrigiert. Weiter wird die Rundheit-Formmessabweichung des KMG in Abhängigkeit der korrigierten Messpunkte bestimmt. Dies wurde vorhergehend bereits erläutert.The measurement points, in particular the coordinates, are also corrected by the OME as a function of the measurement result of the measurement. Furthermore, the roundness form measurement deviation of the CMM is determined depending on the corrected measurement points. This has already been explained above.
Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine genauere Bestimmung der Rundheit-Formmessabweichung des KMG.This advantageously results in a more precise determination of the roundness form measurement deviation of the CMM.
In einer alternativen Ausführungsform werden mit dem Koordinatenmessgerät Messpunkte entlang mindestens einer Scanning-Linie auf der Messfläche bestimmt, wobei für alle oder ausgewählte Messpunkte jeweils ein punktspezifischer KMG-Abweichungswert bestimmt wird, wobei die KMG-Abweichungswerte in Abhängigkeit des Messergebnis der Vermessung durch die Oberflächenmesseinrichtung korrigiert werden, wobei die Rundheit-Formmessabweichung des Koordinatenmessgeräts in Abhängigkeit der korrigierten Abweichungswerte bestimmt wird.In an alternative embodiment, the coordinate measuring device is used to determine measuring points along at least one scanning line on the measuring surface, a point-specific CMM deviation value being determined for all or selected measuring points, the CMM deviation values being corrected as a function of the measurement result of the measurement by the surface measuring device The roundness form measurement deviation of the coordinate measuring machine is determined as a function of the corrected deviation values.
Weiter können jedem punktspezifischen KMG-Abweichungswert die Koordinaten des entsprechenden Messpunktes zugeordnet sein.Furthermore, the coordinates of the corresponding measuring point can be assigned to each point-specific CMM deviation value.
Selbstverständlich ist es zusätzlich möglich, dass für alle oder ausgewählte Messpunkte eine Antastkraft und gegebenenfalls eine Richtung der Antastkraft bestimmt werden.Of course, it is also possible for a contact force and, if necessary, a direction of the contact force to be determined for all or selected measuring points.
Z.B. kann die Rundheit-Formmessabweichung als Spannweite der korrigierten Abweichungswerte bestimmt werden, z.B. als Differenz zwischen einem maximalen und einem minimalen Abweichungswert.E.g. the roundness form measurement deviation can be determined as the range of the corrected deviation values, e.g. as the difference between a maximum and a minimum deviation value.
Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine alternative, aber ebenfalls zuverlässige und genaue Bestimmung von Abweichungswerten, die durch Fehler des KMG sowie die Rundheit-Formmessabweichung des Lehrrings bedingt sind.This advantageously results in an alternative, but also reliable and precise determination of deviation values which are caused by errors in the CMM and the roundness / form measurement deviation of the ring gauge.
In einer weiteren Ausführungsform werden die KMG-Messpunkte oder die KMG-Abweichungswerte gefiltert. Insbesondere kann eine Tiefpassfilterung durchgeführt werden. Vorzugsweise, jedoch nicht zwingendermaßen, kann eine sogenannte Spline-Filterung durchgeführt werden.In a further embodiment, the CMM measurement points or the CMM deviation values are filtered. In particular, low-pass filtering can be carried out. So-called spline filtering can preferably, but not necessarily, be carried out.
Es ist möglich, dass die Koordinaten der Messpunkte gefiltert werden, wobei die gefilterten Messpunkte oder die in Abhängigkeit der gefilterten Messpunkte bestimmten KMG-Abweichungswerte in Abhängigkeit des OME-Messergebnisses korrigiert werden.It is possible for the coordinates of the measurement points to be filtered, with the filtered measurement points or the CMM deviation values determined as a function of the filtered measurement points being corrected as a function of the OMR measurement result.
Die Rundheit-Formmessabweichung des KMG kann dann auf Grundlage dieser gefilterten Messpunkte oder KMG-Abweichungswerte bestimmt werden.The roundness form measurement deviation of the CMM can then be determined on the basis of these filtered measurement points or CMM deviation values.
Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine genauere Bestimmung der Rundheit-Formmessabweichung, wobei die Genauigkeit weniger durch Messrauschen verringert wird.This advantageously results in a more precise determination of the roundness form measurement deviation, the accuracy being reduced less by measurement noise.
In einer weiteren Ausführungsform wird mit der Oberflächenmesseinrichtung für alle oder ausgewählte Punkte mindestens einer Scanning-Linie jeweils ein punktspezifischer OME-Abweichungswert bestimmt. Die Scanning-Linie ist hierbei eine Scanning-Linie der OME.In a further embodiment, a point-specific OMR deviation value is determined with the surface measuring device for all or selected points of at least one scanning line. The scanning line is here a scanning line of the OME.
Dies wurde vorhergehend erläutert. Weiter werden die Messpunkte oder die KMG-Abweichungswerte in Abhängigkeit der OME-Abweichungswerte korrigiert.This was explained earlier. The measuring points or the CMM deviation values are also corrected as a function of the OMR deviation values.
Z.B. kann die Korrektur erfolgen, indem von einem KMG-Messpunkt, insbesondere einer Koordinate, oder einem punktspezifischen KMG-Abweichungswert ein punktspezifischer OME-Abweichungswert oder ein von dem punktspezifischen OME-Abweichungswert abhängiger Wert abgezogen oder hinzuaddiert wird.E.g. The correction can be carried out by subtracting or adding a point-specific OME deviation value or a value that is dependent on the point-specific OME deviation value from a CMM measuring point, in particular a coordinate, or a point-specific CMM deviation value.
Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise, dass der Anteil der unkorrigierten Rundheit-Formmessabweichung des KMG, der durch Fehler des Lehrrings, also durch die Rundheit-Formmessabweichung des Lehrrings, bedingt ist, reduziert oder sogar eliminiert wird.This results in an advantageous manner that the portion of the uncorrected roundness form measurement deviation of the CMM, which is caused by errors in the ring gauge, i.e. due to the roundness form measurement deviation of the ring gauge, is reduced or even eliminated.
In einer weiteren Ausführungsform werden die Messpunkte (OME-Messpunkte) der OME-Abweichungswerte oder die OME-Abweichungswerte gefiltert. Werden die OME-Abweichungswerte für Messpunkten entlang mindestens einer Scanning-Linie der Oberflächenmesseinrichtung bestimmt, so können, entsprechend den Ausführungen zur Filterung der vom KMG erfassten Koordinaten, auch diese Koordinaten der Messpunkte gefiltert werden. Alternativ können die Abweichungswerte gefiltert werden. Vorzugsweise wird auch hier eine Tiefpassfilterung, insbesondere eine Spline-Filterung, durchgeführt.In a further embodiment, the measurement points (OMR measurement points) of the OMR deviation values or the OMR deviation values are filtered. If the OMR deviation values are determined for measuring points along at least one scanning line of the surface measuring device, then these coordinates of the measuring points can also be filtered in accordance with the explanations for filtering the coordinates recorded by the CMM. Alternatively, the deviation values can be filtered. Low-pass filtering, in particular spline filtering, is preferably carried out here as well.
Weiter ist es möglich, mehrere Filterungen durchzuführen, beispielsweise eine erste Tiefpassfilterung mit einer ersten Grenzfrequenz und eine weitere Tiefpassfilterung mit einer weiteren Grenzfrequenz, wobei die weitere Grenzfrequenz höher als die erste Grenzfrequenz ist. Somit können in der ersten Filterung niederfrequente bzw. langperiodische Störungen bzw. Formfehler korrigiert werden.It is also possible to carry out several filterings, for example a first low-pass filtering with a first cut-off frequency and a further low-pass filtering with a further cut-off frequency, the further cut-off frequency being higher than the first cut-off frequency. Thus, in the first filtering, low-frequency or long-period disturbances or form errors can be corrected.
Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine zuverlässige Reduktion von Messrauschen.This advantageously results in a reliable reduction in measurement noise.
In einer weiteren Ausführungsform werden die KMG-Messpunkte oder die KMG-Abweichungswerte und die OME-Abweichungswerte in ein gemeinsames Referenzkoordinatensystem transformiert. Das gemeinsame Referenzkoordinatensystem kann das Koordinatensystem des KMG, das Koordinatensystem der Oberflächenmesseinrichtung oder ein von diesen Koordinatensystemen verschiedenes Koordinatensystem sein. Dass die Abweichungswerte in das gemeinsame Referenzkoordinatensystem transformiert werden, kann bedeuten, dass die Koordinaten der Messpunkte, denen die jeweiligen Abweichungswerte zugeordnet sind, in das gemeinsame Referenzkoordinatensystem transformiert werden.In a further embodiment, the CMM measuring points or the CMM deviation values and the OMR deviation values are transformed into a common reference coordinate system. The common reference coordinate system can be the coordinate system of the CMM, the coordinate system of the surface measuring device or a coordinate system different from these coordinate systems. The fact that the deviation values are transformed into the common reference coordinate system can mean that the coordinates of the measuring points to which the respective deviation values are assigned are transformed into the common reference coordinate system.
Die Transformation der OME-Abweichungswerte in das gemeinsame Referenzkoordinatensystem kann bedeuten, dass die Koordinaten der OME-Messpunkte, denen die OME-Abweichungswerte zugeordnet sind, in das gemeinsame Referenzkoordinatensystem transformiert werden. Somit können auch die OME-Messpunkte in das gemeinsame Referenzkoordinatensystem transformiert und die OME-Abweichungswerte im gemeinsamen Referenzkoordinatensystem bestimmt werden.The transformation of the OMR deviation values into the common reference coordinate system can mean that the coordinates of the OMR measuring points to which the OMR deviation values are assigned are transformed into the common reference coordinate system. In this way, the OMR measurement points can also be transformed into the common reference coordinate system and the OMR deviation values can be determined in the common reference coordinate system.
Zur Transformation kann eine Position und/oder Orientierung des Lehrrings sowohl im Koordinatensystem des KMG als auch im Koordinatensystem der OME bestimmt werden. In Abhängigkeit dieser Positionen und Orientierungen kann dann die Transformation erfolgen. Dann können mittels einer bekannten oder bestimmbaren Transformationsvorschrift die Messpunkte oder die Abweichungswerte in das gemeinsame Koordinatensystem transformiert werden. Die Transformationsvorschrift kann insbesondere derart bestimmt werden, dass Messpunkte, die an der gleichen Stelle des Lehrrings erzeugt wurden, an die gleiche Position im gemeinsamen Koordinatensystem transformiert werden.For the transformation, a position and / or orientation of the ring gauge can be determined both in the coordinate system of the CMM and in the coordinate system of the OMR. The transformation can then take place as a function of these positions and orientations. The measuring points or the deviation values can then be transformed into the common coordinate system by means of a known or determinable transformation rule. The transformation rule can in particular be determined in such a way that measurement points that were generated at the same point on the ring gauge are transformed to the same position in the common coordinate system.
Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine vereinfachte Zuordnung eines OME-Abweichungswertes zu einem KMG-Messpunkt oder einem KMG-Abweichungswert, beispielsweise um den KMG-Messpunkt oder KMG-Abweichungswert mit dem OME-Abweichungswert oder einem davon abhängigen Wert zu korrigieren. Insgesamt wird in vorteilhafter Weise eine genauere Bestimmung von Abweichungswerten ermöglicht.This advantageously results in a simplified assignment of an OMR deviation value to a CMM measurement point or a CMM deviation value, for example in order to correct the CMM measurement point or CMM deviation value with the OMR deviation value or a value dependent on it. Overall, a more precise determination of deviation values is made possible in an advantageous manner.
In einer weiteren Ausführungsform wird der zu einem KMG-Messpunkt oder einem KMG-Abweichungswert korrespondierende OME-Abweichungswert durch Interpolation oder Extrapolation bestimmt. Es ist insbesondere möglich, dass für einen KMG-Messpunkt kein OME-Abweichungswert existiert, der im Referenzkoordinatensystem diesem Messpunkt zugeordnet oder in einem Raumbereich vorbestimmter Größe um diesen Messpunkt herum angeordnet ist. Dies kann insbesondere der Fall sein, wenn sich die Anzahl der Messpunkte, die beim Vermessen durch das KMG erfasst wurden, von der Anzahl der Messpunkte, die beim Vermessen durch die Oberflächenmesseinrichtung erfasst wurden, unterscheidet. Auch kann dies der Fall sein, wenn Messhöhen der Scanning-Linien voneinander verschieden sind.In a further embodiment, the OMR deviation value corresponding to a CMM measuring point or a CMM deviation value is determined by interpolation or extrapolation. In particular, it is possible that there is no OMR deviation value for a CMM measuring point that is assigned to this measuring point in the reference coordinate system or is arranged in a spatial area of a predetermined size around this measuring point. This can be the case in particular if the number of measuring points that were recorded during measurement by the CMM differs from the number of measurement points that were recorded during measurement by the surface measuring device. This can also be the case if the measuring heights of the scanning lines are different from one another.
Eine Inter- / Extrapolation kann insbesondere ein lineare, polynombasierte oder Spline-Interpolation sein.An inter- / extrapolation can in particular be a linear, polynomial-based or spline interpolation.
Eine Inter- / Extrapolation kann hierbei vorzugsweise auf Grundlage von Koordinaten von Messpunkten in einem Polarkoordinatensystem bzw. auf Grundlage von zwei Koordinaten der Messpunkte, insbesondere einer Koordinate entlang der Längsachse und einer Koordinaten entlang der Querachse, durchgeführt werden. Dies kann insbesondere dann erfolgen, wenn davon ausgegangen wird, dass die KMG-Messpunkte und die OME-Messpunkte in/mit der gleichen oder weniger als ein vorbestimmtes Maß voneinander verschiedenen Messhöhe(n) erfasst wurden.Inter- / extrapolation can preferably be based on coordinates of measurement points in a polar coordinate system or on Based on two coordinates of the measurement points, in particular one coordinate along the longitudinal axis and one coordinate along the transverse axis. This can take place in particular if it is assumed that the CMM measuring points and the OME measuring points were recorded in / with the same or less than a predetermined amount of different measuring height (s) from one another.
Es ist jedoch auch möglich, die Inter- / Extrapolation auf Grundlage von drei Koordinaten der Messpunkte durchzuführen. Hierzu können mit dem KMG und/oder der OME Messpunkte für eine Mehrzahl von Scanning-Linien in verschiedenen Messhöhen erzeugt werden. Auf Basis dieser Messpunkte kann dann die Inter- / Extrapolation erfolgen. Dies ermöglicht insbesondere auch die Berücksichtigung von verschiedenen Rundheit-Formmessabweichungen in verschiedenen Messhöhen. Diese verschiedenen Rundheit-Formmessabweichungen können insbesondere durch einen Geradheitsfehler bedingt sein.However, it is also possible to carry out the inter- / extrapolation on the basis of three coordinates of the measuring points. For this purpose, measuring points for a plurality of scanning lines at different measuring heights can be generated with the KMG and / or the OME. The inter- / extrapolation can then take place on the basis of these measuring points. In particular, this also enables the consideration of different roundness form measurement deviations at different measurement heights. These different roundness form measurement deviations can in particular be caused by a straightness error.
Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine genauere Bestimmung der korrigierten Messpunkte oder der korrigierten KMG-Abweichungswerte und somit eine genauere Bestimmung der Rundheit-Formmessabweichung des KMG.This advantageously results in a more precise determination of the corrected measuring points or the corrected CMM deviation values and thus a more precise determination of the roundness form measurement deviation of the CMM.
In einer weiteren Ausführungsform weist der Lehrring mindestens eine Referenzmarke auf, wobei die Lage der Referenzmarke mit dem Koordinatenmessgerät und der Oberflächenmesseinrichtung bestimmt wird. Die Lage wird hierbei im jeweiligen Koordinatensystem bestimmt.In a further embodiment, the ring gauge has at least one reference mark, the position of the reference mark being determined with the coordinate measuring device and the surface measuring device. The position is determined in the respective coordinate system.
Die Lage kann hierbei eine eindeutig bestimmbare Position der Referenzmarke (Referenzposition) und/oder eine eindeutige Orientierung der Referenzmarke (Referenzorientierung) bezeichnen oder umfassen. In Abhängigkeit der Lage der Referenzmarke kann auch eine Lage, also eine Position und/oder Orientierung, des Lehrrings im jeweiligen Koordinatensystem bestimmt werden. Insbesondere zur Bestimmung einer Referenzorientierung kann der Lehrring mehrere Referenzmarken aufweisen, beispielsweise entlang einer Linie, insbesondere entlang einer Radiallinie, angeordnete Referenzmarken. Diese Referenzmarken können zur Bestimmung von verschiedenen Referenzpositionen dienen.The position here can designate or include a clearly determinable position of the reference mark (reference position) and / or an unambiguous orientation of the reference mark (reference orientation). Depending on the position of the reference mark, a position, that is to say a position and / or orientation, of the ring gauge can also be determined in the respective coordinate system. In particular for determining a reference orientation, the ring gauge can have a plurality of reference marks, for example reference marks arranged along a line, in particular along a radial line. These reference marks can be used to determine different reference positions.
Weiter wird die Transformation in das gemeinsame Referenzkoordinatensystem in Abhängigkeit der Lage der Referenzmarke durchgeführt.The transformation into the common reference coordinate system is also carried out as a function of the position of the reference mark.
Beispielsweise kann eine Transformationsvorschrift für die Koordinaten der Punkte im Koordinatensystem des KMG und eine Transformationsvorschrift für die Koordinaten der Punkte im Koordinatensystem der Oberflächenmesseinrichtung derart bestimmt werden, dass die Lage der Referenzmarke bzw. die Lage des Lehrrings im gemeinsamen Referenzkoordinatensystem gleich ist oder sich nur um ein vorbestimmtes geringes Maß unterscheidet.For example, a transformation rule for the coordinates of the points in the coordinate system of the CMM and a transformation rule for the coordinates of the points in the coordinate system of the surface measuring device can be determined in such a way that the position of the reference mark or the position of the ring gauge in the common reference coordinate system is the same or only around one predetermined small amount differs.
Die Referenzmarke kann hierbei insbesondere derart ausgebildet sein, dass in mehreren Messvorgängen jeweils bestimmten Positionen und/oder Orientierungen gleich sind oder nur eine vorbestimmte geringe Abweichung voneinander aufweisen.In this case, the reference mark can in particular be designed in such a way that, in a plurality of measurement processes, respectively certain positions and / or orientations are the same or have only a predetermined slight deviation from one another.
Die Bestimmung der Lage der Referenzmarke kann in einem Scan-Vorgang erfolgen, der von dem Messvorgang zum Erzeugen von Messpunkten bzw. von Abweichungswerten verschieden ist.The position of the reference mark can be determined in a scanning process which is different from the measuring process for generating measuring points or deviation values.
Eine Referenzmarke kann insbesondere eine haptisch, also durch Antasten, erfassbare Referenzmarke sein. Hierbei kann die Lage der Referenzmarke durch ein taktil antastendes Messgerät, insbesondere durch ein Koordinatenmessgerät mit einem taktilen Sensor und durch eine Oberflächenmesseinrichtung, bestimmt werden.A reference mark can in particular be a haptically detectable reference mark, that is to say by touching it. Here, the position of the reference mark can be determined by a tactile measuring device, in particular by a coordinate measuring device with a tactile sensor and by a surface measuring device.
Eine Referenzmarke kann aber auch eine optisch, also durch optisches Erfassen, erfassbare Referenzmarke sein. Hierbei kann die Lage der Referenzmarke durch ein optisches Messgerät, insbesondere ein Koordinatenmessgerät mit einem optischen Sensor, bestimmt werden.However, a reference mark can also be a reference mark that can be detected optically, that is to say by optical detection. Here, the position of the reference mark can be determined by an optical measuring device, in particular a coordinate measuring device with an optical sensor.
Es ist möglich, dass in Abhängigkeit der Lage der Referenzmarke eine Referenzorientierung des Lehrrings bestimmt wird. Eine Referenzposition des Lehrrings kann insbesondere in diesem Fall auch als Position, insbesondere als x-Koordinate und y-Koordinate eines Mittelpunkts eines Referenzkreises bestimmt werden, wobei der Referenzkreis jeweils eine Referenzlinie für Messpunkte des KMG und für Messpunkte der OME, die entlang einer Scanning-Linie entlang der Messfläche erzeugt wurden, ist. Der Referenzkreis kann, wie vorhergehend erläutert, ein Minimumkreis sein.It is possible that a reference orientation of the ring gauge is determined depending on the position of the reference mark. In this case, a reference position of the ring gauge can also be determined as a position, in particular as the x-coordinate and y-coordinate of a center point of a reference circle, the reference circle each having a reference line for measuring points of the CMM and for measuring points of the OMR, which are located along a scanning Line generated along the measuring surface is. As previously explained, the reference circle can be a minimum circle.
Die Referenzorientierung kann insbesondere in Form eines Rotationswinkels um die zentrale Symmetrieachse des Lehrrings gegeben sein.The reference orientation can be given in particular in the form of an angle of rotation about the central axis of symmetry of the ring gauge.
Weiter vorgeschlagen wird ein Lehrring zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung eines Koordinatenmessgeräts. Ein solcher Lehrring wurde vorhergehend bereits erläutert.A ring gauge for determining a roundness form measurement deviation of a coordinate measuring machine is also proposed. Such a ring gauge has already been explained above.
Weiter weist der Lehrring mindestens eine Referenzmarke auf oder bildet diese aus. Weiter ist/sind die Lage, also eine Position und/oder eine Orientierung, der Referenzmarke(n) mit dem Koordinatenmessgerät bestimmbar. Auch kann die Lage der Referenzmarke mit einer gewünschten Oberflächenmesseinrichtung bestimmbar sein. Dies kann bedeuten, dass Koordinaten der Referenzmarke durch das KMG und gegebenenfalls durch die Oberflächenmesseinrichtung wiederholt und eindeutig, insbesondere in dem entsprechenden Koordinatensystem, bestimmt werden können.The ring gauge also has or forms at least one reference mark. Furthermore, the position, that is to say a position and / or an orientation, of the reference mark (s) can be determined with the coordinate measuring machine. The position of the reference mark can also be a desired Surface measuring device can be determined. This can mean that coordinates of the reference mark can be determined repeatedly and unambiguously by the CMM and possibly by the surface measuring device, in particular in the corresponding coordinate system.
Somit kann auch eine Position und/oder Orientierung des Lehrrings eindeutig in dem jeweiligen Koordinatensystem bestimmt werden.Thus, a position and / or orientation of the ring gauge can also be clearly determined in the respective coordinate system.
Die genaue und zuverlässige Bestimmung der Lage der Referenzmarke(n) ermöglicht in vorteilhafter Weise eine zuverlässige Transformation von Messpunkten in ein gemeinsames Referenzkoordinatensystem.The exact and reliable determination of the position of the reference mark (s) advantageously enables a reliable transformation of measuring points into a common reference coordinate system.
Ein derartiger Lehrring ermöglicht in vorteilhafter Weise, wie vorhergehend erläutert, die genauere Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung des KMG.Such a ring gauge advantageously enables, as explained above, the more precise determination of a roundness form measurement deviation of the CMM.
Weiter ist die Referenzmarke als Vertiefung im Bereich einer Stirnfläche des Lehrrings ausgebildet. Die Vertiefung kann insbesondere eine kegelförmige oder teilkegelförmige Vertiefung sein. Auch kann die Vertiefung eine pyramidenförmige oder teilpyramidenförmige Vertiefung sein. Dies ermöglicht in vorteilhafter Weise eine selbstzentrierende Antastung durch einen Taster eines Koordinatenmessgeräts und/oder einer Oberflächenmesseinrichtung und somit eine eindeutige und wiederholbare Bestimmung der Koordinaten der Referenzmarke. Selbstverständlich kann die Referenzmarke jedoch auch als zylinderförmige oder quaderförmige Vertiefung ausgebildet sein.The reference mark is also designed as a recess in the area of an end face of the ring gauge. The depression can in particular be a conical or part-conical depression. The depression can also be a pyramidal or partially pyramidal depression. This advantageously enables self-centering probing by means of a probe of a coordinate measuring machine and / or a surface measuring device and thus a clear and repeatable determination of the coordinates of the reference mark. Of course, the reference mark can also be designed as a cylindrical or cuboid recess.
Mehrere Referenzmarken, die jeweils als Vertiefungen ausgebildet sind, können voneinander verschiedene Radien aufweisen, um insbesondere das Antasten mit Tastkugeln verschiedener Radien zu ermöglichen. Dementsprechend kann auch eine maximale Breite von als Nuten ausgebildeten Referenzmarken voneinander verschieden sein.A plurality of reference marks, which are each designed as depressions, can have radii different from one another, in particular to enable probing with stylus balls of different radii. Accordingly, a maximum width of reference marks formed as grooves can also differ from one another.
Auch können mehrere Referenzmarken entlang einer geraden Linie, insbesondere einer Radiallinie des Lehrrings, angeordnet sein.Several reference marks can also be arranged along a straight line, in particular a radial line of the ring gauge.
Eine Vertiefung kann insbesondere zur Bestimmung eines Referenzpunkts dienen. Eine Linie, die durch mehrere entlang der Linie angeordneten Vertiefungen festgelegt ist, kann insbesondere zur Bestimmung einer Referenzorientierung dienen.A depression can be used in particular to determine a reference point. A line that is defined by a plurality of depressions arranged along the line can be used in particular to determine a reference orientation.
Durch das Anordnen der Referenzmarke im Bereich der Stirnfläche ergibt sich in vorteilhafter Weise, dass die Messfläche des Lehrrings keinen Bereich aufweist, der nicht zur Bestimmung der Rundheit-Formmessabweichung nutzbar ist. Die Messfläche weist keine Referenzmarke auf.By arranging the reference mark in the area of the end face, the result is advantageously that the measuring surface of the ring gauge does not have an area that cannot be used to determine the roundness form measurement deviation. The measuring surface has no reference mark.
Weiter ist die Referenzmarke oder eine weitere Referenzmarke als Nut im Bereich einer Stirnfläche des Lehrrings ausgebildet. Eine Nut kann hierbei insbesondere eine längliche Vertiefung bezeichnen. Die Nut kann insbesondere einen dreieckförmigen oder einen trapezförmigen Querschnitt aufweisen, wobei eine Querschnittsebene senkrecht zu einer zentralen Mittellinie der Nut orientiert ist.Furthermore, the reference mark or a further reference mark is designed as a groove in the area of an end face of the ring gauge. In this context, a groove can in particular denote an elongated depression. The groove can in particular have a triangular or trapezoidal cross section, a cross-sectional plane being oriented perpendicular to a central center line of the groove.
Auch beschrieben wird, dass die Referenzmarke oder eine weitere Referenzmarke als Nut im Bereich der Messfläche des Lehrrings ausgebildet sein kann. Die Nut kann sich hierbei parallel zu einer zentralen Längsachse des Lehrrings erstrecken. Weiter kann die Nut in einem (oberen oder unteren) Randbereich der Messfläche angeordnet sein.It is also described that the reference mark or another reference mark can be designed as a groove in the area of the measuring surface of the ring gauge. The groove can extend parallel to a central longitudinal axis of the ring gauge. Furthermore, the groove can be arranged in an (upper or lower) edge area of the measuring surface.
Es ist selbstverständlich möglich, dass alternativ oder kumulativ eine als Vertiefung ausgebildete Referenzmarke im Bereich der Messfläche angeordnet ist.It is of course possible that, alternatively or cumulatively, a reference mark designed as a recess is arranged in the area of the measuring surface.
Eine Nut, insbesondere die Mittellinie der Nut, kann insbesondere zur Bestimmung einer Referenzorientierung dienen.A groove, in particular the center line of the groove, can in particular serve to determine a reference orientation.
Hierdurch ergibt sich in vorteilhafter Weise eine einfache Erfassung der Lage der Referenzmarke, da ein Taster nicht durch eine aufwendige Steuerung in den Bereich der Stirnfläche bewegt werden muss. Auch ist es in vorteilhafter Weise möglich, die Lage der Referenzmarke mit einem Tastelement zu bestimmen, welches auch zur Vermessung genutzt wird, z.B. einem Scheibentaster.This advantageously results in a simple detection of the position of the reference mark, since a button does not have to be moved into the area of the end face by means of a complex control. It is also advantageously possible to determine the position of the reference mark with a feeler element which is also used for measuring, e.g. a disc button.
Weiter vorgeschlagen wird eine Vorrichtung zur Bestimmung einer Rundheit-Formmessabweichung eines Koordinatenmessgeräts. Die Vorrichtung ermöglicht in vorteilhafter Weise die Durchführung eines Verfahrens gemäß einer in dieser Offenbarung beschriebenen Ausführungsform.A device for determining a roundness form measurement deviation of a coordinate measuring machine is also proposed. The device advantageously enables a method to be carried out in accordance with an embodiment described in this disclosure.
Die Vorrichtung umfasst mindestens eine Auswerteeinrichtung. Die Auswerteeinrichtung kann z.B. als Mikrocontroller ausgebildet sein oder einen solchen umfassen. Die Auswerteeinrichtung ist daten- und/oder signaltechnisch mit dem Koordinatenmessgerät und mit einer Oberflächenmesseinrichtung verbindbar. Hierzu kann die Auswerteeinrichtung beispielsweise entsprechende Schnittstellen aufweisen.The device comprises at least one evaluation device. The evaluation device can e.g. be designed as a microcontroller or include one. The evaluation device can be connected to the coordinate measuring device and to a surface measuring device in terms of data and / or signals. For this purpose, the evaluation device can have appropriate interfaces, for example.
Die Auswerteeinrichtung kann Teil des Koordinatenmessgeräts sein. Beispielsweise kann die Auswerteeinrichtung durch eine Steuer- und/oder Auswerteeinrichtung des Koordinatenmessgeräts ausgebildet werden. Alternativ oder kumulativ kann die Auswerteeinrichtung auch Teil der Oberflächenmesseinrichtung sein. Vorzugsweise ist jedoch die Auswerteeinrichtung nicht Teil des Koordinatenmessgeräts und nicht Teil der Oberflächenmesseinrichtung.The evaluation device can be part of the coordinate measuring machine. For example, the evaluation device can be formed by a control and / or evaluation device of the coordinate measuring device. Alternatively or cumulatively the evaluation device can also be part of the surface measuring device. However, the evaluation device is preferably not part of the coordinate measuring device and not part of the surface measuring device.
Mittels der Auswerteeinrichtung ist ein Messergebnis einer Vermessung einer Messfläche eines Lehrrings mit dem Koordinatenmessgerät in Abhängigkeit eines Messergebnisses einer Vermessung der Messfläche des Lehrrings mit der Oberflächenmesseinrichtung korrigierbar und die Rundheit-Formmessabweichung des KMG in Abhängigkeit des korrigierten Messergebnisses bestimmbar.By means of the evaluation device, a measurement result of a measurement of a measuring surface of a ring gauge with the coordinate measuring machine can be corrected as a function of a measurement result of a measurement of the measurement surface of the ring gauge with the surface measuring device and the roundness form measurement deviation of the CMM can be determined as a function of the corrected measurement result.
Weiter können mittels der Auswerteeinrichtung ein Messergebnis einer Vermessung einer Messfläche eines Lehrrings mit dem Koordinatenmessgerät und ein Messergebnis einer Vermessung der Messfläche des Lehrrings mit der Oberflächenmesseinrichtung bestimmbar sein.Furthermore, the evaluation device can be used to determine a measurement result of a measurement of a measuring surface of a ring gauge with the coordinate measuring device and a measurement result of a measurement of the measurement surface of the ring gauge with the surface measurement device.
Dies und entsprechende Vorteile wurden vorhergehend erläutert.This and corresponding advantages have been explained above.
Weiter kann die Auswerteeinrichtung mindestens eine Filtereinrichtung zur Filterung der KMG-Messpunkte, zur Filterung der OME-Messpunkte oder zur Filterung der KMG-Abweichungswerte und/oder zur Filterung der OME-Abweichungswerte umfassen oder ausbilden.Furthermore, the evaluation device can include or form at least one filter device for filtering the CMM measurement points, for filtering the OMR measurement points or for filtering the CMM deviation values and / or for filtering the OMR deviation values.
Weiter kann mittels der Auswerteeinrichtung die Lage mindestens einer Referenzmarke des Lehrrings bestimmbar sein. Weiter kann mittels der Auswerteeinrichtung eine Transformationsvorschrift zur Transformation der Abweichungswerte in ein gemeinsames Referenzkoordinatensystem bestimmbar und eine entsprechende Transformation durchführbar sein.Furthermore, the position of at least one reference mark of the ring gauge can be determined by means of the evaluation device. Furthermore, a transformation rule for transforming the deviation values into a common reference coordinate system can be determined and a corresponding transformation can be carried out by means of the evaluation device.
Weiter beschrieben wird ein System, welches die erläuterte Vorrichtung, das Koordinatenmessgerät und die Oberflächenmesseinrichtung umfasst. Hierbei sind das Koordinatenmessgerät und/oder die Oberflächenmesseinrichtung daten- und/oder signaltechnisch mit der Vorrichtung verbunden. Das System kann hierbei auch einen Lehrring gemäß einer der in dieser Offenbarung beschriebenen Ausführungsformen umfassen.A system is further described which comprises the explained device, the coordinate measuring machine and the surface measuring device. Here, the coordinate measuring device and / or the surface measuring device are connected to the device in terms of data and / or signals. The system can also include a ring gauge in accordance with one of the embodiments described in this disclosure.
Weiter beschrieben wird ein Computerprogrammprodukt, wobei in oder auf dem Computerprogrammprodukt ein Code zur Ausführung eines Verfahrens gemäß einer in dieser Offenbarung beschriebenen Ausführungsform gespeichert ist. Insbesondere kann das Computerprogrammprodukt ein Computerprogramm enthalten, welches Softwaremittel zur Durchführung eines solchen Verfahrens aufweist, wenn das Computerprogramm in einem Automatisierungssystem ausgeführt wird.A computer program product is further described, code for executing a method according to an embodiment described in this disclosure being stored in or on the computer program product. In particular, the computer program product can contain a computer program which has software means for carrying out such a method when the computer program is executed in an automation system.
Die Erfindung wird anhand eines Ausführungsbeispiels näher erläutert. Die Figuren zeigen:
-
1 eine schematische Draufsicht auf einen Lehrring, -
2 einen Querschnitt durch den in2 dargestellten Lehrring, -
3 eine exemplarische Darstellung von Messpunkten eines KMG in einem kartesischen Koordinatensystem, -
4 eine exemplarische Darstellung der Messpunkte aus3 in einem Polarkoordinatensystem, -
5 eine exemplarische Darstellung von gefilterten Messpunkten des KMG in einem kartesischen Koordinatensystem, -
6 eine schematische Darstellung OME-Abweichungswerten für verschiedene Messhöhen, -
7 eine exemplarische Darstellung von OME-Abweichungswerten in einem Polarkoordinatensystem, -
8 eine exemplarische Darstellung der in7 dargestellten Messwerte in einem kartesischen Koordinatensystem, -
9 eine exemplarische Darstellung von gefilterten OME-Abweichungswerten in einem Polarkoordinatensystem, -
10 eine exemplarische Darstellung der in9 dargestellten Abweichungswerte in einem Polarkoordinatensystem, -
11 eine exemplarische Darstellung von ungefilterten KMG-Abweichungswerten und lagerichtigen OME-Abweichungswerten, -
12 eine exemplarische Darstellung von korrigierten und unkorrigierten Abweichungswerten in einem kartesischen Koordinatensystem, -
13 eine weitere exemplarische Draufsicht auf einen Lehrring, -
14 eine exemplarische Darstellung einer Gradheitsmessung an dem Lehrring, -
15 ein schematisches Flussdiagramm eines erfindungsgemäße Verfahrens und -
16 ein schematisches Blockschaltbild einer erfindungsgemäßen Vorrichtung.
-
1 a schematic plan view of a ring gauge, -
2 a cross section through the in2 illustrated ring gauge, -
3 an exemplary representation of measuring points of a CMM in a Cartesian coordinate system, -
4th an exemplary representation of the measuring points3 in a polar coordinate system, -
5 an exemplary representation of filtered measuring points of the CMM in a Cartesian coordinate system, -
6 a schematic representation of OMR deviation values for different measuring heights, -
7th an exemplary representation of OMR deviation values in a polar coordinate system, -
8th an exemplary representation of the in7th displayed measured values in a Cartesian coordinate system, -
9 an exemplary representation of filtered OMR deviation values in a polar coordinate system, -
10 an exemplary representation of the in9 displayed deviation values in a polar coordinate system, -
11 an exemplary representation of unfiltered CMM deviation values and correctly positioned OME deviation values, -
12 an exemplary representation of corrected and uncorrected deviation values in a Cartesian coordinate system, -
13 another exemplary top view of a ring gauge, -
14th an exemplary representation of a straightness measurement on the ring gauge, -
15th a schematic flow diagram of a method according to the invention and -
16 a schematic block diagram of a device according to the invention.
Nachfolgend bezeichnen gleiche Bezugszeichen Elemente mit gleichen oder ähnlichen technischen Merkmalen.In the following, the same reference symbols designate elements with the same or similar technical features.
In
Weiter dargestellt ist eine Vertiefung
Weiter dargestellt ist eine erste Nut
Eine Position der Vertiefung
Die Ausführungen beziehen sich auf einen Lehrring
Alternativ oder zusätzlich vorstellbar sind optische Referenzmarken, deren Lage z.B. durch einen optischen Sensor und eine entsprechende Bildauswertung bestimmbar ist. Daher gelten die Ausführungen ebenfalls für optische Referenzmarken und optisch antastende Systeme.Alternatively or additionally conceivable are optical reference marks whose position e.g. can be determined by an optical sensor and a corresponding image evaluation. The explanations therefore also apply to optical reference marks and optical probing systems.
Die Position und/oder Orientierung der Referenzmarken können hierbei durch ein Koordinatenmessgerät
Die erste und die weitere Nut
Eine Referenzposition des Lehrrings
Eine Transformationsvorschrift für eine Transformation der Messpunkte des KMG
Ein punktspezifischer KMG-Abweichungswert kann hierbei als radialer Abstand eines Messpunktes von der kreisförmigen Referenzkurve
In
Eine erste OME-Formkurve
Die OME-Abweichungswerte
Weiter dargestellt sind eine zweite OME-Formkurve
Geht man, wie in
Somit stellt die OME-Abweichungswert-Kurve
Die Kurve
Weiter dargestellt ist eine Kurve
Ebenfalls dargestellt ist eine weitere kreisförmige Referenzkurve
Die Rundheit-Formmessabweichung des KMG
In einem zweiten Schritt
In einem weiteren Schritt
In einem weiteren Schritt
In einem weiteren Schritt
Es kann hierfür erforderlich sein, die in einem Polarkoordinatensystem bestimmten Messpunkte, denen OME-Abweichungswerte zugeordnet sind, in ein kartesisches Koordinatensystem umzurechnen. Die Transformation von einem kartesischen Koordinatensystem in ein Polarkoordinatensystem ist dem Fachmann hierbei bekannt.For this, it may be necessary to convert the measurement points determined in a polar coordinate system, to which OMR deviation values are assigned, into a Cartesian coordinate system. The transformation from a Cartesian coordinate system into a polar coordinate system is known to the person skilled in the art.
In einem weiteren Schritt
In einem weiteren Schritt
In einem weiteren Schritt
Die resultierenden korrigierten Messpunkte können in einem weiteren Schritt
Weiter kann in für diese gefilterten korrigierten Messpunkte in einem weiteren Schritt
Eine unkorrigierte Rundheit-Formmessabweichung des KMG
Es ist z.B. möglich, dass eine unkorrigierte Rundheit-Formmessabweichung des KMG
Nur schematisch dargestellt ist die Oberflächenmesseinrichtung
Weiter kann die Auswerteeinrichtung
BezugszeichenlisteList of reference symbols
- 11
- LehrringRing gauge
- 22
- StirnflächeFace
- 33
- MessflächeMeasuring surface
- 44th
- Vertiefungdeepening
- 4a, ..., 4f4a, ..., 4f
- Vertiefungdeepening
- 55
- erste Nutfirst groove
- 66th
- KoordinatenmessgerätCoordinate measuring machine
- 77th
- weitere Nutfurther groove
- 88th
- OberflächenmesseinrichtungSurface measuring device
- 99
- Kurve von unkorrigierten Messpunkten des KMGCurve of uncorrected measuring points of the CMM
- 1010
- kreisförmige Referenzkurvecircular reference curve
- 1111
- Kurve von gefilterten Messpunkten des KMGCurve of filtered measuring points of the CMM
- 1212
- kreisförmige Referenzkurvecircular reference curve
- 1313th
- erste Formkurve der Messfläche in einer ersten Messhöhefirst shape curve of the measuring surface at a first measuring height
- 1414th
- zweite Formkurve der Messfläche in einer zweiten Messhöhesecond shape curve of the measuring surface at a second measuring height
- 1515th
- dritte Formkurve der Messfläche in einer dritten Messhöhethird shape curve of the measuring surface at a third measuring height
- 1616
- vierte Formkurve der Messfläche in einer vierten Messhöhefourth shape curve of the measuring surface at a fourth measuring height
- 1717th
- Kurve von OME-AbweichungswertenCurve of OMR deviation values
- 1818th
- verschobene Kurve von OME-Abweichungswertenshifted curve of OMR deviation values
- 1919th
- Kurve von verschobenen OME-Abweichungswerten in einem kartesischen KoordinatensystemCurve of shifted OMR deviation values in a Cartesian coordinate system
- 2020th
- kreisförmige Referenzkurvecircular reference curve
- 2121st
- Kurve von gefilterten, verschobenen OME-Abweichungswerten in einem kartesischen KoordinatensystemCurve of filtered, shifted OMR deviation values in a Cartesian coordinate system
- 2222nd
- kreisförmige Referenzkurvecircular reference curve
- 2323
- KMG-AbweichungswerteCMM deviation values
- 2424
- Kurve von gefilterten, verschobenen OME-Abweichungswerten in einem PolarkoordinatensystemCurve of filtered, shifted OMR deviation values in a polar coordinate system
- 2525th
-
Kurve von korrigierten Messpunkten des KMG
2 Curve of corrected measuring points of theCMM 2 - 2626th
- kreisförmige Referenzkurvecircular reference curve
- 2727
- AuswerteeinrichtungEvaluation device
- 2828
- MesstischMeasuring table
- 2929
- verfahrbare Brückemovable bridge
- 3030th
- TastkugelStylus ball
- 3131
- PinoleQuill
- 3232
- erste Geradheitskurvefirst straightness curve
- 3333
- erste Geradheitskurvefirst straightness curve
- 3434
- erste Geradheitskurvefirst straightness curve
- 3535
- erste Geradheitskurvefirst straightness curve
- 3636
- MessbereichMeasuring range
- 3737
- MesskopfMeasuring head
- S1_KMGS1_KMG
- VerfahrensschrittProcess step
- S2_KMGS2_KMG
- VerfahrensschrittProcess step
- S1_OMES1_OME
- VerfahrensschrittProcess step
- S2_OMES2_OME
- VerfahrensschrittProcess step
- S3S3
- VerfahrensschrittProcess step
- S4S4
- VerfahrensschrittProcess step
- S5S5
- VerfahrensschrittProcess step
- S6S6
- VerfahrensschrittProcess step
- S7S7
- VerfahrensschrittProcess step
- S8S8
- VerfahrensschrittProcess step
- S9S9
- VerfahrensschrittProcess step
- xx
- erste Raumachsefirst spatial axis
- yy
- zweite Raumachsesecond spatial axis
- zz
- dritte Raumachsethird spatial axis
- D_KMGD_KMG
- KMG-AbweichungswerteCMM deviation values
- D_OMED_OME
- OME-AbweichungswerteOMR deviation values
- D_OME_filtD_OME_filt
- gefilterte OME-Abweichungswertefiltered OMR deviation values
Claims (11)
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE102016206986.1A DE102016206986B4 (en) | 2016-04-25 | 2016-04-25 | Method and device for determining a roundness form measurement deviation and ring gauge |
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-
2016
- 2016-04-25 DE DE102016206986.1A patent/DE102016206986B4/en active Active
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Also Published As
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