DE102016123535A1 - Component with a radiation-emitting optoelectronic component - Google Patents

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Frank Singer
Matthias Bruckschlögl
Siegfried Herrmann
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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Bauteil (1) mit einem strahlungsemittierenden optoelektronischen Bauelement (2), wobei das Bauelement (2) mit einer Unterseite auf einer Oberseite (30) eines ersten Trägers (3) angeordnet ist, wobei der erste Träger (3) transparent für die Strahlung des Bauelementes (2) ist, wobei der erste Träger (3) mit einer Unterseite (31) auf einer Oberseite (13) eines zweiten Trägers (4) angeordnet ist, wobei der zweite Träger (4) zweite elektrische Kontakte (10, 11) aufweist, wobei die zweiten elektrischen Kontakte (10, 11) über elektrische Leitungen (16, 17) mit elektrischen Kontakten (14, 15) des Bauelementes (2) verbunden sind.The invention relates to a component (1) having a radiation-emitting optoelectronic component (2), wherein the component (2) is arranged with a lower side on an upper side (30) of a first carrier (3), wherein the first carrier (3) is transparent to the radiation of the component (2) is arranged, wherein the first carrier (3) with a lower side (31) is arranged on an upper side (13) of a second carrier (4), wherein the second carrier (4) second electrical contacts (10, 11), wherein the second electrical contacts (10, 11) via electrical lines (16, 17) with electrical contacts (14, 15) of the component (2) are connected.

Description

Die Erfindung betrifft ein Bauteil mit einem strahlungsemittierenden optoelektronischen Bauelement gemäß Patentanspruch 1 und ein Verfahren zum Herstellen eines Bauteils gemäß Patentanspruch 17.The invention relates to a component with a radiation-emitting optoelectronic component according to patent claim 1 and a method for producing a component according to patent claim 17.

Im Stand der Technik ist es bekannt, ein Bauteil mit einem Halbleiterchip und einem Saphirsubstrat auf einem versilberten QFN-Lead Frame anzuordnen. Der Halbleiterchip mit dem Saphirsubstrat sitzt direkt auf dem Lead Frame ohne Kavität auf. Der Halbleiterchip ist über Bonddrähte kontaktiert und mit einer Umhüllung aus Silikon mit Konvertermaterial umgeben.In the prior art, it is known to arrange a component with a semiconductor chip and a sapphire substrate on a silver-plated QFN lead frame. The semiconductor chip with the sapphire substrate sits directly on the lead frame without cavity. The semiconductor chip is contacted via bonding wires and surrounded by a cladding made of silicone with converter material.

Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein verbessertes Bauteil und ein verbessertes Verfahren zum Herstellen des Bauteils bereitzustellen.The object of the invention is to provide an improved component and an improved method for producing the component.

Die Aufgaben der Erfindung werden durch die unabhängigen Patentansprüche gelöst.The objects of the invention are solved by the independent claims.

In den abhängigen Ansprüchen sind weitere Ausführungsformen der Erfindung angegeben.In the dependent claims further embodiments of the invention are given.

Ein Vorteil des vorgeschlagenen Bauteils besteht darin, dass weniger Verlustflächen für die elektromagnetische Strahlung in der Nähe der Emissionsflächen vorgesehen sind. Dadurch wird eine höhere Lichtausbeute erreicht. Zudem kann das vorgeschlagene Bauteil einfach und kostengünstig hergestellt werden.An advantage of the proposed device is that fewer loss surfaces are provided for the electromagnetic radiation in the vicinity of the emission surfaces. As a result, a higher light output is achieved. In addition, the proposed component can be produced easily and inexpensively.

Es wird ein Bauteil mit einem strahlungsemittierenden optoelektronischen Bauelement vorgeschlagen, wobei das Bauteil mit einer Unterseite auf einer Oberseite eines ersten Trägers angeordnet ist. Der erste Träger ist transparent ausgebildet für die elektromagnetische Strahlung des Bauelementes. Der erste Träger ist mit einer Unterseite auf einer Oberseite eines zweiten Trägers angeordnet. Der zweite Träger weist zweite elektrische Kontakte auf, wobei die zweiten elektrischen Kontakte über elektrische Leitungen mit elektrischen Kontakten des Bauelementes verbunden sind. Eine Oberseite des Bauelementes und Seitenflächen des Bauelementes sind mit einer Schutzschicht versehen. Die Schutzschicht ist transparent für die Strahlung des Bauelementes.It is proposed a component with a radiation-emitting optoelectronic component, wherein the component is arranged with a lower side on an upper side of a first carrier. The first carrier is transparent to the electromagnetic radiation of the component. The first carrier is arranged with a lower side on an upper side of a second carrier. The second carrier has second electrical contacts, wherein the second electrical contacts are connected via electrical lines with electrical contacts of the component. An upper side of the component and side surfaces of the component are provided with a protective layer. The protective layer is transparent to the radiation of the component.

Durch die Anordnung des ersten Trägers zwischen dem optoelektronischen Bauelement und dem zweiten Träger wird ein größerer Abstand zwischen dem zweiten Träger, der immer eine Verlustfläche für die elektromagnetische Strahlung des Bauelementes darstellt. Auch mit einer Spiegelschicht weist der zweite Träger nur eine begrenzte Reflektivität für die elektromagnetische Strahlung auf und stellt eine Verlustfläche dar. Durch die Anordnung des ersten Trägers werden Verluste bei der Abstrahlung elektromagnetischer Strahlung reduziert.The arrangement of the first carrier between the optoelectronic component and the second carrier, a larger distance between the second carrier, which always represents a loss surface for the electromagnetic radiation of the device. Even with a mirror layer, the second carrier has only a limited reflectivity for the electromagnetic radiation and represents a loss surface. Due to the arrangement of the first carrier, losses in the emission of electromagnetic radiation are reduced.

In einer anderen Ausführungsform weist die Unterseite des ersten Trägers eine kleinere Fläche als die Oberseite des zweiten Trägers auf. Dadurch ist nicht die gesamte Oberseite des zweiten Trägers mit dem ersten Träger abgedeckt, es wird jedoch trotzdem ein gewünschter Abstand zwischen dem Bauelement und dem zweiten Träger realisiert. Der erste Träger ist beispielsweise mittig auf dem zweiten Träger angeordnet.In another embodiment, the underside of the first carrier has a smaller area than the top of the second carrier. As a result, not the entire upper side of the second carrier is covered with the first carrier, but nevertheless a desired distance between the component and the second carrier is realized. The first carrier is arranged, for example, centrally on the second carrier.

In einer weiteren Ausführungsform weist der zweite Träger zwei Leiterrahmenabschnitte auf, die in ein Trägermaterial eingebettet sind. Dabei können die zwei Leiterrahmenabschnitte die zweiten elektrischen Kontakte bilden, wobei jeweils eine elektrische Leitung mit einer Oberseite eines Leiterrahmenabschnittes verbunden ist. Die zweiten Seiten der Leiterrahmenabschnitte, die z.B. auf der unteren Seite des zweiten Trägers angeordnet sind, können elektrische Anschlüsse des Bauteils darstellen.In a further embodiment, the second carrier has two leadframe sections, which are embedded in a carrier material. In this case, the two lead frame sections may form the second electrical contacts, wherein in each case one electrical line is connected to an upper side of a leadframe section. The second sides of the leadframe sections, e.g. are arranged on the lower side of the second carrier, can represent electrical connections of the component.

In einer Ausführungsform ist der erster Träger auf wenigstens einem, insbesondere auf beiden Leiterrahmenabschnitten angeordnet. Dadurch wird eine stabile Anordnung des ersten Trägers auf dem zweiten Träger erreicht.In one embodiment, the first carrier is arranged on at least one, in particular on both leadframe sections. This achieves a stable arrangement of the first carrier on the second carrier.

In einer weiteren Ausführungsform weist der erste Träger eine Oberseite auf, die wenigstens eine Größe der Unterseite des Bauelementes aufweist. Dadurch wird das Bauelement mit der gesamten Unterseite vom ersten Träger getragen. Dadurch wird eine stabile Anordnung und eine über die Fläche der Unterseite des Bauelementes gleiche Strahlungsführung für die elektromagnetische Strahlung erreicht.In a further embodiment, the first carrier has an upper side which has at least one size of the underside of the component. As a result, the component with the entire underside is supported by the first carrier. This achieves a stable arrangement and a radiation guidance for the electromagnetic radiation which is the same over the surface of the underside of the component.

In einer weiteren Ausführungsform weist der erste Träger geneigt angeordnete Seitenflächen auf. Die Seitenflächen können von der Unterseite des Trägers in Richtung auf die Oberseite des ersten Trägers nach innen geneigt angeordnet sein. In einer weiteren Ausführungsform sind die Seitenflächen des ersten Trägers geneigt von der Unterseite des ersten Trägers in Richtung auf die Oberseite des ersten Trägers nach außen angeordnet. Beide Ausführungsformen können zu einer Erhöhung der abgestrahlten Lichtleistung beitragen.In a further embodiment, the first carrier has inclined side surfaces. The side surfaces may be inclined inwardly from the underside of the carrier towards the top of the first carrier. In a further embodiment, the side surfaces of the first carrier are arranged inclined from the bottom of the first carrier in the direction of the top of the first carrier to the outside. Both embodiments can contribute to an increase in the radiated light output.

In einer weiteren Ausführungsform ist der erste Träger über eine Verbindungsschicht, insbesondere über eine Klebeschicht mit dem Bauelement und/oder mit dem zweiten Träger verbunden. Dadurch kann ein stabiler und einfacher Aufbau des Bauteils erreicht werden. Zudem kann die Klebeschicht aus einem für die elektromagnetische Strahlung des Bauelementes transparenten Material bestehen. Somit wird durch das Vorsehen der Klebeschicht die Abstrahlung der elektromagnetischen Strahlung nicht oder kaum beeinflusst.In a further embodiment, the first carrier is connected to the component and / or to the second carrier via a connecting layer, in particular via an adhesive layer. As a result, a stable and simple construction of the component can be achieved. In addition, the adhesive layer can consist of a material which is transparent to the electromagnetic radiation of the component. Thus, by providing the adhesive layer, the Radiation of electromagnetic radiation is not or hardly influenced.

In einer weiteren Ausführungsform weist der erste Träger eine Ausnehmung auf, wobei das Bauelement wenigstens teilweise in der Ausnehmung angeordnet ist. Dadurch kann ein einfacher Aufbau des Bauteils erreicht werden. Das Bauelement kann einfach in die Ausnehmung eingelegt werden.In a further embodiment, the first carrier has a recess, wherein the component is at least partially disposed in the recess. As a result, a simple construction of the component can be achieved. The component can be easily inserted into the recess.

In einer weiteren Ausführungsform ist die Ausnehmung durchgehend durch den ersten Träger ausgebildet. Bei dieser Ausführungsform kann das Bauteil seitlich über die Ausnehmung und über die Seitenflächen des ersten Trägers hinausragen. Mithilfe dieser Ausführungsform kann eine einfache und schnelle Montage des Bauelementes in dem ersten Träger erreicht werden. Zudem kann Material des ersten Trägers eingespart werden, ohne die Abstrahlung der elektromagnetischen Strahlung wesentlich gegenüber einem größeren ersten Träger zu beeinträchtigen.In a further embodiment, the recess is formed continuously through the first carrier. In this embodiment, the component can protrude laterally beyond the recess and over the side surfaces of the first carrier. By means of this embodiment, a simple and rapid assembly of the component in the first carrier can be achieved. In addition, material of the first carrier can be saved without significantly affecting the radiation of the electromagnetic radiation with respect to a larger first carrier.

In einer Ausführungsform weist das Bauelement eine Halbleiterschichtstruktur mit einer aktiven Zone zum Erzeugen elektromagnetischer Strahlung auf. Zudem weist das Bauelement ein Trägersubstrat auf, auf dem die Halbleiterschichtstruktur angeordnet ist. Das Trägersubstrat ist vorzugsweise transparent für die elektromagnetische Strahlung der Halbleiterschichtstruktur. Trägersubstrat kann beispielsweise aus Saphir bestehen.In one embodiment, the device has a semiconductor layer structure with an active zone for generating electromagnetic radiation. In addition, the component has a carrier substrate on which the semiconductor layer structure is arranged. The carrier substrate is preferably transparent to the electromagnetic radiation of the semiconductor layer structure. Carrier substrate may for example consist of sapphire.

In einer Ausführungsform weist das Bauelement die Halbleiterschichtstruktur und das Trägersubstrat auf, wobei die Halbleiterschichtstruktur dem ersten Träger zugewandt ist. Die Halbleiterschichtstruktur kann direkt oder über eine Verbindungsschicht mit dem ersten Träger verbunden sein. Der erste Träger weist Durchkontaktierungen auf. Die Durchkontaktierungen sind mit elektrischen Kontakten des Bauelementes verbunden. Zudem sind die Durchkontaktierungen mit den elektrischen Kontakten des zweiten Trägers verbunden.In one embodiment, the component has the semiconductor layer structure and the carrier substrate, wherein the semiconductor layer structure faces the first carrier. The semiconductor layer structure may be connected to the first carrier directly or via a connection layer. The first carrier has vias. The vias are connected to electrical contacts of the device. In addition, the plated-through holes are connected to the electrical contacts of the second carrier.

In einer Ausführungsform weist der erste Träger angrenzend an das Bauelement und/oder angrenzend an den zweiten Träger wenigstens einen Bereich mit einem gegenüber dem Material des ersten Trägers kleineren Brechungsindex auf. Dadurch wird der Strahlungsübergang verbessert. Der Bereich mit dem kleineren Brechungsindex kann durch eine weitere Ausnehmung im ersten Träger realisiert sein. Die weitere Ausnehmung kann mit einem Stoff, insbesondere mit einem Gas gefüllt sein. Zudem können die weiteren Ausnehmungen mit Luft gefüllt sein oder Vakuum aufweisen. Es können jedoch auch andere Materialien in den weiteren Ausnehmungen enthalten sein, die einen gegenüber dem Material des ersten Trägers kleineren Brechungsindex aufweisen. Die weiteren Ausnehmungen können in Form einer rauen Oberfläche oder in Form von zufällig verteilten Strukturen ausgebildet sein. Die weiteren Ausnehmungen können Tiefen von einigen µm bis einigen 100 µm oder größer aufweisen.In one embodiment, the first carrier has, adjacent to the component and / or adjacent to the second carrier, at least one region with a smaller refractive index than the material of the first carrier. This improves the radiation transition. The area with the smaller refractive index can be realized by a further recess in the first carrier. The further recess may be filled with a substance, in particular with a gas. In addition, the further recesses may be filled with air or have a vacuum. However, other materials may also be contained in the further recesses, which have a smaller refractive index than the material of the first carrier. The further recesses may be in the form of a rough surface or in the form of randomly distributed structures. The further recesses may have depths of a few microns to several 100 microns or larger.

Durch die weiteren Ausnehmungen werden Strahlungsverluste beim Übergang der elektromagnetischen Strahlung zwischen dem Bauelement und dem ersten Träger und/oder zwischen dem ersten Träger und dem zweiten Träger reduziert. Dabei kann die gesamte Oberseite des ersten Trägers und/oder die gesamte Unterseite des ersten Trägers mit Bereichen mit kleineren Brechungsindizes versehen sein. Dabei kann nur eine große weitere Ausnehmung oder eine Vielzahl von kleineren weiteren Ausnehmungen an der Oberseite und/oder an der Unterseite des ersten Trägers vorgesehen sein. Je größer die Fläche der weiteren Ausnehmungen an der Oberseite und/oder an der Unterseite des ersten Trägers ist, umso geringer sind die Strahlungsverluste beim Übergang vom Bauelement in den ersten Träger und vom ersten Träger zum zweiten Träger.Radiation losses during the transition of the electromagnetic radiation between the component and the first carrier and / or between the first carrier and the second carrier are reduced by the further recesses. In this case, the entire upper side of the first carrier and / or the entire lower side of the first carrier may be provided with regions with smaller refractive indices. In this case, only a large additional recess or a plurality of smaller further recesses may be provided on the upper side and / or on the underside of the first carrier. The larger the area of the further recesses on the upper side and / or on the underside of the first carrier, the lower the radiation losses during the transition from the component into the first carrier and from the first carrier to the second carrier.

Die vorstehend erläuterten und/oder in den Unteransprüchen wiedergegebenen vorteilhaften Aus- und Weiterbildungen der Erfindung können einzeln oder auch in beliebiger Kombination miteinander zur Anwendung kommen.The above-described and / or reproduced in the dependent claims advantageous embodiments and refinements of the invention can be used individually or in any combination with each other.

Die oben beschriebenen Eigenschaften, Merkmale und Vorteile dieser Erfindung sowie die Art und Weise, wie diese erreicht werden, werden klarer und deutlicher verständlich in Zusammenhang mit der folgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen, die im Zusammenhang mit den schematischen Zeichnungen erläutert werden. Es zeigen:

  • 1 einen schematischen Querschnitt durch eine erste Ausführungsform eines Bauteils,
  • 2 einen Querschnitt durch eine zweite Ausführungsform eines Bauteils,
  • 3 einen Querschnitt durch eine dritte Ausführungsform eines Bauteils,
  • 4 einen Querschnitt durch eine vierte Ausführungsform eines Bauteils,
  • 5 eine schematische Darstellung eines ersten Montageverfahrens,
  • 6 einen schematischen Querschnitt durch ein Bauteil, das gemäß dem Montageverfahren der 5 hergestellt wurde,
  • 7 eine schematische Darstellung eines zweiten Montageverfahrens,
  • 8 einen Querschnitt durch ein Bauteil, das gemäß dem Verfahren der 7 hergestellt wurde,
  • 9 eine weitere Ausführungsform eines Bauteils mit einem ersten Träger mit Durchkontaktierungen, und
  • 10 eine schematische Darstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels mit Ausnehmungen an Seitenflächen des ersten Trägers.
The above-described characteristics, features, and advantages of this invention, as well as the manner in which they will be achieved, will become clearer and more clearly understood in connection with the following description of exemplary embodiments which will be described in conjunction with the schematic drawings. Show it:
  • 1 a schematic cross section through a first embodiment of a component,
  • 2 a cross section through a second embodiment of a component,
  • 3 a cross section through a third embodiment of a component,
  • 4 a cross section through a fourth embodiment of a component,
  • 5 a schematic representation of a first assembly method,
  • 6 a schematic cross section through a component, according to the assembly method of 5 was produced,
  • 7 a schematic representation of a second assembly method,
  • 8th a cross section through a component, which according to the method of 7 was produced,
  • 9 a further embodiment of a component with a first carrier with vias, and
  • 10 a schematic representation of another embodiment with recesses on side surfaces of the first carrier.

1 zeigt in einem schematischen Querschnitt eine erste Ausführungsform eines Bauteils 1, wobei das Bauteil 1 ein strahlungsemittierendes optoelektronisches Bauelement 2 aufweist. Das Bauelement 2 ist mit einer Unterseite auf einer Oberseite eines ersten Trägers 3 angeordnet. Der erste Träger 3 ist transparent für die Strahlung des Bauelementes ausgebildet. Der erste Träger 3 ist mit einer Unterseite auf einer Oberseite eines zweiten Trägers 4 angeordnet. Der zweite Träger 4 kann intransparent für die Strahlung des Bauelementes sein. Zudem sind das Bauelement 2 und der erste Träger 3 mit einer Schutzschicht in Form einer Umhüllung 5 versehen. Die Schutzschicht 5 kann Konversionsmaterial zum Konvertieren der Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung des Bauelementes 2 aufweisen. 1 shows in a schematic cross section a first embodiment of a component 1 , where the component 1 a radiation-emitting optoelectronic component 2 having. The component 2 is with a base on a top of a first vehicle 3 arranged. The first carrier 3 is transparent to the radiation of the component. The first carrier 3 is with a base on a top of a second vehicle 4 arranged. The second carrier 4 may be intransparent to the radiation of the device. In addition, the component 2 and the first carrier 3 with a protective layer in the form of an envelope 5 Mistake. The protective layer 5 may be conversion material for converting the wavelength of the electromagnetic radiation of the device 2 exhibit.

Das Bauelement 2 ist beispielsweise als lichtemittierende Diode oder als Laserdiode ausgebildet. In dem dargestellten Ausführungsbeispiel weist das Bauelement 2 eine Halbleiterschichtstruktur 6 mit mehreren Halbleiterschichten auf, wobei eine p/n-Grenzschicht ausgebildet ist, die als aktive Zone ausgebildet ist, um bei einer Stromversorgung elektromagnetische Strahlung zu erzeugen. Die Halbleiterschichtstruktur 6 ist auf einem Trägersubstrat 7 angeordnet. Das Trägersubstrat 7 ist aus einem für die elektromagnetische Strahlung der Halbleiterschichtstruktur 6 transparenten Material gebildet. Beispielsweise kann das Trägersubstrat 7 aus Saphir bestehen. Die Halbleiterschichtstruktur 6 ist auf einer Oberseite des Trägersubstrates 7 angeordnet. Die Unterseite des Trägersubstrates 7 ist mit der Oberseite des ersten Trägers 3 verbunden. Dazu kann eine erste Verbindungsschicht 8 zwischen der Unterseite des Trägersubstrates 7 und der Oberseite des ersten Trägers 3 vorgesehen sein. Das Trägersubstrat 7 kann eine Dicke aufweisen, die kleiner als 1 mm, insbesondere kleiner als 0,5 mm ist. Abhängig von der gewählten Ausführung kann auf das Trägersubstrat 7 verzichtet werden. Bei dieser Ausführung ist die Halbleiterstruktur 6 mit dem ersten Träger 3 direkt oder über die erste Verbindungsschicht 8 verbunden.The component 2 is designed, for example, as a light-emitting diode or as a laser diode. In the illustrated embodiment, the device 2 a semiconductor layer structure 6 formed with a plurality of semiconductor layers, wherein a p / n boundary layer is formed, which is formed as an active zone to generate electromagnetic radiation in a power supply. The semiconductor layer structure 6 is on a carrier substrate 7 arranged. The carrier substrate 7 is made of one for the electromagnetic radiation of the semiconductor layer structure 6 formed transparent material. For example, the carrier substrate 7 made of sapphire. The semiconductor layer structure 6 is on an upper side of the carrier substrate 7 arranged. The underside of the carrier substrate 7 is with the top of the first carrier 3 connected. This can be a first connection layer 8th between the underside of the carrier substrate 7 and the top of the first carrier 3 be provided. The carrier substrate 7 may have a thickness which is less than 1 mm, in particular less than 0.5 mm. Depending on the chosen design may be on the carrier substrate 7 be waived. In this embodiment, the semiconductor structure 6 with the first carrier 3 directly or via the first connection layer 8th connected.

Zudem kann zwischen der Unterseite des ersten Trägers 3 und der Oberseite des zweiten Trägers 4 eine zweite Verbindungsschicht 9 vorgesehen sein. Die erste und die zweite Verbindungsschicht 8, 9 sind beispielsweise als Klebeschichten ausgebildet und weisen insbesondere ein niedrig brechendes Silikon auf. Niedrig brechendes Silikon mit einem Brechungsindex zwischen 1,41 und 1,43 weist in einem Temperaturbereich von - 40°C bis 100°C einen im Wesentlichen gleich bleibenden Elastizitätsmodul von etwa 2MPa (-40°C ~ 2,53MPa; +25°C ~ 2,05MPa; +100°C ~ 2,54MPa) auf. LRI-Silikon ist also vorteilhaft, da es bei in der Praxis relevanten Temperaturen für das spaltlose Fügen einsetzbar ist. Die Verbindungsschichten 8, 9 können auch aus anderen für die elektromagnetische Strahlung des Bauelementes 2 transparenten Materialien bestehen.In addition, between the bottom of the first carrier 3 and the top of the second carrier 4 a second connection layer 9 be provided. The first and the second connection layer 8th . 9 For example, they are designed as adhesive layers and in particular have a low-breaking silicone. Low refractive index silicone having an index of refraction between 1.41 and 1.43 has a substantially constant Young's modulus of about 2 MPa (-40 ° C ~ 2.53 MPa; + 25 ° C) over a temperature range of -40 ° C to 100 ° C ~ 2.05MPa; + 100 ° C ~ 2.54MPa). LRI silicone is therefore advantageous, since it can be used for gap-free joining at temperatures relevant in practice. The connecting layers 8th . 9 can also be made of others for the electromagnetic radiation of the device 2 consist of transparent materials.

Die Schutzschicht 5 bedeckt die Oberseite und die Seitenflächen des Bauelementes 2. Zudem bedeckt die Schutzschicht 4 die Seitenflächen des ersten Trägers 3. Die Oberseite des ersten Trägers 3 ist vom Bauelement 2 bedeckt. Das Bauelement 2 weist eine quadratische Grundfläche auf, d.h. die Unterseite und die Oberseite des Bauelementes 2 sind quadratisch. Das Bauelement 2 weist die gleiche Grundfläche wie der erste Träger 3 auf und ist quadratisch ausgebildet. Abhängig von der gewählten Ausführung können die Grundflächen des Bauelementes 2 und des ersten Trägers 3 auch unterschiedliche Formen und Größen aufweisen. Vorzugsweise weist der erste Träger 3 eine Grundfläche auf, die wenigstens so groß ist, wie die Grundfläche des Bauelementes 2. Zudem ist das Bauelement 2 vorzugsweise mittig auf dem ersten Träger 3 angeordnet.The protective layer 5 covers the top and sides of the device 2 , In addition, the protective layer covers 4 the side surfaces of the first carrier 3 , The top of the first vehicle 3 is from the component 2 covered. The component 2 has a square base, ie the underside and the top of the component 2 are square. The component 2 has the same footprint as the first carrier 3 on and is square shaped. Depending on the chosen embodiment, the base surfaces of the component 2 and the first carrier 3 also have different shapes and sizes. Preferably, the first carrier 3 a footprint that is at least as large as the footprint of the component 2 , In addition, the component 2 preferably centrally on the first carrier 3 arranged.

Die Schutzschicht 5 kann Silikon oder Epoxidharz aufweisen, wobei in die Schutzschicht 5 auch Konversionsmaterial eingebettet sein kann. Das Konversionsmaterial ist ausgebildet, um die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung des Bauelementes 2 wenigstens teilweise zu verschieben.The protective layer 5 may have silicone or epoxy resin, being in the protective layer 5 Also conversion material can be embedded. The conversion material is designed to be the wavelength of the electromagnetic radiation of the component 2 to move at least partially.

Der zweite Träger 4 weist in dem dargestellten Ausführungsbeispiel zwei Leiterrahmenabschnitte 10, 11 auf, die in ein Trägermaterial 12 eingebettet sind. Eine Oberseite 13 des zweiten Trägers 4 kann eine Reflexionsschicht oder eine Spiegelschicht aufweisen. Das Trägermaterial 12 kann aus einem weißen, insbesondere hoch reflektiven Material bestehen. Das Trägermaterial 12 kann als Moldmaterial ausgebildet sein. Der zweite Träger 4 weist eine quadratische Grundfläche auf, die größer ist als die Grundfläche des ersten Trägers 3. Der erste Träger 3 ist mittig auf dem zweiten Träger 4 angeordnet. Der zweite Träger 4 kann auch andere Formen von Grundflächen, insbesondere rechteckige oder runde Grundflächen aufweisen. Zudem können auch der erste Träger 3 und das Bauelement 2 andere Formen von Grundflächen aufweisen.The second carrier 4 has two leadframe sections in the illustrated embodiment 10 . 11 on that in a substrate 12 are embedded. A top 13 of the second carrier 4 may comprise a reflective layer or a mirror layer. The carrier material 12 can consist of a white, especially highly reflective material. The carrier material 12 may be formed as a molding material. The second carrier 4 has a square base area which is larger than the base area of the first carrier 3 , The first carrier 3 is centered on the second carrier 4 arranged. The second carrier 4 can also have other shapes of base surfaces, in particular rectangular or round base surfaces. In addition, also the first carrier 3 and the device 2 have other forms of base surfaces.

Das Bauelement 2 ist als Volumenemitter ausgebildet, der elektromagnetische Strahlung in alle Richtungen, das heißt nach oben, seitlich und nach unten in Richtung auf den ersten Träger 3 abgibt. Die Halbleiterschichtstruktur 6 weist elektrische Kontakte 14, 15 auf, die auf der Oberseite der Halbleiterschichtstruktur 6 angeordnet sind. Der erste elektrische Kontakt 14 ist über einen ersten Bonddraht 16 mit einer Oberseite des ersten Leiterrahmenabschnittes 10 elektrisch leitend verbunden. Der zweite elektrische Kontakt 15 ist über einen zweiten Bonddraht 17 mit einer Oberseite des zweiten Leiterrahmenabschnittes 11 elektrisch leitend verbunden. Unterseiten 18, 19 der Leiterrahmenabschnitte 10, 11 grenzen an die Unterseite des zweiten Trägers 4 und stellen elektrische Kontakte des Bauteils 1 dar.The component 2 is designed as a volume emitter, the electromagnetic radiation in all directions, that is, upward, laterally and downwardly toward the first carrier 3 emits. The semiconductor layer structure 6 has electrical contacts 14 . 15 on top of that Semiconductor layer structure 6 are arranged. The first electrical contact 14 is over a first bonding wire 16 with an upper side of the first lead frame section 10 electrically connected. The second electrical contact 15 is via a second bonding wire 17 with an upper side of the second lead frame section 11 electrically connected. subpages 18 . 19 the ladder frame sections 10 . 11 borders on the underside of the second carrier 4 and provide electrical contacts of the component 1 represents.

Der erste Träger 3 liegt auf dem ersten und dem zweiten Leiterrahmenabschnitt 10, 11 auf. Der erste Träger 3 kann auch nur auf einem Leiterrahmenabschnitt oder auf keinem Leiterrahmenabschnitt, sondern nur auf dem Trägermaterial 12 aufliegen. Der erste Träger 3 kann beispielsweise Glas oder ein niederbrechendes Material wie zum Beispiel Quarz, PMMA, Magnesiumchlorid aufweisen oder daraus gebildet sein. Das Glas kann einen Brechungsindex im Bereich von 1,5 aufweisen. Zudem kann der erste Träger 3 aber auch höherbrechendes transparentes Material wie zum Beispiel Saphir aufweisen oder daraus bestehen. Der erste Träger 3 kann eine Dicke im Bereich von 0,3 mm und 10 mm oder mehr aufweisen.The first carrier 3 lies on the first and the second leadframe section 10 . 11 on. The first carrier 3 can also only on a lead frame section or on any lead frame section, but only on the substrate 12 rest. The first carrier 3 For example, glass or a low refractive index material such as quartz, PMMA, magnesium chloride may be or may be formed therefrom. The glass may have a refractive index in the range of 1.5. In addition, the first carrier 3 but also have higher refractive transparent material such as sapphire or consist thereof. The first carrier 3 may have a thickness in the range of 0.3 mm and 10 mm or more.

Der zweite Träger 4 kann auch beispielsweise in Form einer Leiterplatte oder eines anderen Substrates realisiert sein. Weiterhin ist es nicht erforderlich, dass der zweite Träger 4 elektrische Kontakte in Form von Durchkontaktierungen aufweist. Die elektrischen Kontakte des zweiten Trägers 4 können auch auf der Oberseite, den Seitenflächen und/oder der Unterseite des zweiten Trägers 4 ausgebildet sein. Zudem können anstelle der Bonddrähte 16, 17 auch andere Formen der elektrischen Leitungsverbindung zwischen den elektrischen Kontakten 14, 15 des Bauelementes 2 und den elektrischen Kontakten des zweiten Trägers 4 vorgesehen sein.The second carrier 4 can also be realized for example in the form of a printed circuit board or other substrate. Furthermore, it is not necessary that the second carrier 4 having electrical contacts in the form of vias. The electrical contacts of the second carrier 4 may also be on the top, sides and / or bottom of the second carrier 4 be educated. In addition, instead of the bonding wires 16 . 17 Other forms of electrical wiring between the electrical contacts 14 . 15 of the component 2 and the electrical contacts of the second carrier 4 be provided.

2 zeigt eine weitere Ausführungsform eines Bauteils 1, das im Wesentlichen der Ausführungsform der 1 entspricht, wobei jedoch bei dieser Ausführungsform der erste Träger 3 geneigt angeordnete Seitenflächen 21, 22, 23 aufweist, die von der Unterseite in Richtung auf die Oberseite zum Bauelement 2 hin nach innen geneigt angeordnet sind. Der Neigungswinkel kann beispielsweise zwischen 89° und 30° liegen. Abhängig von der gewählten Ausführung können alle Seitenflächen oder nur einzelne Seitenflächen des ersten Trägers 3 geneigt angeordnet sein. 2 shows a further embodiment of a component 1 which is essentially the embodiment of the 1 However, in this embodiment, the first carrier 3 inclined side surfaces 21 . 22 . 23 that points from the bottom towards the top to the component 2 are arranged inclined inwards. The angle of inclination can be, for example, between 89 ° and 30 °. Depending on the selected embodiment, all side surfaces or only individual side surfaces of the first carrier 3 may be arranged inclined.

3 zeigt eine weitere Ausführungsform eines Bauteils 1, die im Wesentlichen gemäß der 1 ausgebildet ist, wobei jedoch bei dieser Ausführungsform die Seitenflächen 21, 22, 23 ausgehend von der Unterseite in Richtung auf die Oberseite zum Bauelement 2 hin nach außen geneigt angeordnet sind. Der Neigungswinkel kann beispielsweise zwischen 89° und 30° liegen. Abhängig von der gewählten Ausführung können alle Seitenflächen oder nur einzelne Seitenflächen des ersten Trägers 3 geneigt angeordnet sein. Die schräg geneigten Seitenflächen des ersten Trägers 3 verbessern die Lichtauskopplung. 3 shows a further embodiment of a component 1 which are essentially in accordance with the 1 is formed, but in this embodiment, the side surfaces 21 . 22 , 23 starting from the bottom in the direction of the top to the component 2 are arranged outwardly inclined. The angle of inclination can be, for example, between 89 ° and 30 °. Depending on the selected embodiment, all side surfaces or only individual side surfaces of the first carrier 3 may be arranged inclined. The obliquely inclined side surfaces of the first carrier 3 improve the light extraction.

4 zeigt einen schematischen Querschnitt durch eine weitere Ausführungsform eines Bauteils 1, das im Wesentlichen gemäß der Ausführungsform der 1 ausgebildet ist, wobei jedoch in dieser Ausführungsform der erste Träger 3 eine größere Grundfläche mit einer größeren Länge und/oder mit einer kleineren Breite als das Bauelement 2 aufweist. Zudem weist der erste Träger 3 eine kleinere Grundfläche mit kleineren Länge und/oder mit einer kleineren Breite als der zweite Träger 4 auf. Zudem können die erste und/oder die zweite Verbindungsschicht 8, 9 unterschiedliche thermische Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem Bauelement 2, dem ersten Träger 3 und dem zweiten Träger 4 ausgleichen. Dieser Ausgleich kann auch bei allen anderen Ausführungsformen mithilfe der Verbindungsschichten 8, 9 erreicht werden. 4 shows a schematic cross section through a further embodiment of a component 1 , which is essentially according to the embodiment of the 1 is formed, but in this embodiment, the first carrier 3 a larger base area with a greater length and / or a smaller width than the component 2 having. In addition, the first carrier 3 a smaller base with a smaller length and / or a smaller width than the second carrier 4 on. In addition, the first and / or the second connection layer 8th . 9 different thermal expansion coefficients between the component 2 , the first carrier 3 and the second carrier 4 compensate. This balance can be applied to all other embodiments using the interconnect layers 8th . 9 be achieved.

5 zeigt in einer schematischen Darstellung ein Montageverfahren, bei dem ein Bauelement 2 in eine Ausnehmung 25 eines ersten Trägers 3 eingeschoben wird. Der erste Träger 3 kann aus einer größeren Platte, insbesondere aus einem Glaswafer 26 herausgetrennt worden sein. 5 zeigt einen Ausschnitt eines Glaswafers 26 mit einer Vielzahl von Ausnehmungen 25. Der Glaswafer 26 kann in mehrere einzelne erste Träger 3 aufgetrennt werden. In der dargestellten Ausführung ist die Ausnehmung 25 durch die gesamte Dicke des ersten Trägers 3 bzw. des Glaswafers 26 geführt. Somit kann das Bauelement 2 seitlich mit einer Stirnseite in die Ausnehmung 25 des ersten Trägers 3 eingeschoben werden. Der erste Träger 3 kann auch anstelle aus Glas auch aus den oben beschriebenen anderen Materialien bestehen. 5 shows a schematic representation of an assembly method in which a component 2 in a recess 25 a first carrier 3 is inserted. The first carrier 3 may consist of a larger plate, in particular of a glass wafer 26 have been cut out. 5 shows a section of a glass wafer 26 with a variety of recesses 25 , The glass wafer 26 can be in several single first carrier 3 be separated. In the illustrated embodiment, the recess 25 through the entire thickness of the first carrier 3 or the glass wafer 26 guided. Thus, the device 2 laterally with an end face in the recess 25 of the first carrier 3 be inserted. The first carrier 3 may also be made of the other materials described above instead of glass.

6 zeigt in einem schematischen Querschnitt ein Bauteil 1, das einen ersten Träger 3 mit einer Ausnehmung 25 aufweist. Das Bauelement 2 ist seitlich in den ersten Träger 3 eingeschoben. Bei dieser Ausführungsform ragt das Bauelement 2 auf beiden Seiten aus der Ausnehmung 25 heraus. Abhängig von der gewählten Größe des Bauelementes 2 kann das Bauelement 2 auch nur in der Ausnehmung 25 angeordnet sein oder nur auf einer Seite aus der Ausnehmung 25 herausragen. Das Bauelement 2 kann über eine Verbindungsschicht, insbesondere eine Klebeschicht mit einer unteren Fläche 27 der Ausnehmung 25 mechanisch verbunden sein. Zwischen der Unterseite des Bauelementes 2 und der Fläche 27 der Ausnehmung 25 des ersten Trägers 3 kann eine erste Verbindungsschicht 8 ausgebildet sein. Die Verbindungsschicht 8 kann zwischen allen Flächen der Ausnehmung und dem Bauelement 2 ausgebildet sein. Der erste Träger 3 ist über eine zweite Verbindungsschicht 9 mit dem zweiten Träger 4 mechanisch verbunden. Weiterhin ist eine Schutzschicht 5 vorgesehen, die auf der Oberseite des zweiten Trägers 4 aufgebracht ist und das Bauelement 2 und den ersten Träger 3 bedeckt. Die Schutzschicht 5 kann mit oder ohne Konversionsmaterial ausgebildet sein. 6 shows in a schematic cross section a component 1, which is a first carrier 3 with a recess 25 having. The component 2 is laterally in the first carrier 3 inserted. In this embodiment, the component 2 protrudes from the recess on both sides 25 out. Depending on the selected size of the component 2 can the component 2 also only in the recess 25 be arranged or only on one side of the recess 25 protrude. The component 2 can via a bonding layer, in particular an adhesive layer with a lower surface 27 the recess 25 be mechanically connected. Between the bottom of the component 2 and the area 27 the recess 25 of the first carrier 3 can be a first connection layer 8th be educated. The connection layer 8th can be between all surfaces the recess and the component 2 be educated. The first carrier 3 is over a second connection layer 9 with the second carrier 4 mechanically connected. Furthermore, a protective layer 5 provided on the top of the second carrier 4 is applied and the device 2 and the first carrier 3 covered. The protective layer 5 can be formed with or without conversion material.

7 zeigt in einer schematischen Darstellung ein weiteres Montageverfahren, bei dem ein Bauelement 2 in eine Ausnehmung 25 eines ersten Trägers 3 eingelegt wird. In dieser Ausführungsform ist die Ausnehmung 25 als einseitige Ausnehmung ausgebildet. Zudem wird das Bauelement 2 mit der Unterseite 35, die gegenüber den elektrischen Kontakten 14, 15 angeordnet ist, in die Ausnehmung 25 eingelegt. Auch bei dieser Ausführung kann das Bauelement 2 mit einer Verbindungsschicht mit dem ersten Träger 3 mechanisch verbunden werden. Auch bei dieser Ausführung kann der erste Träger 3 aus jedem der beschriebenen Materialien gebildet sein. 7 shows in a schematic representation of another assembly method in which a component 2 in a recess 25 of a first carrier 3 is inserted. In this embodiment, the recess 25 designed as a one-sided recess. In addition, the component 2 with the bottom 35, facing the electrical contacts 14 . 15 is arranged in the recess 25 inserted. Also in this embodiment, the device 2 with a tie layer with the first carrier 3 be mechanically connected. Also in this embodiment, the first carrier 3 be formed from each of the described materials.

8 zeigt in einem schematischen Querschnitt ein Bauteil 1, das mit dem Montageverfahren gemäß 7 hergestellt wurde. Dabei liegt das Bauelement 2 in der Ausnehmung 25 des ersten Trägers 3. Eine Unterseite des Bauelementes 2 ist beispielsweise über eine erste Verbindungsschicht 8 mit einer unteren Fläche 27 der Ausnehmung 25 des ersten Trägers 3 mechanisch verbunden. Zudem ist der erste Träger 3 mechanisch über eine zweite Verbindungsschicht 9 mit dem zweiten Träger 4 verbunden. Weiterhin ist eine Schutzschicht 5 vorgesehen, die auf der Oberseite des zweiten Trägers 4 aufgebracht ist und das Bauelement 2 und den ersten Träger 3 bedeckt. Die Schutzschicht 5 kann mit oder ohne Konversionsmaterial ausgebildet sein. 8th shows in a schematic cross section a component 1, which with the assembly method according to 7 was produced. This is the component 2 in the recess 25 of the first carrier 3 , A bottom of the device 2 is for example via a first connection layer 8th with a lower surface 27 the recess 25 of the first carrier 3 mechanically connected. In addition, the first carrier 3 mechanically via a second connection layer 9 connected to the second carrier 4. Furthermore, a protective layer 5 provided on the top of the second carrier 4 is applied and the device 2 and the first carrier 3 covered. The protective layer 5 can be formed with or without conversion material.

9 zeigt in einem schematischen Querschnitt eine weitere Ausführungsform eines Bauteils 1. Bei dieser Ausführungsform ist das Bauelement 2 mit der Oberseite 36 der Halbleiterschichtstruktur 6, auf der die elektrischen Kontakte 14, 15 angeordnet sind, auf der Oberseite des ersten Trägers 3 angeordnet. Zudem ist eine erste Verbindungsschicht 8 zwischen der Halbleiterschichtstruktur 6 des Bauelementes 2 und dem ersten Träger 3 ausgebildet. Weiterhin weist der erste Träger 3 in der dargestellten Ausführungsform zwei Durchkontaktierungen 28, 29 auf. Die Durchkontaktierungen 28, 29 sind aus einem elektrisch leitenden Material gebildet und stehen jeweils mit einer Oberseite mit dem ersten bzw. mit dem zweiten elektrischen Kontakt 14, 15 des Bauelementes 2 in Verbindung. Unterseiten der Durchkontaktierungen 28, 29 stehen jeweils mit einer Oberseiten der Leiterrahmenabschnitte 10, 11 in Verbindung. Somit werden die elektrischen Kontakte 14, 15 über die Durchkontaktierungen 28, 29 des ersten Trägers 3 mit den Leiterrahmenabschnitten 10, 11 des zweiten Trägers 4 und damit mit den elektrischen Kontakten des zweiten Trägers 4 elektrisch leitenden verbunden. 9 shows in a schematic cross section a further embodiment of a component 1 , In this embodiment, the device 2 with the top 36 the semiconductor layer structure 6 on which the electrical contacts 14 . 15 are arranged on the top of the first carrier 3 arranged. In addition, a first connection layer 8th between the semiconductor layer structure 6 of the component 2 and the first carrier 3 educated. Furthermore, the first carrier 3 in the illustrated embodiment has two plated-through holes 28 . 29 on. The vias 28 . 29 are formed of an electrically conductive material and each having an upper side with the first and with the second electrical contact 14 . 15 of the component 2 in connection. Bottoms of the vias 28 . 29 each stand with a top of the lead frame sections 10 . 11 in connection. Thus, the electrical contacts 14 . 15 over the vias 28 . 29 of the first carrier 3 with the ladder frame sections 10 . 11 of the second carrier 4 and thus with the electrical contacts of the second carrier 4 electrically conductive connected.

Die erste und die zweite Verbindungsschicht 8, 9 können in allen Ausführungsbeispielen als Metall-Metall-Verbindung, als Klebeverbindung, als Lötverbindung, als Schweißverbindung oder als Pressverbindung ausgebildet sein.The first and the second connection layer 8th . 9 may be formed in all embodiments as a metal-to-metal compound, as an adhesive bond, as a solder joint, as a welded joint or as a press connection.

10 zeigt in einer Querschnittsdarstellung eine weitere Form eines Bauteils 1. Das Bauteil 1 weist im Wesentlichen die Ausführungsform des Bauteils 1 der 1 auf. Im Gegensatz zur Ausführungsform der 1 ist an einer Oberseite 30 des ersten Trägers 3, auf der das Bauelement 2 angeordnet ist, und an einer Unterseite 31 des ersten Trägers 3, die auf dem zweiten Träger 4 angeordnet ist, wenigstens ein Bereich im ersten Träger 3 vorgesehen, der einen geringeren Brechungsindex aufweist. Die Bereiche 32, 33, 34 sind in Form von Teilkugeln dargestellt. Abhängig von der gewählten Ausführungsform können die Bereiche 32, 33, 34 verschiedene Formen aufweisen. Beispielsweise können die Bereiche 32, 33, 34 in Form von schmalen Streifen, Teilkugelformen und jede andere Art von Form aufweisen. Die Bereiche 32, 33, 34 können beispielsweise in Form von Ausnehmungen ausgebildet sein. Die Ausnehmungen können auch in Form einer erhöhten Rauigkeit oder in Form von Haarrissen ausgebildet sein. Abhängig von der gewählten Ausführungsform kann in den Bereichen 32, 33, 34 ein anderer Stoff als das Material des ersten Trägers 3 vorgesehen sein. Insbesondere können die Bereiche in Form von Ausnehmungen realisiert sein, wobei in den Ausnehmungen Luft oder Gas wie zum Beispiel Helium eingeschlossen ist. Somit weist der erste Träger 3 in der Ausführungsform der 10 eine strukturierte Oberseite 30 und/oder eine strukturierte Unterseite 31 auf, wobei die Oberseite und die Unterseite mit Bereichen 32, 33, 34 mit einem niedrigeren Brechungsindex strukturiert sind. Durch den niedrigeren Brechungsindex werden die Reflexionseigenschaften an den Grenzflächen der Oberseite und der Unterseite des ersten Trägers 3 verbessert. Die Oberseite des zweiten Trägers 4 ist auch in dieser Ausführungsform vorzugsweise mit einer Spiegelschicht oder mit einer hochreflektierenden Schicht versehen. 10 shows in a cross-sectional view of another form of a component 1 , The component 1 essentially shows the embodiment of the component 1 of the 1 on. In contrast to the embodiment of 1 is at a top 30 of the first carrier 3 on which the component 2 is arranged, and at a bottom 31 of the first carrier 3 that on the second carrier 4 is arranged, at least one area in the first carrier 3 provided, which has a lower refractive index. The areas 32 . 33 . 34 are shown in the form of partial spheres. Depending on the chosen embodiment, the ranges 32 . 33 . 34 have different shapes. For example, the areas 32 . 33 . 34 in the form of narrow strips, partial spherical shapes and any other type of shape. The areas 32 . 33 . 34 may be formed for example in the form of recesses. The recesses may also be formed in the form of an increased roughness or in the form of hairline cracks. Depending on the chosen embodiment may be in the areas 32 . 33 . 34 another substance than the material of the first carrier 3 be provided. In particular, the areas can be realized in the form of recesses, wherein in the recesses air or gas such as helium is included. Thus, the first carrier 3 in the embodiment of the 10 a structured top 30 and / or a textured bottom 31 on, with the top and bottom with areas 32 . 33 . 34 are structured with a lower refractive index. Due to the lower refractive index, the reflection properties at the interfaces of the top and the bottom of the first carrier 3 improved. The top of the second vehicle 4 is also preferably provided in this embodiment with a mirror layer or with a highly reflective layer.

Der zweite Träger 4 kann beispielsweise aus einer Keramik oder als QFN-Substrat gebildet sein. Die Verbindungsschichten können beispielsweise aus Kleberschichten mit einem transparenten, niedrigbrechenden Material ausgebildet sein, um eine Reflexion von Licht zurück in Richtung Bauelement zu erhalten. Zudem sollte eine Absorption von Licht auf der Oberseite des zweiten Trägers 4 reduziert oder vermieden werden. Weiterhin kann der erste Träger 3 optional an einer oder an mehreren Seiten verspiegelt oder mit teilweise reflektierenden Schichten beschichtet sein.The second carrier 4 For example, it may be formed from a ceramic or as a QFN substrate. The interconnect layers may be formed, for example, of adhesive layers with a transparent, low refractive material to provide reflection of light back toward the device. In addition, there should be an absorption of light on the top of the second carrier 4 be reduced or avoided. Furthermore, the first carrier 3 optionally mirrored on one or more sides or coated with partially reflective layers.

Bei Verwendung von alternativen Materialien für die Ausbildung des ersten Trägers 3 wie z.B. Magnesiumfluorid, Calciumfluorid, Silikon, Ormocer oder Quarz ist der Brechungsindex auch kleiner als der Brechungsindex von Glas.When using alternative materials for the formation of the first carrier 3 such as magnesium fluoride, calcium fluoride, silicone, Ormocer or quartz, the refractive index is also less than the refractive index of glass.

Abhängig von der gewählten Montagereihenfolge kann zuerst das Bauelement 2 auf dem ersten Träger 3 montiert werden und anschließend der erste Träger 3 auf dem zweiten Träger 4 montiert werden. Zudem kann abhängig von der gewählten Ausführungsform zuerst der erste Träger 3 auf dem zweiten Träger 4 und anschließend das Bauelement 2 auf dem ersten Träger 3 montiert werden.Depending on the selected assembly order, the component may first 2 on the first carrier 3 be mounted and then the first carrier 3 on the second carrier 4 to be assembled. In addition, depending on the chosen embodiment, first the first carrier 3 on the second carrier 4 and then the device 2 on the first carrier 3 to be assembled.

Abhängig von der gewählten Ausführungsform können die Ausnehmungen in den Bereichen der Oberseite und der Unterseite des ersten Trägers 3 auch angrenzend an die Verbindungsschichten 8, 9 angeordnet sein. Bei dieser Ausführungsform weisen die Ausnehmungen entsprechende Tiefen auf, so dass Hohlräume mit Lufteinschlüsse oder Gaseinschlüsse bei der Montage entstehen. Dadurch ist es nicht erforderlich, ein separates Material in die Ausnehmungen einzubringen oder separate Materialien bei der Bildung des ersten Trägers 3 auf der Oberseite und/oder auf der Unterseite des ersten Trägers 3 vorzusehen.Depending on the chosen embodiment, the recesses in the areas of the top and the bottom of the first carrier 3 also be arranged adjacent to the connecting layers 8, 9. In this embodiment, the recesses have corresponding depths, so that cavities with air inclusions or gas inclusions occur during assembly. As a result, it is not necessary to introduce a separate material into the recesses or separate materials in the formation of the first carrier 3 on the top and / or bottom of the first carrier 3 provided.

Mit der beschriebenen Erfindung können begrenzte Dicken des Trägersubstrates 7, die beispielsweise bei der Verwendung von Saphir im Bereich von maximal 0,5 mm liegen, mithilfe des ersten Trägers 3 vergrößert werden.With the described invention, limited thicknesses of the carrier substrate 7 which, for example, when using sapphire in the range of a maximum of 0.5 mm, using the first carrier 3 be enlarged.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11
Bauteilcomponent
22
Bauelementmodule
33
erster Trägerfirst carrier
44
zweiter Trägersecond carrier
55
Schutzschichtprotective layer
66
HalbleiterschichtstrukturSemiconductor layer structure
77
Trägersubstratcarrier substrate
88th
erste Verbindungsschichtfirst connection layer
99
zweite Verbindungsschichtsecond connection layer
1010
erster Leiterrahmenabschnittfirst ladder frame section
1111
zweiter Leiterrahmenabschnittsecond ladder frame section
1212
Trägermaterialsupport material
1313
Oberseitetop
1414
erster elektrischer Kontaktfirst electrical contact
1515
zweiter elektrischer Kontaktsecond electrical contact
1616
erster Bonddrahtfirst bonding wire
1717
zweiter Bonddrahtsecond bonding wire
1818
Unterseite erster LeiterrahmenabschnittBottom first ladder frame section
1919
Unterseite zweiter LeiterrahmenabschnittBottom second ladder frame section
2121
erste Seitenflächefirst side surface
2222
zweite Seitenflächesecond side surface
2323
dritte Seitenflächethird side surface
2525
Ausnehmungrecess
2626
Glaswaferglass wafer
2727
Flächearea
2828
erste Durchkontaktierungfirst via
2929
zweite Durchkontaktierungsecond via
3030
Oberseite erster TrägerTop of first carrier
3131
Unterseite erster TrägerBottom of first carrier
3232
erster Bereichfirst area
3333
zweiter Bereichsecond area
3434
dritter Bereichthird area
3535
Unterseite BauelementBottom component
3636
Oberseite BauelementTop side component

Claims (20)

Bauteil (1) mit einem strahlungsemittierenden optoelektronischen Bauelement (2), wobei das Bauelement (2) mit einer Unterseite auf einer Oberseite (30) eines ersten Trägers (3) angeordnet ist, wobei der erste Träger (3) transparent für die Strahlung des Bauelementes (2) ist, wobei der erste Träger (3) mit einer Unterseite (31) auf einer Oberseite (13) eines zweiten Trägers (4) angeordnet ist, wobei der zweite Träger (4) zweite elektrische Kontakte (10, 11) aufweist, wobei die zweiten elektrischen Kontakte (10, 11) über elektrische Leitungen (16, 17) mit elektrischen Kontakten (14, 15) des Bauelementes (2) verbunden sind.Component (1) with a radiation-emitting optoelectronic component (2), wherein the component (2) is arranged with a lower side on an upper side (30) of a first carrier (3), wherein the first carrier (3) transparent to the radiation of the component (2), the first carrier (3) having a lower side (31) being arranged on an upper side (13) of a second carrier (4), the second carrier (4) having second electrical contacts (10, 11), wherein the second electrical contacts (10, 11) via electrical lines (16, 17) with electrical contacts (14, 15) of the component (2) are connected. Bauteil (1) nach Anspruch 1, wobei die Unterseite (31) des ersten Trägers (3) eine kleinere Fläche als die Oberseite (13) des zweiten Trägers (4) aufweist.Component (1) after Claim 1 in that the underside (31) of the first carrier (3) has a smaller area than the upper side (13) of the second carrier (4). Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der zweite Träger (4) zwei Leiterrahmenabschnitte (10, 11) aufweist, die in ein Trägermaterial (12) eingebettet sind.Component (1) according to one of the preceding claims, wherein the second carrier (4) has two leadframe sections (10, 11) which are embedded in a carrier material (12). Bauteil (1) nach Anspruch 3, wobei der erste Träger (3) auf wenigstens einem, insbesondere auf beiden Leiterrahmenabschnitten (10, 11) angeordnet ist.Component (1) after Claim 3 , wherein the first carrier (3) on at least one, in particular on both leadframe portions (10, 11) is arranged. Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der erste Träger (3) eine Oberseite (30) aufweist, die wenigstens die Größe der Unterseite des Bauelementes (2) aufweist. Component (1) according to one of the preceding claims, wherein the first carrier (3) has an upper side (30) which has at least the size of the underside of the component (2). Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der erste Träger (3) geneigt angeordnete Seitenflächen (21, 22, 23) aufweist.Component (1) according to one of the preceding claims, wherein the first carrier (3) has inclined side surfaces (21, 22, 23). Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der erste Träger (3) über eine Verbindungsschicht (8, 9), insbesondere über eine Klebeschicht mit dem Bauelement (2) und/oder mit dem zweiten Träger (4) verbunden ist.Component (1) according to one of the preceding claims, wherein the first carrier (3) via a connecting layer (8, 9), in particular via an adhesive layer to the component (2) and / or with the second carrier (4) is connected. Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der erste Träger (3) eine Ausnehmung (25) aufweist, wobei das Bauelement (2) wenigstens teilweise in der Ausnehmung (25) angeordnet ist.Component (1) according to one of the preceding claims, wherein the first carrier (3) has a recess (25), wherein the component (2) is arranged at least partially in the recess (25). Bauteil (1) nach Anspruch 8, wobei die Ausnehmung (25) durch den ersten Träger (3) hindurch ausgebildet ist.Component (1) after Claim 8 wherein the recess (25) is formed through the first carrier (3). Bauteil (1) nach Anspruch 9, wobei das Bauteil (1) seitlich über die Ausnehmung (25) auf zwei Seiten des ersten Trägers (3) hinausragt.Component (1) after Claim 9 , wherein the component (1) projects laterally beyond the recess (25) on two sides of the first carrier (3). Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Bauelement (2) eine Halbleiterschichtstruktur (6) mit einer aktiven Zonen zum Erzeugen einer elektromagnetischen Strahlung und ein Trägersubstrat (7) aufweist, wobei die Halbleiterschichtstruktur (6) auf dem Trägersubstrat (7) angeordnet ist, und wobei das Trägersubstrat (7) transparent für die Strahlung der Halbleiterschichtstruktur (6) ist.Component (1) according to one of the preceding claims, wherein the component (2) has a semiconductor layer structure (6) with an active zone for generating an electromagnetic radiation and a carrier substrate (7), wherein the semiconductor layer structure (6) on the carrier substrate (7). is arranged, and wherein the carrier substrate (7) is transparent to the radiation of the semiconductor layer structure (6). Bauteil (1) nach Anspruch 11, wobei die Halbleiterschichtstruktur (6) dem ersten Träger (3) zugewandt ist, und wobei insbesondere der erste Träger (3) Durchkontaktierungen (28, 29) aufweist, wobei die Durchkontaktierungen (28, 29) die elektrischen Kontakte des Bauelements mit den elektrischen Kontakten des zweiten Trägers verbinden.Component (1) after Claim 11 wherein the semiconductor layer structure (6) faces the first carrier (3), and wherein in particular the first carrier (3) has vias (28, 29), wherein the vias (28, 29) the electrical contacts of the device with the electrical contacts connect the second carrier. Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der erste Träger (3) angrenzend an das Bauelement (2) und/oder an den zweiten Träger (4) wenigstens einen Bereich (32, 33, 34) mit einem gegenüber dem Material des ersten Trägers (3) kleineren Brechungsindex aufweist.Component (1) according to one of the preceding claims, wherein the first carrier (3) adjacent to the component (2) and / or to the second carrier (4) at least one region (32, 33, 34) with respect to the material of first carrier (3) has a smaller refractive index. Bauteil (1) nach Anspruch 13, wobei der Bereich (32, 33, 34) durch eine weitere Ausnehmung (32, 33, 34) im ersten Träger (3) gebildet ist.Component (1) after Claim 13 wherein the region (32, 33, 34) is formed by a further recess (32, 33, 34) in the first carrier (3). Bauteil (1) nach Anspruch 14, wobei die weitere Ausnehmung (32, 33, 34) mit einem Stoff, insbesondere mit einem Gas gefüllt ist, der einen kleineren Brechungsindex als das Material des ersten Trägers (3) aufweist.Component (1) after Claim 14 , wherein the further recess (32, 33, 34) is filled with a substance, in particular with a gas, which has a smaller refractive index than the material of the first carrier (3). Bauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei eine Oberseite des Bauelementes (2) und Seitenflächen des Bauelementes (2) mit einer Schutzschicht (5) versehen sind, wobei die Schutzschicht (5) transparent für die Strahlung des Bauelementes (2) istComponent according to one of the preceding claims, wherein an upper side of the component (2) and side surfaces of the component (2) are provided with a protective layer (5), wherein the protective layer (5) is transparent to the radiation of the component (2) Verfahren zum Herstellen eines Bauteils (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei ein strahlungsemittierendes optoelektronisches Bauelement (2) bereitgestellt wird, wobei ein erster Träger (3) bereitgestellt wird, wobei der erste Träger (3) transparent für die Strahlung des Bauelementes (2) ist, wobei ein zweiter Träger (4) bereitgestellt wird, wobei das Bauelement (2) auf eine Oberseite (30) des ersten Trägers (3) angeordnet wird, wobei der erste Träger (3) mit einer Unterseite (31) auf einer Oberseite (13) eines zweiten Trägers (4) angeordnet wird, wobei die zweiten elektrischen Kontakte des zweiten Trägers (4) über elektrische Leitungen mit elektrischen Kontakten (14, 15) des Bauelementes (2) verbunden werden.Method for producing a component (1) according to one of the preceding claims, wherein a radiation-emitting optoelectronic component (2) is provided, wherein a first carrier (3) is provided, wherein the first carrier (3) is transparent to the radiation of the component (2 ), wherein a second carrier (4) is provided, wherein the component (2) is arranged on an upper side (30) of the first carrier (3), the first carrier (3) having a lower side (31) on an upper side (13) of a second carrier (4) is arranged, wherein the second electrical contacts of the second carrier (4) via electrical lines with electrical contacts (14, 15) of the component (2) are connected. Verfahren nach Anspruch 17, wobei der erste Träger (3) über eine Verbindungsschicht (8, 9), insbesondere über eine Klebeschicht mit dem Bauelement (2) und/oder mit dem zweiten Träger (4) verbunden wird.Method according to Claim 17 , wherein the first carrier (3) via a connecting layer (8, 9), in particular via an adhesive layer with the component (2) and / or with the second carrier (4) is connected. Verfahren nach einem der Ansprüche 17 oder 18, wobei der erste Träger (3) eine Ausnehmung (25) aufweist, wobei das Bauelement (2) wenigstens teilweise in die Ausnehmung (25) eingelegt wird.Method according to one of Claims 17 or 18 wherein the first carrier (3) has a recess (25), wherein the component (2) is inserted at least partially into the recess (25). Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 19, wobei das Bauelement (2) eine Halbleiterschichtstruktur (6) und ein Trägersubstrat (7) aufweist, wobei die Halbleiterschichtstruktur auf dem Trägersubstrat (7) angeordnet ist, und wobei das Trägersubstrat (7) transparent für die Strahlung der Halbleiterschichtstruktur ist, wobei die Halbleiterschichtstruktur (6) dem ersten Träger (3) bei der Montage zugewandt wird, und wobei der erste Träger (3) Durchkontaktierungen (28, 29) aufweist, wobei die Durchkontaktierungen (28, 29) die elektrischen Kontakte der Halbleiterschichtstruktur mit elektrischen zweiten Kontakten des zweiten Trägers (4) verbinden.Method according to one of Claims 17 to 19 wherein the device (2) comprises a semiconductor layer structure (6) and a carrier substrate (7), wherein the semiconductor layer structure is arranged on the carrier substrate (7), and wherein the carrier substrate (7) is transparent to the radiation of the semiconductor layer structure, wherein the semiconductor layer structure (6) facing the first carrier (3) during assembly, and wherein the first carrier (3) has vias (28, 29), wherein the vias (28, 29) the electrical contacts of the semiconductor layer structure with electrical second contacts of the second Connect carrier (4).
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