DE102016113206A1 - Radiation emitting device - Google Patents

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Siegfried Herrmann
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Osram Opto Semiconductors GmbH
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Abstract

Es wird eine Strahlung emittierende Vorrichtung (1) angegeben umfassend – mehrere Strahlung emittierende Halbleiterbauelemente (2), die jeweils eine Oberfläche, die sich aus mehreren Teilflächen (2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F) zusammensetzt, und jeweils ein an der Oberfläche angeordnetes erstes und zweites, Anschlusselement (3, 4) aufweisen, wobei die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente (2) an einer Mehrzahl ihrer Teilflächen (2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F) Strahlung emittieren, – einen Träger (6) aufweisend – eine dreidimensionale Gestalt, die durch eine entlang einer ersten Achse (A1) bestimmbare erste Ausdehnung (B), eine entlang einer senkrecht zur ersten verlaufenden zweiten Achse (A2) bestimmbare zweite Ausdehnung (T) und durch eine entlang einer senkrecht zur ersten (A1) und zweiten Achse (A2) verlaufenden dritten Achse (A3) bestimmbare dritte Ausdehnung (H) gekennzeichnet ist, wobei die dritte Ausdehnung (H) größer ist als die erste (B) und die zweite Ausdehnung (T), – mindestens ein elektrisches Kontaktmittel (7A, 7B), wobei jedes Anschlusselement (3, 4) mit einem elektrischen Kontaktmittel (7A, 7B) des Trägers (6) elektrisch verbunden ist, und die Halbleiterbauelemente (2) mittels des Trägers (6) mechanisch miteinander verbunden sind, wobei höchstens 50 % jeder Teilfläche (2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F) eines einzelnen Halbleiterbauelements (2) von dem Träger (6) bedeckt sind.The invention relates to a radiation-emitting device (1) comprising - a plurality of radiation-emitting semiconductor components (2) each having a surface composed of a plurality of sub-areas (2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F) and one each on the Surface arranged first and second terminal element (3, 4), wherein the radiation emitting semiconductor devices (2) at a plurality of their partial surfaces (2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F) emit radiation, - a carrier (6) having A three-dimensional shape, which can be determined by a first extension (B) determinable along a first axis (A1), a second extension (T) determinable along a second axis (A2) perpendicular to the first, and a second extension (T1) along a plane perpendicular to the first (A1 ) and the second axis (A2) extending third axis (A3) determinable third extent (H), wherein the third extent (H) is greater than the first (B) and the second extent (T), at least one electrical contact means (7A, 7B), each connection element (3, 4) being electrically connected to an electrical contact means (7A, 7B) of the carrier (6), and the semiconductor components (2) being mechanically connected to one another by means of the carrier (6) wherein at most 50% of each subarea (2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F) of a single semiconductor device (2) is covered by the carrier (6).

Description

Es wird eine Strahlung emittierende Vorrichtung angegeben, die mehrere Strahlung emittierende Halbleiterbauelemente aufweist, wobei die Halbleiterbauelemente insbesondere Strahlung mit Wellenlängen im sichtbaren Spektralbereich emittieren.The invention relates to a radiation-emitting device which has a plurality of radiation-emitting semiconductor components, wherein the semiconductor components in particular emit radiation having wavelengths in the visible spectral range.

Bei einer Strahlung emittierenden Vorrichtung, die als Strahlungsquelle mindestens ein Strahlung emittierendes Halbleiterbauelement aufweist, ist typischerweise eine Wärmesenke vorgesehen, die in thermischem Kontakt mit dem mindestens einen Halbleiterbauelement steht, so dass Verlustwärme, die im Betrieb entsteht, von der Wärmesenke aufgenommen und dadurch das mindestens eine Strahlung emittierende Halbleiterbauelement ausreichend gekühlt werden kann. Problematisch ist hierbei, dass von der Wärmesenke nicht nur die Verlustwärme, sondern auch Strahlung, die das mindestens eine Strahlung emittierende Halbleiterbauelement erzeugt, absorbiert wird, so dass die Strahlungsausbeute der Strahlung emittierenden Vorrichtung beeinträchtigt wird.In a radiation-emitting device which has at least one radiation-emitting semiconductor component as the radiation source, a heat sink is typically provided, which is in thermal contact with the at least one semiconductor component, so that heat loss arising during operation is absorbed by the heat sink and thereby the at least a radiation-emitting semiconductor device can be sufficiently cooled. The problem here is that of the heat sink not only the heat loss, but also radiation that generates the at least one radiation emitting semiconductor device is absorbed, so that the radiation efficiency of the radiation-emitting device is impaired.

Eine zu lösende Aufgabe besteht vorliegend darin, eine Strahlung emittierende Vorrichtung anzugeben, bei der Absorptionsverluste, die insbesondere an der Wärmesenke auftreten, im Vergleich zu einer herkömmlichen Vorrichtung reduziert sind. An object to be solved in the present case is to specify a radiation-emitting device in which absorption losses that occur in particular at the heat sink are reduced in comparison to a conventional device.

Diese Aufgabe wird durch eine Strahlung emittierende Vorrichtung mit den Merkmalen des unabhängigen Patentanspruchs gelöst. This object is achieved by a radiation-emitting device having the features of the independent patent claim.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst die Strahlung emittierende Vorrichtung mehrere Strahlung emittierende Halbleiterbauelemente sowie einen Träger, durch den die Halbleiterbauelemente mechanisch miteinander verbunden sind.In accordance with at least one embodiment, the radiation-emitting device comprises a plurality of radiation-emitting semiconductor components and a carrier, by means of which the semiconductor components are mechanically connected to one another.

Die Halbleiterbauelemente können jeweils eine Oberfläche, die sich aus mehreren Teilflächen zusammensetzt, und jeweils ein an der Oberfläche angeordnetes erstes und zweites, Anschlusselement aufweisen. Mittels des ersten und zweiten Anschlusselements ist es möglich, das jeweilige Halbleiterbauelement elektrisch anzuschließen und im Betrieb mit Strom zu versorgen. The semiconductor components may each have a surface which is composed of a plurality of partial surfaces, and in each case a first and second connecting element arranged on the surface. By means of the first and second connection element, it is possible to electrically connect the respective semiconductor component and to supply power during operation.

Die Halbleiterbauelemente umfassen vorzugsweise jeweils einen Halbleiterkörper, auf dem die Anschlusselemente angeordnet sind. Die Halbleiterkörper können jeweils einen ersten Halbleiterbereich, einen zweiten Halbleiterbereich und eine zwischen dem ersten und zweiten Halbleiterbereich angeordnete aktive Zone, die insbesondere zur Strahlungserzeugung geeignet ist, umfassen. Vorzugsweise handelt es sich bei dem ersten Halbleiterbereich um einen p-leitenden Bereich. Weiterhin handelt es sich bei dem zweiten Halbleiterbereich insbesondere um einen n-leitenden Bereich. Insbesondere ist das erste Anschlusselement mit dem ersten Halbleiterbereich und das zweite Anschlusselement mit dem zweiten Halbleiterbereich elektrisch verbunden. Vorzugsweise sind die Anschlusselemente auf einer Teilfläche des Halbleiterkörpers spiegelsymmetrisch angeordnet. Weiterhin sind die Anschlusselemente mit Vorteil zentral auf der Teilfläche angeordnet. Dabei erfolgt die Stromzuführung vom Zentrum des Halbleiterkörpers aus nach außen zu Randbereichen des Halbleiterkörpers. Länge und Breite der Anschlusselemente können aufgrund der zentralen, symmetrischen Anordnung reduziert werden, wodurch von einem größeren Teil der Teilfläche Strahlung emittiert werden kann.The semiconductor components preferably each comprise a semiconductor body on which the connection elements are arranged. The semiconductor bodies may each comprise a first semiconductor region, a second semiconductor region and an active zone arranged between the first and second semiconductor regions, which is suitable in particular for generating radiation. Preferably, the first semiconductor region is a p-type region. Furthermore, the second semiconductor region is in particular an n-conducting region. In particular, the first connection element is electrically connected to the first semiconductor region and the second connection element is electrically connected to the second semiconductor region. Preferably, the connection elements are arranged mirror-symmetrically on a partial surface of the semiconductor body. Furthermore, the connection elements are advantageously arranged centrally on the partial surface. In this case, the power supply takes place from the center of the semiconductor body to the outside to edge regions of the semiconductor body. Length and width of the connecting elements can be reduced due to the central, symmetrical arrangement, whereby radiation can be emitted by a larger part of the partial surface.

Für den jeweiligen Halbleiterkörper beziehungsweise den ersten und zweiten Halbleiterbereich des einzelnen Halbleiterkörpers kommen vorzugsweise auf Nitrid-Verbindungshalbleitern basierende Materialien in Betracht. "Auf Nitrid-Verbindungshalbleitern basierend" bedeutet im vorliegenden Zusammenhang, dass zumindest eine Schicht des Halbleiterkörpers ein Nitrid-III/V-Verbindungshalbleitermaterial, vorzugsweise AlnGamIn1-n-mN umfasst, wobei 0 ≤ n ≤ 1, 0 ≤ m ≤ 1 und n + m ≤ 1. Dabei muss dieses Material nicht zwingend eine mathematisch exakte Zusammensetzung nach obiger Formel aufweisen. Vielmehr kann es einen oder mehrere Dotierstoffe sowie zusätzliche Bestandteile aufweisen, die die charakteristischen physikalischen Eigenschaften des AlnGamIn1-n-mN-Materials im Wesentlichen nicht ändern. Der Einfachheit halber beinhaltet obige Formel jedoch nur die wesentlichen Bestandteile des Kristallgitters (Al, Ga, In, N), auch wenn diese teilweise durch geringe Mengen weiterer Stoffe ersetzt sein können.For the respective semiconductor body or the first and second semiconductor region of the individual semiconductor body are preferably based on nitride compound semiconductors materials. "Based on nitride compound semiconductors" in the present context means that at least one layer of the semiconductor body comprises a nitride III / V compound semiconductor material, preferably Al n Ga m In 1 nm N, where 0 ≦ n ≦ 1, 0 ≦ m ≦ 1 and n + m ≤ 1. This material does not necessarily have to have a mathematically exact composition according to the above formula. Rather, it may comprise one or more dopants as well as additional constituents which do not substantially alter the characteristic physical properties of the Al n Ga m In 1-nm N material. For the sake of simplicity, however, the above formula contains only the essential constituents of the crystal lattice (Al, Ga, In, N), even if these may be partially replaced by small amounts of other substances.

Vorzugsweise emittieren die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente an einer Mehrzahl ihrer Teilflächen Strahlung. Insbesondere wird an allen Teilflächen jedes Halbleiterbauelements Strahlung emittiert. Weiterhin kann die Strahlung von jedem einzelnen Halbleiterbauelement isotrop abgegeben werden.The radiation-emitting semiconductor components preferably emit radiation at a plurality of their partial surfaces. In particular, radiation is emitted on all partial surfaces of each semiconductor component. Furthermore, the radiation from each individual semiconductor device can be emitted isotropically.

Der Träger kann eine dreidimensionale Gestalt aufweisen, die durch eine entlang einer ersten Achse bestimmbare erste Ausdehnung, eine entlang einer senkrecht zur ersten verlaufenden zweiten Achse bestimmbare zweite Ausdehnung und durch eine entlang einer senkrecht zur ersten und zweiten verlaufenden dritten Achse bestimmbare dritte Ausdehnung gekennzeichnet ist, wobei die dritte Ausdehnung größer ist als die erste und die zweite Ausdehnung. Bei der "Ausdehnung" handelt es sich insbesondere um die maximale Ausdehnung entlang der jeweiligen Achse. Vorzugsweise ist die dritte Ausdehnung um ein Vielfaches größer als die erste und zweite Ausdehnung.The carrier may have a three-dimensional shape which is characterized by a first extent determinable along a first axis, a second extent determinable along a second axis extending perpendicular to the first axis and by a third extent determinable along a third axis extending perpendicular to the first and second axes, wherein the third dimension is greater than the first and second dimensions. The "expansion" is in particular the maximum extent along the respective axis. Preferably, the third is Extension many times greater than the first and second dimensions.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst der Träger mindestens ein elektrisches Kontaktmittel, wobei jedes Anschlusselement mit einem elektrischen Kontaktmittel des Trägers elektrisch verbunden ist.In accordance with at least one embodiment, the carrier comprises at least one electrical contact means, wherein each connection element is electrically connected to an electrical contact means of the carrier.

Vorzugsweise sind höchstens 50 % jeder Teilfläche eines einzelnen Halbleiterbauelements von dem Träger bedeckt. Durch den höchstens 50 %igen Bedeckungsgrad jeder Teilfläche können Strahlungsverluste im Vergleich zu Vorrichtungen, bei welchen die Halbleiterbauelemente zumindest an einer Teilfläche von einem Träger, beispielsweise einer Wärmesenke, vollflächig bedeckt werden, reduziert werden. Zugleich können die Halbleiterbauelemente in den vom Träger unbedeckten Bereichen der Teilflächen aufgrund von Konvektion gekühlt werden.Preferably, at most 50% of each subarea of a single semiconductor device is covered by the carrier. Due to the maximum 50% degree of coverage of each partial area, radiation losses can be reduced in comparison to devices in which the semiconductor components are completely covered by a carrier, for example a heat sink, at least on a partial area. At the same time, the semiconductor components can be cooled in the areas of the partial areas which are uncovered by the carrier due to convection.

Bei einer bevorzugten Ausgestaltung sind mindestens zwei Teilflächen jedes Strahlung emittierenden Halbleiterbauelements von dem Träger vollständig unbedeckt. Beispielsweise können die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente prismenförmig, insbesondere quaderförmig, ausgebildet sein. Dabei können die Halbleiterbauelemente sechs Teilflächen aufweisen. Insbesondere handelt es sich bei den Teilflächen, die von dem Träger vollständig unbedeckt sind, um gegenüberliegende Flächen.In a preferred embodiment, at least two partial surfaces of each radiation-emitting semiconductor component are completely uncovered by the carrier. For example, the radiation-emitting semiconductor components may be prism-shaped, in particular cuboid. In this case, the semiconductor components may have six partial surfaces. In particular, the partial surfaces which are completely uncovered by the carrier are opposite surfaces.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform sind die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente berührungslos angeordnet, so dass sich jeweils zwischen zwei direkt benachbarten Halbleiterbauelementen ein Zwischenraum befindet. In anderen Worten grenzen die einander zugewandten Teilflächen von zwei benachbarten Halbleiterbauelementen nicht unmittelbar aneinander. In den Zwischenräumen kann Konvektion stattfinden, so dass die im Betrieb entstehende Verlustwärme von den Halbleiterbauelementen abgeführt werden kann.In accordance with at least one embodiment, the radiation-emitting semiconductor components are arranged without contact, so that in each case a gap is located between two directly adjacent semiconductor components. In other words, the mutually facing partial surfaces of two adjacent semiconductor components do not adjoin one another directly. Convection may take place in the intermediate spaces, so that the heat loss arising during operation can be dissipated from the semiconductor components.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist in dem Zwischenraum jeweils ein strahlungsdurchlässiges gasförmiges, flüssiges oder festes Medium angeordnet. Während durch das gasförmige oder flüssige Medium eine Kühlung aufgrund von Konvektion möglich ist, erfolgt die Kühlung im festen Medium insbesondere durch Wärmeleitung. Bei einer vorteilhaften Ausgestaltung weist das gasförmige Medium ein Edelgas auf oder besteht daraus. Beispielsweise kann es sich bei dem Edelgas um Helium handeln. Weiterhin kann es sich bei dem festen Medium um einen Kunststoff handeln.In accordance with at least one embodiment, in each case a radiation-permeable gaseous, liquid or solid medium is arranged in the intermediate space. While a cooling due to convection is possible by the gaseous or liquid medium, the cooling takes place in the solid medium in particular by heat conduction. In an advantageous embodiment, the gaseous medium to a noble gas or consists thereof. For example, the noble gas may be helium. Furthermore, the solid medium may be a plastic.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst der Träger einen Trägerkörper. Der Trägerkörper kann aus einem elektrisch schlecht oder nicht leitenden Material gebildet sein. Hierbei sind die Kontaktmittel beispielsweise in Form von Metallisierungen auf dem Trägerkörper angeordnet. Insbesondere ist der Trägerkörper aus einem strahlungsdurchlässigen Material, beispielsweise einem strahlungsdurchlässigen Kunststoff oder Glas, gebildet. Alternativ kann der Trägerkörper aus einem elektrisch leitenden Material, beispielsweise einem Metall oder einer Metallverbindung gebildet sein. Hierbei bilden Bereiche des Trägerkörpers die Kontaktmittel. Vorzugsweise sind die Kontaktmittel im Träger symmetrisch, insbesondere spiegelsymmetrisch, angeordnet.In accordance with at least one embodiment, the carrier comprises a carrier body. The carrier body may be formed of an electrically poor or non-conductive material. Here, the contact means are arranged for example in the form of metallizations on the carrier body. In particular, the carrier body is formed from a radiation-transmissive material, for example a radiation-transmissive plastic or glass. Alternatively, the carrier body may be formed from an electrically conductive material, for example a metal or a metal compound. In this case, regions of the carrier body form the contact means. Preferably, the contact means in the carrier are symmetrical, in particular mirror-symmetrical, arranged.

Der Träger kann einstückig ausgebildet sein. Weiterhin kann der Träger mehrstückig ausgebildet sein, so dass er mindestens zwei separate Trägerelemente aufweist. Vorzugsweise weist der Träger oder mindestens ein Trägerelement die Form eines Zylinders oder Prismas auf. Beispielsweise kann der Träger oder das Trägerelement im Querschnitt, das heißt insbesondere entlang einer Schnittebene, deren Flächennormale paralllel zur dritten Achse angeordnet ist, eine Rechteckform aufweisen. Ferner kann der Träger oder das Trägerelement im Querschnitt einem Stern gleichen. Hierbei bilden Zacken des Sterns Kühlrippen, welche die Konvektion am Träger befördern.The carrier may be formed in one piece. Furthermore, the carrier may be formed in several pieces, so that it has at least two separate carrier elements. Preferably, the carrier or at least one carrier element in the form of a cylinder or prism. For example, the carrier or the carrier element in cross-section, that is to say in particular along a sectional plane whose surface normal is arranged parallel to the third axis, have a rectangular shape. Further, the carrier or the carrier element in cross section may resemble a star. Here, prongs of the star form cooling fins, which promote the convection on the carrier.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist der Träger Öffnungen auf, in welchen jeweils ein Strahlung emittierendes Halbleiterbauelement angeordnet ist. Die Form des Trägers kann dabei streifenartig sein, wobei die Öffnungen ausgesparte beziehungsweise ausgestanzte Bereiche im Trägerkörper des Trägers sind.In accordance with at least one embodiment, the carrier has openings, in each of which a radiation-emitting semiconductor component is arranged. The shape of the carrier can be strip-like, wherein the openings are recessed or punched out areas in the carrier body of the carrier.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform sind die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente ausschließlich entlang der dritten Achse des Trägers nacheinander aufgereiht. Dies bedeutet, dass die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente in einer ersten und zweiten Achsrichtung keine benachbarten Halbleiterbauelemente besitzen. Dabei ist unter der "ersten Achsrichtung" eine parallel zur ersten Achse verlaufende Richtung zu verstehen. Entsprechend sind unter der "zweiten Achsrichtung" eine parallel zur zweiten Achse verlaufende Richtung und unter der "dritten Achsrichtung" eine parallel zur dritten Achse verlaufende Richtung zu verstehen.In accordance with at least one embodiment, the radiation-emitting semiconductor components are arranged consecutively exclusively along the third axis of the carrier. This means that the radiation-emitting semiconductor components have no adjacent semiconductor components in a first and second axial direction. In this case, the "first axial direction" is understood to mean a direction parallel to the first axis. Correspondingly, the "second axis direction" is to be understood as meaning a direction running parallel to the second axis, and the "third axis direction" being understood to mean a direction running parallel to the third axis.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform überragen die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente den Träger in der ersten oder zweiten Achsrichtung. In anderen Worten stehen die Halbleiterbauelemente in der ersten oder zweiten Achsrichtung über den Träger hinaus. Dadurch können die Halbleiterbauelemente frei in den Raum abstrahlen.In accordance with at least one embodiment, the radiation-emitting semiconductor components project beyond the carrier in the first or second axial direction. In other words, the semiconductor devices are beyond the carrier in the first or second axial direction. As a result, the semiconductor components can radiate freely into the room.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist die Vorrichtung Verbindungsmittel auf, wobei jeweils ein Verbindungsmittel zwischen einem Anschlusselement und einem Kontaktmittel angeordnet ist. Insbesondere handelt es sich bei dem Verbindungsmittel jeweils um mindestens eines der folgenden Mittel: Bonddraht, Haftvermittler, Lötverbindung. Insbesondere sind zwei unmittelbar nebeneinander angeordnete Halbleiterbauelemente mittels jeweils eines Verbindungsmittels mit demselben Kontaktmittel elektrisch verbunden. Dadurch können die Halbleiterbauelemente parallel oder in Serie geschaltet sein.In accordance with at least one embodiment, the device has connection means, wherein in each case a connecting means between a connection element and a contact means is arranged. In particular, the connecting means are each at least one of the following means: bonding wire, adhesion promoter, solder joint. In particular, two semiconductor components arranged next to one another are electrically connected to the same contact means by means of a respective connection means. As a result, the semiconductor components can be connected in parallel or in series.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform weisen die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente jeweils einen Strahlungskörper auf, der aus einem strahlungsdurchlässigen Material gebildet und an Teilflächen des Halbleiterkörpers angeordnet ist. Beispielsweise kann der Strahlungskörper Glas oder Kunststoff enthalten oder daraus bestehen.In accordance with at least one embodiment, the radiation-emitting semiconductor components each have a radiation body, which is formed from a radiation-transmissive material and arranged on partial surfaces of the semiconductor body. For example, the radiation body can contain or consist of glass or plastic.

Insbesondere werden die erste und/oder zweite Ausdehnung des Halbleiterbauelements mittels des Strahlungskörpers verlängert. Die Verlängerung des Halbleiterbauelements bewirkt eine Vergrößerung der Abstrahlfläche. Beispielsweise kann die erste Ausdehnung durch den Strahlungskörper um den Faktor 2 bis 3 verlängert werden. Entsprechend kann eine Vergrößerung der Abstrahlfläche um den Faktor 4 bis 9 bewirkt werden. In anderen Worten können die erste und/oder zweite Ausdehnung des Halbleiterbauelements 2 bis 3 Mal größer sein als die erste und/oder zweite Ausdehnung des Halbleiterkörpers.In particular, the first and / or second dimensions of the semiconductor component are lengthened by means of the radiation body. The extension of the semiconductor device causes an enlargement of the radiating surface. For example, the first extension can be extended by the radiation body by a factor of 2 to 3. Accordingly, an increase in the emission area by a factor of 4 to 9 can be effected. In other words, the first and / or second dimensions of the semiconductor component may be 2 to 3 times greater than the first and / or second dimensions of the semiconductor body.

Weiterhin kann mittels des Strahlungskörpers die Strahlungsauskopplung aus dem Halbleiterbauelement verbessert werden. Beispielsweise kann der Strahlungskörper zumindest ein Auskoppelelement aufweisen, das eine konvexe Auskoppelfläche aufweist. Weiterhin kann der Strahlungskörper aus einem brechungsindexangepassten Material gebildet sein. Dabei bedeutet "brechungsindexangepasst" insbesondere, dass ein Brechungsindex des Materials größer ist als der Brechungsindex eines den Strahlungskörper umgebenden Mediums, aber kleiner ist als ein Brechungsindex des Halbleiterkörpers.Furthermore, the radiation extraction from the semiconductor component can be improved by means of the radiation body. For example, the radiation body can have at least one outcoupling element which has a convex coupling-out surface. Furthermore, the radiation body can be formed from a refractive index-matched material. In particular, "refractive index-adjusted" means that a refractive index of the material is greater than the refractive index of a medium surrounding the radiation body, but smaller than a refractive index of the semiconductor body.

Bei einer bevorzugten Ausgestaltung weisen die Halbleiterbauelemente jeweils ein Konversionselement auf, so dass die von dem Halbleiterkörper emittierte Strahlung zumindest teilweise in Strahlung einer anderen Wellenlänge umgewandelt werden kann. Das Konversionselement kann auf dem Halbleiterkörper oder dem Strahlungskörper angeordnet sein. Ferner kann der Strahlungskörper Konversionsmaterialien enthalten, so dass der Strahlungskörper zugleich ein Konversionselement ist.In a preferred embodiment, the semiconductor components each have a conversion element, so that the radiation emitted by the semiconductor body can be at least partially converted into radiation of a different wavelength. The conversion element can be arranged on the semiconductor body or the radiation body. Furthermore, the radiation body may contain conversion materials, so that the radiation body is at the same time a conversion element.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform weisen die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente jeweils eine Mehrzahl von Kühlrippen auf. Bei den Kühlrippen handelt es sich insbesondere um prismenförmige strahlungsdurchlässige Elemente, die sich entlang zumindest einer Teilfläche der Halbleiterbauelemente beziehungsweise der Halbleiterkörper erstrecken. Beispielsweise können die Kühlrippen ein Kunststoffmaterial enthalten oder daraus bestehen. Mittels der Kühlrippen kann die durch Konvektion bewirkte Kühlung der Halbleiterbauelemente verbessert werden. Beispielsweise können die Halbleiterbauelemente jeweils eine Verkapselung aufweisen, in die der Halbleiterkörper eingebettet ist. Die Verkapselung kann an ihrer Oberfläche eine Struktur aus Erhebungen und Verteifungen aufweisen, wobei die Erhebungen vorzugsweise Kühlrippen des Halbleiterbauelements bilden.In accordance with at least one embodiment, the radiation-emitting semiconductor components each have a plurality of cooling ribs. The cooling fins are, in particular, prism-shaped radiation-transmissive elements which extend along at least one partial area of the semiconductor components or the semiconductor bodies. For example, the cooling fins may contain or consist of a plastic material. By means of the cooling fins, the convection-induced cooling of the semiconductor components can be improved. For example, the semiconductor components may each have an encapsulation in which the semiconductor body is embedded. The encapsulation may have on its surface a structure of elevations and inclusions, the elevations preferably forming cooling ribs of the semiconductor component.

Weitere Vorteile und vorteilhafte Ausführungsformen und Weiterbildungen ergeben sich aus den im Folgenden in Verbindung mit den 1 bis 10 beschriebenen Ausführungsformen.Further advantages and advantageous embodiments and developments will become apparent from the following in connection with the 1 to 10 described embodiments.

Es zeigen:Show it:

1 bis 4 schematische perspektivische Darstellungen von Strahlung emittierenden Vorrichtungen gemäß verschiedener Ausführungsbeispiele, 1 to 4 schematic perspective views of radiation emitting devices according to various embodiments,

5 und 6 schematische perspektivische Darstellungen von Strahlung emittierenden Modulen gemäß verschiedener Ausführungsbeispiele, 5 and 6 schematic perspective views of radiation emitting modules according to various embodiments,

7 bis 10 schematische perspektivische Darstellungen oder schematische Draufsichten von Strahlung emittierenden Halbleiterbauelementen gemäß verschiedener Ausführungsbeispiele. 7 to 10 schematic perspective views or schematic plan views of radiation-emitting semiconductor devices according to various embodiments.

1 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel einer Strahlung emittierenden Vorrichtung 1, die mehrere Strahlung emittierende Halbleiterbauelemente 2 umfasst. Die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente 2 weisen jeweils eine Oberfläche auf, die sich aus mehreren Teilflächen 2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F zusammensetzt. Ferner weisen die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente 2 jeweils ein an der Oberfläche angeordnetes erstes Anschlusselement 3 und zweites Anschlusselement 4 auf. Die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente 2 können an einer Mehrzahl ihrer Teilflächen 2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F Strahlung emittieren. Insbesondere wird an allen Teilflächen 2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F jedes Halbleiterbauelements 2 Strahlung emittiert. Vorzugsweise wird die Strahlung von jedem einzelnen Halbleiterbauelement 2 isotrop abgegeben. Dies bedeutet, dass die abgegebene Strahlung keine Vorzugsrichtung aufweist. 1 shows a first embodiment of a radiation-emitting device 1 , the plurality of radiation-emitting semiconductor devices 2 includes. The radiation-emitting semiconductor components 2 each have a surface that consists of several faces 2A . 2 B . 2C . 2D . 2E . 2F composed. Furthermore, the radiation emitting semiconductor devices 2 in each case a first connection element arranged on the surface 3 and second connection element 4 on. The radiation-emitting semiconductor components 2 can be found on a majority of their faces 2A . 2 B . 2C . 2D . 2E . 2F Emit radiation. In particular, on all faces 2A . 2 B . 2C . 2D . 2E . 2F each semiconductor device 2 Emitted radiation. Preferably, the radiation from each individual semiconductor device 2 delivered isotropically. This means that the emitted radiation has no preferred direction.

Vorzugsweise ist eine entlang einer ersten Achsrichtung R1 bestimmbare erste Ausdehnung B der Halbleiterbauelemente 2 größer als eine entlang einer senkrecht zur ersten verlaufenden zweiten Achsrichtung R2 bestimmbare zweite Ausdehnung T und eine entlang einer quer zur ersten und zweiten Achsrichtung R1, R2 verlaufenden dritten Achsrichtung R3 bestimmbare dritte Ausdehnung H der Halbleiterbauelemente 2. Insbesondere beträgt das Verhältnis zwischen der ersten Ausdehnung B und der zweiten Ausdehnung T 10:1, vorzugsweise 20:1. Dasselbe Verhältnis gilt vorzugsweise auch für das Verhältnis zwischen der ersten Ausdehnung B und der dritten Ausdehnung H. Beispielsweise können die Halbleiterbauelemente 2 eine erste Ausdehnung B zwischen 1 mm und 5 mm, insbesondere 2 mm, aufweisen.Preferably, a first extension B determinable along a first axial direction R1 is B the semiconductor devices 2 greater than a second extent T determinable along a second axial direction R2 extending perpendicular to the first, and a third extent H of the semiconductor components determinable along a third axial direction R3 running transversely to the first and second axial directions R1, R2 2 , In particular, the ratio between the first expansion B and the second expansion T is 10: 1, preferably 20: 1. The same relationship preferably also applies to the ratio between the first extension B and the third extension H. For example, the semiconductor components 2 a first extent B between 1 mm and 5 mm, in particular 2 mm.

Die Anschlusselemente 3, 4 erstrecken sich parallel zueinander entlang der ersten Achsrichtung R1. Insbesondere handelt es sich bei den Anschlusselementen 3, 4 um streifenförmige Metallisierungen, die auf einem Halbleiterkörper 5 des Halbleiterbauelements 2 angeordnet sind. Dabei sind die Anschlusselemente 3, 4 mit Vorteil spiegelsymmetrisch auf einer Teilfläche 5B des Halbleiterkörpers 5 angeordnet. Die Stromzuführung erfolgt hierbei vom Zentrum des Halbleiterkörpers 5 aus nach außen zu Randbereichen des Halbleiterkörpers 5.The connection elements 3 . 4 extend parallel to each other along the first axial direction R1. In particular, it concerns with the connection elements 3 . 4 to strip-shaped metallizations on a semiconductor body 5 of the semiconductor device 2 are arranged. Here are the connection elements 3 . 4 with advantage mirror symmetry on a partial surface 5B of the semiconductor body 5 arranged. The power supply takes place here from the center of the semiconductor body 5 out to the outside to edge regions of the semiconductor body 5 ,

Weiterhin umfasst die Strahlung emittierende Vorrichtung 1 einen Träger 6, der eine dreidimensionale prismenförmige Gestalt aufweist, die durch eine entlang einer ersten Achse A1 bestimmbare erste Ausdehnung B, eine entlang einer zweiten Achse A2 bestimmbare zweite Ausdehnung T und durch eine entlang einer dritten Achse A3 bestimmbare dritte Ausdehnung H gekennzeichnet ist, wobei die dritte Ausdehnung H größer ist als die erste Ausdehnung B und die zweite Ausdehnung T. Bei einer bevorzugten Ausgestaltung ist die dritte Ausdehnung H des Trägers 6 doppelt so groß wie die erste Ausdehnung B der Halbleiterbauelemente 2. Beispielsweise kann die dritte Ausdehnung H des Trägers 6 zwischen 2 mm und 10 mm, insbesondere 5 mm, betragen.Furthermore, the radiation-emitting device comprises 1 a carrier 6 which has a three-dimensional prismatic shape, characterized by a first extent B determinable along a first axis A1, a second extent T determinable along a second axis A2, and a third extent H determinable along a third axis A3, the third extent H is greater than the first dimension B and the second dimension T. In a preferred embodiment, the third dimension H of the carrier 6 twice as large as the first extension B of the semiconductor devices 2 , For example, the third extent H of the carrier 6 between 2 mm and 10 mm, in particular 5 mm.

Ferner umfasst der Träger 6 ein erstes elektrisches Kontaktmittel 7A und ein zweites elektrisches Kontaktmittel 7B. Dabei ist jedes Anschlusselement 3, 4 mit einem elektrischen Kontaktmittel 7A, 7B des Trägers 6 elektrisch verbunden (nicht dargestellt). Beispielsweise kann das erste Kontaktmittel 7A mit einem ersten Spannungspol und das zweite Kontaktmittel 7B mit einem zweiten Spannungspol verbunden sein. Ferner können die ersten Anschlusselemente 3 jeweils mit dem ersten Kontaktmittel 7A und die zweiten Anschlusselemente 4 jeweils mit dem zweiten Kontaktmittel 7B elektrisch verbunden sein. Dadurch können die Halbleiterbauelemente 2 zueinander parallel geschaltet sein.Furthermore, the carrier comprises 6 a first electrical contact means 7A and a second electrical contact means 7B , In this case, each connection element 3 . 4 with an electrical contact means 7A . 7B of the carrier 6 electrically connected (not shown). For example, the first contact means 7A with a first voltage pole and the second contact means 7B be connected to a second voltage pole. Furthermore, the first connection elements 3 each with the first contact means 7A and the second connection elements 4 each with the second contact means 7B be electrically connected. This allows the semiconductor devices 2 be connected in parallel to each other.

Bei dem in 1 dargestellten Ausführungsbeispiel weist der Träger 6 einen Trägerkörper 6A auf. Der Trägerkörper 6A kann aus einem elektrisch schlecht oder nicht leitenden Material gebildet sein. Weiterhin ist der Trägerkörper 6A mit Vorteil aus einem strahlungsdurchlässigen Material gebildet. Beispielsweise kann der Trägerkörper 6A aus einem strahlungsdurchlässigen Kunststoff oder Glas gebildet sein. Die Kontaktmittel 7A, 7B sind in Form von Metallisierungen auf dem Trägerkörper 6A angeordnet. At the in 1 illustrated embodiment, the carrier 6 a carrier body 6A on. The carrier body 6A may be formed of an electrically poor or non-conductive material. Furthermore, the carrier body 6A formed with advantage of a radiation-transparent material. For example, the carrier body 6A be formed of a radiation-transparent plastic or glass. The contact means 7A . 7B are in the form of metallizations on the carrier body 6A arranged.

Weiterhin umfasst der Träger 6 Öffnungen 8, in welchen jeweils ein Strahlung emittierendes Halbleiterbauelement 2 angeordnet ist. Vorzugsweise sind die entlang einer Schnittebene R2–R3 erzeugten Querschnitte der Öffnungen 8 und Halbleiterbauelemente 2 identisch, so dass die Halbleiterbauelemente 2 passgenau in den Öffnungen 8 angeordnet sind. Die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente 2 sind insbesondere durch die Öffnungen 8 gesteckt und überragen den Träger 6 in der ersten Richtung R1. Furthermore, the carrier comprises 6 openings 8th in which in each case a radiation-emitting semiconductor component 2 is arranged. Preferably, the cross sections of the openings produced along a sectional plane R2-R3 are 8th and semiconductor devices 2 identical, so that the semiconductor devices 2 perfectly fitting in the openings 8th are arranged. The radiation-emitting semiconductor components 2 in particular through the openings 8th stuck and surmount the wearer 6 in the first direction R1.

Die Halbleiterbauelemente 2 sind mittels des Trägers 6 mechanisch miteinander verbunden, wobei die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente 2 ausschließlich entlang der dritten Achsrichtung R3, das heißt in der Richtung, in welcher der Träger 6 seine längste Ausdehnung H aufweist, nacheinander aufgereiht sind.The semiconductor devices 2 are by means of the vehicle 6 mechanically interconnected, wherein the radiation emitting semiconductor devices 2 exclusively along the third axial direction R3, ie in the direction in which the carrier 6 its longest extension H, are lined up one after the other.

Die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente 2 sind berührungslos angeordnet, so dass sich jeweils zwischen zwei direkt benachbarten Halbleiterbauelementen 2 ein Zwischenraum 9 befindet. Bei dem in 1 dargestellten Ausführungsbeispiel ist in den Zwischenräumen 9 jeweils ein strahlungsdurchlässiges gasförmiges Medium (nicht dargestellt) angeordnet. Bei dem gasförmigen Medium kann es sich beispielsweise um Luft oder ein Edelgas wie Helium handeln.The radiation-emitting semiconductor components 2 are arranged without contact, so that in each case between two directly adjacent semiconductor devices 2 a gap 9 located. At the in 1 illustrated embodiment is in the spaces 9 in each case a radiation-permeable gaseous medium (not shown) is arranged. The gaseous medium may be, for example, air or a noble gas such as helium.

Vorzugsweise sind höchstens 50 % jeder Teilfläche 2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F eines einzelnen Halbleiterbauelements 2 von dem Träger 6 bedeckt. Bei dem in 1 dargestellten Ausführungsbeispiel werden die Halbleiterbauelemente 2 nur im Bereich der Öffnungen 8 von dem Träger 6 bedeckt. Da die erste Ausdehnung B des Trägers 6 wesentlich kleiner ist als die erste Ausdehnung B der Halbleiterbauelemente 2, wird nur ein geringer Anteil der Teilflächen 2A, 2B, 2E, 2F von dem Träger 6 bedeckt. Die beiden gegenüberliegenden Teilflächen 2C, 2D sind von dem Träger 6 vollständig unbedeckt.Preferably, at most 50% of each partial area 2A . 2 B . 2C . 2D . 2E . 2F a single semiconductor device 2 from the carrier 6 covered. At the in 1 illustrated embodiment, the semiconductor devices 2 only in the area of the openings 8th from the carrier 6 covered. Because the first extension B of the carrier 6 is much smaller than the first extension B of the semiconductor devices 2 , only a small proportion of the faces 2A . 2 B . 2E . 2F from the carrier 6 covered. The two opposing faces 2C . 2D are from the carrier 6 completely uncovered.

Bei der in 1 dargestellten Vorrichtung 1 kann das gasförmige Medium zwischen den Halbleiterbauelementen 2 zirkulieren und damit die Vorrichtung 1 durch Konvektion kühlen. Eine zusätzliche Wärmesenke wird daher nicht benötigt. Ferner ermöglicht der geringe Bedeckungsgrad der Oberfläche der Halbleiterbauelemente 2 eine nahezu ungestörte Abstrahlung in alle Raumrichtungen, so dass mittels der Vorrichtung 1 eine vergleichsweise hohe Strahlungsausbeute erzielt werden kann.At the in 1 illustrated device 1 can the gaseous medium between the semiconductor devices 2 circulate and thus the device 1 cool by convection. A additional heat sink is therefore not needed. Furthermore, the low degree of coverage allows the surface of the semiconductor devices 2 a virtually undisturbed radiation in all spatial directions, so that by means of the device 1 a comparatively high radiation yield can be achieved.

Eine mögliche Variation des in 1 dargestellten Ausführungsbeispiels kann darin bestehen, den Träger mehrstückig auszubilden (nicht dargestellt). Dabei kann der Träger zwei Trägerelemente aufweisen, die nach Art des in 1 dargestellten Trägers 6 ausgebildet sind. A possible variation of in 1 illustrated embodiment may be to form the carrier multi-piece (not shown). In this case, the carrier may have two carrier elements, which are in the manner of in 1 illustrated carrier 6 are formed.

2 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Strahlung emittierenden Vorrichtung 1. Dabei weisen die Halbleiterbauelemente 2 entsprechend dem in 1 dargestellten Ausführungsbeispiel eine langgestreckte Form auf, das heißt die erste Ausdehnung B ist größer als die zweite Ausdehnung T und die dritte Ausdehnung H. Ferner weisen die Halbleiterbauelemente 2 jeweils ein erstes und zweites Anschlusselement 3, 4 auf, wobei die Anschlusselemente 3, 4 entsprechend dem in 1 dargestellten Ausführungsbeispiel streifenförmig ausgebildet und parallel zueinander angeordnet sind. 2 shows a further embodiment of a radiation-emitting device 1 , In this case, the semiconductor components 2 according to the in 1 illustrated embodiment, an elongated shape, that is, the first extension B is greater than the second extension T and the third extension H. Further, the semiconductor devices 2 each a first and second connection element 3 . 4 on, with the connecting elements 3 . 4 according to the in 1 illustrated embodiment strip-shaped and are arranged parallel to each other.

Weiterhin umfasst die Vorrichtung 1 einen Träger 6, auf dem die Halbleiterbauelemente 2 angeordnet sind. Der Träger 6 ist einstückig ausgebildet und weist die Form eines langgestreckten Prismas mit rechteckförmiger Grundfläche 6B auf, welche durch die erste Ausdehnung B und die zweite Ausdehnung T des Trägers 6 bestimmt wird. Die Halbleiterbauelemente 2 sind auf einer Seitenfläche 6C des Trägers 6 angeordnet, die quer, insbesondere senkrecht, zur Grundfläche 6B, angeordnet ist. Die Halbleiterbauelemente 2 sind entlang der dritten Achse nebeneinander angeordnet, wobei die Halbleiterbauelemente 2 den Träger 6 in der ersten Achsrichtung überragen, das heißt die Halbleiterbauelemente 2 sind breiter als der Träger 6.Furthermore, the device comprises 1 a carrier 6 on which the semiconductor devices 2 are arranged. The carrier 6 is integrally formed and has the shape of an elongated prism with a rectangular base 6B resulting from the first extension B and the second extension T of the carrier 6 is determined. The semiconductor devices 2 are on a side surface 6C of the carrier 6 arranged, the transverse, in particular perpendicular, to the base 6B , is arranged. The semiconductor devices 2 are arranged side by side along the third axis, wherein the semiconductor components 2 the carrier 6 project in the first axial direction, that is, the semiconductor devices 2 are wider than the carrier 6 ,

Der Träger 6 umfasst einen Trägerkörper 6A und elektrische Kontaktmittel 7A, 7B, die auf dem Trägerkörper 6A angeordnet sind. Beispielsweise können die elektrischen Kontaktmittel 7A, 7B in Form von Metallisierungen auf den Trägerkörper 6A aufgebracht sein. Insbesondere befindet sich jeweils ein elektrisches Kontaktmittel 7A, 7B in einem Zwischenraum 9 zwischen zwei unmittelbar benachbarten Halbleiterbauelementen 2. Hierbei sind die Halbleiterbauelemente 2 mit denjenigen Teilflächen 2A auf dem Träger 6 angeordnet, die den Teilflächen 2B mit Anschlusselementen 3, 4 gegenüberliegen. Eine elektrische Verbindung zwischen jeweils einem Anschlusselement 3, 4 und einem Kontaktmittel 7A, 7B wird mittels eines Verbindungsmittels 10 hergestellt. Dabei kann es sich beispielsweise um einen Bonddraht handeln. Vorzugweise sind jeweils das erste Anschlusselement 3 eines Halbleiterbauelements 2 und das zweite Anschlusselement 4 eines benachbarten Halbleiterbauelements 2 mit demselben Kontaktmittel 7A, 7B verbunden. Dabei sind die Halbleiterbauelemente 2 insbesondere in Serie geschaltet.The carrier 6 comprises a carrier body 6A and electrical contact means 7A . 7B on the carrier body 6A are arranged. For example, the electrical contact means 7A . 7B in the form of metallizations on the carrier body 6A be upset. In particular, there is in each case an electrical contact means 7A . 7B in a gap 9 between two immediately adjacent semiconductor devices 2 , Here are the semiconductor devices 2 with those partial surfaces 2A on the carrier 6 arranged, which the partial surfaces 2 B with connection elements 3 . 4 are opposite. An electrical connection between each one connection element 3 . 4 and a contact agent 7A . 7B is by means of a lanyard 10 produced. This may be, for example, a bonding wire. Preferably, in each case the first connection element 3 a semiconductor device 2 and the second connection element 4 an adjacent semiconductor device 2 with the same contact agent 7A . 7B connected. Here are the semiconductor devices 2 especially in series.

Bei diesem Ausführungsbeispiel werden die Halbleiterbauelemente 2 nur an einer Teilfläche 2A von dem Träger 6 bedeckt. Damit weist auch diese Vorrichtung 1 eine vergleichsweise hohe Strahlungsausbeute auf.In this embodiment, the semiconductor devices 2 only on a partial surface 2A from the carrier 6 covered. This also indicates this device 1 a comparatively high radiation yield.

3 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Strahlung emittierenden Vorrichtung 1. Wie bei dem in 2 dargestellten Ausführungsbeispiel ist auch hier der Träger 6 einstückig ausgebildet und weist die Form eines langgestreckten Prismas mit rechteckförmiger Grundfläche 6B auf, welche durch die erste Ausdehnung B und die zweite Ausdehnung T des Trägers 6 bestimmt wird. Die Halbleiterbauelemente 2 sind an einer Seitenfläche 6C des Trägers 6 befestigt, die quer, insbesondere senkrecht, zur Grundfläche 6B, angeordnet ist. Die Halbleiterbauelemente 2 sind entlang der dritten Achse nebeneinander angeordnet, wobei die Halbleiterbauelemente 2 den Träger 6 in der ersten Achsrichtung überragen, das heißt die Halbleiterbauelemente 2 sind breiter als der Träger 6. 3 shows a further embodiment of a radiation-emitting device 1 , As with the in 2 illustrated embodiment is also the carrier 6 formed in one piece and has the shape of an elongated prism with a rectangular base 6B resulting from the first extension B and the second extension T of the carrier 6 is determined. The semiconductor devices 2 are on a side surface 6C of the carrier 6 attached, the transverse, in particular perpendicular, to the base 6B , is arranged. The semiconductor devices 2 are arranged side by side along the third axis, wherein the semiconductor components 2 the carrier 6 project in the first axial direction, that is, the semiconductor devices 2 are wider than the carrier 6 ,

Der Träger 6 umfasst einen Trägerkörper 6A und elektrische Kontaktmittel 7A, 7B, die auf dem Trägerkörper 6A angeordnet sind. Beispielsweise können die elektrischen Kontaktmittel 7A, 7B in Form von Metallisierungen auf den Trägerkörper 6A aufgebracht sein. The carrier 6 comprises a carrier body 6A and electrical contact means 7A . 7B on the carrier body 6A are arranged. For example, the electrical contact means 7A . 7B in the form of metallizations on the carrier body 6A be upset.

Bei dem in 3 dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Kontaktmittel 7A, 7B an derjenigen Seitenfläche 6C angeordnet, an welcher die Halbleiterbauelemente 2 befestigt sind. Dabei sind die Halbleiterbauelemente 2 mit den Teilflächen 2B, welche die Anschlusselemente 3, 4 aufweisen, an der Seitenfläche 3, 4 befestigt. Insbesondere wird jeweils ein Zwischenraum 9 zwischen zwei unmittelbar benachbarten Halbleiterbauelementen 2 von einem elektrischen Kontaktmittel 7A, 7B überdeckt. In anderen Worten kann eine dritte Ausdehnung der elektrischen Kontaktmittel 7A, 7B jeweils größer als eine dritte Ausdehnung des jeweiligen Zwischenraums 9 sein, so dass die Zwischenräume 9 in der dritten Achsrichtung R3 jeweils von einem Kontaktmittel 7A, 7B überspannt werden. Dabei kann sich ein Kontaktmittel 7A, 7B jeweils von dem ersten Anschlusselement 3 eines Halbleiterbauelements 2 zu dem zweiten Anschlusselement 4 eines benachbarten Halbleiterbauelements 2 erstrecken. Dadurch können die Halbleiterbauelemente 2 in Serie geschaltet sein. Die elektrische Verbindung zwischen Anschlusselement 3, 4 und Kontaktmittel 7A, 7B kann mittels eines Verbindungsmittels (nicht dargestellt) bewirkt werden, wobei als Verbindungsmittel zum Beispiel eine Lötverbindung oder ein elektrisch leitender Haftvermittler in Frage kommt.At the in 3 illustrated embodiment, the contact means 7A . 7B on that side surface 6C arranged on which the semiconductor components 2 are attached. Here are the semiconductor devices 2 with the faces 2 B , which the connecting elements 3 . 4 have, on the side surface 3 . 4 attached. In particular, each becomes a gap 9 between two immediately adjacent semiconductor devices 2 from an electrical contact means 7A . 7B covered. In other words, a third extension of the electrical contact means 7A . 7B each greater than a third extension of the respective gap 9 be so the gaps 9 in the third axial direction R3 each of a contact means 7A . 7B be overstretched. This may be a contact agent 7A . 7B each of the first connection element 3 a semiconductor device 2 to the second connection element 4 an adjacent semiconductor device 2 extend. This allows the semiconductor devices 2 be connected in series. The electrical connection between connection element 3 . 4 and contact agents 7A . 7B can be effected by means of a connection means (not shown) wherein as a connecting means, for example, a solder joint or an electrically conductive adhesion promoter in question.

Auch bei diesem Ausführungsbeispiel werden die Halbleiterbauelemente 2 nur an einer Teilfläche 2A von dem Träger 6 bedeckt. Damit weist auch diese Vorrichtung 1 eine vergleichsweise hohe Strahlungsausbeute auf.Also in this embodiment, the semiconductor devices 2 only on a partial surface 2A from the carrier 6 covered. This also indicates this device 1 a comparatively high radiation yield.

4 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer Strahlung emittierenden Vorrichtung 1, die zusätzlich einen Grundkörper 11 aufweist, in welchen der Träger 6 und die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente 2 eingebettet sind. Der Grundkörper 11 füllt die Zwischenräume 9 aus, so dass sich in den Zwischenräumen 9 ein festes Medium befindet. 4 shows an embodiment of a radiation-emitting device 1 , which additionally has a basic body 11 in which the carrier 6 and the radiation emitting semiconductor devices 2 are embedded. The main body 11 fills the gaps 9 out, leaving in the gaps 9 a solid medium is located.

Insbesondere ist der Grundkörper 11 strahlungsdurchlässig, so dass die von den Halbleiterbauelementen 2 emittierte Strahlung nur geringfügig absorbiert oder reflektiert wird. Beispielsweise kann der Grundkörper 11 aus einem Kunststoff gebildet sein. Der Grundkörper 11 verleiht der Vorrichtung 1 eine quaderförmige Gestalt. Mittels des Grundkörpers 11 kann die Strahlung emittierende Vorrichtung 1 mechanisch stabilisiert werden, so dass ihre Handhabung erleichtert wird. Vorzugsweise sind randseitig angeordnete Kontaktmittel 7A, 7B nur teilweise in den Grundkörper 11 eingebettet, so dass die Vorrichtung 1, an den aus dem Grundkörper 11 herausragenden Kontaktmitteln 7A, 7B elektrisch angeschlossen, das heißt mit einer Spannungsquelle verbunden werden kann.In particular, the main body 11 permeable to radiation, so that of the semiconductor devices 2 emitted radiation is only slightly absorbed or reflected. For example, the main body 11 be formed from a plastic. The main body 11 gives the device 1 a cuboid shape. By means of the main body 11 may be the radiation emitting device 1 be mechanically stabilized so that their handling is facilitated. Preferably arranged at the edge contact means 7A . 7B only partially in the body 11 embedded, so that the device 1 to which from the main body 11 outstanding contact materials 7A . 7B electrically connected, that can be connected to a voltage source.

In 5 ist ein erstes Ausführungsbeispiel eines Strahlung emittierenden Moduls 12 dargestellt, das mehrere Strahlung emittierende Vorrichtungen 1 aufweist. Dabei sind die Vorrichtungen 1 derart aneinandergereiht, dass ihre ersten, zweiten und dritten Achsen jeweils parallel zueinander angeordnet sind.In 5 is a first embodiment of a radiation emitting module 12 shown, the multiple radiation emitting devices 1 having. Here are the devices 1 strung together so that their first, second and third axes are each arranged parallel to each other.

Beispielsweise können die Strahlung emittierenden Vorrichtungen 1 gemäß dem in 4 dargestellten Ausführungsbeispiel ausgebildet sein. Hierbei erweisen sich die aus dem Grundkörper 11 hervorstehenden randseitigen Kontaktmittel 7A, 7B als Vorteil. Diese ermöglichen eine elektrische Verschaltung, insbesondere eine Serienschaltung, benachbarter Vorrichtungen 1. For example, the radiation emitting devices 1 according to the in 4 be formed embodiment illustrated. Here are the ones from the main body 11 protruding edge contact means 7A . 7B as an advantage. These allow an electrical interconnection, in particular a series connection, of adjacent devices 1 ,

6 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Strahlung emittierenden Moduls 12, das mehrere Strahlung emittierende Vorrichtungen 1, beispielsweise nach Art der in 4 dargestellten Vorrichtung, aufweist. Das Modul 12 weist ein Zentrum Z auf, in welchem die Vorrichtungen 1 zusammentreffen. Die Vorrichtungen 1 können derart angeordnet sein, dass ihre dritten Achsen parallel zueinander verlaufen, während ihre ersten Achsen in einem Winkel, der größer als 0° und kleiner als 180° ist, angeordnet sind. In anderen Worten kann das Modul 12 drehsymmetrisch ausgebildet sein. Eine derartige Anordnung erlaubt Konvektionsströme (vergleiche Pfeil) zwischen den einzelnen Vorrichtungen 1, so dass eine vergleichsweise gute Kühlung des Moduls 12 möglich ist. 6 shows a further embodiment of a radiation-emitting module 12 , the multiple radiation emitting devices 1 , for example, by type of in 4 illustrated device comprises. The module 12 has a center Z, in which the devices 1 meet. The devices 1 may be arranged such that their third axes are parallel to each other while their first axes are arranged at an angle greater than 0 ° and less than 180 °. In other words, the module 12 be designed rotationally symmetrical. Such an arrangement allows convection currents (see arrow) between the individual devices 1 , so that comparatively good cooling of the module 12 is possible.

7 zeigt eine vorteilhafte Variante eines Strahlung emittierenden Halbleiterbauelements 2. Hierbei weist das Strahlung emittierende Halbleiterbauelement 2 mehrere Kühlrippen 13 auf. Bei den Kühlrippen 13 handelt es sich um prismenförmige strahlungsdurchlässige Elemente, die sich entlang von Teilflächen 5A, 5B, 5E, 5F des Halbleiterkörpers 5 erstrecken. Beispielsweise können die Kühlrippen 13 ein Kunststoffmaterial enthalten oder daraus bestehen. Insbesondere kann der Halbleiterkörper 5 in eine Verkapselung mit einer strukturierten Oberfläche eingebettet sein, wobei Erhebungen der strukturierten Oberfläche als Kühlrippen 13 bezeichnet werden können. Mittels der Kühlrippen 13 kann die durch Konvektion bewirkte Kühlung (vergleiche Pfeil) des Halbleiterbauelements 2 verbessert werden. In der Verkapselung kann ein Konversionsmaterial enthalten sein, so dass die von dem Halbleiterkörper 5 emittierte Strahlung zumindest teilweise in Strahlung einer anderen Wellenlänge umgewandelt werden kann. 7 shows an advantageous variant of a radiation-emitting semiconductor device 2 , In this case, the radiation-emitting semiconductor component has 2 several cooling fins 13 on. At the cooling fins 13 they are prism-shaped radiation-transmissive elements that extend along subareas 5A . 5B . 5E . 5F of the semiconductor body 5 extend. For example, the cooling fins 13 contain or consist of a plastic material. In particular, the semiconductor body 5 be embedded in an encapsulation with a structured surface, wherein elevations of the structured surface as cooling fins 13 can be designated. By means of cooling fins 13 can the convection caused by cooling (see arrow) of the semiconductor device 2 be improved. In the encapsulation may be included a conversion material, so that of the semiconductor body 5 emitted radiation can be at least partially converted into radiation of a different wavelength.

8 zeigt eine weitere vorteilhafte Variante eines Strahlung emittierenden Halbleiterbauelements 2. Das Halbleiterbauelement 2 weist einen Strahlungskörper 14 auf, der aus einem strahlungsdurchlässigen Material gebildet und an Teilflächen 5C, 5D des Halbleiterbauelements 2 angeordnet ist. Der Strahlungskörper 14 verlängert die erste und zweite Ausdehnung des Halbleiterbauelements 2, wodurch die Abstrahlfläche des Halbleiterbauelements 2 vergrößert wird. Weiterhin kann mittels des Strahlungskörpers 14 die Strahlungsauskopplung aus dem Halbleiterbauelement 2 verbessert werden. Der Strahlungskörper 14 umfasst zwei Auskoppelelemente 14A, 14B, die jeweils eine konvexe Auskoppelfläche aufweisen. Weiterhin kann der Strahlungskörper 14 aus einem brechungsindexangepassten Material gebildet sein. Dabei bedeutet "brechungsindexangepasst" insbesondere, dass ein Brechungsindex des Materials größer ist als der Brechungsindex eines den Strahlungskörper 14 umgebenden Mediums, aber kleiner ist als ein Brechungsindex des Halbleiterkörpers 5. 8th shows a further advantageous variant of a radiation-emitting semiconductor device 2 , The semiconductor device 2 has a radiation body 14 on, formed of a radiation-transparent material and on partial surfaces 5C . 5D of the semiconductor device 2 is arranged. The radiation body 14 extends the first and second dimensions of the semiconductor device 2 , whereby the radiating surface of the semiconductor device 2 is enlarged. Furthermore, by means of the radiation body 14 the radiation extraction from the semiconductor device 2 be improved. The radiation body 14 comprises two decoupling elements 14A . 14B , each having a convex decoupling surface. Furthermore, the radiation body 14 be formed of a refractive index-matched material. In particular, "refractive index-adjusted" means that a refractive index of the material is greater than the refractive index of a radiation body 14 surrounding medium, but smaller than a refractive index of the semiconductor body 5 ,

9 und 10 zeigen weitere vorteilhafte Varianten eines Strahlung emittierenden Halbleiterbauelements 2. Im Unterschied zu den vorausgehenden Ausführungsbeispielen, bei welchen die Anschlusselemente 3, 4 streifenförmig, das heißt geradlinig ausgebildet sind, weisen die Anschlusselemente 3, 4 gekrümmte Bereiche auf. Beispielsweise ist das erste Anschlusselement 3 halbkreisförmig ausgebildet. Auch das zweite Anschlusselement 4 weist einen halbkreisförmigen Bereich 4A und darüber hinaus einen kreisbogenförmigen Bereich 4B auf, der sich ausgehend vom Rand des Halbleiterkörpers 5 an den halbkreisförmigen Bereich 4A anschließt. Die zentral angeordneten Anschlusselemente 3, 4 ermöglichen zum einen eine symmetrische Stromverteilung, zum andern eine weitgehend isotrope Abstrahlung an der Teilfläche 5B. 9 and 10 show further advantageous variants of a radiation-emitting semiconductor device 2 , In contrast to the preceding embodiments, in which the connection elements 3 . 4 strip-shaped, that is formed rectilinear, have the connection elements 3 . 4 curved areas. For example, the first connection element 3 semicircular. Also the second connection element 4 has a semi-circular area 4A and in addition a circular arc-shaped area 4B on, starting from the edge of the semiconductor body 5 to the semicircular area 4A followed. The centrally arranged connection elements 3 . 4 allow on the one hand a symmetrical current distribution, on the other hand a largely isotropic radiation at the partial surface 5B ,

Bei dem in 10 dargestellten Ausführungsbeispiel weisen die Anschlusselemente 3, 4 ebenfalls gekrümmte Bereiche auf. Zum einen weisen die Anschlusselemente 3, 4 jeweils halbkreisförmige Bereiche 3A, 4A auf. Zum andern weisen die Anschlusselemente 3, 4 ovale Bereiche 3B, 4B auf. Auch diese Struktur ermöglicht zum einen eine symmetrische Stromverteilung, zum andern eine weitgehend isotrope Abstrahlung an der Teilfläche 5B.At the in 10 illustrated embodiment, the connection elements 3 . 4 also curved areas. On the one hand, the connection elements 3 . 4 each semicircular areas 3A . 4A on. On the other hand, the connection elements 3 . 4 oval areas 3B . 4B on. This structure also makes possible, on the one hand, a symmetrical current distribution and, on the other hand, a largely isotropic emission at the partial surface 5B ,

Die Erfindung ist nicht durch die Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele beschränkt. Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit in den Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist.The invention is not limited by the description with reference to the embodiments. Rather, the invention encompasses any novel feature as well as any combination of features, including in particular any combination of features in the claims, even if this feature or combination itself is not explicitly stated in the patent claims or exemplary embodiments.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

1 1
Strahlung emittierende VorrichtungRadiation emitting device
2 2
Strahlung emittierendes HalbleiterbauelementRadiation emitting semiconductor device
2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F
Teilfläche subarea
3 3
erstes Anschlusselementfirst connection element
3A, 3B 3A, 3B
Teilbereiche des ersten AnschlusselementsSubareas of the first connection element
4 4
zweites Anschlusselementsecond connection element
4A, 4B 4A, 4B
Teilbereiche des zweiten AnschlusselementsSubregions of the second connection element
5 5
HalbleiterkörperSemiconductor body
5A, 5B, 5C, 5D 5A, 5B, 5C, 5D
Teilflächensubareas
66
Träger carrier
6A6A
Trägerkörper support body
6B 6B
GrundflächeFloor space
6C 6C
Seitenflächeside surface
7A, 7B 7A, 7B
elektrisches Kontaktmittelelectrical contact agent
8 8th
Öffnungopening
9 9
Zwischenraumgap
10 10
Verbindungsmittelconnecting means
1111
Grundkörper body
1212
Strahlung emittierendes Modul Radiation emitting module
1313
Kühlrippe cooling fin
1414
Strahlungskörper radiant body
A1 A1
erste Achsefirst axis
A2 A2
zweite Achsesecond axis
A3 A3
dritte Achsethird axis
B B
erste Ausdehnungfirst expansion
T T
zweite Ausdehnungsecond expansion
H H
dritte Ausdehnungthird expansion
R1 R1
erste Achsrichtungfirst axis direction
R2 R2
zweite Achsrichtungsecond axis direction
R3 R3
dritte Achsrichtungthird axis direction
Z Z
Zentrumcenter

Claims (16)

Strahlung emittierende Vorrichtung (1) umfassend – mehrere Strahlung emittierende Halbleiterbauelemente (2), die jeweils eine Oberfläche, die sich aus mehreren Teilflächen (2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F) zusammensetzt, und jeweils ein an der Oberfläche angeordnetes erstes und zweites, Anschlusselement (3, 4) aufweisen, wobei die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente (2) an einer Mehrzahl ihrer Teilflächen (2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F) Strahlung emittieren, – einen Träger (6) aufweisend – eine dreidimensionale Gestalt, die durch eine entlang einer ersten Achse (A1) bestimmbare erste Ausdehnung (B), eine entlang einer senkrecht zur ersten verlaufenden zweiten Achse (A2) bestimmbare zweite Ausdehnung (T) und durch eine entlang einer senkrecht zur ersten (A1) und zweiten Achse (A2) verlaufenden dritten Achse (A3) bestimmbare dritte Ausdehnung (H) gekennzeichnet ist, wobei die dritte Ausdehnung (H) größer ist als die erste (B) und die zweite Ausdehnung (T), – mindestens ein elektrisches Kontaktmittel (7A, 7B), wobei jedes Anschlusselement (3, 4) mit einem elektrischen Kontaktmittel (7A, 7B) des Trägers (6) elektrisch verbunden ist, und die Halbleiterbauelemente (2) mittels des Trägers (6) mechanisch miteinander verbunden sind, wobei höchstens 50 % jeder Teilfläche (2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F) eines einzelnen Halbleiterbauelements (2) von dem Träger (6) bedeckt sind.Radiation emitting device ( 1 ) comprising - a plurality of radiation emitting semiconductor devices ( 2 ), each having a surface made up of several faces ( 2A . 2 B . 2C . 2D . 2E . 2F ), and in each case one arranged on the surface of the first and second terminal element ( 3 . 4 ), wherein the radiation-emitting semiconductor components ( 2 ) at a plurality of their partial surfaces ( 2A . 2 B . 2C . 2D . 2E . 2F ) Emitting radiation, - a carrier ( 6 A three - dimensional shape, which can be determined by a first extension (B) determinable along a first axis (A1), a second extension (T) determinable along a second axis (A2) perpendicular to the first axis and through one along a direction perpendicular to the first (A1) and the second axis (A2) extending third axis (A3) determinable third extent (H) is characterized, wherein the third extent (H) is greater than the first (B) and the second extent (T), - at least one electrical contact means ( 7A . 7B ), each connecting element ( 3 . 4 ) with an electrical contact means ( 7A . 7B ) of the carrier ( 6 ) is electrically connected, and the semiconductor components ( 2 ) by means of the carrier ( 6 ) are mechanically interconnected, with at most 50 % of each face ( 2A . 2 B . 2C . 2D . 2E . 2F ) of a single semiconductor device ( 2 ) of the carrier ( 6 ) are covered. Strahlung emittierende Vorrichtung (1) gemäß dem vorhergehenden Anspruch, wobei mindestens zwei Teilflächen (2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F,) jedes Strahlung emittierenden Halbleiterbauelements (2) von dem Träger (6) vollständig unbedeckt sind.Radiation emitting device ( 1 ) according to the preceding claim, wherein at least two partial surfaces ( 2A . 2 B . 2C . 2D . 2E . 2F ,) of each radiation emitting semiconductor device ( 2 ) of the carrier ( 6 ) are completely uncovered. Strahlung emittierende Vorrichtung (1) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente (2) jeweils an allen Teilflächen (2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F) Strahlung emittieren. Radiation emitting device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the radiation-emitting semiconductor components ( 2 ) on all partial surfaces ( 2A . 2 B . 2C . 2D . 2E . 2F ) Emit radiation. Strahlung emittierende Vorrichtung (1) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente (2) berührungslos angeordnet sind, so dass sich jeweils zwischen zwei direkt benachbarten Halbleiterbauelementen (2) ein Zwischenraum (9) befindet.Radiation emitting device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the radiation-emitting semiconductor components ( 2 ) are arranged without contact, so that in each case between two directly adjacent semiconductor components ( 2 ) a gap ( 9 ) is located. Strahlung emittierende Vorrichtung (1) gemäß dem vorhergehenden Anspruch, wobei in dem Zwischenraum (9) jeweils ein strahlungsdurchlässiges gasförmiges, flüssiges oder festes Medium angeordnet ist.Radiation emitting device ( 1 ) according to the preceding claim, wherein in the intermediate space ( 9 ) in each case a radiation-permeable gaseous, liquid or solid medium is arranged. Strahlung emittierende Vorrichtung (1) gemäß dem vorhergehenden Anspruch, wobei es sich bei dem gasförmigen Medium um ein Edelgas handelt.Radiation emitting device ( 1 ) according to the preceding claim, wherein the gaseous medium is a noble gas. Strahlung emittierende Vorrichtung (1) gemäß Anspruch 5, wobei es sich bei dem festen Medium um einen Kunststoff handelt. Radiation emitting device ( 1 ) according to claim 5, wherein the solid medium is a plastic. Strahlung emittierende Vorrichtung (1) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Träger (6) einen Trägerkörper (6A) umfasst, auf welchem die Kontaktmittel (7A, 7B) in Form von Metallisierungen angeordnet sind.Radiation emitting device ( 1 ) according to any one of the preceding claims, wherein the carrier ( 6 ) a carrier body ( 6A ) on which the contact means ( 7A . 7B ) are arranged in the form of metallizations. Strahlung emittierende Vorrichtung (1) gemäß dem vorhergehenden Anspruch, wobei der Trägerkörper (6A) aus einem strahlungsdurchlässigen Material gebildet ist.Radiation emitting device ( 1 ) according to the preceding claim, wherein the carrier body ( 6A ) is formed of a radiation-transparent material. Strahlung emittierende Vorrichtung (1) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei zwischen Anschlusselement (3, 4) und Kontaktmittel (7A, 7B) jeweils ein Verbindungsmittel (10) angeordnet ist, wobei es sich bei dem Verbindungsmittel (10) um mindestens eines der folgenden Mittel handelt: Bonddraht, Haftvermittler, Lötverbindung.Radiation emitting device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein between connecting element ( 3 . 4 ) and contact means ( 7A . 7B ) each a connecting means ( 10 ) is arranged, wherein it is in the connection means ( 10 ) is at least one of the following: bonding wire, adhesion promoter, solder joint. Strahlung emittierende Vorrichtung (1) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Träger (6) mindestens ein Trägerelement umfasst, das die Form eines Zylinders oder Prismas aufweist.Radiation emitting device ( 1 ) according to any one of the preceding claims, wherein the carrier ( 6 ) comprises at least one support element having the shape of a cylinder or prism. Strahlung emittierende Vorrichtung (1) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente (2) ausschließlich entlang der dritten Achse (A3) des Trägers (6) nacheinander aufgereiht sind.Radiation emitting device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the radiation-emitting semiconductor components ( 2 ) exclusively along the third axis (A3) of the carrier ( 6 ) are consecutively lined up. Strahlung emittierende Vorrichtung (1) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente (2) den Träger (6) in einer ersten oder zweiten Achsrichtung (R1, R2) überragen.Radiation emitting device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the radiation-emitting semiconductor components ( 2 ) the carrier ( 6 ) project in a first or second axial direction (R1, R2). Strahlung emittierende Vorrichtung (1) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Träger (6) Öffnungen (8) aufweist, in welchen jeweils ein Strahlung emittierendes Halbleiterbauelement (2) angeordnet ist.Radiation emitting device ( 1 ) according to any one of the preceding claims, wherein the carrier ( 6 ) Openings ( 8th ), in which in each case a radiation-emitting semiconductor component ( 2 ) is arranged. Strahlung emittierende Vorrichtung (1) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente (2) jeweils einen Halbleiterkörper (5) und einen Strahlungskörper (14) aufweisen, der aus einem strahlungsdurchlässigen Material gebildet und an Teilflächen (2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F,) des Halbleiterkörpers (5) angeordnet ist.Radiation emitting device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the radiation-emitting semiconductor components ( 2 ) each have a semiconductor body ( 5 ) and a radiation body ( 14 ) formed of a radiation-transmissive material and on partial surfaces ( 2A . 2 B . 2C . 2D . 2E . 2F ,) of the semiconductor body ( 5 ) is arranged. Strahlung emittierende Vorrichtung (1) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Strahlung emittierenden Halbleiterbauelemente (2) jeweils eine Mehrzahl von Kühlrippen (13) aufweisen.Radiation emitting device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the radiation-emitting semiconductor components ( 2 ) each have a plurality of cooling fins ( 13 ) exhibit.
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US20160131339A1 (en) * 2014-11-06 2016-05-12 Edison Opto Corporation Led light core structure

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