Die Erfindung betrifft einen Mehrfachhalter für eine dipolförmige Strahleranordnung und eine dipolförmige Strahleranordnung mit einem solchen Mehrfachhalter.The invention relates to a multiple holder for a dipole radiator arrangement and a dipole radiator arrangement with such a multiple holder.
Dipolstrahler sind beispielsweise aus den Vorveröffentlichungen DE 197 22 742 A sowie DE 196 27 015 A bekannt geworden. Derartige Dipolstrahler können dabei eine übliche Dipolstruktur aufweisen oder beispielsweise aus einem Kreuzdipol oder einem Dipolquadrat etc. bestehen.Dipole radiators are for example from the Vorveröffentlichungen DE 197 22 742 A such as DE 196 27 015 A known. Such dipole radiators can have a conventional dipole structure or consist, for example, of a crossed dipole or a dipole square, etc.
Ein sogenannter Vektor-Dipol ist z.B. aus der Vorveröffentlichung WO 00/39894 bekannt geworden. Dessen Struktur scheint einem Dipolquadrat vergleichbar zu sein. Aufgrund der spezifischen Ausbildung des Dipolstrahlers gemäß dieser Vorveröffentlichung und der besonderen Einspeisung wirkt dieser Dipolstrahler jedoch ähnlich wie ein Kreuzdipol, der in zwei senkrecht zueinander stehenden Polarisationsebenen strahlt. In konstruktiver Hinsicht ist er insbesondere aufgrund seiner Außenkontur-Gestaltung eher quadratisch gebildet.A so-called vector dipole is eg from the pre-publication WO 00/39894 known. Its structure seems to be comparable to a dipole square. However, due to the specific design of the dipole radiator according to this prior publication and the special feed of this dipole radiator acts much like a Kreuzdipol, which radiates in two mutually perpendicular polarization planes. In terms of design, it is rather square, in particular due to its outer contour design.
Aus der WO 2004/100315 A1 ist eine weitere Ausgestaltung des vorstehend genannten Vektordipols bekannt geworden, bei welcher die Flächen jeweils einer Strahlerhälfte einer Polarisation zu einem großen Teil vollflächig geschlossen sein können.From the WO 2004/100315 A1 a further embodiment of the above-mentioned vector dipole has become known, in which the surfaces of a respective radiator half of a polarization can be closed to a large extent over the entire surface.
Derartige Dipolstrahler werden üblicherweise so gespeist, dass eine Dipol- oder Strahlerhälfte mit einem Außenleiter gleichstrommäßig (also galvanisch) verbunden wird, wohingegen der Innenleiter eines koaxialen Anschlusskabels mit der zweiten Dipol- oder Strahlerhälfte gleichstrommäßig (also wiederum galvanisch) verbunden wird. Die Einspeisung erfolgt dabei jeweils an den aufeinander zu weisenden Endbereichen der Dipol- oder Strahlerhälften. Such dipole radiators are usually fed so that a dipole or radiator half is DC-connected (ie galvanically) to an outer conductor, whereas the inner conductor of a coaxial connecting cable is connected to the second dipole or radiator half in DC fashion (ie in turn galvanically). The feed takes place in each case at the mutually facing end portions of the dipole or radiator halves.
Aus der WO 2005/060049 A1 ist dabei bekannt, eine Außenleiterspeisung mittels einer kapazitiven Außenleiterkopplung durchzuführen. Die jeweils zugehörige Hälfte der Trageinrichtung der Strahleranordnung kann dazu an dem Fußbereich oder an der Basis der Trageinrichtung galvanisch auf Masse gelegt sein oder kapazitiv mit Masse gekoppelt sein.From the WO 2005/060049 A1 It is known to carry out a Außenleiterspeisung by means of a capacitive outer conductor coupling. The respective associated half of the support device of the radiator arrangement can be galvanically grounded or capacitively coupled to ground at the foot region or at the base of the support device.
Aus der CN 203386887 U ist eine dipolförmige Strahleranordnung bekannt, die zwei Paare von Strahlerhälften umfasst, die um 90° verdreht zueinander angeordnet sind, wodurch die dipolförmige Strahleranordnung in zwei senkrecht zueinander stehenden Polarisationsebenen sendet. From the CN 203386887 U For example, a dipole radiator arrangement is known which comprises two pairs of radiator halves, which are arranged rotated by 90 ° to each other, whereby the dipole radiator arrangement transmits in two mutually perpendicular polarization planes.
Weiterhin wird ein passiver Strahlformungsrahmen gezeigt, der in Richtung Reflektor parallel zu den Strahlerhälften beabstandet angeordnet ist. Außerdem wird ein Direktor gezeigt, der parallel zu den Strahlerhälften angeordnet ist, wobei die Strahlerhälften näher in Richtung des Reflektors angeordnet sind als der Direktor. Furthermore, a passive beam shaping frame is shown, which is arranged in the reflector parallel to the radiator halves in the direction of reflector. In addition, a director is shown, which is arranged parallel to the radiator halves, wherein the radiator halves are arranged closer to the reflector than the director.
Allen diesen Anordnungen liegt die Problematik zugrunde die einzelnen Elemente dauerhaft exakt zueinander auszurichten. Mit Bezug auf die CN 203386887 U muss beispielsweise der Abstand zwischen den beiden Paaren von Strahlerhälften der dipolförmigen Strahleranordnung zueinander und zu dem passiven Strahlformungsrahmen bzw. dem Direktor genau eingehalten werden. All these arrangements is based on the problem to align the individual elements permanently exactly to each other. With reference to the CN 203386887 U For example, the distance between the two pairs of radiator halves of the dipole radiator arrangement relative to one another and to the passive beam shaping frame or the director must be maintained exactly.
Es ist daher die Aufgabe der hier vorliegenden Erfindung eine dipolförmige Strahleranordnung zu schaffen, die in Mobilfunkantennen eingesetzt werden kann, bei der auf möglichst einfache Weise die einzelnen Komponenten der dipolförmigen Strahleranordnung dauerhaft bzgl. ihren jeweiligen Ausrichtungen präzise zueinander angeordnet werden können. It is therefore the object of the present invention to provide a dipole radiator arrangement which can be used in mobile radio antennas, in which the individual components of the dipole radiator arrangement can be arranged permanently with respect to their respective orientations precisely in the simplest possible way.
Die Aufgabe wird durch den erfindungsgemäßen Mehrfachhalter gemäß dem Anspruch 1 gelöst. In dem Anspruch 18 wird eine erfindungsgemäße dipolförmige Strahleranordnung beschrieben, die zumindest einen solchen Mehrfachhalter umfasst. In den Unteransprüchen sind erfindungsgemäße Weiterbildungen des Mehrfachhalters und der dipolförmigen Strahleranordnung angegeben. The object is achieved by the multiple holder according to the invention according to claim 1. In claim 18, a dipole-shaped radiator arrangement according to the invention is described which comprises at least one such multiple holder. The subclaims specify developments of the multiple holder and the dipole radiator arrangement according to the invention.
Der erfindungsgemäße Mehrfachhalter umfasst einem Zentralkörper, der zumindest einen ersten Strahlermontageabschnitt aufweist. Der zumindest eine erste Strahlermontageabschnitt des Zentralkörpers ist an einer ersten Strahlerhälfte eines ersten Paars von Strahlerhälften der dipolförmigen Strahleranordnung befestigbar. Der Mehrfachhalter umfasst außerdem einen Direktorhalteabschnitt, der mit dem Zentralkörper verbunden ist und an welchem ein Direktor der dipolförmigen Strahleranordnung befestigbar ist. Außerdem weist der Mehrfachhalter zumindest einen ersten Strahlformungsrahmenhalteabschnitt auf, der mit dem Zentralkörper verbunden ist, wobei an dem ersten Strahlformungsrahmenhalteabschnitt ein passiver Strahlformungsrahmen der dipolförmigen Strahleranordnung befestigbar ist.The multiple holder according to the invention comprises a central body which has at least one first radiator mounting portion. The at least one first radiator mounting section of the central body can be fastened to a first radiator half of a first pair of radiator halves of the dipole radiator arrangement. The multiple holder further includes a director holding portion connected to the central body and to which a director of the dipole radiator assembly is attachable. In addition, the multiple holder has at least a first beam forming frame holding portion connected to the central body, and a passive beam forming frame of the dipole radiator assembly is attachable to the first beam forming frame holding portion.
Besonders vorteilhaft ist, dass der Mehrfachhalter sowohl mit einer ersten Strahlerhälfte eines ersten Paars von Strahlerhälften in Kontakt bringbar ist, als auch mit dem Direktor und einem passiven Strahlformungsrahmen. Dadurch können alle diese Elemente einzig durch den Einsatz des Mehrfachhalters dauerhaft optimal zueinander ausgerichtet werden. Der passive Strahlformungsrahmen und der Direktor werden vorzugsweise einzig durch den Mehrfachhalter gehalten, wobei sich der Mehrfachhalter vorzugsweise einzig an der zumindest einen Strahlerhälfte abstützt. Der Mehrfachhalter ist vorzugsweise werkzeugfrei mit den Komponenten der dipolförmigen Strahleranordnung verbindbar und vorzugsweise werkzeugfrei von den Komponenten der dipolförmigen Strahleranordnung lösbar. It is particularly advantageous that the multiple holder can be brought into contact both with a first radiator half of a first pair of radiator halves, as well as with the director and a passive beam shaping frame. As a result, all of these elements can be permanently optimally aligned with each other solely through the use of the multiple holder. The passive beam shaping frame and the director are preferably held solely by the multiple holder, the multiple holder preferably being unique to the at least one Radiator half supports. The multiple holder is preferably tool-free connectable to the components of the dipole radiator assembly and preferably tool-free detachable from the components of the dipole radiator assembly.
In einer Weiterbildung des erfindungsgemäßen Mehrfachhalters weist dessen Zentralkörper einen zweiten Strahlermontageabschnitt auf, der an einer ersten Strahlerhälfte eines zweiten Paars von Strahlerhälften der dipolförmigen Strahleranordnung befestigbar ist. Dadurch wird der Zentralkörper des Mehrfachhalters von beiden Strahlerhälften, die zu unterschiedlichen Paaren gehören, gehalten. Er ist mit seinem Zentralkörper vorzugsweise in einem Spalt zwischen den beiden Strahlerhälften angeordnet. Der erste Strahlermontageabschnitt ist dabei an einer ersten Seitenwand des Zentralkörpers ausgebildet, wohingegen der zweite Strahlermontageabschnitt an einer zweiten Seitenwand des Zentralkörpers ausgebildet ist. Beide Seitenwände liegen sich am Zentralkörper gegenüber und sind vorzugsweise parallel zueinander ausgerichtet.In a development of the multiple holder according to the invention, its central body has a second radiator mounting section, which can be fastened to a first radiator half of a second pair of radiator halves of the dipole radiator arrangement. As a result, the central body of the multiple holder is held by both radiator halves that belong to different pairs. It is preferably arranged with its central body in a gap between the two radiator halves. The first radiator mounting portion is formed on a first side wall of the central body, whereas the second radiator mounting portion is formed on a second side wall of the central body. Both side walls are opposite to the central body and are preferably aligned parallel to each other.
Jeder dieser Strahlermontageabschnitte ist durch einen Aufnahmeschlitz gebildet. Jeder Aufnahmeschlitz ist zu beiden gegenüberliegenden Stirnseiten des Zentralkörpers und zur jeweiligen Seitenwand hin geöffnet, wodurch eine erste Strahlerhälfte des ersten bzw. zweiten Paars von Strahlerhälften der dipolförmigen Strahleranordnung in den jeweiligen Aufnahmeschlitz einführbar ist. Durch eine Ober- und Unterseite des Zentralkörpers, die den jeweiligen Aufnahmeschlitz begrenzt, ist der Mehrfachhalter an der jeweiligen Strahlerhälfte, die sich über eine Symmetrier- und/oder Trägeranordnung an einer Grundplatte abstützt, gehalten. Each of these radiator mounting portions is formed by a receiving slot. Each receiving slot is open to both opposite end faces of the central body and to the respective side wall, whereby a first radiator half of the first and second pair of radiator halves of the dipole radiator arrangement can be inserted into the respective receiving slot. By a top and bottom of the central body, which limits the respective receiving slot, the multiple holder is held on the respective radiator half, which is supported on a base plate via a balancing and / or support arrangement.
Eine zusätzliche Stabilisierung erfolgt dadurch, dass der Zentralkörper einen ersten und/oder zweiten elastischen Finger umfasst, der je einen Kontaktierungsabschnitt aufweist. Der erste bzw. zweite elastische Finger ist mit seinem Kontaktierungsabschnitt in Eingriff mit der ersten Strahlerhälfte des ersten bzw. zweiten Paars von Strahlerhälften bringbar, wenn die erste Strahlerhälfte durch den ersten bzw. zweiten Strahlermontageabschnitt aufgenommen ist, wodurch eine Vorspannkraft des ersten bzw. zweiten elastischen Fingers auf die erste Strahlerhälfte des ersten bzw. zweiten Paars von Strahlerhälften wirkt. Dabei umfasst der Kontaktierungsabschnitt des ersten bzw. zweiten elastischen Fingers vorzugsweise einen Rastvorsprung, der in Eingriff mit einer Rastöffnung der ersten Strahlerhälfte des ersten bzw. zweiten Paars von Strahlerhälften bringbar ist. Die Vorspannkraft nimmt dann ab oder liegt nicht mehr vor, wenn der Rastvorsprung in die Rastöffnung eingreift. Dadurch kann der Mehrfachhalter zudem fest mit einer, vorzugsweise zwei Strahlhälften verbunden werden. Additional stabilization takes place in that the central body comprises a first and / or second elastic finger, each having a contacting portion. The first and second elastic fingers can be brought with its contacting portion in engagement with the first radiator half of the first and second pair of radiator halves, when the first radiator half is received by the first and second radiator mounting portion, whereby a biasing force of the first and second elastic Fingers on the first radiator half of the first and second pair of radiator halves acts. In this case, the contacting section of the first or second elastic finger preferably comprises a latching projection which can be brought into engagement with a latching opening of the first radiator half of the first or second pair of radiator halves. The biasing force then decreases or is no longer present when the latching projection engages in the latching opening. As a result, the multiple holder can also be firmly connected to one, preferably two beam halves.
In einer Weiterbildung des erfindungsgemäßen Mehrfachhalters weist dieser einen zweiten Strahlformungsrahmenhalteabschnitt auf, der mit dem Zentralkörper verbunden ist, wobei der zweite Strahlformungsrahmenhalteabschnitt an dem passiven Strahlformungsrahmen der dipolförmigen Strahleranordnung befestigbar ist. Dabei sind der erste und der zweite Strahlformungsrahmenhalteabschnitt über einen ersten bzw. zweiten Verlängerungsarm an von beabstandeten Stellen mit dem Zentralkörper verbunden. Dadurch, dass diese beiden Strahlformungsrahmenhalteabschnitte beabstandet voneinander angeordnet sind, dann der passive Strahlformungsrahmen sehr stabil gehalten werden. Auch Schwingungen des gesamten Antennengehäuses, in welchem die dipolförmige Strahleranordnung montiert ist und die beispielsweise durch einen Sturm hervorgerufen werden, führen nicht dazu, dass sich der relative Abstand zwischen den einzelnen Komponenten der dipolförmigen Strahleranordnung zueinander ändert. In one development of the multiple holder according to the invention, the latter has a second beam-forming frame holding section, which is connected to the central body, wherein the second beam-forming frame holding section can be fastened to the passive beam-forming frame of the dipole-shaped radiator arrangement. Here, the first and second beam forming frame holding portions are connected to the central body at spaced locations via first and second extension arms, respectively. By having these two beam forming frame holding portions spaced from each other, the passive beam shaping frame can then be kept very stable. Also, vibrations of the entire antenna housing, in which the dipole radiator assembly is mounted and which are caused for example by a storm, do not cause the relative distance between the individual components of the dipole radiator arrangement to each other changes.
Um den passiven Strahlformungsrahmen optimal aufnehmen zu können, umfasst der erste bzw. zweite Strahlformungsrahmenhalteabschnitt eine erste bzw. zweite Clip- und/oder Schnappverbindung, die in eine entsprechende erste bzw. zweite Öffnung in dem passiven Strahlformungsrahmen der dipolförmigen Strahleranordnung einrastbar ist. Diese erste bzw. zweite Clip- und/oder Schnappverbindung besteht aus zwei Elementen, die zusammen gedrückt werden, um in die erste bzw. zweite Öffnung eingeführt werden zu können. Durch eine Vorspannung bewegen sich beide Elemente wieder voneinander weg, wobei am Ende jeder dieser Elemente vorzugsweise eine Nase bzw. Vorsprung angeordnet ist, der über die erste bzw. zweite Öffnung vorsteht, so dass sich die erste bzw. zweite Clip- und/oder Schnappverbindung ohne weiteres Zutun eines Monteurs nicht mehr von dem passiven Strahlformungsrahmen lösen lässt. Dadurch ist dauerhaft sichergestellt, dass der passive Strahlformungsrahmen am Mehrfachhalter gehalten ist. In order to be able to receive the passive beam shaping frame optimally, the first or second beam shaping frame holding section has a first or second clip and / or snap connection, which can be latched into a corresponding first or second opening in the passive beam shaping frame of the dipole antenna arrangement. This first and second clip and / or snap connection consists of two elements which are pressed together to be inserted into the first and second opening can. By a bias, both elements move away from each other again, wherein at the end of each of these elements preferably a nose or projection is arranged, which projects beyond the first or second opening, so that the first and second clip and / or snap connection can no longer be detached from the passive beam shaping frame without the further assistance of an installer. This ensures permanently that the passive beam shaping frame is held on the multiple holder.
Optional dazu umfasst der erste bzw. zweite Strahlformungsrahmenhalteabschnitt einen ersten bzw. zweiten Arretierungsbolzen, der in eine entsprechende erste bzw. zweite Arretierungsöffnung in dem passiven Strahlformungsrahmen der dipolförmigen Strahleranordnung einführbar ist. Über einen solchen Arretierungsbolzen würden dann Bewegungskräfte in den Mehrfachhalter abgeleitet werden, wodurch die jeweilige erste bzw. zweite Clip- und/oder Schnappverbindung entlastet werden würde. Diese würde dann lediglich zum Halten des passiven Strahlformungsrahmens dienen. Optionally, the first and second beam forming frame holding portions respectively include first and second locking bolts insertable into respective first and second locking apertures in the passive beamforming frame of the dipole radiating assembly. About such a locking bolt then movement forces would be derived in the multiple holder, whereby the respective first and second clip and / or snap connection would be relieved. This would then only serve to hold the passive beamforming frame.
Eine solche Clip- und/oder Schnappverbindung umfasst vorzugsweise auch der Direktorhalteabschnitt. Diese ist ebenfalls in eine entsprechende Öffnung im Direktor der dipolförmigen Strahleranordnung einrastbar. Optional ist ebenfalls ein Arretierungsbolzen am Direktorhalteabschnitt ausgebildet, der in eine entsprechende Arretierungsöffnung in dem Direktor der dipolförmigen Strahleranordnung einführbar ist. Dadurch wird die Clip- und/oder Schnappverbindung einerseits entlastet und andererseits kann der Direktor mittels des Mehrfachhalters präziser zu den Strahlerhälften ausgerichtet werden. Such a clip and / or snap connection preferably also includes the director holding section. This is also in one corresponding opening in the director of the dipole radiator arrangement can be latched. Optionally, a locking pin is also formed on the director holding portion, which is insertable into a corresponding locking opening in the director of the dipole radiator arrangement. As a result, the clip and / or snap connection is relieved on the one hand and on the other hand, the director can be aligned by means of the multiple holder more precisely to the radiator halves.
Eine andere Weiterbildung des erfindungsgemäßen Mehrfachhalters sieht vor, dass dieser zusätzlich eine Stützeinrichtung umfasst, über die dieser an einem Reflektor oder einem anderen Grundkörper abstützbar ist. Dadurch liegen die Lasten des Mehrfachhalters, sowie des durch ihn gehaltenen Direktors und des passiven Strahlformungsrahmen nicht allein an den Strahlerhälften an, wodurch diese entlastet werden. Another development of the multiple holder according to the invention provides that this additionally comprises a support device, via which it can be supported on a reflector or other base body. As a result, the loads of the multiple holder, as well as the director held by him and the passive beam forming frame are not alone on the radiator halves, thereby relieving them.
Die erfindungsgemäße dipolförmige Strahleranordnung umfasst zumindest einem Mehrfachhalter und weist zwei Paaren von Strahlerhälften auf, die um 90° verdreht zueinander so angeordnet sind, so dass die dipolförmige Strahleranordnung in zwei senkrecht zueinander stehenden Polarisationsebenen sendet und/oder empfängt. Die Strahlerhälften sind in einer Strahlerebene im Abstand vor einem Reflektor parallel zu diesem anordenbar oder angeordnet. Die erfindungsgemäße dipolförmige Strahleranordnung umfasst außerdem eine Symmetrier- und/oder Trägeranordnung mit einem ersten Ende und einer Basis, die an einem zweiten Ende angeordnet ist, das dem ersten Ende gegenüber liegt, wobei die Strahlerhälften an dem ersten Ende der Symmetrier- und/oder Trägeranordnung an dieser angeordnet sind und wobei die Basis der Symmetrier- und/oder Trägeranordnung am einem Grundkörper anordenbar ist. Bei dem Grundkörper kann es sich beispielsweise um einen Reflektor oder um Leiterplatte handeln. Ein passiver Strahlformungsrahmen ist in Richtung der Basis von den Strahlerhälften beabstandet angeordnet. Der passive Strahlformungsrahmen besteht aus mehreren Rahmenseiten, die einen umlaufenden Rahmensteg bilden, der eine Öffnung umgrenzt. Der passive Strahlformungsrahmen ist parallel zu der Strahlerebene ausgerichtet. Die erfindungsgemäße dipolförmige Strahleranordnung umfasst einen Direktor, der parallel zu der Strahlerebene ausgerichtet ist. Die Strahlerhälften sind näher in Richtung der Basis angeordnet als der Direktor. Weiterhin umfasst die erfindungsgemäße dipolförmige Strahleranordnung zumindest einen ersten Mehrfachhalter, wobei der zumindest eine erste Strahlermontageabschnitt des Zentralkörpers des zumindest einen ersten Mehrfachhalters an der ersten Strahlerhälfte des ersten Paars von Strahlerhälften der dipolförmigen Strahleranordnung befestigt ist. Der Direktor der dipolförmigen Strahleranordnung ist an dem Direktorhalteabschnitt befestigt. Die erste Rahmenseite des passiven Strahlformungsrahmens der dipolförmigen Strahleranordnung ist an dem ersten Strahlformungsrahmenhalteabschnitt an befestigt. Dadurch wird eine dipolförmige Strahleranordnung geschaffen, die deutlich stabiler aufgebaut ist, als diejenigen, die aus dem Stand der Technik bekannt sind. Weiterhin sind die einzelnen Komponenten, aus denen die erfindungsgemäße dipolförmige Strahleranordnung besteht, präziser zueinander ausgerichtet, wodurch die tatsächlichen Werte in Bezug auf Bandbreite und Reflektionsfaktor der dipolförmige Strahleranordnung sehr nahe an die berechneten Werte herankommen bzw. diese sogar erreichen. The dipole radiator arrangement according to the invention comprises at least one multiple holder and has two pairs of radiator halves, which are arranged rotated by 90 ° to each other, so that the dipole radiator arrangement transmits and / or receives in two mutually perpendicular polarization planes. The radiator halves can be arranged or arranged parallel to this in a radiator plane at a distance in front of a reflector. The dipole radiator assembly of the invention also includes a balancing and / or support assembly having a first end and a base disposed at a second end opposite the first end, the radiator halves at the first end of the balancing and / or support assembly are arranged on this and wherein the base of the balancing and / or support arrangement can be arranged on a base body. The main body can be, for example, a reflector or circuit board. A passive beamforming frame is spaced from the radiator halves toward the base. The passive beamforming frame consists of several frame sides that form a circumferential frame bar that defines an opening. The passive beamforming frame is aligned parallel to the radiator plane. The dipole radiator arrangement according to the invention comprises a director which is aligned parallel to the radiator plane. The radiator halves are located closer to the base than the director. Furthermore, the dipole-shaped radiator arrangement according to the invention comprises at least one first multiple holder, wherein the at least one first radiator mounting portion of the central body of the at least one first multiple holder is attached to the first radiator half of the first pair of radiator halves of the dipole radiator array. The director of the dipole radiator array is attached to the conductor holding section. The first frame side of the passive beamforming frame of the dipole radiator array is attached to the first beamforming frame holding section. Thereby, a dipole radiator arrangement is created, which is constructed much sturdier than those which are known from the prior art. Furthermore, the individual components making up the dipole radiating arrangement according to the invention are more precisely aligned with one another, whereby the actual values relating to bandwidth and reflection factor of the dipole radiator arrangement approach or even reach very close to the calculated values.
In einer Weiterbildung der dipolförmigen Strahleranordnung weist der Direktor in Draufsicht eine Vertiefung in Richtung der Strahlerhälften auf, wobei der Direktor in dieser Vertiefung an dem Direktorhalteabschnitt des Mehrfachhalters befestigt ist, wobei die Vertiefung derart gewählt ist, dass der Direktorhalteabschnitt nicht über den Direktor hinaussteht. Dadurch wird eine äußerst kompakte dipolförmige Strahleranordnung realisiert, wobei auch beim Einbau sichergestellt ist, dass sich der Direktor nicht vom Direktorhalteabschnitt löst. In a further development of the dipole radiator arrangement, the director has in plan view a recess in the direction of the radiator halves, wherein the director is mounted in this recess on the director holding portion of the multi-holder, wherein the recess is selected such that the director holding portion does not project beyond the director. As a result, an extremely compact dipole radiator arrangement is realized, whereby it is ensured even during installation that the director does not detach from the director holding section.
Weiterhin werden bevorzug zwei, drei oder gar vier Mehrfachhalter verwendet, um die Komponenten der dipolförmigen Strahleranordnung möglichst sicher zu fixieren. Jeder Mehrfachhalter ist mit seinem jeweiligen Zentralkörper daher vorzugsweise in je einem Spalt angeordnet, der zwei Strahlhälften unterschiedlicher Paare von Strahlhälften voneinander trennt. Furthermore, it is preferred to use two, three or even four multiple holders in order to fix the components of the dipole radiator arrangement as securely as possible. Each multiple holder is therefore preferably arranged with its respective central body in a respective gap which separates two beam halves of different pairs of beam halves from one another.
Verschiedene Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beispielhaft beschrieben. Gleiche Gegenstände weisen dieselben Bezugszeichen auf. Die entsprechenden Figuren der Zeichnungen zeigen im Einzelnen:Various embodiments of the invention will now be described by way of example with reference to the drawings. Same objects have the same reference numerals. The corresponding figures of the drawings show in detail:
1A und 1B: verschiedene räumliche Darstellungen der dipolförmigen Strahleranordnung mit einem erfindungsgemäßen Mehrfachhalter; 1A and 1B different spatial representations of the dipole radiator arrangement with a multiple holder according to the invention;
2: eine seitliche Darstellung der dipolförmigen Strahleranordnung mit dem erfindungsgemäßen Mehrfachhalter; 2 : a side view of the dipole radiator arrangement with the multiple holder according to the invention;
3A und 3B: verschiedene räumliche Darstellungen des erfindungsgemäßen Mehrfachhalters; und 3A and 3B : different spatial representations of the multiple holder according to the invention; and
4 und 5: eine Ansicht von oben und eine Ansicht von unten auf die dipolförmige Strahleranordnung mit dem erfindungsgemäßen Mehrfachhalter. 4 and 5 a view from above and a view from below of the dipole radiator arrangement with the multiple holder according to the invention.
Die 1A und 1B zeigen verschiedene räumliche Darstellungen der dipolförmigen Strahleranordnung 1 mit dem Mehrfachhalter 14. Die dipolförmige Strahleranordnung 1 umfasst zwei Paare 2, 3 von Strahlerhälften 2a, 2b, 3a, 3b. Diese zwei Paare 2, 3 von Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b sind insbesondere in 1B und 5 gut zu erkennen. Diese zwei Paare 2, 3 von Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b sind um 90° verdreht zueinander so angeordnet, dass die dipolförmige Strahleranordnung 1 in zwei senkrecht zueinander stehenden Polarisationsebenen 4a, 4b sendet und/oder empfängt. Die Strahlerhälften 2a, 2b, bzw. 3a, 3b sind dabei in einer Strahlerebene 5 ausgerichtet. Diese Strahlerebene 5 ist beispielsweise in 2 dargestellt. Diese Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b sind im Abstand vor einem Reflektor 6 parallel zu diesem anordenbar oder angeordnet. Der Reflektor 6 ist in 2 gestrichelt dargestellt. Die dipolförmige Strahleranordnung 1 wird durch eine Längsachse 8 durchsetzt. Die Längsachse 8 ist senkrecht zur Strahlerebene 5 angeordnet. The 1A and 1B show different spatial representations of the dipole radiator arrangement 1 with the multiple holder 14 , The dipole radiator arrangement 1 includes two pairs 2 . 3 of radiator halves 2a . 2 B . 3a . 3b , These two couples 2 . 3 of radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b are in particular in 1B and 5 clearly visible. These two couples 2 . 3 of radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b are rotated by 90 ° to each other so arranged that the dipole radiator arrangement 1 in two mutually perpendicular polarization planes 4a . 4b sends and / or receives. The radiator halves 2a . 2 B , respectively. 3a . 3b are doing in a radiator plane 5 aligned. This radiator level 5 is for example in 2 shown. These radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b are in the distance in front of a reflector 6 can be arranged or arranged parallel to this. The reflector 6 is in 2 shown in dashed lines. The dipole radiator arrangement 1 is through a longitudinal axis 8th interspersed. The longitudinal axis 8th is perpendicular to the radiator plane 5 arranged.
Die dipolförmige Strahleranordnung 1 umfasst außerdem eine Symmetrier- und/oder Trägeranordnung 7, die ein erstes Ende 7a und ein zweites Ende 7b aufweist. Das zweite Ende 7b liegt dem ersten Ende 7a gegenüber. Die Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b sind am ersten Ende 7a der Symmetrier- und/oder Trägeranordnung 7 angeordnet. Das zweite Ende 7b der Symmetrier- und/oder Trägeranordnung 7 ist zumindest mittelbar an dem Reflektor 6 befestigbar oder befestigt. Eine mittelbare Befestigung kann beispielsweise dann vorliegen, wenn das zweite Ende 7b der Symmetrier- und/oder Trägeranordnung 7 an einer Leiterplatte befestigt ist, wobei eine Metalllage dieser Leiterplatte gleichzeitig den Reflektor 6 bildet. Ein separater Reflektor 6 unterhalb der Leiterplatte könnte ebenfalls vorliegen. Eine unmittelbare Befestigung an dem Reflektor 6 würde dann vorliegen, wenn die Symmetrier- und/oder Trägeranordnung 7 direkt mit ihrem zweiten Ende 7b an dem Reflektor 6 befestigt ist. Der Reflektor 6 bzw. die Leiterplatte kann auch als Grundkörper bezeichnet werden. Das zweite Ende 7b der Symmetrier- und/oder Trägeranordnung 7 kann auch als Basis 10 bezeichnet werden. The dipole radiator arrangement 1 also includes a balancing and / or carrier arrangement 7 that's a first end 7a and a second end 7b having. The second end 7b lies at the first end 7a across from. The radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b are at the first end 7a the balancing and / or carrier arrangement 7 arranged. The second end 7b the balancing and / or carrier arrangement 7 is at least indirectly to the reflector 6 attachable or attached. An indirect attachment may for example be present when the second end 7b the balancing and / or carrier arrangement 7 is attached to a circuit board, wherein a metal layer of this circuit board at the same time the reflector 6 forms. A separate reflector 6 below the circuit board could also be present. An immediate attachment to the reflector 6 would be present if the balancing and / or carrier arrangement 7 directly with her second end 7b on the reflector 6 is attached. The reflector 6 or the circuit board can also be referred to as the main body. The second end 7b the balancing and / or carrier arrangement 7 can also be used as a base 10 be designated.
Die Symmetrier- und/oder Trägeranordnung 7 besteht und/ oder umfasst einen Träger 7c. Insbesondere umfasst die Symmetrier- und/oder Trägeranordnung jeweils einen Träger 7c für jede Strahlerhälfte 2a, 2b bzw. 3a, 3b. Vorzugsweise gibt es daher vier Träger 7c. Jeder dieser Träger 7c erstreckt sich im Wesentlichen bzw. ausschließlich parallel entlang einer Längsachse 8, die die dipolförmige Strahleranordnung 1 durchsetzt. Die Träger 7c sind an dem ersten Ende 7a, also an dem ersten Ende 7a der Symmetrier- und/oder Trägeranordnung 7 galvanisch mit den Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b verbunden. Zwischen zwei Trägern 7c ist jeweils ein Spalt 9 ausgebildet, der sich vorzugsweise vom ersten Ende 7a bis zum zweiten Ende 7b erstreckt und zur Symmetrierung dient. Die Träger 7 sind an dem zweiten Ende 7b der Symmetrier- und/oder Trägeranordnung, also an ihrer Basis 10 vorzugsweise galvanisch miteinander verbunden. The balancing and / or carrier arrangement 7 consists and / or comprises a carrier 7c , In particular, the balancing and / or carrier arrangement each comprises a carrier 7c for each radiator half 2a . 2 B respectively. 3a . 3b , Preferably, therefore, there are four carriers 7c , Each of these carriers 7c extends substantially or exclusively in parallel along a longitudinal axis 8th containing the dipole radiator array 1 interspersed. The carriers 7c are at the first end 7a that is, at the first end 7a the balancing and / or carrier arrangement 7 galvanic with the radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b connected. Between two carriers 7c is each a gap 9 formed, preferably from the first end 7a to the second end 7b extends and serves for balancing. The carriers 7 are at the second end 7b the symmetry and / or support arrangement, ie at its base 10 preferably galvanically connected to each other.
Eine Speisung der dipolförmigen Strahleranordnung 1 erfolgt vorzugsweise derart, dass zwei Kabel mit je einem Innen- und einem Außenleiter mit je einem Paar 2, 3 der Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b verbunden werden. Der Außenleiter des ersten Kabels wird mit einer ersten Strahlerhälfte 2a des ersten Paars 2 verbunden. Der Innenleiter des ersten Kabels wird dagegen mit der zweiten Strahlerhälfte 2b des ersten Paars 2 verbunden. Der Außenleiter des zweiten Kabels wird dagegen mit der ersten Strahlerhälfte 3a des zweiten Paars 3 verbunden. Der Innenleiter des zweiten Kabels wird entsprechend mit der zweiten Strahlerhälfte 3b des zweiten Paars 3 verbunden. Die Innenleiter überkreuzen sich daher. Die Verbindung erfolgt vorzugsweise am ersten Ende 7a der Symmetrier- und/oder Trägeranordnung 7. Es wäre prinzipiell auch möglich, dass sich die Außenleiter überkreuzen. A feed of the dipole radiator arrangement 1 is preferably such that two cables, each with an inner and an outer conductor, each with a pair 2 . 3 the radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b get connected. The outer conductor of the first cable is with a first radiator half 2a of the first couple 2 connected. The inner conductor of the first cable, in contrast, with the second radiator half 2 B of the first couple 2 connected. The outer conductor of the second cable, in contrast, with the first radiator half 3a of the second pair 3 connected. The inner conductor of the second cable is corresponding to the second radiator half 3b of the second pair 3 connected. The inner conductors therefore cross each other. The connection is preferably at the first end 7a the balancing and / or carrier arrangement 7 , It would also be possible in principle for the outer conductors to cross each other.
Bezüglich der Einspeisung und der Symmetrierung wird auf die in der Beschreibungseinleitung genannten Druckschriften verwiesen. With regard to the feed and the symmetrization, reference is made to the publications mentioned in the introduction to the description.
Mit Blick auf die 1A und 1B ist zu erkennen, dass die Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b einen im Wesentlichen quadratischen Strahlerrahmen 11 aufweisen. Die Strahlerrahmen 11 der Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b weisen eine Ausnehmung 12 auf, die eine Öffnung umgrenzt. Jeder Strahlerrahmen 11 besteht aus vier Seiten, wobei jeweils zwei Seiten eines Strahlerrahmens 11 parallel zu zwei anderen Seiten eines anderen Strahlerrahmens 11 angeordnet sind. Zwischen zwei Strahlerrahmen 11 befindet sich ein Spalt 13. Dieser Spalt 13 geht in den Spalt 9 der Symmetrier- und/oder Trägeranordnung 7 über. Genauer gesagt wird der Spalt 13 zwischen zwei Innenseiten 11b der Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b gebildet, die parallel zueinander verlaufen. Die Speisung der Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b erfolgt an dem Punkt, an welchem zwei Innenseiten 11b einer Strahlerhälfte 2a, 2b bzw. 3a, 3b aufeinander treffen. Jede Innenseite 11b ist mit je einer Außenseite 11a verbunden. With view on 1A and 1B It can be seen that the radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b a substantially square radiator frame 11 exhibit. The radiator frame 11 the radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b have a recess 12 on which defines an opening. Every spotlight frame 11 consists of four sides, each with two sides of a spotlight frame 11 parallel to two other sides of another spotlight frame 11 are arranged. Between two radiator frames 11 there is a gap 13 , This gap 13 goes into the gap 9 the balancing and / or carrier arrangement 7 above. More precisely, the gap becomes 13 between two insides 11b the radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b formed, which run parallel to each other. The feeding of the radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b takes place at the point where two insides 11b a radiator half 2a . 2 B respectively. 3a . 3b meet each other. Every inside 11b is with one outside each 11a connected.
In dem Spalt 13 ist, wie mit Hinblick auf die 3A und 3B erläutert wird, ein Zentralkörper 19 des Mehrfachhalters 14 angeordnet. Der Mehrfachhalter 14 weist hierzu zumindest einen ersten und vorzugsweise einen zweiten Strahlermontageabschnitt 20a, 20b auf, die an dem Zentralkörper 19 angeordnet sind. Der zumindest eine erste Strahlermontageabschnitt 20a des Zentralkörpers 19 ist an einer ersten Strahlerhälfte 2a eines ersten Paars 2 von Strahlerhälften 2a, 2b der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt. Der zweite Strahlermontageabschnitt 20b des Zentralkörpers 19 ist an einer ersten Strahlerhälfte 3a eines zweiten Paars 3 von Strahlerhälften 3a, 3b der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt.In the gap 13 is how with regard to the 3A and 3B is explained, a central body 19 of the multiple holder 14 arranged. The multiple holder 14 has for this purpose at least a first and preferably a second radiator mounting portion 20a . 20b on, attached to the central body 19 are arranged. The at least one first radiator mounting section 20a of the central body 19 is on a first radiator half 2a a first pair 2 of radiator halves 2a . 2 B the dipole-shaped radiator arrangement 1 attached. The second radiator mounting section 20b of the central body 19 is on a first radiator half 3a a second pair 3 of radiator halves 3a . 3b the dipole-shaped radiator arrangement 1 attached.
Insgesamt gibt es vorzugsweise vier Mehrfachhalter 14, wobei in jedem Spalt 13, der zwei Innenseiten 11b einer Strahlerhälfte 2a, 2b bzw. 3a, 3b von verschiedenen Paaren 2, 3 von Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b voneinander trennt, ein Zentralkörper 19 eines Mehrfachhalters 14 angeordnet ist. Für den Fall, dass lediglich zwei Mehrfachhalter 14 vorgesehen sind, sind diese an den Spalten 13 montiert, die in Verlängerung zueinander liegen. Die zwei Mehrfachhalter 14 liegen sich daher gegenüber. Overall, there are preferably four multiple holders 14 , where in each gap 13 , the two inside pages 11b a radiator half 2a . 2 B respectively. 3a . 3b from different couples 2 . 3 of radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b separates from each other, a central body 19 a multiple holder 14 is arranged. In the event that only two multiple holders 14 are provided, these are at the columns 13 mounted, which are in extension to each other. The two multiple holders 14 are therefore opposite.
Der zumindest eine erste Strahlermontageabschnitt 20a ist durch einen ersten Aufnahmeschlitz 20a gebildet. Der erste Aufnahmeschlitz 20a ist zu beiden gegenüberliegenden Stirnseiten 19a, 19b des Zentralkörpers 19 und zur ersten Seitenwand 19c hin geöffnet, wodurch eine erste Strahlerhälfte 2a des ersten Paars 2 von Strahlerhälften 2a, 2b der dipolförmigen Strahleranordnung 1 mit ihrer Innenseite 11b in den ersten Aufnahmeschlitz 20a eingeführt ist. The at least one first radiator mounting section 20a is through a first receiving slot 20a educated. The first recording slot 20a is on both opposite ends 19a . 19b of the central body 19 and to the first sidewall 19c open, creating a first radiator half 2a of the first couple 2 of radiator halves 2a . 2 B the dipole-shaped radiator arrangement 1 with her inside 11b in the first recording slot 20a is introduced.
Gleiches gilt auch für den zweiten Strahlermontageabschnitt 20b. Dieser ist durch einen zweiten Aufnahmeschlitz 20b gebildet. Der zweite Aufnahmeschlitz 20b ist zu beiden gegenüberliegenden Stirnseiten 19a, 19b des Zentralkörpers 19 und zur zweiten Seitenwand 19d hin geöffnet, wodurch eine erste Strahlerhälfte 3a des zweiten Paars 3 von Strahlerhälften 3a, 3b der dipolförmigen Strahleranordnung 1 mit ihrer Innenseite 11b in den zweiten Aufnahmeschlitz 20b eingeführt ist. The same applies to the second radiator mounting section 20b , This is through a second receiving slot 20b educated. The second receiving slot 20b is on both opposite ends 19a . 19b of the central body 19 and to the second sidewall 19d open, creating a first radiator half 3a of the second pair 3 of radiator halves 3a . 3b the dipole-shaped radiator arrangement 1 with her inside 11b in the second receiving slot 20b is introduced.
Durch eine Ober- und Unterseite 19e, 19f des Zentralkörpers 19 sind die jeweiligen Aufnahmeschlitze 20a, 20b begrenzt. Dadurch ist der Mehrfachhalter 14 an der jeweiligen Strahlerhälfte 2a, 3a, die sich über die Symmetrier- und/oder Trägeranordnung 7 an einer Grundplatte abstützen, gehalten. Through a top and bottom 19e . 19f of the central body 19 are the respective receiving slots 20a . 20b limited. This is the multiple holder 14 at the respective radiator half 2a . 3a , which are about the balancing and / or support arrangement 7 supported on a base plate held.
Jeder dieser Aufnahmeschlitze 20a, 20b kann zusätzlich teilweise von der Oberseite 19e und/oder von der Unterseite 19f des Zentralkörpers 19 aus zugänglich sein. Dieser Sachverhalt ist in 3A gezeigt. Each of these receiving slots 20a . 20b In addition, partially from the top 19e and / or from the bottom 19f of the central body 19 be accessible from. This situation is in 3A shown.
Die Stirnseiten 19a, 19b und die erste und zweite Seitenwand 19c, 19d des Zentralkörpers 19 stehen vorzugsweise senkrecht zur Strahlebene 5. Die erste Seitenwand 19c und die zweite Seitenwand 19d des Zentralkörpers 19 liegen sich am Zentralkörper 19 gegenüber und sind vorzugsweise parallel zueinander ausgerichtet. Auch die beiden Stirnseiten 19a, 19b des Zentralkörpers liegen sich gegenüber und sind vorzugsweise parallel zueinander ausgerichtet. The front ends 19a . 19b and the first and second sidewalls 19c . 19d of the central body 19 are preferably perpendicular to the beam plane 5 , The first side wall 19c and the second side wall 19d of the central body 19 lie on the central body 19 opposite and are preferably aligned parallel to each other. Also the two front sides 19a . 19b the central body face each other and are preferably aligned parallel to each other.
An dem Zentralkörper 19 ist ein erster elastischer Finger 22a ausgebildet, der einen Kontaktierungsabschnitt 23 aufweist. Der erste elastische Finger 22a ist mit seinem Kontaktierungsabschnitt 23 in Eingriff mit der ersten Strahlerhälfte 2a des ersten Paars 2 von Strahlerhälften 2a, 2b bringbar, wenn die erste Strahlerhälfte 2a durch den ersten Strahlermontageabschnitt 20a aufgenommen ist, wodurch eine Vorspannkraft des ersten elastischen Fingers 22a auf die erste Strahlerhälfte 2a des ersten Paars 2 von Strahlerhälften 2a, 2b wirkt. At the central body 19 is a first elastic finger 22a formed, the one contacting section 23 having. The first elastic finger 22a is with his contacting section 23 in engagement with the first radiator half 2a of the first couple 2 of radiator halves 2a . 2 B Can be brought if the first radiator half 2a through the first radiator mounting section 20a is received, whereby a biasing force of the first elastic finger 22a on the first radiator half 2a of the first couple 2 of radiator halves 2a . 2 B acts.
Das Gleiche gilt auch für den zweiten Strahlermontageabschnitt 20b. An dem Zentralkörper 19 ist ein zweiter elastischer Finger 22b ausgebildet, der einen Kontaktierungsabschnitt 23 aufweist. Der zweite elastische Finger 22b ist mit seinem Kontaktierungsabschnitt 23 in Eingriff mit der ersten Strahlerhälfte 3a des zweiten Paars 3 von Strahlerhälften 3a, 3b bringbar, wenn die erste Strahlerhälfte 3a durch den zweiten Strahlermontageabschnitt 20b aufgenommen ist, wodurch eine Vorspannkraft des zweiten elastischen Fingers 22b auf die erste Strahlerhälfte 3a des ersten Paars 3 von Strahlerhälften 3a, 3b wirkt. The same applies to the second radiator mounting section 20b , At the central body 19 is a second elastic finger 22b formed, the one contacting section 23 having. The second elastic finger 22b is with his contacting section 23 in engagement with the first radiator half 3a of the second pair 3 of radiator halves 3a . 3b Can be brought if the first radiator half 3a through the second radiator mounting section 20b is received, whereby a biasing force of the second elastic finger 22b on the first radiator half 3a of the first couple 3 of radiator halves 3a . 3b acts.
Die beiden elastischen Finger 22a, 22b sind vorzugsweise parallel zueinander ausgerichtet und zeigen vorzugsweise in die gleiche Richtung. Sie sind vorzugsweise an einer Oberseite 19e des Zentralkörpers 19 ausgebildet. Sie sind mit ihrem ersten Ende dabei vorzugsweise näher an der zweiten Stirnseite 19b angeordnet als an der ersten Stirnseite 19a des Zentralkörpers 19. Über dieses erste Ende sind die elastischen Finger 22a, 22b mit dem Zentralkörper 19 verbunden. An dem zweiten Ende ist der Kontaktierungsabschnitt 23 ausgebildet. Die elastischen Finger 22a, 22b könnten auch an der Unterseite 19f des Zentralkörpers 19 angebracht sein. Es wäre ebenfalls möglich, dass sie von der jeweiligen Seitenfläche 19c, 19d des Zentralkörpers 19 weg zeigen, also senkrecht oder mit einer Komponente senkrecht zur jeweiligen Seitenfläche 19c, 19d ausgerichtet sind. The two elastic fingers 22a . 22b are preferably aligned parallel to one another and preferably point in the same direction. They are preferably on an upper side 19e of the central body 19 educated. With their first end, they are preferably closer to the second end face 19b arranged as at the first end face 19a of the central body 19 , Over this first end are the elastic fingers 22a . 22b with the central body 19 connected. At the second end is the contacting section 23 educated. The elastic fingers 22a . 22b could also be at the bottom 19f of the central body 19 to be appropriate. It would also be possible for them from the respective side surface 19c . 19d of the central body 19 pointing away, ie perpendicular or with a component perpendicular to the respective side surface 19c . 19d are aligned.
Das zweite Ende jedes elastischen Fingers 22a, 22b, an dem die jeweiligen Kontaktierungsabschnitte 23 ausgebildet sind, kann in Richtung der Oberseite 19e und/oder der Unterseite 19f des Zentralkörpers 19 ausgelenkt werden, wodurch eine Vorspannung aufgebaut wird. Eine solche Auslenkung erfolgt vorzugsweise beim Einschieben der jeweiligen Strahlerhälfte 2a, 2b bzw. 3a, 3b. In diesem Fall gerät der jeweilige Kontaktierungsabschnitt 23 in Kontakt mit der entsprechenden Strahlerhälfte 2a, 2b bzw. 3a, 3b, insbesondere mit deren Innenseite 11b, und wird in Richtung der Oberseite 19e oder der Unterseite 19f des Zentralkörpers 19 ausgelenkt. The second end of each elastic finger 22a . 22b , at which the respective contacting sections 23 are formed, can be in the direction of the top 19e and / or the bottom 19f of the central body 19 be deflected, whereby a bias voltage is built up. Such a deflection is preferably carried out when inserting the respective radiator half 2a . 2 B respectively. 3a . 3b , In this case, the respective Kontaktierungsabschnitt 23 in contact with the corresponding radiator half 2a . 2 B respectively. 3a . 3b , in particular with its inside 11b . and gets towards the top 19e or the bottom 19f of the central body 19 deflected.
Der Kontaktierungsabschnitt 23 des ersten elastischen Fingers 22a umfasst vorzugsweise einen Rastvorsprung 23a, der in Eingriff mit einer Rastöffnung der ersten Strahlerhälfte 2a des ersten Paars 2 von Strahlerhälften 2a, 2b gebracht ist. Gleiches gilt auch für den zweiten elastischen Finger 22b. Dieser umfasst vorzugsweise ebenfalls einen Rastvorsprung 23a, der in Eingriff mit einer Rastöffnung der ersten Strahlerhälfte 3a des zweiten Paars 3 von Strahlerhälften 3a, 3b gebracht ist.The contacting section 23 of the first elastic finger 22a preferably comprises a latching projection 23a , which engages with a latching opening of the first radiator half 2a of the first couple 2 of radiator halves 2a . 2 B brought is. The same applies to the second elastic finger 22b , This preferably also includes a locking projection 23a , which engages with a latching opening of the first radiator half 3a of the second pair 3 of radiator halves 3a . 3b brought is.
Die Rastvorsprünge 23a der Kontaktierungsabschnitte 23 sind vorzugsweise gleich weit von der Strahlerebene 5 beabstandet wie die Aufnahmeschlitze 20a, 20b. Dadurch werden die elastischen Finger 22a, 22b zwangsweise ausgelenkt, wenn die jeweiligen Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b in die Aufnahmeschlitze 20a, 20b eingeführt werden.The locking projections 23a the contacting sections 23 are preferably equidistant from the radiator plane 5 spaced like the receiving slots 20a . 20b , This will make the elastic fingers 22a . 22b forcibly deflected when the respective halves radiator 2a . 2 B respectively. 3a . 3b in the receiving slots 20a . 20b be introduced.
In dem Moment, wo die jeweiligen Rastvorsprünge 23a der der Kontaktierungsabschnitte 23 in die Rastöffnung einrasten, nimmt die Vorspannung ab. Vorzugsweise stehen in diesem Moment die elastischen Finger 22a, 22b überhaupt nicht mehr unter einer Vorspannung, sind also vorspannungsfrei. Die Vorspannung wird daher beim Montieren der Teile nur kurzzeitig aufgebracht. Die Vorspannung bzw. Vorspannkraft kann auch als Auslenkkraft bezeichnet werden. Die elastischen Finger 22a, 22b sind daher über eine Schnapp- und/oder Rastverbindung mit der jeweiligen Strahlerhälfte 2a, 3a, bzw. 2b, 3b verbindbar oder verbunden. At the moment where the respective locking projections 23a the contacting sections 23 engage in the detent opening, the bias decreases. Preferably, the elastic fingers are in this moment 22a . 22b no longer under a bias, so are free from bias. The bias is therefore applied only briefly when mounting the parts. The bias or biasing force may also be referred to as a deflection force. The elastic fingers 22a . 22b are therefore via a snap and / or latching connection with the respective radiator half 2a . 3a , respectively. 2 B . 3b connectable or connected.
In 3A sind die Aufnahmeschlitze 20a, 20b durch eine Ausnehmung 24, die sich von der Oberseite 19e bis hin zur Unterseite 19f des Zentralkörpers 19 erstreckt und diesen vollständig durchsetzt, in zwei Teile getrennt. In dieser Ausnehmung 24 ist dann der jeweilige elastische Finger 22a, 22b mit seinem jeweiligen Kontaktierungsabschnitt 23 angeordnet. In 3A are the receiving slots 20a . 20b through a recess 24 that are different from the top 19e to the bottom 19f of the central body 19 extends and this fully penetrated, separated into two parts. In this recess 24 is then the respective elastic finger 22a . 22b with its respective contacting section 23 arranged.
Der Mehrfachhalter 14 ist mit den beiden elastischen Fingern 22a, 22b vorzugsweise einteilig ausgebildet. The multiple holder 14 is with the two elastic fingers 22a . 22b preferably formed in one piece.
Im Hinblick auf die 1A und 1B ist ein passiver Strahlformungsrahmen 15 gezeigt, der in Richtung Reflektor 6, also in Richtung der Basis 10 zu den Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b versetzt angeordnet ist. Der passive Strahlformungsrahmen 15 besteht aus mehreren Rahmenseiten 15a, 15b, 15c, 15d, die einen umlaufenden Rahmensteg 16 bilden. Der umlaufende Rahmensteg 16 umgrenzt eine Öffnung 17. Der passive Strahlformungsrahmen 15 ist parallel zu der Strahlerebene 5 ausgerichtet. Der passive Strahlformungsrahmen 15 ist in Draufsicht rechteckig, insbesondere quadratisch. Dies bedeutet, dass der passive Strahlformungsrahmen 15 vorzugsweise vier gleich lange Rahmenseiten 15a, 15b, 15c, 15d besitzt. Eine äußere Umfangswandung 18a des Rahmenstegs 16 kann im Bereich seiner Ecken abgeschrägt sein. Diese Abschrägung weist vorzugsweise einen Winkel von 45° auf. Dieser Winkel kann allerdings von den angestrebten 45° um weniger als ±20°, weiter vorzugsweise um ±10° abweichen. In terms of 1A and 1B is a passive beamforming frame 15 shown pointing towards the reflector 6 So in the direction of the base 10 to the radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b is arranged offset. The passive beamforming frame 15 consists of several frame pages 15a . 15b . 15c . 15d which has a circumferential frame bridge 16 form. The surrounding frame web 16 defines an opening 17 , The passive beamforming frame 15 is parallel to the radiator plane 5 aligned. The passive beamforming frame 15 is rectangular in plan view, in particular square. This means that the passive beam shaping frame 15 preferably four equally long frame pages 15a . 15b . 15c . 15d has. An outer circumferential wall 18a of the frame bridge 16 can be bevelled in the area of its corners. This bevel preferably has an angle of 45 °. However, this angle may deviate from the desired 45 ° by less than ± 20 °, more preferably by ± 10 °.
Der passive Strahlformungsrahmen 15 ist vorzugsweise einteilig ausgebildet. Eine mehrteilige Ausbildung wäre ebenfalls denkbar. Der umlaufende Rahmensteg 16 kann unterbrechungsfrei ausgestaltet sein. Vorzugsweise umfasst der umlaufende Rahmensteg 16 allerdings auch Unterbrechungen, insbesondere in Form von Öffnungen 21a, 21b, die sich über einen Teil seiner Breite an einer oder mehreren Rahmenseiten 15a, 15b, 15c, 15d erstrecken bzw. dort ausgebildet sind. Diese Unterbrechungen können teilweise in die jeweilige Rahmenseite 15a, 15b, 15c, 15d hineinragen oder diese vollständig durchsetzen. The passive beamforming frame 15 is preferably formed in one piece. A multi-part training would also be conceivable. The surrounding frame web 16 can be configured without interruption. Preferably, the circumferential frame web comprises 16 but also interruptions, especially in the form of openings 21a . 21b extending over part of its width on one or more sides of the frame 15a . 15b . 15c . 15d extend or are formed there. These interruptions can be partially in the respective frame side 15a . 15b . 15c . 15d protrude or enforce this completely.
Dieser passive Strahlformungsrahmen 15 wird von dem Mehrfachhalter 14 gehalten. Hierzu weist der Mehrfachhalter 14 einen ersten Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25a auf, der mit dem Zentralkörper 19 verbunden ist, wobei an dem ersten Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25a der passive Strahlformungsrahmen 15 der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt ist.This passive beamforming frame 15 is from the multiple holder 14 held. For this purpose, the multiple holder 14 a first beam forming frame holding section 25a on that with the central body 19 connected to the first beam forming frame holding section 25a the passive beamforming frame 15 the dipole-shaped radiator arrangement 1 is attached.
Vorzugweise weist der Mehrfachhalter 14 noch einen zweiten Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25b auf, der mit dem Zentralkörper 19 verbunden ist, wobei der zweite Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25b ebenfalls an dem passiven Strahlformungsrahmen 15 der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigbar ist. Preferably, the multiple holder 14 still a second beam forming frame holding section 25b on that with the central body 19 wherein the second beam forming frame holding section 25b also on the passive beam shaping frame 15 the dipole-shaped radiator arrangement 1 is fastened.
Der erste und der zweite Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25a, 25b sind über einen ersten bzw. zweiten Verlängerungsarm 26a, 26b an voneinander beabstandeten Stellen mit dem Zentralkörper 19 verbunden. Der erste Verlängerungsarm 26a ist beispielsweise an der ersten Stirnseite 19a und/oder der ersten Seitenwand 19c mit dem Zentralkörper 19 verbunden, wohingegen der zweite Verlängerungsarm 26b beispielsweise an der ersten Stirnseite 19a und/oder der zweiten Seitenwand 19d mit dem Zentralkörper 19 verbunden ist. Natürlich könnten diese auch mit der zweiten Stirnseite 19b und/oder der Oberseite 19e bzw. der Unterseite 19f des Zentralkörpers 19 verbunden sein. The first and second beam forming frame holding sections 25a . 25b are via a first and second extension arm 26a . 26b at spaced locations with the central body 19 connected. The first extension arm 26a is for example at the first end face 19a and / or the first side wall 19c with the central body 19 whereas the second extension arm 26b for example, on the first front side 19a and / or the second sidewall 19d with the central body 19 connected is. Of course, these could also be with the second end face 19b and / or the top 19e or the bottom 19f of the central body 19 be connected.
Der erste und der zweite Verlängerungsarm 26a, 26b erstrecken sich in entgegengesetzte Richtung oder zumindest mit entgegengesetzten Richtungskomponenten. In Draufsicht auf den Mehrfachhalter 14 sind die beiden Verlängerungsarme 26a, 26b beispielsweise C-förmig an dem Zentralkörper 19 angeordnet. The first and the second extension arm 26a . 26b extend in opposite directions or at least with opposite directional components. In top view on the Multiple Dispensers 14 are the two extension arms 26a . 26b for example C-shaped on the central body 19 arranged.
Der erste und der zweite Verlängerungsarm 26a, 26b können Ausnehmungen aufweisen, um Material zu sparen. The first and the second extension arm 26a . 26b can have recesses to save material.
An dem ersten und/oder zweiten Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25a, 25b und/oder an dem ersten und/oder zweiten Verlängerungsarm 26a, 26b sind jeweils ein erstes und ein zweites Auflager 27a, 27b gebildet. Am Übergang zwischen dem jeweiligen Verlängerungsarm 26a, 26b hin zum dem ersten und/oder zweiten Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25a, 25b wirkt der erste und/oder zweite Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25a, 25b als Anschlag für die jeweilige Strahlerhälfte 2a, 2b bzw. 3a, 3b, wodurch ein weiteres Einschieben des Mehrfachhalters 14 in den Spalt 13 verhindert wird. At the first and / or second beam forming frame holding section 25a . 25b and / or on the first and / or second extension arm 26a . 26b are each a first and a second support 27a . 27b educated. At the transition between the respective extension arm 26a . 26b towards the first and / or second beam forming frame holding section 25a . 25b the first and / or second beam forming frame holding section acts 25a . 25b as a stop for the respective radiator half 2a . 2 B respectively. 3a . 3b , thereby further inserting the multiple holder 14 in the gap 13 is prevented.
Die erste Strahlerhälfte 2a des ersten Paars 2 von Strahlerhälften 2a, 2b ist sandwichartig zwischen dem ersten Auflager 27a und einem ersten Klemmfinger 28a, der an dem ersten Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25a ausgebildet ist, unter Vorspannung angeordnet. Gleiches gilt auch für die erste Strahlerhälfte 3a des zweiten Paars 3 von Strahlerhälften 3a, 3b. Dieses ist sandwichartig zwischen dem zweiten Auflager 27b und einem zweiten Klemmfinger 28b, der an dem zweiten Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25b ausgebildet ist, unter Vorspannung angeordnet. Dadurch können sich die jeweiligen Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b nicht nach oben oder nach unten, also in Richtung der Basis 10 wegbewegen. The first radiator half 2a of the first couple 2 of radiator halves 2a . 2 B is sandwiched between the first support 27a and a first clamping finger 28a at the first beam forming frame holding section 25a is formed, arranged under bias. The same applies to the first radiator half 3a of the second pair 3 of radiator halves 3a . 3b , This is sandwiched between the second support 27b and a second clamping finger 28b at the second beam forming frame holding section 25b is formed, arranged under bias. As a result, the respective radiator halves can 2a . 2 B respectively. 3a . 3b not up or down, so towards the base 10 move away.
Der erste Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25a umfasst eine erste Clip- und/oder Schnappverbindung 29a, die in eine entsprechende erste Öffnung 21a in dem passiven Strahlformungsrahmen 15 der dipolförmigen Strahleranordnung 1 einrastbar ist. Gleiches gilt auch für den zweiten Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25b. Dieser umfasst eine zweite Clip- und/oder Schnappverbindung 29b, die in eine entsprechende zweite Öffnung 21b in dem passiven Strahlformungsrahmen 15 der dipolförmigen Strahleranordnung 1 einrastbar ist. Diese erste bzw. zweite Clip- und/oder Schnappverbindung 29a, 29b besteht aus zwei Elementen 35a, 35b, die zusammen gedrückt werden, um in die erste bzw. zweite Öffnung 21a, 21b eingeführt werden zu können. Durch eine Vorspannung bewegen sich beide Elemente 35a, 35b wieder voneinander weg, wobei am freien Ende jedes dieser Elemente 35a, 35b vorzugsweise eine Nase bzw. ein Vorsprung 36 angeordnet ist, der über die erste bzw. zweite Öffnung 21a, 21b vorsteht, so dass sich die Clip- und/oder Schnappverbindung 29a, 29b ohne weiteres Zutun eines Monteurs nicht mehr von dem passiven Strahlformungsrahmen 15 lösen lässt. Dadurch ist sichergestellt, dass der passive Strahlformungsrahmen 15 dauerhaft am Mehrfachhalter 14 gehalten ist. The first beam forming frame holding section 25a includes a first clip and / or snap connection 29a that enters a corresponding first opening 21a in the passive beamforming frame 15 the dipole-shaped radiator arrangement 1 is latched. The same applies to the second beam forming frame holding section 25b , This includes a second clip and / or snap connection 29b placed in a corresponding second opening 21b in the passive beamforming frame 15 the dipole-shaped radiator arrangement 1 is latched. This first or second clip and / or snap connection 29a . 29b consists of two elements 35a . 35b which are pressed together to enter the first and second openings, respectively 21a . 21b to be introduced. By a bias, both elements move 35a . 35b away from each other again, leaving at the free end of each of these elements 35a . 35b preferably a nose or a projection 36 is arranged, which over the first or second opening 21a . 21b protrudes, so that the clip and / or snap connection 29a . 29b without further intervention by a fitter no longer of the passive beam shaping frame 15 solve. This ensures that the passive beam shaping frame 15 permanently on the multiple holder 14 is held.
Der erste Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25a umfasst außerdem einen ersten Arretierungsbolzen 37a, der in eine entsprechende erste Arretierungsöffnung 38a in dem passiven Strahlformungsrahmen 15 der dipolförmigen Strahleranordnung 1 eingeführt ist. Gleiches gilt auch für den zweiten Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25b. Dieser umfasst einen zweiten Arretierungsbolzen 37b, der in eine entsprechende zweite Arretierungsöffnung 38b in dem passiven Strahlformungsrahmen 15 der dipolförmigen Strahleranordnung 1 eingeführt ist. The first beam forming frame holding section 25a also includes a first locking pin 37a placed in a corresponding first locking opening 38a in the passive beamforming frame 15 the dipole-shaped radiator arrangement 1 is introduced. The same applies to the second beam forming frame holding section 25b , This includes a second locking pin 37b in a corresponding second locking opening 38b in the passive beamforming frame 15 the dipole-shaped radiator arrangement 1 is introduced.
Der erste Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25a und der zweite Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25b greifen an der gleichen Rahmenseite 15a, 15b, 15c, 15d des umlaufenden Rahmenstegs 16 an. Sie könnten auch an unterschiedlichen Rahmenseiten 15a, 15b, 15c, 15d eingreifen.The first beam forming frame holding section 25a and the second beam forming frame holding section 25b grab on the same frame page 15a . 15b . 15c . 15d of the surrounding frame web 16 at. You could also use different frame pages 15a . 15b . 15c . 15d intervention.
Der erste Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25a und der zweite Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25b zeigen in die gleiche Richtung und zwar vorzugsweise hin zu der Basis 10. The first beam forming frame holding section 25a and the second beam forming frame holding section 25b pointing in the same direction, preferably towards the base 10 ,
Die dipolförmige Strahleranordnung 1 umfasst im Hinblick auf die 1A, 1B, 2 und 4 außerdem noch einen Direktor 30, der ebenfalls zur Erhöhung der Bandbreite beiträgt. Der Direktor 30 ist, wie auch der passive Strahlformungsrahmen 15, parallel zu der Strahlerebene 5 ausgerichtet. Die Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b sind näher in Richtung des Reflektors 6, also näher in Richtung der Basis 10 der Symmetrier- und/oder Trägeranordnung 7 angeordnet, als der Direktor 30. Dies bedeutet, dass die Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b zwischen dem passiven Strahlformungsrahmen 15 und dem Direktor 30 angeordnet sind. The dipole radiator arrangement 1 includes with regard to 1A . 1B . 2 and 4 plus another director 30 which also contributes to the increase in bandwidth. The director 30 is as well as the passive beam shaping frame 15 , parallel to the radiator plane 5 aligned. The radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b are closer in the direction of the reflector 6 So closer to the base 10 the balancing and / or carrier arrangement 7 arranged as the director 30 , This means that the radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b between the passive beamforming frame 15 and the director 30 are arranged.
Erfindungsgemäß ist der Direktor 30 mit seinen Außenseiten 30a, 30b, 30c, 30d um einen Winkel zwischen 30° und 60° und insbesondere um 45° gedreht zu den Außenseiten 11a und/oder Innenseiten 11b der Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b angeordnet. Dies bedeutet, dass der Direktor 30 mit seinen Ecken in Draufsicht in der Mitte der Spalte 13 endet (siehe 4), die die einzelnen Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b voneinander trennen. Die Außenseiten 30a, 30b, 30c, 30d des Direktors 30 können in Draufsicht parallel zu einer Diagonalen durch die Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b angeordnet sein. According to the invention, the director 30 with its outsides 30a . 30b . 30c . 30d at an angle between 30 ° and 60 ° and in particular rotated by 45 ° to the outer sides 11a and / or insides 11b the radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b arranged. This means that the director 30 with its corners in top view in the middle of the column 13 ends (see 4 ), which the individual radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b separate each other. The outsides 30a . 30b . 30c . 30d the director 30 can in plan view parallel to a diagonal through the radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b be arranged.
Der Direktor 30 ist mit seinen Außenseiten 30a, 30b, 30c, 30d ebenfalls um einen Winkel zwischen 30° und 60° gedreht zu den Rahmenseiten 15a, 15b, 15c, 15d des passiven Strahlformungsrahmens 15 angeordnet. Der Winkel kann auch zwischen 35° und 55°, bevorzugt zwischen 40° und 50° liegen und weiter bevorzugt 45° entsprechen. The director 30 is with its outsides 30a . 30b . 30c . 30d also rotated at an angle between 30 ° and 60 ° to the frame sides 15a . 15b . 15c . 15d the passive beamforming frame 15 arranged. The angle can also between 35 ° and 55 °, preferably between 40 ° and 50 °, and more preferably 45 °.
Der Direktor 30 ist rechteckig, insbesondere quadratisch. The director 30 is rectangular, especially square.
Um den Direktor 30 zu halten umfasst der Mehrfachhalter 14 einen Direktorhalteabschnitt 31, der mit dem Zentralkörper 19 verbunden ist. An diesem ist der Direktor 30 der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt. To the director 30 To hold the multi-holder includes 14 a director holding section 31 that with the central body 19 connected is. At this is the director 30 the dipole-shaped radiator arrangement 1 attached.
In den 3A und 3B zeigen der erste Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25a und/oder der zweite Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25b in eine entgegengesetzte Richtung wie der Direktorhalteabschnitt 31.In the 3A and 3B show the first beam forming frame holding section 25a and / or the second beam forming frame holding section 25b in an opposite direction as the director holding section 31 ,
Der Direktorhalteabschnitt 31 umfasst eine Clip- und/oder Schnappverbindung 32, die in eine entsprechende Öffnung 33 in dem Direktor 30 der dipolförmigen Strahleranordnung 1 eingerastet ist. Die Clip- und/oder Schnappverbindung 32 zum Halten des Direktors 30 ist genauso aufgebaut wie die erste bzw. zweite Clip- und/oder Schnappverbindung 29a, 29b zum Halten des passiven Strahlformungsrahmens 15, weshalb auf die entsprechenden Stellen der Beschreibung verwiesen wird. The director holding section 31 includes a clip and / or snap connection 32 in an appropriate opening 33 in the director 30 the dipole-shaped radiator arrangement 1 is engaged. The clip and / or snap connection 32 to hold the director 30 is the same as the first and second clip and / or snap connection 29a . 29b for holding the passive beamforming frame 15 , which is why reference is made to the relevant parts of the description.
Der Direktorhalteabschnitt 31 umfasst außerdem einen Arretierungsbolzen 34, der in eine entsprechende Arretierungsöffnung 39 in dem Direktor der dipolförmigen Strahleranordnung 1 einführbar ist. Es wird auch hier wieder auf den ersten bzw. zweiten Arretierungsbolzen 37a, 37b des ersten bzw. zweiten Strahlformungsrahmenhalteabschnitts 25a, 25b verwiesen. The director holding section 31 also includes a locking pin 34 in a corresponding locking opening 39 in the director of the dipole radiator array 1 is insertable. It is also here again on the first and second locking bolts 37a . 37b the first and second beam forming frame holding sections, respectively 25a . 25b directed.
Der Direktorhalteabschnitt 31 ist dabei an dem Zentralkörper 19 ausgebildet. Die Länge, um die der Direktorhalteabschnitt 31 von dem Zentralkörper 19 absteht, definiert, wie weit der Direktor 30 von der Strahlerebene 5 beabstandet ist. Genauso verhält es sich für die beiden Strahlformungsrahmenhalteabschnitte 25a, 25b. Die Länge, um die diese in Richtung der Basis 10 von dem Zentralkörper 19 bzw. dem ersten oder zweiten Verlängerungsarm 26a, 26b abstehen, definiert, wie weit der passive Strahlformungsrahmen 15 von der Strahlerebene 5 beabstandet ist. The director holding section 31 is on the central body 19 educated. The length by which the director holding section 31 from the central body 19 defines, how far the director 30 from the radiator level 5 is spaced. The same is true for the two beam forming frame holding sections 25a . 25b , The length to which this is towards the base 10 from the central body 19 or the first or second extension arm 26a . 26b stand, defines how far the passive beam shaping frame 15 from the radiator level 5 is spaced.
Nicht gezeigt ist, dass der Direktor 30 in Draufsicht eine Vertiefung in Richtung der Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b aufweist, wobei der Direktor 30 in dieser Vertiefung an dem Direktorhalteabschnitt 31 befestigt ist. Die Tiefe dieser Vertiefung ist dabei derart gewählt, dass der Direktorhalteabschnitt 31 nicht über den Direktor 30 hinaussteht. Dadurch ist die Clip- und/oder Schnappverbindung 32 des Direktorhalteabschnitts 31 gut geschützt. Außerdem wird die Bauhöhe niedrig gehalten. Not shown is the director 30 in plan view, a recess in the direction of the radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b where the director 30 in this depression on the director holding section 31 is attached. The depth of this recess is chosen such that the director holding section 31 not about the director 30 also available. This is the clip and / or snap connection 32 the director holding section 31 well protected. In addition, the height is kept low.
Der Mehrfachhalter 14 besteht oder umfasst ein dielektrisches Material. Der Mehrfachhalter 14 ist vorzugsweise einteilig ausgebildet. Dies gilt für alle seine Komponenten, wie den Zentralkörper 19, die beiden elastischen Finger 22a, 22b, die beiden Verlängerungsarme 26a, 26b, die beiden Strahlformungsrahmenhalteabschnitte 25a, 25b und den Direktorhalteabschnitt 31. Der Mehrfachhalter 14 wird vorzugsweise in einem Spritzgussverfahren aus Kunststoff hergestellt. Dabei wird vorzugsweise ein Material gewählt, welches den Mehrfachhalter 14 starr und unflexibel macht. The multiple holder 14 consists of or comprises a dielectric material. The multiple holder 14 is preferably formed in one piece. This applies to all its components, such as the central body 19 , the two elastic fingers 22a . 22b , the two extension arms 26a . 26b , the two beam forming frame holding sections 25a . 25b and the director holding section 31 , The multiple holder 14 is preferably produced by injection molding from plastic. In this case, a material is preferably selected, which is the multiple holder 14 makes you rigid and inflexible.
Nicht dargestellt ist, dass der Mehrfachhalter 14 noch eine Stützeinrichtung umfassen kann, wodurch der Mehrfachhalter 14 an einem Grundkörper abstützbar ist. Durch diese Stützeinrichtung kann er auch direkt an dem Antennengehäuse abgestützt werden. Not shown is that the multiple holder 14 may still comprise a support means, whereby the multiple holder 14 can be supported on a base body. By this support means, it can also be supported directly on the antenna housing.
Der passive Strahlformungsrahmen 15 ist vorzugsweise einteilig durch einen Stanzprozess hergestellt. Gleiches gilt auch für die zwei Paare 2, 3 von Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b die in einem Stanzprozess einteilig zusammen mit der Symmetrier- und/oder Trägeranordnung 7 hergestellt sind. Diese können noch durch einen zusätzlichen Biegeprozess geformt sein. The passive beamforming frame 15 is preferably made in one piece by a stamping process. The same applies to the two couples 2 . 3 of radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b in one punching process in one piece together with the balancing and / or support arrangement 7 are made. These can still be formed by an additional bending process.
Im Hinblick auf die 4 und 5 werden noch eine Ansicht von oben und eine Ansicht von unten auf die dipolförmige Strahleranordnung 1 mit dem erfindungsgemäßen Mehrfachhalter 14 gezeigt. In terms of 4 and 5 are still a view from above and a view from below of the dipole radiator arrangement 1 with the multiple holder according to the invention 14 shown.
Vorzugsweise umfasst jede dipolförmige Strahleranordnung 1 mehr als einen Mehrfachhalter 14. Zumindest ist ein zweiter Mehrfachhalter 14 vorgesehen, der an dem Spalt 13 montiert ist, der in Verlängerung zu dem Spalt 13 des ersten Mehrfachhalter 14 liegt, wodurch die Stabilität der dipolförmigen Strahleranordnung 1 erhöht wird. Preferably, each dipole radiator arrangement comprises 1 more than a multiple holder 14 , At least a second multiple holder 14 provided at the gap 13 mounted in extension to the gap 13 of the first multiple holder 14 which reduces the stability of the dipole radiator arrangement 1 is increased.
Vorzugsweise ist allerdings in jedem Spalt 13, der zwischen zwei Innenseiten 11b zweier Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b gebildet ist, ein Mehrfachhalter 14 angeordnet. Daher sind bevorzugt zumindest ein dritter und ein vierter Mehrfachhalter 14 vorgesehen, sodass an allen vier Spalten 13 jeweils ein Mehrfachhalter 14 montiert ist.Preferably, however, is in each gap 13 that between two inside pages 11b two radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b is formed, a multiple holder 14 arranged. Therefore, at least a third and a fourth multiple holder are preferred 14 provided so on all four columns 13 one multi-holder each 14 is mounted.
Dies bedeutet, dass die dipolförmige Strahleranordnung 1 zumindest einen zweiten Mehrfachhalter 14 umfasst, wobei der zumindest eine zweite Strahlermontageabschnitt 20b des Zentralkörpers 19 des zumindest einen zweiten Mehrfachhalters 14 an der ersten Strahlerhälfte 3a des zweiten Paars 3 von Strahlerhälften 3a, 3b der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt ist und dass der erste Strahlermontageabschnitt 20a des Zentralkörpers 19 des zumindest einen zweiten Mehrfachhalters 14 an der zweiten Strahlerhälfte 2b des ersten Paars 2 von Strahlerhälften 2a, 2b der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt ist und dass der Direktorhalteabschnitt 31 des zweiten Mehrfachhalters 14 an dem Direktor 30 der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt ist und dass der zumindest eine erste Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25a des zweiten Mehrfachhalters 14 an der zweiten Rahmenseite 15b des passiven Strahlformungsrahmens 15 der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt ist. This means that the dipole radiator arrangement 1 at least a second multiple holder 14 comprising, wherein the at least one second radiator mounting portion 20b of the central body 19 the at least one second multiple holder 14 on the first radiator half 3a of the second pair 3 of radiator halves 3a . 3b the dipole-shaped radiator assembly 1 is attached and that the first radiator mounting section 20a of the central body 19 the at least one second multiple holder 14 at the second radiator half 2 B of the first couple 2 of radiator halves 2a . 2 B the dipole-shaped radiator arrangement 1 is attached and that the director holding section 31 of the second multiple holder 14 at the director 30 the dipole-shaped radiator arrangement 1 is attached and that the at least one first beam forming frame holding portion 25a of the second multiple holder 14 on the second frame side 15b the passive beamforming frame 15 the dipole-shaped radiator arrangement 1 is attached.
Für den dritten Mehrfachhalter 14 gilt außerdem, dass dessen erster Strahlermontageabschnitt 20a des Zentralkörpers 19 an der zweiten Strahlerhälfte 2b des ersten Paars 2 von Strahlerhälften 2a, 2b der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt ist und dass der zweite Strahlermontageabschnitt 20b des Zentralkörpers 19 des zumindest einen dritten Mehrfachhalters 14 an der zweiten Strahlerhälfte 3b des zweiten Paars 3 von Strahlerhälften 3a, 3b der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt ist und dass der Direktorhalteabschnitt 31 des dritten Mehrfachhalters 14 an dem Direktor 30 der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt ist und dass der zumindest eine erste Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25a des dritten Mehrfachhalters 14 an der dritten Rahmenseite 15c des passiven Strahlformungsrahmen 15 der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt ist.For the third multiple holder 14 also applies that its first radiator mounting section 20a of the central body 19 at the second radiator half 2 B of the first couple 2 of radiator halves 2a . 2 B the dipole-shaped radiator arrangement 1 is attached and that the second radiator mounting section 20b of the central body 19 the at least one third multiple holder 14 at the second radiator half 3b of the second pair 3 of radiator halves 3a . 3b the dipole-shaped radiator arrangement 1 is attached and that the director holding section 31 of the third multiple holder 14 at the director 30 the dipole-shaped radiator arrangement 1 is attached and that the at least one first beam forming frame holding portion 25a of the third multiple holder 14 on the third frame side 15c the passive beamforming frame 15 the dipole-shaped radiator arrangement 1 is attached.
Für den vierten Mehrfachhalter 14 gilt ebenfalls, dass dessen erster Strahlermontageabschnitt 20a des Zentralkörpers 19 an der zweiten Strahlerhälfte 3b des zweiten Paars 3 von Strahlerhälften 3a, 3b der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt ist und dass der zweite Strahlermontageabschnitt 20b des Zentralkörpers 19 des vierten Mehrfachhalters 14 an der ersten Strahlerhälfte 2a des ersten Paars 2 von Strahlerhälften 2a, 2b der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt ist und dass der Direktorhalteabschnitt 31 des vierten Mehrfachhalters 14 an dem Direktor 30 der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt ist und dass der zumindest eine erste Strahlformungsrahmenhalteabschnitt 25a des vierten Mehrfachhalters 14 an der vierten Rahmenseite 15d des passiven Strahlformungsrahmen 15 der dipolförmigen Strahleranordnung 1 befestigt ist.For the fourth multiple holder 14 also applies that its first radiator mounting section 20a of the central body 19 at the second radiator half 3b of the second pair 3 of radiator halves 3a . 3b the dipole-shaped radiator arrangement 1 is attached and that the second radiator mounting section 20b of the central body 19 of the fourth multiple holder 14 on the first radiator half 2a of the first couple 2 of radiator halves 2a . 2 B the dipole-shaped radiator arrangement 1 is attached and that the director holding section 31 of the fourth multiple holder 14 at the director 30 the dipole-shaped radiator arrangement 1 is attached and that the at least one first beam forming frame holding portion 25a of the fourth multiple holder 14 on the fourth frame side 15d the passive beamforming frame 15 the dipole-shaped radiator arrangement 1 is attached.
Der Direktorhalteabschnitt 31 ist vorzugsweise näher an der Längsachse 8 angeordnet, die die dipolförmige Strahleranordnung 1 durchsetzt, als die Strahlformungsrahmenhalteabschnitte 25a, 25b. The director holding section 31 is preferably closer to the longitudinal axis 8th arranged, which the dipole-shaped radiator arrangement 1 interspersed as the beam forming frame holding sections 25a . 25b ,
Die dipolförmige Strahleranordnung 1 ist insbesondere in Form eines Vektordipols oder eines Dipolquadrats ausgebildet. The dipole radiator arrangement 1 is formed in particular in the form of a vector dipole or a dipole square.
Alle vorstehend gemachten Ausführungen wurden für einen Mehrfachhalter 14 gemacht, der in dem Spalt 13 zwischen der ersten Strahlerhälfte 2a des ersten Paars 2 von Strahlerhälften 2a, 2b und der ersten Strahlerhälfte 3a des zweiten Paars 3 von Strahlerhälften 3a, 3b angeordnet ist. Selbstverständlich gelten diese Ausführungen auch für Mehrfachhalter 14, die in den anderen Spalten 13 der Strahlerhälften 2a, 2b bzw. 3a, 3b angeordnet sind. All the above statements were for a multiple holder 14 made that in the gap 13 between the first radiator half 2a of the first couple 2 of radiator halves 2a . 2 B and the first radiator half 3a of the second pair 3 of radiator halves 3a . 3b is arranged. Of course, these versions also apply to multiple holders 14 in the other columns 13 the radiator halves 2a . 2 B respectively. 3a . 3b are arranged.
Die Erfindung ist nicht auf die beschriebenen Ausführungsbeispiele beschränkt. Im Rahmen der Erfindung sind alle beschriebenen und/oder gezeichneten Merkmale beliebig miteinander kombinierbar.The invention is not limited to the described embodiments. In the context of the invention, all described and / or drawn features can be combined with each other as desired.
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