DE102015201755A1 - Method for applying an insulating layer and electronic component - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Auftragen einer elektrisch isolierenden Schicht (10) auf eine metallische Oberfläche (11), sowie ein elektronisches Bauteil mit einer solchen. Es ist vorgesehen in einem ersten Schritt (Ia/IIa) ein pulverförmiges Hochtemperaturpolymer (12) mit einem mittleren Partikeldurchmesser im Bereich von 20 bis 100 µm auf die metallische Oberfläche (11) aufzutragen und in einem zweiten Schritt (Ib/IIb) auf das aufgetragene Hochtemperaturpolymer (13) mit Wärmestrahlung einzuwirken, wobei die metallische Oberfläche geerdet ist, sodass elektrische Ladungen abfließen.The invention relates to a method for applying an electrically insulating layer (10) to a metallic surface (11), as well as to an electronic component having such a surface. It is provided in a first step (Ia / IIa) a powdered high-temperature polymer (12) having an average particle diameter in the range of 20 to 100 microns applied to the metallic surface (11) and in a second step (Ib / IIb) on the applied High temperature polymer (13) act with thermal radiation, wherein the metallic surface is grounded, so that electric charges flow.

Description

Die Erfindung betrifft Verfahren zum Auftragen einer elektrisch isolierenden Schicht auf eine metallische Oberfläche, sowie ein elektronisches Bauteil mit einer solchen. The invention relates to methods for applying an electrically insulating layer to a metallic surface, as well as an electronic component with such.

Elektrische Maschinen (elektromechanische Wandler), beispielsweise elektrische Antriebsmotoren für Kraftfahrzeuge, Starter, Generatoren oder Starter-Generatoren, wandeln elektrische Energie in mechanische Energie (Motoren) beziehungsweise mechanische Energie in elektrische Energie (Generatoren) um. Diese elektromechanische Umwandlung beruht auf elektromagnetischer Induktion. Derartige elektrische Maschinen umfassen einen feststehenden Stator (auch Ständer oder Primärteil genannt), der nach einer häufigen Bauart einen Statorkern (Blechpaket) mit einer Vielzahl von mit entsprechenden Drahtwicklungen umwickelten Statorpolen umfasst. Elektrische Maschinen umfassen eine bewegliche Komponente (auch Läufer oder Sekundärteil genannt), die bei dem häufigsten Bautyp als Rotor ausgebildet ist, welcher drehbar in dem oder um den ringförmig ausgebildeten Stator gelagert ist und eine Vielzahl an Permanentmagneten aufweist. Dabei wird aufgrund des bewegten Magnetfeldes des Rotors ein Stromfluss in der Statorwicklung erzeugt (Generator) beziehungsweise aufgrund des durch den Stator erzeugten Magnetfeldes die mechanische Bewegung/Rotation des Rotors bewirkt (Motor). Umgekehrte Bautypen, bei denen der Rotor eine Wicklung und der Stator Magnete umfasst, sind ebenfalls bekannt. Electric machines (electromechanical converters), for example electric drive motors for motor vehicles, starters, generators or starter generators, convert electrical energy into mechanical energy (motors) or mechanical energy into electrical energy (generators). This electromechanical transformation is based on electromagnetic induction. Such electrical machines include a fixed stator (also called stator or primary part), which according to a common design comprises a stator core (laminated core) with a plurality of stator poles wound with corresponding wire windings. Electrical machines comprise a movable component (also called rotor or secondary part), which is formed in the most common type as a rotor which is rotatably mounted in or around the annular stator and having a plurality of permanent magnets. In this case, due to the moving magnetic field of the rotor, a current flow in the stator winding is generated (generator) or due to the magnetic field generated by the stator causes the mechanical movement / rotation of the rotor (motor). Reverse construction types in which the rotor comprises a winding and the stator comprises magnets are also known.

Die einzelnen Wicklungen des Stators oder Rotors sind miteinander und nach außen durch einen Schaltring (auch als Verschaltungsring oder Kontaktbrücke bezeichnet) elektrisch verschaltet. Der Schaltring ist üblicherweise auf dem Wickelkopf angeordnet und weist mehrere Schaltringelemente auf. So umfasst bei 3-Phasen-Wechselstrom-Maschinen der Schaltring üblicherweise drei Schaltringelemente, die jeweils jede dritte Teilwicklung (Spule) elektrisch miteinander verschalten. So beschreibt EP 1 505 711 A2 ( DE 10 2004 036 368 A1 ) eine Schaltringanordnung für einen Stator eines dreiphasigen Drehstrommotors, die aus drei übereinander liegenden Schaltringelementen in Form von Kupferschienen, von denen jeder jede dritte Wicklung des Stators miteinander verschaltet, sowie einem Sternpunktring besteht. Zwischen den einzelnen Schaltringelementen und dem Sternpunktring ist jeweils ein Isolierring aus einem elektrisch isolierenden Material angeordnet. Auch DE 10 2008 007 409 A1 beschreibt eine dreiteilige Schaltringanordnung für einen Stator, wobei drei Schaltringelemente sowie ein Sternpunktring in einer Ebene flächig nebeneinander liegend in einem Trägerring aus einem temperaturbeständigen Kunststoff, wie Polyphenylensulfid, eingeschlossen sind. Kontaktstellen der Schaltringelemente sowie des Sternpunktrings ragen aus dem Trägerring heraus und sind mit den Drahtenden der Teilwicklungen des Stators verbunden. Die in DE 10 2011 115 405 A1 beschriebene Schaltringanordnung weist drei im Wesentlichen koaxial angeordnete Schaltringelemente auf, die in einem Kunststoff eingebettet und somit voneinander isoliert sind. Die Herstellung erfolgt durch Spritzguss. Die Schaltringanordnungen der DE 10 2008 007 409 A1 und DE 10 2011 115 405 A1 sind somit als kompakte Bauteile ausgeführt, in denen die einzelnen Schaltringe in massiven Kunststoffkörpern eingebettet sind. The individual windings of the stator or rotor are electrically connected to each other and to the outside by a switching ring (also referred to as Verschaltungsring or contact bridge). The switching ring is usually arranged on the winding head and has a plurality of switching ring elements. Thus, in the case of 3-phase AC machines, the switching ring usually comprises three switching ring elements which electrically connect each third partial winding (coil) to one another. So describes EP 1 505 711 A2 ( DE 10 2004 036 368 A1 ) a switching ring arrangement for a stator of a three-phase AC motor, which consists of three superimposed switching ring elements in the form of copper bars, each of which interconnects every third winding of the stator, and a star point ring. Between the individual switching ring elements and the star point ring, an insulating ring made of an electrically insulating material is arranged in each case. Also DE 10 2008 007 409 A1 describes a three-part switching ring arrangement for a stator, wherein three switching ring elements and a star point ring in a plane adjacent to each other lying in a support ring made of a temperature-resistant plastic, such as polyphenylene sulfide are included. Contact points of the switching ring elements and the star point ring protrude from the carrier ring and are connected to the wire ends of the partial windings of the stator. In the DE 10 2011 115 405 A1 described switching ring assembly has three substantially coaxially arranged switching ring elements, which are embedded in a plastic and thus insulated from each other. The production takes place by injection molding. The switching ring arrangements of DE 10 2008 007 409 A1 and DE 10 2011 115 405 A1 are thus designed as compact components in which the individual switching rings are embedded in solid plastic bodies.

An das elektrisch isolierende Material elektronischer Bauteile, beispielsweise zwischen den Schaltringelementen, werden hohe Anforderungen gestellt. Es muss in erster Linie ein hohes elektrisches Isolationsvermögen und insbesondere eine hohe Durchschlagfestigkeit aufweisen. Darüber hinaus muss es über eine hohe Beständigkeit insbesondere gegenüber Temperaturschwankungen und -spitzen verfügen. Diese Eigenschaften sollten ferner bereits bei niedrigen Schichtdicken von weniger als 500 µm erreicht werden um den Platzbedarf des elektrischen Bauteils möglichst gering zu halten. High demands are placed on the electrically insulating material of electronic components, for example between the switching ring elements. It must primarily have a high electrical insulation capacity and in particular a high dielectric strength. In addition, it must have a high resistance especially to temperature fluctuations and peaks. These properties should also be achieved even at low film thicknesses of less than 500 microns to keep the footprint of the electrical component as low as possible.

Bekannt ist, die einzelnen Kupferschienen vor dem Verbau mit einer elektrisch isolierenden Kunststoffschicht durch Pulverbeschichtung zu versehen. Als Materialien werden insbesondere Epoxidharze verwendet. Hierzu beschreibt DE 30 109 82 A1 eine typische Beschichtungsmasse, bestehend aus einem Epoxidharz, Kautschukelementen und anorganischen Füllstoffen. Epoxidharze haben jedoch den Nachteil, dass sie zur Ausbildung von Fehlstellen neigen, welche wiederum zu elektrischen Durchschlägen führen können. It is known to provide the individual copper bars before installation with an electrically insulating plastic layer by powder coating. As materials in particular epoxy resins are used. Describes this DE 30 109 82 A1 a typical coating composition consisting of an epoxy resin, rubber elements and inorganic fillers. However, epoxy resins have the disadvantage that they tend to form defects, which in turn can lead to electrical breakdown.

Das Verfahren der Pulverbeschichtung ist gegenüber Extrusions-, Spritzguss- und Elektrodepositionsverfahren grundsätzlich weniger aufwendig, kann jedoch in Bezug auf die Oberflächenqualität (homogene Schichtdicke) zu Problemen führen, was gerade für elektrische Isolationsanwendungen nachteilig ist. The process of powder coating is fundamentally less expensive than extrusion, injection molding and electrodeposition processes, but can lead to problems in terms of surface quality (homogeneous layer thickness), which is disadvantageous especially for electrical insulation applications.

Ebenfalls bekannt ist die Verwendung von Hochtemperaturpolymeren wie Polyetheretherketon (PEEK) und Polyphenylensulfid (PPS), welche gemäß den Druckschriften DE 10 2006 061 940 A1 , DE10 2005 009 552 A1 und WO 00 2006 0921 26 A1 mittels Polymerpulvermischungen auf einer Oberfläche aufgetragen werden. Also known is the use of high temperature polymers such as polyetheretherketone (PEEK) and polyphenylene sulfide (PPS), which according to the publications DE 10 2006 061 940 A1 . DE10 2005 009 552 A1 and WO 00 2006 0921 26 A1 be applied by means of polymer powder mixtures on a surface.

Aus DE 10 2009 047 856 A1 ist bekannt, dass bei Auftragen von Kunststoffpartikeln von Polyetherketonen eine Partikelgröße von 10 µm unterschritten werden sollte, um möglichst dünne Schichten zu erzielen. Out DE 10 2009 047 856 A1 It is known that when applying plastic particles of polyether ketones should be below a particle size of 10 microns in order to achieve the thinnest possible layers.

Als elektrisch isolierendes Material werden neben den beschriebenen Materialien Polyimide eingesetzt, welche im Vergleich zu den oben genannten auf die Anwendung als elektrisches Isolationsmaterial günstigere Eigenschaften aufweisen. Diese haben jedoch den Nachteil, dass sie als Band oder Folie oder in Form anderer Halbzeuge eingesetzt werden. As an electrically insulating material, polyimides are used in addition to the materials described, which have more favorable properties in comparison to the above-mentioned to the application as electrical insulation material. However, these have the disadvantage that they are used as a tape or foil or in the form of other semi-finished products.

Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, die Isolationswirkung, die Durchschlagfestigkeit sowie die Beständigkeit der isolierenden Schicht weiter zu verbessern und insbesondere ein günstiges Verfahren zur Herstellung einer qualitativ sehr hochwertigen isolierenden Schicht anzugeben. The invention is based on the object to further improve the insulating effect, the dielectric strength and the resistance of the insulating layer and in particular to provide a favorable process for producing a very high quality insulating layer.

Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren sowie ein elektronisches Bauteil mit den Merkmalen der unabhängigen Ansprüche gelöst. Somit betrifft ein erster Aspekt der Erfindung ein Verfahren zum Auftragen einer elektrisch isolierenden Schicht auf eine metallische Oberfläche, wobei in einem ersten Schritt ein pulverförmiges Hochtemperaturpolymer mit einem mittleren Partikeldurchmesser (D50) im Bereich von 20 bis 70 µm auf die metallische Oberfläche aufgetragen wird und in einem zweiten Schritt auf das aufgetragene Hochtemperaturpolymer Wärmestrahlung einwirkt, wobei die metallische Oberfläche geerdet ist, sodass elektrische Ladungen abfließen. This object is achieved by a method and an electronic component having the features of the independent claims. Thus, a first aspect of the invention relates to a method for applying an electrically insulating layer to a metallic surface, wherein in a first step, a powdered high temperature polymer having an average particle diameter (D 50 ) in the range of 20 to 70 microns is applied to the metallic surface and in a second step acts on the applied high-temperature polymer heat radiation, wherein the metallic surface is grounded, so that electric charges flow off.

Das Verfahren der Pulverbeschichtung ist gegenüber Extrusions-, Spritzguss- und Elektrodepositionsverfahren deutlich weniger aufwendig. Es zeigt sich, dass der Partikeldurchmesser der bei der Pulverbeschichtung verwendeten Pulverpartikel für die Homogenität und die Haftung der resultierenden Schicht eine große Bedeutung hat. So kommt es bei zu kleinen Partikeln durch deren geringe Masse zu Rücksprüheffekten, die insbesondere bei Materialien mit sehr hoher elektrischer Isolationswirkung zum Tragen kommen. Es wurde beobachtet, dass mit zunehmender Beschichtungsdauer beziehungsweise Beschichtungsstärke die Rücksprüheffekte zunehmen. Ursache ist, dass die Polymerpartikel elektrisch aufgeladen sind, und von bereits auf der metallischen Oberfläche niedergeschlagenen und gleichartig geladenen Polymerpartikeln abgestoßen werden. Durch die gute elektrische Isolation der Partikel behalten die abgeschiedenen Partikel ihre Ladung bei und stoßen neu hinzukommende, insbesondere kleine Partikel mit gleicher Ladung ab. In Abhängigkeit von der Partikelgröße und dem Material beziehungsweise der Speicherwirkung für elektrische Ladungen des Materials führen diese Rücksprüheffekte zu geringen Maximaldicken der isolierenden Schicht von deutlich weniger als 50 µm. Ferner ist die Abscheidung durch diese Effekte sehr unregelmäßig und führt einer erhöhten Anzahl von Stellen auf dem Werkstück, an denen sich kaum Material niederschlägt. Zu große Partikel hingegen werden aufgrund ihrer Masse zwar effektiv auf der Oberfläche niedergeschlagen, verschlechtern jedoch wiederum die Haftung und fördern die Bildung von Inhomogenitäten an der Beschichtungsoberfläche in Form von sogenannter Orangenhaut, da größere Partikel schlechter zusammenfließen. The process of powder coating is compared to extrusion, injection molding and electrode position method significantly less expensive. It turns out that the particle diameter of the powder particles used in the powder coating for the homogeneity and the adhesion of the resulting layer has a great importance. So too small particles due to their low mass to Rücksprüheffekten that come especially in materials with very high electrical insulation effect to bear. It has been observed that with increasing coating time or coverage, the rejuvenation effects increase. The reason is that the polymer particles are electrically charged, and are repelled by already deposited on the metallic surface and similarly charged polymer particles. Due to the good electrical insulation of the particles, the deposited particles retain their charge and repel newly arriving, especially small particles with the same charge. Depending on the particle size and the material or the storage effect for electrical charges of the material, these re-heat effects lead to small maximum thicknesses of the insulating layer of significantly less than 50 μm. Furthermore, the deposition by these effects is very irregular and leads to an increased number of points on the workpiece, where hardly any material is reflected. On the other hand, particles which are too large are effectively deposited on the surface due to their mass, but in turn deteriorate the adhesion and promote the formation of inhomogeneities on the coating surface in the form of so-called orange peel since larger particles flow together more poorly.

Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass es eine optimale Partikelgröße des Polymerpulvers gibt, bei der weder relevante Rücksprüheffekte, noch Inhomogenitäten durch schlechte interpartikuläre und/oder schlechte Substrathaftung zu beobachten sind. According to the invention, it has been recognized that there is an optimum particle size of the polymer powder in which neither relevant re-spattering effects nor inhomogeneities due to poor interparticle and / or poor substrate adhesion can be observed.

Es wurde weiterhin erkannt, dass nach dem Erreichen einer gewissen Schichtdicke, vorzugsweise der halben finalen Endschichtdicke, ein Temperschritt mit elektrischer Erdung des Werkstücks bei einer Temperatur oberhalb der Glastemperatur (bei amorphen Polymeren) beziehungsweise der Schmelztemperatur (bei teilkristallinen Polymeren) des Beschichtungspolymers die Schichteigenschaften deutlich verbessert. Der Temperschritt dient vor allem dem Abfließen von elektrischen Ladungen, aber auch der Vergleichmäßigung des Beschichtungsmaterials (homogenere Schichtdicke) und dem Abbau von möglichen mechanischen Spannungen. Nach dem Temperschritt erfolgt erneut eine Pulverbeschichtung unter den gleichen Parametern wie bei der ersten Pulverbeschichtung, um die finale Endschichtdicke der Polymerschicht zu erzielen. It was further recognized that after reaching a certain layer thickness, preferably half the final final layer thickness, an annealing step with electrical grounding of the workpiece at a temperature above the glass transition temperature (in amorphous polymers) or the melting temperature (in semicrystalline polymers) of the coating polymer, the layer properties clearly improved. The tempering step is mainly used for the discharge of electrical charges, but also the homogenization of the coating material (more homogeneous layer thickness) and the reduction of possible mechanical stresses. After the annealing step, a powder coating is again carried out under the same parameters as in the first powder coating in order to achieve the final final layer thickness of the polymer layer.

Durch die verbesserte Homogenität wiederum, sowie der Materialauswahl, führt das erfindungsgemäße Verfahren zu elektrisch isolierenden Schichten mit deutlich verbesserter Isolationswirkung. Ferner sind bei dem erfindungsgemäßen Verfahren keine Vorbehandlung der metallischen Oberfläche und kein Vorheizen des Werkstücks notwendig, wie es bei den Verfahren des Standes der Technik insbesondere dann der Fall ist, wenn Kupfer als metallische Oberfläche dient. As a result of the improved homogeneity, as well as the choice of material, the method according to the invention leads to electrically insulating layers having a significantly improved insulating effect. Furthermore, in the method according to the invention no pretreatment of the metallic surface and no preheating of the workpiece are necessary, as is the case in the prior art methods, in particular when copper serves as a metallic surface.

Als metallische Oberflächen werden vorliegend Oberflächen verstanden, welche metallische elektrische Eigenschaften, also eine sehr gute elektrische Leitfähigkeit bei möglichst geringen elektrischen Widerständen, sowie eine hohe Beständigkeit aufweisen. Vorzugsweise wird das erfindungsgemäße Verfahren auf Kupfer beziehungsweise Kupferverbindungen umfassende Oberflächen angewandt. In the present case, metallic surfaces are understood to be surfaces which have metallic electrical properties, ie very good electrical conductivity with the lowest possible electrical resistances, and high resistance. Preferably, the method according to the invention is applied to surfaces comprising copper or copper compounds.

Auf die metallische Oberfläche wird im ersten Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens das Hochtemperaturpolymer mittels einer Pulverquelle, beispielsweise mittels einer Sprühpistole, Sprühlanze oder ähnlichem, auf die metallische Oberfläche aufgetragen. Dabei ist es nicht erforderlich, die metallische Oberfläche vorzubehandeln, beispielsweise zu beizen oder vorzuheizen. Vorteilhafter Weise kommt es zwischen der Pulverquelle und der metallischen Oberfläche zu einer Relativbewegung, um zu gewährleisten, dass eine möglichst gleichmäßige Auftragung des Pulvers stattfindet. Nach dem Erreichen einer definierten Schichtdicke, vorzugsweise der halben finalen Schichtdicke wird die mit dem Pulver beschichtete metallische Oberfläche einer Wärmestrahlung in Form eines Temperschritts mit elektrischer Erdung oberhalb der Glastemperatur (bei amorphen Polymeren) beziehungsweise der Schmelztemperatur (bei teilkristallinen Polymeren) ausgesetzt. Die Wärmeeinwirkung findet vorzugsweise nicht punktuell sondern großflächig, vorzugsweise in einem Ofen, statt, um elektrische Ladungen abfließen zu lassen, die Polymerschicht zu vergleichmäßigen und mechanische Materialspannungen abzubauen. On the metallic surface, in the first step of the process according to the invention, the high-temperature polymer is applied to the metallic surface by means of a powder source, for example by means of a spray gun, spray lance or the like. It is not necessary to pretreat the metallic surface, for example, to pickle or preheat. Advantageously, there is a relative movement between the powder source and the metallic surface in order to ensure that the most uniform possible Application of the powder takes place. After reaching a defined layer thickness, preferably half the final layer thickness, the metallic surface coated with the powder is exposed to thermal radiation in the form of an electric ground annealing step above the glass transition temperature (in the case of amorphous polymers) or the melting temperature (in the case of partially crystalline polymers). The action of heat preferably takes place not at points but over a large area, preferably in an oven, in order to allow electrical charges to flow off, to uniform the polymer layer and to reduce mechanical material stresses.

Als Hochtemperaturpolymere sind Polymere zu verstehen, welche hohe Dauereinsatztemperaturen oberhalb von 180 ºC, insbesondere bis zu 250 ºC, aufweisen. In einer besonderen Ausgestaltung der Erfindung ist das Hochtemperaturpolymer ein Polyimid, insbesondere Polyetherimid, oder ein Polyetherketon, insbesondere Polyetherketonketon. Vorteilhafter Weise werden bei der Verwendung von Polyimid eventuelle Inhomogenitäten der Schicht, insbesondere deren Oberfläche, sehr leicht detektierbar, da insbesondere Polyetherimid eine reflektierende bernsteinfarbene Schicht erzeugt, welche Inhomogenitäten mit bloßem Auge erkennen lässt. Dies bietet den Vorteil einer zuverlässigen Qualitätssicherung. Zudem zeigen Polyimide und Polyetherketone sehr gute elektrische Isolationswirkung und Durchschlagfestigkeit insbesondere auch bei relativ dünnen Schichten. High-temperature polymers are polymers which have high continuous use temperatures above 180 ° C, in particular up to 250 ° C. In a particular embodiment of the invention, the high-temperature polymer is a polyimide, in particular polyetherimide, or a polyether ketone, in particular polyether ketone ketone. Advantageously, any inhomogeneities of the layer, in particular its surface, are very easily detectable when polyimide is used, since in particular polyetherimide produces a reflective amber-colored layer which allows inhomogeneities to be detected with the naked eye. This offers the advantage of reliable quality assurance. In addition, polyimides and polyether ketones show very good electrical insulation effect and dielectric strength, especially with relatively thin layers.

In einer weiter bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, dass die Partikel des pulverförmigen Hochtemperaturpolymers einen mittleren Durchmesser im Bereich von 20 bis 70 µm, insbesondere im Bereich von 20 bis 45 µm, aufweisen. Untersuchungen ergaben, dass in diesen Bereichen die Homogenität der Schicht bei Erhöhung der Maximalschichtdicke weiter verbessert wird, da die Rücksprüheffekte reduziert werden und gleichzeitig die Haftung der Schicht auf der Oberfläche verbessert wird. In a further preferred embodiment of the invention, it is provided that the particles of the pulverulent high-temperature polymer have an average diameter in the range from 20 to 70 μm, in particular in the range from 20 to 45 μm. Investigations have shown that, in these areas, the homogeneity of the layer is further improved as the maximum layer thickness is increased, since the effects of the rejuvenation are reduced while at the same time the adhesion of the layer to the surface is improved.

Insbesondere ist bevorzugt, dass zumindest 50 % der Partikel des pulverförmigen Hochtemperaturpolymers einen Durchmesser im Bereich von 10 bis 40 µm, insbesondere im Bereich von 20 bis 35 µm, aufweisen. Eine möglichst enge Verteilung der Partikeldurchmesser wirkt sich positiv auf die Haftung der Schicht auf der metallischen Oberfläche aus. Weiter konnte gezeigt werden, dass ein mittlerer Partikeldurchmesser von insbesondere 27 µm, insbesondere bei einem D50-Wert der Partikel von 27 µm, eine in Bezug auf die Homogenität, Materialausbeute und Haftung optimierte elektrisch isolierende Schicht erzeugt wird. In particular, it is preferred that at least 50% of the particles of the pulverulent high-temperature polymer have a diameter in the range from 10 to 40 μm, in particular in the range from 20 to 35 μm. The narrowest possible distribution of the particle diameter has a positive effect on the adhesion of the layer on the metallic surface. Furthermore, it has been shown that an average particle diameter of, in particular, 27 μm, in particular with a D 50 value of the particles of 27 μm, produces an electrically insulating layer optimized in terms of homogeneity, material yield and adhesion.

In besonderer Ausgestaltung der Erfindung ist ferner vorgesehen, dass die Wärmestrahlung in einem Temperschritt im Bereich von 200 bis 400 ºC, insbesondere im Bereich von 250 bis 350 ºC, auf das aufgetragene Hochtemperaturpolymer einwirkt. Der Temperschritt mit elektrischer Erdung des Werkstücks erfolgt bei einer Temperatur oberhalb der Glastemperatur (bei amorphen Polymeren) beziehungsweise der Schmelztemperatur (bei teilkristallinen Polymeren). Der Temperschritt dient vor allem dem Abfließen von elektrischen Ladungen, aber auch der Vergleichmäßigung des Beschichtungsmaterials (homogenere Schichtdicke) und dem Abbau von möglichen mechanischen Spannungen. Nach dem Temperschritt erfolgt vorzugsweise erneut eine Pulverbeschichtung unter den gleichen Parametern wie bei der ersten Pulverbeschichtung, um die finale Schichtdicke der Polymerschicht zu erzielen. In a particular embodiment of the invention it is further provided that the heat radiation in an annealing step in the range of 200 to 400 ° C, in particular in the range of 250 to 350 ° C, acts on the applied high-temperature polymer. The annealing step with electrical grounding of the workpiece takes place at a temperature above the glass transition temperature (in the case of amorphous polymers) or the melting temperature (in the case of semicrystalline polymers). The tempering step is mainly used for the discharge of electrical charges, but also the homogenization of the coating material (more homogeneous layer thickness) and the reduction of possible mechanical stresses. After the annealing step, preferably a powder coating is again carried out under the same parameters as in the first powder coating in order to achieve the final layer thickness of the polymer layer.

Die bevorzugten Temperaturbereiche liegen vorteilhafter Weise deutlich oberhalb der Glastemperatur der bevorzugten amorphen Hochtemperaturpolymere beziehungsweise oberhalb der der Schmelztemperatur der bevorzugten teilkristallinen Hochtemperaturpolymere. Hochtemperaturpolymere, insbesondere Polyimide und Polyetherketone, sind nicht beziehungsweise nur schwer in die Schmelze überführen, da sie einen Schmelzbereich aufweisen und bereits eine Verkohlung des Polymers einsetzt, bevor das komplette Polymer verflüssigt ist. In den angegebenen Bereichen findet jedoch zumindest eine Deformation, bevorzugt jedoch ein teilweises Aufschmelzen, des Polymers statt, sodass die Partikel eine Verbindung untereinander eingehen können und aufgrund von Deformation und/oder Schmelzen die Hohlräume füllen und/oder die metallische Oberfläche bestmöglich benetzen. Zudem führt der Temperschritt zu einem Entladen beziehungsweise zu einem Abführen von Ladungen aus der polymeren Schicht, da diese infolge des Abscheidens geladener Partikel und/oder polarisierter Partikel elektrisch oder elektrostatisch geladen ist. Bei der Verwendung von Polyimiden, insbesondere Polyetherimid und/oder Polyetherketon, insbesondere Polyetherketonketon, zeigte sich ein Temperschritt bei Temperaturen im Bereich von 300 bis 325 ºC, insbesondere 310 ºC, für eine Dauer von 10 bis 20 Minuten, insbesondere von zirka 15 Minuten, als besonders günstig zur Erzielung optimaler Schichteigenschaften. The preferred temperature ranges are advantageously well above the glass transition temperature of the preferred amorphous high-temperature polymers or above the melting temperature of the preferred semi-crystalline high-temperature polymers. High-temperature polymers, in particular polyimides and polyether ketones, are difficult or impossible to transfer into the melt because they have a melting range and already use charring of the polymer before the entire polymer has been liquefied. In the specified ranges, however, at least one deformation, but preferably a partial melting, of the polymer takes place, so that the particles can form a bond with one another and fill the cavities due to deformation and / or melting and / or wet the metallic surface in the best possible way. In addition, the annealing step leads to a discharge or to a discharge of charges from the polymeric layer, since this is charged electrically or electrostatically due to the deposition of charged particles and / or polarized particles. When using polyimides, in particular polyetherimide and / or polyether ketone, in particular polyether ketone ketone, an annealing step has been found at temperatures in the range from 300 to 325 ° C, in particular 310 ° C, for a period of 10 to 20 minutes, in particular of about 15 minutes particularly favorable for achieving optimum layer properties.

Weiterhin ist bevorzugt, dass die isolierende Schicht eine Schichtdicke im Bereich von 80 bis 200 µm aufweist, insbesondere bevorzugt sind Schichtdicken im Bereich von 90 bis 130 µm. It is furthermore preferred for the insulating layer to have a layer thickness in the range from 80 to 200 μm, and layer thicknesses in the range from 90 to 130 μm are particularly preferred.

Bei der Verwendung von Hochtemperaturpolymeren, insbesondere von Polyimiden und Polyetherketon, ist innerhalb dieser Schichtdicken ein sehr guter Kompromiss zwischen Materialmenge und elektrischer Isolation sowie Durchschlagfestigkeit zu erzielen. When using high-temperature polymers, in particular polyimides and polyether ketone, within these layer thicknesses, a very good compromise between the amount of material and electrical insulation and dielectric strength.

Mit besonderem Vorteil werden der erste und/oder der zweite Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens wiederholt. Eine zumindest einmalige Wiederholung dient in erster Linie dazu, unter Umständen noch vorhandene Bereiche geringer Materialdicke (Täler) aufzufüllen. Somit erhöhen der Wiederholungsschritt beziehungsweise die Wiederholungsschritte insbesondere die Oberflächenhomogenität und führen zu einheitlichen Schichtdicken über das gesamte Substrat. Da die Schichtdicke der isolierenden Schicht, insbesondere in den bevorzugten Bereichen, sich proportional zu der Durchschlagfestigkeit und dem Isolationsvermögen verhält, wird zudem die Qualität der isolierenden Schicht durch den Wiederholungsvorgang deutlich verbessert. With particular advantage, the first and / or the second step of the method according to the invention are repeated. An at least one repetition serves primarily to fill up existing areas of small material thickness (valleys) under certain circumstances. Thus, the repetition step or the repetition steps in particular increase the surface homogeneity and lead to uniform layer thicknesses over the entire substrate. In addition, since the layer thickness of the insulating layer, particularly in the preferred ranges, is proportional to the breakdown strength and the insulating property, the quality of the insulating layer is significantly improved by the repetitive operation.

Dabei ist bevorzugt, dass das im ersten und/oder im zweiten Schritt, vor dem ersten Tempern mit elektrischer Erdung, aufgetragene Hochtemperaturpolymer eine Schichtdicke im Bereich von 30 bis 70 µm, insbesondere im Bereich von 45 bis 55 µm, aufweist, insbesondere wenn eine finale Schichtdicke von 100 µm erzeugt werden soll. Dies führt vorteilhafter Weise dazu, dass die Gesamtschichtdicke auch bei Wiederholung der einzelnen Schritte nicht über die bevorzugten Grenzen hinaus erhöht wird. Zudem wird in dieser Ausgestaltung eine maximale Homogenität der isolierenden Schicht durch den Mehrschichtaufbau erzielt. Vorzugsweise wird nach dem Abscheiden der ersten Schicht bei einer Schichtdicke von 30 bis 70 µm ein Temperschritt mit elektrischer Erdung angeschlossen. Der Temperschritt dient vor allem dem Abfließen von elektrischen Ladungen, aber auch der Vergleichmäßigung des Beschichtungsmaterials (homogenere Schichtdicke) und dem Abbau von möglichen mechanischen Spannungen. Insbesondere in den Bereichen der Schicht, bei denen Rücksprüheffekte infolge geladener Partikel auf der Oberfläche zu einem Stagnieren des Schichtwachstums führen, führt die Entladung durch den Temperschritt dazu, dass auch oder gerade in Bereichen, in denen im ersten Schritt kein oder nur ein gehemmtes Schichtwachstum mehr möglich war, in einem zweiten Abscheidevorgang über das gesamte Substrat eine homogene Gesamtschichtdicke erzielt wird. It is preferred that the high-temperature polymer applied in the first and / or in the second step, before the first annealing with electrical grounding, has a layer thickness in the range of 30 to 70 μm, in particular in the range of 45 to 55 μm, in particular if a final Layer thickness of 100 microns to be produced. This advantageously leads to the fact that the total layer thickness is not increased beyond the preferred limits even when repeating the individual steps. In addition, in this embodiment, a maximum homogeneity of the insulating layer is achieved by the multi-layer structure. Preferably, after the deposition of the first layer at a layer thickness of 30 to 70 .mu.m, an annealing step with electrical grounding is connected. The tempering step is mainly used for the discharge of electrical charges, but also the homogenization of the coating material (more homogeneous layer thickness) and the reduction of possible mechanical stresses. Particularly in the areas of the layer in which the re-effect of charged particles on the surface leads to a stagnation of the layer growth, the discharge by the annealing step leads to or even in areas where in the first step no or only inhibited layer growth more was possible in a second deposition over the entire substrate, a homogeneous total layer thickness is achieved.

Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein elektronisches Bauteil aufweisend einen Schichtstapel umfassend zwei metallische Oberflächen, die einander zugewandt angeordnet sind, wobei zur elektrischen Isolation auf den metallischen Oberflächen eine isolierende Schicht angeordnet ist, die mit dem Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche aufgebracht oder aufbringbar ist. Mit besonderem Vorteil ist das elektronische Bauteil eine Sicherheitskupplung, insbesondere ein Schaltring, für eine elektrische Maschine oder eine Spule. Another aspect of the invention relates to an electronic component comprising a layer stack comprising two metallic surfaces, which are arranged facing each other, wherein an insulating layer is disposed on the metallic surfaces for electrical insulation, which is applied or can be applied by the method according to one of the preceding claims , With particular advantage, the electronic component is a safety coupling, in particular a switching ring, for an electrical machine or a coil.

Weitere bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den übrigen, in den Unteransprüchen genannten Merkmalen. Further preferred embodiments of the invention will become apparent from the remaining, mentioned in the dependent claims characteristics.

Die verschiedenen in dieser Anmeldung genannten Ausführungsformen der Erfindung sind, sofern im Einzelfall nicht anders ausgeführt, mit Vorteil miteinander kombinierbar. The various embodiments of the invention mentioned in this application are, unless otherwise stated in the individual case, advantageously combinable with each other.

Die Erfindung wird nachfolgend in Ausführungsbeispielen anhand der zugehörigen Zeichnungen erläutert. Es zeigen: The invention will be explained below in embodiments with reference to the accompanying drawings. Show it:

1 einen schematischen Aufbau eines Schaltrings, sowie die Anordnung eines darin angeordneten Schichtstapels; 1 a schematic structure of a switching ring, and the arrangement of a layer stack arranged therein;

2 eine schematische Darstellung des Ablaufs des erfindungsgemäßen Verfahrens in einer bevorzugten Ausführungsform, und 2 a schematic representation of the sequence of the method according to the invention in a preferred embodiment, and

3 eine logarithmische Auftragung einer Partikeldurchmesserverteilung nach einer bevorzugten Ausführungsform. 3 a logarithmic plot of a particle diameter distribution according to a preferred embodiment.

Der beispielhafte Aufbau eines Schaltrings 30 ist in 2 dargestellt, wobei im unteren Teil der 2 ein vergrößerter Teilausschnitt gezeigt ist. The exemplary structure of a switching ring 30 is in 2 shown in the lower part of the 2 an enlarged partial section is shown.

Der hier dargestellte Schaltring 30 zur Anbindung an einen Stator (nicht dargestellt) weist drei Schaltringelemente 32 auf, die konzentrisch ineinander liegend und in der gewählten Darstellung senkrecht stehend angeordnet sind. Zwischen den einzelnen Schaltringelementen 32 ist jeweils eine isolierende Schicht 10 angeordnet, sodass die Schaltringelemente 32 elektrisch voneinander isoliert sind. Jedes Schaltringelement 32 weist eine Vielzahl von Kontaktstellen 34 auf, welche axial über die einzelnen Schaltringelemente 32 hervorstehen und radial nach innen abgewinkelt sind. Die Kontaktstellen 34 dienen der elektrischen Verschaltung der Teilwicklungen des Stators miteinander. Zu diesem Zweck werden die Kontaktstellen 34 mit Drahtenden der Teilwicklungen elektrisch leitfähig verbunden, beispielsweise stoffschlüssig durch Schweißen oder Löten. Jedes Schaltringelement 32 weist ferner eine Anschlussstelle 36 auf, welche dem externen Anschluss des Stators beispielsweise an einen Hochvoltanschluss dienen. Jedes Schaltringelement 32 zusammen mit den Kontaktstellen 34 und der Anschlussstelle 36 ist vorzugsweise jeweils einstückig aus einem Metallblech, beispielsweise aus Kupfer hergestellt. The switching ring shown here 30 for connection to a stator (not shown) has three switching ring elements 32 on, which are concentric with each other and arranged vertically standing in the selected representation. Between the individual switching ring elements 32 is in each case an insulating layer 10 arranged so that the switching ring elements 32 are electrically isolated from each other. Each switching ring element 32 has a variety of contact points 34 on which axially over the individual switching ring elements 32 protrude and are angled radially inward. The contact points 34 serve the electrical interconnection of the partial windings of the stator with each other. For this purpose, the contact points 34 connected to wire ends of the partial windings electrically conductive, for example, materially by welding or soldering. Each switching ring element 32 also has a connection point 36 on, which serve the external connection of the stator, for example, to a high-voltage connection. Each switching ring element 32 together with the contact points 34 and the connection point 36 is preferably in one piece from a metal sheet, for example made of copper.

Der Schaltring 30 kann wie in diesem Beispiel ferner einen Sternpunktring 38 aufweisen, der hier ebenfalls in koaxialer Anordnung mit den drei Schaltringelementen 32 als äußere Ringlage angeordnet ist. Zwischen dem Sternpunktring 38 und dem daran anschließenden Schaltringelement 32 ist ebenfalls eine isolierende Schicht 10 vorhanden. Der Sternpunktring 38 bildet den elektrischen Sternpunkt der elektrischen Verschaltung für die Teilwicklungen. Zu diesem Zweck weist der Sternpunktring 38 radial nach innen abgewinkelte Kontaktierungsfortsätze 40 auf, die sich im montierten Zustand auf den Statorpolen des Statorkerns erstrecken und von den Teilwicklungen umwickelt werden. Die Kontaktierungsfortsätze 40 dienen der Kontaktierung eines Endes der um die Pole des Stators gewickelten Teilwicklungen. The switching ring 30 may also have a star point ring, as in this example 38 also here in coaxial arrangement with the three switching ring elements 32 is arranged as an outer ring layer. Between the star point ring 38 and the adjoining switching ring element 32 is also an insulating layer 10 available. The star point ring 38 forms the electrical star point of the electrical wiring for the partial windings. For this purpose, the star point ring 38 Radial inwardly angled Kontaktierungsfortsätze 40 on, which extend in the mounted state on the stator poles of the stator core and are wrapped by the partial windings. The contacting processes 40 serve to contact one end of the wound around the poles of the stator part windings.

Die vorstehend beschriebene Struktur des Schaltrings 30 ist an sich bekannt. Im Rahmen der vorliegenden Erfindungen können auch andere Gestaltungen Anwendung finden. The above-described structure of the switching ring 30 is known per se. Other designs may be used in the context of the present inventions.

Die untere Detaildarstellung zeigt einen weiter vergrößerten Ausschnitt des Schaltrings 30 und verdeutlicht die Anordnung der isolierenden Schicht 10 zwischen den einzelnen Schaltringelementen 32 des Schaltrings 30. Diese ergeben einen Schichtstapel 100, wobei jedes Schaltringelement 32 eine metallische Oberfläche 11 darstellt, an der beidseits, aber zumindest auf der einer benachbarten metallischen Oberfläche 11 zugewandten Seite, die isolierende Schicht 10 angeordnet ist. Zwischen zwei metallischen Oberflächen 11 sind demnach zwei isolierende Schichten 10 angeordnet. Je nach Qualität und Ausgestaltung der isolierenden Schicht 10 sowie bei größeren Toleranzen der Schaltringelemente 32 können zwischen den isolierenden Schichten 11 Spalte 12 auftreten. The lower detail shows a further enlarged section of the switching ring 30 and illustrates the arrangement of the insulating layer 10 between the individual switching ring elements 32 the Schalring 30 , These result in a layer stack 100 , wherein each switching ring element 32 a metallic surface 11 represents, on both sides, but at least on an adjacent metallic surface 11 facing side, the insulating layer 10 is arranged. Between two metallic surfaces 11 are therefore two insulating layers 10 arranged. Depending on the quality and design of the insulating layer 10 as well as with larger tolerances of the switching ring elements 32 can be between the insulating layers 11 column 12 occur.

Erfindungsgemäß weist nun der Schaltring 30 eine durch das erfindungsgemäße Verfahren hergestellte isolierende Schicht 10 auf. According to the invention now has the switching ring 30 an insulating layer produced by the method according to the invention 10 on.

2 zeigt eine schematische Darstellung des erfindungsgemäßen Verfahrens in einer bevorzugten Ausgestaltung. In der gezeigten Ausgestaltung umfasst das Verfahren zwei Wiederholungseinheiten I und II, wobei in der ersten Einheit I in zwei Schritten Ia und Ib eine erste Schicht 14 auf einer metallischen Oberfläche 11 angeordnet wird. Im Wiederholungsschritt II wird auf die erste Schicht 14 durch die gleichen Verfahrensschritte IIa und IIb eine weitere Schicht aufgetragen. 2 shows a schematic representation of the method according to the invention in a preferred embodiment. In the embodiment shown, the method comprises two repeat units I and II , where in the first unit I in two steps Ia and ib a first layer 14 on a metallic surface 11 is arranged. In the repetition step II gets on the first layer 14 through the same process steps IIa and IIb applied another layer.

Zu Beginn des erfindungsgemäßen Verfahrens wird in einem ersten Schritt Ia eine metallische Oberfläche 11, vorzugsweise eine Kupferoberfläche oder eine Oberfläche 11 aus Kupferverbindungen, bereitgestellt. Die metallische Oberfläche 11 ist zuvor keiner Vorbehandlung unterzogen worden, wie beispielsweise Beizen, Temperieren oder ähnlichem. Auf diese behandelte metallische Oberfläche 11 wird mittels einer Sprühpistole 1 oder -lanze ein pulverförmiges Hochtemperaturpolymer 12 aufgetragen. Um eine möglichst homogene Abscheidung zu erzielen, findet eine Relativbewegung zwischen metallischer Oberfläche 11 und Sprühpistole 1 statt. Dies kann entweder durch Bewegung der metallischen Oberfläche 11 oder, wie gezeigt, durch ein Schwenken der Sprühpistole 1 erreicht werden. Dabei ist es sinnvoll, dass der durch die Schwenkung der Sprühpistole 1 erzielbare Bearbeitungsbereich 12 einer Breite beziehungsweise einer Länge der metallischen Oberfläche 11 entspricht. At the beginning of the process according to the invention is in a first step Ia a metallic surface 11 , preferably a copper surface or a surface 11 made of copper compounds. The metallic surface 11 no pretreatment has been previously subjected, such as pickling, tempering or the like. On this treated metallic surface 11 is by means of a spray gun 1 or lance a powdered high temperature polymer 12 applied. In order to achieve the most homogeneous possible deposition, there is a relative movement between the metallic surface 11 and spray gun 1 instead of. This can be done either by moving the metallic surface 11 or, as shown, by pivoting the spray gun 1 be achieved. It makes sense that by the pivoting of the spray gun 1 achievable processing area 12 a width or a length of the metallic surface 11 equivalent.

Als Hochtemperaturpolymer können Polyimide, insbesondere Polyetherimide aber auch Polyetherketone, insbesondere Polyetherketonketon, eingesetzt werden. Die Partikel des pulverförmig eingesetzten Hochtemperaturpolymers weisen eine möglichst enge Verteilung auf. Besonders günstig sind mittlere Partikelgrößen im Bereich von 20 bis 100 µm, insbesondere im Bereich von 20 bis 70 µm, besonders bevorzugt im Bereich von 20 bis 45 µm. Besonders geeignet ist ein Hochtemperaturpolymerpulver mit einer Partikelgrößenverteilung von D(v; 0,1) = 7 µm, D(v; 0,5) = 27 µm und D(v; 0,9) = 62 µm, also einem eingesetzten Pulver mit einer sehr engen Partikelgrößenverteilung und einem mittleren Durchmesser 27 µm. Polyimides, in particular polyetherimides but also polyether ketones, in particular polyether ketone ketone, can be used as the high-temperature polymer. The particles of the powdered high-temperature polymer have the narrowest possible distribution. Particularly advantageous are average particle sizes in the range from 20 to 100 μm, in particular in the range from 20 to 70 μm, particularly preferably in the range from 20 to 45 μm. Particularly suitable is a high-temperature polymer powder having a particle size distribution of D (v; 0.1) = 7 microns, D (v; 0.5) = 27 microns and D (v; 0.9) = 62 microns, ie a powder used with a very narrow particle size distribution and an average diameter of 27 microns.

Nach dem Erzielen einer bestimmungsgemäßen Schichtdicke von 80 bis 200 µm, insbesondere von zirka 100 µm, vorzugsweise der halben finalen Schichtdicke wird der Pulverauftrag auf die metallische Oberfläche 11 unterbrochen. In dem sich anschließenden zweiten Schritt Ib wird das aufgetragene Hochtemperaturpolymer 13 einer Wärmestrahlung (Tempern mit elektrischer Erdung) 3 ausgesetzt. After achieving a designated layer thickness of 80 to 200 .mu.m, in particular of about 100 .mu.m, preferably half the final layer thickness of the powder application to the metallic surface 11 interrupted. In the subsequent second step ib becomes the applied high temperature polymer 13 a heat radiation (annealing with electrical grounding) 3 exposed.

Dies kann beispielsweise dadurch geschehen, dass die metallische Oberfläche 11 in einem Temperofen eingebracht wird. Die Wärmestrahlung 3 weist eine Temperatur auf, welche sich oberhalb der Glastemperatur des Hochtemperaturpolymers, also insbesondere oberhalb von 180 ºC, insbesondere oberhalb von 250 ºC, befindet. Gleichzeitig ist sichergestellt, dass die Temperatur unterhalb einer für das jeweilige Hochtemperaturpolymer kritischen Temperatur liegt, bei der eine Verkohlung des Hochtemperaturpolymers einsetzen würde. Der Temperschritt liegt im Bereich von einigen Minuten, insbesondere im Bereich von 10 bis 20 Minuten, vorzugsweise bei zirka 15 Minuten. This can be done, for example, that the metallic surface 11 is introduced in a tempering furnace. The heat radiation 3 has a temperature which is above the glass transition temperature of the high-temperature polymer, ie in particular above 180 ° C., in particular above 250 ° C. At the same time, it is ensured that the temperature is below a critical temperature for the particular high-temperature polymer at which carbonization of the high-temperature polymer would take place. The annealing step is in the range of a few minutes, in particular in the range of 10 to 20 minutes, preferably at about 15 minutes.

Das Ergebnis ist eine metallische Oberfläche mit einer darauf angeordneten isolierenden Schicht 10. Um die Qualität dieser isolierenden Schicht 10 weiter zu verbessern, werden die Verfahrensschritte Ia und Ib in einem zweiten Wiederholungsschritt II wiederholt. Ziel ist es, eine Gesamtschichtdicke der isolierenden Schicht 10 von 80 bis 200 µm, insbesondere von 90 bis 120 µm, bevorzugt von zirka 100 µm, zu erzielen. Bei den meisten bekannten Pulverbeschichtungsverfahren mit Hochtemperaturpolymeren sind dazu mindestens drei Beschichtungsschritte erforderlich, die Wahl der Partikelgrößen beziehungsweise der Partikelgrößenverteilung ermöglicht es jedoch bei dem erfindungsgemäßen Verfahren, eine derartige Schichtdicke bereits nach zwei Beschichtungsschritten, unterbrochen von einem Temperschritt mit elektrischer Entladung, zu erzielen. The result is a metallic surface with an insulating layer disposed thereon 10 , To the quality of this insulating layer 10 To further improve the process steps Ia and ib in a second repetition step II repeated. The aim is to have a total layer thickness of the insulating layer 10 from 80 to 200 .mu.m, in particular from 90 to 120 .mu.m, preferably of about 100 .mu.m, to achieve. At least three of these are known in most known powder coating processes with high temperature polymers Coating steps required, the choice of particle sizes or the particle size distribution, however, allows in the inventive method, such a layer thickness after two coating steps, interrupted by an annealing step with electrical discharge to achieve.

Bevorzugtes Ausführungsbeispiel: Preferred embodiment:

In einem bevorzugten Ausführungsbeispiel wurde ein Polyetherimid-Granulat (Ultem1000) in einer Flüssigstickstoff gefüllten Pulverisette zu Polyetherimid-Pulver unterschiedlicher Partikelgrößenverteilung vermahlen und im Vakuum getrocknet. Das Pulver wurde mittels eines Stabinjektors angesaugt und zur Pulverwolke fluidisiert, um über die Pulverlanze ausgestoßen zu werden. Die Pulverbeschichtung wurde mit einem Gesamtvolumenstrom von 2,5 m3/h bei einem Pulverausstoß von 100 g/min durchgeführt. Dabei wurde eine Aufladung des Pulvers über ein Korona System mit 30 kV (GEMA-System) erzielt. Die Pulverabscheidung fand auf ein geerdetes Kupferblech statt, wobei der Abstand zwischen Pulverlanze und Kupferplatte 125 mm betrug. Die Abmessung der Kupferplatte betrug 100 × 100 × 1 mm vom Typ Wieland K1, Cu-OF R2401. Die Beschichtung des Kupfers wurde im kalten Zustand (bei Raumtemperatur) durchgeführt. Eine Partikelgrößenverteilung mit einem mittleren Partikeldurchmesser von 27 µm (D(v; 0,5)), wobei für die kleinsten Partikel der Partikeldurchmesser 7 µm (D(v; 0,1)) und für die größten Partikel der Durchmesser 62 µm (D(v; 0,9)) betrug, erzielten die besten Ergebnisse. Dabei wurde je Abscheideprozess eine Schichtdicke von 50 µm abgeschieden und anschließend einem 15 minütigen Temperschritt bei 310 ºC unterzogen. Das Ergebnis war eine sehr homogene und gute haftende Polyetherimidschicht mit einer sehr glatten Oberfläche. In a preferred embodiment, a polyetherimide granules (Ultem 1000) was ground in a liquid nitrogen-filled Pulverisette polyetherimide powder of different particle size distribution and dried in vacuo. The powder was aspirated by means of a rod injector and fluidized to the powder cloud to be expelled over the powder lance. The powder coating was carried out with a total volume flow of 2.5 m 3 / h with a powder output of 100 g / min. In this case, a charge of the powder over a corona system with 30 kV (GEMA system) was achieved. The powder deposition took place on a grounded copper sheet, wherein the distance between the powder lance and copper plate was 125 mm. The dimension of the copper plate was 100 × 100 × 1 mm of Wieland K1 type, Cu-OF R2401. The coating of the copper was carried out in the cold state (at room temperature). A particle size distribution with a mean particle diameter of 27 microns (D (v; 0.5)), wherein for the smallest particles of the particle diameter 7 microns (D (v; 0.1)) and for the largest particles of diameter 62 microns (D (v; 0.9)) achieved the best results. In this case, a deposition layer thickness of 50 μm was deposited per deposition process and then subjected to a 15 minute annealing step at 310 ° C. The result was a very homogeneous and good polyetherimide adhesive layer with a very smooth surface.

Im Gegensatz dazu zeigte bei sonst gleichem Verfahren die Verwendung von Polyetherimidpulver mit einer Partikelgrößenverteilung bei einem mittleren Partikeldurchmesser von 121 µm (D(v; 0,5)), einem kleinsten Partikeldurchmesser von 12 µm (D(v; 0,1)) und einem größten Partikeldurchmesser von 204 µm (D(v; 0,9)) zwar kaum Rücksprüheffekte dafür jedoch eine deutlich erkennbare ungleichmäßige Verteilung, insbesondere der Oberfläche. So zeigte sich insbesondere eine Orangenhaut auf der Schichtoberfläche. In contrast, in the otherwise same process, the use of polyetherimide powder having a particle size distribution with an average particle diameter of 121 μm (D (v; 0.5)), a smallest particle diameter of 12 μm (D (v; 0.1)) and Although a large particle diameter of 204 microns (D (v; 0.9)) hardly rewinding effects but a clearly recognizable uneven distribution, especially the surface. For example, an orange peel on the surface of the layer was particularly evident.

Eine deutliche Reduzierung des mittleren Partikeldurchmessers auf 10 µm (kleinster 6 µm, größter 15 µm) zeigte bereits bei einer Schichtdicke von 50 µm stark zunehmende Rücksprüheffekte und das damit einhergehende gehemmte Schichtwachstum. A significant reduction of the average particle diameter to 10 μm (smallest 6 μm, largest 15 μm) showed already with a layer thickness of 50 μm strongly increasing re-heat effects and the associated inhibited layer growth.

3 stellt die Durchmesserverteilung der in dem bevorzugten Ausführungsbeispiel eingesetzten Partikel in logarithmischer Auftragung dar. Die auf der Abszisse aufgetragenen Partikeldurchmesser sind in einem Bereich von 30 bis 40 µm am stärksten populiert. Aufgrund der Verteilung ergibt sich ein D50 Wert von 27 µm. 3 represents the diameter distribution of the particles used in the preferred embodiment in a logarithmic plot. The particle diameters plotted on the abscissa are most populated in a range of 30 to 40 μm. Due to the distribution results in a D 50 value of 27 microns.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

1 1
Sprühpistole spray gun
2 2
Bearbeitungsbereich editing area
3 3
Wärmestrahlung thermal radiation
10 10
isolierende Schicht insulating layer
11 11
metallische Oberfläche metallic surface
12 12
pulverförmiges Hochtemperaturpolymer powdered high-temperature polymer
13 13
aufgetragenes Hochtemperaturpolymer applied high-temperature polymer
14 14
erste Schicht first shift
30 30
Schaltring switching ring
32 32
Schaltringelement Switching ring element
34 34
Kontaktstelle contact point
36 36
Anschlussteil connector
38 38
Sternpunktring Star point ring
I I
Anordnen einer ersten Schicht Arranging a first layer
II II
Wiederholungsschritt repeat step
Ia/IIa Ia / IIa
erster Schritt first step
Ib/IIb Ib / IIb
zweiter Schritt second step

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Claims (10)

Verfahren zum Auftragen einer elektrisch isolierenden Schicht (10) auf eine metallische Oberfläche (11), wobei in einem ersten Schritt (Ia/IIa) ein pulverförmiges Hochtemperaturpolymer (12) mit einem mittleren Partikeldurchmesser im Bereich von 20 bis 100 µm auf die metallische Oberfläche (11) aufgetragen wird und in einem zweiten Schritt (I b/II b) auf das aufgetragene Hochtemperaturpolymer (13) Wärmestrahlung einwirkt, wobei die metallische Oberfläche geerdet ist, so dass elektrische Ladungen abfließen. Method for applying an electrically insulating layer ( 10 ) on a metallic surface ( 11 ), in a first step ( Ia / IIa ) a high temperature powdered polymer ( 12 ) having an average particle diameter in the range of 20 to 100 μm on the metallic surface ( 11 ) and in a second step ( I b / II b ) on the applied high-temperature polymer ( 13 ) Heat radiation, wherein the metallic surface is grounded, so that electric charges flow off. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das pulverförmige Hochtemperaturpolymer (12) ein Polyimid, insbesondere Polyetherimid oder ein Polyetherketon, insbesondere Polyetherketonketon ist. Process according to claim 1, characterized in that the powdery high-temperature polymer ( 12 ) is a polyimide, in particular polyetherimide or a polyetherketone, in particular polyetherketone ketone. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Partikel des pulverförmigen Hochtemperaturpolymers (12) einen mittleren Durchmesser im Bereich von 20 bis 70 µm, insbesondere im Bereich von 20 bis 45 µm, aufweisen. Method according to one of the preceding claims, characterized in that the particles of the powdery high-temperature polymer ( 12 ) have an average diameter in the range of 20 to 70 .mu.m, in particular in the range of 20 to 45 .mu.m. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest 50% der Partikel des pulverförmigen Hochtemperaturpolymers (12) einen Durchmesser im Bereich von 10 bis 40 µm, insbesondere im Bereich von 20 bis 35 µm, aufweisen. Method according to one of the preceding claims, characterized in that at least 50% of the particles of the powdery high-temperature polymer ( 12 ) have a diameter in the range of 10 to 40 microns, in particular in the range of 20 to 35 microns. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Wärmestrahlung in einem Temperschritt mit elektrischer Erdung im Bereich von 200° bis 400°C, insbesondere im Bereich von 250° bis 350°C auf das aufgetragene Polyimid einwirkt. Method according to one of the preceding claims, characterized in that the heat radiation in an annealing step with electrical grounding in the range of 200 ° to 400 ° C, in particular in the range of 250 ° to 350 ° C acts on the applied polyimide. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die isolierende Schicht (10) eine Schichtdicke im Bereich von 80 bis 200 µm aufweist. Method according to one of the preceding claims, characterized in that the insulating layer ( 10 ) has a layer thickness in the range of 80 to 200 microns. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Schritt (Ia/IIa) und/oder der zweite Schritt (Ib/IIb) wiederholt werden. Method according to one of the preceding claims, characterized in that the first step ( Ia / IIa ) and / or the second step ( ib / IIb ) be repeated. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das im ersten Schritt (Ia/IIa) aufgetragene Hochtemperaturpolymer (12) eine Schichtdicke im Bereich von 30 bis 70 µm, insbesondere im Bereich von 45 bis 55 µm aufweist. Method according to claim 6, characterized in that in the first step ( Ia / IIa ) applied high temperature polymer ( 12 ) has a layer thickness in the range of 30 to 70 .mu.m, in particular in the range of 45 to 55 microns. Elektronisches Bauteil aufweisend einen Schichtstapel (100), umfassend zwei metallische Oberflächen (11), die einander zugewandt angeordnet sind, wobei zur elektrischen Isolation auf den metallischen Oberflächen (11) eine isolierende Schicht (10) angeordnet ist, welche mit dem Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche aufgebracht oder aufbringbar ist. Electronic component comprising a layer stack ( 100 ) comprising two metallic surfaces ( 11 ), which are arranged facing each other, wherein for electrical insulation on the metallic surfaces ( 11 ) an insulating layer ( 10 ), which is applied or can be applied by the method according to one of the preceding claims. Elektronisches Bauteil nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das das Bauteil ein Schaltring (30) oder eine Spule ist. Electronic component according to claim 9, characterized in that the component is a switching ring ( 30 ) or a coil.
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