DE102014224822A1

DE102014224822A1 - MIRROR FOR A LITHOGRAPHIC PLANT, PROJECTION SYSTEM FOR A LITHOGRAPHIC PLANT AND LITHOGRAPHIC PLANT

Info

Publication number: DE102014224822A1
Application number: DE102014224822.1A
Authority: DE
Inventors: Markus Schwab; Reimar Finken; Bernhard Geuppert
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2014-12-04
Filing date: 2014-12-04
Publication date: 2016-06-09
Also published as: JP6683706B2; CN107003620A; JP2017538165A; CN107003620B; WO2016087119A1

Abstract

Es wird ein Spiegel (204) für eine Lithographieanlage (100) offenbart, der einen Spiegelkörper (224) mit einer Oberfläche (226) aufweist. Die Oberfläche umfasst einen optisch aktiven Bereich (220) und einen optisch inaktiven Bereich (222), wobei der optisch inaktive Bereich (222) zumindest teilweise innerhalb des optisch aktiven Bereichs (220) liegt. Der Spiegel (204) weist weiter eine Einrichtung (218) zur Reduzierung von Abbildungsfehlern des Spiegels (204) auf, welche in dem optisch inaktiven Bereich (222) angeordnet ist.A mirror (204) for a lithography system (100) is disclosed, which has a mirror body (224) with a surface (226). The surface comprises an optically active region (220) and an optically inactive region (222), wherein the optically inactive region (222) lies at least partially within the optically active region (220). The mirror (204) further includes means (218) for reducing aberrations of the mirror (204) disposed in the optically inactive region (222).

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Spiegel für eine Lithographieanlage, ein Projektionssystem für eine Lithographieanlage und eine Lithographieanlage.The present invention relates to a mirror for a lithography system, a projection system for a lithography system and a lithography system.

Lithographieanlagen werden beispielsweise bei der Herstellung von integrierten Schaltungen verwendet, um ein Maskenmuster in einer Maske auf ein Substrat, wie z.B. einen Siliziumwafer, abzubilden. Dabei wird das Maskenmuster mit einer Projektionsoptik auf das Substrat abgebildet. Eine solche Projektionsoptik besteht aus mehreren Spiegeln. Bei den Spiegeln kann es zu gegenläufigen Anforderungen an ihre Ausgestaltung (Engl.: design) hinsichtlich der optimalen Ausgestaltung aus optischen Gründen und der optimalen Ausgestaltung aus dynamischen Gründen kommen. Die Projektionsoptik schreibt vor, an welcher Stelle jeder Spiegel positioniert werden muss. Wenn an einer bestimmten Stelle in der Projektionsoptik wenig Platz ist, dann bleibt nur den Spiegel entsprechend dünn auszubilden. Aus dynamischen Gründen kann es aber besser sein, den Spiegel mit einer großen Dicke auszubilden, um die Steifigkeit des Spiegels zu verbessern. Ein mechanisch instabiler Spiegel, z.B. weil er zu dünn ist, kann zu Abbildungsfehlern führen.For example, lithography equipment is used in the manufacture of integrated circuits to apply a mask pattern in a mask to a substrate, such as a substrate. a silicon wafer. In this case, the mask pattern is imaged onto the substrate with projection optics. Such a projection optics consists of several mirrors. In the case of the mirrors, there may be conflicting requirements for their design (English: design) with regard to the optimal design for optical reasons and the optimal design for dynamic reasons. The projection optics dictate where each mirror must be positioned. If there is little space at a certain point in the projection optics, then only the mirror remains thin. For dynamic reasons, however, it may be better to form the mirror with a large thickness to improve the rigidity of the mirror. A mechanically unstable mirror, e.g. because it is too thin can lead to aberrations.

Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, einen Spiegel für eine Lithographieanlage zur Verfügung zu stellen, bei dem Abbildungsfehler reduziert werden können. Insbesondere ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung eine Projektionsoptik und eine Lithographieanlage mit einem solchen Spiegel zur Verfügung zu stellen. Against this background, an object of the present invention is to provide a mirror for a lithography system in which aberrations can be reduced. In particular, it is an object of the present invention to provide a projection optics and a lithography system with such a mirror.

Diese Aufgabe wird durch einen Spiegel für eine Lithographieanlage gelöst, welcher einen Spiegelkörper mit einer Oberfläche aufweist. Die Oberfläche umfasst einen optisch aktiven Bereich und einen optisch inaktiven Bereich, wobei der optisch inaktive Bereich zumindest teilweise innerhalb des optisch aktiven Bereichs liegt. Der Spiegel weist weiter eine Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern des Spiegels auf, welche in dem optisch inaktiven Bereich angeordnet ist.This object is achieved by a mirror for a lithography system, which has a mirror body with a surface. The surface comprises an optically active region and an optically inactive region, wherein the optically inactive region lies at least partially within the optically active region. The mirror further includes means for reducing aberrations of the mirror disposed in the optically inactive region.

Vorteilhafterweise ist eine Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern des Spiegels vorgesehen. D.h. obwohl der Spiegel aufgrund seiner Position im Strahlengang mit einer geringen Dicke ausgeführt sein kann, werden Abbildungsfehler verhindert oder reduziert. Durch die Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern kann der Stabilitätsverlust, der sich aufgrund der geringen Dicke des Spiegels ergeben kann, ausgeglichen werden. Dadurch, dass die Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern des Spiegels in dem optisch inaktiven Bereich angeordnet ist, stört sie den Strahlengang in der Projektionsoptik nicht. Weiter kann eine kompakte Bauweise des Spiegels realisiert werden.Advantageously, a device for reducing aberrations of the mirror is provided. That Although the mirror may be designed with a small thickness due to its position in the beam path, aberrations are prevented or reduced. By the means for reducing aberrations, the loss of stability, which may arise due to the small thickness of the mirror, can be compensated. Because the device for reducing aberrations of the mirror is arranged in the optically inactive region, it does not disturb the beam path in the projection optics. Next, a compact design of the mirror can be realized.

Unter dem optisch aktiven Bereich der Oberfläche des Spiegelkörpers ist der Bereich zu verstehen, an dem eine Reflexion der Strahlung im Betrieb der Lithographieanlage erfolgen kann. Unter dem optisch inaktiven Bereich der Oberfläche des Spiegelkörpers ist der Bereich zu verstehen, auf den aus Gründen der Ausgestaltung der Lithographieanlage, bzw. der Projektionsoptik, keine Strahlung im Betrieb der Lithographieanlage fällt.The optically active region of the surface of the mirror body is to be understood as the region at which a reflection of the radiation during operation of the lithography system can take place. The optically inactive region of the surface of the mirror body is to be understood as meaning the region onto which no radiation falls during operation of the lithography system due to the design of the lithography system or of the projection optics.

Der optisch inaktive Bereich liegt zumindest teilweise innerhalb des optisch aktiven Bereichs. Insbesondere kann der optisch inaktive Bereich vollständig innerhalb des optisch aktiven Bereichs liegen.The optically inactive region lies at least partially within the optically active region. In particular, the optically inactive region can lie completely within the optically active region.

Unter der Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern des Spiegels ist eine Einrichtung zu verstehen, die den Spiegel mechanisch stabilisieren kann oder die den Spiegel thermisch stabilisieren kann. Damit werden Verformungen oder Schwingungen des Spiegels verhindert oder reduziert. Somit kommt es zu keinen Abbildungsfehlern des Spiegels. Die Abbildungsfehler können beispielsweise dadurch ermittelt werden in dem die Abweichung der realen von der idealen Wellenfront gemessen wird. Der Spiegelkörper und/oder die Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern können aus einem keramischen oder glaskeramischen Werkstoff, bspw. ZERODUR^® (Hersteller: Schott AG), welcher bevorzugt einen geringen Ausdehnungskoeffizienten aufweist, hergestellt werden. Des Weiteren kommen als Materialien Siliziumkarbid (Engl.: silicon carbide), reaktionsgebundenes siliziuminfiltriertes Siliziumkarbid (SiSiC) (Engl.: reaction-bound silicon-infiltrated silicon carbide), karbonfaserverstärktes Siliziumkarbid (CSiC) (Engl.: carbon fibre-reinforced silicon carbide), Siliziumnitrid (SiN) (Engl.: silicon nitride) und Titandioxid-Silikat-Glas (Engl.: titania-silicate glass), wie bspw. ULE^®, in Frage. Mögliche Materialien sind auch in der WO 2010/028748 A1 auf den Seiten 16 und 17 angegeben, deren Inhalt vollumfänglich durch Bezugnahme mit einbezogen wird. The device for reducing imaging aberrations of the mirror is to be understood as a device which can mechanically stabilize the mirror or which can thermally stabilize the mirror. This prevents or reduces the deformation or oscillation of the mirror. Thus, there are no aberrations of the mirror. The aberrations can be determined, for example, by measuring the deviation of the real from the ideal wavefront. The mirror body and / or the means for reducing imaging errors may be made of ceramic or glass ceramic material, for example, ZERODUR ^® (manufactured by Schott AG)., Which preferably has a low coefficient of expansion, are prepared. Other materials include silicon carbide, reaction-bonded silicon-infiltrated silicon carbide (SiSiC), carbon-fiber-reinforced silicon carbide (CSiC), carbon-fiber-reinforced silicon carbide (CSiC), or reaction-bonded silicon-infiltrated silicon carbide. , Silicon nitride (SiN) (Engl .: silicon nitride) and titanium dioxide-silicate glass (Engl .: titania-silicate glass), such as ULE ^® , in question. Possible materials are also in the WO 2010/028748 A1 on pages 16 and 17, the contents of which are incorporated by reference in their entirety.

Der beschriebene Spiegel ist prinzipiell für elektromagnetische Strahlung jeder Wellenlänge geeignet. Insbesondere ist der Spiegel für den EUV-(Engl.: extreme ultraviolet) und DUV-(Engl.: deep ultraviolet)Bereich geeignet. Dabei bezeichnet der EUV-Bereich einen Wellenlängenbereich zwischen 0,1 und 30 nm und der DUV-Bereich einen Wellenlängenbereich zwischen 30 und 200 nm.The mirror described is suitable in principle for electromagnetic radiation of any wavelength. In particular, the mirror is suitable for the EUV (extreme ultraviolet) and DUV (deep ultraviolet) ranges. In this case, the EUV range denotes a wavelength range between 0.1 and 30 nm and the DUV range a wavelength range between 30 and 200 nm.

Gemäß einer Ausführungsform des Spiegels weist der optisch aktive Bereich eine geschliffene Fläche und/oder eine Spiegelbeschichtung auf. Vorteilhafterweise kann damit Strahlung der gewünschten Wellenlänge mit dem Spiegel reflektiert werden.According to one embodiment of the mirror, the optically active region has a ground surface and / or a mirror coating. Advantageously, therefore, radiation of the desired wavelength can be reflected with the mirror.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels ist der optisch inaktive Bereich vollständig innerhalb und/oder in der Mitte des optisch aktiven Bereichs angeordnet. Vorteilhafterweise kann die Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern, die in dem optisch inaktiven Bereich angeordnet ist, dann ebenfalls vollständig innerhalb und/oder in der Mitte des optisch aktiven Bereichs angeordnet werden. According to a further embodiment of the mirror, the optically inactive region is arranged completely inside and / or in the middle of the optically active region. Advantageously, the device for reducing aberrations arranged in the optically inactive region can then likewise be arranged completely inside and / or in the middle of the optically active region.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist der Spiegel ein Volumen über dem optisch aktiven und optisch inaktiven Bereich auf und ragt die Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern in ein optisch nicht genutztes Teilvolumen des Volumens. Dadurch, dass die Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern in ein optisch nicht genutztes Teilvolumen ragt, kann die Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern eine entsprechende räumliche Ausdehnung aufweisen. Die Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern benötigt die räumliche Ausdehnung, um Einrichtungen aufweisen zu können, die zur mechanischen oder thermischen Stabilisierung dienen.According to a further embodiment of the mirror, the mirror has a volume above the optically active and optically inactive region and projects the device for reducing aberrations into an optically unused partial volume of the volume. By virtue of the fact that the device for reducing aberrations projects into an optically unused partial volume, the device for reducing aberrations may have a corresponding spatial extent. The device for reducing aberrations requires the spatial extent in order to have facilities that serve for mechanical or thermal stabilization.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels ist das optisch nicht genutzte Teilvolumen spitz zulaufend und/oder kegelstumpfförmig und/oder besitzt eine ovale Grundfläche. Das optisch nicht genutzte Teilvolumen kann prinzipiell eine beliebige Form aufweisen, wobei die Entstehung des optisch nicht genutzten Teilvolumens durch eine Blende im Strahlengang zu berücksichtigen ist. According to a further embodiment of the mirror, the optically unused partial volume is tapered and / or frusto-conical and / or has an oval base. The optically unused partial volume can in principle have any shape, wherein the formation of the optically unused partial volume by a diaphragm in the beam path is to be considered.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist die Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern eine Einrichtung zur mechanischen Stabilisierung auf. Je nachdem wo ein Spiegel in der Lithographieanlage bzw. der Projektionsoptik angeordnet ist, kann der Spiegel möglicherweise nur mit einer geringen Dicke ausgeführt werden, weil an der entsprechenden Stelle in der Lithographieanlage bzw. der Projektionsoptik kein Platz für einen Spiegel mit einer größeren Dicke ist. Ein Spiegel mit einer geringen Dicke besitzt eine geringere mechanische Stabilität als ein Spiegel mit einer großen Dicke. Mit der Einrichtung zur mechanischen Stabilisierung kann die mechanische Stabilität des Spiegels erhöht werden, so dass auch ein Spiegel mit einer geringen Dicke mechanisch stabil sein kann. According to a further embodiment of the mirror, the device for reducing aberrations has a device for mechanical stabilization. Depending on where a mirror is arranged in the lithographic system or the projection optics, the mirror may possibly only be implemented with a small thickness, because there is no room for a mirror with a greater thickness at the corresponding location in the lithography system or the projection optics. A mirror with a small thickness has a lower mechanical stability than a mirror with a large thickness. With the device for mechanical stabilization, the mechanical stability of the mirror can be increased, so that even a mirror with a small thickness can be mechanically stable.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist die Einrichtung zur mechanischen Stabilisierung einen Schwingungsdämpfer auf. Mit einem Schwingungsdämpfer können mögliche Schwingungen des Spiegels aktiv oder passiv gedämpft werden.According to a further embodiment of the mirror, the device for mechanical stabilization has a vibration damper. With a vibration damper possible vibrations of the mirror can be actively or passively damped.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist die Einrichtung zur mechanischen Stabilisierung einen Tilger auf. Der Tilger besitzt eine Tilgermasse und eine Tilgerfeder. Die Tilgermasse bildet zusammen mit der Tilgerfeder ein Pendel, dessen Eigenfrequenz auf die zu eliminierende Schwingfrequenz, d.h. eine mögliche Schwingung des Spiegels, eingestellt wird. Der Tilger entzieht dem Spiegel bei dieser Frequenz Schwingungsenergie für seine eigenen Schwingbewegungen. Ein oder mehrere Tilger werden demnach bevorzugt eingesetzt, um Schwingungen des Spiegels bei einer bestimmten Frequenz oder bei mehreren bestimmten Frequenzen zu dämpfen.According to a further embodiment of the mirror, the device for mechanical stabilization on a absorber. The absorber has an absorber mass and a Tilgerfeder. The absorber mass together with the Tilgerfeder a pendulum, the natural frequency of which is to be eliminated oscillation frequency, i. a possible oscillation of the mirror, is set. The absorber deprives the mirror at this frequency vibrational energy for its own oscillatory movements. One or more absorbers are therefore preferably used to dampen vibrations of the mirror at a certain frequency or at several specific frequencies.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist der Spiegel Streben auf, die einerseits mit der Einrichtung zur mechanischen Stabilisierung und andererseits mit dem Spiegelkörper verbunden sind. Vorteilhafterweise lässt sich mit der Einrichtung zur mechanischen Stabilisierung und den Streben die Steifigkeit des Spiegels erhöhen. Verformungen und/oder Schwingungen des Spiegels werden dadurch reduziert. Weiter können dadurch auch Spiegel mit einer geringen Dicke eingesetzt werden. Die Streben werden jeweils an der Einrichtung zur mechanischen Stabilisierung und am Spiegelkörper befestigt, wobei die Streben je nach ihrer Ausgestaltung auf Zug und Druck belastet werden können. Die Streben können als steife unbiegsame Elemente ausgebildet sein. In diesem Fall kann eine Druck- und Zugbelastung der Streben erfolgen. Die Streben können aber auch als eine Art Seil, Draht oder Kabel ausgeführt sein. In diesem Fall kann lediglich eine Zugbelastung der Streben erfolgen.According to a further embodiment of the mirror, the mirror has struts, which are connected on the one hand to the device for mechanical stabilization and on the other hand to the mirror body. Advantageously, the rigidity of the mirror can be increased with the device for mechanical stabilization and the struts. Deformations and / or oscillations of the mirror are thereby reduced. Furthermore, it is also possible to use mirrors with a small thickness. The struts are each attached to the mechanical stabilization device and the mirror body, wherein the struts can be loaded depending on their design to train and pressure. The struts can be designed as rigid inflexible elements. In this case, a compressive and tensile loading of the struts can take place. The struts can also be designed as a kind of rope, wire or cable. In this case, only a tensile load of the struts can take place.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels erstreckt sich eine jeweilige Strebe teilweise durch ein optisch genutztes Teilvolumen des Volumens. Die Streben können aus dem optisch nicht genutzten Teilvolumen herausragen. In diesem Fall sind die Streben so ausgebildet, dass sie den Strahlengang in der Lithographieanlage bzw. die optische Abbildung der Projektionsoptik möglichst nicht stören. Deswegen können die Streben dünn ausgebildet sein.According to a further embodiment of the mirror, a respective strut extends partially through an optically utilized partial volume of the volume. The struts can protrude from the optically unused partial volume. In this case, the struts are designed so that they do not disturb the beam path in the lithographic system or the optical image of the projection optics as possible. Therefore, the struts can be made thin.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist jede der Streben ein erstes Ende und ein zweites Ende auf, wobei die Streben mit ihren ersten Enden an einer vom Spiegelkörper entfernt gelegenen Stelle der Einrichtung zur mechanischen Stabilisierung befestigt sind, und wobei die Streben mit ihren zweiten Enden an einem Rand des Spiegels befestigt sind. Auf diese Weise können die Streben vorteilhaft befestigt werden, um für eine Versteifung und damit für eine Stabilisierung des Spiegels zu sorgen. Die Streben werden am ersten Ende bevorzugt an einer Spitze oder an einem oberen Teil der Einrichtung zur mechanischen Stabilisierung befestigt. Am zweiten Ende werden die Streben am Rand des Spiegels, bevorzugt außerhalb des optisch aktiven Bereichs, befestigt. Auf diese Weise kann eine Spannung zwischen dem Rand des Spiegels und der Spitze der Einrichtung zur mechanischen Stabilisierung erzeugt werden. Diese Spannung kann zur Versteifung des Spiegels und damit zur Stabilität des Spiegels beitragen. According to a further embodiment of the mirror, each of the struts has a first end and a second end, the struts having their first ends fixed to a location of the mechanical stabilization device remote from the mirror body, and the struts having their second ends attached to one edge of the mirror. In this way, the struts can be advantageously attached to provide a stiffening and thus for a stabilization of the mirror. The struts are preferably secured to a tip or upper part of the mechanical stabilization device at the first end. At the second end, the struts are attached to the edge of the mirror, preferably outside the optically active region. In this way, a voltage can be generated between the edge of the mirror and the tip of the mechanical stabilization device. This tension can contribute to the stiffening of the mirror and thus to the stability of the mirror.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels sind die Streben zum Ausgleichen von Abbildungsfehlern aktiv betätigbar. Insbesondere können die Streben gespannt werden. Durch eine Zug- und/oder Druckbelastung einzelner Streben kann der Spiegel verformt werden. Solche Verformungen des Spiegels können zum Ausgleich von Abbildungsfehlern verwendet werden.According to a further embodiment of the mirror, the struts for compensating imaging aberrations are actively actuated. In particular, the struts can be stretched. By a tensile and / or compressive load of individual struts, the mirror can be deformed. Such deformations of the mirror can be used to compensate for aberrations.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels sind die Streben für das aktive Betätigen derselben an ihren zweiten Enden über Aktoren mit dem Rand des Spiegels verbunden. Vorteilhafterweise können die Streben mittels der Aktoren betätigt werden. Dadurch können die Streben eine Zug- und/oder Druckkraft ausüben.According to a further embodiment of the mirror, the struts for actively actuating the same at their second ends are connected via actuators to the edge of the mirror. Advantageously, the struts can be actuated by means of the actuators. This allows the struts exercise a tensile and / or compressive force.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist der Spiegel Stützpfeiler auf, die einerseits mit der Einrichtung zur mechanischen Stabilisierung und andererseits mit dem Spiegelkörper im optisch aktiven Bereich oder im optisch inaktiven Bereich verbunden sind.According to a further embodiment of the mirror, the mirror has supporting pillars, which are connected on the one hand to the device for mechanical stabilization and on the other hand to the mirror body in the optically active region or in the optically inactive region.

Die Stützpfeiler sind zusätzliche Elemente, um die Einrichtung zur mechanischen Stabilisierung und den Spiegel zu stabilisieren. Dabei werden die Stützpfeiler mit dem einen Ende an der Einrichtung zur mechanischen Stabilisierung und mit dem anderen Ende am Spiegelkörper befestigt, wobei die Befestigung am Spiegelkörper im optisch aktiven Bereich oder im optisch inaktiven Bereich erfolgen kann.The buttresses are additional elements to stabilize the mechanical stabilization device and the mirror. In this case, the supporting pillars are fastened with one end to the device for mechanical stabilization and with the other end to the mirror body, wherein the attachment to the mirror body in the optically active region or in the optically inactive region can take place.

Die Stützpfeiler können aus dem optisch nicht genutzten Teilvolumen herausragen. In diesem Fall sind die Stützpfeiler so ausgebildet, dass sie den Strahlengang in der Lithographieanlage bzw. die optische Abbildung der Projektionsoptik nicht stören.The pillars can protrude from the visually unused partial volume. In this case, the pillars are designed so that they do not interfere with the beam path in the lithographic system or the optical imaging of the projection optics.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist ein Bereich des Spiegelkörpers unterhalb des optisch inaktiven Bereichs ein anderes Material auf als ein benachbarter Bereich des Spiegelkörpers. Vorteilhafterweise kann damit die Stabilität des Spiegels erhöht werden.According to a further embodiment of the mirror, a region of the mirror body below the optically inactive region has a different material than an adjacent region of the mirror body. Advantageously, thus the stability of the mirror can be increased.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist der Spiegel eine Einrichtung zur Temperierung des Spiegelkörpers auf. Dadurch, dass der Spiegel eine Einrichtung zur Temperierung des Spiegelkörpers aufweist, können thermisch bedingte Verformungen und/oder Instabilitäten des Spiegels vermieden bzw. verringert werden. Die Temperatur des Spiegels kann durch die Einrichtung zur Temperierung des Spiegelkörpers konstant gehalten werden bzw. näherungsweise konstant gehalten werden. Der Spiegel kann durch die Einrichtung zur Temperierung des Spiegelkörpers gekühlt oder geheizt werden.According to a further embodiment of the mirror, the mirror has a device for tempering the mirror body. Because the mirror has a device for tempering the mirror body, thermally induced deformations and / or instabilities of the mirror can be avoided or reduced. The temperature of the mirror can be kept constant or kept approximately constant by the means for controlling the temperature of the mirror body. The mirror can be cooled or heated by the means for controlling the temperature of the mirror body.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist die Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern die Einrichtung zur Temperierung des Spiegelkörpers auf. Vorteilhafterweise kann der optisch inaktive Bereich dadurch sinnvoll genutzt werden.According to a further embodiment of the mirror, the device for reducing imaging aberrations has the device for tempering the mirror body. Advantageously, the optically inactive region can be usefully used.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels ist die Einrichtung zur Temperierung des Spiegelkörpers im Spiegelkörper vorgesehen, insbesondere unterhalb der Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern. Vorteilhafterweise befindet sich die Einrichtung zur Temperierung des Spiegelkörpers dann bereits in dem Element, d.h. im Spiegelkörper, dessen Temperatur möglichst konstant gehalten werden soll.According to a further embodiment of the mirror, the device for tempering the mirror body is provided in the mirror body, in particular below the device for reducing aberrations. Advantageously, the means for controlling the temperature of the mirror body is then already in the element, i. in the mirror body whose temperature should be kept as constant as possible.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels weist die Einrichtung zur Temperierung des Spiegelkörpers mehrere Heizelemente auf. Dadurch, dass mehrere Heizelemente verwendet werden, ist eine möglichst homogene und konstante Temperaturverteilung gewährleistet.According to a further embodiment of the mirror, the device for controlling the temperature of the mirror body has a plurality of heating elements. The fact that several heating elements are used, a homogeneous and constant temperature distribution is guaranteed.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels sind die Heizelemente über den Spiegelkörper und/oder über die Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern verteilt. Vorteilhafterweise können die Heizelemente verteilt angeordnet werden. Bei den Heizelementen in der Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern kann es sich um Heizstrahler handeln, die den optisch aktiven Bereich des Spiegelkörpers bestrahlen.According to a further embodiment of the mirror, the heating elements are distributed over the mirror body and / or via the device for reducing aberrations. Advantageously, the heating elements can be arranged distributed. The heating elements in the device for reducing imaging aberrations may be radiant heaters which irradiate the optically active region of the mirror body.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels ist die Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern kegelförmig. Vorteilhafterweise passt die Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern dann gut in das optisch nicht genutzte Teilvolumen.According to a further embodiment of the mirror, the device for reducing aberrations is conical. Advantageously, the device for reducing aberrations then fits well into the optically unused partial volume.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels ist der Spiegelkörper im Bereich des optisch aktiven Bereichs konvex oder konkav.According to a further embodiment of the mirror, the mirror body is convex or concave in the region of the optically active region.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Spiegels ist die Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern einstückig ausgebildet.According to a further embodiment of the mirror, the device for reducing aberrations is integrally formed.

Weiter wird ein Projektionssystem für eine Lithographieanlage mit einem Spiegel, wie beschrieben, vorgeschlagen.Furthermore, a projection system for a lithography system with a mirror, as described, is proposed.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Projektionssystems umfasst dieses eine Blende, welche in einem Strahlengang des Projektionssystems angeordnet ist und dazu eingerichtet ist, den optisch inaktiven Bereich auf der Oberfläche des Spiegelkörpers und das optisch nicht genutzte Teilvolumen über dem optisch aktiven und optisch inaktiven Bereich zu erzeugen. Vorteilhafterweise erzeugt die Blende den optisch inaktiven Bereich und das optisch nicht genutzte Teilvolumen und ermöglicht damit die Anordnung der Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern im genannten Bereich und im genannten Teilvolumen. According to a further embodiment of the projection system, this comprises a diaphragm which is arranged in a beam path of the projection system and is adapted to generate the optically inactive region on the surface of the mirror body and the optically unused partial volume over the optically active and optically inactive region. Advantageously, the diaphragm generates the optically inactive region and the optically unused partial volume and thus makes possible the arrangement of the device for reducing imaging aberrations in said region and in said partial volume.

Weiter wird eine Lithographieanlage mit einem Spiegel, wie beschrieben, oder mit einem Projektionssystem, wie beschrieben, vorgeschlagen.Further, a lithography apparatus having a mirror as described or a projection system as described is proposed.

Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmale oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.Further possible implementations of the invention also include not explicitly mentioned combinations of features or embodiments described above or below with regard to the exemplary embodiments. The skilled person will also add individual aspects as improvements or additions to the respective basic form of the invention.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.Further advantageous embodiments and aspects of the invention are the subject of the dependent claims and the embodiments of the invention described below. Furthermore, the invention will be explained in more detail by means of preferred embodiments with reference to the attached figures.

1 zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage; 1 shows a schematic view of an EUV lithography system;

2 zeigt eine schematische Ansicht eines vorletzten Spiegels gemäß eines Ausführungsbeispiels in einem Teil einer Projektionsoptik; 2 shows a schematic view of a penultimate mirror according to an embodiment in a part of a projection optics;

3 zeigt eine Projektionsoptikpupille; 3 shows a projection optic pupil;

4 zeigt eine Draufsicht auf den vorletzten Spiegel aus 2; 4 shows a plan view of the penultimate mirror 2 ;

5 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines vorletzten Spiegels; 5 shows a further embodiment of a penultimate mirror;

6 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines vorletzten Spiegels; und 6 shows a further embodiment of a penultimate mirror; and

7 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines vorletzten Spiegels. 7 shows a further embodiment of a penultimate mirror.

Falls nichts anderes angegeben ist, bezeichnen gleiche Bezugszeichen in den Figuren gleiche oder funktionsgleiche Elemente. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.Unless otherwise indicated, like reference numerals in the figures denote like or functionally identical elements. It should also be noted that the illustrations in the figures are not necessarily to scale.

1 zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage 100, welche ein Strahlformungssystem 102, ein Beleuchtungssystem 104 und ein Projektionssystem 106 umfasst. Das Strahlformungssystem 102, das Beleuchtungssystem 104 und das Projektionssystem 106 sind jeweils in einem Vakuum-Gehäuse vorgesehen, welches mit Hilfe einer nicht näher dargestellten Evakuierungsvorrichtung evakuiert wird. Die Vakuum-Gehäuse sind von einem nicht näher dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem die Antriebsvorrichtungen zum mechanischen Verfahren bzw. Einstellen der optischen Elemente vorgesehen sind. Ferner können auch elektrische Steuerungen und dergleichen in diesem Maschinenraum vorgesehen sein. 1 shows a schematic view of an EUV lithography system 100 which is a beam-forming system 102 , a lighting system 104 and a projection system 106 includes. The beam-forming system 102 , the lighting system 104 and the projection system 106 are each provided in a vacuum housing, which is evacuated by means of an evacuation device, not shown. The vacuum housings are surrounded by a machine room, not shown, in which the drive devices are provided for the mechanical method or adjustment of the optical elements. Furthermore, electrical controls and the like may be provided in this engine room.

Das Strahlformungssystem 102 weist eine EUV-Lichtquelle 108, einen Kollimator 110 und einen Monochromator 112 auf. Als EUV-Lichtquelle 108 kann beispielsweise eine Plasmaquelle oder ein Synchrotron vorgesehen sein, welche Strahlung im EUV-Bereich (extrem ultravioletten Bereich), also z.B. im Wellenlängenbereich von 5 nm bis 20 nm aussenden. Die von der EUV-Lichtquelle 108 austretende Strahlung wird zunächst durch den Kollimator 110 gebündelt, wonach durch den Monochromator 112 die gewünschte Betriebswellenlänge herausgefiltert wird. Somit passt das Strahlformungssystem 102 die Wellenlänge und die räumliche Verteilung des von der EUV-Lichtquelle 108 abgestrahlten Lichts an. Die von der EUV-Lichtquelle 108 erzeugte EUV-Strahlung 114 weist eine relativ niedrige Transmittivität durch Luft auf, weshalb die Strahlführungsräume im Strahlformungssystem 102, im Beleuchtungssystem 104 und im Projektionssystem 106 evakuiert sind.The beam-forming system 102 has an EUV light source 108 , a collimator 110 and a monochromator 112 on. As an EUV light source 108 For example, a plasma source or a synchrotron can be provided which emit radiation in the EUV range (extreme ultraviolet range), ie, for example, in the wavelength range from 5 nm to 20 nm. The from the EUV light source 108 Exiting radiation is first through the collimator 110 bundled, after which by the monochromator 112 the desired operating wavelength is filtered out. Thus, the beam shaping system fits 102 the wavelength and spatial distribution of the EUV light source 108 emitted light. The from the EUV light source 108 generated EUV radiation 114 has a relatively low transmissivity by air, which is why the beam guiding spaces in the beam-forming system 102 , in the lighting system 104 and in the projection system 106 are evacuated.

Das Beleuchtungssystem 104 weist im dargestellten Beispiel einen ersten Spiegel 116 und einen zweiten Spiegel 118 auf. Diese Spiegel 116, 118 können beispielsweise als Facettenspiegel zur Pupillenformung ausgebildet sein und leiten die EUV-Strahlung 114 auf eine Photomaske 120. The lighting system 104 has a first mirror in the example shown 116 and a second mirror 118 on. These mirrors 116 . 118 For example, they can be designed as facet mirrors for pupil shaping and guide the EUV radiation 114 on a photomask 120 ,

Die Photomaske 120 ist ebenfalls als reflektives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104, 106 angeordnet sein. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 106 verkleinert auf einen Wafer 122 oder dergleichen abgebildet wird. Hierzu weist das Projektionssystem 106 im Strahlführungsraum beispielsweise einen dritten Spiegel 124 und einen vierten Spiegel 126 auf. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Spiegel der EUV-Lithographieanlage 100 nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist, und es können auch mehr oder weniger Spiegel vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel i.d.R. an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.The photomask 120 is also designed as a reflective optical element and can be outside the systems 102 . 104 . 106 be arranged. The photomask 120 has a structure which, by means of the projection system 106 reduced to a wafer 122 or the like is mapped. For this purpose, the projection system 106 in the beam guiding room, for example, a third mirror 124 and a fourth mirror 126 on. It should be noted that the number of mirrors of the EUV lithography system 100 is not limited to the number shown, and it may also be provided more or less mirror. Furthermore, the Mirror usually curved at its front for beam shaping.

Die Projektionsoptik im Projektionssystem 106 ist mit den beiden Spiegeln 124, 126 extrem vereinfacht dargestellt. Die Projektionsoptik weist bevorzugt mehrere Spiegel auf. 2 zeigt einen Teilbereich 200 einer Projektionsoptik mit mehreren Spiegeln. The projection optics in the projection system 106 is with the two mirrors 124 . 126 shown extremely simplified. The projection optics preferably has a plurality of mirrors. 2 shows a section 200 a projection optics with multiple mirrors.

Genauer zeigt 2 die beiden letzten Spiegel 202, 204 einer Projektionsoptik. Zu sehen ist der letzte Spiegel 202 der Projektionsoptik und der vorletzte Spiegel 204 der Projektionsoptik. Der vorletzte Spiegel 204 der Projektionsoptik kann eine ovale Form aufweisen. Der letzte Spiegel 202 der Projektionsoptik weist eine Öffnung 206 auf, durch die die Strahlung die beiden letzten Spiegel 202, 204 erreicht. Der Strahlengang wird anhand des Verlaufs eines ersten Strahls 208 und eines zweiten Strahls 210 beschrieben, nachdem diese die Öffnung 206 des letzten Spiegels 202 passiert haben. Die Pfeilmarkierungen 212 in 2 markieren den Verlauf der Strahlung. Der erste Strahl 208 trifft auf einen optisch aktiven Bereich 220 auf der linken Seite 214 des vorletzten Spiegels 204 und wird dort in Richtung auf den letzten Spiegel 202 reflektiert. Danach wird der erste Strahl 208 am letzten Spiegel 202 in Richtung auf den Wafer 122 reflektiert. Der zweite Strahl 210 trifft auf einen optisch aktiven Bereich 220 auf der rechten Seite 216 des vorletzten Spiegels 204 und wird dort in Richtung auf den letzten Spiegel 202 reflektiert. Danach wird der zweite Strahl 210 am letzten Spiegel 202 in Richtung auf den Wafer 122 reflektiert. Auf den Wafer 122 wird das Bild der Photomaske 120 abgebildet.Exactly shows 2 the last two mirrors 202 . 204 a projection optics. You can see the last mirror 202 the projection optics and the penultimate mirror 204 the projection optics. The penultimate mirror 204 The projection optics may have an oval shape. The last mirror 202 the projection optics has an opening 206 on, through which the radiation is the last two mirrors 202 . 204 reached. The beam path is based on the course of a first beam 208 and a second beam 210 described after this the opening 206 the last mirror 202 have happened. The arrow marks 212 in 2 mark the course of the radiation. The first ray 208 meets an optically active area 220 on the left 214 the penultimate mirror 204 and gets there in the direction of the last mirror 202 reflected. After that, the first beam 208 at the last mirror 202 towards the wafer 122 reflected. The second ray 210 meets an optically active area 220 On the right side 216 the penultimate mirror 204 and gets there in the direction of the last mirror 202 reflected. After that, the second beam 210 at the last mirror 202 towards the wafer 122 reflected. On the wafer 122 becomes the picture of the photomask 120 displayed.

Der vorletzte Spiegel 204 kann nah an einer Projektionsoptikpupille 300 angeordnet sein. Die Projektionsoptikpupille 300 ist in 3 dargestellt. Die Projektionsoptik hat in einer Pupillenebene eine zentriert angeordnete Obskurationsblende 302. Hierdurch werden die der Öffnung 206 des letzten Spiegels 202 zugeordneten zentralen Stahlen des Projektionsstrahlengangs obskuriert, d.h. ausgeblendet. Der erste Strahl 208 und der zweite Strahl 210 sind Strahlen aus dem Bereich der optisch genutzten Fläche 304.The penultimate mirror 204 can close to a projection optics pupil 300 be arranged. The projection optics pupil 300 is in 3 shown. The projection optics has a centered obscuration diaphragm in a pupil plane 302 , This will be the opening 206 the last mirror 202 obscured assigned central beams of the projection beam path, ie hidden. The first ray 208 and the second beam 210 are rays from the area of the optically used area 304 ,

Dadurch, dass der vorletzte Spiegel 204 nah an der Projektionsoptikpupille 300 angeordnet ist, überträgt sich eine Obskuration durch die Obskurationsblende 302 in der Projektionsoptikpupille 300 auch auf den vorletzten Spiegel 204. Der vorletzte Spiegel 204 weist einen Spiegelkörper 224 und eine Oberfläche 226 auf. Aufgrund der Obskuration entsteht ein optisch inaktiver Bereich 222 auf der Oberfläche 226 des vorletzten Spiegels 204. Über dem optisch aktiven Bereich 220 und dem optisch inaktiven Bereich 222 befindet sich ein Luftraum, d.h. ein Volumen 228. Aufgrund der Obskuration entsteht ein optisch nicht genutztes Teilvolumen 230. Das optisch nicht genutzte Teilvolumen 230 befindet sich bevorzugt über dem optisch inaktiven Bereich 222. Das optisch nicht genutzte Teilvolumen 230 kann aber auch teilweise oberhalb eines Teils des optisch aktiven Bereichs 220 liegen. Because of the penultimate mirror 204 close to the projection optic pupil 300 is placed, an obscuration is transmitted through the obscuration 302 in the projection optics pupil 300 also on the penultimate mirror 204 , The penultimate mirror 204 has a mirror body 224 and a surface 226 on. Due to the obscuration creates an optically inactive area 222 on the surface 226 the penultimate mirror 204 , Above the optically active area 220 and the optically inactive region 222 there is an airspace, ie a volume 228 , Due to the obscuration creates a visually unused partial volume 230 , The visually unused partial volume 230 is preferably above the optically inactive region 222 , The visually unused partial volume 230 but may also be partially above a portion of the optically active region 220 lie.

Der optisch inaktive Bereich 222 und das optisch nicht genutzte Teilvolumen 230 können zur Stabilisierung des vorletzten Spiegels 204 verwendet werden. In dem optisch inaktiven Bereich 222 kann demnach die in 2 dargestellte Einrichtung 218 zur Reduzierung von Abbildungsfehlern angeordnet werden. Dabei ragt die Einrichtung 218 zur Reduzierung von Abbildungsfehlern in das optisch nicht genutzte Teilvolumen 230.The optically inactive area 222 and the optically unused partial volume 230 can help stabilize the penultimate mirror 204 be used. In the optically inactive area 222 can therefore the in 2 illustrated device 218 be arranged to reduce aberrations. The device stands out 218 to reduce aberrations in the optically unused partial volume 230 ,

Das optisch nicht genutzte Teilvolumen 230 kann in Richtung des letzten Spiegels 202 spitz zulaufen. Weiter können das optisch nicht genutzte Teilvolumen 230 sowie die Einrichtung 218 zur Reduzierung von Abbildungsfehlern kegelförmig sein. Sowohl die Grundfläche des optisch nicht genutzten Teilvolumens 230 als auch der optisch inaktive Bereich 222 können oval sein.The visually unused partial volume 230 may be in the direction of the last mirror 202 tapering. Next, the optically unused partial volume 230 as well as the decor 218 be conical to reduce aberrations. Both the footprint of the optically unused partial volume 230 as well as the optically inactive area 222 can be oval.

Der vorletzte Spiegel 204 kann aufgrund seiner Position in der Projektionsoptik nur eine geringe Dicke aufweisen. Dies macht den vorletzten Spiegel 204 instabil und anfällig für Schwingungen. Die Einrichtung 218 zur Reduzierung von Abbildungsfehlern weist daher eine Einrichtung 232 zur mechanischen Stabilisierung auf. D.h. obwohl der vorletzte Spiegel 204 aufgrund seiner Position im Strahlengang mit einer geringen Dicke ausgeführt ist, können Abbildungsfehler verhindert werden. Dadurch, dass die Einrichtung 218 zur Reduzierung von Abbildungsfehlern sowie die Einrichtung 232 zur mechanischen Stabilisierung in dem optisch inaktiven Bereich angeordnet sind, stören sie den Strahlengang in der Projektionsoptik nicht.The penultimate mirror 204 can only have a small thickness due to its position in the projection optics. This makes the penultimate mirror 204 unstable and susceptible to vibrations. The device 218 to reduce aberrations therefore has a device 232 for mechanical stabilization. That is, although the penultimate mirror 204 due to its position in the beam path is made with a small thickness, aberrations can be prevented. By doing that, the device 218 to reduce aberrations and the device 232 are arranged for mechanical stabilization in the optically inactive region, they do not disturb the beam path in the projection optics.

Die Einrichtung 232 zur mechanischen Stabilisierung kann einen Tilger aufweisen. Ein solcher Tilger umfasst eine Tilgermasse und eine Tilgerfeder. Tilger-masse und Tilgerfeder bilden zusammen ein Pendel. Die Eigenfrequenz des Pendels ist auf die zu eliminierende Schwingfrequenz des vorletzten Spiegels 204 eingestellt. Auf diese Weise entzieht der Tilger dem vorletzten Spiegel 204 Schwingungsenergie für seine eigenen Schwingbewegungen. Es können ein oder mehrere Tilger verwendet werden. Bevorzugt wird ein Tilger bei einer bestimmten Frequenz eingesetzt. Sind mehrere Schwingfrequenzen zu eliminieren, dann werden bevorzugt mehrere Tilger eingesetzt.The device 232 for mechanical stabilization may have a Tilger. Such a damper comprises a damper mass and a Tilgerfeder. Tilger-mass and Tilgerfeder together form a pendulum. The natural frequency of the pendulum is to be eliminated oscillation frequency of the penultimate mirror 204 set. In this way, the absorber withdraws from the penultimate mirror 204 Vibration energy for his own swinging movements. One or more absorbers can be used. Preferably, a damper is used at a certain frequency. If several vibration frequencies are to be eliminated, then preferably several absorbers are used.

Alternativ kann die Einrichtung 232 zur mechanischen Stabilisierung statt dem Tilger oder zusätzlich zu dem Tilger einen beliebigen anderen Schwingungsdämpfer aufweisen. Ein solcher Schwingungsdämpfer kann mögliche Schwingungen des Spiegels aktiv oder passiv dämpfen.Alternatively, the device 232 for mechanical stabilization instead of the absorber or in addition to the absorber have any other vibration damper. Such a vibration damper can actively or passively dampen possible oscillations of the mirror.

4 zeigt eine Draufsicht auf den vorletzten Spiegel 204 der Projektionsoptik aus 2. Dargestellt sind der optisch aktive Bereich 220 und der optisch inaktive Bereich 222. Der optisch inaktive Bereich 222 befindet sich innerhalb des optisch aktiven Bereichs 220. Innerhalb des optisch inaktiven Bereichs 222 ist die Einrichtung 218 zur Reduzierung von Abbildungsfehlern, die ihrerseits die Einrichtung 232 zur mechanischen Stabilisierung aufweist, angeordnet. Außerhalb des optisch aktiven Bereichs 220 ist der Rand 400 des Spiegelkörpers 224, d.h. des vorletzten Spiegels 204, zu sehen. Neben dem vorletzten Spiegel 204 ist der Wafer 122 zu sehen. 4 shows a plan view of the penultimate mirror 204 the projection optics 2 , Shown are the optically active region 220 and the optically inactive area 222 , The optically inactive area 222 is inside the optically active area 220 , Within the optically inactive area 222 is the device 218 to reduce aberrations, which in turn cause the device 232 for mechanical stabilization, arranged. Outside the optically active area 220 is the edge 400 of the mirror body 224 , ie the penultimate mirror 204 to see. Next to the penultimate mirror 204 is the wafer 122 to see.

Der optisch aktive Bereich 220 des vorletzten Spiegels 204 kann eine geschliffene Fläche aufweisen. Zusätzlich oder stattdessen kann der optisch aktive Bereich 220 eine Spiegelbeschichtung aufweisen. In jedem Fall ist der optisch aktive Bereich 220 dazu geeignet, die Strahlung bei der verwendeten Wellenlänge zu reflektieren. The optically active area 220 the penultimate mirror 204 may have a ground surface. In addition, or instead, the optically active region 220 have a mirror coating. In any case, the optically active region 220 suitable for reflecting the radiation at the wavelength used.

Der optisch inaktive Bereich 222 kann, wie in 4 zu sehen, genau in der Mitte des optisch aktiven Bereichs 220 vorgesehen sein. Der optisch inaktive Bereich 222 kann aber auch dezentral im optisch aktiven Bereich 220 vorgesehen sein. Der optisch inaktive Bereich 222 liegt zumindest teilweise innerhalb des optisch aktiven Bereichs 220. The optically inactive area 222 can, as in 4 to see exactly in the middle of the optically active area 220 be provided. The optically inactive area 222 but can also be decentralized in the optically active range 220 be provided. The optically inactive area 222 lies at least partially within the optically active region 220 ,

Der in 2 dargestellt Spiegelkörper 224 des vorletzten Spiegels 204 ist im optisch aktiven Bereich 220 konvex ausgebildet. Alternativ kann der vorletzte Spiegel 204 in einer anderen Projektionsoptik im optisch aktiven Bereich 220 auch konkav ausgebildet sein.The in 2 illustrated mirror body 224 the penultimate mirror 204 is in the optically active range 220 convex. Alternatively, the penultimate mirror 204 in another projection optics in the optically active area 220 also be concave.

5 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines vorletzten Spiegels 204 einer Projektionsoptik. Die Einrichtung 218 zur Reduzierung von Abbildungsfehlern, die in diesem Fall die Einrichtung 232 zur mechanischen Stabilisierung darstellt, ist im optisch inaktiven Bereich 222 der Oberfläche 226 des Spiegelkörpers 224 angeordnet. Die Einrichtung 232 zur mechanischen Stabilisierung ragt in das optisch nicht genutzte Teilvolumen 230. 5 shows a further embodiment of a penultimate mirror 204 a projection optics. The device 218 to reduce aberrations, which in this case the device 232 for mechanical stabilization is in the optically inactive region 222 the surface 226 of the mirror body 224 arranged. The device 232 for mechanical stabilization protrudes into the optically unused partial volume 230 ,

Weiter sind in 5 Streben 500 zu sehen. Ein erstes Ende 502 jeder Strebe 500 ist mit der Spitze 506 der Einrichtung 232 zur mechanischen Stabilisierung verbunden. Die Spitzte 506 stellt in diesem Fall die Stelle der Einrichtung 232 zur mechanischen Stabilisierung dar, die von dem Spiegelkörper 224 den maximalen Abstand hat. Ein zweites Ende 504 jeder Strebe 500 ist mit dem Rand 400 des Spiegelkörpers 224 verbunden.Next are in 5 pursuit 500 to see. A first end 502 every strut 500 is with the top 506 the device 232 connected for mechanical stabilization. The tip 506 in this case represents the body of the institution 232 for mechanical stabilization, that of the mirror body 224 has the maximum distance. A second end 504 every strut 500 is with the edge 400 of the mirror body 224 connected.

Mit der Einrichtung 232 zur mechanischen Stabilisierung und den Streben 500 lässt sich die Steifigkeit des vorletzten Spiegels 204 erhöhen. Verformungen und/oder Schwingungen des vorletzten Spiegels 204 können dadurch reduziert werden. Die Streben 500 können auf Zug und Druck belastet werden. Falls die Streben 500 auf Druck belastet werden sind steife unbiegsame Elemente erforderlich. Nur mit solchen Elementen kann eine Druckbelastung erfolgen. Die Streben 500 können aber auch als eine Art Seil, Draht oder Kabel ausgeführt sein. In diesem Fall kann lediglich eine Zugbelastung der Streben 500 erfolgen.With the device 232 for mechanical stabilization and struts 500 can the stiffness of the penultimate mirror 204 increase. Deformations and / or vibrations of the penultimate mirror 204 can be reduced. The aspiration 500 can be loaded on train and pressure. If the struts 500 are loaded on pressure stiff inflexible elements are required. Only with such elements can be a pressure load. The aspiration 500 but can also be designed as a kind of rope, wire or cable. In this case, only a tensile load of the struts 500 respectively.

Wie 5 zeigt, ragen die Streben 500 aus dem optisch nicht genutzten Teilvolumen 230 heraus. Dabei sind die Streben 500 so ausgebildet und/oder angeordnet, dass sie den Strahlengang in der Lithographieanlage 100 bzw. die optische Abbildung der Projektionsoptik nicht stören.As 5 shows, the struts protrude 500 from the visually unused partial volume 230 out. Here are the aspirations 500 trained and / or arranged so that they the beam path in the lithographic system 100 or the optical image of the projection optics do not disturb.

Die Einrichtung 232 zur mechanischen Stabilisierung kann in diesem Ausführungsbeispiel als Mittenkörper ausgeführt sein, d.h. die Einrichtung 232 zur mechanischen Stabilisierung ist lediglich ein Element an dem die Streben 500 befestigt werden können. Alternativ kann die Einrichtung 232 zur mechanischen Stabilisierung zusätzlich einen Schwingungsdämpfer und/oder einen Tilger aufweisen.The device 232 for mechanical stabilization may be performed in this embodiment as a center body, ie the device 232 for mechanical stabilization is only one element on which the struts 500 can be attached. Alternatively, the device 232 for mechanical stabilization additionally have a vibration damper and / or a Tilger.

6 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines vorletzten Spiegels 204 einer Projektionsoptik. Im Folgenden werden nur die Änderungen gegenüber dem in 5 dargestellten Ausführungsbeispiel des vorletzten Spiegels 204 beschrieben. In dem in 6 dargestellten Beispiel können die Streben 500 zum Ausgleichen von Abbildungsfehlern aktiv betätigt werden. Mittels einer Zug- und/oder Druckbelastung einzelner Streben kann eine Verformung des Spiegels zum Ausgleich von Abbildungsfehlern erfolgen. 6 shows a further embodiment of a penultimate mirror 204 a projection optics. In the following, only the changes to the in 5 illustrated embodiment of the penultimate mirror 204 described. In the in 6 example shown, the struts 500 be actively operated to compensate for aberrations. By means of a tensile and / or compressive load of individual struts, a deformation of the mirror to compensate for aberrations can take place.

Wie in 6 zu sehen, sind die Streben 500 an ihren zweiten Enden 504 über Aktoren 600 mit dem Rand 400 des vorletzten Spiegels 204 verbunden. Die Streben 500 können mittels der Aktoren 600 betätigt werden. Je nach Ausbildung der Streben 500 kann eine Zug- und/oder Druckkraft ausgeübt werden.As in 6 to see are the aspirations 500 at their second ends 504 about actuators 600 with the edge 400 the penultimate mirror 204 connected. The aspiration 500 can by means of the actuators 600 be operated. Depending on the training of the struts 500 a tensile and / or compressive force can be exercised.

Wie 6 zeigt, ragen auch hier die Streben 500 aus dem optisch nicht genutzten Teilvolumen 230 heraus. Dabei sind die Streben 500 auch hier so ausgebildet und/oder angeordnet, dass sie den Strahlengang in der Lithographieanlage 100 bzw. die optische Abbildung der Projektionsoptik nicht stören.As 6 shows, the struts protrude here, too 500 from the visually unused partial volume 230 out. Here are the aspirations 500 also here designed and / or arranged so that they the beam path in the lithographic system 100 or the optical image of the projection optics do not disturb.

In einer weiteren alternativen Ausgestaltung des vorletzten Spiegels 204 kann der Spiegelkörper 224, wie in 6 zu sehen, unterhalb des optisch inaktiven Bereichs 222 einen Bereich 602 umfassen, der ein anderes Material aufweist als der restliche Spiegelkörper 224. Wird das Material geeignet gewählt, dann lässt sich damit die Stabilität des vorletzten Spiegels 204 erhöhen. In a further alternative embodiment of the penultimate mirror 204 can the mirror body 224 , as in 6 see below the optically inactive area 222 an area 602 comprising a different material than the rest of the mirror body 224 , If the material is suitably selected, then the stability of the penultimate mirror can be determined 204 increase.

In einer weiteren alternativen Ausgestaltung des vorletzten Spiegels 204 umfasst dieser Stützpfeiler (in den Figuren nicht gezeigt). Die Stützpfeiler sind separate zusätzliche Elemente, um die Einrichtung 232 zur mechanischen Stabilisierung und den vorletzten Spiegel 204 zu stabilisieren. Die Stützpfeiler können mit dem einen Ende an der Einrichtung 232 zur mechanischen Stabilisierung und mit dem anderen Ende am Spiegelkörper 224 befestigt werden. Die Befestigung am Spiegelkörper 224 erfolgt im optisch aktiven Bereich 220 oder im optisch inaktiven Bereich 222.In a further alternative embodiment of the penultimate mirror 204 includes this buttress (not shown in the figures). The buttresses are separate additional elements to the decor 232 for mechanical stabilization and the penultimate mirror 204 to stabilize. The abutments can with one end to the device 232 for mechanical stabilization and with the other end on the mirror body 224 be attached. The attachment to the mirror body 224 takes place in the optically active region 220 or in the optically inactive region 222 ,

Auch die Stützpfeiler können aus dem optisch nicht genutzten Teilvolumen 230 herausragen. In diesem Fall sind die Stützpfeiler so ausgebildet und/oder angeordnet, dass sie den Strahlengang in der Lithographieanlage 100 bzw. die optische Abbildung der Projektionsoptik nicht stören.Also, the pillars can from the visually unused partial volume 230 protrude. In this case, the pillars are formed and / or arranged so that they the beam path in the lithographic system 100 or the optical image of the projection optics do not disturb.

7 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel des vorletzten Spiegels 204. Dabei unterscheidet sich der vorletzte Spiegel 204 aus 7 von dem vorletzten Spiegel 204 aus 5 nur darin, dass der vorletzte Spiegel 204 aus 7 ferner eine Einrichtung 700 zur Temperierung des Spiegelkörpers 224 aufweist. Die Einrichtung 700 zur Temperierung des Spiegelkörpers 224 kann so ausgebildet sein, dass Heizstrahler auf die Oberfläche 226 des Spiegelkörpers 224 strahlen. 7 shows a further embodiment of the penultimate mirror 204 , The penultimate mirror is different 204 out 7 from the penultimate mirror 204 out 5 only in that the penultimate mirror 204 out 7 also a device 700 for tempering the mirror body 224 having. The device 700 for tempering the mirror body 224 can be designed so that radiant heater on the surface 226 of the mirror body 224 radiate.

Alternativ kann sich die Einrichtung 700 zur Temperierung des Spiegelkörpers 224 auch innerhalb des Spiegelkörpers 224 befinden. Insbesondere kann sich die Einrichtung zur Temperierung des Spiegelkörpers im Spiegelkörper 224 unterhalb der Einrichtung 218 zur Reduzierung von Abbildungsfehlern befinden. Weiter kann die Einrichtung 700 zur Temperierung des Spiegelkörpers 224 mehrere Heizelemente aufweisen. Dabei können die Heizelemente über den Spiegelkörper 224 und/oder über die Einrichtung 218 zur Reduzierung von Abbildungsfehlern verteilt sein. Alternatively, the device may 700 for tempering the mirror body 224 also within the mirror body 224 are located. In particular, the device for tempering the mirror body in the mirror body 224 below the facility 218 to reduce aberrations. Next, the device 700 for tempering the mirror body 224 have several heating elements. In this case, the heating elements on the mirror body 224 and / or about the device 218 be distributed to reduce aberrations.

Durch die Einrichtung 700 zur Temperierung des Spiegelkörpers können thermisch bedingte Verformungen und/oder Instabilitäten des Spiegels vermieden bzw. verringert werden. Dabei kann die Temperatur des vorletzten Spiegels 204 durch die Einrichtung 700 zur Temperierung des Spiegelkörpers konstant gehalten werden bzw. näherungsweise konstant gehalten werden.By the device 700 For temperature control of the mirror body thermally induced deformations and / or instabilities of the mirror can be avoided or reduced. In this case, the temperature of the penultimate mirror 204 through the device 700 be kept constant for the temperature of the mirror body or kept approximately constant.

Die beschriebenen Ausführungsbeispiele wurden für den vorletzten Spiegel 204 in der Projektionsoptik erläutert. Die dargestellten Ausgestaltungen können jedoch prinzipiell auch auf jeden anderen Spiegel der Projektionsoptik und der Lithographieanlage 100 angewendet werden, falls der entsprechende Spiegel einen optisch inaktiven Bereich aufweist.The described embodiments were for the penultimate mirror 204 explained in the projection optics. However, the illustrated embodiments can in principle also be applied to every other mirror of the projection optics and the lithography system 100 be applied if the corresponding mirror has an optically inactive area.

Des Weiteren wurden Ausführungsbeispiele für den vorletzten Spiegel 204 einer EUV-Lithographieanlage 100 erläutert. Die Erfindung ist jedoch nicht auf EUV-Lithographieanlagen 100 beschränkt sondern kann auch auf andere Lithographieanlagen angewandt werden.Furthermore, embodiments for the penultimate mirror 204 an EUV lithography system 100 explained. However, the invention is not on EUV lithography equipment 100 limited but can also be applied to other lithography equipment.

Obwohl die Erfindung anhand verschiedener Ausführungsbeispiele beschrieben wurde, ist sie darauf keineswegs beschränkt, sondern vielfältig modifizierbar.Although the invention has been described with reference to various embodiments, it is by no means limited thereto, but variously modifiable.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

100100: EUV-Lithographieanlage EUV lithography system
102102: Strahlformungssystem Beam shaping system
104104: Beleuchtungssystem lighting system
106106: Projektionssystem projection system
108108: EUV-Lichtquelle EUV-light source
110110: Kollimator collimator
112112: Monochromator monochromator
114114: EUV-Strahlung EUV radiation
116116: erster Spiegel first mirror
118118: zweiter Spiegel second mirror
120120: Photomaske photomask
122122: Wafer wafer
124124: dritter Spiegel third mirror
126126: vierter Spiegel fourth mirror
200200: Teilbereich einer Projektionsoptik Part of a projection optics
202202: letzter Spiegel der Projektionsoptik last mirror of the projection optics
204204: vorletzter Spiegel der Projektionsoptik penultimate mirror of the projection optics
206206: Öffnung des letzten Spiegels Opening of the last mirror
208208: erster Strahl first ray
210210: zweiter Strahl second beam
212212: Pfeilmarkierung arrow mark
214214: linke Seite des vorletzten Spiegels left side of the penultimate mirror
216216: rechte Seite des vorletzten Spiegels right side of the penultimate mirror
218218: Einrichtung zur Reduzierung von Abbildungsfehlern Device for reducing aberrations
220220: optisch aktiver Bereich optically active area
222222: optisch inaktiver Bereich optically inactive area
224224: Spiegelkörper mirror body
226226: Oberfläche surface
228228: Volumen volume
230230: optisch nicht genutztes Teilvolumen optically unused partial volume
232232: Einrichtung zur mechanischen Stabilisierung Device for mechanical stabilization
300300: Projektionsoptikpupille Projection optics pupil
302302: Obskurationsblende obscuration
304 304: optisch genutzte Fläche optically used area
400400: Spiegelrand mirrors edge
500500: Strebe strut
502502: erstes Ende der Strebe first end of the strut
504504: zweites Ende der Strebe second end of the strut
506506: Spitze der Einrichtung zur mechanischen Stabilisierung Top of the device for mechanical stabilization
600600: Aktor actuator
602602: Bereich des Spiegelkörpers unterhalb des optisch inaktiven Bereichs Area of the mirror body below the optically inactive area
700700: Einrichtung zur Temperierung des Spiegelkörpers Device for tempering the mirror body

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

WO 2010/028748 A1 [0008]

Claims

Mirror ( 204 ) for a lithography plant ( 100 ), comprising a mirror body ( 224 ) with a surface ( 226 ), which has an optically active region ( 220 ) and an optically inactive region ( 222 ), wherein the optically inactive region ( 222 ) at least partially within the optically active region ( 220 ), and a facility ( 218 ) for reducing aberrations of the mirror ( 204 ), which in the optically inactive region ( 222 ) is arranged.

A mirror according to claim 1, wherein the optically active region ( 220 ) has a ground surface and / or a mirror coating.

A mirror according to claim 1 or 2, wherein the optically inactive region ( 222 ) completely within and / or in the middle of the optically active region ( 220 ) is arranged.

Mirror according to one of claims 1 to 3, wherein the mirror ( 204 ) a volume ( 228 ) over the optically active and optically inactive region ( 220 . 222 ) and the facility ( 218 ) for reducing aberrations in an optically unused partial volume ( 230 ) of the volume ( 228 protrudes.

Mirror according to claim 4, wherein the optically unused partial volume ( 230 ) is tapered and / or frusto-conical and / or has an oval base.

Mirror according to one of claims 1 to 5, wherein the device ( 218 ) to reduce aberrations a device ( 232 ) for mechanical stabilization.

Mirror according to claim 6, wherein the device ( 232 ) has a vibration damper for mechanical stabilization.

Mirror according to claim 6 or 7, wherein the device ( 232 ) has a Tilger for mechanical stabilization.

Mirror according to one of claims 6 to 8, wherein the mirror ( 204 ) Aspiration ( 500 ) which, on the one hand, is connected to the 232 ) for mechanical stabilization and on the other hand with the mirror body ( 224 ) are connected.

Mirror according to claim 9, wherein a respective strut ( 500 ) partially by an optically used partial volume of the volume ( 228 ).

A mirror according to claim 9 or 10, wherein each of the struts ( 500 ) a first end ( 502 ) and a second end ( 504 ), wherein the struts ( 500 ) with their first ends ( 502 ) at one of the mirror body ( 224 ) remote location ( 506 ) of the institution ( 232 ) are mounted for mechanical stabilization, and wherein the struts ( 500 ) with their second ends ( 504 ) on one edge ( 400 ) of the mirror ( 204 ) are attached.

Mirror according to one of claims 9 to 11, wherein the struts ( 500 ) are actively operable to compensate for aberrations.

A mirror according to claim 12, wherein the struts ( 500 ) for actively actuating the same at their second ends ( 504 ) via actuators ( 600 ) with the edge ( 400 ) of the mirror ( 204 ) are connected.

Mirror according to one of claims 6 to 13, wherein the mirror ( 204 ) Supporting pillars, on the one hand with the device ( 232 ) for mechanical stabilization and on the other hand with the mirror body ( 224 ) in the optically active region ( 220 ) or in the optically inactive region ( 222 ) are connected.

A mirror according to any one of claims 1 to 14, wherein an area ( 602 ) of the mirror body ( 224 ) below the optically inactive region ( 222 ) has a different material than an adjacent region of the mirror body ( 224 ).

A mirror according to any one of claims 1 to 15, further comprising means ( 700 ) for tempering the mirror body ( 224 ).

A mirror according to claim 16, wherein the device ( 218 ) to reduce aberrations, the device ( 700 ) for tempering the mirror body ( 224 ) having.

A mirror according to claim 16, wherein the device ( 700 ) for tempering the mirror body ( 224 ) in the mirror body ( 224 ), in particular below the facility ( 218 ) to reduce aberrations.

Mirror according to one of Claims 16 to 18, the device ( 700 ) for tempering the mirror body ( 224 ) has a plurality of heating elements.

A mirror according to claim 19, wherein the heating elements are arranged above the mirror body ( 224 ) and / or the facility ( 218 ) are distributed to reduce aberrations.

Mirror according to one of Claims 1 to 20, the device ( 218 ) is tapered to reduce aberrations.

Mirror according to one of claims 1 to 21, wherein the mirror body ( 224 ) in the region of the optically active region ( 220 ) is convex or concave.

Mirror according to one of claims 1 to 22, wherein the device ( 218 ) is integrally formed to reduce aberrations.

Projection system ( 106 ) for a lithography plant ( 100 ) with a mirror ( 204 ) according to one of claims 1 to 23.

Projection system according to claim 24, with a diaphragm ( 302 ), which in a beam path of the projection system ( 106 ) is arranged and adapted to the optically inactive area ( 222 ) on the surface ( 226 ) of the mirror body ( 224 ) and the optically unused partial volume ( 230 ) over the optically active and optically inactive region ( 220 . 222 ) to create.

Lithography plant ( 100 ) with a mirror ( 204 ) according to one of claims 1 to 23 or with a projection system ( 106 ) according to claims 24 and 25.