DE102014211856A1 - Drucksensor mit hydrophober Beschichtung - Google Patents

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Drucksensor mit einem drucksensitiven Bereich, wobei der drucksensitive Bereich eine hydrophobe Beschichtung aufweist, ein Verfahren zu dessen Herstellung und die Verwendung eines entsprechenden Drucksensors in einer Batterie.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft einen Drucksensor mit einem drucksensitiven Bereich, wobei der drucksensitive Bereich eine hydrophobe Beschichtung aufweist, ein Verfahren zu dessen Herstellung und die Verwendung eines entsprechenden Drucksensors in einer Batterie.
  • Aus EP 1 456 619 B1 sind Drucksensoren mit hydrophober Beschichtung bekannt. Diese hydrophobe Beschichtung weist vorzugsweise Silane auf. Der in dieser Druckschrift offenbarte Drucksensor ist ein Relativdrucksensor.
  • Des Weiteren sind im Stand der Technik dünne Beschichtungen aus Diamant und diamantartigen Kohlenstoffen bekannt. Diese Beschichtungen werden auch bei Mikrosystemen (im Englischen: microelectronicmechanical systems = MEMS) verwendet (J. K. Luo et al., Journal of Micromechanics and Microengineering, 2007, 17, Seite 147). In diesem Fall dient die Beschichtung produktionsbezogenen Zwecken, da das Verhältnis von Oberfläche zu Volumen drastisch abnimmt und eine möglichst anti-haftende Beschichtung erhalten werden muss, um so Schäden durch ungewollte Haftung der Opferschicht beim Lösen zu vermeiden.
  • Auch piezoresistive Drucksensoren zum Messen von Kräften oder Druck auf Basis von amorphen Kohlenstoffen finden bereits Anwendung als Sensormodule für den Tiefziehprozess oder als Unterlegscheiben zur vollflächigen Lastdetektion.
  • Es besteht jedoch immer noch der Bedarf an Drucksensoren, bei denen die Erzeugung von Fehlsignalen, d.h. das Anzeigen eines Druckunterschiedes, obwohl kein Druckunterschied vorliegt, minimiert oder sogar verhindert wird.
  • Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, einen Drucksensor und ein Verfahren zu dessen Herstellung bereitzustellen, der so ausgebildet ist, dass er möglichst allein tatsächlich vorliegende Druckunterschiede detektiert. Insbesondere soll dieser Drucksensor so ausgebildet sein, dass er gegenüber äußeren Einflüssen, beispielsweise nassen, feuchten und ätzenden Bedingungen, unempfindlich ist.
  • Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung wird durch die unabhängigen Ansprüche gelöst.
  • Erfindungsgemäß ist ein Drucksensor mit einem drucksensitiven Bereich vorgesehen, wobei der drucksensitive Bereich eine hydrophobe Beschichtung aufweist, wobei die hydrophobe Beschichtung amorphen Kohlenstoff enthält, der mit mindestens einem Element ausgewählt aus Fluor, Silizium und Sauerstoff dotiert ist.
  • Unter dem Begriff „drucksensitiver Bereich“ wird vorliegend ein Bereich verstanden, der zur Messung des Drucks, bevorzugt des Druckunterschiedes, entscheidend ist. Dabei wird insbesondere der Bereich verstanden, der unmittelbar auf die Veränderung des Drucks oder des Druckunterschiedes reagiert.
  • Durch die erfindungsgemäße hydrophobe Beschichtung, die mit mindestens einem Element ausgewählt aus Fluor, Silizium und Sauerstoff dotiert ist, wird in vorteilhafter Weise die Benetzung mit einer Flüssigkeit, insbesondere mit Wasser und/oder einem aprotischen carbonatischen Lösungsmittel, vermindert, bevorzugt komplett verhindert. Dadurch wird erreicht, dass der Drucksensor nicht fälschlicherweise durch die Benetzung mit einer Flüssigkeit einen geänderten Messdruck, beziehungsweise einen Druckunterschied detektiert, obwohl kein geänderter Messdruck vorliegt. Insbesondere kann der erfindungsgemäße Drucksensor vorteilhafterweise in eine galvanische Zelle oder Batterie, bevorzugt eine Lithium-Ionen-Batterie, eingebaut werden, um dort Druckunterschiede zu detektieren. Mit einem entsprechenden Drucksensor kann die Sicherheit von Zellen oder Batterien deutlich erhöht werden, da minimalste Druckunterschiede bereits zuverlässig detektiert werden können, bevor der innere Druck einer Zelle oder einer Batterie ein kritisches Maß überschreitet.
  • Bevorzugt besteht die hydrophobe Beschichtung aus einem amorphen Kohlenstoff, der mit mindestens einem Element ausgewählt aus Fluor, Silizium und Sauerstoff dotiert ist. Bevorzugt ist der amorphe Kohlenstoff allein mit Fluor dotiert. Alternativ bevorzugt ist der amorphe Kohlenstoff allein mit Silizium und Sauerstoff dotiert. Alternativ bevorzugt ist der amorphe Kohlenstoff mit den Elementen Fluor, Silizium und Sauerstoff dotiert.
  • Bevorzugt ist als Drucksensor ein Absolutdrucksensor, ein Relativdrucksensor oder ein Differenzdrucksensor vorgesehen. Bevorzugt ist der Drucksensor ein MEMS-Drucksensor („Microelectronicmechanical System“). Mit diesem Drucksensor ist eine besonders einfache und genaue Druckmessung möglich.
  • „Absolutdrucksensoren“ messen den Druck im Vergleich zu einem im Sensorelement eingeschlossenen Vakuum.
  • „Relativdrucksensoren“ hingegen messen den Druck in Bezug zum Luftdruck der Umgebung. Luftdruckschwankungen verursacht durch Veränderungen der Wetter- oder Höhenlage übertragen sich bei diesen Sensoren direkt auf den Druckmesswert. Relativdrucksensoren haben nur einen Druckanschluss. Der Umgebungsdruck wird durch ein Belüftungsloch oder einen Belüftungsschlauch in eine Referenzdruckkammer geführt.
  • „Differenzdrucksensoren“ weisen zwei separate Druckanschlüsse auf und messen den Druckunterschied zwischen zwei beliebigen Drücken. Dementsprechend kann die Sensorkammer mit einem ersten Druck und die Messkammer mit einem zweiten Druck beaufschlagt werden.
  • Der Absolutdrucksensor, der Relativdrucksensor und der Differenzdrucksensor weisen zwei Druckkammern auf, wobei die eine Druckkammer als Referenzdruckkammer und die andere als Messdruckkammer ausgebildet ist. Beide Druckkammern sind fluiddicht, bevorzugt gasdicht, voneinander getrennt. Zwischen den beiden Druckkammern liegt bereichsweise ein auf Druckunterschiede ansprechender Verformungskörper, bevorzugt eine Membran, vor.
  • Bevorzugt weist der Drucksensor, bevorzugt der Relativdrucksensor oder der Absolutdrucksensor, eine Sensorkammer und einen Verformungskörper, bevorzugt eine Membran oder ein Federelement, auf, wobei der Verformungskörper mit einem unter einem Messdruck stehenden Medium, bevorzugt einem gasförmigem Medium, bevorzugt einem flüssigen oder einem gasförmigen Medium, beaufschlagbar ist.
  • Die Membran besteht bevorzugt aus Polysilikonen. Alternativ bevorzugt ist die Membran eine keramische Messmembran. Besonders bevorzugt wird als Keramik einer keramischen Messmembran eine Korund-Keramik, eine Siliziumdioxid-Keramik, eine Titandioxid-Keramik oder ein Gemisch davon als Membran verwendet.
  • Bevorzugt ist vorgesehen, dass der drucksensitive Bereich eine Membran, ein Kristall, ein Hall-Element, mindestens ein Kondensator, ein Dehnungsmessstreifen, ein Ringoszillator oder eine induktive Wegaufnahmevorrichtung ist. Bei diesen drucksensitiven Bereichen wirkt sich die Dotierung des amorphen Kohlenstoffs am stärksten aus.
  • Bevorzugt ist der drucksensitive Bereich ein Teil, bevorzugt die gesamten mit dem zu messenden Druckmedium und/oder dem Referenzmedium in Kontakt stehenden Außenflächen der Membran, des Kristalls, des Hall-Elements, des mindestens einen Kondensators, des Dehnungsmessstreifens, des Ringoszillators oder der induktiven Wegaufnahmevorrichtung bei im Stand der Technik üblichen Druckmessungen.
  • Bevorzugt ist der erfindungsgemäße Drucksensor ein piezoresistiver Drucksensor. Dieser piezoresistive Drucksensor weist einen Verformungskörper, bevorzugt eine Membran, mit daran aufgebrachten oder eindiffundierten verformungsabhängigen elektrischen Widerständen auf. Durch die druckabhängige Verformung des Verformungskörpers, bevorzugt der Membran, und den Widerständen kommt es zur Ausbildung einer elektrischen Spannung.
  • Bevorzugt ist der vorliegende Drucksensor als piezoelektrischer Drucksensor ausgebildet. Bei dem piezoelektrischen Drucksensor wird mittels Druck durch Ladungstrennung eine elektrische Spannung in einem Kristall erzeugt. Durch den Druck verschieben sich im Inneren des Kristalls Ionen, wodurch sich an der Oberfläche elektrische Ladung proportional zur Kraft bildet. Die Ladung wird durch einen Ladungsverstärker in eine proportionale elektrische Spannung umgeformt. Die unmittelbare Messung der Spannung ist nicht möglich, da die geringe erzeugte Ladung sehr gut isoliert sein muss und keine elektrische Kapazitätsänderung erfahren darf. Durch diesen piezoelektrischen Drucksensor ist ein beliebiger Druck durch Ableitung (Kurzschluss) der Ladung als Nullpunkt des Ladungsverstärkers einstellbar. Dadurch sind Druckänderungen direkt und absolut messbar. Damit ein piezoelektrischer Drucksensor in der Druckmesstechnik eingesetzt werden kann, muss über eine Membran der Druck proportional in eine Kraft umgeformt werden. Vorteilhaft an den piezoelektrischen Sensoren ist, dass sie unempfindlich gegenüber hohen Temperaturen sind, keine äußere Spannungsversorgung nötig ist, eine sehr hohe Empfindlichkeit aufweisen, mechanisch sehr starr sind und für Druckschwankungen bei einer hohen Frequenz von mehr als 100 kHz geeignet sind.
  • Bevorzugt wird als piezoresistiver Drucksensor ein frequenzanaloger Drucksensor eingesetzt. Hier wird der Druck mittels Dehnungsmessstreifen gemessen, wobei dieser Drucksensor zusätzlich einen Ringoszillator aufweist. Durch Veränderung des Drucks ändert sich der Widerstand des Dehnungsmessstreifens und in Folge dessen wird die Frequenz des Ringoszillators verändert. Die ausgegebene Frequenz ist direkt proportional mit dem angelegten Druck.
  • Bevorzugt weist der Drucksensor ein Hall-Element auf. Hierbei wird bei Druckbelastung das Magnetfeld um das Hall-Element, bevorzugt ein Halbleiterplättchen, geändert. Die Funktionsweise von Hall-Sensoren basiert auf dem Hall-Effekt. Der Hall-Effekt tritt in einem stromdurchflossenen elektrischen Leiter auf, der sich in einem Magnetfeld befindet, wobei sich ein elektrisches Feld aufbaut, das zur Stromrichtung und zum Magnetfeld senkrecht steht und die auf die Elektronen wirkende Lorentzkraft kompensiert.
  • Bevorzugt ist der Drucksensor ein kapazitiver Drucksensor, der bevorzugt zwei in einem Silizium-Chip eindiffundierte Kondensatoren aufweist. Bei Druckbeaufschlagung werden die Abstände einer Membran zu zwei beidseitig gegenüber liegenden Kondensatorplatten und dadurch die Kapazität der Kondensatoren gegenläufig verändert. Bevorzugt sind die Kondensatoren Teil eines internen Verstärkerelementes, dessen Ausgangssignal von der Differenz der Kapazitäten abhängig ist.
  • Bevorzugt ist der Drucksensor als induktiver Drucksensor ausgebildet. Der induktive Drucksensor weist bevorzugt eine induktive Wegaufnahmevorrichtung auf, welche mit einer Membran verbunden ist. Druckänderungen erzeugen eine Kraft auf die Membran, wodurch diese verformt wird. Dadurch ändert sich die Position eines elektrisch leitenden Elementes, bevorzugt eines Eisenankers, gegensinnig zwischen zwei vorliegenden Spulen. In einer der beiden Spulen steigt die Induktivität, in der anderen sinkt die Induktivität. Der Unterschied kann elektrisch bestimmt werden.
  • Bevorzugt ist der Drucksensor ein MEMS-Sensor.
  • Bevorzugt ist vorgesehen, dass die hydrophobe Beschichtung eine Strukturierung, bevorzugt im Linien- oder Punktmuster aufweist. Mit der Strukturierung erhöht sich die Hydrophobizität der Beschichtung wesentlich.
  • Bevorzugt ist eine Strukturierung im Mikrometerbereich vorgesehen. Bevorzugt hat die hydrophobe Beschichtung ein Muster, wobei sich, bevorzugt die gleichen, Erhebungen und/oder Vertiefungen periodisch, also regelmäßig, wiederholen. Bevorzugt haben die Erhöhungen eine Höhe von 10 nm bis 10 µm, bevorzugt 1 µm bis 10 µm. Bevorzugt haben die Vertiefungen eine Tiefe von 10 nm bis 100 µm, bevorzugt 1 µm bis 50 µm. Bevorzugt liegt der Abstand zwischen den einzelnen Erhöhungen und/oder Vertiefungen bei 10 nm bis 100 µm, bevorzugt 10 nm bis 1 µm. Bevorzugt haben die Erhöhungen und/oder Vertiefungen eine kreisförmige, ovale oder polygonale Grundfläche. Alternativ bevorzugt haben die Erhöhungen und/oder Vertiefungen eine rechteckige oder quaderförmige Grundfläche.
  • Die Strukturierung der Oberfläche kann bevorzugt durch Laserablation der bereits vorhandenen hydrophoben Beschichtung oder vor einer entsprechenden Beschichtung erfolgen.
  • Alternativ bevorzugt werden die Erhöhungen und/oder Vertiefungen durch eine Kombination aus Lithografie, Galvanik und Abformung erhalten. Alternativ bevorzugt findet die Strukturierung durch einen Elektronenstrahl statt. Alternativ bevorzugt kann die Strukturierung durch ein Ätzverfahren, bevorzugt durch ein nasschemisches Ätzverfahren oder trockenes Plasmaätzverfahren erfolgen.
  • Bevorzugt kann durch das trockene Plasmaverfahren eine Silikonoberfläche strukturiert werden. Dabei werden als Ausgangssubstanzen Schwefelhexafluorid, Sauerstoff und CHF3 eingesetzt. Aus Schwefelhexafluorid entstehen dabei Fluorradikale, wodurch das Silizium zu flüchtigem Siliziumtetrafluorid umgesetzt wird. Die aus Sauerstoff entstehenden Sauerstoffradikale passivieren die Siliziumoberfläche zu SiOxFy. Die aus CHF3 entstehenden CFx +-Ionen lösen die entstandene SiOxFy-Schicht und bilden das flüchtige COxFy.
  • Alternativ bevorzugt wird zur Strukturierung der Oberfläche ein Verfahren verwendet, wobei zunächst auf den drucksensitiven Bereich eine Opferschicht aufgebracht wird, die Opferschicht geformt wird, anschließend eine Baustrukturschicht aufgetragen wird, die Baustrukturschicht geformt wird und anschließend die Opferschicht selektiv weggeätzt wird.
  • Die erfindungsgemäße Dotierung des amorphen Kohlenstoffs erfolgt bevorzugt durch Diffusion oder durch Implementation einer Verbindung, welche mindestens ein Element ausgewählt aus Fluor, Silizium und Sauerstoff enthält, in den bereits auf dem auf dem drucksensitiven Bereich vorliegenden amorphen Kohlenstoff. Alternativ bevorzugt erfolgt die Dotierung des amorphen Kohlenstoffs durch Zugabe einer Verbindung, welche mindestens ein Element ausgewählt aus Fluor, Silizium und Sauerstoff enthält, während der amorphe Kohlenstoff auf den drucksensitiven Bereich aufgetragen wird.
  • Alternativ bevorzugt erfolgt das Dotieren durch ein Sputterdispositionsverfahren, auch als Kathodenzerstäubungsverfahren bezeichnet. Hierbei werden Atome aus einem Festkörper, der die Elemente Fluor, Silizium und/oder Sauerstoff enthält, mit energiereichen Ionen herausgelöst, sodass sie in die Gasphase übergehen. Die herausgeschlagenen Atome aus dem Target kondensieren auf der zu beschichtenden Oberfläche und bilden eine Schicht aus. Bevorzugt ist das Kathodenzerstäubungsverfahren ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Gleichstromsputtern, Hochfrequenzsputtern, Ionenstrahlsputtern, Magnetronsputtern und reaktivem Sputtern.
  • Bevorzugt ist vorgesehen, dass die hydrophobe Beschichtung durch eine Plasma geschützte chemische Gasphasenabscheidung und/oder eine physikalische Gasphasenabscheidung hergestellt wurde. Durch eine Gasphasenabscheidung wird eine besonders homogene hydrophobe Beschichtung erhalten.
  • Bevorzugt ist vorgesehen, dass die physikalische Gasphasenabscheidung ein Sputterdispositionsverfahren oder ein Ionenstrahl geschütztes Dispositionsverfahren ist.
  • Bevorzugt ist vorgesehen, dass die hydrophobe Beschichtung eine geringe Oberflächenenergie von weniger als 30 mN/m, bevorzugt von weniger als 20 mN/m, bevorzugt weniger als 10 mN/m, aufweist. Eine entsprechend geringe Oberflächenenergie führt dazu, dass keine wesentliche Benetzung des drucksensitiven Bereichs mit einer Flüssigkeit stattfinden kann.
  • Bevorzugt ist vorgesehen, dass die Oberflächenenergie einen polaren Anteil von weniger als 3 mN/m, bevorzugt weniger als 1 mN/m, hat.
  • Bevorzugt ist vorgesehen, dass Wasser auf der hydrophoben Beschichtung einen Kontaktwinkel von mindestens 160°, bevorzugt von mindestens 170°, aufweist. Eine entsprechend hoher Kontaktwinkel führt dazu, dass keine wesentliche Benetzung des drucksensitiven Bereichs mit einer Flüssigkeit stattfinden kann.
  • Besonders bevorzugt ist erfindungsgemäß ein Verfahren zur Beschichtung eines Drucksensors vorgesehen, das folgende Schritte umfasst:
    • a) Bereitstellen eines Drucksensors mit einem drucksensitiven Bereich und
    • b) zumindest teilweise Beschichten, bevorzugt vollständiges Beschichten des drucksensitiven Bereiches des in Schritt a) bereitgestellten Drucksensors mit einer hydrophoben Beschichtung, wobei die hydrophobe Beschichtung amorphen Kohlenstoff enthält, bevorzugt daraus besteht, der mit mindestens einem Element ausgewählt aus Fluor, Silizium und Sauerstoff dotiert ist.
  • Es wird ein Drucksensor mit einem drucksensitiven Bereich erhalten, wobei der drucksensitive Bereich eine hydrophobe Beschichtung aufweist, wobei die hydrophobe Beschichtung amorphen Kohlenstoff enthält, dadurch gekennzeichnet, dass der amorphe Kohlenstoff mit mindestens einem Element ausgewählt aus Fluor, Silizium und Sauerstoff dotiert ist.
  • Ebenfalls ist die Verwendung eines erfindungsgemäßen oder erfindungsgemäß hergestellten Drucksensors in einer Batterie, bevorzugt einer Lithium-Ionen-Batterie, vorzugsweise zur Verringerung von Fehlern einer Druckermittlung, insbesondere zum Bereitstellen eines verlässlichen Drucksignals, bevorzugt einer Druckunterschiedsanzeige.
  • Bevorzugte Ausführungsformen ergeben sich aus den Unteransprüchen.
  • Nachfolgend wird die vorliegende Erfindung anhand von Figuren näher erläutert.
  • Dabei zeigt
  • 1 eine schematische Darstellung eines Absolutdrucksensors und
  • 2 eine schematische Darstellung eines Relativ- beziehungsweise Differenzdrucksensors.
  • 1 zeigt einen Absolutdrucksensor 1 mit einer Messdruckkammer 2 und einer Referenzdruckkammer 3. Die Referenzdruckkammer ist fluiddicht, bevorzugt gasdicht, von der Messdruckkammer abgetrennt und weist einen Druck von wenigen Millibar, bevorzugt von weniger als 1 mbar, bevorzugt weniger als 10–3 mbar, auf. Zwischen der Messdruckkammer 2 und der Referenzdruckkammer 3 liegt ein Verformungskörper 4, bevorzugt eine Membran 4, vor. In dem Verformungskörper 4 ist ein elektrischer Widerstand 5 aufgebracht oder eingearbeitet. Es können auch mehrere elektrische Widerstände auf oder in dem Verformungskörper, bevorzugt der Membran, vorliegen. Durch die Verformung der Membran aufgrund von Druckunterschieden kommt es zur Erzeugung einer elektrischen Spannung, die von einem nicht gezeigten Spannungsmessgerät gemessen und an eine nicht gezeigten Signalerzeugungsvorrichtung weitergeleitet wird. Der zu messende Druck wird in die Messdruckkammer 2 durch die Öffnung 6 eingeleitet. Auf beiden Oberflächen des Verformungskörpers 4, das heißt sowohl auf der Oberfläche in Richtung der Messdruckkammer 2, als auch auf der Oberfläche in Richtung der Referenzdruckkammer 3 ist eine hydrophobe Beschichtung 7 aufgebracht, wobei die hydrophobe Beschichtung aus amorphen Kohlenstoff besteht, der mit mindestens einem Element ausgewählt aus Fluor, Sauerstoff und Silizium dotiert ist. Der Verformungskörper 7 wird gasdicht von einer umlaufenden Haltevorrichtung 8 gehalten.
  • 2 zeigt einen Relativdrucksensor 9 beziehungsweise einen Differenzdrucksensor 9. Dieser unterscheidet sich von dem Absolutdrucksensor 1 aus 1 im Wesentlichen dadurch, dass die Referenzdruckkammer eine von außen zugängliche Öffnung 10 aufweist, durch die der Druck in der Referenzdruckkammer 3 eingestellt werden kann. Bevorzugt kann der Druck in der Referenzdruckkammer 3 dem Atmosphärendruck entsprechen, wodurch der Drucksensor als Relativdrucksensor wirkt. Alternativ bevorzugt kann der Druck in der Relativdruckkammer 3 höher oder niedriger sein als der Atmosphärendruck. In diesem Fall wirkt der Drucksensor als Differenzdrucksensor. Im Übrigen wird auf die Figurenbeschreibung der 1 verwiesen.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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  • Zitierte Patentliteratur
    • EP 1456619 B1 [0002]
  • Zitierte Nicht-Patentliteratur
    • J. K. Luo et al., Journal of Micromechanics and Microengineering, 2007, 17, Seite 147 [0003]

Claims (9)

  1. Drucksensor mit einem drucksensitiven Bereich, wobei der drucksensitive Bereich eine hydrophobe Beschichtung aufweist, wobei die hydrophobe Beschichtung amorphen Kohlenstoff enthält, dadurch gekennzeichnet, dass der amorphe Kohlenstoff mit mindestens einem Element ausgewählt aus Fluor, Silizium und Sauerstoff dotiert ist.
  2. Drucksensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Drucksensor ein Absolutdrucksensor, ein Relativdrucksensor oder ein Differenzdrucksensor ist.
  3. Drucksensor nach einem der vorstehenden Ansprüchen, dadurch gekennzeichnet, dass die hydrophobe Beschichtung eine Strukturierung, bevorzugt im Linien- oder Punktmuster aufweist.
  4. Drucksensor nach einem der vorstehenden Ansprüchen, dadurch gekennzeichnet, dass der drucksensitive Bereich eine Membran, ein Kristall, ein Hall-Element, mindestens ein Kondensator, ein Dehnungsmessstreifen, ein Ringoszillator oder eine induktive Wegaufnahmevorrichtung ist.
  5. Drucksensor nach einem der vorstehenden Ansprüchen, dadurch gekennzeichnet, dass die hydrophobe Beschichtung durch eine plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung und/oder eine physikalische Gasphasenabscheidung hergestellt wurde.
  6. Drucksensor nach einem der vorstehenden Ansprüchen, dadurch gekennzeichnet, dass die hydrophobe Beschichtung eine geringe Oberflächenenergie von weniger als 30 mN/m.
  7. Drucksensor nach einem der vorstehenden Ansprüchen, dadurch gekennzeichnet, dass Wasser auf der hydrophoben Beschichtung einen Kontaktwinkel von mindestens 160° aufweist.
  8. Verfahren zur Beschichtung eines Drucksensors umfassend die folgenden Schritte: a) Bereitstellen eines Drucksensors mit einem drucksensitiven Bereich und b) Zumindest teilweises Beschichten des drucksensitiven Bereich des in Schritt a) bereitgestellten Drucksensors mit einer hydrophoben Beschichtung, wobei die hydrophobe Beschichtung amorphen Kohlenstoff enthält, der mit mindestens einem Element ausgewählt aus Fluor, Silizium und Sauerstoff dotiert ist.
  9. Verwendung eines Drucksensors nach einem der Ansprüche 1 bis 7 oder eines in einem Verfahren gemäß Anspruch 8 hergestellten Drucksensors in einer Batterie.
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