DE102014211190A1 - Micromechanical sound transducer arrangement and a corresponding manufacturing method - Google Patents

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Rolf Scheben
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Abstract

Die vorliegende Erfindung schafft eine mikromechanische Schallwandleranordnung und ein entsprechendes Herstellungsverfahren. Die mikromechanische Schallwandleranordnung umfasst einen ASIC-Chip (AC) mit einer ersten Vorderseite (VS1) und einer ersten Rückseite (RS1), einen Interposerchip (1a; 1a‘‘; 1a‘‘‘) mit einer zweiten Vorderseite (VS2; VS2‘‘) und einer zweiten Rückseite (RS2; RS2‘‘), welcher einen zumindest von der zweiten Vorderseite (VS2; VS2‘‘) zugänglichen Hohlraum (BV; BV‘‘; BV‘‘‘) aufweist, und einen MEMS-Chip (MC) mit einer dritten Vorderseite (VS3) und einer dritten Rückseite (RS3), welcher eine integrierte Schallwandlungseinrichtung (BE, FE) zum Wandeln von Schallenergie (S) in elektrische Energie oder umgekehrt aufweist. Die erste Vorderseite (VS1) ist auf die zweite Rückseite (RS2; RS2‘‘) und die zweite Vorderseite (VS2; VS2‘‘) ist auf der dritten Rückseite (RS3) angebracht. Die Schallenergie (S) ist somit von der dritten Rückseite (RS3) ausgehend der integrierten Schallwandlungseinrichtung (BE, FE) und dem Hohlraum (BV; BV‘‘; BV‘‘‘) als Teil eines Rückvolumens zuführbar.The present invention provides a micromechanical sound transducer assembly and a corresponding manufacturing method. The micromechanical sound transducer arrangement comprises an ASIC chip (AC) having a first front side (VS1) and a first rear side (RS1), an interposer chip (1a, 1a '', 1a '' ') having a second front side (VS2, VS2' '). ) and a second rear side (RS2; RS2 '') which has a cavity (BV; BV ''; BV '' ') accessible at least from the second front side (VS2; VS2' ') and a MEMS chip (MC ) having a third front side (VS3) and a third rear side (RS3), which has an integrated sound conversion device (BE, FE) for converting sound energy (S) into electrical energy or vice versa. The first face (VS1) is on the second back (RS2; RS2 '') and the second face (VS2; VS2 '') is on the third face (RS3). The sound energy (S) can thus be supplied from the third rear side (RS3) starting from the integrated sound conversion device (BE, FE) and the cavity (BV; BV ", BV" ') as part of a return volume.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine mikromechanische Schallwandleranordnung und ein entsprechendes Herstellungsverfahren.The present invention relates to a micromechanical sound transducer arrangement and a corresponding manufacturing method.

Stand der TechnikState of the art

Obwohl prinzipiell auf beliebige mikromechanische Schallwandleranordnungen, beispielsweise Lautsprecher und Mikrofone, anwendbar, werden die vorliegende Erfindung und die ihr zugrunde liegende Problematik anhand von mikromechanischen Mikrofonanordnungen auf Siliziumbasis erläutert.Although applicable in principle to any micromechanical sound transducer arrangements, for example loudspeakers and microphones, the present invention and the problem on which it is based are explained on the basis of micromechanical microphone arrangements based on silicon.

Mikromechanische Mikrofonanordnungen weisen üblicherweise eine auf einem MEMS-Chip integrierte Schallwandlungseinrichtung zum Wandeln von Schallenergie in elektrische Energie auf, wobei eine durch Schallenergie auslenkbare erste Elektrode und eine feststehende perforierte zweite Elektrode kapazitiv zusammenwirken. Die Auslenkung der ersten Elektrode wird durch die Differenz der Schalldrücke vor und hinter der ersten Elektrode bestimmt. Ändert sich die Auslenkung, wird die Kapazität des durch die erste und zweite Elektrode gebildeten Kondensators verändert, was messtechnisch erfassbar ist. Micromechanical microphone arrangements usually have a sound conversion device integrated on a MEMS chip for converting sound energy into electrical energy, wherein a sound energy deflectable first electrode and a fixed perforated second electrode cooperate capacitively. The deflection of the first electrode is determined by the difference in the sound pressures before and after the first electrode. If the deflection changes, the capacitance of the capacitor formed by the first and second electrodes is changed, which can be detected metrologically.

Auf der Rückseite der ersten Elektrode wird ein sogenanntes Rückvolumen vorgesehen, welches verhindert, dass schnelle Änderungen des Schalldrucks beide Seiten der ersten Elektrode beaufschlagen, was zu Empfindlichkeitsverlusten führen würde. Die Größe des Rückvolumens bestimmt somit die Empfindlichkeit der mikromechanischen Mikrofonanordnung, da eine durch die Auslenkung der ersten Elektrode bewirkte Kompression im Rückvolumen, insbesondere bei kleinen Rückvolumina, dämpfend wirkt. On the back of the first electrode, a so-called back volume is provided, which prevents rapid changes in the sound pressure applied to both sides of the first electrode, which would lead to sensitivity losses. The size of the back volume thus determines the sensitivity of the micromechanical microphone arrangement, since a compression caused by the deflection of the first electrode in the back volume, in particular in the case of small back volumes, has a damping effect.

Mikromechanische Mikrofonanordnungen, wie sie z.B. in mobilen Geräten, wie Smartphones, eingesetzt werden, gibt es grundsätzlich in zwei Aufbauvarianten, wie z.B. aus der US 2013/0147040 A1 bekannt. Micromechanical microphone arrangements, such as those used in mobile devices such as smartphones, are basically available in two design variants, such as from the US 2013/0147040 A1 known.

Bei der „Bottom Port“-Variante ist der akustische Zugang von unten über eine Leiterplatte realisiert. Dabei wird der MEMS-Chip mit der Schallwandlungseinrichtung auf die Leiterplatte geklebt und mit einem Deckel verschlossen, um das Rückvolumen zu bilden.In the "bottom port" variant, the acoustic access from below is realized via a printed circuit board. In this case, the MEMS chip is glued to the sound conversion device on the circuit board and sealed with a lid to form the back volume.

Bei der „Top Port“-Variante erfolgt der Zugang von oben, wobei der MEMS-Chip mit der Schallwandlungseinrichtung in einen Deckel geklebt wird, so dass der akustische Zugang durch ein Loch im Deckel erfolgt. In the "top port" variant, the access is from above, wherein the MEMS chip is glued with the sound conversion device in a lid, so that the acoustic access is through a hole in the lid.

Für neuere Anwendungen, z.B. für Headsets oder elektronische Brillen, spielt die Baugröße eine immer entscheidendere Rolle. Dabei gilt es, ein möglichst großes Rückvolumen bei minimaler Grundfläche und Bauhöhe zu erreichen, da dieses entscheidend zur Gesamt-Performance beiträgt.For newer applications, e.g. for headsets or electronic goggles, the size plays an increasingly decisive role. It is important to achieve the largest possible back volume with a minimum footprint and height, as this contributes significantly to the overall performance.

Aufgrund von Fertigungstoleranzen bei bekannten Lösungen für das Gehäuse ist derzeit eine weitere Miniaturisierung unter Beibehaltung der Gesamt-Performance nicht möglich. Zudem werden ebenfalls aufgrund der Toleranzen das maximal mögliche Rückvolumen und die maximale Größe des Zugangslochs nicht erreicht.Due to manufacturing tolerances in known solutions for the housing further miniaturization is currently not possible while maintaining the overall performance. In addition, the maximum possible back volume and the maximum size of the access hole are also not achieved due to the tolerances.

Aus der DE 10 2006 022 379 A1 ist es bekannt, einen ASIC-Chip mit einer rückseitigen Kaverne derart auf einen MEMS-Chip mit einer Schallwandlungseinrichtung zu bonden, dass durch die Kaverne das Rückvolumen vergrößert wird, da es sich auf beide Chips verteilt.From the DE 10 2006 022 379 A1 It is known to bond an ASIC chip with a back cavity to a MEMS chip with a sound conversion device in such a way that the back volume is increased by the cavern, since it is distributed over both chips.

Offenbarung der ErfindungDisclosure of the invention

Die vorliegende Erfindung schafft eine mikromechanische Schallwandleranordnung nach Anspruch 1 und ein entsprechendes Herstellungsverfahren nach Anspruch 11.The present invention provides a micromechanical sound transducer arrangement according to claim 1 and a corresponding manufacturing method according to claim 11.

Bevorzugte Weiterbildungen sind Gegenstand der Unteransprüche.Preferred developments are subject of the dependent claims.

Vorteile der ErfindungAdvantages of the invention

Die vorliegende Erfindung ermöglicht einen „Bare-Die“-Ansatz für eine mikromechanische Schallwandleranordnung (d.h. die Schallwandleranordnung muss nicht in ein weiteres Package verpackt werden) zur Realisierung von sehr kleinen Schallwandlern, insbesondere Mikrofonen und Lautsprechern, wobei die minimale Größe nur noch durch den größeren von MEMS- und ASIC-Chip beschränkt wird. Zusätzlich ermöglicht die vorliegende Erfindung eine bessere Ausnutzung des vorhandenen Volumens für das Rückvolumen. Weiterhin besitzt die erfindungsgemäße mikromechanische Schallwandleranordnung eine verringerte Parasitärkapazität und ist unempfindliche gegen Partikel, insbesondere wenn eine optionale Schutzfolie verwendet wird bzw. wenn die auslenkbare erste Elektrode nach außen weisend angeordnet ist.The present invention enables a "bare-die" approach for a micromechanical transducer assembly (ie, the transducer assembly need not be packaged in another package) for realizing very small transducers, particularly microphones and loudspeakers, the minimum size being limited only by the larger one is limited by MEMS and ASIC chip. In addition, the present invention allows better utilization of the existing volume for the back volume. Furthermore, the micromechanical sound transducer arrangement according to the invention has a reduced parasitic capacitance and is insensitive to particles, in particular if an optional protective film is used or if the deflectable first electrode is arranged facing outward.

Die der vorliegenden Erfindung zugrunde liegende Idee besteht darin, einen MEMS-Chip und einen ASIC-Chip über einen Wafer-Stack mit einem oder mehreren Interposer-Chips zu verbinden, wodurch man geringere Toleranzen als bei bekannten Standardverfahren erreichen kann. Zudem müssen weniger Teile platziert werden, so dass dadurch die notwendigen Vorhalte deutlich reduzierbar sind.The idea underlying the present invention is to connect a MEMS chip and an ASIC chip via a wafer stack with one or more interposer chips, whereby one can achieve smaller tolerances than in known standard methods. In addition, fewer parts must be placed, so that the necessary provisions are significantly reduced.

Durch die Materialauswahl des oder der Interposer-Chips lässt sich auch ein erhöhter elektrischer Widerstand, also eine bessere elektrische Isolation, zwischen den einzelnen elektrischen Verbindungen zwischen MEMS-Chip und Basic-Chip erzielen, was das Signal-/Rauschverhältnis verbessert. Der oder die Interposer-Chips ermöglichen auch eine größere Flexibilität in der Bauhöhe und damit im Rückvolumen. By selecting the material of the or the interposer chips can also be an increased electrical resistance, ie a better electrical isolation, achieve between the individual electrical connections between the MEMS chip and basic chip, which improves the signal / noise ratio. The one or more interposer chips also allow greater flexibility in the height and thus in the rear volume.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung geht der Hohlraum durch den Interposerchip hindurch. So lässt sich ein großer Gewinn an Rückvolumen erzielen.According to a preferred embodiment, the cavity passes through the interposer chip. This is how you can achieve a big return volume.

Gemäß einer weiteren bevorzugten Weiterbildung ist mindestens ein weiterer Interposerchip mit einer weiteren Vorderseite und einer weitere Rückseite vorgesehen, welcher einen weiteren Hohlraum, der durch den weiteren Interposerchip hindurchgeht, aufweist, wobei der weitere Interposerchip zwischen der zweiten Vorderseite und der dritte Vorderseite angebracht ist. So lässt sich das Rückvolumen weiter vergrößern.According to a further preferred development, at least one further interposer chip is provided with a further front side and a further rear side, which has a further hollow space, which passes through the further interposer chip, wherein the further interposer chip is mounted between the second front side and the third front side. This allows the back volume to be further increased.

Gemäß einer weiteren bevorzugten Weiterbildung ist der Interposerchip gegenüber dem MEMS-Chip lateral verbreitert. Auch dies erhöht das erzielbare Rückvolumen, da ein lateraler Breitengewinn erzielbar ist.According to a further preferred development, the interposer chip is laterally widened in comparison to the MEMS chip. This also increases the achievable back volume, since a lateral width gain can be achieved.

Gemäß einer weiteren bevorzugten Weiterbildung weist der Hohlraum im Innern des Interposerchips eine laterale Verbreiterung auf. Dies ermöglicht einen Interposerchip mit großen Oberflächen und gleichzeitig optimaler Volumennutzung für das Rückvolumen.According to a further preferred development, the cavity in the interior of the interposer chip has a lateral broadening. This allows for an interposer chip with large surface area and, at the same time, optimal volume utilization for the back volume.

Gemäß einer weiteren bevorzugten Weiterbildung weist der Interposerchip ein oder mehrere Durchkontaktierungen auf, welche den MEMS-Chips elektrisch mit dem ASIC-Chip verbinden. Dies vereinfacht den Aufbau.According to a further preferred development, the interposer chip has one or more plated-through holes which electrically connect the MEMS chips to the ASIC chip. This simplifies the structure.

Gemäß einer weiteren bevorzugten Weiterbildung weist der weitere Interposerchip weitere Durchkontaktierungen auf, welche mit den Durchkontaktierungen elektrisch verbunden sind und welche den MEMS-Chip elektrisch mit dem ASIC-Chip verbinden. Dies lässt eine einfach Stapelmontage zu.According to a further preferred development, the further interposer chip has further plated-through holes, which are electrically connected to the plated-through holes and which electrically connect the MEMS chip to the ASIC chip. This allows for easy stacking.

Gemäß einer weiteren bevorzugten Weiterbildung besteht der Interposerchip bzw. der weitere Interposerchip aus Glas. Glas hat den Vorteil eines hohen elektrischen Widerstands zur Vermeidung von Leckströmen und parasitären Kapazitäten.According to a further preferred development, the interposer chip or the further interposer chip consists of glass. Glass has the advantage of high electrical resistance to avoid leakage and parasitic capacitances.

Gemäß einer weiteren bevorzugten Weiterbildung weist die Schallwandlungseinrichtung eine durch die Schallenergie auslenkbare erste Elektrode und eine feststehende perforierte zweite Elektrode auf. Dies ermöglicht eine einfache Schallwandlung.According to a further preferred development, the sound conversion device has a first electrode deflectable by the sound energy and a fixed perforated second electrode. This allows a simple sound conversion.

Gemäß einer weiteren bevorzugten Weiterbildung ist auf der dritten Rückseite eine Schutzfolie aufgebracht. Dies sorgt für Schutz gegenüber Umwelteinflüssen.According to a further preferred development, a protective film is applied to the third rear side. This ensures protection against environmental influences.

Kurze Beschreibung der ZeichnungenBrief description of the drawings

Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend anhand der in den schematischen Figuren der Zeichnungen angegebenen Ausführungsbeispiele näher erläutert. Es zeigen:The present invention will be explained in more detail with reference to the exemplary embodiments indicated in the schematic figures of the drawings. Show it:

1 eine mikromechanische Schallwandleranordnung gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; 1 a micromechanical transducer assembly according to a first embodiment of the present invention;

2 eine mikromechanische Schallwandleranordnung gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; 2 a micromechanical transducer assembly according to a second embodiment of the present invention;

3 eine mikromechanische Schallwandleranordnung gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; und 3 a micromechanical transducer assembly according to a third embodiment of the present invention; and

4 eine mikromechanische Schallwandleranordnung gemäß einer vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 4 a micromechanical transducer assembly according to a fourth embodiment of the present invention.

Ausführungsformen der ErfindungEmbodiments of the invention

In den Figuren bezeichnen gleiche Bezugszeichen gleiche bzw. funktionsgleiche Elemente.In the figures, like reference numerals designate the same or functionally identical elements.

1 zeigt eine schematische vertikale Querschnittsansicht einer mikromechanischen Schallwandleranordnung gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 1 shows a schematic vertical cross-sectional view of a micromechanical transducer assembly according to a first embodiment of the present invention.

In 1 bezeichnet Bezugszeichen AC einen ASIC-Chip mit einer ersten Vorderseite VS1 und einer ersten Rückseite RS1. Bezugszeichen 1 bezeichnet ein ASIC-Wafersubstrat, beispielsweise aus Silizium, in dem eine Mehrzahl integrierter Schaltungen 50 integriert ist, welche zur Signalverarbeitung bzw. zur Signalauswertung dienen. In 1 Numeral AC designates an ASIC chip having a first front side VS1 and a first back side RS1. reference numeral 1 denotes an ASIC wafer substrate, for example of silicon, in which a plurality of integrated circuits 50 is integrated, which are used for signal processing and signal evaluation.

An der ersten Vorderseite VS1 ist auf dem ASIC-Wafersubstrat 1 eine Umverdrahtungseinrichtung L gebildet, welche eine Mehrzahl von Leiterbahnen und dazwischenliegenden Isolationsschichten mit entsprechenden Durchkontaktierungen aufweist. Als oberste Schicht vorgesehen ist eine vorderseitige Isolationsschicht IV. Auf der ersten Rückseite RS1 ist eine rückseitige Isolationsschicht IR vorgesehen.At the first front side VS1 is on the ASIC wafer substrate 1 a rewiring device L is formed, which has a plurality of conductor tracks and intervening insulating layers with corresponding plated-through holes. Provided as the uppermost layer is a front-side insulation layer IV. On the first back side RS1, a back-side insulation layer IR is provided.

Durchkontaktierungen D1, D2 verbinden die Umverdrahtungseinrichtung L mit Anschlusspads P1, P2, auf denen Lotkügelchen L1, L2 vorgesehen sind, elektrisch. Über die Lotkügelchen L1, L2 kann die Schallwandleranordnung auf ein beliebiges (nicht dargestelltes) Trägersubstrat gelötet werden. Through-contacts D1, D2 connect the rewiring device L with connection pads P1, P2, on which solder balls L1, L2 are provided, electrically. About the solder balls L1, L2, the transducer assembly can be soldered to any (not shown) carrier substrate.

Auf der ersten Vorderseite VS1 durchsetzen mit leitfähigem Material gefüllte Vias V1, V2 die vorderseitige Isolationsschicht IV, um eine elektrische Verbindung zwischen der Umverdrahtungseinrichtung L und an der ersten Vorderseite gebildeten Bondverbindungen B1, B2 zu bilden.Vias V1, V2 filled with conductive material on the first front side VS1 penetrate the front-side insulation layer IV in order to form an electrical connection between the rewiring device L and bonding connections B1, B2 formed on the first front side.

Über die Bondverbindungen B1, B2 ist auf den ASIC-Chip AC ein Interposer-Chip 1a durch Bonden angebracht, welcher eine zweite Vorderseite VS2 und eine zweite Rückseite RS2 aufweist. Der Interposer-Chip 1a besteht zweckmäßigerweise aus einem Material mit hohem elektrischem Widerstand, beispielsweise Glas. Der Interposer-Chip weist einen durch den Interposer-Chip 1a hindurchgehenden Hohlraum BV auf, welcher sich somit von der zweiten Vorderseite VS2 zur zweiten Rückseite RS2 erstreckt.About the bonds B1, B2 is on the ASIC chip AC an interposer chip 1a attached by bonding, which has a second front side VS2 and a second rear side RS2. The interposer chip 1a Conveniently consists of a material with high electrical resistance, such as glass. The interposer chip has one through the interposer chip 1a passing cavity BV, which thus extends from the second front side VS2 to the second rear side RS2.

Weiterhin vorgesehen im Interposer-Chip 1a sind Durchkontaktierungen D1a, D2a, welche eine elektrische Verbindung zwischen den Bondverbindungen B1, B2 auf der zweiten Rückseite RS2 und gegenüberliegenden Bondverbindungen B3, B4 auf der zweiten Vorderseite ermöglichen. Further provided in the interposer chip 1a are plated-through holes D1a, D2a, which enable an electrical connection between the bonding connections B1, B2 on the second rear side RS2 and opposed bonding connections B3, B4 on the second front side.

Über die Bondverbindungen B3, B4 ist auf der zweiten Vorderseite VS2 ein MEMS-Chip angebracht, welcher eine dritte Vorderseite VS3 und eine dritte Rückseite RS3 aufweist, wobei die dritte Vorderseite VS3 auf der zweiten Vorderseite VS2 angebracht ist.A MEMS chip is mounted on the second front side VS2 via the bonding connections B3, B4, which has a third front side VS3 and a third rear side RS3, the third front side VS3 being mounted on the second front side VS2.

Der MEMS-Chip MC weist eine integrierte Schallwandlungseinrichtung zum Wandeln von Schallenergie S in elektrische Energie auf. Die integrierte Schallwandlungseinrichtung umfasst eine durch die Schallenergie S auslenkbare erste Elektrode BE und eine feststehende perforierte zweite Elektrode FE aus, welche in jeweiligen mikromechanischen Funktionsschichten F1, F2, beispielsweise aus Polysilizium, realisiert sind, welche über einem MEMS-Wafersubstrat 1b, beispielsweise aus Silizium, zwischen entsprechenden Isolationsschichten, welche zusammenfassend mit Bezugszeichen I1 bezeichnet sind, verankert sind.The MEMS chip MC has an integrated sound conversion device for converting sound energy S into electrical energy. The integrated sound conversion device comprises a first electrode BE deflectable by the sound energy S and a fixed perforated second electrode FE, which are realized in respective micromechanical functional layers F1, F2, for example of polysilicon, which overlay a MEMS wafer substrate 1b , For example, of silicon, between corresponding insulating layers, which are collectively designated by reference numeral I1 anchored.

Ein das MEMS-Wafersubstrat 1b durchsetzender rückseitiger Trenchgraben TR schafft eine Zugangsöffnung für die Schallenergie S zur ersten auslenkbaren Elektrode BE welche im vorliegenden Fall die Form einer geschlossenen Membran hat. Durch den optionalen geschlossenen membranartigen Aufbau der ersten auslenkbaren Elektrode BE lässt sich ein wirksamer Schutz für das Innere der mikromechanischen Schallwandleranordnung realisieren. Auf der dritten Rückseite RS3 zusätzlich aufgeklebt ist eine optionale Schutzfolie 100, welche die Partikelsicherheit weiter erhöht.A MEMS wafer substrate 1b passing through the trench trench TR creates an access opening for the sound energy S to the first deflectable electrode BE which in the present case has the shape of a closed membrane. By the optional closed membrane-like structure of the first deflectable electrode BE, an effective protection for the interior of the micromechanical sound transducer arrangement can be realized. Additionally glued on the third back RS3 is an optional protective foil 100 , which further increases particle safety.

Durch den beschriebenen Aufbau ist die Schallenergie S von der dritten Rückseite RS3 ausgehend durch die Schutzfolie 100 und den Trenchgraben TR hindurch der ersten auslenkbaren Elektrode BE und von dort ausgehend weiter dem Hohlraum BV zuführbar. Somit bietet der Hohlraum BV einen wesentlichen Teil des Rückvolumens dieser mikromechanischen Schallwandleranordnung.Due to the structure described, the sound energy S from the third back RS3 is starting from the protective film 100 and the trenches TR through the first deflectable electrode BE and from there further to the cavity BV fed. Thus, the cavity BV provides a substantial portion of the back volume of this micromechanical transducer assembly.

Durch das Bonden der Chips MC, 1a und AC, welche im Wesentlichen dieselbe laterale Breite aufweisen, aufeinander ist das Rückvolumen vorzugsweise hermetisch oder nahezu hermetisch verschlossen. Eine zusätzliches Packaging ist somit nicht notwendig.By bonding the chips MC, 1a and AC, which have substantially the same lateral width, the back volume is preferably hermetically or almost hermetically sealed. An additional packaging is therefore not necessary.

Dadurch, dass im Vergleich zu aus der DE 10 2006 022 371 A1 bekannten Lösung der ASIC-Chip AC keine Kaverne aufweisen muss, lässt sich dieser stabiler und einfacher sowie mit mehr Flexibilität herstellen. Die Tatsache, dass die Umverdrahtungseinrichtung L mit der ersten Vorderseite VS1 zum Backvolumen gerichtet ist, vereinfacht zudem den Verdrahtungsaufwand.In that, compared to out of the DE 10 2006 022 371 A1 known solution of the ASIC chip AC must have no cavern, this can be made more stable and easier and with more flexibility. The fact that the rewiring device L is directed with the first front side VS1 to the baking volume also simplifies the wiring effort.

2 zeigt eine schematische vertikale Querschnittsansicht einer mikromechanischen Schallwandleranordnung gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 2 shows a schematic vertical cross-sectional view of a micromechanical transducer assembly according to a second embodiment of the present invention.

Bei der zweiten Ausführungsform sind zwei Interposer-Chips 1a, 1a’, welche identisch aufgebaut sind, aufeinander gestapelt.In the second embodiment, there are two interposer chips 1a . 1a ' , which are identically constructed, stacked on each other.

Insbesondere ist ein weiterer Interposerchip 1a’ mit einer weiteren Vorderseite VS2’ einer weiteren Rückseite RS’ vorgesehen, wobei der weitere Interposerchip 1a’ einen weiteren Hohlraum BV’ aufweist, der durch den weiteren Interposer-Chip 1a’ hindurchgeht. Der weitere Interposer-Chip 1a’ ist zwischen die zweite Vorderseite VS2 und die dritte Vorderseite VS3 durch Bonden derart angebracht, dass die weitere Vorderseite VS2’ über die Bondverbindungen B3, B4 mit der dritten Vorderseite verbunden sind und dass die weitere Rückseite RS’’ mit der zweiten Vorderseite VS2 über die Bondverbindungen B3’, B4’ verbunden ist. Eine derartige Anordnung schafft ein noch größeres Rückvolumen, welches im Wesentlichen durch das Volumen der beiden Hohlräume BV, BV’ gebildet wird.In particular, another interposer chip 1a ' provided with a further front side VS2 'another back RS', wherein the further Interposerchip 1a ' another cavity BV ', by the further interposer chip 1a ' passes. The further interposer chip 1a ' is attached between the second front side VS2 and the third front side VS3 by bonding such that the further front side VS2 'are connected to the third front side via the bonding connections B3, B4 and the further back side RS "is connected to the second front side VS2 via the bonding connections B3 ', B4' is connected. Such an arrangement creates an even larger back volume, which is essentially formed by the volume of the two cavities BV, BV '.

Eine Umverdrahtung an der Grenze zwischen VS2 und RS2‘ ist zusätzlich möglich, um die Lage der Anschlüsse B3 und B4 im Bedarfsfall auf eine andere Lage der Anschlüsse B1 und B2 anzupassen. A rewiring at the boundary between VS2 and RS2 'is possible in addition to the position of the If necessary, adapt connections B3 and B4 to another position of connections B1 and B2.

Generell ist somit eine beliebige Vergrößerung des Rückvolumens durch Stapeln einer entsprechenden Anzahl von Interposer-Chips möglich, wobei die Anzahl der benötigten Interposer-Chips im Wesentlichen von Fertigungsbedingungen und der Materialauswahl der Interposer-Chips beeinflusst wird.In general, an arbitrary enlargement of the back volume is possible by stacking a corresponding number of interposer chips, wherein the number of interposer chips required is essentially influenced by production conditions and the material selection of the interposer chips.

Ansonsten ist die zweite Ausführungsform hinsichtlich des ASIC-Chips AC und des MEMS-Chips MC gleich wie die erste Ausführungsform aufgebaut.Otherwise, the second embodiment is the same as the first embodiment in terms of the ASIC chip AC and the MEMS chip MC.

3 zeigt eine schematische vertikale Querschnittsansicht einer mikromechanischen Schallwandleranordnung gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 3 shows a schematic vertical cross-sectional view of a micromechanical transducer assembly according to a third embodiment of the present invention.

Bei der dritten Ausführungsform liegt im Vergleich zur ersten Ausführungsform ein modifizierter Interposer-Chip 1a’’ vor. Dieser modifizierte Interposer-Chip 1a’’, welcher ebenfalls aus Glas hergestellt ist, ist gegenüber dem MEMS-Chips MC und gegenüber dem ASIC-Chip AC lateral verbreitert, wobei der MEMS-Chip MC und der ASIC-Chip AC im Wesentlichen eine identische laterale Breite aufweisen, was jedoch nicht unbedingt so sein muss.In the third embodiment, a modified interposer chip is compared to the first embodiment 1a ' in front. This modified interposer chip 1a ' , which is also made of glass, is laterally widened with respect to the MEMS chip MC and with respect to the ASIC chip AC, wherein the MEMS chip MC and the ASIC chip AC have substantially the same lateral width, but this is not necessarily so have to be.

Ebenfalls weist der Hohlraum BV’’ im Inneren des modifizierten Interposer-Chips 1a’’ eine ringförmige laterale Verbreiterung VB auf, wodurch der Hohlraum BV’’ im Vergleich zur ersten Ausführungsform größer gestaltet werden kann, wobei gleichzeitig eine möglichst große zweite Vorderseite VS2’ und eine möglichst große Rückseite RS2’ des modifizierten Interposer-Chips 1a’’ beibehalten werden kann. Allerdings müssen die Durchkontaktierungen D1a’’, D2a’’, welche den MEMS-Chip MC elektrisch mit dem ASIC-Chip AC verbinden, bei dem Interposer-Chip 1a’’ weiter zum Rand hin verlegt werden, da an den früheren Positionen gemäß der ersten Ausführungsform die Verbreiterung vorliegt. Aufgrund dieser Tatsache sind die Bondverbindungen B1 bis B4 über jeweilige Leiterbahnen LL1 bis LL4 mit den Durchkontaktierungen D1a’’ bzw. D2a’’ verbunden. Also, the cavity BV "is inside the modified interposer chip 1a ' an annular lateral broadening VB, whereby the cavity BV '' can be made larger in comparison to the first embodiment, wherein at the same time the largest possible second front side VS2 'and the largest possible back RS2' of the modified interposer chip 1a ' can be maintained. However, the feedthroughs D1a ", D2a", which electrically connect the MEMS chip MC to the ASIC chip AC, must be connected to the interposer chip 1a ' be moved to the edge, since at the earlier positions according to the first embodiment, the broadening is present. Due to this fact, the bonding connections B1 to B4 are connected via respective conductor tracks LL1 to LL4 to the plated-through holes D1a "or D2a".

Ansonsten ist die dritte Ausführungsform hinsichtlich des MEMS-Chips MC und des ASIC-Chips AC gleich wie die erste Ausführungsform aufgebaut.Otherwise, the third embodiment is the same as the first embodiment in terms of the MEMS chip MC and the ASIC chip AC.

4 zeigt eine schematische vertikale Querschnittsansicht einer mikromechanischen Schallwandleranordnung gemäß einer vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 4 shows a schematic vertical cross-sectional view of a micromechanical transducer assembly according to a fourth embodiment of the present invention.

Bei der vierten Ausführungsform ist der Hohlraum BV’’’, welcher den wesentlichen Teil des Rückvolumens bildet, nur von der zweiten Vorderseite VS2 zugänglich und zur zweiten Rückseite RS2 hin abgeschlossen, ist also in Form einer Wanne gebildet.In the fourth embodiment, the cavity BV '' ', which forms the essential part of the back volume, accessible only from the second front side VS2 and closed to the second back RS2, is thus formed in the form of a trough.

Ansonsten ist die vierte Ausführungsform gleich wie die erste Ausführungsform aufgebaut.Otherwise, the fourth embodiment is the same as the first embodiment.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand bevorzugter Ausführungsbeispiele vorstehend vollständig beschrieben wurde, ist sie darauf nicht beschränkt, sondern auf vielfältige Art und Weise modifizierbar.Although the present invention has been fully described above with reference to preferred embodiments, it is not limited thereto but is modifiable in a variety of ways.

Insbesondere sind die gezeigten Geometrien und Materialien nur beispielhaft und können je nach Anwendung nahezu beliebig variiert werden.In particular, the geometries and materials shown are only examples and can be varied almost arbitrarily depending on the application.

Auch sind der Aufbau der Schallwandlungseinrichtung im MEMS-Chip und die Anordnungen im ASIC-Chip nur beispielhaft und können auch je nach Anwendung variiert werden.Also, the structure of the sound conversion device in the MEMS chip and the arrangements in the ASIC chip are only exemplary and can also be varied depending on the application.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Claims (11)

Mikromechanische Schallwandleranordnung mit: einem ASIC-Chip (AC) mit einer ersten Vorderseite (VS1) und einer ersten Rückseite (RS1); einem Interposerchip (1a; 1a‘‘; 1a‘‘‘) mit einer zweiten Vorderseite (VS2; VS2‘‘) und einer zweiten Rückseite (RS2; RS2‘‘), welcher einen zumindest von der zweiten Vorderseite (VS2; VS2‘‘) zugänglichen Hohlraum (BV; BV‘‘; BV‘‘‘) aufweist; und einem MEMS-Chip (MC) mit einer dritten Vorderseite (VS3) und einer dritten Rückseite (RS3), welcher eine integrierte Schallwandlungseinrichtung (BE, FE) zum Wandeln von Schallenergie (S) in elektrische Energie oder umgekehrt aufweist; wobei die erste Vorderseite (VS1) auf die zweite Rückseite (RS2; RS2‘‘) und die zweite Vorderseite (VS2; VS2‘‘) auf der dritten Rückseite (RS3) angebracht ist; und wobei die Schallenergie (S) von der dritten Rückseite (RS3) ausgehend der integrierten Schallwandlungseinrichtung (BE, FE) und dem Hohlraum (BV; BV‘‘; BV‘‘‘) als Teil eines Rückvolumens zuführbar ist.A micromechanical sound transducer assembly comprising: an ASIC chip (AC) having a first front (VS1) and a first back (RS1); an interposer chip ( 1a ; 1a '; 1a ''' ) having a second front side (VS2; VS2 '') and a second rear side (RS2; RS2 '') which has a cavity (BV; BV ''; BV '') accessible at least from the second front side (VS2; VS2 ''). ') having; and a MEMS chip (MC) having a third front side (VS3) and a third rear side (RS3), which has an integrated sound conversion device (BE, FE) for converting sound energy (S) into electrical energy or vice versa; the first front side (VS1) being mounted on the second rear side (RS2; RS2 '') and the second front side (VS2; VS2 '') on the third rear side (RS3); and wherein the sound energy (S) from the third back (RS3) starting from the integrated sound conversion device (BE, FE) and the cavity (BV, BV '', BV ''') is supplied as part of a return volume. Mikromechanische Schallwandleranordnung nach Anspruch 1, wobei der Hohlraum (BV; BV‘‘) durch den Interposerchip (1a; 1a‘‘) hindurchgeht.Micromechanical sound transducer arrangement according to claim 1, wherein the cavity (BV, BV '') through the interposer chip ( 1a ; 1a ' ) goes through. Mikromechanische Schallwandleranordnung nach Anspruch 1 oder 2, wobei mindestens ein weiterer Interposerchip (1a‘) mit einer weiteren Vorderseite (VS2‘) und einer weitere Rückseite (RS2‘) vorgesehen ist, welcher einen weiteren Hohlraum (BV‘), der durch den weiteren Interposerchip (1a‘) hindurchgeht, aufweist, und wobei der weitere Interposerchip (1a‘) zwischen der zweiten Vorderseite (VS2; VS2‘‘) und der dritten Vorderseite (VS3) angebracht ist. Micromechanical sound transducer arrangement according to claim 1 or 2, wherein at least one further interposer chip ( 1a ' ) is provided with a further front side (VS2 ') and a further rear side (RS2'), which has a further cavity (BV ') which is penetrated by the further interposer chip ( 1a ' ), and wherein the further interposer chip ( 1a ' ) is mounted between the second front side (VS2; VS2 '') and the third front side (VS3). Mikromechanische Schallwandleranordnung nach einem der vorgehenden Ansprüche, wobei der Interposerchip (1a‘‘) gegenüber dem MEMS-Chip (MC) lateral verbreitert ist.Micromechanical sound transducer arrangement according to one of the preceding claims, wherein the interposer chip ( 1a ' ) is widened laterally with respect to the MEMS chip (MC). Mikromechanische Schallwandleranordnung nach einem der vorgehenden Ansprüche, wobei der Hohlraum (BV‘‘) im Innern des Interposerchips (1a‘‘) eine laterale Verbreiterung (VB) aufweist.Micromechanical sound transducer arrangement according to one of the preceding claims, wherein the cavity (BV '') inside the interposer chip ( 1a ' ) has a lateral broadening (VB). Mikromechanische Schallwandleranordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Interposerchip (1a; 1a‘‘; 1a‘‘‘) ein oder mehrere Durchkontaktierungen (D1a, D2a; D1a‘‘, D2a‘‘) aufweist, welche den MEMS-Chip (MC) elektrisch mit dem ASIC-Chip (AC) verbinden.Micromechanical sound transducer arrangement according to one of the preceding claims, wherein the interposer chip ( 1a ; 1a '; 1a ''' ) has one or more vias (D1a, D2a; D1a '', D2a '') which electrically connect the MEMS chip (MC) to the ASIC chip (AC). Mikromechanische Schallwandleranordnung nach Anspruch 6 in Verbindung mit Anspruch 3, wobei der weitere Interposerchip (1a‘) weitere Durchkontaktierungen (D1a‘, D2a‘) aufweist, welche mit den Durchkontaktierungen (D1a, D2a; D1a‘‘, D2a‘‘) elektrisch verbunden sind und welche den MEMS-Chips (MC) elektrisch mit dem ASIC-Chip (AC) verbinden.Micromechanical sound transducer arrangement according to claim 6 in conjunction with claim 3, wherein the further interposer chip ( 1a ' ) has further vias (D1a ', D2a') which are electrically connected to the vias (D1a, D2a; D1a '', D2a '') and which electrically connect the MEMS chips (MC) to the ASIC chip (AC). connect. Mikromechanische Schallwandleranordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Interposerchip (1a; 1a‘‘; 1a‘‘‘) bzw. der weitere Interposerchip (1a‘) aus Glas besteht.Micromechanical sound transducer arrangement according to one of the preceding claims, wherein the interposer chip ( 1a ; 1a '; 1a ''' ) or the further interposer chip ( 1a ' ) consists of glass. Mikromechanische Schallwandleranordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Schallwandlungseinrichtung (BE, FE) eine durch die Schallenergie (S) auslenkbare erste Elektrode (BE) und eine feststehende perforierte zweite Elektrode (FE) aufweist. Micromechanical sound transducer arrangement according to one of the preceding claims, wherein the sound conversion device (BE, FE) has a deflectable by the sound energy (S) first electrode (BE) and a fixed perforated second electrode (FE). Mikromechanische Schallwandleranordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei auf der dritten Rückseite (RS3) eine Schutzfolie (100) aufgebracht ist.Micromechanical sound transducer arrangement according to one of the preceding claims, wherein on the third rear side (RS3) a protective film ( 100 ) is applied. Verfahren zum Herstellen einer mikromechanischen Schallwandleranordnung mit den Schritten: Bereitstellen von einem ASIC-Chip (AC) mit einer ersten Vorderseite (VS1) und einer ersten Rückseite (RS1); Bereitstellen von einem Interposerchip (1a; 1a‘‘; 1a‘‘‘) mit einer zweiten Vorderseite (VS2; VS2‘‘) und einer zweiten Rückseite (RS2; RS2‘‘), welcher einen zumindest von der zweiten Vorderseite (VS2; VS2‘‘) zugänglichen Hohlraum (BV; BV‘‘; BV‘‘‘) aufweist; Bereitstellen von einem MEMS-Chip (MC) mit einer dritten Vorderseite (VS3) und einer dritten Rückseite (RS3), welcher eine integrierte Schallwandlungseinrichtung (BE, FE) zum Wandeln von Schallenergie (S) in elektrische Energie oder umgekehrt aufweist; erstes Anbringen der ersten Vorderseite (VS1) auf die zweite Rückseite (RS2; RS2‘‘) und zweites Anbringen der zweiten Vorderseite (VS2; VS2‘‘) auf die dritte Rückseite (RS3), wonach die Schallenergie (S) von der dritten Rückseite (RS3) ausgehend der integrierten Schallwandlungseinrichtung (BE, FE) und dem Hohlraum (BV; BV‘‘; BV‘‘‘) als Teil eines Rückvolumens zuführbar ist.A method of fabricating a micromechanical sound transducer assembly comprising the steps of: providing an ASIC chip (AC) having a first front side (VS1) and a first back side (RS1); Providing an interposer chip ( 1a ; 1a '; 1a ''' ) having a second front side (VS2; VS2 '') and a second rear side (RS2; RS2 '') which has a cavity (BV; BV ''; BV '') accessible at least from the second front side (VS2; VS2 ''). ') having; Providing a MEMS chip (MC) having a third front side (VS3) and a third rear side (RS3), which has an integrated sound conversion device (BE, FE) for converting sound energy (S) into electrical energy or vice versa; first attaching the first front (VS1) to the second back (RS2; RS2 '') and second attaching the second front (VS2; VS2 '') to the third back (RS3), after which the sound energy (S) from the third back (RS3) starting from the integrated sound conversion device (BE, FE) and the cavity (BV, BV '', BV ''') can be supplied as part of a return volume.
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