DE102014203461A1 - COOLABLE MIRROR ARRANGEMENT - Google Patents

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Spiegelanordnung für eine Projektionsbelichtungsanlage insbesondere EUV-Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer Spiegelfläche (2) und einem Spiegelkörper (11), an dem die Spiegelfläche einstückig angeordnet ist, und/oder einem Spiegelgehäuse, in dem der Spiegelkörper gelagert ist, wobei in dem Spiegelkörper und/oder dem Spiegelgehäuse mindestens ein oder mehrere Kühlräume (3, 5) ausgebildet sind, durch die ein Kühlmedium leitbar ist, sowie ein Verfahren zur Kühlung einer Spiegelanordnung.The present invention relates to a mirror arrangement for a projection exposure apparatus, in particular an EUV projection exposure apparatus for microlithography, with a mirror surface (2) and a mirror body (11) on which the mirror surface is arranged in one piece, and / or a mirror housing in which the mirror body is mounted. wherein in the mirror body and / or the mirror housing at least one or more cooling chambers (3, 5) are formed, through which a cooling medium can be conducted, and a method for cooling a mirror assembly.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION

GEBIET DER ERFINDUNGFIELD OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Spiegelanordnung für eine Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere EUV(extrem ultraviolett)-Projektionsbelichtungsanlage oder Maskenreparaturanlage für die Mikrolithographie sowie ein Verfahren zur Kühlung einer entsprechenden Spiegelanordnung. The present invention relates to a mirror arrangement for a projection exposure apparatus, in particular EUV (extreme ultraviolet) projection exposure apparatus or mask repair apparatus for microlithography, and a method for cooling a corresponding mirror arrangement.

STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART

Projektionsbelichtungsanlagen werden in der Mikroelektronik und Nanotechnik zur Herstellung von miniaturisierten Strukturen eingesetzt. Um möglichst kleine Strukturen erzeugen zu können, werden Projektionsbelichtungsanlagen eingesetzt, die Licht mit sehr kleinen Wellenlängen verwenden, wie beispielsweise Licht im Wellenlängenbereich der extrem ultravioletten Strahlung.Projection exposure systems are used in microelectronics and nanotechnology for the production of miniaturized structures. In order to be able to produce structures as small as possible, projection exposure systems are used which use light with very short wavelengths, such as, for example, light in the wavelength range of extreme ultraviolet radiation.

Bei entsprechenden Projektionsbelichtungsanlagen können Spiegel zum Einsatz kommen, um die Beleuchtungsanlage und/oder das Projektionsobjektiv oder Teile davon zu bilden. Durch die Strahlenbelastung kann es bei den Spiegeln zu einer Erwärmung kommen, welche zu einer Verformung der Spiegelflächen führen kann, was wiederum die Abbildungsgenauigkeit negativ beeinflusst. In corresponding projection exposure systems mirrors can be used to form the lighting system and / or the projection lens or parts thereof. As a result of the radiation exposure, heating may occur in the case of the mirrors, which may lead to a deformation of the mirror surfaces, which in turn adversely affects the imaging accuracy.

Um unter anderem dem entgegenzuwirken und hohe Genauigkeiten hinsichtlich der Abbildungseigenschaften einstellen zu können, können die Spiegel beweglich gelagert und/oder verformbar sein. Gleichwohl kann es durch Temperaturänderungen aufgrund der Erwärmung der Spiegel durch die Strahlenbelastung zu Aberrationen kommen. In order to counteract this, inter alia, and to be able to set high accuracies with regard to the imaging properties, the mirrors can be movably mounted and / or deformed. However, temperature changes due to heating of the mirrors by radiation exposure can cause aberrations.

OFFENBARUNG DER ERFINDUNGDISCLOSURE OF THE INVENTION

AUFGABE DER ERFINDUNGOBJECT OF THE INVENTION

Es ist deshalb Aufgabe der Erfindung eine Spiegelanordnung bereitzustellen, welche das Problem der durch Temperaturänderungen begründeten Form- und Ausrichtungsabweichungen der Spiegel mindert oder beseitigt. Gleichzeitig soll eine entsprechende Spiegelanordnung einfach aufgebaut und einfach betreibbar sein. It is therefore an object of the invention to provide a mirror assembly which alleviates or eliminates the problem of dimensional and orientation deviations of the mirrors due to temperature changes. At the same time a corresponding mirror assembly should be simple and easy to operate.

TECHNISCHE LÖSUNGTECHNICAL SOLUTION

Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Spiegelanordnung mit den Merkmalen des Anspruchs 1, einer Projektionsbelichtungsanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 7 sowie einem Verfahren zur Kühlung einer Spiegelanordnung mit den Merkmalen des Anspruchs 8. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche. This object is achieved by a mirror arrangement having the features of claim 1, a projection exposure apparatus having the features of claim 7 and a method for cooling a mirror arrangement having the features of claim 8. Advantageous embodiments are the subject of the dependent claims.

Erfindungsgemäß wird für eine Spiegelanordnung für eine Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie vorgesehen mindestens einen Kühlraum im Bereich der Spiegelfläche auszubilden, welcher ein Kühlmedium aufnehmen oder durch welchen ein Kühlmedium geleitet werden kann, um so die Spiegelfläche zu kühlen. Der wenigstens eine Kühlraum kann hierbei entweder in dem Spiegelkörper an sich, also in dem Körper ausgebildet sein, der mit der Spiegelfläche einstückig verbunden ist, oder in einem Spiegelgehäuse, welches den Spiegelkörper umgibt und in dem der Spiegelkörper gelagert ist. Zudem ist es möglich, den oder die Kühlräume im Bereich zwischen Spiegelkörper und Spiegelgehäuse vorzusehen. According to the invention, for a mirror arrangement for a projection exposure apparatus, in particular an EUV projection exposure apparatus for microlithography, at least one cooling space is provided in the area of the mirror surface which receives a cooling medium or through which a cooling medium can be passed in order to cool the mirror surface. The at least one cooling space can in this case be formed either in the mirror body per se, ie in the body which is integrally connected to the mirror surface, or in a mirror housing which surrounds the mirror body and in which the mirror body is mounted. In addition, it is possible to provide the cooling room (s) in the area between mirror body and mirror housing.

Die Kühlräume können miteinander verbunden sein, so dass nur an einer Stelle das Kühlmedium eingeleitet werden muss. Andererseits können bei mehreren Kühlräumen diese auch separat ausgebildet sein, so dass keine Verbindung zwischen diesen vorliegt. In diesem Fall ist es möglich, die Kühlräume getrennt voneinander zu betreiben, also beispielsweise unterschiedliche Kühlmedien einzusetzen oder die Kühlmedien unter unterschiedlichen Bedingungen einzusetzen, beispielsweise die Kühlmedien unter unterschiedlichen Druck in den Kühlräumen zu setzen. The cooling chambers can be connected to each other, so that only at one point the cooling medium has to be introduced. On the other hand, in the case of several cooling chambers, these can also be designed separately, so that there is no connection between them. In this case, it is possible to operate the cooling chambers separately from each other, that is, for example, to use different cooling media or to use the cooling media under different conditions, for example, to put the cooling media under different pressure in the cold rooms.

Insbesondere kann ein Ringkanal umlaufend um und/oder unterhalb der Spiegelfläche ausgebildet sein und/oder es können ein oder mehrere Kühlräume parallel zur Spiegelfläche unmittelbar unter der Spiegelfläche angeordnet sein.In particular, an annular channel may be formed circumferentially around and / or below the mirror surface and / or one or more cooling chambers may be arranged parallel to the mirror surface directly below the mirror surface.

In dem Kühlraum kann ein höherer Druck eingestellt werden, als in der Umgebung, so dass dadurch die Kühlung verbessert wird. Entsprechend ist der wenigstens eine Kühlraum so hergerichtet, dass er gegenüber der Umgebung abgedichtet ist, so dass in dem Kühlraum ein gegenüber der Umgebung höherer Druck eingestellt werden kann. In the refrigerator, a higher pressure can be set, as in the environment, thereby cooling is improved. Accordingly, the at least one cooling space is prepared so that it is sealed from the environment, so that in the cooling space, a relation to the environment higher pressure can be set.

Die den Kühlraum abdichtenden Dichtungen können insbesondere berührungslos arbeitende Gasdichtungen, so genannte leaky seals sein, bei denen enge Spalten oder Öffnungen ausgebildet werden, durch die zwar das Kühlmedium aus dem Kühlraum entweichen kann, aber trotzdem sichergestellt ist, dass im Kühlraum ein höherer Druck eingestellt werden kann als in der Umgebung. Insbesondere können derartige Gasdichtungen im Bereich um die Spiegelfläche vorgesehen sein, damit die Spiegelfläche an sich beweglich und/oder verformbar ausgestaltet sein kann. Zudem kann am Kühlmediumeinlass und/oder Kühlmediumauslass eine entsprechende Gasdichtung vorgesehen sein, um Einlass und Auslass des Kühlmediums von der Spiegelfläche und dem Spiegelkörper zu entkoppeln, so dass keine Kräfte, Vibrationen oder dergleichen über die Kühleinrichtung auf den Spiegel übertragen werden. The seals sealing the cooling space can be, in particular, contactless gas seals, so-called leaky seals, in which narrow gaps or openings are formed, through which the cooling medium can escape from the cooling space, but nevertheless ensures that a higher pressure is set in the cooling space can as in the environment. In particular, such gas seals may be provided in the area around the mirror surface, so that the mirror surface can be designed to be movable and / or deformable. In addition, at the cooling medium inlet and / or Kühlmediumauslass a corresponding gas seal may be provided to decouple the inlet and outlet of the cooling medium from the mirror surface and the mirror body, so that no forces, vibrations or the like are transmitted via the cooling device to the mirror.

Als Kühlmedium kann insbesondere Gas eingesetzt werden, wobei vorallem für die Anwendung bei EUV-Projektionsbelichtungsanlagen Wasserstoff möglich ist. Der Druck des Kühlgases kann im Bereich des 5-fachen Gasdrucks der Umgebung oder darüber liegen, insbesondere im Bereich des 10-fachen Gasdrucks der Umgebung oder darüber. In particular, gas can be used as the cooling medium, whereby hydrogen is possible, above all, for use in EUV projection exposure systems. The pressure of the cooling gas may be in the range of 5 times the gas pressure of the environment or above, in particular in the region of 10 times the gas pressure of the environment or above.

Die Spiegelanordnung mit dem oder den Kühlräumen ist insbesondere so hergerichtet und ausgestattet, dass der Druck des Kühlmediums in dem oder den Kühlräumen konstant gehalten werden kann. Dadurch wird vermieden, dass durch eine Änderung des Kühlmediumdrucks eine Verformung der Spiegelfläche bewirkt wird. Insbesondere kann der Druck des Kühlmediums in dem oder den Kühlräumen auch dann konstant gehalten werden, wenn die Spiegelfläche bewegt, also anders ausgerichtet wird und/oder zur Kompensation von Aberrationen verformt wird. The mirror arrangement with the cooling space (s) is in particular so prepared and equipped that the pressure of the cooling medium in the cooling room (s) can be kept constant. This avoids that a deformation of the mirror surface is caused by a change in the cooling medium pressure. In particular, the pressure of the cooling medium in the cold room (s) can also be kept constant when the mirror surface is moved, that is, it is aligned differently and / or is deformed to compensate for aberrations.

KURZBESCHREIBUNG DER FIGURBRIEF DESCRIPTION OF THE FIGURE

Die beigefügte Figur zeigt eine rein schematische Darstellung einer erfindungsgemäßen Spiegelanordnung im Querschnitt. The attached figure shows a purely schematic representation of a mirror arrangement according to the invention in cross section.

AUSFÜHRUNGSBEISPIELEmbodiment

Weitere Vorteile, Kennzeichen und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden bei der nachfolgenden Beschreibung eines Ausführungsbeispiels anhand der beigefügten Zeichnung verdeutlicht. Further advantages, characteristics and features of the present invention will become apparent in the following description of an embodiment with reference to the accompanying drawings.

Die Figur zeigt eine Spiegelanordnung 1 mit einem Spiegelkörper 11 und einer Spiegelfläche 2, die integral an dem Spiegelkörper 11 ausgebildet ist. In dem Spiegelkörper 11 ist ein umlaufender Ringkanal 3 ausgebildet, der über ein Gaseinlassrohr 9 mit einer Gasversorgung (nicht gezeigt) verbunden ist. Über das Gaseinlassrohr 9 kann Kühlgas, beispielsweise in Form von Wasserstoff, in den umlaufenden Ringkanal 3 eingeleitet werden, das somit einen Kühlraum für den Spiegelkörper 11 und der Spiegelfläche 2 bildet. The figure shows a mirror arrangement 1 with a mirror body 11 and a mirror surface 2 integral with the mirror body 11 is trained. In the mirror body 11 is a circumferential ring channel 3 formed by a gas inlet pipe 9 connected to a gas supply (not shown). About the gas inlet pipe 9 can cooling gas, for example in the form of hydrogen, in the circumferential annular channel 3 be initiated, which thus a cooling space for the mirror body 11 and the mirror surface 2 forms.

Das Gaseinlassrohr 9 ist in einer Durchgangsbohrung 10 angeordnet, so dass das Gaseinlassrohr 9 keinen Kontakt zum Spiegelkörper 11 aufweist. Stattdessen wird zwischen dem Spiegelkörper 11 und dem Gaseinlassrohr 9 ein Spalt ausgebildet, der eine so genannte Gasdichtung (leaky seal) darstellt. The gas inlet pipe 9 is in a through hole 10 arranged so that the gas inlet pipe 9 no contact with the mirror body 11 having. Instead, between the mirror body 11 and the gas inlet pipe 9 formed a gap, which is a so-called gas seal (leaky seal).

Der Ringkanal 3 weist umlaufend um die Spiegelfläche 2 eine Ringöffnung 6 auf, die die Spiegelfläche 2 von dem umgebenden Spiegelkörper 11 trennt. Die Ringöffnung 6 ist mit einem Abdeckring 4 teilweise verschlossen, um ebenfalls nur einen dünnen Spalt auszubilden, der wiederum eine entsprechende Gasdichtung (leaky seal) darstellt. Gleichzeitig wird jedoch gewährleistet, dass die Spiegelfläche 2 verkippt bzw. verformt werden kann. Die hierzu erforderlichen Aktuatoren sind aus Einfachheitsgründen in der vorliegenden Figur nicht dargestellt. Darüber hinaus wird durch die entsprechend dünne Ausbildung des Ringspalts 6 gewährleistet, dass im Kühlraum bzw. Ringkanal 3 ein ausreichend hoher Druck des Kühlmediums eingestellt werden kann. Entsprechend kann die Ringabdeckung 4 verstellbar ausgebildet sein, um Verkippungen oder Bewegungen der Spiegelfläche 2 unter Beibehaltung eines möglichst gleichbleibenden Ringspaltes 6 auszugleichen. The ring channel 3 revolves around the mirror surface 2 a ring opening 6 on that the mirror surface 2 from the surrounding mirror body 11 separates. The ring opening 6 is with a cover ring 4 partially closed to also form only a thin gap, which in turn represents a corresponding gas seal (leaky seal). At the same time, however, it ensures that the mirror surface 2 can be tilted or deformed. The actuators required for this purpose are not shown in the present figure for simplicity. In addition, due to the correspondingly thin formation of the annular gap 6 ensures that in the cold room or annular channel 3 a sufficiently high pressure of the cooling medium can be adjusted. Accordingly, the ring cover 4 be designed adjustable to tilt or movement of the mirror surface 2 while maintaining as constant as possible annular gap 6 compensate.

Durch die leaky seal Dichtung im Bereich des Gaseinlassrohrs 9 und im Bereich des Gasauslasses an der Ringöffnung wird zudem sichergestellt, dass keine Kräfte auf die Spiegelfläche und den Spiegelkörper 11 übertragen werden können. Through the leaky seal seal in the area of the gas inlet pipe 9 and in the area of the gas outlet at the ring opening, it is also ensured that no forces act on the mirror surface and the mirror body 11 can be transmitted.

Ferner wird durch die Gasdichtungen im Bereich des Gaseinlassrohrs 9 und der Ringabdeckung 4 sichergestellt, dass im Kühlraum 3 ein deutlich höherer Druck des Kühlmediums eingestellt werden kann, als in der Umgebung der Spiegelanordnung 1 herrscht. Beispielsweise kann im Bereich vor der Spiegelfläche 2 ein Druck von ca. 5 Pa herrschen, während im Kühlraum 3 ein Druck von 30 bis 60 Pa eingestellt wird.Further, by the gas seals in the region of the gas inlet pipe 9 and the ring cover 4 Ensured that in the refrigerator 3 a significantly higher pressure of the cooling medium can be set than in the vicinity of the mirror assembly 1 prevails. For example, in the area in front of the mirror surface 2 a pressure of about 5 Pa prevail, while in the refrigerator 3 a pressure of 30 to 60 Pa is set.

Als Kühlmedium kann insbesondere bei der Verwendung der Spiegelanordnung 1 in einer EUV (extrem ultraviolett)-Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie Wasserstoff und/oder Helium Verwendung finden. As a cooling medium, in particular when using the mirror assembly 1 in an EUV (extreme ultraviolet) projection exposure apparatus for microlithography hydrogen and / or helium find use.

In der Figur ist zudem dargestellt, dass im Bereich unterhalb der Spiegelfläche 2 Kühlbohrungen 5 vorgesehen sind, die sich im Wesentlichen parallel zur Spiegelfläche 2 erstrecken und ebenfalls mit entsprechendem Kühlmedium, also beispielsweise Wasserstoffgas gefüllt bzw. durchflutet werden können. Hierbei können die Kühlbohrungen 5 über entsprechende Verbindungsleitungen (nicht dargestellt) mit dem Kühlraum 3 verbunden sein, oder die Kühlbohrungen 5 können als separate Kühlräume gegenüber dem Kühlraum 3 ausgebildet sein. Die separate Ausbildung von mehreren getrennten Kühlräumen hat den Vorteil, dass die Kühlräume unabhängig voneinander unterschiedlich betrieben werden können, beispielsweise mit unterschiedlichen Kühlmedien, bei unterschiedlichen Drücken der Kühlmedien usw. Entsprechend kann statt des dargestellten ringförmigen, unterhalb und um die Spiegelfläche 2 umlaufend angeordneten Ringkanals 3 auch das Vorsehen von einem oder mehreren Kühlräumen mit anderen Formen geeignet sein, eine optimale Kühlung des Spiegels zu gewährleisten, um eine gewünschte Form der Spiegelfläche 2 exakt einstellen zu können. In the figure is also shown that in the area below the mirror surface 2 cooling holes 5 are provided, which are substantially parallel to the mirror surface 2 extend and also filled with appropriate cooling medium, so for example hydrogen gas or can be flooded. Here are the cooling holes 5 via corresponding connecting lines (not shown) with the refrigerator 3 be connected, or the cooling holes 5 Can be used as separate cold rooms opposite the refrigerator 3 be educated. The separate design of several separate cooling chambers has the advantage that the cooling chambers can be operated independently of each other differently, for example, with different cooling media, at different pressures of the cooling media, etc. Accordingly, instead of the illustrated annular, below and around the mirror surface 2 circumferentially arranged annular channels 3 Also, the provision of one or more cold rooms with other shapes suitable to ensure optimum cooling of the mirror to a desired shape of the mirror surface 2 to be able to set exactly.

In dem gezeigten Ausführungsbeispiel ist der Spiegelkörper 11, der die Spiegelfläche 2 integral umfasst, auf entsprechenden Lagern 7, 8 bzw. Aktuatoren gelagert, die es beispielsweise ermöglichen den gesamten Spiegelkörper 11 zusammen mit dem Gaseinlassrohr 9 auszurichten. Neben der Lagerung auf Aktuatoren ist auch noch die einfache Lagerung auf entsprechenden Lagerelementen möglich. In the embodiment shown, the mirror body 11 , the mirror surface 2 integral on corresponding bearings 7 . 8th or actuators stored, for example, allow the entire mirror body 11 together with the gas inlet pipe 9 align. In addition to the storage on actuators even the simple storage on corresponding storage elements is possible.

Neben der Ausgestaltung der Spiegelanordnung mit einem in den Spiegelkörper integrierten Kühlraum 3 bzw. mehreren Kühlbohrungen 5 ist es auch denkbar, den Spiegelkörper 11 in einem Spielgehäuse zu lagern, wobei in dem Spiegelgehäuse oder zwischen Spiegelkörper 11 und Spiegelgehäuse entsprechende Kühlräume vorgesehen sind. Beispielsweise wäre es vorstellbar, dass die Spiegelfläche 2 nicht einstückig mit dem den Ringkanal 3 umgebenden Spiegelkörper 11 verbunden ist, sondern dass die der Spiegelfläche 2 gegenüberliegende Kegelstumpffläche in einem entsprechenden Gehäuse gelagert ist. In addition to the design of the mirror assembly with a built-in mirror body cooling space 3 or several cooling holes 5 it is also conceivable, the mirror body 11 store in a game housing, wherein in the mirror housing or between mirror body 11 and mirror housings corresponding cooling spaces are provided. For example, it would be conceivable that the mirror surface 2 not in one piece with the ring channel 3 surrounding mirror body 11 is connected, but that of the mirror surface 2 opposite frustoconical surface is mounted in a corresponding housing.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand des Ausführungsbeispiels deutlich beschrieben worden ist, ist für den Fachmanns selbstverständlich, dass die Erfindung nicht durch dieses Ausführungsbeispiel beschränkt ist, sondern dass vielmehr Abwandlungen in der Weise möglich sind, dass einzelne vorgestellte Merkmale weggelassen oder eine andersartige Kombination der vorgestellten Merkmale vorgenommen wird, so lange der Schutzbereich, der durch die beigefügten Ansprüche definiert ist, nicht verlassen wird. Die vorliegende Erfindung umfasst insbesondere sämtliche Kombinationen aller vorgestellten Einzelmerkmale.Although the present invention has been clearly described with reference to the embodiment, it will be understood by those skilled in the art that the invention is not limited by this embodiment, but rather modifications are possible in the manner that individual features presented omitted or a different combination of the features presented is made as long as the scope of protection defined by the appended claims is not left. In particular, the present invention encompasses all combinations of all presented individual features.

Claims (10)

Spiegelanordnung für eine Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere EUV-Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer Spiegelfläche (2) und einem Spiegelkörper (11), an dem die Spiegelfläche einstückig angeordnet ist, und/oder einem den Spiegelkörper teilweise umgebenden Spiegelgehäuse, in dem der Spiegelkörper gelagert ist, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Spiegelkörper und/oder dem Spiegelgehäuse und/oder zwischen Spiegelkörper und Spiegelgehäuse mindestens ein oder mehrere Kühlräume (3, 5) ausgebildet sind, die ein Kühlmedium aufnehmen und/oder durch die ein Kühlmedium leitbar ist.Mirror arrangement for a projection exposure apparatus, in particular EUV projection exposure apparatus for microlithography with a mirror surface ( 2 ) and a mirror body ( 11 ), on which the mirror surface is arranged in one piece, and / or a mirror body partially surrounding the mirror housing in which the mirror body is mounted, characterized in that in the mirror body and / or the mirror housing and / or mirror body and mirror housing at least one or more Cold rooms ( 3 . 5 ) are formed, which receive a cooling medium and / or through which a cooling medium is conductive. Spiegelanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass bei mehreren Kühlräumen (3, 5) die Kühlräume untereinander zur Durchleitung eines Mediums verbunden sind oder voneinander zur separaten Kühlung getrennt sind. Mirror arrangement according to claim 1, characterized in that in the case of several cold storage rooms ( 3 . 5 ) the cooling chambers are interconnected for the passage of a medium or separated from each other for separate cooling. Spiegelanordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Kühlraum als Ringkanal (3) umlaufend um und/oder unterhalb der Spiegelfläche und/oder mindestens ein Kühlraum (5) durch parallel zur Spiegelfläche verlaufende Kanäle oder Bohrungen unterhalb der Spiegelfläche ausgebildet sind. Mirror arrangement according to claim 1 or 2, characterized in that at least one cooling space as an annular channel ( 3 ) around and / or below the mirror surface and / or at least one cooling space ( 5 ) are formed by parallel to the mirror surface extending channels or holes below the mirror surface. Spiegelanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Kühlraum so hergerichtet ist, dass im Kühlraum gegenüber der Umgebung ein höherer Druck des Kühlmediums einstellbar ist. Mirror arrangement according to one of the preceding claims, characterized in that the cooling space is prepared so that in the cooling space relative to the environment, a higher pressure of the cooling medium is adjustable. Spiegelanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Kühlraum mindestens eine Dichtung umfasst, die den Kühlraum gegenüber der Umgebung, insbesondere einem Kühlmediumein- und/oder auslass abdichtet, insbesondere eine berührungslose Gasdichtung. Mirror arrangement according to one of the preceding claims, characterized in that the cooling space comprises at least one seal which seals the cooling space from the environment, in particular a Kühlmediumein- and / or outlet, in particular a non-contact gas seal. Spiegelanordnung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelfläche verstellbar und/oder deformierbar ist, wobei die Dichtung eines Kühlraums an die Form und/oder Stellung der Spiegelfläche anpassbar ist. Mirror arrangement according to claim 5, characterized in that the mirror surface is adjustable and / or deformable, wherein the seal of a cooling space is adaptable to the shape and / or position of the mirror surface. Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere EUV-Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer Spiegelanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche. Projection exposure apparatus, in particular EUV projection exposure apparatus for microlithography with a mirror arrangement according to one of the preceding claims. Verfahren zur Kühlung einer Spiegelanordnung für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, insbesondere eine Spiegelanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, umfassend folgende Schritte, insbesondere in der Reihenfolge der Aufzählung: Bereitstellen einer Spiegelanordnung mit einer Spiegelfläche (2) und einem Spiegelkörper (11), an dem die Spiegelfläche einstückig angeordnet ist, und/oder einem Spiegelgehäuse, in dem der Spiegelkörper gelagert ist, wobei in dem Spiegelkörper und/oder dem Spiegelgehäuse mindestens ein oder mehrere Kühlräume ausgebildet sind, durch die ein Kühlmedium leitbar ist, Einleiten oder Durchleiten eines Kühlmediums in oder durch den mindestens einen Kühlraum.Method for cooling a mirror arrangement for a projection exposure apparatus for microlithography, in particular a mirror arrangement according to one of claims 1 to 6, comprising the following steps, in particular in the order of enumeration: providing a mirror arrangement with a mirror surface ( 2 ) and a mirror body ( 11 ), on which the mirror surface is arranged in one piece, and / or a mirror housing in which the mirror body is mounted, wherein in the mirror body and / or the mirror housing at least one or more cooling chambers are formed, through which a cooling medium is conductive, introducing or passing a cooling medium in or through the at least one cooling space. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Kühlmedium ein Gas, insbesondere Wasserstoff ist und/oder einen Druck aufweist, der gleich oder mehr als das 5-fache, insbesondere gleich oder mehr als das 10-fache des Spiegelumgebungsdruckes beträgt. A method according to claim 8, characterized in that the cooling medium is a gas, in particular hydrogen and / or has a pressure equal to or more than 5 times, in particular is equal to or more than 10 times the mirror ambient pressure. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Druck des Kühlmediums im Kühlraum konstant gehalten wird. Method according to one of claims 8 or 9, characterized in that the pressure of the cooling medium is kept constant in the cooling space.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10955595B2 (en) 2016-03-07 2021-03-23 Asml Netherlands B.V. Multilayer reflector, method of manufacturing a multilayer reflector and lithographic apparatus

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6822251B1 (en) * 2003-11-10 2004-11-23 University Of Central Florida Research Foundation Monolithic silicon EUV collector
DE102005017262B3 (en) * 2005-04-12 2006-10-12 Xtreme Technologies Gmbh Collector mirror for plasma-based short-wave radiation sources
DE102008049556A1 (en) * 2008-09-30 2010-04-01 Carl Zeiss Smt Ag Microlithographic projection exposure machine
DE102009039400A1 (en) * 2009-08-31 2011-03-03 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Reflective optical element for use in an EUV system
DE102011016769A1 (en) * 2010-04-16 2011-12-15 Media Lario S.R.L. EUV mirror module
DE102010034476A1 (en) * 2010-08-11 2012-02-16 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optical element
DE102011010462A1 (en) * 2011-01-28 2012-08-02 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optical arrangement for an EUV projection exposure apparatus and method for cooling an optical component

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6822251B1 (en) * 2003-11-10 2004-11-23 University Of Central Florida Research Foundation Monolithic silicon EUV collector
DE102005017262B3 (en) * 2005-04-12 2006-10-12 Xtreme Technologies Gmbh Collector mirror for plasma-based short-wave radiation sources
DE102008049556A1 (en) * 2008-09-30 2010-04-01 Carl Zeiss Smt Ag Microlithographic projection exposure machine
DE102009039400A1 (en) * 2009-08-31 2011-03-03 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Reflective optical element for use in an EUV system
DE102011016769A1 (en) * 2010-04-16 2011-12-15 Media Lario S.R.L. EUV mirror module
DE102010034476A1 (en) * 2010-08-11 2012-02-16 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optical element
DE102011010462A1 (en) * 2011-01-28 2012-08-02 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optical arrangement for an EUV projection exposure apparatus and method for cooling an optical component

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10955595B2 (en) 2016-03-07 2021-03-23 Asml Netherlands B.V. Multilayer reflector, method of manufacturing a multilayer reflector and lithographic apparatus

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