DE102014117011B4 - Process for the production of an organic light-emitting component - Google Patents

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Abstract

Verfahren zur Herstellung eines organischen Licht emittierenden Bauelements mit den Verfahrensschritten A) Ausbilden eines ersten organischen funktionellen Schichtenstapels (30) auf einer ersten Elektrode (20),B) Ausbilden eines Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapels (40) auf dem ersten organischen funktionellen Schichtenstapel (30),C) Ausbilden eines zweiten organischen funktionellen Schichtenstapels (50) auf dem Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel (40),D) Anordnen einer zweiten Elektrode (60) auf dem zweiten organischen funktionellen Schichtenstapel (50),wobei der Verfahrensschritt B) die folgenden Verfahrensschritte umfasst:B1) Ausbilden einer ersten elektronentransportierenden Schicht (41) undB2) Ausbilden einer ersten lochtransportierenden Schicht (42), wobei- Verfahrensschritt B1) folgende Verfahrensschritte umfasst:B11) Aufbringen eines ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials und eines ersten n-Dotierstoffs auf dem ersten organischen funktionellen Schichtenstapel (30) undB13) Vernetzen des ersten n-Dotierstoffs mit dem ersten elektronentransportierenden Matrixmaterial,und/oder wobei- Verfahrenschritt B2) folgende Verfahrensschritte umfasst:B21) Aufbringen eines ersten lochtransportierenden Matrixmaterials und eines ersten p-Dotierstoffs auf dem ersten organischen funktionellen Schichtenstapel (30) undB23) Vernetzen des ersten p-Dotierstoffs mit dem ersten lochtransportierenden Matrixmaterial,und wobei der erste n-Dotierstoff ein Cäsiumsalz ist, das zumindest eine funktionelle Gruppe aufweist, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst.A method for producing an organic light-emitting component with the method steps A) forming a first organic functional layer stack (30) on a first electrode (20), B) forming a charge carrier generating layer stack (40) on the first organic functional layer stack (30), C) forming a second organic functional layer stack (50) on the charge carrier generation layer stack (40), D) arranging a second electrode (60) on the second organic functional layer stack (50), method step B) comprising the following method steps: B1 ) Forming a first electron-transporting layer (41) andB2) Forming a first hole-transporting layer (42), process step B1) comprising the following process steps: B11) applying a first electron-transporting matrix material and a first n-type dopant to the first organic functional layer stack l (30) and B13) crosslinking of the first n-dopant with the first electron-transporting matrix material, and / or wherein- method step B2) comprises the following method steps: B21) application of a first hole-transporting matrix material and a first p-dopant on the first organic functional layer stack ( 30) andB23) crosslinking the first p-type dopant with the first hole-transporting matrix material, and wherein the first n-type dopant is a cesium salt having at least one functional group selected from a group comprising oxetane, epoxy and acrylic groups .

Description

Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines organischen Licht emittierenden Bauelements angegeben.A method for producing an organic light-emitting component is specified.

Organische, elektrolumineszierende Elemente sind in den folgenden Druckschriften offenbart: US 2012/0193619 A1 , US 2009/0032807 A1 und DE 102010006377 A1 .Organic electroluminescent elements are disclosed in the following documents: US 2012/0193619 A1 , US 2009/0032807 A1 and DE 102010006377 A1 .

Organische Licht emittierende Bauelemente, wie beispielsweise organische Licht emittierende Dioden (OLED), weisen üblicherweise zumindest eine elektrolumineszierende organische Schicht zwischen zwei Elektroden auf, die als Anode und Kathode ausgebildet sind und mittels derer in die elektrolumineszierende organische Schicht Ladungsträger, also Elektronen und Löcher, injiziert werden können. Hocheffiziente und langlebige OLEDs lassen sich mittels Leitfähigkeitsdotierungen durch die Verwendung eines p-i-n-Übergangs analog zu herkömmlichen anorganischen Licht emittierenden Dioden herstellen. Hierbei werden die Ladungsträger, also die Löcher und Elektronen, aus den p- und n-dotierten Schichten gezielt in die intrinsisch ausgebildete elektrolumineszierende Schicht injiziert, wo sie Exzitonen bilden, die bei strahlender Rekombination zur Emission eines Photons führen. Je höher der injizierte Strom, desto höher ist die emittierte Leuchtdichte. Aber auch der Stress nimmt mit Strom und Leuchtdichte zu, wodurch sich die OLED-Lebensdauer verkürzt. Um die Leuchtdichte zu erhöhen und die Lebensdauer zu verlängern, können mehrere OLEDs monolithisch übereinander gestapelt werden zu sogenannten gestapelten OLEDs, wobei sie elektrisch durch Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel, so genannte Charge Generation Layers (CGL), verbunden werden. Eine CGL besteht beispielsweise aus einem hoch dotierten p-n-Übergang, der als Tunnelübergang zwischen den gestapelten Emissionsschichten dient. Voraussetzung für den Einsatz einer CGL in beispielsweise einer weißen OLED sind ein einfacher Aufbau, das heißt wenige Schichten, die leicht prozessierbar sind, sowie eine möglichst hohe Transmission im von der OLED emittierten Spektralbereich, damit Absorptionsverluste des emittierten Lichts vermieden werden. Herkömmliche gestapelte OLEDs mit CGLs aus einer n- und einer p-dotierten Schicht weisen sehr kurze Lebensdauern auf, da die n-Dotierstoffe aus der n-dotierten Schicht in die p-dotierte Schicht diffundieren und die p-Dotierstoffe aus der p-dotierten Schicht in die n-dotierte Schicht diffundieren. Diese Diffusion findet verstärkt statt, wenn die OLEDs höheren Temperaturen ausgesetzt sind. Bislang wurde dieses Problem beispielsweise durch eine Zwischenschicht als Diffusionsbarriere zwischen der n- und der p-dotierten Schicht gelöst. Diese Zwischenschichten haben jedoch häufig den Nachteil einer relativ hohen Absorption, was die Effizienz der gestapelten OLED negativ beeinflusst. Diese Zwischenschichten beeinträchtigen auch die Off-State Appearance einer OLED. Zudem sind die Zwischenschichten häufig nur sehr eingeschränkt temperaturstabil, was den Einsatz dieser OLEDs bei Temperaturen über 80 °C nicht möglich macht.Organic light-emitting components, such as organic light-emitting diodes (OLED), usually have at least one electroluminescent organic layer between two electrodes, which are designed as an anode and cathode and by means of which charge carriers, i.e. electrons and holes, are injected into the electroluminescent organic layer can be. Highly efficient and long-lasting OLEDs can be produced by means of conductivity doping through the use of a p-i-n junction analogous to conventional inorganic light-emitting diodes. The charge carriers, i.e. the holes and electrons, are injected from the p- and n-doped layers in a targeted manner into the intrinsically formed electroluminescent layer, where they form excitons that lead to the emission of a photon in the event of radiative recombination. The higher the injected current, the higher the emitted luminance. But the stress also increases with current and luminance, which shortens the life of the OLED. In order to increase the luminance and extend the service life, several OLEDs can be stacked monolithically on top of one another to form so-called stacked OLEDs, whereby they are electrically connected by charge generation layers (CGL). A CGL consists, for example, of a highly doped p-n junction that serves as a tunnel junction between the stacked emission layers. A prerequisite for the use of a CGL in, for example, a white OLED is a simple structure, i.e. a few layers that are easy to process, and the highest possible transmission in the spectral range emitted by the OLED, so that absorption losses of the emitted light are avoided. Conventional stacked OLEDs with CGLs composed of an n- and a p-doped layer have very short lifetimes, since the n-dopants diffuse from the n-doped layer into the p-doped layer and the p-dopants from the p-doped layer diffuse into the n-doped layer. This diffusion takes place more intensely when the OLEDs are exposed to higher temperatures. So far, this problem has been solved, for example, by an intermediate layer as a diffusion barrier between the n- and p-doped layer. However, these intermediate layers often have the disadvantage of a relatively high absorption, which has a negative impact on the efficiency of the stacked OLED. These intermediate layers also impair the off-state appearance of an OLED. In addition, the intermediate layers are often only thermally stable to a very limited extent, which makes it impossible to use these OLEDs at temperatures above 80 ° C.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung eines organischen Licht emittierenden Bauelements anzugeben.The object of the present invention is to specify a method for producing an organic light-emitting component.

Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren nach dem Hauptanspruch gelöst. Vorteilhafte Ausführungsformen und Weiterbildungen dieses Verfahrens sind in den abhängigen Ansprüchen gekennzeichnet und gehen weiterhin aus der nachfolgenden Beschreibung und den Zeichnungen hervor.This object is achieved by a method according to the main claim. Advantageous embodiments and developments of this method are characterized in the dependent claims and are furthermore evident from the following description and the drawings.

Es wird ein organisches Licht emittierendes Bauelement angegeben, das eine erste Elektrode, einen ersten organischen funktionellen Schichtenstapel auf der ersten Elektrode, einen Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel auf dem ersten organischen funktionellen Schichtenstapel, einen zweiten organischen funktionellen Schichtenstapel auf dem Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel, und eine zweite Elektrode auf dem zweiten organischen funktionellen Schichtenstapel aufweist. Der Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel weist zumindest eine erste elektronentransportierende Schicht und eine erste lochtransportierende Schicht auf. Die erste elektronentransportierende Schicht umfasst ein erstes elektronentransportierendes Matrixmaterial und einen ersten n-Dotierstoff, wobei der erste n-Dotierstoff an das erste elektronentransportierende Matrixmaterial kovalent gebunden ist und/oder die erste lochtransportierende Schicht umfasst ein erstes lochtransportierendes Matrixmaterial und einen ersten p-Dotierstoff, wobei der erste p-Dotierstoff an das erste lochtransportierende Matrixmaterial kovalent gebunden ist.An organic light-emitting component is specified which has a first electrode, a first organic functional layer stack on the first electrode, a charge carrier generation layer stack on the first organic functional layer stack, a second organic functional layer stack on the charge carrier generation layer stack, and a second electrode having on the second organic functional layer stack. The charge carrier generation layer stack has at least a first electron-transporting layer and a first hole-transporting layer. The first electron-transporting layer comprises a first electron-transporting matrix material and a first n-dopant, wherein the first n-dopant is covalently bonded to the first electron-transporting matrix material and / or the first hole-transporting layer comprises a first hole-transporting matrix material and a first p-dopant, wherein the first p-type dopant is covalently bound to the first hole-transporting matrix material.

In einer Ausführungsform wird die erste elektronentransportierende Schicht durch die Vernetzung des ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials und des ersten n-Dotierstoffs, hergestellt und/oder die erste lochtransportierende Schicht wird durch die Vernetzung des ersten lochtransportierenden Matrixmaterials und des ersten p-Dotierstoffs hergestellt.In one embodiment, the first electron-transporting layer is produced by crosslinking the first electron-transporting matrix material and the first n-type dopant and / or the first hole-transporting layer is produced by crosslinking the first hole-transporting matrix material and the first p-type dopant.

Bei der Vernetzung handelt es sich um eine intermolekulare Vernetzung eines ersten lochtransportierenden Matrixmaterials und eines ersten p-Dotierstoffs und/oder eine intermolekulare Vernetzung eines ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials und eines ersten n-Dotierstoffs. Durch die Vernetzung wird der erste n-Dotierstoff an das erste elektronentransportierende Matrixmaterial kovalent gebunden und/oder der erste p-Dotierstoff wird an das erste lochtransportierende Matrixmaterial kovalent gebunden. In der ersten elektronentransportierenden Schicht und/oder in der ersten lochtransportierenden Schicht befinden sich keine oder nahezu keine Moleküle des ersten n-Dotierstoffs und/oder des ersten p-Dotierstoffs, die nicht an das erste elektronentransportierende Matrixmaterial und/oder an das erste lochtransportierende Matrixmaterials gebunden sind.The crosslinking is an intermolecular crosslinking of a first hole-transporting matrix material and a first p-dopant and / or an intermolecular crosslinking of a first electron-transporting matrix material and a first n-type dopant. As a result of the crosslinking, the first n-dopant is covalently bound to the first electron-transporting matrix material and / or the first p-dopant is covalently bound to the first hole-transporting matrix material. In the first electron-transporting layer and / or in the first hole-transporting layer there are no or almost no molecules of the first n-dopant and / or of the first p-dopant that are not bound to the first electron-transporting matrix material and / or to the first hole-transporting matrix material are.

Mit „auf“ bezüglich der Anordnung der Schichten und Schichtenstapel ist hier und im Folgenden eine prinzipielle Reihenfolge gemeint und ist so zu verstehen, dass eine erste Schicht entweder so auf einer zweiten Schicht angeordnet ist, dass die Schichten eine gemeinsame Grenzfläche haben also in direktem mechanischen und/oder elektrischen Kontakt miteinander stehen, oder dass zwischen der ersten Schicht und der zweiten Schicht noch weitere Schichten angeordnet sind.Here and below, “on” with regard to the arrangement of the layers and layer stacks means a basic sequence and is to be understood as meaning that a first layer is either arranged on a second layer in such a way that the layers have a common interface, ie in direct mechanical terms and / or are in electrical contact with one another, or that further layers are arranged between the first layer and the second layer.

Die organischen funktionellen Schichtstapel können jeweils Schichten mit organischen Polymeren, organischen Oligomeren, organischen Monomeren, organischen kleinen, nicht-polymeren Molekülen („small molecules“) oder Kombinationen daraus aufweisen. Weiterhin können sie zumindest eine organische Licht emittierende Schicht aufweisen. Als Materialien für die organische Licht emittierende Schicht eignen sich Materialien, die eine Strahlungsemission aufgrund von Fluoreszenz oder Phosphoreszenz aufweisen, beispielsweise Ir- oder Pt-Komplexe, Polyfluoren, Polythiophen oder Polyphenylen oder Derivate, Verbindungen, Mischungen oder Copolymere davon. Die organischen funktionellen Schichtenstapel können weiterhin jeweils eine funktionelle Schicht aufweisen, die als Lochtransportschicht ausgeführt ist, um eine effektive Löcherinjektion in die zumindest eine Licht emittierende Schicht zu ermöglichen. Die organischen funktionellen Schichtenstapel können weiterhin jeweils eine funktionelle Schicht aufweisen, die als Elektronentransportschicht ausgebildet ist. Darüber hinaus können die organischen funktionellen Schichtenstapel auch Elektronen- und/oder Löcherblockierschichten aufweisen. Materialien für die Lochtransportschichten, die Elektronentransportschichten und die Elektronen- und/oder Löcherblockierschichten sind dem Fachmann bekannt.The organic functional layer stacks can each have layers with organic polymers, organic oligomers, organic monomers, organic small, non-polymeric molecules (“small molecules”) or combinations thereof. Furthermore, they can have at least one organic light-emitting layer. Suitable materials for the organic light-emitting layer are materials which emit radiation due to fluorescence or phosphorescence, for example Ir or Pt complexes, polyfluorene, polythiophene or polyphenylene or derivatives, compounds, mixtures or copolymers thereof. The organic functional layer stacks can furthermore each have a functional layer which is designed as a hole transport layer in order to enable an effective hole injection into the at least one light-emitting layer. The organic functional layer stacks can furthermore each have a functional layer which is designed as an electron transport layer. In addition, the organic functional layer stacks can also have electron and / or hole blocking layers. Materials for the hole transport layers, the electron transport layers and the electron and / or hole blocking layers are known to the person skilled in the art.

In einer Ausführungsform umfasst das Bauelement ein Substrat. Die erste Elektrode kann auf dem Substrat angeordnet sein. Das Substrat kann beispielsweise eines oder mehrere Materialien in Form einer Schicht, einer Platte, einer Folie oder eines Laminates aufweisen, die ausgewählt sind aus Glas, Quarz, Kunststoff, Metall und Siliziumwafer. Besonders bevorzugt weist das Substrat Glas, beispielsweise in Form einer Glasschicht, Glasfolie oder Glasplatte, auf oder es besteht daraus.In one embodiment, the component comprises a substrate. The first electrode can be arranged on the substrate. The substrate can for example have one or more materials in the form of a layer, a plate, a film or a laminate, which are selected from glass, quartz, plastic, metal and silicon wafer. The substrate particularly preferably has glass, for example in the form of a glass layer, glass film or glass plate, or it consists of it.

Die zwei Elektroden, zwischen denen die organischen funktionellen Schichtenstapel angeordnet sind, können beispielsweise beide transluzent ausgebildet sein, sodass das in der zumindest einen Licht emittierenden Schicht zwischen den beiden Elektroden erzeugte Licht in beide Richtungen, also in Richtung des Substrats als auch in die vom Substrat abgewandte Richtung, abgestrahlt werden können. Weiterhin können beispielsweise alle Schichten des organischen Licht emittierenden Bauelements transluzent ausgebildet sein, sodass das organische Licht emittierende Bauelement eine transluzente und insbesondere eine transparente OLED bildet. Darüber hinaus kann es auch möglich sein, dass eine der beiden Elektroden, zwischen denen die organischen funktionellen Schichtenstapel angeordnet sind, nichttransluzent und vorzugsweise reflektierend ausgebildet ist, sodass das in der zumindest einen Licht emittierenden Schicht zwischen den beiden Elektroden erzeugte Licht nur in eine Richtung durch die transluzente Elektrode abgestrahlt werden kann. Ist die auf dem Substrat angeordnete Elektrode transluzent und ist auch das Substrat transluzent ausgebildet, so spricht man auch von einem so genannten bottom emitter‟, während man im Fall, dass die dem Substrat abgewandt angeordnete Elektrode transluzent ausgebildet ist, von einem so genannten „top emitter“ spricht.The two electrodes, between which the organic functional layer stacks are arranged, can both be designed to be translucent, for example, so that the light generated in the at least one light-emitting layer between the two electrodes goes in both directions, i.e. in the direction of the substrate as well as in that of the substrate remote direction, can be emitted. Furthermore, for example, all layers of the organic light-emitting component can be designed to be translucent, so that the organic light-emitting component forms a translucent and in particular a transparent OLED. In addition, it can also be possible for one of the two electrodes between which the organic functional layer stacks are arranged to be non-translucent and preferably reflective, so that the light generated in the at least one light-emitting layer between the two electrodes only passes in one direction the translucent electrode can be radiated. If the electrode arranged on the substrate is translucent and the substrate is also made translucent, then one speaks of a so-called bottom emitter, while in the case that the electrode arranged facing away from the substrate is made translucent, one speaks of a so-called “top” emitter ”speaks.

Die erste und die zweite Elektrode können unabhängig voneinander ein Material aufweisen, das aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Metalle, elektrisch leitfähige Polymere, Übergangsmetalloxide und leitfähige transparente Oxide (transparent conductive oxide, TCO) umfasst. Die Elektroden können auch Schichtenstapel mehrerer Schichten desselben oder unterschiedlicher Metalle oder desselben oder unterschiedlicher TCOs sein.The first and the second electrode can independently of one another have a material which is selected from a group comprising metals, electrically conductive polymers, transition metal oxides and conductive transparent oxides (transparent conductive oxide, TCO). The electrodes can also be layer stacks of several layers of the same or different metals or the same or different TCOs.

Geeignete Metalle sind beispielsweise Ag, Pt, Au, Mg, Al, Ba, In, Ca, Sm oder Li, sowie Verbindungen, Kombinationen oder Legierungen daraus.Suitable metals are, for example, Ag, Pt, Au, Mg, Al, Ba, In, Ca, Sm or Li, as well as compounds, combinations or alloys thereof.

Transparente leitende Oxide (transparent conductive oxides, kurz „TCO“) sind transparente, leitende Materialien, in der Regel Metalloxide, wie beispielsweise Zinkoxid, Zinnoxid, Cadmiumoxid, Titanoxid, Indiumoxid oder Indiumzinnoxid (ITO). Neben binären Metallsauerstoffverbindungen, wie beispielsweise ZnO, SnO2 oder In2O3 gehören auch ternäre Metallsauerstoffverbindungen, wie beispielsweise Zn2SnO4, CdSnO3, ZnSnO3, MgIn2O4, GaInO3, Zn2In2O5 oder In4Sn3O12 oder Mischungen unterschiedlicher transparenter leitender Oxide zu der Gruppe der TCOs. Weiterhin entsprechen die TCOs nicht zwingend einer stöchiometrischen Zusammensetzung und können auch p- oder n-dotiert sein.Transparent conductive oxides (“TCO” for short) are transparent, conductive materials, usually metal oxides, such as zinc oxide, tin oxide, cadmium oxide, titanium oxide, indium oxide or indium tin oxide (ITO). In addition to binary metal oxygen compounds, such as ZnO, SnO 2 or In2O 3 also belong to the group of ternary metal oxygen compounds such as Zn 2 SnO 4 , CdSnO 3 , ZnSnO 3 , MgIn 2 O 4 , GaInO 3 , Zn 2 In 2 O 5 or In4Sn 3 O 12 or mixtures of different transparent conductive oxides TCOs. Furthermore, the TCOs do not necessarily correspond to a stoichiometric composition and can also be p- or n-doped.

Die organischen funktionellen Schichtenstapel des hier beschriebenen organischen Licht emittierenden Bauelements weisen weiterhin unmittelbar angrenzend einen Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel auf. Mit einem „Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel“ wird hier und im Folgenden eine Schichtenfolge beschrieben, die als Tunnelübergang ausgebildet ist und die durch einen p-n-Übergang gebildet wird. Der Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel, der auch als so genannte „charge generation layer“ (CGL) bezeichnet werden kann, ist insbesondere als Tunnelübergang ausgebildet, der zu einer effektiven Ladungstrennung und damit zur „Erzeugung“ von Ladungsträgern für die angrenzenden Schichten eingesetzt werden kann. The organic functional layer stacks of the organic light-emitting component described here furthermore have a charge carrier generation layer stack immediately adjacent. A “charge carrier generation layer stack” is used here and below to describe a layer sequence which is designed as a tunnel junction and which is formed by a p-n junction. The charge generation layer stack, which can also be referred to as the so-called “charge generation layer” (CGL), is designed in particular as a tunnel junction that can be used for effective charge separation and thus for “generation” of charge carriers for the adjacent layers.

Beispielsweise kann der Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel direkt an die organischen funktionellen Schichtenstapel angrenzen.For example, the charge carrier generation layer stack can directly adjoin the organic functional layer stack.

In einer Ausführungsform ist die erste elektronentransportierende Schicht durch die Vernetzung eines ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials und eines ersten n-Dotierstoffs hergestellt. Der erste n-Dotierstoff weist zumindest eine funktionelle Gruppe auf, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst. Die Vernetzung erfolgt über die zumindest eine funktionelle Gruppe des n-Dotierstoffs.In one embodiment, the first electron-transporting layer is produced by crosslinking a first electron-transporting matrix material and a first n-type dopant. The first n-type dopant has at least one functional group selected from a group comprising oxetane, epoxy and acrylic groups. The crosslinking takes place via the at least one functional group of the n-dopant.

In einer Ausführungsform ist die erste lochtransportierende Schicht durch die Vernetzung eines ersten lochtransportierenden Matrixmaterials und eines ersten p-Dotierstoffs hergestellt. Der erste p-Dotierstoff weist zumindest eine funktionelle Gruppe auf, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst. Die Vernetzung erfolgt über die zumindest eine funktionelle Gruppe des p-Dotierstoffs.In one embodiment, the first hole-transporting layer is produced by crosslinking a first hole-transporting matrix material and a first p-type dopant. The first p-type dopant has at least one functional group selected from a group including oxetane, epoxy and acrylic groups. The crosslinking takes place via the at least one functional group of the p-dopant.

In einer so durch Vernetzung des ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials mit dem ersten n-Dotierstoff hergestellten ersten elektronentransportierenden Schicht und/oder in einer so durch Vernetzung des ersten lochtransportierenden Matrixmaterials mit dem ersten p-Dotierstoff hergestellten ersten lochtransportierende Schicht sind die Dotierstoffe fest in der jeweiligen Schicht eingebunden und werden so immobilisiert. So wird eine Diffusion des ersten p-Dotierstoffs und des ersten n-Dotierstoffs in angrenzende Schichten unterbunden. Dadurch wird die Lebensdauer des organischen Licht emittierenden Bauelements erhöht, da über die gesamte Betriebslaufzeit eine konstante Ladungsträgerinjektion in den ersten und den zweiten organischen funktionellen Schichtenstapel möglich ist.In a first electron-transporting layer produced by crosslinking the first electron-transporting matrix material with the first n-dopant and / or in a first hole-transporting layer produced by crosslinking the first hole-transporting matrix material with the first p-dopant, the dopants are firmly integrated in the respective layer and are thus immobilized. Diffusion of the first p-dopant and the first n-dopant into adjacent layers is thus prevented. This increases the service life of the organic light-emitting component, since a constant charge carrier injection into the first and second organic functional layer stacks is possible over the entire operating time.

Das organische Licht emittierende Bauelement kann bei Temperaturen über 80 °C eingesetzt werden ohne dass es zu Effizienzverlusten oder einer Verkürzung der Lebensdauer kommt. So eignet sich das organische Licht emittierende Bauelement beispielsweise für den Einsatz in Automobilen oder im Außenbereich.The organic light-emitting component can be used at temperatures above 80 ° C. without loss of efficiency or a reduction in service life. The organic light-emitting component is suitable, for example, for use in automobiles or outdoors.

In einer Ausführungsform umfasst der Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel eine erste elektronentransportierende Schicht umfassend ein zweites elektronentransportierendes Matrixmaterial oder ein zweites elektronentransportierendes Matrixmaterial und einen zweiten n-Dotierstoff.In one embodiment, the charge carrier generation layer stack comprises a first electron-transporting layer comprising a second electron-transporting matrix material or a second electron-transporting matrix material and a second n-type dopant.

In einer Ausführungsform umfasst der Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel eine erste lochtransportierende Schicht umfassend ein zweites lochtransportierendes Matrixmaterial oder ein zweites lochtransportierendes Matrixmaterial und einen zweiten p-Dotierstoff.In one embodiment, the charge carrier generation layer stack comprises a first hole-transporting layer comprising a second hole-transporting matrix material or a second hole-transporting matrix material and a second p-type dopant.

In einer Ausführungsform besteht der Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel aus der ersten elektronentransportierenden Schicht, die durch Vernetzung des ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials und des ersten n-Dotierstoffs, der zumindest eine funktionelle Gruppe aufweist, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst, hergestellt ist und aus einer ersten lochtransportierenden Schicht umfassend ein zweites lochtransportierendes Matrixmaterial und einen zweiten p-Dotierstoff. So wird die Diffusion des ersten n-Dotierstoffs in die erste lochtransportierende Schicht unterbunden. Auch zeigt die erste elektronentransportierende Schicht eine Barrierewirkung für die Diffusion des zweiten p-Dotierstoffs in die erste elektronentransportierende Schicht.In one embodiment, the charge carrier generation layer stack consists of the first electron-transporting layer, which is formed by crosslinking the first electron-transporting matrix material and the first n-type dopant, which has at least one functional group selected from a group which Comprises oxetane, epoxy and acrylic groups and is produced from a first hole-transporting layer comprising a second hole-transporting matrix material and a second p-type dopant. In this way, the diffusion of the first n-dopant into the first hole-transporting layer is prevented. The first electron-transporting layer also exhibits a barrier effect for the diffusion of the second p-type dopant into the first electron-transporting layer.

In einer Ausführungsform besteht der Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel aus der ersten lochtransportierenden Schicht, die durch Vernetzung des ersten lochtransportierenden Matrixmaterials und des ersten p-Dotierstoffs, der zumindest eine funktionelle Gruppe aufweist, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst, hergestellt ist und aus einer ersten elektronentransportierenden Schicht umfassend ein zweites elektronentransportierendes Matrixmaterial und einen zweiten n-Dotierstoff. So wird die Diffusion des ersten p-Dotierstoffs in die erste elektronentransportierende Schicht unterbunden. Auch zeigt die erste lochtransportierende Schicht eine Barrierewirkung für die Diffusion des zweiten n-Dotierstoffs in die erste lochtransportierende Schicht.In one embodiment, the charge carrier generation layer stack consists of the first hole-transporting layer, which is formed by crosslinking the first hole-transporting matrix material and the first p-dopant, which has at least one functional group selected from a group consisting of the oxetane, epoxy and acrylic groups comprises, is produced and from a first electron-transporting layer comprising a second electron-transporting matrix material and a second n-type dopant. This prevents the diffusion of the first p-type dopant into the first electron-transporting layer. The first hole-transporting layer also exhibits a barrier effect for the diffusion of the second n-type dopant into the first hole-transporting layer.

In einer Ausführungsform besteht der Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel aus der ersten elektronentransportierenden Schicht, die aus dem ersten elektronentransportierenden Matrixmaterial und dem ersten n-Dotierstoff hergestellt ist und der ersten lochtransportierenden Schicht, die aus dem ersten lochtransportierenden Matrixmaterial und dem ersten p-Dotierstoff hergestellt ist. Somit ist hier zwischen der ersten elektronentransportierenden Schicht und der ersten lochtransportierenden Schicht keine Zwischenschicht als Diffusionsbarriere für die ersten n- und p-Dotierstoffe nötig, da diese in der jeweiligen Schicht durch chemische Bindungen fest eingebunden sind, so dass eine Diffusion nicht oder nur sehr geringfügig stattfindet. Somit kann eine Schicht eingespart werden, was die Gesamtdicke des ersten Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapels und somit auch dessen Lichtabsorption erniedrigt und somit die Effizienz des organischen Licht emittierenden Bauelements erhöht.In one embodiment, the charge carrier generation layer stack consists of the first electron-transporting layer, which is produced from the first electron-transporting matrix material and the first n-type dopant, and the first hole-transporting layer, which is produced from the first hole-transporting matrix material and the first p-type dopant. Thus, between the first electron-transporting layer and the first hole-transporting layer, there is no need for an intermediate layer as a diffusion barrier for the first n- and p-dopants, since these are firmly bound in the respective layer by chemical bonds, so that diffusion is not or only very slight takes place. One layer can thus be saved, which lowers the total thickness of the first charge carrier generation layer stack and thus also its light absorption and thus increases the efficiency of the organic light-emitting component.

In einer Ausführungsform besteht die erste elektronentransportierende Schicht aus dem zweiten elektronentransportierenden Matrixmaterial oder dem zweiten elektronentransportierenden Matrixmaterial und dem zweiten n-Dotierstoff. Insbesondere ist das zweite elektronentransportierende Matrixmaterial nicht mit dem zweiten n-Dotierstoff vernetzt.In one embodiment, the first electron-transporting layer consists of the second electron-transporting matrix material or the second electron-transporting matrix material and the second n-type dopant. In particular, the second electron-transporting matrix material is not crosslinked with the second n-type dopant.

Das zweite elektronentransportierende Matrixmaterial kann aus einer Gruppe ausgewählt sein, die NET-18, 2,2',2" -(1,3,5-Benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazol), 2-(4-Biphenylyl)-5-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazol, 2,9-Dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthrolin (BCP), 8-Hydroxyquinolinolato-lithium, 4-(Naphthalen-1-yl)-3,5-diphenyl-4H-1,2,4-triazol, 1,3-Bis[2-(2,2'-bipyridine-6-yl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzen, 4,7-Diphenyl-1,10-phenanthroline (BPhen), 3-(4-Biphenylyl)-4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazol, Bis(2-methyl-8-quinolinolate)-4-(phenylphenolato)aluminium, 6,6'-Bis[5-(biphenyl-4-yl)-1,3,4-oxadiazo-2-yl]-2,2'-bipyridyl, 2-phenyl-9,10-di(naphthalen-2-yl)-anthracen, 2,7-Bis[2-(2,2'-bipyridine-6-yl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]-9,9-dimethylfluoren, 1,3-Bis[2-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzen, 2-(naphthalen-2-yl)-4,7-diphenyl-1,10-phenanthrolin, 2,9-Bis(naphthalen-2-yl)-4,7-diphenyl-1,10-phenanthrolin, Tris(2,4,6-trimethyl-3-(pyridin-3-yl)phenyl)boran, 1-methyl-2-(4-(naphthalen-2-yl)phenyl)-1H-imidazo[4,5-f][1,10]phenanthrolin, Phenyldipyrenylphosphinoxide, Naphtahlintetracarbonsäuredianhydrid und dessen Imide, Perylentetracarbonsäuredianhydrid und dessen Imide, Materialien basierend auf Silolen mit einer Silacyclopentadieneinheit sowie Gemische der vorgenannten Stoffe umfasst.The second electron-transporting matrix material can be selected from a group consisting of NET-18, 2,2 ', 2 "- (1,3,5-benzene triyl) -tris (1-phenyl-1-H-benzimidazole), 2- ( 4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP), 8-hydroxyquinolinolato-lithium, 4- (naphthalen-1-yl) -3,5-diphenyl-4H-1,2,4-triazole, 1,3-bis [2- (2,2'-bipyridine-6-yl) -1.3 , 4-oxadiazo-5-yl] benzene, 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BPhen), 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4- triazole, bis (2-methyl-8-quinolinolate) -4- (phenylphenolato) aluminum, 6,6'-bis [5- (biphenyl-4-yl) -1,3,4-oxadiazo-2-yl] - 2,2'-bipyridyl, 2-phenyl-9,10-di (naphthalen-2-yl) -anthracene, 2,7-bis [2- (2,2'-bipyridine-6-yl) -1.3 , 4-oxadiazo-5-yl] -9,9-dimethylfluorene, 1,3-bis [2- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazo-5-yl] benzene, 2- (naphthalene -2-yl) -4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline, 2,9-bis (naphthalen-2-yl) -4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline, tris (2,4,6 -trimethyl-3- (pyridin-3-yl) phenyl) borane, 1-methyl-2- (4 - (Naphthalen-2-yl) phenyl) -1H-imidazo [4,5-f] [1,10] phenanthroline, phenyldipyrenylphosphine oxides, naphthalene tetracarboxylic acid dianhydride and its imides, perylenetetracarboxylic acid dianhydride and its imides, materials based on siloles with a silacyclopentadiene unit includes the aforementioned substances.

In einer Ausführungsform ist das erste elektronentransportierende Matrixmaterial aus den gleichen Materialien ausgewählt wie das zweite elektronentransportierende Matrixmaterial, wobei die genannten Materialien zumindest eine funktionelle Gruppe aufweisen, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst.In one embodiment, the first electron-transporting matrix material is selected from the same materials as the second electron-transporting matrix material, said materials having at least one functional group selected from a group comprising oxetane, epoxy and acrylic groups.

In einer Ausführungsform weist das erste elektronentransportierende Matrixmaterial oder ein Anteil des ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials zumindest eine funktionelle Gruppe auf, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst und ist mit einem Vernetzungsinitiator funktionalisiert, der aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Sulfonium- oder Iodoniumsalze umfasst. Der Anteil kann bei 0,5 bis 10 mol%, bevorzugt 0,5 bis 5 mol%, besonders bevorzugt bei 0,5 bis 2 mol% bezogen auf die Gesamtmenge an erstem elektronentransportierendem Matrixmaterial liegen. In einer bevorzugten Ausführungsform beträgt das Verhältnis der Oxetan-, Epoxid- und/oder Acrylgruppen zu dem Vernetzungsinitiator 200:1 bis 10:1.In one embodiment, the first electron-transporting matrix material or a portion of the first electron-transporting matrix material has at least one functional group which is selected from a group which comprises oxetane, epoxy and acrylic groups and is functionalized with a crosslinking initiator which is selected from a group , which includes sulfonium or iodonium salts. The proportion can be 0.5 to 10 mol%, preferably 0.5 to 5 mol%, particularly preferably 0.5 to 2 mol%, based on the total amount of first electron-transporting matrix material. In a preferred embodiment, the ratio of the oxetane, epoxy and / or acrylic groups to the crosslinking initiator is 200: 1 to 10: 1.

Die so gewählten ersten elektronentransportierenden Matrixmaterialien beeinflussen die elektrooptischen Eigenschaften des organischen Licht emittierenden Bauelements nicht. Dies trifft sowohl auf die freien Moleküle als auch auf die mit den ersten n-Dotierstoffen vernetzten Moleküle zu.The first electron-transporting matrix materials selected in this way do not influence the electro-optical properties of the organic light-emitting component. This applies both to the free molecules and to the molecules crosslinked with the first n-dopants.

Beispielsweise weist das erste elektronentransportierende Matrixmaterial eine der folgenden Formeln auf:

Figure DE102014117011B4_0001
For example, the first electron-transporting matrix material has one of the following formulas:
Figure DE102014117011B4_0001

Die Epoxid-, Oxetan- oder Acrylgruppen können jedes beliebige H-Atom der Aromaten substituieren. Es können auch mehrere H-Atome durch Epoxid-, Oxetan- oder Acrylgruppen substituiert sein. Beispielsweise kann das erste elektronentransportierende Matrixmaterial eine der folgenden Formeln aufweisen:

Figure DE102014117011B4_0002
The epoxy, oxetane or acrylic groups can substitute any H atom of the aromatics. Several H atoms can also be substituted by epoxy, oxetane or acrylic groups. For example, the first electron-transporting matrix material can have one of the following formulas:
Figure DE102014117011B4_0002

Ist das erste elektronentransportierende Matrixmaterial zusätzlich mit einem Vernetzungsinitiator funktionalisiert, weist es beispielsweise eine der folgenden Formeln auf:

Figure DE102014117011B4_0003
R3 2S+A- oder R3I+A- können jedes beliebige H-Atom des Aromaten substituieren. Es können auch mehrere H-Atom des Aromaten durch R3 2S+A- oder R3I+A- substituiert sein. Die Reste R3 können beispielsweise Alkyl- oder Arylreste sein. Beispielsweise kann R3 ein Phenyl- oder Methylrest sein. Bei A- handelt es sich um ein Anion, beispielsweise um BF4 -, PF6 - SbF6 - oder 0,5 CO3 2-.If the first electron-transporting matrix material is additionally functionalized with a crosslinking initiator, it has, for example, one of the following formulas:
Figure DE102014117011B4_0003
R 3 2 S + A - or R 3 I + A - can substitute any H atom of the aromatic. Several H atoms in the aromatic can also be substituted by R 3 2 S + A - or R 3 I + A - . The radicals R 3 can be, for example, alkyl or aryl radicals. For example, R 3 can be a phenyl or methyl radical. A - is an anion, for example BF 4 - , PF 6 - SbF 6 - or 0.5 CO 3 2- .

Der zweite n-Dotierstoff kann aus einer Gruppe ausgewählt

Figure DE102014117011B4_0004
sein, die , Na, Ca, MgAg, Cs, Li, Mg, Cs2CO3, und Cs3PO4 umfasst.The second n-type dopant can be selected from a group
Figure DE102014117011B4_0004
which includes Na, Ca, MgAg, Cs, Li, Mg, Cs 2 CO 3 , and Cs 3 PO 4 .

Erfindungsgemäß ist der erste n-Dotierstoff ein Cäsiumsalz, das zumindest eine funktionelle Gruppe aufweist, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst.According to the invention, the first n-dopant is a cesium salt which has at least one functional group selected from a group comprising oxetane, epoxy and acrylic groups.

Beispielsweise weist das Cäsiumsalz eine der folgenden Strukturen auf

Figure DE102014117011B4_0005
wobei R1 und R für einen Alkyl- oder Arylrest stehen, die zumindest eine funktionelle Gruppe aufweisen, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst.For example, the cesium salt has one of the following structures
Figure DE102014117011B4_0005
where R 1 and R stand for an alkyl or aryl radical which have at least one functional group selected from a group comprising oxetane, epoxy and acrylic groups.

Beispielsweise ist R1 aus einer Gruppe ausgewählt, die Methyl-, Ethyl-, Propyl-, Butyl-, 1,2-Phenylen-, 1,3-Phenylen-, 1,4-Phenylen und 2,6-Pyridylenreste umfasst, die zumindest eine funktionelle Gruppe aufweisen, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst.For example, R 1 is selected from a group comprising methyl, ethyl, propyl, butyl, 1,2-phenylene, 1,3-phenylene, 1,4-phenylene and 2,6-pyridylene radicals, the have at least one functional group selected from a group including oxetane, epoxy and acrylic groups.

Beispielsweise ist R aus einer Gruppe ausgewählt, die Methyl, Ethyl-, Propyl-, Butyl- und Phenylreste umfasst, die zumindest eine funktionelle Gruppe aufweisen, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst.For example, R is selected from a group comprising methyl, ethyl, propyl, butyl and phenyl radicals having at least one functional group selected from a group comprising oxetane, epoxy and acrylic groups.

Beispielsweise weist das Cäsiumsalz eine der folgenden Formel auf:

Figure DE102014117011B4_0006
For example, the cesium salt has one of the following formulas:
Figure DE102014117011B4_0006

Die Epoxidgruppen können jedes H-Atom substituieren, das an den Arylrest gebunden ist. Es ist auch möglich, dass zwei H-Atome durch Epoxidgruppen ersetzt sind. Anstelle der Epoxidgruppen können auch Oxetan- oder Acrylgruppen stehen.The epoxy groups can substitute any H atom that is bonded to the aryl radical. It is also possible for two H atoms to be replaced by epoxy groups. Instead of the epoxy groups, there can also be oxetane or acrylic groups.

Das erste lochtransportierende Matrixmaterial kann aus einer Gruppe ausgewählt sein, die α-NPD, NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin), beta-NPB N,N'-Bis(naphthalen-2-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin), N,N'-Bis(phenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin), TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin), Spiro TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin), Spiro-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-spiro), DMFL-TPD N,N'-Bis (3-methylphenyl)-N,N'-bis (phenyl)-9,9-dimethyl - fluoren), DMFL-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'bis(phenyl)-9,9-dimethyl-fluoren), DPFL-TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-diphenyl-fluoren), DPFL-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-diphenylfluoren), Spiro-TAD (2,2',7,7'-Tetrakis(N,N-diphenylamino)-9,9 ‚-spirobifluoren), 9,9-Bis[4-(N,N-bis-biphenyl-4-ylamino)phenyl]-9H-fluoren, 9,9-Bis[4-(N,N-bis-naphthalen-2-ylamino)phenyl]-9H-fluoren, 9,9-Bis[4-(N,N‘-bis-naphthalen-2yl-N,N'-bis-phenyl-amino)-phenyl]-9H-fluor, N,N'-bis(phenanthren-9-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin, 2,7-Bis[N,N-bis(9,9-spiro-bifluorene-2-yl)-amino]-9,9-spiro-bifluoren, 2,2'-Bis[N,N-bis(biphenyl-4-yl)amino]9,9-spiro-bifluoren, 2,2'-Bis(N,N-di-phenyl-amino)9,9-spiro-bifluoren, Di-[4-(N,N-ditolyl-amino)-phenyl]cyclohexan, 2,2',7,7'-tetra(N, N-di-tolyl)amino-spiro-bifluoren, N,N,N',N'-tetra-naphthalen-2-yl-benzidin sowie Gemische dieser Verbindungen umfasst, wobei die genannten Materialien zumindest eine funktionelle Gruppe aufweisen, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst. Die so gewählten ersten lochtransportierende Matrixmaterialien beeinflussen die elektrooptischen Eigenschaften des organischen Licht emittierenden Bauelements nicht. Dies trifft sowohl auf die freien Moleküle als auch auf die mit den ersten p-Dotierstoffen vernetzten Moleküle zu.The first hole-transporting matrix material can be selected from a group consisting of α-NPD, NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine), beta-NPB N, N'-bis (naphthalen-2-yl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine), N, N'-bis (phenyl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine), TPD ( N, N'-Bis (3-methylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine), Spiro TPD (N, N'-Bis (3-methylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) - benzidine), Spiro-NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -spiro), DMFL-TPD N, N'-bis (3-methylphenyl) -N , N'-bis (phenyl) -9,9-dimethyl-fluorene), DMFL-NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'bis (phenyl) -9,9-dimethyl -fluoren), DPFL-TPD (N, N'-Bis (3-methylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) -9,9-diphenyl-fluorene), DPFL-NPB (N, N'-Bis ( naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -9,9-diphenylfluorene), Spiro-TAD (2,2 ', 7,7'-tetrakis (N, N-diphenylamino) -9.9 -Spirobifluorene), 9,9-bis [4- (N, N-bis-biphenyl-4-ylamino) phenyl] -9H-fluorene, 9,9-bis [4- (N, N-bis-naphthalene- 2-ylamino) phenyl] -9H-fluorene, 9,9-bis [4- (N, N'-bis-naphthalene-2yl-N, N'-bis-phenyl-amino) -ph enyl] -9H-fluoro, N, N'-bis (phenanthren-9-yl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine, 2,7-bis [N, N-bis (9,9-spiro -bifluorene-2-yl) amino] -9,9-spiro-bifluorene, 2,2'-bis [N, N-bis (biphenyl-4-yl) amino] 9,9-spiro-bifluorene, 2, 2'-bis (N, N-di-phenyl-amino) 9,9-spiro-bifluorene, di- [4- (N, N-ditolyl-amino) -phenyl] cyclohexane, 2.2 ', 7.7 '-tetra (N, N-di-tolyl) amino-spiro-bifluorene, N, N, N', N'-tetra-naphthalen-2-yl-benzidine and mixtures of these compounds, the materials mentioned at least one functional Have a group selected from a group consisting of oxetane, epoxy and acrylic groups. The first hole-transporting matrix materials selected in this way do not influence the electro-optical properties of the organic light-emitting component. This applies both to the free molecules and to the molecules crosslinked with the first p-dopants.

In einer Ausführungsform weist das erste lochtransportierende Matrixmaterial oder ein Anteil des ersten lochtransportierenden Matrixmaterials zumindest eine funktionelle Gruppe auf, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst und ist mit einem Vernetzungsinitiator funktionalisiert, der aus einer Gruppe ausgewählt ist, der Sulfonium- oder Iodoniumsalze umfasst. Der Anteil kann bei 0,5 bis 10 mol%, bevorzugt 0,5 bis 5 mol%, besonders bevorzugt bei 0,5 bis 2 mol% bezogen auf die Gesamtmenge an erstem lochtransportierendem Matrixmaterial liegen.In one embodiment, the first hole-transporting matrix material or a portion of the first hole-transporting matrix material has at least one functional group selected from a group comprising oxetane, epoxy and acrylic groups and is functionalized with a crosslinking initiator selected from one group , which includes sulfonium or iodonium salts. The proportion can be 0.5 to 10 mol%, preferably 0.5 to 5 mol%, particularly preferably 0.5 to 2 mol%, based on the total amount of first hole-transporting matrix material.

Das erste lochtransportierende Matrixmaterial kann eine der folgenden Formeln aufweisen:

Figure DE102014117011B4_0007
The first hole-transporting matrix material can have one of the following formulas:
Figure DE102014117011B4_0007

Die Epoxid-, Oxetan- oder Acrylgruppen können jedes beliebige H-Atom der Aromaten substituieren. Es können auch mehrere H-Atome durch Epoxid-, Oxetan- oder Acrylgruppen substituiert sein. Beispielsweise kann das erste lochtransportierende Matrixmaterial eine der folgenden Formeln aufweisen:

Figure DE102014117011B4_0008
Figure DE102014117011B4_0009
The epoxy, oxetane or acrylic groups can substitute any H atom of the aromatics. Several H atoms can also be substituted by epoxy, oxetane or acrylic groups. For example, the first hole-transporting matrix material can have one of the following formulas:
Figure DE102014117011B4_0008
Figure DE102014117011B4_0009

Ist das erste lochtransportierende Matrixmaterial zusätzlich mit einem Vernetzungsinitiator funktionalisiert, weist es beispielsweise eine der folgenden Formeln auf:

Figure DE102014117011B4_0010
R3 2S+A- oder R3I+A- können jedes beliebige H-Atom der Aromaten substituieren. Es können auch mehrere H-Atome des Aromaten durch R3 2S+A- oder R3I+A- substituiert sein. Die Reste R3 können beispielsweise Alkyl- oder Arylreste sein. Beispielsweise kann R3 ein Phenyl- oder Methylrest sein. Bei A- handelt es sich um ein Anion, beispielsweise um BF4 -, PF6 -, SbF6 - oder 0,5 CO32-.If the first hole-transporting matrix material is additionally functionalized with a crosslinking initiator, it has, for example, one of the following formulas:
Figure DE102014117011B4_0010
R 3 2 S + A - or R 3 I + A - can substitute any desired H atom of the aromatics. Several H atoms of the aromatic can also be substituted by R 3 2 S + A - or R 3 I + A - . The radicals R 3 can be, for example, alkyl or aryl radicals. For example, R 3 can be a phenyl or methyl radical. A - is an anion, for example BF 4 - , PF 6 - , SbF 6 - or 0.5 CO3 2- .

In einer Ausführungsform ist der erste p-Dotierstoff eine Lewis-saure Verbindung, die zumindest eine funktionelle Gruppe aufweist, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst.In one embodiment, the first p-type dopant is a Lewis acidic compound that has at least one functional group selected from a group consisting of oxetane, epoxy, and acrylic groups.

Der erste p-Dotierstoff kann aus einer Gruppe ausgewählt sein, die MoOx, WOx, VOx, Kupferbenzoate wie Cu(I)pFBz, Bi(III)pFBz, F4-TCNQ, NDP-2, NDP-9, Zinkphthalocyanin umfasst, wobei die genannten Materialien zumindest eine funktionelle Gruppe aufweisen, die aus einer Gruppe ausgewählt sind, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst. Der erste p-Dotierstoff kann bevorzugt aus einer Gruppe ausgewählt sein, die Kupferbenzoate wie Cu(I)pFBz, Bi(III)pFBz, F4-TCNQ, NDP-2, NDP-9, Zinkphthalocyanin umfasst, wobei die genannten Materialien zumindest eine funktionelle Gruppe aufweisen, die aus einer Gruppe ausgewählt sind, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst.The first p-type dopant can be selected from a group comprising MoO x , WO x , VO x , copper benzoates such as Cu (I) pFBz, Bi (III) pFBz, F4-TCNQ, NDP-2, NDP-9, zinc phthalocyanine wherein said materials have at least one functional group selected from a group comprising oxetane, epoxy and acrylic groups. The first p-type dopant can preferably be selected from a group which includes copper benzoates such as Cu (I) pFBz, Bi (III) pFBz, F4-TCNQ, NDP-2, NDP-9, zinc phthalocyanine, the materials mentioned having at least one functional group selected from a group consisting of oxetane , Epoxy and acrylic groups.

In einer Ausführungsform besteht die erste lochtransportierende Schicht aus dem zweiten lochtransportierenden Matrixmaterial oder dem zweiten lochtransportierenden Matrixmaterial und dem zweiten p-Dotierstoff. Insbesondere ist das zweite lochtransportierende Matrixmaterial nicht mit dem zweiten p-Dotierstoff vernetzt.In one embodiment, the first hole-transporting layer consists of the second hole-transporting matrix material or the second hole-transporting matrix material and the second p-type dopant. In particular, the second hole-transporting matrix material is not crosslinked with the second p-type dopant.

Der zweite p-Dotierstoff kann aus einer Gruppe ausgewählt sein, die MoOx, WOx, VOx, Cu(I)pFBz, Bi(III)pFBz, F4-TCNQ, Zinkphthalocyanin, NDP-2, und NDP-9 umfasst. Beispielsweise ist der zweite p-Dotierstoff V2O5, MoO3 oder WO3.The second p-type dopant can be selected from a group comprising MoO x , WO x , VO x , Cu (I) pFBz, Bi (III) pFBz, F4-TCNQ, zinc phthalocyanine, NDP-2, and NDP-9. For example, the second p-type dopant is V 2 O 5 , MoO 3 or WO 3 .

Das zweite lochtransportierende Matrixmaterial kann aus einer Gruppe ausgewählt sein, die α-NPD, NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin), beta-NPB N,N'-Bis(naphthalen-2-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin), (N,N'-Bis(phenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin), TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin), Spiro TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin), Spiro-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-spiro), DMFL-TPD N,N'-Bis (3-methylphenyl)-N,N'-bis (phenyl)-9,9-dimethyl - fluoren), DMFL-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-dimethyl-fluoren), DPFL-TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-diphenyl-fluoren), DPFL-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-diphenyl-fluoren), Spiro-TAD (2,2',7,7'-Tetrakis(N,N-diphenylamino)-9,9 ‚-spirobifluoren), 9,9-Bis[4-(N,N-bis-biphenyl-4-yl-amino)phenyl]-9H-fluoren, 9,9-Bis[4-(N,N-bis-naphthalen-2-yl-amino)phenyl]-9H-fluoren, 9,9-Bis[4-(N,N‘-bis-naphthalen-2-yl-N,N'-bis-phenyl-amino)-phenyl]-9H-fluor, N,N'-bis(phenanthren-9-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin, 2,7-Bis[N,N-bis(9,9-spiro-bifluorene-2-yl)-amino]-9,9-spiro-bifluo ren, 2,2'-Bis[N,N-bis(biphenyl-4-yl)amino]9,9-spiro-bifluoren, 2,2'-Bis(N,N-di-phenyl-amino)9,9-spiro-bifluoren, Di-[4-(N,N-ditolyl-amino)-phenyl]cyclohexan, 2,2',7,7'-tetra(N, N-di-tolyl)amino-spiro-bifluoren, N,N,N',N'-tetra-naphthalen-2-yl-benzidin sowie Gemische dieser Verbindungen umfasst.The second hole-transporting matrix material can be selected from a group consisting of α-NPD, NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine), beta-NPB N, N'-bis (naphthalen-2-yl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine), (N, N'-bis (phenyl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine), TPD (N, N'-Bis (3-methylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine), Spiro TPD (N, N'-Bis (3-methylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine), Spiro-NPB (N, N'-Bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -spiro), DMFL-TPD N, N'-Bis (3-methylphenyl) - N, N'-bis (phenyl) -9,9-dimethyl-fluorene), DMFL-NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -9.9 -dimethyl-fluorene), DPFL-TPD (N, N'-bis (3-methylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) -9,9-diphenyl-fluorene), DPFL-NPB (N, N'- Bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -9,9-diphenyl-fluorene), Spiro-TAD (2,2 ', 7,7'-tetrakis (N, N-diphenylamino) -9,9 ‚-spirobifluorene), 9,9-bis [4- (N, N-bis-biphenyl-4-yl-amino) phenyl] -9H-fluorene, 9,9-bis [4- (N, N-bis-naphthalen-2-yl-amino) phenyl] -9H-fluorene, 9,9-bis [4- (N, N'-bis-naphthalen-2-yl-N, N'-bis-phenyl- at the ino) -phenyl] -9H-fluoro, N, N'-bis (phenanthren-9-yl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine, 2,7-bis [N, N-bis (9, 9-spiro-bifluorene-2-yl) -amino] -9,9-spiro-bifluorene, 2,2'-bis [N, N-bis (biphenyl-4-yl) amino] 9,9-spiro- bifluorene, 2,2'-bis (N, N-di-phenyl-amino) 9,9-spiro-bifluorene, di- [4- (N, N-ditolyl-amino) -phenyl] cyclohexane, 2,2 ' , 7,7'-tetra (N, N-di-tolyl) amino-spiro-bifluorene, N, N, N ', N'-tetra-naphthalen-2-yl-benzidine and mixtures of these compounds.

Der erste oder zweite p-Dotierstoff kann in der ersten lochtransportierenden Schicht zu einem Anteil von 0,1 bis 40 Volumen%, bevorzugt von 0,5 bis 20 Volumen% und besonders bevorzugt von 1 bis 10 Volumen% vorliegen.The first or second p-type dopant can be present in the first hole-transporting layer in a proportion of 0.1 to 40% by volume, preferably 0.5 to 20% by volume and particularly preferably 1 to 10% by volume.

Der erste oder zweite n-Dotierstoff kann in der ersten elektronentransportierenden Schicht zu einem Anteil von 0,1 bis 40 Volumen%, bevorzugt von 0,5 bis 20 Volumen% und besonders bevorzugt von 1 bis 10 Volumen% vorliegen.The first or second n-type dopant can be present in the first electron-transporting layer in a proportion of 0.1 to 40% by volume, preferably 0.5 to 20% by volume and particularly preferably 1 to 10% by volume.

Dadurch, dass das erste elektronentransportierende und/oder das erste lochtransportierende Matrixmaterial im Vergleich zu dem ersten n- Dotierstoff und/oder dem ersten p-Dotierstoff im Überschuss vorliegt, kann gewährleistet werden, dass jedes oder nahezu jedes Molekül des ersten n- und/oder p-Dotierstoffs mit dem jeweiligen Matrixmaterial vernetzt ist oder wird.Because the first electron-transporting and / or the first hole-transporting matrix material is present in excess compared to the first n-dopant and / or the first p-dopant, it can be ensured that each or almost every molecule of the first n- and / or p-dopant is or is crosslinked with the respective matrix material.

Die erste elektronentransportierende Schicht und/oder die erste lochtransportierende Schicht können eine Schichtdicke in einem Bereich von 5 nm bis 200 nm, bevorzugt 10 nm und 120 nm, besonders bevorzugt 30 und 80 nm aufweisen.The first electron-transporting layer and / or the first hole-transporting layer can have a layer thickness in a range from 5 nm to 200 nm, preferably 10 nm and 120 nm, particularly preferably 30 and 80 nm.

Bei diesen Schichtdicken weist der Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel eine Transmission auf, die größer als 80 %, bevorzugt 90 % in einem Wellenlängenbereich von ungefähr 400 nm bis ungefähr 700 nm ist.At these layer thicknesses, the charge carrier generation layer stack has a transmission which is greater than 80%, preferably 90% in a wavelength range from approximately 400 nm to approximately 700 nm.

In einer Ausführungsform weist das organische Licht emittierende Bauelement einen dritten organischen funktionellen Schichtenstapel und einen weiteren Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel, auf. Der weitere Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel ist auf dem zweiten funktionellen Schichtenstapel angeordnet und der dritte organische funktionelle Schichtenstapel ist auf dem weiteren Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel angeordnet. Der dritte organische funktionelle Schichtenstapel kann wie der erste oder der zweite organische funktionelle Schichtenstapel aufgebaut sein. Der weitere Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel kann wie der Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel aufgebaut und hergestellt sein.In one embodiment, the organic light-emitting component has a third organic functional layer stack and a further charge carrier generation layer stack. The further charge carrier generation layer stack is arranged on the second functional layer stack and the third organic functional layer stack is arranged on the further charge carrier generation layer stack. The third organic functional layer stack can be constructed like the first or the second organic functional layer stack. The further charge carrier generation layer stack can be constructed and produced like the charge carrier generation layer stack.

Das organische Licht emittierende Bauelement kann in einer Ausführungsform als organische Licht emittierende Diode (OLED) ausgebildet sein.In one embodiment, the organic light-emitting component can be embodied as an organic light-emitting diode (OLED).

Die angegebenen Ausführungsformen des organischen Licht emittierenden Bauelements können gemäß nachfolgend genanntem Verfahren hergestellt werden. Alle unter dem Verfahren genannten Merkmale des organischen Licht emittierenden Bauelements können auch Merkmale der oben ausgeführten Ausführungsbeispiele des organischen Licht emittierenden Bauelements sein.The specified embodiments of the organic light-emitting component can be produced according to the method mentioned below. All of the features of the organic light-emitting component mentioned under the method can also be features of the exemplary embodiments of the organic light-emitting component set out above.

Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines organischen Licht emittierenden Bauelements angegeben. Das Verfahren umfasst folgende Verfahrensschritte:

  1. A) Ausbilden eines ersten organischen funktionellen Schichtenstapels auf einer ersten Elektrode,
  2. B) Ausbilden eines Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapels auf dem ersten organischen funktionellen Schichtenstapel,
  3. C) Ausbilden eines zweiten organischen funktionellen Schichtenstapels auf dem Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel,
  4. D) Anordnen einer zweiten Elektrode auf dem zweiten organischen funktionellen Schichtenstapel.
A method for producing an organic light-emitting component is specified. The procedure comprises the following procedural steps:
  1. A) forming a first organic functional layer stack on a first electrode,
  2. B) forming a charge carrier generation layer stack on the first organic functional layer stack,
  3. C) forming a second organic functional layer stack on the charge carrier generation layer stack,
  4. D) Arranging a second electrode on the second organic functional layer stack.

Verfahrensschritt B) umfasst die folgendenProcess step B) comprises the following

Verfahrensschritte:

  • B1) Ausbilden einer ersten elektronentransportierenden Schicht, und B2) Ausbilden einer ersten lochtransportierenden Schicht.
Process steps:
  • B1) forming a first electron-transporting layer, and B2) forming a first hole-transporting layer.

Erfindungsgemäß umfasst Verfahrensschritt B1) folgende Verfahrensschritte:

  • B11) Aufbringen eines ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials und eines ersten n-Dotierstoffs auf dem ersten organischen funktionellen Schichtenstapel und
  • B13) Vernetzen des ersten n-Dotierstoffs mit dem ersten elektronentransportierenden Matrixmaterial.
According to the invention, method step B1) comprises the following method steps:
  • B11) applying a first electron-transporting matrix material and a first n-type dopant to the first organic functional layer stack and
  • B13) crosslinking of the first n-type dopant with the first electron-transporting matrix material.

Erfindungsgemäß umfasst Verfahrensschritt B2) folgende Verfahrensschritte:

  • B21) Aufbringen eines ersten lochtransportierenden Matrixmaterials und eines ersten p-Dotierstoffs auf dem ersten organischen funktionellen Schichtenstapel und
  • B23) Vernetzen des ersten p-Dotierstoffs mit dem ersten lochtransportierenden Matrixmaterial.
According to the invention, method step B2) comprises the following method steps:
  • B21) applying a first hole-transporting matrix material and a first p-type dopant to the first organic functional layer stack and
  • B23) crosslinking of the first p-type dopant with the first hole-transporting matrix material.

In einer Ausführungsform umfasst Verfahrensschritt B1) den folgenden Verfahrensschritt:

  • B11) Aufbringen eines ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials und eines ersten n-Dotierstoffs auf dem ersten organischen funktionellen Schichtenstapel,
wobei der erste n-Dotierstoff und/oder der erste n-Dotierstoff und das erste elektronentransportierende Matrixmaterial zumindest eine funktionelle Gruppe aufweisen, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst oder
  • B11) Aufbringen eines zweiten elektronentransportierenden Matrixmaterials oder eines zweiten elektronentransportierenden Matrixmaterials und eines zweiten n-Dotierstoffs auf dem ersten organischen funktionellen Schichtenstapel.
In one embodiment, method step B1) comprises the following method step:
  • B11) applying a first electron-transporting matrix material and a first n-type dopant to the first organic functional layer stack,
wherein the first n-dopant and / or the first n-dopant and the first electron-transporting matrix material have at least one functional group selected from a group comprising oxetane, epoxy and acrylic groups or
  • B11) applying a second electron-transporting matrix material or a second electron-transporting matrix material and a second n-type dopant to the first organic functional layer stack.

Erfindungsgemäß findet nach Verfahrensschritt B11) ein weiterer Verfahrensschritt statt:

  • B13) Vernetzen des ersten n-Dotierstoffs mit dem ersten elektronentransportierenden Matrixmaterial über die jeweils zumindest eine funktionelle Gruppe.
According to the invention, a further process step takes place after process step B11):
  • B13) crosslinking of the first n-dopant with the first electron-transporting matrix material via the at least one functional group in each case.

In einer Ausführungsform umfasst Verfahrensschritt B2) den folgenden Verfahrensschritt:

  • B21) Aufbringen eines ersten lochtransportierenden Matrixmaterials und eines ersten p-Dotierstoffs auf dem ersten organischen funktionellen Schichtenstapel, wobei der erste p-Dotierstoff und/oder der erste p-Dotierstoff und das erste lochtransportierende Matrixmaterial zumindest eine funktionelle Gruppe aufweisen, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst, oder
  • B21) Aufbringen eines zweiten lochtransportierenden Matrixmaterials oder eines zweiten lochtransportierenden Matrixmaterials und eines zweiten p-Dotierstoffs auf dem ersten organischen funktionellen Schichtenstapel.
In one embodiment, method step B2) comprises the following method step:
  • B21) applying a first hole-transporting matrix material and a first p-dopant to the first organic functional layer stack, the first p-dopant and / or the first p-dopant and the first hole-transporting matrix material having at least one functional group selected from one group which includes oxetane, epoxy and acrylic groups, or
  • B21) applying a second hole-transporting matrix material or a second hole-transporting matrix material and a second p-type dopant on the first organic functional layer stack.

In einer Ausführungsform findet nach Verfahrensschritt B21) ein weiterer Verfahrensschritt statt:

  • B23) Vernetzen des ersten p-Dotierstoffs mit dem ersten lochtransportierenden Matrixmaterial über die jeweils zumindest eine funktionelle Gruppe.
In one embodiment, a further process step takes place after process step B21):
  • B23) crosslinking of the first p-dopant with the first hole-transporting matrix material via the at least one functional group in each case.

In einer Ausführungsform wird das Vernetzen des ersten n-Dotierstoffs mit dem ersten elektronentransportierenden Matrixmaterial in Verfahrensschritt B13) und/oder das Vernetzen des ersten p-Dotierstoffs mit dem ersten lochtransportierenden Matrixmaterial in Verfahrensschritt B23) durch einen Vernetzungsinitiator initiiert.In one embodiment, the crosslinking of the first n-dopant with the first electron-transporting matrix material in method step B13) and / or the crosslinking of the first p-dopant with the first hole-transporting matrix material in method step B23) is initiated by a crosslinking initiator.

In einer Ausführungsform ist der Vernetzungsinitiator aus einer Gruppe ausgewählt, die Stickoxidgase, Iodonium-, Sulfonium- und Nitrosoniumsalze umfasst.In one embodiment, the crosslinking initiator is selected from a group comprising nitric oxide gases, iodonium, sulfonium, and nitrosonium salts.

In einer Ausführungsform ist das Iodonium- oder Sulfoniumsalz an das erste elektronentransportierende Matrixmaterial und/oder das erste lochtransportierende Material gebunden. Es ist auch möglich, dass das Iodonium- oder Sulfoniumsalz nur an einem Anteil des ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials und/oder des ersten lochtransportierenden Matrixmaterials gebunden ist.
In einer Ausführungsform ist das Iodonium- oder Sulfoniumsalz kovalent an das erste elektronentransportierende Matrixmaterial und/oder das erste lochtransportierende Material gebunden.
In one embodiment, the iodonium or sulfonium salt is bound to the first electron-transporting matrix material and / or the first hole-transporting material. It is also possible that the iodonium or sulfonium salt is only bound to a portion of the first electron-transporting matrix material and / or the first hole-transporting matrix material.
In one embodiment, the iodonium or sulfonium salt is covalently bound to the first electron-transporting matrix material and / or the first hole-transporting material.

Als Iodonium- und Sulfoniumsalze können hier R2S+A- oder RI+A- an das erste elektronentransportierende Matrixmaterial und/oder das erste lochtransportierende Material gebunden sein. Die Reste R können beispielsweise Alkyl- oder Arylreste sein. Beispielsweise kann R3 ein Phenyl- oder Methylrest sein. Bei A- handelt es sich um ein Anion, beispielsweise um BF4 -, PF6 -, SbF6 - oder 0,5 CO3 2-.As iodonium and sulfonium salts, R 2 S + A - or RI + A - can be bound to the first electron-transporting matrix material and / or the first hole-transporting material. The radicals R can be, for example, alkyl or aryl radicals. For example, R 3 can be a phenyl or methyl radical. A - is an anion, for example BF 4 - , PF 6 - , SbF 6 - or 0.5 CO 3 2- .

Bei dem Nitrosoniumsalz kann es sich beispielsweise um NO+SbF6 - handeln.The nitrosonium salt can be, for example, NO + SbF 6 - .

Gemäß einer Ausführungsform findet nach Verfahrensschritt B11) oder nach Verfahrensschritt B13) folgender Verfahrensschritt statt:

  • B12) Temperaturerhöhung oder UV-Bestrahlung des ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials und des ersten n-Dotierstoffs. Die Maßnahmen in Verfahrensschritt B12) dienen dazu die Vernetzung zu aktivieren. Beispielsweise können Radikalkationen des ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials und/oder des ersten n-Dotierstoffs gebildet werden. Insbesondere findet Verfahrensschritt B12) beim Einsatz von Iodonium- oder Sulfoniumsalzen als Vernetzungsinitiatoren statt.
According to one embodiment, the following process step takes place after process step B11) or after process step B13):
  • B12) temperature increase or UV irradiation of the first electron-transporting matrix material and of the first n-dopant. The measures in method step B12) serve to activate the networking. For example, radical cations of the first electron-transporting matrix material and / or of the first n-type dopant can be formed. In particular, method step B12) takes place when using iodonium or sulfonium salts as crosslinking initiators.

Gemäß einer Ausführungsform findet nach Verfahrensschritt B21) oder nach Verfahrensschritt B23) folgender Verfahrensschritt statt:

  • B22) Temperaturerhöhung oder UV-Bestrahlung des ersten lochtransportierenden Matrixmaterials und des ersten p-Dotierstoffs. Die Maßnahmen in Verfahrensschritt B22) dienen dazu, die Vernetzung zu aktivieren. Beispielsweise können Radikalkationen des ersten lochtransportierenden Matrixmaterials und/oder des ersten p-Dotierstoffs gebildet werden. Insbesondere findet Verfahrensschritt B22) beim Einsatz von Iodonium- oder Sulfoniumsalzen als Vernetzungsinitiatoren statt.
According to one embodiment, the following process step takes place after process step B21) or after process step B23):
  • B22) Increase in temperature or UV irradiation of the first hole-transporting matrix material and of the first p-type dopant. The measures in method step B22) serve to activate the networking. For example, radical cations of the first hole-transporting matrix material and / or of the first p-type dopant can be formed. In particular, method step B22) takes place when using iodonium or sulfonium salts as crosslinking initiators.

In einer Ausführungsform wird die Temperatur in Verfahrensschritt B12) und/oder B22) auf bis zu 120 °C, bevorzugt 80 °C, erhöht.In one embodiment, the temperature in method step B12) and / or B22) is increased to up to 120 ° C., preferably 80 ° C.

Ist der erste p-Dotierstoff und das erste lochtransportierende Matrixmaterial mit zumindest einer Oxetangruppen funktionalisiert oder ist der erste n-Dotierstoff und das erste elektronentransportierende Matrixmaterial mit zumindest einer Oxetangruppen funktionalisiert, findet beispielsweise folgende Reaktion statt:

Figure DE102014117011B4_0011
Figure DE102014117011B4_0012
steht in dem Reaktionsschema für den ersten p- oder n-Dotierstoff oder für das erste loch- oder elektronentransportierende Matrixmaterial, der mit zumindest einer Oxetangruppe funktionalisiert ist. Y+A- repräsentiert in diesem Reaktionsschema ein Iodonium- oder Sulfoniumsalz als Vernetzungsinitiator. Das dargestellte Zwischenprodukt oder das Endprodukt reagiert mit einem weiteren
Figure DE102014117011B4_0013
Beispielsweise steht
Figure DE102014117011B4_0014
für einen ersten n-Dotierstoff folgender Formel:
Figure DE102014117011B4_0015
oder für einen p-Dotierstoff wie beispielsweise ein Oxetan-funktionalisiertes Kupferbenzoat.If the first p-dopant and the first hole-transporting matrix material are functionalized with at least one oxetane group or if the first n-dopant and the first electron-transporting matrix material are functionalized with at least one oxetane group, the following reaction takes place, for example:
Figure DE102014117011B4_0011
Figure DE102014117011B4_0012
in the reaction scheme stands for the first p- or n-dopant or for the first hole- or electron-transporting matrix material which is functionalized with at least one oxetane group. Y + A - represents in this reaction scheme an iodonium or sulfonium salt as a crosslinking initiator. The intermediate product shown or the end product reacts with another
Figure DE102014117011B4_0013
For example
Figure DE102014117011B4_0014
for a first n-dopant the following formula:
Figure DE102014117011B4_0015
or for a p-type dopant such as an oxetane-functionalized copper benzoate.

Das erste lochtransportierende Matrixmaterial kann folgende Formel aufweisen:

Figure DE102014117011B4_0016
The first hole-transporting matrix material can have the following formula:
Figure DE102014117011B4_0016

Beispielsweise weist das erste elektronentransportierende Matrixmaterial folgende Formel auf:

Figure DE102014117011B4_0017
Ist der erste p-Dotierstoff und das erste lochtransportierende Matrixmaterial mit zumindest einer Epoxidgruppe funktionalisiert oder ist der erste n-Dotierstoff und das erste elektronentransportierende Matrixmaterial mit zumindest einer Epoxidgruppe funktionalisiert, findet beispielsweise folgende Reaktion statt:
Figure DE102014117011B4_0018
Figure DE102014117011B4_0019
steht in dem Reaktionsschema für den ersten p- oder n-Dotierstoff oder für das erste loch- oder elektronentransportierende Matrixmaterial, der mit zumindest einer Epoxidgruppe funktionalisiert ist. Y+A- repräsentiert in diesem Reaktionsschema ein Iodonium- oder Sulfoniumsalz als Vernetzungsinitiator. Das dargestellte Zwischenprodukt oder das Endprodukt reagiert mit einem weiteren
Figure DE102014117011B4_0020
For example, the first electron-transporting matrix material has the following formula:
Figure DE102014117011B4_0017
If the first p-dopant and the first hole-transporting matrix material are functionalized with at least one epoxy group or if the first n-dopant and the first electron-transporting matrix material are functionalized with at least one epoxy group, the following reaction takes place, for example:
Figure DE102014117011B4_0018
Figure DE102014117011B4_0019
in the reaction scheme stands for the first p- or n-dopant or for the first hole- or electron-transporting matrix material which is functionalized with at least one epoxy group. Y + A - represents in this reaction scheme an iodonium or sulfonium salt as a crosslinking initiator. The intermediate product shown or the end product reacts with another
Figure DE102014117011B4_0020

Beispielsweise steht

Figure DE102014117011B4_0021
für einen ersten n-Dotierstoff folgender Formel:
Figure DE102014117011B4_0022
Ist der erste p-Dotierstoff und das erste lochtransportierende Matrixmaterial mit zumindest einer Acrylgruppe funktionalisiert oder ist der erste n-Dotierstoff und das erste elektronentransportierende Matrixmaterial mit zumindest einer Acrylgruppe funktionalisiert, findet beispielsweise folgende Reaktion statt:
Figure DE102014117011B4_0023
Figure DE102014117011B4_0024
steht in dem Reaktionsschema für den ersten p- oder n-Dotierstoff oder für das erste loch- oder elektronentransportierende Matrixmaterial, der mit zumindest einer Epoxidgruppe funktionalisiert ist. Y+A- repräsentiert in diesem Reaktionsschema ein Iodonium-, Sulfonium- und Nitrosoniumsalze als Vernetzungsinitiator. Das dargestellte Zwischenprodukt oder Endprodukt reagiert mit einem weiteren
Figure DE102014117011B4_0025
For example
Figure DE102014117011B4_0021
for a first n-dopant the following formula:
Figure DE102014117011B4_0022
If the first p-dopant and the first hole-transporting matrix material are functionalized with at least one acrylic group, or if the first n-dopant and the first electron-transporting matrix material are functionalized with at least one acrylic group, the following reaction takes place, for example:
Figure DE102014117011B4_0023
Figure DE102014117011B4_0024
in the reaction scheme stands for the first p- or n-dopant or for the first hole- or electron-transporting matrix material which is functionalized with at least one epoxy group. Y + A - in this reaction scheme represents an iodonium, sulfonium and nitrosonium salt as a crosslinking initiator. The intermediate or final product shown reacts with another
Figure DE102014117011B4_0025

Beispielsweise steht

Figure DE102014117011B4_0026
für einen ersten n-Dotierstoff folgender Formel:
Figure DE102014117011B4_0027
For example
Figure DE102014117011B4_0026
for a first n-dopant the following formula:
Figure DE102014117011B4_0027

In einer Ausführungsform werden in Verfahrensschritt B11) das erste elektronentransportierende Matrixmaterial und der erste n-Dotierstoff, das zweite elektronentransportierende Matrixmaterial oder das zweite elektronentransportierende Matrixmaterial und der zweite n-Dotierstoff aus der Gasphase aufgebracht und/oder in Verfahrensschritt B21) werden das erste lochtransportierenden Matrixmaterial und der erste p-Dotierstoff, das zweite lochtransportierende Matrixmaterial oder das zweite lochtransportierende Matrixmaterial und der zweite p-Dotierstoff aus der Gasphase aufgebracht.In one embodiment, the first electron-transporting matrix material and the first n-dopant, the second electron-transporting matrix material or the second electron-transporting matrix material and the second n-dopant are applied from the gas phase in method step B11) and / or in method step B21) the first hole-transporting matrix material is applied and the first p-type dopant, the second hole-transporting matrix material or the second hole-transporting matrix material and the second p-type dopant are applied from the gas phase.

In einer Ausführungsform werden in Verfahrensschritt B11) das erste elektronentransportierende Matrixmaterial und der erste n-Dotierstoff, das zweite elektronentransportierende Matrixmaterial oder das zweite elektronentransportierende Matrixmaterial und der zweite n-Dotierstoff aus einer Lösung aufgebracht und/oder in Verfahrensschritt B21) werden das erste lochtransportierenden Matrixmaterial und der erste p-Dotierstoff, das zweite lochtransportierende Matrixmaterial oder das zweite lochtransportierende Matrixmaterial und der zweite p-Dotierstoff aus einer Lösung aufgebracht.In one embodiment, the first electron-transporting matrix material and the first n-dopant, the second electron-transporting matrix material or the second electron-transporting matrix material and the second n-dopant are applied from a solution in method step B11) and / or in method step B21) the first hole-transporting matrix material is applied and the first p-type dopant, the second hole-transporting matrix material or the second hole-transporting matrix material and the second p-type dopant are applied from a solution.

In einer Ausführungsform werden während der Vernetzung in Verfahrensschritt B13) und/oder B23) Gase abgespalten. Beispielsweise können N2, NOx, O2, CO und/oder CO2 frei werden.In one embodiment, gases are split off during the crosslinking in method step B13) and / or B23). For example, N 2 , NOx, O 2 , CO and / or CO 2 can be released.

In einer Ausführungsform ist das Lösungsmittel ein organisches Lösungsmittel. Das Lösungsmittel kann je nach Matrixmaterial und Dotierstoff polar oder unpolar sein. Beispielsweise können THF, Toluol, Phenetol, Anisol, Dichlormethan oder Acetonitril eingesetzt werden.In one embodiment the solvent is an organic solvent. The solvent can be polar or non-polar, depending on the matrix material and dopant. For example, THF, toluene, phenetole, anisole, dichloromethane or acetonitrile can be used.

In einer Ausführungsform ist die zumindest eine Oxetan-, Epoxid- oder Acrylgruppe an den ersten n-Dotierstoff und/oder an das erste elektronentransportierende Matrixmaterial und/oder an den ersten p-Dotierstoff und/oder an das erste lochtransportierende Matrixmaterial über eine Alkylgruppe angebunden.In one embodiment, the at least one oxetane, epoxy or acrylic group is bound to the first n-dopant and / or to the first electron-transporting matrix material and / or to the first p-dopant and / or to the first hole-transporting matrix material via an alkyl group.

In einer Ausführungsform ist das zumindest eine Iodonium- und Sulfoniumsalz an das erste elektronentransportierende Matrixmaterial und/oder an das erste lochtransportierende Matrixmaterial über eine Alkylgruppe angebunden.In one embodiment, the at least one iodonium and sulfonium salt is bound to the first electron-transporting matrix material and / or to the first hole-transporting matrix material via an alkyl group.

Durch die Anbindung der jeweiligen funktionellen Gruppe über eine Alkylgruppe wird die Beweglichkeit bzw. die Flexibilität der jeweiligen funktionellen Gruppe erhöht, was zu einem höheren Grad der Vernetzung führt.By attaching the respective functional group via an alkyl group, the mobility or the flexibility of the respective functional group is increased, which leads to a higher degree of crosslinking.

So kann die Löslichkeit des ersten n-Dotierstoffs, des ersten p-Dotierstoffs, des ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials und/oder des ersten lochtransportierenden Matrixmaterials erhöht werden. Insbesondere liegt diese Ausführungsform vor, wenn in Verfahrensschritt B11) das erste elektronentransportierende Matrixmaterial und der erste n-Dotierstoff aus einer Lösung aufgebracht werden und/oder in Verfahrensschritt B21) das erste lochtransportierende Matrixmaterial und der erste p-Dotierstoff aus einer Lösung aufgebracht werden.The solubility of the first n-type dopant, the first p-type dopant, the first electron-transporting matrix material and / or the first hole-transporting matrix material can thus be increased. In particular, this embodiment is present if in method step B11) the first electron-transporting matrix material and the first n-dopant are applied from a solution and / or in method step B21) the first hole-transporting matrix material and the first p-dopant are applied from a solution.

Gemäß einer Ausführungsform ist die Alkylgruppe aus einer Gruppe ausgewählt, die Butyl-, Pentyl-, Hexyl- und Heptylgruppen umfasst. Bevorzugt sind Pentyl- und Hexylgruppen, besonders bevorzugt Hexylgruppen. Weitere Vorteile, vorteilhafte Ausführungsformen und Weiterbildungen ergeben sich aus den im Folgenden in Verbindung mit der Figur beschriebenen Ausführungsbeispielen.

  • 1 zeigt eine schematische Seitenansicht eines Ausführungsbeispiels eines organischen Licht emittierenden Bauelements.
In one embodiment, the alkyl group is selected from a group comprising butyl, pentyl, hexyl and heptyl groups. Pentyl and hexyl groups are preferred, hexyl groups are particularly preferred. Further advantages, advantageous embodiments and developments result from the embodiments described below in connection with the figure.
  • 1 shows a schematic side view of an embodiment of an organic light-emitting component.

In den Ausführungsbeispielen und Figuren können gleiche, gleichartige oder gleichwirkende Elemente jeweils mit denselben Bezugszeichen versehen sein. Die in der Figur dargestellten Elemente und deren Größenverhältnisse untereinander sind nicht als maßstabsgerecht anzusehen, vielmehr können einzelne Elemente, wie zum Beispiel Schichten, Bauteile, Bauelemente und Bereiche, zur besseren Darstellbarkeit und/oder zum besseren Verständnis übertrieben groß dargestellt sein.In the exemplary embodiments and figures, elements that are the same, of the same type or have the same effect can be provided with the same reference symbols. The elements shown in the figure and their proportions to one another are not to be regarded as true to scale; rather, individual elements such as layers, components, components and areas can be shown exaggeratedly large for better illustration and / or for better understanding.

In 1 ist ein Ausführungsbeispiel für ein organisches Licht emittierendes Bauelement gezeigt. Dieses weist ein Substrat 10, eine erste Elektrode 20, einen ersten organischen funktionellen Schichtenstapel 30, einen Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel 40, einen zweiten organischen funktionellen Schichtenstapel 50, eine zweite Elektrode 60, eine Barrieredünnschicht 70 sowie eine Abdeckung 80 auf. Der erste organische funktionelle Schichtenstapel 30 umfasst eine Lochinjektionsschicht 31, eine erste Lochtransportschicht 32, eine erste Emissionsschicht 33 sowie eine Elektronentransportschicht 34. Der zweite organische funktionelle Schichtenstapel 50 umfasst eine zweite Lochtransportschicht 51, eine zweite Emissionsschicht 52, eine zweite Elektronentransportschicht 53 sowie eine Elektroneninjektionsschicht 54. Der Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel 40 umfasst eine erste elektronentransportierende Schicht 41 und eine erste lochtransportierende Schicht 42.In 1 an exemplary embodiment for an organic light-emitting component is shown. This has a substrate 10 , a first electrode 20th , a first organic functional layer stack 30th , a charge carrier generation layer stack 40 , a second organic functional layer stack 50 , a second electrode 60 , a barrier film 70 as well as a cover 80 on. The first organic functional layer stack 30th comprises a hole injection layer 31 , a first hole transport layer 32 , a first emission layer 33 and an electron transport layer 34 . The second organic functional layer stack 50 comprises a second hole transport layer 51 , a second emission layer 52 , a second electron transport layer 53 and an electron injection layer 54 . The charge carrier generation layer stack 40 comprises a first electron transporting layer 41 and a first hole transporting layer 42 .

Das Substrat 10 kann als Trägerelement dienen und beispielsweise aus Glas gebildet sein.The substrate 10 can serve as a carrier element and be made of glass, for example.

Das Bauelement in 1 kann in verschiedenen Ausführungsformen als Top- oder Bottom-Emitter eingerichtet sein. Weiterhin kann es auch als Top- und Bottom-Emitter eingerichtet sein, und somit ein optisch transparentes Bauelement, beispielsweise eine transparente organische Leuchtdiode sein.The component in 1 can be set up as a top or bottom emitter in various embodiments. Furthermore, it can also be set up as a top and bottom emitter, and thus an optically transparent component, for example a transparent organic light-emitting diode.

Die erste Elektrode 20 ist als Anode ausgebildet und kann als Material beispielsweise ITO aufweisen. Wenn das Bauelement als Bottom-Emitter ausgebildet sein soll, sind Substrat 10 und erste Elektrode 20 transluzent. Für den Fall, dass das Bauelement als Top-Emitter ausgebildet sein soll, kann die erste Elektrode 20 bevorzugt auch reflektierend ausgebildet sein. Die zweite Elektrode 60 ist als Kathode ausgebildet und kann beispielsweise ein Metall, oder ein TCO aufweisen. Auch die zweite Elektrode 60 kann transluzent ausgebildet sein, wenn das Bauelement als Top-Emitter ausgebildet ist.The first electrode 20th is designed as an anode and can have ITO as the material, for example. If the component is to be designed as a bottom emitter, it is a substrate 10 and first electrode 20th translucent. In the event that the component is to be designed as a top emitter, the first electrode can 20th preferably also be reflective. The second electrode 60 is designed as a cathode and can, for example, comprise a metal or a TCO. The second electrode too 60 can be designed to be translucent if the component is designed as a top emitter.

Die Barrieredünnschicht 70 schützt die organischen Schichten vor schädigenden Materialien aus der Umgebung wie beispielsweise Feuchtigkeit und/oder Sauerstoff und/oder anderen korrosiven Substanzen wie etwa Schwefelwasserstoff. Dazu kann die Barrieredünnschicht 70 eine oder mehrere dünne Schichten aufweisen, die beispielsweise mittels eines Atomlagenabscheideverfahrens aufgebracht sind und die beispielsweise eines oder mehrere der Materialien Aluminiumoxid, Zinkoxid, Zirkoniumoxid, Titanoxid, Hafniumoxid, Lanthanoxid und Tantaloxid aufweisen. Die Barrieredünnschicht 70 weist weiterhin einen mechanischen Schutz in Form der Verkapselung 80 auf, die beispielsweise als Kunststoffschicht und/oder als auflaminierte Glasschicht ausgebildet ist, wodurch beispielsweise ein Kratzschutz erreicht werden kann.The barrier thin layer 70 protects the organic layers from damaging materials from the environment, such as moisture and / or oxygen and / or other corrosive substances such as hydrogen sulfide. The barrier thin layer can do this 70 have one or more thin layers, which are applied, for example, by means of an atomic layer deposition process and which have, for example, one or more of the materials aluminum oxide, zinc oxide, zirconium oxide, titanium oxide, hafnium oxide, lanthanum oxide and tantalum oxide. The barrier thin layer 70 furthermore has a mechanical protection in the form of the encapsulation 80 which is designed for example as a plastic layer and / or as a laminated glass layer, whereby, for example, scratch protection can be achieved.

Die Emissionsschichten 33 und 52 weisen beispielsweise ein im allgemeinen Teil genanntes elektrolumineszierendes Material auf. Diese können entweder gleich oder verschieden ausgewählt sein. Weiterhin können Ladungsträgerblockierschichten (hier nicht gezeigt) vorgesehen sein, zwischen denen die organischen Licht emittierenden Emissionsschichten 33 und 52 angeordnet sind.The emission layers 33 and 52 have for example an electroluminescent material mentioned in the general part. These can be selected to be either the same or different. Furthermore, charge carrier blocking layers (not shown here) can be provided, between which the organic light-emitting emission layers 33 and 52 are arranged.

Beispielsweise kann als Ladungsträgerblockierschicht eine Löcherblockierschicht vorhanden sein, die 2,2',2" -(1,3,5-Benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazol) umfasst. Weiterhin kann als Ladungsträgerblockierschicht eine Elektronenblockierschicht vorhanden sein, die beispielsweise NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin) umfasst.For example, a hole blocking layer which comprises 2,2 ', 2 "- (1,3,5-benzene triyl) -tris (1-phenyl-1-H-benzimidazole) can be present as the charge carrier blocking layer. An electron blocking layer can also be present as the charge carrier blocking layer which includes, for example, NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine).

Materialien für die Lochtransportschichten 32 und 51, für die Lochinjektionsschicht 31, für die Elektronentransportschichten 34 und 53 sowie für die Elektroneninjektionsschicht 54 können aus bekannten Materialien ausgewählt werden. Beispielsweise kann für die Lochtransportschichten 32 und 51 NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin) verwendet werden.Materials for the hole transport layers 32 and 51 , for the hole injection layer 31 , for the electron transport layers 34 and 53 as well as for the electron injection layer 54 can be selected from known materials. For example, for the hole transport layers 32 and 51 NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine) can be used.

Weiterhin können für die Elektronentransportschichten 34 und 53 beispielsweise 2,2',2" -(1,3,5-Benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazol) verwendet werden.Furthermore, for the electron transport layers 34 and 53 for example 2,2 ', 2 "- (1,3,5-petroletriyl) -tris (1-phenyl-1-H-benzimidazole) can be used.

Der Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel 40 enthält in dem Ausführungsbeispiel eine erste elektronentransportierende Schicht 41, die aus einem ersten elektronentransportierenden Matrixmaterial folgender Formel

Figure DE102014117011B4_0028
und einem ersten n-Dotierstoff folgender Formel
Figure DE102014117011B4_0029
hergestellt ist und eine Dicke von 100 nm aufweist. Es ist auch möglich, dass die Oxetangruppen über eine Hexylgruppe angebunden sind. Die erste elektronentransportierende Schicht wurde wie folgt hergestellt:

  • - Aufbringen einer Lösung des ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials und des n-Dotierstoffs auf den ersten organischen funktionellen Schichtenstapel 30 in einem organischen Lösungsmittel.
  • - Vernetzung des ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials mit dem ersten n-Dotierstoff über die Oxetangruppen mit NO+SbF6 - als Vernetzungsinitiator.
The charge carrier generation layer stack 40 contains in the exemplary embodiment a first electron-transporting layer 41 made from a first electron-transporting matrix material with the following formula
Figure DE102014117011B4_0028
and a first n-type dopant of the following formula
Figure DE102014117011B4_0029
is made and has a thickness of 100 nm. It is also possible for the oxetane groups to be attached via a hexyl group. The first electron-transporting layer was made as follows:
  • Applying a solution of the first electron-transporting matrix material and the n-type dopant to the first organic functional layer stack 30th in an organic solvent.
  • - Crosslinking of the first electron-transporting matrix material with the first n-dopant via the oxetane groups with NO + SbF 6 - as a crosslinking initiator.

Die erste lochtransportierende Schicht 42 wurde wie folgt hergestellt:

  • - Aufbringen einer Lösung des ersten lochtransportierenden Matrixmaterials und des ersten p-Dotierstoffs auf der ersten elektronentransportierenden Schicht 41 in einem organischen Lösungsmittel. Das erste lochtransportierende Matrixmaterial weist folgende Formel auf:
Figure DE102014117011B4_0030
The first hole-transporting layer 42 was made as follows:
  • Applying a solution of the first hole-transporting matrix material and the first p-type dopant to the first electron-transporting layer 41 in an organic solvent. The first hole-transporting matrix material has the following formula:
Figure DE102014117011B4_0030

Der erste p-Dotierstoff ist ein Oxetan-funktionalisiertes Kupferbenzoat. Es ist auch möglich, dass die Oxetangruppen, das Iodonium- oder Sulfoniumsalz als Vernetzungsinitiator über eine Hexylgruppe angebunden sind.

  • - Vernetzung des ersten lochtransportierenden Matrixmaterials mit dem ersten p-Dotierstoff über die Oxetangruppen mit NO+SbF6 - als Vernetzungsinitiator.
The first p-type dopant is an oxetane-functionalized copper benzoate. It is also possible that the oxetane groups, the iodonium or sulfonium salt as a crosslinking initiator are attached via a hexyl group.
  • - Crosslinking of the first hole-transporting matrix material with the first p-dopant via the oxetane groups with NO + SbF 6 - as a crosslinking initiator.

Die erste elektronentransportierende Schicht 41 des Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapels 40 kann alternativ aus einem zweiten elektronentransportierendes Matrixmaterial und einem zweiten n-Dotierstoff, wie 2,9-Dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthrolin (BCP) und Cs2CO3 bestehen oder die erste lochtransportierende Schicht kann alternativ aus einem zweiten lochtransportierenden Matrixmaterial und einem zweiten p-Dotierstoff bestehen. Der zweite p-Dotierstoff kann VOx sein und das zweite lochtransportierende Matrixmaterial kann folgende Formel aufweisen:

Figure DE102014117011B4_0031
The first electron-transporting layer 41 of the charge carrier generation layer stack 40 can alternatively consist of a second electron-transporting matrix material and a second n-dopant, such as 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP) and Cs 2 CO 3 , or the first hole-transporting layer can alternatively consist of a second hole-transporting matrix material and a second p-type dopant. The second p-dopant can be VO x and the second hole-transporting matrix material can have the following formula:
Figure DE102014117011B4_0031

Claims (9)

Verfahren zur Herstellung eines organischen Licht emittierenden Bauelements mit den Verfahrensschritten A) Ausbilden eines ersten organischen funktionellen Schichtenstapels (30) auf einer ersten Elektrode (20), B) Ausbilden eines Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapels (40) auf dem ersten organischen funktionellen Schichtenstapel (30), C) Ausbilden eines zweiten organischen funktionellen Schichtenstapels (50) auf dem Ladungsträgererzeugungs-Schichtenstapel (40), D) Anordnen einer zweiten Elektrode (60) auf dem zweiten organischen funktionellen Schichtenstapel (50), wobei der Verfahrensschritt B) die folgenden Verfahrensschritte umfasst: B1) Ausbilden einer ersten elektronentransportierenden Schicht (41) und B2) Ausbilden einer ersten lochtransportierenden Schicht (42), wobei - Verfahrensschritt B1) folgende Verfahrensschritte umfasst: B11) Aufbringen eines ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials und eines ersten n-Dotierstoffs auf dem ersten organischen funktionellen Schichtenstapel (30) und B13) Vernetzen des ersten n-Dotierstoffs mit dem ersten elektronentransportierenden Matrixmaterial, und/oder wobei - Verfahrenschritt B2) folgende Verfahrensschritte umfasst: B21) Aufbringen eines ersten lochtransportierenden Matrixmaterials und eines ersten p-Dotierstoffs auf dem ersten organischen funktionellen Schichtenstapel (30) und B23) Vernetzen des ersten p-Dotierstoffs mit dem ersten lochtransportierenden Matrixmaterial, und wobei der erste n-Dotierstoff ein Cäsiumsalz ist, das zumindest eine funktionelle Gruppe aufweist, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst.Method for producing an organic light-emitting component with the method steps A) forming a first organic functional layer stack (30) on a first electrode (20), B) forming a charge carrier generation layer stack (40) on the first organic functional layer stack (30), C) forming a second organic functional layer stack (50) on the charge carrier generation layer stack (40), D) arranging a second electrode (60) on the second organic functional layer stack (50), process step B) comprising the following process steps: B1) forming a first electron-transporting layer (41) and B2) forming a first hole-transporting layer (42), wherein - Process step B1) comprises the following process steps: B11) applying a first electron-transporting matrix material and a first n-type dopant to the first organic functional layer stack (30) and B13) crosslinking of the first n-dopant with the first electron-transporting matrix material, and / or where - Process step B2) comprises the following process steps: B21) applying a first hole-transporting matrix material and a first p-type dopant to the first organic functional layer stack (30) and B23) crosslinking of the first p-type dopant with the first hole-transporting matrix material, and wherein the first n-type dopant is a cesium salt having at least one functional group selected from a group consisting of oxetane, epoxy and acrylic groups. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der erste n-Dotierstoff und das erste elektronentransportierende Matrixmaterial zumindest eine funktionelle Gruppe aufweisen, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst.Procedure according to Claim 1 wherein the first n-type dopant and the first electron transporting matrix material have at least one functional group selected from a group comprising oxetane, epoxy and acrylic groups. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der erste p-Dotierstoff und das erste lochtransportierende Matrixmaterial zumindest eine funktionelle Gruppe aufweisen, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Oxetan-, Epoxid- und Acrylgruppen umfasst.The method according to any one of the preceding claims, wherein the first p-type dopant and the first hole-transporting matrix material have at least one functional group selected from a group comprising oxetane, epoxy and acrylic groups. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Vernetzen des ersten n-Dotierstoffs mit dem ersten elektronentransportierenden Matrixmaterial in Verfahrensschritt B13) und/oder das Vernetzen des ersten p-Dotierstoffs mit dem ersten lochtransportierenden Matrixmaterial in Verfahrensschritt B23) durch einen Vernetzungsinitiator initiiert wird und der Vernetzungsinitiator aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Stickoxidgase, Iodonium-, Sulfonium- und Nitrosoniumsalze umfasst, und wobei das Iodonium- oder Sulfoniumsalz an das erste elektronentransportierende Matrixmaterial und/oder das erste lochtransportierende Material gebunden ist.Method according to one of the preceding claims, wherein the crosslinking of the first n-dopant with the first electron-transporting matrix material in method step B13) and / or the crosslinking of the first p-dopant with the first hole-transporting matrix material in method step B23) is initiated by a crosslinking initiator and the Crosslinking initiator is selected from a group comprising nitric oxide gases, iodonium, sulfonium and nitrosonium salts, and wherein the iodonium or sulfonium salt is bound to the first electron-transporting matrix material and / or the first hole-transporting material. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei nach Verfahrensschritt B11) folgender Verfahrensschritt stattfindet: B12) Temperaturerhöhung oder UV-Bestrahlung des ersten elektronentransportierenden Matrixmaterials und des ersten n-Dotierstoffs und/oder wobei nach Verfahrensschritt B21) folgender Verfahrensschritt stattfindet: B22) Temperaturerhöhung oder UV-Bestrahlung des ersten lochtransportierenden Matrixmaterials und des ersten p-Dotierstoffs.Method according to one of the preceding claims, the following method step taking place after method step B11): B12) Increase in temperature or UV irradiation of the first electron-transporting matrix material and the first n-dopant and / or the following method step taking place after method step B21): B22) Increase in temperature or UV irradiation of the first hole-transporting matrix material and of the first p-type dopant. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei in Verfahrensschritt B11) das erste elektronentransportierende Matrixmaterial und der erste n-Dotierstoff aus der Gasphase aufgebracht werden und/oder wobei in Verfahrensschritt B21) das erste lochtransportierende Matrixmaterial und der erste p-Dotierstoff aus der Gasphase aufgebracht werden.Method according to one of the preceding claims, wherein in method step B11) the first electron-transporting matrix material and the first n-dopant are applied from the gas phase and / or wherein in method step B21) the first hole-transporting matrix material and the first p-dopant are applied from the gas phase . Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei in Verfahrensschritt B11) das erste elektronentransportierende Matrixmaterial und der erste n-Dotierstoff aus einer Lösung aufgebracht werden und/oder wobei in Verfahrensschritt B21) das erste lochtransportierende Matrixmaterial und der erste p-Dotierstoff aus einer Lösung aufgebracht werden.Method according to one of the preceding claims, wherein in method step B11) the first electron-transporting matrix material and the first n-dopant are applied from a solution and / or wherein in method step B21) the first hole-transporting matrix material and the first p-dopant are applied from a solution . Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 7, wobei die zumindest eine Oxetan-, Epoxid- oder Acrylgruppe an den ersten n-Dotierstoff und das erste elektronentransportierende Matrixmaterial und/oder an den ersten p-Dotierstoff und das erste lochtransportierende Matrixmaterial über eine Alkylgruppe angebunden ist.Method according to one of the Claims 2 to 7th , wherein the at least one oxetane, epoxy or acrylic group is bound to the first n-type dopant and the first electron-transporting matrix material and / or to the first p-type dopant and the first hole-transporting matrix material via an alkyl group. Verfahren nach dem vorhergehenden Anspruch, wobei die Alkylgruppe aus einer Gruppe ausgewählt ist, die Butyl-, Pentyl-, Hexyl- und Heptylgruppen umfasst.A method according to the preceding claim, wherein the alkyl group is selected from a group comprising butyl, pentyl, hexyl and heptyl groups.
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