DE102014114330B4 - Solar control layer system with neutral coating color on the side and glass unit - Google Patents

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Abstract

Solar-Control-Schichtsystem auf einem transparenten dielektrischen Substrat (S) mit zumindest folgenden Schichten vom Substrat (S) aufwärts betrachtet: – eine siliziumhaltige dielektrische Grundschicht (GS), – eine erste Funktionsschicht (FS1), – eine dielektrische Zwischenschicht (ZS), – eine zweite Funktionsschicht (FS2), – eine siliziumhaltige dielektrische Deckschicht (DS), – wobei der Brechungsindex der Zwischenschicht (ZS), nachfolgend als niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht (ZS) bezeichnet, bei einer Wellenlänge von 550 nm kleiner als der Brechungsindex der Grundschicht (GS) und der Deckschicht (DS) ist.Solar control layer system on a transparent dielectric substrate (S) with at least the following layers viewed from the substrate (S): - a silicon-containing dielectric base layer (GS), - a first functional layer (FS1), - a dielectric intermediate layer (ZS), A second functional layer (FS2), a silicon-containing dielectric cover layer (DS), the refractive index of the intermediate layer (ZS), referred to below as low-refractive dielectric interlayer (ZS), at a wavelength of 550 nm smaller than the refractive index of the base layer (Z) GS) and the cover layer (DS).

Description

Die Erfindung betrifft allgemein ein Solar-Control-Schichtsystem auf einem transparenten, dielektrischen Substrat sowie eine Glaseinheit. The invention generally relates to a solar control layer system on a transparent, dielectric substrate and a glass unit.

Derartige Solar-Control-Schichtsysteme, nachfolgend auch nur als Schichtsysteme bezeichnet, werden, z. B. auf Glas mittels Vakuumbeschichtung aufgebracht, hauptsächlich in der Architektur zur Fenster- und Fassadengestaltung und in der Automobilindustrie verwendet. Ziel ist eine Reduzierung des Gesamtenergiedurchlassgrades g. Die Gesamtenergie setzt sich zusammen aus dem Teil der Solarstrahlungsenergie, der direkt durch das Glas mittels Transmission von sichtbarem Licht und Strahlung im Wellenlängenbereich des nahen Infrarots (ca. 780 nm bis 3 µm) in das Innere des Raumes gelangt und der Energie, die nach vorheriger Glaserwärmung nach innen abgegeben wird, wobei maximal der Anteil abgegeben werden kann, der zuvor absorbiert wurde. Je kleiner der g-Wert, desto höher ist die Sonnenschutzwirkung. Such solar control layer systems, hereinafter also referred to only as layer systems are, z. B. applied to glass by means of vacuum coating, mainly used in architecture for window and facade design and in the automotive industry. The goal is a reduction of the total energy transmittance g. The total energy is composed of the part of the solar radiation energy, which passes directly through the glass by means of transmission of visible light and radiation in the wavelength range of the near infrared (about 780 nm to 3 microns) in the interior of the room and the energy, the previous Glass heating is delivered to the inside, wherein at most the proportion can be delivered, which was previously absorbed. The smaller the g-value, the higher the sunscreen effect.

Das Schichtsystem reduziert durch seinen Aufbau nichtselektiv die Transmission über den gesamten Wellenlängenbereich des sichtbaren Lichts von ungefähr 380 nm bis 780 nm gleichermaßen, wobei je nach konkreter Anwendung ein bestimmter Transmissionsgrad erwünscht ist. The layer system by its structure nonselectively reduces the transmission over the entire wavelength range of visible light from about 380 nm to 780 nm equally, depending on the specific application, a certain transmittance is desired.

Zudem kann ein vorzugebendes Maß an Reflexions- und/oder Absorptionsvermögen für Strahlung im spektralen Infrarotbereich, insbesondere für Wellenlängen λ > 3 µm, gefordert sein, um einen Wärmeeintrag von außen zu verringern. In addition, a predetermined level of reflection and / or absorption capacity for radiation in the spectral infrared range, in particular for wavelengths λ> 3 μm, may be required in order to reduce heat input from the outside.

Das übliche Solar-Control-Schichtsystem umfasst meist drei Schichten. Verschiedentlich werden auch zwei oder mehr Funktionsschichten verwendet ( WO 2012/096771 A1 , US 2011/0146172 A1 , DE 2524461 A1 ), wobei die Funktionsschicht regelmäßig zwischen zwei dielektrischen Schichten, einer Grundschicht und einer Deckschicht, beispielsweise aus Siliziumnitrid Si3N4, eingebettet ist, die z. B. der Entspiegelung, Verhinderung von Diffusionsprozessen, der Haftungsverbesserung und/oder der Erhöhung der mechanischen Stabilität des Schichtsystems dienen. Als Funktionsschicht dient dabei eine Schicht, die eine relativ hohe Absorption und geringe Reflexion im solaren Bereich (sichtbares Licht und nahes Infrarot bis λ < 2 µm) aufweist. Diese Reflexion und/oder Absorption der Infrarotstrahlung wird innerhalb des Schichtsystems hauptsächlich durch eine metallische oder metallnitridische Funktionsschicht, nachfolgend nur als Funktionsschicht bezeichnet, beispielsweise aus CrN, NiCr, Cr, Ni, NiNx, CrNx oder NiCrNx, realisiert. The usual solar control layer system usually comprises three layers. Occasionally, two or more functional layers are used ( WO 2012/096771 A1 . US 2011/0146172 A1 . DE 2524461 A1 ), wherein the functional layer is regularly embedded between two dielectric layers, a base layer and a cover layer, for example of silicon nitride Si 3 N 4 , the z. B. the anti-reflection, preventing diffusion processes, the adhesion improvement and / or increasing the mechanical stability of the layer system serve. The functional layer used here is a layer which has a relatively high absorption and low reflection in the solar range (visible light and near infrared to λ <2 μm). This reflection and / or absorption of the infrared radiation is realized within the layer system mainly by a metallic or metal nitride functional layer, hereinafter referred to only as a functional layer, for example of CrN, NiCr, Cr, Ni, NiNx, CrNx or NiCrNx.

Eine weitere Eigenschaft der beschriebenen Schichtsysteme ist deren Eignung für eine Wärmebehandlung (Tempern), z. B. bei der Herstellung von Sicherheitsglas im Architektur- und Fahrzeugbereich und der Formgebung, z. B. bei der Herstellung von Windschutzscheiben. Da die Beschichtung der Substrate aus prozesstechnischen sowie Kostengründen zumeist vor der Wärmebehandlung stattfindet, kommen vorrangig Schichtsysteme zum Einsatz, deren mechanische und optische Eigenschaften sich durch die Wärmebehandlung nicht oder nicht wesentlich verschlechtern. Another property of the coating systems described is their suitability for a heat treatment (tempering), z. B. in the manufacture of safety glass in the architectural and automotive sector and the shaping, z. B. in the manufacture of windshields. Since the coating of the substrates for process engineering and cost reasons usually takes place before the heat treatment, layer systems are mainly used, the mechanical and optical properties of which do not worsen or not significantly by the heat treatment.

In dieser Ausführung kann zur Vermeidung von überwiegend temperaturinduzierten, die Funktionsschicht beeinträchtigenden Diffusions- und Oxidationsvorgänge ein- oder beidseitig der Funktionsschicht eine Blockerschicht abgeschieden werden, die als Puffer für die diffundierenden Komponenten dient. Diese Blockerschichten sind entsprechend der auftretenden Temperaturbelastung angeordnet und schützen die empfindliche, oft sehr dünne Funktionsschicht vor dem Einfluss benachbarter Schichten. In this embodiment, in order to avoid predominantly temperature-induced diffusion and oxidation processes impairing the functional layer, a blocking layer can be deposited on one or both sides of the functional layer, which serves as a buffer for the diffusing components. These blocking layers are arranged according to the temperature load that occurs and protect the sensitive, often very thin functional layer against the influence of adjacent layers.

Ein Solar-Control-Schichtsystem wird im Bereich Architekturverglasung in der Regel auf Position 2, das heißt auf der Innenseite der ersten, äußeren Scheibe einer Zweischeibenisolierglaseinheit, aufgebracht. In besonderen Fällen ist jedoch auch ein Aufbringen auf Position 1, das heißt auf der Außenseite der ersten, äußeren Scheibe einer Zweischeibenisolierglaseinheit, möglich. In the field of architectural glazing, a solar control layer system is generally applied to position 2, that is to say on the inside of the first, outer pane of a double-pane insulating glass unit. In special cases, however, an application to position 1, that is, on the outside of the first outer pane of a Zweiperibenisolierglaseinheit possible.

Insbesondere für Architekturverglasungen spielt der Farbeindruck der beschichteten Substrate eine wichtige Rolle. Neutrale Farben sind im CIE L*a*b*-Farbsystem durch a*- und b*-Farbwerte von ca. Null gekennzeichnet, während grüne Farben durch negative a*-Farbwerte, blaue Farben durch negative b*-Farbwerte, rote Farben durch positive a*-Farbwerte und gelbe Farben durch positive b*-Farbwerte charakterisiert sind. In particular for architectural glazings, the color impression of the coated substrates plays an important role. Neutral colors in the CIE L * a * b * color system are characterized by a * and b * color values of approximately zero, while green colors are characterized by negative a * color values, blue colors by negative b * color values, red colors by positive a * color values and yellow colors are characterized by positive b * color values.

Alternativ zum CIE L*a*b*-Farbsystem können Farbwerte auch im XYZ-System angegeben werden, wobei die Y-Koordinate als Helligkeitswert (Luminanz) verwendet wird. Je größer der zu einer Farbe gehörige Y-Wert ist, desto intensiver erscheint die Farbe. As an alternative to the CIE L * a * b * color system, color values can also be specified in the XYZ system, where the Y coordinate is used as the brightness value (luminance). The larger the Y value associated with a color, the more intense the color appears.

Mitunter ist beispielsweise für die Verkleidung von Gebäudefassaden eine ganz bestimmte, mitunter auch intensive, substratseitige Reflexionsfarbe, gekennzeichnet durch bestimmte a*(Rg)- und b*(Rg)-Werte gewünscht, um eine bestimmte Farbassoziation, das heißt, eine bestimmte emotionale und psychologische Wirkung hervorzurufen oder eine harmonische Anpassung an die Umgebung zu bewirken. Beispielsweise ist aus der Druckschrift DE 10 2013 112 990 A1 ein Solar-Control-Schichtsystem mit einem intensiven Farbeindruck bekannt. Occasionally, for example, for the cladding of building facades a very specific, sometimes intense, substrate-side reflection color, characterized by certain a * (Rg) - and b * (Rg) values desired to a certain color association, that is, a certain emotional and to cause psychological effect or to bring about a harmonious adaptation to the environment. For example, from the document DE 10 2013 112 990 A1 a solar control layer system with an intense color impression known.

Vor allem bei Schichtsystemen mit gezielt farblichen Rg-Werten, z. B. mit einem blauen, grünen oder goldenen substratseitigen Farbeindruck, d. h. im Falle einer Architekturverglasung von außen betrachtet, ergeben sich unvorteilhafte, z. B. gelb-braune oder rötliche, schichtseitige Farbwerte (Reflexionsfarbwerte a*(Rf) und b*(Rf) sowie Transmissionsfarbwerte a*(T) und b*(T)). Dies ist visuell außerordentlich unangenehm und daher höchst unerwünscht. Especially in layer systems with specifically colored Rg values, eg. B. with a blue, green or golden substrate-side color impression, d. H. in the case of architectural glazing viewed from the outside, unfavorable, z. B. yellow-brown or reddish, layer-side color values (reflection color values a * (Rf) and b * (Rf) and transmission color values a * (T) and b * (T)). This is visually extremely unpleasant and therefore highly undesirable.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein auf einem Substrat abgeschiedenes Solar-Control-Schichtsystem anzugeben, welches möglichst neutrale schichtseitige Reflexionsfarbwerte sowie Transmissionsfarbwerte aufweist. Weiterhin sollen der Transmissionsgrad und die substratseitigen Farbwerte eines solchen Schichtsystems einstellbar sein. The object of the present invention is to specify a solar control layer system deposited on a substrate, which has as neutral as possible layer-side reflection color values as well as transmission color values. Furthermore, the transmittance and the substrate-side color values of such a layer system should be adjustable.

Insbesondere ist gewünscht, ein derartiges Schichtsystem anzugeben, dessen Y(Rg)-Wert möglichst hoch ist, damit der substratseitige Farbeindruck möglichst intensiv ist. Das Schichtsystem soll zudem eine hohe chemische und mechanische Stabilität, auch hinsichtlich der Farbe, aufweisen sowie temperbar und kostengünstig herstellbar sein. In particular, it is desired to provide such a layer system whose Y (Rg) value is as high as possible so that the substrate-side color impression is as intense as possible. The layer system should also have a high chemical and mechanical stability, including in terms of color, as well as be produced temperable and inexpensive.

Weiterhin soll die Emissivität des Schichtsystems, d. h., das Maß für die Fähigkeit einer Oberfläche absorbierte Wärme wieder als Strahlung abzugeben, möglichst gering sein. Furthermore, the emissivity of the layer system, i. That is, the measure of the ability of a surface to return absorbed heat as radiation is to be as low as possible.

Zur Lösung der Aufgabe werden ein Solar-Control-Schichtsystem mit den Merkmalen gemäß Anspruch 1 sowie eine Glaseinheit mit den Merkmalen des Anspruchs 12 angegeben. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche. To achieve the object, a solar control layer system with the features of claim 1 and a glass unit with the features of claim 12 are given. Advantageous embodiments are the subject of the dependent claims.

Das erfindungsgemäße Solar-Control-Schichtsystem ist auf einem transparenten dielektrischen Substrat, insbesondere aus Glas oder einem Polymermaterial, angeordnet. The solar control layer system according to the invention is arranged on a transparent dielectric substrate, in particular made of glass or a polymer material.

Das Schichtsystem umfasst eine siliziumhaltige dielektrische Grundschicht. Sie dient insbesondere der Verminderung von unerwünschten Diffusionsvorgängen aus dem Substrat in das darüber liegende Schichtsystem und hier insbesondere in die Funktionsschichten und trägt dadurch zur Stabilität des gesamten Schichtsystems bei. Zudem sorgt die Grundschicht für eine gute Haftung der nachfolgenden Schichten. Die Grundschicht kann gleichzeitig auch der Entspiegelung dienen und beeinflusst die Farbeinstellung. The layer system comprises a silicon-containing dielectric base layer. In particular, it serves to reduce unwanted diffusion processes from the substrate into the overlying layer system and in particular into the functional layers, thereby contributing to the stability of the entire layer system. In addition, the base layer ensures good adhesion of the subsequent layers. The base coat can also serve for the anti-reflective coating and influences the color setting.

Eine gute Barrierewirkung, welche insbesondere für zu tempernde Schichtsysteme aufgrund der erhöhten Diffusionsneigung bei höheren Temperaturen wichtig ist, wird insbesondere durch solche Schichten erzielt, welche neben den spezifischen Ionenfängern speziell für Natriumionen auch eine dichte Struktur aufweisen. A good barrier effect, which is particularly important for layer systems to be tempered due to the increased tendency to diffusion at higher temperatures, is achieved in particular by those layers which, in addition to the specific ion scavengers, also have a dense structure, especially for sodium ions.

Aufgrund seiner dichten Struktur und der damit verbundenen guten Barriereeigenschaften gegenüber einer Diffusion von Natriumionen sowie seiner Temperaturstabilität der Aufwachsstruktur ist insbesondere Si3N4 für temperbare Schichtsysteme geeignet. Due to its dense structure and the associated good barrier properties against diffusion of sodium ions and its temperature stability of the growth structure, Si 3 N 4 in particular is suitable for heatable layer systems.

Die Schichtdicke der Grundschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 9 und 115 nm. The layer thickness of the base layer is preferably in the range between 9 and 115 nm.

Über der Grundschicht ist eine erste Funktionsschicht angeordnet, welche die einfallende Solarstrahlung zumindest teilweise, insbesondere im IR-Bereich, absorbiert und/oder reflektiert. Die Schichtdicke der ersten Funktionsschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 1 und 15 nm. Arranged above the base layer is a first functional layer which absorbs and / or reflects the incident solar radiation at least partially, in particular in the IR range. The layer thickness of the first functional layer is preferably in the range between 1 and 15 nm.

Über der ersten Funktionsschicht ist eine niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht angeordnet. Niedrigbrechend bedeutet, dass der Brechungsindex der Zwischenschicht bei einer Wellenlänge von 550 nm kleiner als der Brechungsindex der Grund- und Deckschicht ist. Die Schichtdicke der Zwischenschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 30 und 100 nm. Over the first functional layer, a low-refractive dielectric interlayer is arranged. Low refractive index means that the refractive index of the intermediate layer at a wavelength of 550 nm is smaller than the refractive index of the base and top layers. The layer thickness of the intermediate layer is preferably in the range between 30 and 100 nm.

Über der Zwischenschicht ist eine zweite Funktionsschicht angeordnet, welche ebenfalls die einfallende Solarstrahlung zumindest teilweise, insbesondere im IR-Bereich, absorbiert und/oder reflektiert. Die Schichtdicke der zweiten Funktionsschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 15 und 40 nm. Arranged above the intermediate layer is a second functional layer which likewise absorbs and / or reflects the incident solar radiation at least partially, in particular in the IR range. The layer thickness of the second functional layer is preferably in the range between 15 and 40 nm.

Optional können über der zweiten Funktionsschicht eine oder mehrere weitere Funktionsschichten angeordnet sein, wobei die einzelnen Funktionsschichten jeweils durch niedrigbrechende dielektrische Zwischenschichten voneinander getrennt sind. Optionally, one or more further functional layers may be arranged above the second functional layer, the individual functional layers being separated from one another by low-dielectric intermediate layers.

Nach oben abgeschlossen wird das Schichtsystem mittels einer siliziumhaltigen dielektrischen Deckschicht, welche beispielsweise aus Si3N4 oder Siliziumoxinitrid bestehen kann. Die Deckschicht dient insbesondere dem mechanischen und chemischen Schutz des Schichtsystems und der Entspiegelung. Mit Si3N4 als Material der Deckschicht können aufgrund seiner dichten Struktur besonders stabile Schichtsysteme erzeugt werden. Die Schichtdicke der Deckschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 25 und 100 nm. At the top, the layer system is completed by means of a silicon-containing dielectric cover layer, which may consist, for example, of Si 3 N 4 or silicon oxynitride. The cover layer serves, in particular, for the mechanical and chemical protection of the layer system and the antireflection coating. With Si 3 N 4 as the material of the cover layer, due to its dense structure, particularly stable layer systems can be produced. The layer thickness of the cover layer is preferably in the range between 25 and 100 nm.

Das erfindungsgemäße Schichtsystem kann optional weitere Schichten wie z. B. Haft-, Keim- und/oder Blockerschichten enthalten, welche die Funktion der beschriebenen Schichten unterstützen. The layer system according to the invention can optionally further layers such. B. contain adhesion, germ and / or blocking layers, which support the function of the described layers.

Es kann beispielsweise mittels physikalischer Gasphasenabscheidung auf dem Substrat abgeschieden werden. Vorzugsweise erfolgt die Abscheidung mittels Magnetronsputtern, was die Erzeugung von dichten Einzelschichten auch mit geringen Schichtdicken ermöglicht. For example, it can be deposited on the substrate by means of physical vapor deposition. Preferably, the deposition takes place by means of magnetron sputtering, which enables the production of dense individual layers even with small layer thicknesses.

Die Schichteigenschaften können dabei sehr gut und reproduzierbar mittels der Art des Sputterverfahrens, wie z. B. DC(Gleichspannungs)-, MF(Mittelfrequenz)-, pulsed DC(pulsierendes Gleichspannungs)- oder DAS-(Dual-Anode-Sputtering)Sputtern, und den Sputterparametern eingestellt werden. Außerdem können sowohl rohrförmige Targets als auch planare Targets eingesetzt werden. The layer properties can be very good and reproducible by means of the type of sputtering process, such. DC (DC), MF (mid frequency), pulsed DC (pulsed DC) or DAS (dual anode sputtering) sputtering, and sputtering parameters. In addition, both tubular targets and planar targets can be used.

„Bestehend aus“ schließt auf alle Schichten des Schichtsystems bezogen ein, dass technologisch bedingte Verunreinigungen oder technologisch bedingte Beimengungen, die zur Prozessführung während der Abscheidung oder, z. B. bei der Kathodenzerstäubung, zur Targetherstellung dienlich sind, enthalten sein können. Derartige Verunreinigungen oder technologische Beimengungen liegen meist im Bereich von kleiner 1 At.-%, können aber auch einige wenige Prozent betragen. Die genannten stöchiometrischen Verbindungen schließen geringfügige stöchiometrische Abweichungen ein, sofern damit keine wesentlichen Eigenschaftsänderungen verbunden sind. Zudem können auch sogenannte Gradientenschichten eingesetzt werden, das heißt Schichten, deren Zusammensetzung sich über die Schichtdicke ändert. Alternativ kann insbesondere die Funktionsschicht aus mehreren Teilschichten unterschiedlicher Materialien aufgebaut sein. "Consisting of" includes, based on all layers of the layer system, that technologically related impurities or technologically related admixtures, the process control during deposition or, z. B. in the sputtering, are useful for target production, may be included. Such impurities or technological admixtures are usually in the range of less than 1 At .-%, but can also be a few percent. The stoichiometric compounds mentioned include minor stoichiometric deviations, provided that they are not associated with significant changes in properties. In addition, so-called gradient layers can also be used, ie layers whose composition changes over the layer thickness. Alternatively, in particular, the functional layer can be constructed from several partial layers of different materials.

Das erfindungsgemäße Schichtsystem zeichnet sich durch eine weitgehend neutrale schichtseitige Reflexionsfarbe und Transmissionsfarbe aus, d. h. a*(Rf), b*(Rf), a*(T) und b*(T) liegen nahe Null. Bevorzugt liegt der Farbwert a*(Rf) im Bereich zwischen –4 ≤ und ≤ 4. Der Farbwert b*(Rf) liegtbevorzugt im Bereich zwischen –7 ≤ und ≤ 0. Zudem lassen sich derThe layer system of the invention is characterized by a largely neutral layer-side reflection color and transmission color, d. H. a * (Rf), b * (Rf), a * (T) and b * (T) are close to zero. Preferably, the color value a * (Rf) is in the range between -4 ≦ and ≦ 4. The color value b * (Rf) is preferably in the range between -7 ≦ and ≦ 0. In addition, the color value a

Transmissionsgrad und die substratseitige Reflexionsfarbe einstellen, wobei die substratseitige Reflexionsfarbe vorrangig über die Dicke der Grundschicht eingestellt wird, während die Materialien der einzelnen Schichten für den erzielbaren Farbeindruck lediglich eine untergeordnete Rolle spielen. Adjust the transmittance and the substrate-side reflection color, the substrate-side reflection color is primarily adjusted over the thickness of the base layer, while the materials of the individual layers play only a minor role for the achievable color impression.

Weiterhin weist das erfindungsgemäße Schichtsystem einen hohen Y(Rg)-Wert auf, der die substratseitige Reflexionsfarbe besonders intensiv erscheinen lässt. Furthermore, the layer system according to the invention has a high Y (Rg) value, which makes the substrate-side reflection color appear particularly intense.

Das erfindungsgemäße Schichtsystem ist zudem chemisch und mechanisch beständig gemäß den gegenwärtigen Standards und lässt sich aufgrund des einfachen Aufbaus effektiv bezüglich Zeit- und Materialbedarf und damit kostengünstig herstellen. Auf die Kosteneffizienz wirkt sich weiter positiv aus, dass die Herstellung des Schichtsystems mit der gewünschten Farbe mit solchen Materialien erfolgen kann, die in ihrer Verarbeitung und Variabilität bekannt und erprobt sind, und die in regelmäßigen Anlagenkonfigurationen verwendet werden. Damit kann, auch bei einer gewünschten Reflexionsfarbe, häufig auf Umbauten verzichtet werden, was die Auslastung einer Anlage erhöht. The layer system according to the invention is also chemically and mechanically resistant according to the current standards and can be due to the simple structure effectively in terms of time and material requirements and thus produce cost. Cost-effectiveness is further enhanced by the ability to produce the desired color layer system with materials known and tested for their processing and variability used in regular plant configurations. This can be waived even with a desired reflection color, often on conversions, which increases the utilization of a plant.

Bei Verwendung von Si3N4 als Material der Grundschicht ist das erfindungsgemäße Schichtsystem zudem temperfähig, was die gleiche oder zumindest eine optisch nicht wahrnehmbare Veränderung der Reflexionsfarbe eines getemperten im Vergleich zum ungetemperten Schichtsystem einschließt. When using Si 3 N 4 as the material of the base layer, the layer system according to the invention is also temperable, which includes the same or at least an optically imperceptible change in the reflection color of a tempered compared to the untempered layer system.

Die Funktionsschichten des Schichtsystems können wahlweise aus demselben Material oder aus unterschiedlichen Materialien bestehen. The functional layers of the layer system can optionally consist of the same material or of different materials.

Als Material für die Funktionsschichten sind besonders Metalle, Metalllegierungen, Halbleiter oder Verbindungen von Metallen, Metalllegierungen oder Halbleitern, insbesondere stöchiometrische oder unterstöchiometrische Nitride, geeignet. Bevorzugt können die Funktionsschichten beispielsweise aus Chrom, Nickel-Chrom NiCr, Titan oder deren stöchiometrischen oder unterstöchiometrischen Nitriden bestehen. Particularly suitable as material for the functional layers are metals, metal alloys, semiconductors or compounds of metals, metal alloys or semiconductors, in particular stoichiometric or substoichiometric nitrides. The functional layers can preferably consist, for example, of chromium, nickel-chromium NiCr, titanium or their stoichiometric or substoichiometric nitrides.

Besonders geeignet ist stöchiometrisches Titannitrid TiN, da mit einem derartigen Schichtsystem eine im Vergleich zum Stand der Technik höhere elektrische Leitfähigkeit erreicht werden kann. Damit einher geht eine gewünschte Verringerung der Emissivität des Schichtsystems. Beispielsweise können je nach konkreter Ausführung des Schichtsystems nach dem Tempern Emissivitäten kleiner 0,6 und bei Verwendung von Blockerschichten sogar kleiner 0,5 erzielt werden. Übliche Solar-Control-Schichtsysteme weisen hingegen eine viel geringere Leitfähigkeit auf und zeigen daher die gleiche Emissivität wie das unbeschichtete Substrat, im Falle von Glas ca. 0,87. Particularly suitable is stoichiometric titanium nitride TiN, since with such a layer system a higher electrical conductivity than in the prior art can be achieved. This is accompanied by a desired reduction in the emissivity of the layer system. For example, depending on the specific design of the layer system after annealing, emissivities of less than 0.6 and, if blocker layers are used, even less than 0.5 can be achieved. Conventional solar control layer systems, however, have a much lower conductivity and therefore show the same emissivity as the uncoated substrate, in the case of glass about 0.87.

Gemäß einer Ausführungsvariante besteht die niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht aus Al2O3, einem Aluminiumoxinitrid, SiO2 oder einem Siliziumoxinitrid mit einem Brechungsindex kleiner 2,0 bei einer Wellenlänge von 550 nm. Bevorzugt besteht die Zwischenschicht aus Siliziumoxinitrid mit einem Brechungsindex zwischen 1,75 und 1,95 bei einer Wellenlänge von 550 nm. Für den Fall, dass das Schichtsystem mehrere Zwischenschichten umfasst, können auch mehrere oder auch alle Zwischenschichten aus einem der genannten Materialien bestehen. According to one embodiment variant, the low-refractive dielectric interlayer consists of Al 2 O 3 , an aluminum oxynitride, SiO 2 or a silicon oxynitride with a refractive index of less than 2.0 at a wavelength of 550 nm. The intermediate layer is preferably made of silicon oxynitride having a refractive index between 1.75 and 1.95 at a wavelength of 550 nm. In the event that the layer system comprises a plurality of intermediate layers, also several or all intermediate layers may consist of one of said materials.

Optional kann das Schichtsystem eine oder mehrere Blockerschichten umfassen, welche benachbart, insbesondere in direktem Kontakt, zu zumindest einer Funktionsschicht angeordnet sind. Derartige Blockerschichten verhindern eine Farbveränderung aufgrund eines Temperprozesses. Die Blockerschichten können beispielsweise aus NiCr oder einem Nickel-Chrom-Nitrid bestehen. Die Schichtdicke einer solchen Blockerschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 1 und 5 nm. Optionally, the layer system may comprise one or more blocking layers, which are arranged adjacent to, in particular in direct contact with, at least one functional layer. Such blocker layers prevent a color change due to an annealing process. The blocking layers may be made of, for example, NiCr or a nickel-chromium nitride. The layer thickness of such a blocking layer is preferably in the range between 1 and 5 nm.

Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung ist lediglich direkt oberhalb der letzten Funktionsschicht eine Blockerschicht aus NiCr oder einem Nickel-Chrom-Nitrid angeordnet, da das Schichtsystem während eines Temperprozesses insbesondere vor Oxidationsprozessen mit der umgebenden Atmosphäre geschützt werden muss. According to a preferred embodiment, a blocking layer of NiCr or a nickel-chromium nitride is arranged only directly above the last functional layer, since the layer system must be protected during an annealing process, in particular from oxidation processes with the surrounding atmosphere.

Eine erfindungsgemäße Glaseinheit weist zumindest zwei Glassubstrate auf, die mit oder ohne Abstand miteinander über geeignete Mittel zur Verbindung verbunden sind. Die Glaseinheit kann beispielsweise als Isolierglaseinheit fungieren oder aber auch als Verbundglaseinheit, z. B. als Fahrzeug- oder Sicherheitsverglasungen, bei denen zwei Glassubstrate als Scheiben ohne Zwischenraum über ein Verbindungsmittel, z. B. eine Folie, direkt miteinander verbunden sind. A glass unit according to the invention has at least two glass substrates, which are connected with or without a distance from each other via suitable means for connection. The glass unit can for example act as an insulating glass unit or as a laminated glass unit, z. B. as vehicle or safety glazings, in which two glass substrates as discs without space via a connecting means, for. As a film directly connected to each other.

Eines der Glassubstrate weist ein erfindungsgemäßes Schichtsystem auf, wobei das beschichtete Glassubstrat innerhalb der Glaseinheit meist so angeordnet ist, dass die Beschichtung zwischen den Substraten, bevorzugt auf Position 2 der Glaseinheit, liegt. One of the glass substrates has a layer system according to the invention, wherein the coated glass substrate within the glass unit is usually arranged such that the coating lies between the substrates, preferably at position 2 of the glass unit.

Nachfolgend soll die Erfindung anhand von zwei Ausführungsbeispielen näher erläutert werden. Die dazugehörigen Zeichnungen zeigen in The invention will be explained in more detail with reference to two embodiments. The accompanying drawings show in

1 schematischer Aufbau eines Solar-Control- Schichtsystems gemäß dem Stand der Technik, 1 schematic structure of a solar control layer system according to the prior art,

2 schematischer Aufbau eines Solar-Control- Schichtsystems gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel, 2 schematic structure of a solar control layer system according to the first embodiment,

3 schematischer Aufbau eines Solar-Control- Schichtsystems gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel, 3 schematic structure of a solar control layer system according to the second embodiment,

4 Gegenüberstellung der erreichbaren Farbwerte, Widerstände und Emissivitäten der ungetemperten Einzelscheibe. 4 Comparison of the achievable color values, resistances and emissivities of the untempered single pane.

Ein Solar-Control-Schichtsystem gemäß dem Stand der Technik (1) weist vom Substrat S (6 mm dickes Glas) aufwärts betrachtet folgende Schichten auf: eine Grundschicht GS aus Si3N4 mit einer Schichtdicke im Bereich zwischen 18 und 228 nm, eine Funktionsschicht FS aus einem Chromnitrid CrNx mit einer Schichtdicke zwischen 9 und 17 nm und darüber eine Deckschicht DS ebenfalls aus Si3N4 mit einer Schichtdicke im Bereich zwischen 18 und 54 nm. Für ein derartiges Schichtsystem ergeben sich die in 4 angegebenen Farbwerte sowie ein Widerstand größer als 1000 Ω, so dass das Schichtsystem gemäß dem Stand der Technik als nicht leitfähig eingestuft wird. A solar control layer system according to the prior art ( 1 ) has, viewed from the substrate S (6 mm thick glass), the following layers: a base layer GS of Si 3 N 4 with a layer thickness in the range between 18 and 228 nm, a functional layer FS of a chromium nitride CrN x with a layer thickness between 9 and 17 nm and above a cover layer DS also of Si 3 N 4 with a layer thickness in the range between 18 and 54 nm. For such a layer system, the result in 4 given color values and a resistance greater than 1000 Ω, so that the layer system according to the prior art is classified as non-conductive.

Gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Schichtsystems (2) ist auf einem 6 mm dicken Glassubstrat S eine Grundschicht GS aus Si3N4 mit einer Schichtdicke im Bereich zwischen 9 und 115 nm angeordnet. Direkt darüber folgt eine erste Funktionsschicht FS1 aus einem Nickel-Chrom-Nitrid NiCrNx oder einem Chromnitrid CrNx mit einer Schichtdicke zwischen 2 und 10 nm. Direkt oberhalb der ersten Funktionsschicht FS1 ist eine niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht ZS aus einem Siliziumoxinitrid SiOxNy mit einer Schichtdicke im Bereich zwischen 30 und 100 nm angeordnet. Der Brechungsindes der Zwischenschicht ZS beträgt bei einer Wellenlänge von 550 nm zwischen 1,75 und 1,95. According to a first exemplary embodiment of the layer system according to the invention ( 2 ) is on a 6 mm thick glass substrate S, a base layer GS of Si 3 N 4 arranged with a layer thickness in the range between 9 and 115 nm. Directly thereafter follows a first functional layer FS1 of a nickel-chromium nitride NiCrN x or a chromium nitride CrN x with a layer thickness between 2 and 10 nm. Directly above the first functional layer FS1 is a low-refractive dielectric interlayer ZS of a silicon oxynitride SiO x N y with a layer thickness in the range between 30 and 100 nm arranged. The refractive index of the intermediate layer ZS at a wavelength of 550 nm is between 1.75 and 1.95.

Direkt oberhalb der Zwischenschicht ZS befindet sich die zweite Funktionsschicht FS2 aus einem Titannitrid TiNx mit einer Schichtdicke zwischen 15 und 40 nm. Direkt oberhalb der zweiten Funktionsschicht FS2 ist eine Deckschicht DS aus Si3N4 mit einer Schichtdicke im Bereich zwischen 30 und 100 nm angeordnet. Directly above the intermediate layer ZS is the second functional layer FS2 made of a titanium nitride TiN x with a layer thickness between 15 and 40 nm. Directly above the second functional layer FS2 is a cover layer DS of Si 3 N 4 with a layer thickness in the range between 30 and 100 nm arranged.

Mit dem genannten Schichtaufbau lassen sich die in 4 angegebenen Farbwerte erreichen. Im Vergleich zum Stand der Technik weist das erfindungsgemäße Schichtsystem eine neutrale schichtseitige Reflexionsfarbe und Transmissionsfarbe aus, d. h. a*(Rf), b*(Rf), a*(T) und b*(T) liegen nahe Null. Zudem weist das Schichtsystem gemäß Ausführungsbeispiel 1 einen deutlich verringerten Widerstand auf, was sich in einer verringerten Emissivität widerspiegelt. With the layer structure mentioned can be in 4 reach specified color values. In comparison with the prior art, the layer system according to the invention has a neutral layer-side reflection color and transmission color, ie a * (Rf), b * (Rf), a * (T) and b * (T) are close to zero. In addition, the layer system according to embodiment 1 has a significantly reduced resistance, which is reflected in a reduced emissivity.

Das zweite Ausführungsbeispiel (3) unterscheidet sich vom ersten Ausführungsbeispiel dadurch, dass zwischen zweiter Funktionsschicht FS und der Deckschicht DS eine Blockerschicht BS aus NiCr oder einem Nickel-Chrom-Nitrid NiCrNx angeordnet ist. Die Schichtdicke der Blockerschicht BS liegt im Bereich zwischen 1 und 5 nm, die übrigen Schichtdicken sind dem Ausführungsbeispiel 1 entsprechend ausgebildet. The second embodiment ( 3 ) differs from the first embodiment in that between the second functional layer FS and the cover layer DS a blocking layer BS of NiCr or a nickel-chromium nitride NiCrN x is arranged. The layer thickness of the blocking layer BS is in the range between 1 and 5 nm, the other layer thicknesses are formed according to the embodiment 1.

Auch die zum zweiten Ausführungsbeispiel zugehörigen Farbwerte können 4 entnommen werden. Im Vergleich zum Ausführungsbeispiel 1 sind der Widerstand und damit die Emissivität nochmals verringert. Also, the color values associated with the second embodiment can 4 be removed. Compared to the embodiment 1, the resistance and thus the emissivity are reduced again.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

  • SS
    Substrat substratum
    S1S1
    zweites Substrat second substrate
    GSGS
    Grundschicht base layer
    FS, FS1, FS2, FSxFS, FS1, FS2, FSx
    Funktionsschichten functional layers
    ZSZS
    Zwischenschicht interlayer
    BSBS
    Blockerschicht blocker layer
    DSDS
    Deckschicht topcoat

Claims (12)

Solar-Control-Schichtsystem auf einem transparenten dielektrischen Substrat (S) mit zumindest folgenden Schichten vom Substrat (S) aufwärts betrachtet: – eine siliziumhaltige dielektrische Grundschicht (GS), – eine erste Funktionsschicht (FS1), – eine dielektrische Zwischenschicht (ZS), – eine zweite Funktionsschicht (FS2), – eine siliziumhaltige dielektrische Deckschicht (DS), – wobei der Brechungsindex der Zwischenschicht (ZS), nachfolgend als niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht (ZS) bezeichnet, bei einer Wellenlänge von 550 nm kleiner als der Brechungsindex der Grundschicht (GS) und der Deckschicht (DS) ist.  Solar control layer system on a transparent dielectric substrate (S) with at least the following layers viewed from the substrate (S) upwards: A silicon-containing dielectric base layer (GS), A first functional layer (FS1), A dielectric intermediate layer (ZS), A second functional layer (FS2), A silicon-containing dielectric covering layer (DS), - wherein the refractive index of the intermediate layer (ZS), hereinafter referred to as low-refractive dielectric interlayer (ZS), at a wavelength of 550 nm is smaller than the refractive index of the base layer (GS) and the cover layer (DS). Schichtsystem nach Anspruch 1, wobei die niedrigbrechenden dielektrischen Zwischenschicht (ZS) aus Al2O3, einem Aluminiumoxinitrid, SiO2 oder einem Siliziumoxinitrid mit einem Brechungsindex kleiner 2,0, insbesondere einem Brechungsindex zwischen 1,75 und 1,95, bei einer Wellenlänge von 550 nm besteht. Layer system according to claim 1, wherein the low-refractive dielectric interlayer (ZS) of Al 2 O 3 , an aluminum oxynitride, SiO 2 or a silicon oxynitride having a refractive index less than 2.0, in particular a refractive index between 1.75 and 1.95, at one wavelength of 550 nm. Schichtsystem nach Anspruch 1, wobei über der zweiten Funktionsschicht (FS2) eine oder mehrere weitere Funktionsschichten (FSx mit x = 3, 4, ...) angeordnet sind, die von der jeweils darunterliegenden Funktionsschicht (FSx – 1) durch eine weitere niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht (ZS) getrennt sind. Layer system according to claim 1, wherein over the second functional layer (FS2) one or more further functional layers (FSx with x = 3, 4, ...) are arranged, which are separated from the respectively underlying functional layer (FSx - 1) by a further low-refractive dielectric layer Intermediate layer (ZS) are separated. Schichtsystem nach Anspruch 1, 2 oder 3, wobei die Funktionsschichten (FS) aus demselben Material oder aus unterschiedlichen Materialien bestehen. Layer system according to claim 1, 2 or 3, wherein the functional layers (FS) consist of the same material or of different materials. Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Funktionsschichten (FS) aus einem Metall, einer Metalllegierung, einem Halbleiter oder einer Metall- oder Halbleiterverbindung, insbesondere einem stöchiometrischen oder unterstöchiometrischen Nitrid, bestehen. Layer system according to one of the preceding claims, wherein the functional layers (FS) consist of a metal, a metal alloy, a semiconductor or a metal or semiconductor compound, in particular a stoichiometric or substoichiometric nitride. Schichtsystem nach Anspruch 5, wobei die Funktionsschichten (FS) aus Chrom, NiCr, Titan oder deren stöchiometrischen oder unterstöchiometrischen Nitriden, insbesondere TiN, bestehen. Layer system according to claim 5, wherein the functional layers (FS) consist of chromium, NiCr, titanium or their stoichiometric or substoichiometric nitrides, in particular TiN. Schichtsystem nach einem der Ansprüche 3 bis 6, wobei zumindest eine der niedrigbrechenden dielektrischen Zwischenschichten (ZS) aus Al2O3, einem Aluminiumoxinitrid, SiO2 oder einem Siliziumoxinitrid mit einem Brechungsindex kleiner 2,0, insbesondere einem Brechungsindex zwischen 1,75 und 1,95, bei einer Wellenlänge von 550 nm besteht. Layer system according to one of claims 3 to 6, wherein at least one of the low-refractive dielectric intermediate layers (ZS) of Al 2 O 3 , an aluminum oxynitride, SiO 2 or a silicon oxynitride having a refractive index less than 2.0, in particular a refractive index between 1.75 and 1 , 95, at a wavelength of 550 nm. Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Grund- und Deckschicht (GS, DS) aus Si3N4 besteht. Layer system according to one of the preceding claims, wherein the base and cover layer (GS, DS) consists of Si 3 N 4 . Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei eine oder mehrere Blockerschichten (BS) benachbart zu zumindest einer Funktionsschicht (FS) angeordnet sind. Layer system according to one of the preceding claims, wherein one or more blocking layers (BS) are arranged adjacent to at least one functional layer (FS). Schichtsystem nach Anspruch 9, wobei lediglich direkt oberhalb der letzten Funktionsschicht (FS) eine Blockerschicht (BS) aus NiCr oder Nickelchromnitrid angeordnet ist. Layer system according to claim 9, wherein only directly above the last functional layer (FS) a blocking layer (BS) of NiCr or nickel chromium nitride is arranged. Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei der Farbwert a*(Rf) des Schichtsystems im Bereich –4 ≤ a*(Rf) ≤ 4 und der Farbwert a*(T) des Schichtsystems im Bereich –4 ≤ a*(T) ≤ 4 und/oder der Farbwert b*(Rf) des Schichtsystems im Bereich –7 ≤ b*(Rf) ≤ 0 und der Farbwert b*(T) des Schichtsystems im Bereich –6 ≤ b*(T) ≤ 2 liegt. Layer system according to one of the preceding claims, wherein the color value a * (Rf) of the layer system in the range -4 ≤ a * (Rf) ≤ 4 and the color value a * (T) of the layer system in the range -4 ≤ a * (T) ≤ 4 and / or the color value b * (Rf) of the layer system in the range -7 ≦ b * (Rf) ≦ 0 and the color value b * (T) of the layer system in the range -6 ≦ b * (T) ≦ 2. Glaseinheit mit zumindest zwei Glassubstraten (S, S1), die mit oder ohne Abstand zueinander über Mittel zur Verbindung der Glassubstrate (S, S1) miteinander verbunden sind, wobei eines der Glassubstrate (S, S1) ein Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche aufweist. Glass unit comprising at least two glass substrates (S, S1) which are interconnected with or without a distance from one another via means for connecting the glass substrates (S, S1), one of the glass substrates (S, S1) comprising a layer system according to one of the preceding claims.
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