DE102014112645A1 - heater - Google Patents
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/46—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/40—Heating elements having the shape of rods or tubes
- H05B3/54—Heating elements having the shape of rods or tubes flexible
- H05B3/56—Heating cables
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/68—Heating arrangements specially adapted for cooking plates or analogous hot-plates
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B2203/00—Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
- H05B2203/002—Heaters using a particular layout for the resistive material or resistive elements
- H05B2203/003—Heaters using a particular layout for the resistive material or resistive elements using serpentine layout
Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Verwendung als unterhalb eines Suszeptors eines CVD-Reaktors angeordnete Heizeinrichtung, zum Aufheizen der zu einer Prozesskammer weisenden, zu beschichtende Substrate tragende Suszeptor-Oberseite auf eine Temperatur über 1.000°C, wobei die Heizeinrichtung mehrere Heizwendeln (8) aufweist, deren Enden in elektrischer Parallelschaltung der Heizwendeln (8) jeweils mit einem Kontaktelement verbunden sind. Zur gebrauchsvorteilhaften Weiterbildung wird vorgeschlagen, dass mindestens zwei der Heizwendeln (8) derart voneinander verschiedene elektrische und/oder geometrische Eigenschaften aufweisen, dass ihre Wärmeleistungen bei gleicher an den Enden anliegenden Spannung verschieden ist.The invention relates to a device for use as a heating device arranged below a susceptor of a CVD reactor for heating the susceptor top bearing a substrate to be coated to a substrate to a temperature above 1000 ° C, said heater having a plurality of heating coils (8) whose ends are connected in electrical parallel connection of the heating coils (8) each with a contact element. For use-advantageous development is proposed that at least two of the heating coils (8) have such different electrical and / or geometric properties that their heat outputs are different for the same voltage applied to the ends.
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Verwendung als unterhalb eines Suszeptors eines CVD-Reaktors angeordnete Heizeinrichtung, zum Aufheizen der zu einer Prozesskammer weisenden, zu beschichtende Substrate tragende Suszeptor-Oberseite auf eine Temperatur über 1.000°C, wobei die Heizeinrichtung zumindest zwei Heizwendeln aufweist, deren Enden in elektrischer Parallelschaltung der Heizwendeln jeweils mit einem Kontaktelement verbunden sind.The invention relates to a device for use as a heating device arranged below a susceptor of a CVD reactor, for heating the susceptor top facing a process chamber to be coated substrates to a temperature above 1000 ° C, wherein the heater has at least two heating coils whose Ends in electrical parallel connection of the heating coils are each connected to a contact element.
Vorrichtungen der zuvor beschriebenen Art werden in den
Zum Stand der Technik gehören ferner die
Eine Heizeinrichtung, wie sie Gegenstand der Erfindung ist, befindet sich innerhalb eines Gehäuses eines CVD-Reaktors. Die Heizeinrichtung besitzt eine Vielzahl von Heizwendeln, die aus wendelgangförmig geformten Drähten, sogenannten Filamenten aus hitzebeständigem Metall, beispielsweise Wolfram, gebildet sind. Die einzelnen Heizwendeln sind auf einer spiralförmigen Linie angeordnet, wobei eine Heizwendel hinter der anderen Heizwendel liegt. Die spiralförmige Anordnung erstreckt sich auf einer Kreisscheibenfläche oder auf einer Kreisringfläche. Es können mehrere Heizeinrichtungen vorgesehen sein, die radial ineinander geschachtelt sind und jeweils eine Heizzone bilden, wobei eine mittlere Heizzone sich auf einer Kreisscheibenfläche und radial äußere Heizzonen sich auf jeweils Ringflächen erstrecken. Jede Heizzone besitzt eine Mehrzahl von Heizwendeln, die insbesondere auf einer Spiralbogenlinie hintereinander angeordnet sind. Die Heizwendeln können aber auch auf Kreisbogenlinien angeordnet sein. Mehrere Kreisbögen sind koaxial oder nicht koaxial, also exzentrisch ineinander geschachtelt. Die Heizwendeln können aber auch auf einer Linie angeordnet sein, die mäanderförmig sich über die jeweilige Heizzone erstreckt. Die Heizwendeln können in einer gemeinsamen Ebene angeordnet sein. Diese Ebene ist eine Parallelebene zur Erstreckungsebene des im Wesentlichen kreisscheibenförmigen Suszeptors, der oberhalb der Heizeinrichtung innerhalb des CVD-Reaktorgehäuses angeordnet ist. Mit der Heizeinrichtung wird der Suszeptor von unten her beheizt, so dass die von der Heizeinrichtung wegweisende Suszeptor-Oberseite eine Temperatur von über 1.000°C. Jede Heizzone besitzt zwei Kontaktelemente, die an eine Stromversorgung angeschlossen sind. Zwischen den Kontaktelementen sind die einzelnen Heizwendeln einer Heizzone in elektrischer Parallelschaltung angeordnet. Jede Heizwendel besitzt zwei Enden. Jedes der Enden ist mit einem Kontaktelement verbunden. Beim Stand der Technik sind die Längen und Durchmesser der Filamente der einzelnen Heizwendeln, die zu einer Zone der Heizeinrichtung gehören, gleich gestaltet, so dass die einzelnen Heizwendeln als Folge eines gleichen elektrischen Widerstandes eine gleiche Wärmeleistung liefern.A heating device, as it is the subject of the invention, is located within a housing of a CVD reactor. The heater has a plurality of heating coils formed of helical shaped wires, so-called filaments of refractory metal such as tungsten. The individual heating coils are arranged on a spiral line, wherein a heating coil is behind the other heating coil. The spiral arrangement extends on a circular disk surface or on a circular ring surface. There may be provided a plurality of heating devices which are nested radially in each other and each form a heating zone, wherein a central heating zone extending on a circular disk surface and radially outer heating zones each on annular surfaces. Each heating zone has a plurality of heating coils, which are arranged in particular on a spiral arc line one behind the other. The heating coils can also be arranged on circular arc lines. Several circular arcs are coaxial or non-coaxial, ie nested eccentrically. However, the heating coils can also be arranged on a line that extends in a meandering manner over the respective heating zone. The heating coils can be arranged in a common plane. This plane is a parallel plane to the plane of extent of the substantially circular disk-shaped susceptor, which is arranged above the heating device within the CVD reactor housing. With the heater of the susceptor is heated from below, so that the pioneering from the heater susceptor top a temperature of about 1,000 ° C. Each heating zone has two contact elements connected to a power supply. Between the contact elements, the individual heating coils of a heating zone are arranged in electrical parallel connection. Each heating coil has two ends. Each of the ends is connected to a contact element. In the prior art, the lengths and diameters of the filaments of the individual heating coils, which belong to a zone of the heater, designed the same, so that the individual heating coils as a result of equal electrical resistance provide a similar heat output.
Beispielsweise aufgrund von Inhomogenitäten, lokalen Verschiedenheiten oder aber auch aus prozesstechnischen Gründen kann es vorteilhaft sein, wenn die von einer Heizeinrichtung erzeugte Wärmeleistung örtlich unterschiedliche Werte einnimmt.For example, due to inhomogeneities, local differences or even for procedural reasons, it may be advantageous if the thermal power generated by a heater occupies locally different values.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine bekannte Heizeinrichtung gebrauchsvorteilhaft weiterzubilden.The invention is therefore based on the object to further develop a known heater nutzsvorteilhaft.
Gelöst wird die Aufgabe durch die in den Ansprüchen angegebene Erfindung, wobei die Unteransprüche nicht nur jeweils vorteilhafte Weiterbildungen des Hauptanspruchs darstellen, sondern auch eigenständige Weiterbildungen des Standes der Technik.The object is achieved by the invention specified in the claims, wherein the dependent claims represent not only each advantageous developments of the main claim, but also independent developments of the prior art.
Zunächst und im Wesentlichen ist vorgesehen, dass die mindestens zwei Heizwendeln derart voneinander verschiedene elektrische und/oder geometrische Eigenschaften aufweisen, dass ihre Wärmeleistungen verschieden sind. Wie oben bereits ausgeführt, kann eine erfindungsgemäße Heizeinrichtung eine Mehrzahl von Heizwendeln, mindestens jedoch zwei aufweisen. Die Heizeinrichtung kann eine Heizzone eines voneinander verschiedene Heizzonen aufweisenden Heizers ausbilden, wobei jede Zone jeweils zwei elektrisch voneinander getrennte Kontaktelemente, insbesondere in Form von Kontaktplatten aufweist. Jede Heizzone besitzt bevorzugt mindestens zwei Heizwendeln, wobei zumindest eine der Heizzonen Heizwendeln mit verschiedenen elektrischen Widerständen besitzt, so dass diese Heizwendeln eine unterschiedliche Wärmeleistung liefern. An den Heizwendeln der mindestens einen Heizzone liegt dieselbe elektrische Spannung an. Die Spannung liegt an den Kontaktelementen an. Aufgrund der voneinander verschiedenen Widerstände der Heizwendeln fließen durch die Heizwendeln voneinander verschieden große Ströme. Bevorzugt werden die Heizwendeln von einem oder mehreren Drähten, sogenannten Filamenten, ausgebildet. Die Filamente einer Heizwendel sind an ihren Enden miteinander verbunden. Die Filamente der voneinander verschiedenen Heizwendeln können aus einem identischen Werkstoff, insbesondere Wolfram, bestehen. Sie können aber auch aus voneinander verschiedenen Werkstoffen, beispielsweise verschiedenen Legierungen bestehen, de unterschiedliche spezifische elektrische Widerstände aufweisen. Bevorzugt bestehen die Heizwendeln aber aus ein oder mehreren wendelgangförmig gebogenen Drähten. Erfindungsgemäß kann vorgesehen sein, dass mindestens ein Heizwendel einer Heizeinrichtung, beispielsweise einer Heizzone, lediglich ein wendelgangförmig geformtes Filament aufweist und eine zweite Heizwendel mehr als ein wendelgangförmig gebogenes Filament aufweist. Bevorzugt weist diese Heizwendel oder weisen alle Heizwendeln jeweils zwei parallel zueinander verlaufende Filamente auf, die gemeinsam zu einer Wendel geformt sind, so dass die beiden Wendelgänge ineinander gewendelt verlaufen. Die Heizwendeln können somit Einzel- oder Mehrlingsfilamente besitzen. Die einzelnen Filamente sind mit ihren Enden mit Kontaktelementen verbunden. Es ist auch vorgesehen, dass die Filamente einiger voneinander verschiedenen Heizwendeln eine unterschiedliche Querschnittsfläche aufweisen. Es ist auch vorgesehen, dass die Längen der Filamente unterschiedlicher Heizwendeln voneinander verschieden sind. Wird ein Heizwendel von zwei dicht benachbart nebeneinander verlaufenden Filamenten gebildet, so sind diese beiden Filamente jedoch bevorzugt gleich lang und besitzen bevorzugt auch eine gleiche Materialstärke. Sie können sich diesbezüglich aber auch unterscheiden. In einer bevorzugten Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die einzelnen Heizwendeln gleichlang sind und sich insbesondere über dieselbe Bogenlänge auf einer Spiralbogenlinie erstrecken. Besitzen voneinander verschiedene Heizwendeln Filamente unterschiedlicher Länge, so ist vorgesehen, dass sich die Steigungen der Wendelgänge unterscheiden. Die Filamente können dann eine unterschiedliche Anzahl von Wendelgängen besitzen. Die Länge der Heizwendeln kann aber identisch sein. Es ist aber auch vorgesehen, dass sich die Heizwendeln hinsichtlich des Durchmessers der Wendelgänge unterscheiden. Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, dass sich die Wärmeleistungen zumindest zweier voneinander verschiedener Heizwendeln, die dieselbe Anzahl von Filamenten aufweisen, einer Heizeinrichtung maximal um 10%, mindestens aber um 5% voneinander unterscheiden.First and foremost, it is provided that the at least two heating coils have such different electrical and / or geometric properties that their heat outputs are different. As already explained above, a heating device according to the invention may have a plurality of heating coils, but at least two. The heating device may form a heating zone of a heater having mutually different heating zones, each zone each having two electrically separate contact elements, in particular in the form of contact plates. Each heating zone preferably has at least two heating coils, wherein at least one of the heating zones has heating coils with different electrical resistances, so that these heating coils have a different heating capacity Provide heat output. The same electrical voltage is applied to the heating coils of the at least one heating zone. The voltage is applied to the contact elements. Due to the different resistances of the heating coils flow through the heating coils from each other different sized streams. The heating coils are preferably formed by one or more wires, so-called filaments. The filaments of a heating coil are connected together at their ends. The filaments of the mutually different heating coils may consist of an identical material, in particular tungsten. But they can also consist of mutually different materials, for example, different alloys, de have different resistivities. Preferably, however, the heating coils consist of one or more helically curved wires. According to the invention, it may be provided that at least one heating coil of a heating device, for example a heating zone, has only one helically shaped filament and a second heating coil has more than one helically bent filament. Preferably, this heating coil or all heating coils each have two mutually parallel filaments, which are formed together to form a helix, so that the two helical turns are wound into one another. The heating coils can thus have single or Mehrlingsfilamente. The individual filaments are connected at their ends with contact elements. It is also envisaged that the filaments of some mutually different heating coils have a different cross-sectional area. It is also envisaged that the lengths of the filaments of different heating coils are different from each other. If a heating coil is formed by two filaments closely adjacent to one another, however, these two filaments are preferably of equal length and preferably also have the same material thickness. You can also differ in this regard. In a preferred embodiment of the invention it is provided that the individual heating coils are the same length and extend in particular over the same arc length on a spiral arc line. If filaments of different lengths are different from each other, it is provided that the pitches of the helical turns differ. The filaments can then have a different number of helical turns. The length of the heating coils can be identical. But it is also envisaged that the heating coils differ in terms of the diameter of the helical turns. According to a preferred embodiment of the invention, it is provided that the heat outputs of at least two mutually different heating coils, which have the same number of filaments, a heater by a maximum of 10%, but at least differ from each other by 5%.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend anhand beigefügter Zeichnungen erläutert. Es zeigen:An embodiment of the invention will be explained below with reference to accompanying drawings. Show it:
Die erfindungsgemäße Heizeinrichtung
Der Boden der Prozesskammer
In der Prozesskammer
Der kreisscheibenförmige Suszeptor
Wesentliche Elemente der Heizeinrichtung
Das in den
Die zentrale Zone A ist von einer mittleren Ringzone B umgeben. Die mittlere Ringzone B ist ebenfalls als Heizeinrichtung
Die mittlere Ringzone B wird von einer äußeren Ringzone C umgeben, die fünf Heizwendeln
Alle drei Zonen A, B, C können individuell mit Strom versorgt werden, so dass die Wärmeleistung jeder Heizzone A, B, C individuell gesteuert werden kann. Die Wärmeleistung der einzelnen Heizwendeln
Beim Ausführungsbeispiel liegen die Heizwendeln
Die Erfindung umfasst eine Vielzahl von technischen Möglichkeiten, um die Wärmeleistung und insbesondere den elektrischen Widerstand der einzelnen Heizwendeln
Die
Die Zwillingswendel besteht aus zwei parallel zueinander verlaufenden Drähten
Eine Variante einer Ausgestaltung einer Heizwendel
Es sind auch Drillingsfilamente oder höherzahlige Mehrlingsfilamente möglich.There are also trill filaments or higher multipart filaments possible.
Es ist vorgesehen, dass die Heizwendeln
Dies erfolgt unter Berücksichtigung von Wärmeleiteigenschaften und Wärmeabgabeeigenschaften des Suszeptors. Es ist vorgesehen, dass sich zumindest zwei Heizwendeln
Die nachfolgende Tabelle 1 zeigt die wesentlichen Eigenschaften der Heizwendeln
Zone AZone A
Tabelle 1
Alle Heizwendeln
Alle Heizwendeln
Die Tabelle 2 zeigt die wesentlichen Eigenschaften der Heizwendeln
Zone BZone B
Tabelle 2
Die Tabelle 3 zeigt die wesentlichen Eigenschaften der Heizwendeln
Zone CZone C
Tabelle 3
Die vorstehenden Ausführungen dienen der Erläuterung der von der Anmeldung insgesamt erfassten Erfindungen, die den Stand der Technik zumindest durch die folgenden Merkmalskombinationen jeweils eigenständig weiterbilden, nämlich:
Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass mindestens zwei der Heizwendeln
A device characterized in that at least two of the heating coils
Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass mindestens zwei der Heizwendeln
Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass mindestens eine der Heizwendeln
Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass mindestens eine der Heizwendeln
Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Längen der ein Mehrlingsfilament ausbildenden Filamente
Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass dass mindestens zwei der Heizwendeln
Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass dass mindestens zwei der Heizwendeln
Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass alle Heizwendeln
Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Wendelgänge zweier voneinander verschiedener Heizwendeln
Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Heizwendeln
Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Heizeinrichtung
Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Wärmeleistungen der einzelnen Heizwendeln
Eine Vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch eines oder mehrere der kennzeichnenden Merkmale eines der vorhergehenden Ansprüche.A device characterized by one or more of the characterizing features of any one of the preceding claims.
Alle offenbarten Merkmale sind (für sich, aber auch in Kombination untereinander) erfindungswesentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/beigefügten Prioritätsunterlagen (Abschrift der Voranmeldung) vollinhaltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale dieser Unterlagen in Ansprüche vorliegender Anmeldung mit aufzunehmen. Die Unteransprüche charakterisieren mit ihren Merkmalen eigenständige erfinderische Weiterbildungen des Standes der Technik, insbesondere um auf Basis dieser Ansprüche Teilanmeldungen vorzunehmen.All disclosed features are essential to the invention (individually, but also in combination with one another). The disclosure of the associated / attached priority documents (copy of the prior application) is hereby also incorporated in full in the disclosure of the application, also for the purpose of including features of these documents in claims of the present application. The subclaims characterize with their features independent inventive developments of the prior art, in particular to make on the basis of these claims divisional applications.
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 11
- CVD-ReaktorCVD reactor
- 22
- GaseinlassorganGas inlet element
- 33
- GasaustrittsöffnungGas outlet
- 44
- Prozesskammerprocess chamber
- 55
- Substratsubstratum
- 66
- Suszeptorsusceptor
- 77
- Heizeinrichtungheater
- 88th
- Heizwendelheating coil
- 8.18.1
- Heizwendelheating coil
- 8.28.2
- Heizwendelheating coil
- 8.38.3
- Heizwendelheating coil
- 8.48.4
- Heizwendelheating coil
- 8.58.5
- Heizwendelheating coil
- 8.68.6
- Heizwendelheating coil
- 8.78.7
- Heizwendelheating coil
- 8.88.8
- Heizwendelheating coil
- 8.98.9
- Heizwendelheating coil
- 8.108.10
- Heizwendelheating coil
- 8.118.11
- Heizwendelheating coil
- 8.128.12
- Heizwendelheating coil
- 8.138.13
- Heizwendelheating coil
- 8.148.14
- Heizwendelheating coil
- 8.158.15
- Heizwendelheating coil
- 8.168.16
- Heizwendelheating coil
- 8.178.17
- Heizwendelheating coil
- 8.188.18
- Heizwendelheating coil
- 8.198.19
- Heizwendelheating coil
- 8.208.20
- Heizwendelheating coil
- 8.218.21
- Heizwendelheating coil
- 8.228.22
- Heizwendelheating coil
- 8.238.23
- Heizwendelheating coil
- 8.248.24
- Heizwendelheating coil
- 8.258.25
- Heizwendelheating coil
- 8.268.26
- Heizwendelheating coil
- 8.278.27
- Heizwendelheating coil
- 8.288.28
- Heizwendelheating coil
- 8.298.29
- Heizwendelheating coil
- 8.308.30
- Heizwendelheating coil
- 8.318.31
- Heizwendelheating coil
- 99
- Stützelementsupport element
- 1010
- Stützplattesupport plate
- 1111
- Kontaktplattecontact plate
- 1212
- Kontaktplattecontact plate
- 13 13
- Kontaktelementcontact element
- 1414
- Kontaktelementcontact element
- 1515
- Gasauslassorgangas outlet
- 1616
- Suszeptorträgersusceptor
- 1717
- Filamentfilament
- 1818
- Filamentfilament
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
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Zitierte PatentliteraturCited patent literature
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- DE 10200904396 A1 [0002] DE 10200904396 A1 [0002]
- DE 102007009145 A1 [0002] DE 102007009145 A1 [0002]
- DE 10329107 A1 [0002] DE 10329107 A1 [0002]
- DE 102005056536 A1 [0002] DE 102005056536 A1 [0002]
- DE 102006018515 A1 [0002] DE 102006018515 A1 [0002]
- DE 102007027703 A1 [0002] DE 102007027703 A1 [0002]
- EP 1351281 B1 [0003] EP 1351281 B1 [0003]
- US 7525071 B2 [0003] US 7525071 B2 [0003]
- US 7679034 B2 [0003] US 7679034 B2 [0003]
- US 2014/0110398 A1 [0003] US 2014/0110398 A1 [0003]
Claims (13)
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102014112645.9A DE102014112645A1 (en) | 2014-09-03 | 2014-09-03 | heater |
CN201520667672.8U CN205556776U (en) | 2014-09-03 | 2015-08-31 | As equipment of settling heating device below base of CVD reactor |
TW104214095U TWM522949U (en) | 2014-09-03 | 2015-08-31 | Heating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102014112645.9A DE102014112645A1 (en) | 2014-09-03 | 2014-09-03 | heater |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102014112645A1 true DE102014112645A1 (en) | 2016-03-03 |
Family
ID=55311885
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102014112645.9A Pending DE102014112645A1 (en) | 2014-09-03 | 2014-09-03 | heater |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN205556776U (en) |
DE (1) | DE102014112645A1 (en) |
TW (1) | TWM522949U (en) |
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Date | Code | Title | Description |
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