DE102013222913A1

DE102013222913A1 - exposure system

Info

Publication number: DE102013222913A1
Application number: DE201310222913
Authority: DE
Inventors: Aksel Göhnermeier; Bernd Spruck; Markus Anders-Woschick
Original assignee: Carl Zeiss AG; KLEO Halbleitertechnik GmbH and Co KG
Current assignee: Carl Zeiss AG; KLEO Halbleitertechnik GmbH and Co KG
Priority date: 2013-11-11
Filing date: 2013-11-11
Publication date: 2015-05-13
Also published as: WO2015067798A1

Abstract

Um bei einer Belichtungsanlage zum Erzeugen belichteter Strukturen in einer auf einem Objekt angeordneten fotosensitiven Schicht, umfassend eine Belichtungseinrichtung, wobei mit der Belichtungseinrichtung Belichtungsflecken positionsgesteuert auf der fotosensitiven Schicht erzeugbar sind, wobei die Belichtungseinrichtung mindestens eine eine Vielzahl von Belichtungsstrahlen erzeugende Belichtungseinheit aufweist, wobei mit jedem Belichtungsstrahl Belichtungsflecken erzeugbar sind, eine möglichst hohe Produktivität mit möglichst geringer Ausschussrate zu erreichen, wird vorgeschlagen, dass die Lichtleistung aller Belichtungsstrahlen durch mindestens einen jedem Belichtungsstrahl zugeordneten Sensorbereich von einer Belichtungsprüfeinheit erfassbar ist.In an exposure apparatus for producing exposed structures in a photosensitive layer disposed on an object, comprising an exposure device, the exposure device being capable of position-generating exposure spots on the photosensitive layer, the exposure device comprising at least one exposure unit producing a plurality of exposure beams, each with Exposure beam exposure spots can be generated to achieve the highest possible productivity with the lowest possible reject rate, it is proposed that the light output of all exposure beams by at least one each exposure beam associated sensor area is detected by an exposure test.

Description

Die Erfindung betrifft eine Belichtungsanlage zum Erzeugen belichteter Strukturen in einer auf einem Objekt angeordneten fotosensitiven Schicht, umfassend eine Belichtungseinrichtung, wobei mit der Belichtungseinrichtung Belichtungsflecken positionsgesteuert auf der fotosensitiven Schicht erzeugbar sind, wobei die Belichtungseinrichtung mindestens eine eine Vielzahl von Belichtungsstrahlen erzeugende Belichtungseinheit aufweist, wobei mit jedem Belichtungsstrahl Belichtungsflecken erzeugbar sind. The invention relates to an exposure apparatus for producing exposed structures in a photosensitive layer disposed on an object, comprising an exposure device, wherein the exposure means exposure spots on the photosensitive layer positionally generated, wherein the exposure device comprises at least one exposure beam generating a plurality of exposure, wherein with each exposure beam exposure spots are generated.

Eine derartige Belichtungsanlage ist beispielsweise aus der DE 10 2006 059 818 A1 bekannt. Such an exposure system is for example from the DE 10 2006 059 818 A1 known.

Bei einer derartigen Belichtungsanlage besteht das Problem, dass mit dieser eine möglichst hohe Produktivität mit möglichst geringer Ausschussrate erreicht werden soll. In such an exposure system, the problem is that with this the highest possible productivity should be achieved with the lowest possible reject rate.

Dieses Problem wird bei einer Belichtungsanlage der eingangs beschriebenen Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass die Lichtleistung aller Belichtungsstrahlen durch mindestens einen jedem Belichtungsstrahl zugeordneten Sensorbereich von einer Belichtungsprüfeinheit erfassbar ist. This problem is solved in an exposure system of the type described above according to the invention in that the light output of all the exposure beams can be detected by at least one sensor area assigned to each exposure beam by an exposure test unit.

Der Vorteil der erfindungsgemäßen Lösung ist darin zu sehen, dass mit einer derartigen Belichtungsprüfeinheit die Möglichkeit besteht, beispielsweise während eines Belichtungsvorgangs oder vor einem Belichtungsvorgang zu erfassen, ob sämtliche Belichtungsstrahlen eine detektierbare Lichtleistung aufweisen, so dass davon ausgegangen werden kann, dass damit auch mit großer Wahrscheinlichkeit eine ordnungsgemäße Belichtung der fotosensitiven Schicht möglich ist. The advantage of the solution according to the invention lies in the fact that with such an exposure test unit it is possible to detect, for example during an exposure process or before an exposure process, whether all the exposure beams have a detectable light output, so that it can be assumed that this also results in a large amount of light Probable proper exposure of the photosensitive layer is possible.

Insbesondere sieht eine vorteilhafte Lösung vor, dass die Belichtungsprüfeinheit bei fehlender Lichtleistung bei einem der Belichtungsstrahlen ein Fehlersignal erzeugt. In particular, an advantageous solution provides that the exposure test unit generates an error signal in the case of a lack of light power in one of the exposure beams.

Das Fehlersignal erlaubt entweder einer Steuerung der Belichtungsanlage oder einer Bedienungsperson zu vermitteln, dass ein fehlerhafter Zustand der Belichtungsanlage vorliegt. The error signal allows either control of the exposure system or an operator to communicate that a faulty condition of the exposure system is present.

Dabei ist unter einer fehlenden Lichtleistung zu verstehen, dass keine oder keine ausreichende Lichtleistung von dem jeweiligen Sensorbereich erfasst wird.In this case, a lack of light power means that no or no sufficient light power is detected by the respective sensor area.

Die fehlende Lichtleistung auf dem Sensorbereich ist dabei eine kein ausreichend rauschfreies Signal erzeugende minimale Lichtleistung, die durch eine dem Sensorbereich zugeordnete Signalverarbeitung festgelegt oder festlegbar ist.The lack of light power on the sensor area is a minimum noise power which does not produce a sufficiently noise-free signal and which can be defined or defined by a signal processing associated with the sensor area.

Besonders vorteilhaft ist die erfindungsgemäße Belichtungsanlage dann ausgebildet, wenn die Belichtungsprüfeinheit bei Vorliegen des Fehlersignals ein optisches und/oder akustisches Signal erzeugt, welches zumindest in einer Bedienungsperson die Information vermittelt, dass ein fehlerhafter Zustand der Belichtungsanlage vorliegt. The exposure system according to the invention is particularly advantageously designed when the exposure test unit generates an optical and / or acoustic signal in the presence of the error signal, which conveys the information, at least in one operator, that a faulty condition of the exposure system is present.

Alternativ oder ergänzend dazu ist es denkbar, dass die Belichtungsprüfeinheit mit der Steuereinheit gekoppelt ist und bei Vorliegen des Fehlersignals die Steuereinheit einen weiteren Belichtungsvorgang verhindert. Alternatively or additionally, it is conceivable that the exposure test unit is coupled to the control unit and, when the error signal is present, the control unit prevents a further exposure process.

Im einfachsten Fall ist es ausreichend, wenn die Belichtungsprüfeinheit die Lichtleistung der einzelnen Belichtungsstrahlen qualitativ erfasst, das heißt erfasst, ob überhaupt bei dem jeweiligen Belichtungsstrahl eine nennenswerte Lichtleistung erfassbar ist, wobei dann immer noch das Risiko besteht, dass die Lichtleistung nicht ausreichend ist, um in der fotosensitiven Schicht die fotochemische Umwandlung mit der notwendigen Reaktionsgeschwindigkeit zu erreichen. In the simplest case, it is sufficient for the exposure test unit to qualitatively detect the light output of the individual exposure beams, that is, to detect whether any appreciable light output is actually detectable for the respective exposure beam, in which case there is still the risk that the light power is insufficient to in the photosensitive layer to achieve the photochemical conversion with the necessary reaction rate.

Aus diesem Grund sieht eine weitere vorteilhafte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Belichtungsanlage vor, dass die Belichtungsprüfeinheit die Lichtleistung der einzelnen Belichtungsstrahlen quantitativ erfasst. For this reason, a further advantageous embodiment of the exposure apparatus according to the invention provides that the exposure test unit quantitatively detects the light output of the individual exposure beams.

Mit dieser Lösung besteht die Möglichkeit, die Stärke der Lichtleistung zu erfassen und somit zu prüfen, ob eine für die fotochemische Umwandlung ausreichende Lichtleistung in dem jeweiligen Belichtungsstrahl vorhanden ist. With this solution, it is possible to detect the intensity of the light output and thus to check whether a light output sufficient for the photochemical conversion is present in the respective exposure beam.

Um eine quantitative Erfassung der Lichtleistung der einzelnen Belichtungsstrahlen einfach auswerten zu können, ist vorzugsweise vorgesehen, dass die Belichtungsprüfeinheit die quantitativ erfasste Lichtleistung der einzelnen Belichtungsstrahlen mit mindestens einem Schwellwert vergleicht und insbesondere bei Unterschreiten des Schwellwerts das Fehlersignal erzeugt. In order to be able to easily evaluate a quantitative detection of the light output of the individual exposure beams, it is preferably provided that the exposure test unit compares the quantitatively detected light output of the individual exposure beams with at least one threshold value and, in particular, generates the error signal when the threshold value is undershot.

Durch den Vergleich mit dem Schwellwert besteht somit in einfacher Weise die Möglichkeit, die quantitativ erfasste Stärke der Lichtleistung auszuwerten und beispielsweise mit einem für eine optimale fotochemische Umsetzung erforderlichen Schwellwert der Lichtleistung zu vergleichen, so dass damit die Möglichkeit besteht, einerseits den Schwellwert nach den Erfordernissen der Belichtungsanlage und insbesondere des zu belichtenden Objekts zu wählen und dann durch Vergleich mit dem Schwellwert zu entscheiden, ob die Lichtleistung jedes einzelnen Belichtungsstrahls ausreichend ist oder nicht. By comparison with the threshold value, it is thus possible in a simple manner to evaluate the quantitatively measured intensity of the light output and to compare, for example, with a threshold value of the light output required for an optimal photochemical conversion, so that there is the possibility, on the one hand, of setting the threshold value according to the requirements the exposure system and in particular to select the object to be exposed and then to decide by comparison with the threshold, whether the light output of each exposure beam is sufficient or not.

Eine besonders vorteilhafte quantitative Auswertung der quantitativ erfassten Lichtleistung sieht vor, dass die Belichtungsprüfeinheit eine Abweichung von dem Schwellwert quantitativ erfasst. A particularly advantageous quantitative evaluation of the quantitatively detected light output provides that the exposure test unit quantitatively detects a deviation from the threshold value.

Das heißt, dass die Belichtungseinheit prüft, inwieweit die Stärke der Lichtleistung von dem vorgegebenen Schwellwert abweicht. That is, the exposure unit checks to what extent the intensity of the light output deviates from the predetermined threshold value.

Eine derartige quantitative Erfassung der Abweichung von dem Schwellwert ermöglicht es, beispielsweise mittels eines Regelkreises die Lichtleistung in jedem einzelnen Belichtungsstrahl zu regeln, dabei jedoch beispielsweise eine vorgebbare maximale Abweichung von dem Schwellwert zuzulassen, um die Regelung der Lichtleistung nicht allzu aufwändig werden zu lassen. Such a quantitative detection of the deviation from the threshold value makes it possible to regulate the light output in each individual exposure beam, for example by means of a control loop, while allowing, for example, a predefinable maximum deviation from the threshold value so as not to make the control of the light output too complex.

Alternativ oder ergänzend sieht eine weitere vorteilhafte Lösung vor, dass die Belichtungsprüfeinheit mit der Steuereinheit zusammenwirkt und entsprechend der quantitativ erfassten Lichtleistung der Strahlungserzeugungseinheit ein Ansteuersignal zur Einstellung der der Stärke der Lichtleistung der einzelnen Belichtungsstrahlen erzeugt. Alternatively or additionally, a further advantageous solution provides that the exposure test unit cooperates with the control unit and generates a drive signal for adjusting the intensity of the light output of the individual exposure beams in accordance with the quantitatively detected light output of the radiation generation unit.

Somit besteht die Möglichkeit, durch die Erfassung der Lichtleistung gleichzeitig die Lichtleistung jedes einzelnen Belichtungsstrahls zu einem bestimmten Zeitpunkt auf einen bestimmten Wert einzustellen und auf diesem Wert zu halten oder ständig auf diesen vorgegebenen Wert zu regeln. Thus, by detecting the light output, it is possible to simultaneously set the light output of each individual exposure beam to a certain value at a specific time and to maintain it at this value or to constantly control it to this predetermined value.

Um die Belichtungsvorgänge des Objekts mit möglichst großer Zuverlässigkeit durchzuführen ist vorzugsweise vorgesehen, dass die Belichtungsprüfeinheit vor Durchführen einer Belichtung der fotosensitiven Schicht oder eines Belichtungsvorgangs die Lichtleistung jedes einzelnen Belichtungsstrahls erfasst. In order to carry out the exposure processes of the object with the greatest possible reliability, it is preferably provided that the exposure test unit detects the light output of each individual exposure beam before performing an exposure of the photosensitive layer or an exposure process.

Hinsichtlich der Erfassung der Lichtleistung wären die unterschiedlichsten Möglichkeiten denkbar. With regard to the detection of the light output, a wide variety of possibilities would be conceivable.

Beispielsweise ließe sich während eines Belichtungsvorgangs des jeweiligen Belichtungsflecks die Lichtleistung zeitaufgelöst erfassen und somit auch das Aktivieren und Deaktivieren des Belichtungsstrahls während des Belichtungsvorgangs überprüfen. For example, during an exposure process of the respective exposure spot, the light output could be recorded in a time-resolved manner and thus also check the activation and deactivation of the exposure beam during the exposure process.

Um jedoch die Überprüfung der Lichtleistung möglichst einfach zu gestalten, ist vorzugsweise vorgesehen, dass die Belichtungsprüfeinheit einen Maximalwert der Lichtleistung während des Belichtungsvorgangs des jeweiligen Belichtungsflecks erfasst. However, in order to make the checking of the light output as simple as possible, it is preferably provided that the exposure test unit detects a maximum value of the light output during the exposure process of the respective exposure spot.

Das Erfassen nur eines Maximalwerts der Lichtleistung hat den Vorteil, das damit die Sensorik für die Erfassung der Lichtleistung einfacher ausgestaltet werden kann als wenn ein zeitlicher Verlauf der Lichtleistung erfasst werden müsste, was selbstverständlich im Rahmen der erfindungsgemäßen Lösung ebenfalls möglich ist. The detection of only one maximum value of the light output has the advantage that the sensor system for detecting the light output can be made simpler than if a temporal profile of the light output would have to be detected, which of course is likewise possible within the scope of the inventive solution.

Ferner lässt sich die Erfassung der Lichtleistung auch dazu ausnutzen, dass die Belichtungsprüfeinheit und die Steuereinheit vor einem der Belichtungsvorgänge des Objekts die Lichtleistung jedes Belichtungsstrahls auf einen vorgebbaren Wert einstellen. Furthermore, the detection of the light output can also be utilized in that the exposure test unit and the control unit set the light output of each exposure beam to a predefinable value prior to one of the exposure operations of the object.

Das heißt, dass entweder vor jedem einzelnen Belichtungsvorgang eine derartige Einstellung der Lichtleistung jedes Belichtungsstrahls erfolgt oder dass auch die Möglichkeit besteht, nach Durchführen einer ausgewählten oder festlegbaren Zahl von Belichtungsvorgängen vor dem nächstfolgenden Belichtungsvorgang die Lichtleistung jedes Belichtungsstrahls auf einen vorgebbaren Wert einzustellen. This means that either before each individual exposure process, such an adjustment of the light output of each exposure beam takes place or that it is also possible to set the light output of each exposure beam to a predeterminable value after performing a selected or definable number of exposure operations prior to the next exposure process.

Eine bevorzugte Lösung sieht einen das Objekt aufnehmenden Objektträger vor, wobei der Objektträger und die Belichtungseinrichtung in einer Vorschubrichtung relativ zueinander bewegbar sind. A preferred solution provides for a slide receiving the object, wherein the slide and the exposure device are movable in a feed direction relative to each other.

Vorzugsweise ist bei einer Ausführungsform die Belichtungseinheit mit in mindestens einer Reihenrichtung aufeinanderfolgend angeordneten Strahlführungen für die Belichtungsstrahlen versehen. Preferably, in one embodiment, the exposure unit is provided with beam guides for the exposure beams arranged successively in at least one row direction.

Zur optimalen Abbildung ist insbesondere eine Abbildungsoptik vorgesehen, mit welcher ein Belichtungsfleck auf der fotosensitiven Schicht erzeugbar ist. For optimal imaging, in particular, an imaging optics is provided with which an exposure spot on the photosensitive layer can be generated.

Ferner ist insbesondere bei der Belichtungseinheit jeder der Belichtungsstrahlen durch eine Ablenkeinheit in einer quer zur Reihenrichtung verlaufenden Ablenkrichtung ablenkbar, so dass mit jedem Belichtungsstrahl in der Ablenkrichtung in einer Vielzahl von aufeinanderfolgenden Belichtungsfleckpositionen Belichtungsflecken durch Aktivieren des jeweiligen Belichtungsstrahls bei Erreichen der jeweiligen Belichtungsfleckposition erzeugbar sind.Further, particularly in the exposure unit, each of the exposing beams is deflectable by a deflecting unit in a direction transverse to the direction of scanning, so that exposure spots can be generated with each exposure beam in the deflecting direction in a plurality of successive exposure spot positions by activating the respective exposure beam upon reaching the respective exposure spot position.

Hinsichtlich der Erzeugung jedes einzelnen Belichtungsstrahls wurden bislang im Rahmen der erfindungsgemäßen Lösung keine näheren Angaben gemacht. With regard to the generation of each individual exposure beam, no further details have hitherto been given within the scope of the inventive solution.

Prinzipiell wäre es denkbar, die Belichtungsstrahlen durch eine einzige Strahlungsquelle und Aufteilung der Lichtleistung dieser Strahlungsquelle auf die Vielzahl von Belichtungsstrahlen zu erzeugen. In principle, it would be conceivable to generate the exposure beams by a single radiation source and to divide the light output of this radiation source onto the plurality of exposure beams.

Eine besonders vorteilhafte Lösung sieht jedoch vor, dass zur Erzeugung jedes einzelnen Belichtungsstrahls eine insbesondere nur diesen Belichtungsstrahl erzeugende Strahlungsquelle vorgesehen ist. However, a particularly advantageous solution provides that, in order to produce each individual exposure beam, a radiation source generating in particular only this exposure beam is provided.

Insbesondere ist eine derartige Strahlungsquelle hinsichtlich der zu erzeugenden Lichtleistung steuerbar.In particular, such a radiation source can be controlled with regard to the light output to be generated.

Somit besteht eine eindeutige Zuordnung der jeweiligen Strahlungsquelle zu dem Belichtungsstrahl und umgekehrt, so dass damit in einfacher Weise beispielsweise die Lichtleistung jedes einzelnen Belichtungsstrahls durch geeignete Ansteuerung der diesem Belichtungsstrahl zugeordneten Strahlungsquelle eingestellt werden kann. Thus, there is an unambiguous assignment of the respective radiation source to the exposure beam and vice versa, so that in a simple manner, for example, the light output of each individual exposure beam can be adjusted by suitable control of the radiation source associated with this exposure beam.

Eine besonders vorteilhafte Lösung sieht vor, dass die Strahlungsquelle eine Laserdiode ist. A particularly advantageous solution provides that the radiation source is a laser diode.

Im Rahmen der erfindungsgemäßen Lösung ist es besonders vorteilhaft, wenn der Belichtungsstrahl von der Strahlungsquelle bis zum Belichtungsfleck durch eine Strahlführung geführt ist. In the context of the inventive solution, it is particularly advantageous if the exposure beam is guided from the radiation source to the exposure spot by a beam guide.

Eine derartige Strahlführung kann in unterschiedlichster Art und Weise ausgebildet sein. Such a beam guide may be formed in various ways.

So sieht eine vorteilhafte Lösung vor, dass die Strahlführung eine Abbildungsoptik umfasst. Thus, an advantageous solution provides that the beam guide comprises an imaging optics.

Eine andere vorteilhafte Lösung sieht vor, dass die Strahlführung eine Umlenkeinheit umfasst. Another advantageous solution provides that the beam guide comprises a deflection unit.

Weiter sieht eine vorteilhafte Lösung vor, dass die Strahlführung ein den Belichtungsstrahl auf den Belichtungsfleck fokussierendes Element umfasst. Furthermore, an advantageous solution provides that the beam guide comprises an element focusing the exposure beam onto the exposure spot.

Schließlich ist es von Vorteil, wenn die Strahlführung auch einen Lichtleiter umfasst. Finally, it is advantageous if the beam guide also includes a light guide.

Hinsichtlich der Anordnung des Sensorbereichs zur Erfassung der Lichtleistung der Belichtungsstrahlung ist vorzugsweise vorgesehen, dass jeder einem der Belichtungsstrahlen zugeordnete Sensorbereich mindestens am Ort einer der in Ablenkrichtung erzeugbaren Vielzahl der aufeinanderfolgenden Belichtungsfleckpositionen angeordnet ist und nur die Lichtleistung dieses einen Belichtungsstrahls erfasst. With regard to the arrangement of the sensor region for detecting the light output of the exposure radiation, it is preferably provided that each sensor region assigned to one of the exposure beams is arranged at least at the location of one of the plurality of successive exposure spot positions that can be generated in the deflection direction and only the light output of this one exposure beam is detected.

Beispielsweise ist hierzu vorgesehen, dass jeder einem der Belichtungsstrahlen zugeordnete Sensorbereich die Lichtleistung bei mindestens einem der von diesem Belichtungsstrahl erzeugten Belichtungsflecken umfasst. Beispielsweise erfolgt dies dadurch, dass jeder einem der Belichtungsstrahlen zugeordnete Sensorbereich zu einem Teil der längs der Ablenkungsstrecke angeordneten Belichtungsfleckposition gehörende Belichtungsflecken umfasst. By way of example, it is provided for this purpose that each sensor region assigned to one of the exposure beams comprises the light output in at least one of the exposure spots generated by this exposure beam. This is done, for example, by each exposure area associated with one of the exposure beams comprising exposure spots associated with a portion of the exposure spot location along the deflection path.

Eine besonders vorteilhafte Anordnung sieht vor, dass jeder einem der Belichtungsstrahlen zugeordnete Sensorbereich entlang der Ablenkungsstrecke nur Belichtungsflecken von Belichtungsfleckpositionen umfasst, die zwischen endseitigen Belichtungsfleckpositionen dieser Ablenkungsstrecke liegen, das heißt, dass also nur Belichtungsflecken erfasst werden, die zwischen anderen Belichtungsfleckpositionen der jeweiligen Ablenkungsstrecke liegen. A particularly advantageous arrangement provides that each sensor area associated with one of the exposure beams only includes exposure spots of exposure spot positions lying between end exposure spot positions of this deflection line, that is, only exposure spots that lie between other exposure spot positions of the respective deflection line are detected.

Eine besonders zweckmäßige Lösung sieht vor, dass jeder einem der Belichtungsstrahlen zugeordnete Sensorbereich entlang der Ablenkungsstrecke nur die Belichtungsflecken in einem mittigen Bereich der Ablenkungsstrecke erfasst. A particularly expedient solution provides that each sensor area associated with one of the exposure beams only detects the exposure spots in a central region of the deflection path along the deflection path.

Hinsichtlich der Anordnung der Sensorbereiche wurden bislang keine näheren Angaben gemacht. With regard to the arrangement of the sensor areas, no further details have been given so far.

Beispielsweise wäre es denkbar, alle Sensorbereiche in einer Linie anzuordnen, dies hätte allerdings den Nachteil, dass kein Raum für die Fixierung einzelner Sensoreinheiten vorhanden wäre und außerdem die Gefahr bestehen würde, dass die längs der Ablenkungsstrecke jeweils bewegbaren Belichtungsstrahlen nicht eindeutig nur einen Sensorbereich beaufschlagen, sondern gegebenenfalls auch, insbesondere bei geringfügigen Fehlpositionierungen, auch andere Sensorbereiche beaufschlagen könnten.For example, it would be conceivable to arrange all the sensor areas in a line, but this would have the disadvantage that there would be no space for the fixation of individual sensor units and there would also be the danger that the exposure beams movable along the deflection line would not uniquely act on only one sensor area. but possibly also, especially for minor mispositioning, could also act on other sensor areas.

Somit sieht eine vorteilhafte Lösung vor, dass die Sensorbereiche in einem Flächenmuster angeordnet sind, wobei dieses Flächenmuster insbesondere ein zweidimensionales Flächenmuster ist. Thus, an advantageous solution provides that the sensor regions are arranged in a surface pattern, wherein this surface pattern is in particular a two-dimensional surface pattern.

Um insbesondere zur Darstellung der Sensorbereiche Sensoren verwenden zu können, deren Gehäuse auch noch die Sensorbereiche umschließt, lassen sich derartige Sensoreinheiten in einfacher Weise dann verwenden, wenn die Sensorbereiche relativ zueinander in dem Flächenmuster versetzt angeordnet sind. In order to be able to use sensors, whose housing also encloses the sensor regions, in particular for the representation of the sensor regions, such sensor units can be used in a simple manner if the sensor regions are arranged offset relative to one another in the surface pattern.

Insbesondere ist es dabei vorteilhaft, wenn die Sensorbereiche mit einer in Vorschubrichtung weisenden Komponente relativ zueinander versetzt angeordnet sind, um problemlos Sensoreinheiten einsetzen zu können, deren Sensorgehäuse eine größere Ausdehnung aufweist, als der jeweilige Sensorbereich. In particular, it is advantageous if the sensor areas are arranged offset relative to one another with a pointing in the direction of feed component to easily use sensor units can, whose sensor housing has a greater extent than the respective sensor area.

Vorzugsweise ist dabei ein Versatz sowohl parallel zur Vorschubrichtung als auch quer zu dieser vorgesehen. Preferably, an offset is provided both parallel to the feed direction and transversely thereto.

Alternativ oder ergänzend zum Erfassen der Lichtleistung durch direkt von dem jeweiligen Belichtungsstrahl beaufschlagte Sensorbereiche, sieht eine andere Lösung vor, dass der jeweilige Sensorbereich die Lichtleistung eines ausgekoppelten Anteils des jeweiligen Belichtungsstrahls erfasst. As an alternative or in addition to detecting the light output by sensor areas acted upon directly by the respective exposure beam, another solution provides that the respective sensor area detects the light output of a decoupled portion of the respective exposure beam.

Beispielsweise lässt sich dies dadurch realisieren, dass die Auskopplung des Anteils des jeweiligen Belichtungsstrahls an einer Umlenkeinheit der Strahlungsführung erfolgt. For example, this can be achieved by coupling the proportion of the respective exposure beam to a deflection unit of the radiation guide.

Beispielsweise lässt sich die Umlenkeinheit derart realisieren, dass diese eine für den jeweiligen Belichtungsstrahl teildurchlässige Spiegelfläche aufweist. For example, the deflection unit can be realized in such a way that it has a mirror surface that is partially transparent to the respective exposure beam.

Eine andere alternative oder ergänzende Lösung sieht vor, dass der jeweilige Sensorbereich einen, durch Reflexion ausgekoppelten Anteil des jeweiligen Belichtungsstrahls erfasst. Another alternative or supplementary solution provides that the respective sensor region detects a portion of the respective exposure beam coupled out by reflection.

Beispielsweise erfolgt dies dadurch, dass die Auskopplung des Anteils des jeweiligen Belichtungsstrahls durch Reflexion an einer Oberfläche eines Elementes der Strahlführung erfolgt. For example, this takes place in that the coupling out of the portion of the respective exposure beam takes place by reflection on a surface of an element of the beam guidance.

Eine andere vorteilhafte Lösung sieht vor, dass der jeweilige Sensorbereich einen durch Streuung ausgekoppelten Anteil des jeweiligen Belichtungsstrahls erfasst. Another advantageous solution provides that the respective sensor area detects a portion of the respective exposure beam coupled out by scattering.

Eine derartige Streuung kann beispielsweise durch einen Mantel eines Lichtleiters insbesondere nahe eines Lichtleiterendes erfolgen. Such a scattering can be done, for example, by a jacket of a light guide, in particular near a light guide end.

Prinzipiell ist es im Rahmen der erfindungsgemäßen Lösung möglich, die Sensorbereiche als einzelne Bereiche einer zusammenhängenden Sensorfläche zu gestalten. In principle, it is possible within the scope of the inventive solution to design the sensor regions as individual regions of a contiguous sensor surface.

Bei besonders einfachen Lösungen hat es sich jedoch als vorteilhaft erwiesen, wenn jedem Belichtungsstrahl eine eigene Sensoreinheit mit einem Sensorbereich zugeordnet ist, so dass dadurch auf der Detektionsseite eine einfache Trennung der Lichtintensität der einzelnen Belichtungsstrahlen möglich ist. In particularly simple solutions, however, it has proved to be advantageous if each exposure beam has its own sensor unit associated with a sensor area, so that a simple separation of the light intensity of the individual exposure beams is possible on the detection side.

Bei einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform der Belichtungsanlage umfasst die Belichtungseinrichtung mindestens eine Belichtungseinheit mit einer Reihe von in einer Reihenrichtung aufeinanderfolgend angeordneten Strahlungsaustrittsbereichen, aus denen die Belichtungsstrahlen austreten, von denen mit jedem durch eine Abbildungsoptik geführt ein Belichtungsfleck auf der fotosensitiven Schicht erzeugbar ist und von denen jeder durch eine Ablenkeinheit in einer quer zur Reihenrichtung verlaufenden Ablenkrichtung ablenkbar ist, so dass mit jedem Belichtungsstrahl in der Ablenkrichtung in einer Vielzahl von aufeinanderfolgenden Belichtungsfleckpositionen einander zumindest teilweise überlappende Belichtungsflecken erzeugbar sind. In a further advantageous embodiment of the exposure apparatus, the exposure device comprises at least one exposure unit having a series of radiation exit regions arranged successively in a row direction, from which exit the exposure beams, with each of which by imaging optics an exposure spot on the photosensitive layer is generated and each of which can be deflected by a deflection unit in a deflection direction running transversely to the row direction, so that illumination spots which are at least partially overlapping one another can be generated with each exposure beam in the deflection direction in a multiplicity of successive exposure spot positions.

Der Vorteil dieser Lösung ist darin zu sehen, dass mit einer derartigen Belichtungsanlage gleichzeitig eine hohe Zahl von Belichtungsflecken erzeugt werden kann, deren Belichtungsfleckposition einerseits durch die Ablenkeinheit und andererseits durch die Bewegung in Vorschubrichtung definierbar ist. The advantage of this solution is the fact that with such an exposure system, a high number of exposure spots can be generated at the same time whose exposure spot position can be defined on the one hand by the deflection unit and on the other hand by the movement in the feed direction.

Bei dieser Lösung ist es dabei besonders günstig, wenn die Ablenkrichtung schräg zur Vorschubrichtung verläuft, so dass die Möglichkeit besteht, trotz der quer zur Reihenrichtung verlaufenden Ablenkrichtung gleichzeitig durch die verschiedenen Belichtungsstrahlen der mindestens einen Belichtungseinheit quer zur Vorschubrichtung nebeneinanderliegende Belichtungsflecken zu belichten. In this solution, it is particularly advantageous if the deflection direction is oblique to the feed direction, so that it is possible to expose adjacent exposure spots adjacent to the feed direction despite the deflection direction running transversely to the row direction simultaneously by the different exposure beams of the at least one exposure unit.

Unter einem schrägen Verlauf zur Vorschubrichtung ist dabei insbesondere zu verstehen, dass die Ablenkrichtung mit der Vorschubrichtung einen Winkel im Bereich von 20° und mehr und 70° und weniger aufweist. An oblique course to the feed direction is to be understood in particular that the deflection direction with the feed direction at an angle in the range of 20 ° and more and 70 ° and less.

Besonders vorteilhaft ist es ferner, wenn die Belichtungsflecken aufeinanderfolgender Belichtungsstrahlen der mindestens einen Belichtungseinheit längs zueinander paralleler Ablenkrichtungen bewegbar sind, da damit eine einfache gleichzeitige Positionierung der von den verschiedenen Belichtungsstrahlen erzeugbaren Belichtungsflecken realisierbar ist. It is furthermore particularly advantageous if the exposure spots of successive exposure beams of the at least one exposure unit can be moved along deflection directions which are parallel to one another, since a simple simultaneous positioning of the exposure spots that can be generated by the different exposure beams can thus be achieved.

Ferner ist es günstig, wenn die Belichtungsstrahlen der mindestens einen Belichtungseinheit gleichzeitig und in gleichem Maße durch die Ablenkeinheit ablenkbar sind, so dass dadurch die Positionierung der von diesen Belichtungsstrahlen erzeugten Belichtungsflecken vereinfacht wird, da für eine Steuereinheit die Relativposition der Belichtungsflecken definiert festliegt. Furthermore, it is favorable if the exposure beams of the at least one exposure unit can be deflected simultaneously and to the same extent by the deflection unit, thereby simplifying the positioning of the exposure spots generated by these exposure beams, since the relative position of the exposure spots is defined for a control unit.

Um auch die fotochemischen Prozesse in der fotosensitiven Schicht möglichst in gleichem Maße zu beeinflussen und auch bei allen Belichtungsstrahlen möglichst identische fotochemische Umwandlungsprozesse zu erhalten, ist vorzugsweise vorgesehen, dass die Belichtungsstrahlen einer Belichtungseinheit im Wesentlichen parallel zueinander ausgerichtet auf die fotosensitive Schicht auftreffen, so dass durch die Ausrichtung der Belichtungsstrahlen keine unterschiedlichen Wirkungen auftreten können. In order to influence the photochemical processes in the photosensitive layer as equally as possible and also to obtain identical photochemical conversion processes in all exposure beams, it is preferably provided that the exposure beams of an exposure unit strike the photosensitive layer aligned substantially parallel to one another, so that the orientation of the exposure beams can not have different effects.

Ferner ist es günstig, wenn die Bewegung jedes durch einen Belichtungsstrahl erzeugten Belichtungsflecks in der jeweiligen Ablenkrichtung über eine Ablenkungsstrecke erfolgt, die für jeden Belichtungsstrahl der Belichtungseinheit ungefähr gleich groß ist. Damit lässt sich in einfacher Weise die Positionierung der Belichtungsflecken mittels der Steuereinheit festlegen und durchführen. Furthermore, it is favorable if the movement of each exposure spot generated by an exposure beam in the respective deflection direction takes place via a deflection path which is for each Exposure beam of the exposure unit is about the same size. In this way, the positioning of the exposure spots by means of the control unit can be determined and carried out in a simple manner.

Um zu erreichen, dass die von verschiedenen Belichtungsstrahlen erzeugten Belichtungsflecken so positionierbar sind, dass mit den Belichtungsflecken verschiedener Belichtungsstrahlen zusammenhängende Strukturen, insbesondere mit einer Komponente in einer Querrichtung, erzeugbar sind, ist vorzugsweise vorgesehen, dass der Belichtungsfleck der letzten Belichtungsfleckposition der einen Ablenkungsstrecke und der Belichtungsfleck der ersten Belichtungsfleckposition der in der Reihenrichtung nächstfolgenden Ablenkungsstrecke derart bezüglich einer parallel zur Vorschubrichtung verlaufenden Referenzgerade angeordnet sind, dass die Referenzgerade die in diesen Belichtungsfleckpositionen erzeugten Belichtungsflecken schneidet. In order to make it possible to position the exposure spots produced by different exposure beams in such a way that structures associated with the exposure spots of different exposure beams, in particular with a component in a transverse direction, can be generated, the exposure spot is the last exposure spot position of the one deflection line and the second exposure spot Exposure spot of the first exposure spot position of the deflection line next in the row direction are arranged with respect to a parallel to the feed direction reference straight line such that the reference line intersects the exposure spots generated in these exposure spot positions.

Durch diese Bedingung ist sichergestellt, dass die Belichtungsflecken der letzten Belichtungsfleckposition und des einen Belichtungsstrahls und der ersten Belichtungsfleckposition des in der Reihenrichtung nächstfolgenden Belichtungsstrahls so relativ zueinander quer zur Vorschubrichtung angeordnet sind, dass diese bei geeigneter Verschiebung in Vorschubrichtung zumindest geringfügig überlappen. This condition ensures that the exposure spots of the last exposure spot position and the one exposure beam and the first exposure spot position of the next exposure beam in the row direction are arranged relative to each other transversely to the feed direction, that they overlap at least slightly with a suitable displacement in the feed direction.

Besonders günstig ist es, wenn eine parallel zur Vorschubrichtung verlaufende Referenzgerade durch die letzte Belichtungsfleckposition einer Ablenkungsstrecke den Belichtungsfleck einer ersten Belichtungsfleckposition einer nächstfolgenden Ablenkungsstrecke schneidet. It is particularly advantageous if a reference straight line running parallel to the feed direction intersects the exposure spot of a first exposure spot position of a next deflection line through the last exposure spot position of a deflection line.

Durch diese Bedingung ist – wenn man davon ausgeht, dass als Belichtungsfleckposition ein Mittelpunkt des jeweiligen Belichtungsflecks anzunehmen istsichergestellt ist, dass sich die beiden Belichtungsflecken bei geeigneter Verschiebung in der Vorschubrichtung ungefähr mindestens zur Hälfte überlappen, eine Bedingung, die dann vorteilhaft ist, wenn über die Belichtungsflecken verschiedener Ablenkungsstrecken hinweg eine zusammenhängende Struktur in der fotosensitiven Schicht erzeugt werden soll. By this condition, assuming that a midpoint of the respective exposure spot is assumed to be the exposure spot position, the two exposure spots overlap approximately at least one-half with a suitable displacement in the feed direction, a condition which is advantageous when using the Exposure spots of different deflection distances away a coherent structure in the photosensitive layer is to be generated.

Noch günstiger ist es, wenn die erste Belichtungsfleckposition der nächstfolgenden Ablenkungsstrecke einen Abstand von der Referenzgerade aufweist, der maximal einem halben Durchmesser des Belichtungsflecks entspricht, so dass die Überlappung der beiden Belichtungsflecken noch größer ist, das heißt mindestens die Hälfte des Durchmessers, üblicherweise jedoch mehr als diese beträgt. It is even more favorable if the first exposure spot position of the next deflection line has a distance from the reference straight line which corresponds at most to half the diameter of the exposure spot, so that the overlap of the two exposure spots is even greater, ie at least half the diameter, but usually more than this is.

Um im Rahmen der erfindungsgemäßen Lösung möglichst viele Belichtungsflecken gleichzeitig erzeugen zu können, ist vorzugsweise vorgesehen, dass mehrere Belichtungseinheiten vorgesehen sind, wobei die Belichtungseinheiten in der Ablenkrichtung im Abstand voneinander angeordnet sind. In order to be able to generate as many exposure spots as possible within the scope of the inventive solution, it is preferably provided that a plurality of exposure units are provided, wherein the exposure units are arranged in the deflection direction at a distance from each other.

Ferner ist bei derartigen mehreren Belichtungseinheiten vorgesehen, dass die Ablenkrichtungen der mehreren Belichtungseinheiten parallel zueinander verlaufen, so dass dadurch für die Steuereinheit die Festlegung der einzelnen Belichtungsfleckpositionen einfacher und effizienter durchführbar ist. Further, in such a plurality of exposure units, it is provided that the deflection directions of the plural exposure units are parallel to each other, thereby making it easier and more efficient to set the individual exposure spot positions for the control unit.

Die mehreren Belichtungseinheiten könnten so relativ zueinander angeordnet sein, dass die Reihenrichtungen aufeinanderfolgender Belichtungseinheiten quer zueinander verlaufen.The plurality of exposure units could be arranged relative to each other such that the row directions of successive exposure units are transverse to one another.

Ferner ist bei einem Ausführungsbeispiel vorgesehen, dass die Reihenrichtung der mehreren Belichtungseinheiten im Wesentlichen parallel zueinander verlaufen, so dass letztlich auch die einzelnen Reihen in den mehreren Belichtungseinheiten im Wesentlichen parallel zueinander ausgerichtet sind. Furthermore, it is provided in one embodiment that the row direction of the plurality of exposure units are substantially parallel to each other, so that ultimately the individual rows in the plurality of exposure units are aligned substantially parallel to each other.

Um auch bei mehreren Belichtungseinheiten zusammenhängende Strukturen mit den durch diese erzeugbaren Belichtungsflecken erzeugen zu können, ist vorgesehen, dass die mehreren Belichtungseinheiten bezüglich einer parallel zur Vorschubrichtung verlaufenden Referenzgerade so angeordnet sind, dass die Referenzgerade den Belichtungsfleck der letzten Belichtungsfleckposition der letzten Ablenkungsstrecke einer Belichtungseinheit und den Belichtungsfleck der ersten Belichtungsfleckposition der ersten Belichtungsflecke der in Ablenkrichtung oder in Querrichtung nächstfolgenden Belichtungseinheit schneidet. Auch dadurch ist zumindest eine geringfügige Überlappung der beiden Belichtungsflecken sichergestellt, um mit den Belichtungsflecken verschiedener Belichtungseinheiten mit mindestens einer Komponente in der Querrichtung verlaufende und zusammenhängende Strukturen erzeugen zu können. In order to be able to produce coherent structures with the exposure spots that can be produced by the same in the case of a plurality of exposure units, it is provided that the plurality of exposure units are arranged with respect to a reference straight parallel to the feed direction such that the reference straight line is the exposure spot of the last exposure spot position of the last deflection distance of an exposure unit and Exposure spot of the first exposure spot position of the first exposure spots of the next in the deflection or transverse direction exposure unit intersects. This also ensures at least a slight overlap of the two exposure spots in order to be able to produce structures which extend in the transverse direction and which are connected to the exposure spots of different exposure units with at least one component.

Noch besser ist die Überlappung jedoch dann, wenn die durch die letzte Belichtungsfleckposition einer letzten Ablenkstrecke einer Belichtungseinheit verlaufende Referenzgerade den Belichtungsfleck der ersten Belichtungsfleckposition einer ersten Ablenkstrecke einer in Ablenkrichtung oder Querrichtung nächstfolgenden schneidet, so dass ausgehend von der Tatsache, dass die Belichtungsfleckposition durch den Mittelpunkt des jeweiligen Belichtungsflecks definiert ist, die beiden Belichtungsflecken sich mindestens ungefähr zur Hälfte überlappen. However, the overlap is even better if the reference straight line passing through the last exposure spot position of a last deflection distance of an exposure unit intersects the exposure spot of the first exposure spot position of a first deflection distance of a deflection direction or transverse direction, so that the exposure spot position passes through the center point is defined by the respective exposure spot, the two exposure spots overlap at least approximately half.

Eine weitere, für die Überlappung zweckmäßige Bedingung sieht vor, dass die erste Belichtungsfleckposition einen Abstand von der Referenzgerade aufweist, der maximal dem halben Durchmesser des Belichtungsflecks der ersten Belichtungsfleckposition entspricht. Another condition suitable for the overlap is that the first exposure spot position has a distance from the reference straight line that corresponds at most to half the diameter of the exposure spot of the first exposure spot position.

Hinsichtlich der Ablenkeinheiten wurden bislang keine näheren Angaben gemacht. With regard to the deflection units, no further details have been given so far.

Im Rahmen der erfindungsgemäßen Lösung wäre es grundsätzlich denkbar, für jeden Belichtungsstrahl eine eigene Ablenkeinheit vorzusehen, wobei die Ablenkeinheiten auch unterschiedlich arbeiten könnten. In the context of the inventive solution, it would be conceivable in principle to provide a separate deflection unit for each exposure beam, wherein the deflection units could also work differently.

Als, aus Gründen der Herstellung einer derartigen Belichtungsanlage günstige Lösung ist vorgesehen, dass die Ablenkeinheit für jeden der Belichtungsstrahlen einen Spiegelflächenbereich aufweist. As a solution favorable for the sake of manufacturing such an exposure apparatus, it is provided that the deflection unit has a mirror surface area for each of the exposure beams.

Dabei können die einzelnen Spiegelflächenbereiche immer noch unabhängig voneinander bewegbar sein. Aus Gründen einer konstruktiven Vereinbarung ist es jedoch günstig, wenn die Spiegelflächenbereiche einer Belichtungseinheit gemeinsam bewegbar sind. The individual mirror surface areas can still be moved independently of each other. For reasons of constructive agreement, however, it is favorable if the mirror surface areas of an exposure unit are jointly movable.

Besonders günstig lassen sich die Spiegelflächenbereiche realisieren, wenn die Spiegelflächenbereiche Teilbereiche einer gemeinsamen Spiegelfläche sind. The mirror surface regions can be realized particularly advantageously if the mirror surface regions are subregions of a common mirror surface.

Um mit diesen Spiegelflächenbereichen eine Ablenkung zu erreichen, ist es günstig, wenn die Spiegelflächenbereiche relativ zur Auftreffrichtung der Belichtungsstrahlen auf diese verkippbar sind, da eine derartige Kippbewegung der Spiegelflächenbereiche in einfacher Weise mechanisch realisierbar ist. In order to achieve a deflection with these mirror surface regions, it is favorable if the mirror surface regions can be tilted relative to the direction of impingement of the exposure rays, since such a tilting movement of the mirror surface regions can be implemented mechanically in a simple manner.

Grundsätzlich können die Spiegelflächenbereiche gewölbt sein, um mit diesen beispielsweise gleichzeitig noch eine Fokussierung durchführen zu können, konstruktiv besonders einfach ist jedoch eine Lösung, bei welcher die Spiegelflächenbereiche ebene Flächenbereiche sind. In principle, the mirror surface regions can be curved in order, for example, to be able to carry out a focusing with them at the same time, but a solution in which the mirror surface regions are planar surface regions is particularly simple in design terms.

Konstruktiv besonders günstig ist es, wenn alle Spiegelflächenbereiche in einer gemeinsamen Ebene liegen, die die Durchführung der Kippbewegung vereinfacht. It is particularly advantageous in terms of construction if all the mirror surface areas lie in a common plane which simplifies the execution of the tilting movement.

Bei dieser Lösung ist es insbesondere günstig, die Spiegelflächenbereiche so anzuordnen, dass die Spiegelflächenbereiche, auf die die Belichtungsstrahlen einer Belichtungseinheit auftreffen, in derselben Ebene liegen. In this solution, it is particularly favorable to arrange the mirror surface areas such that the mirror surface areas on which the exposure beams of an exposure unit impinge lie in the same plane.

Um eine möglichst effiziente Ablenkung des jeweiligen Belichtungsstrahls zu erreichen, ist vorgesehen, dass die Belichtungseinheit für jeden Belichtungsstrahl mehrere Spiegelflächenbereiche aufweist. In order to achieve the most efficient possible deflection of the respective exposure beam, it is provided that the exposure unit has a plurality of mirror surface areas for each exposure beam.

Dabei ist es besonders günstig, wenn die Ablenkeinheit für jeden Belichtungsstrahl mehrere nacheinander zur Ablenkung des Belichtungsstrahls eingesetzte Spiegelflächenbereiche aufweist, so dass jeder Belichtungsstrahl durch eine Vielzahl aufeinanderfolgend zum Einsatz kommender Spiegelflächenbereiche abgelenkt wird. It is particularly advantageous if the deflection unit has for each exposure beam a plurality of successively used for the deflection of the exposure beam mirror surface areas, so that each exposure beam is deflected by a plurality of successively used for coming mirror surface areas.

Eine derartige Anzahl mehrerer Spiegelflächenbereiche lässt sich konstruktiv einfach dann realisieren, wenn die mehreren Spiegelflächenbereiche durch Umfangsseiten eines drehbar angeordneten Spiegelkörpers gebildet sind. Such a number of multiple mirror surface regions can be realized structurally simply if the plurality of mirror surface regions are formed by peripheral sides of a rotatably arranged mirror body.

Der Spiegelkörper könnte dabei immer noch um eine Achse oszillierend kippbar sein. The mirror body could still be tiltable oscillating about an axis.

Besonders günstig ist es jedoch, um eine möglichst hohe Ablenkgeschwindigkeit zu erreichen, wenn der Spiegelkörper um eine Achse rotierend angeordnet ist. However, it is particularly favorable to achieve the highest possible deflection speed when the mirror body is arranged to rotate about an axis.

In diesem Fall sind zweckmäßigerweise die Spiegelflächenbereiche im gleichen radialen Abstand um die Achse angeordnet, wobei sich die Spiegelflächenbereiche vorzugsweise parallel zur Achse erstrecken. In this case, the mirror surface areas are expediently arranged at the same radial distance around the axis, the mirror surface areas preferably extending parallel to the axis.

Dabei könnten die Spiegelflächenbereiche auch gekrümmte Spiegelflächen aufweisen, die jedoch trotz Krümmung parallel zur Achse verlaufen. In this case, the mirror surface areas could also have curved mirror surfaces which, however, run in spite of curvature parallel to the axis.

Um definiert die Position der Spiegelflächen jeweils entsprechenden Belichtungsfleckpositionen zuordnen zu können, ist vorzugsweise vorgesehen, dass der Spiegelkörper mit konstanter Drehzahl um seine Achse rotiert. In order to be able to assign the position of the mirror surfaces in each case to corresponding exposure spot positions, it is preferably provided that the mirror body rotates about its axis at a constant rotational speed.

Im Rahmen der erfindungsgemäßen Lösung wurden keine näheren Angaben darüber gemacht, wie die aus den Strahlungsaustrittsbereichen austretenden Belichtungsstrahlen erzeugt werden sollen. Beispielsweise können die Strahlungsaustrittsbereiche unmittelbar Austrittsbereiche von Strahlungsquellen, beispielsweise Laserdioden, sein. In the context of the solution according to the invention, no further details were given as to how the exposure beams emerging from the radiation exit areas are to be produced. For example, the radiation exit regions can be directly exit regions of radiation sources, for example laser diodes.

Noch vorteilhafter ist es jedoch, wenn die Strahlungsaustrittsbereiche Enden von Lichtleitfasern sind. However, it is even more advantageous if the radiation exit areas are ends of optical fibers.

Damit besteht die Möglichkeit, die Strahlungsbereiche und die Strahlungsquellen getrennt voneinander anzuordnen. This makes it possible to arrange the radiation areas and the radiation sources separately from each other.

Um jedoch die Intensität in jedem einzelnen Strahlungsbereich gezielt steuern zu können, ist vorgesehen, dass jeder Lichtleitfaser eine eigene Strahlungsquelle zugeordnet ist, so dass durch die Intensitätssteuerung dieser Strahlungsquelle, sei es durch Intensitätssteuerung der Strahlungsquelle selbst oder eines nachfolgenden Intensitätssteuerungselements, die aus den Strahlungsaustrittsbereichen austretende Intensität steuerbar ist. However, in order to be able to specifically control the intensity in each individual radiation area, it is provided that each optical fiber is assigned its own radiation source, so that the intensity control of this radiation source, be it by intensity control of the radiation source itself or a subsequent intensity control element, emerges from the radiation exit areas Intensity is controllable.

Vorzugsweise ist dabei als Strahlungsquelle ebenfalls ein Laser vorgesehen, der aus Gründen eines einfachen Aufbaus vorzugsweise ein Halbleiterlaser ist. Preferably, a laser is also provided as the radiation source, which is preferably a semiconductor laser for reasons of a simple construction.

Besonders günstig ist es dabei, wenn die Strahlungsquellen in einer von der Belichtungseinrichtung getrennt angeordneten Strahlungserzeugungseinheit angeordnet sind, da dann die Möglichkeit besteht, die Strahlungsquellen effizient zu kühlen und insbesondere nicht die Gefahr besteht, das aufgrund der von den Strahlungsquellen entwickelten Wärme thermische Probleme hinsichtlich der Genauigkeit der von der Belichtungseinrichtung erzeugbaren Belichtungsfleckpositionen entstehen. It is particularly advantageous if the radiation sources are arranged in a separate from the exposure device arranged radiation generating unit, since then the possibility exists to efficiently cool the radiation sources and in particular there is no risk that due to the heat developed by the radiation sources thermal problems in terms of Accuracy of the exposure spot positions that can be generated by the exposure device arise.

Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Erzeugen belichteter Strukturen in einer auf einem Objekt angeordneten fotosensitiven Schicht, mittels einer Belichtungsanlage umfassend eine Belichtungseinrichtung, wobei mit der Belichtungseinrichtung Belichtungsflecken positionsgesteuert auf der fotosensitiven Schicht erzeugt werden, wobei die Belichtungseinrichtung mindestens eine eine Vielzahl von Belichtungsstrahlen erzeugende Belichtungseinheit aufweist, wobei mit jedem Belichtungsstrahl Belichtungsflecken erzeugt werden können, und wobei erfindungsgemäß die Lichtleistung aller Belichtungsstrahlen durch mindestens einen jedem Belichtungsstrahl zugeordneten Sensorbereich von einer Belichtungsprüfeinheit erfasst wird.Furthermore, the invention relates to a method for producing exposed structures in a photosensitive layer arranged on an object, by means of an exposure system comprising an exposure device, wherein the exposure device generates exposure spots position-controlled on the photosensitive layer, wherein the exposure device comprises at least one exposure unit generating a plurality of exposure beams wherein exposure spots can be generated with each exposure beam, and wherein according to the invention the light power of all the exposure beams is detected by at least one sensor area associated with each exposure beam from an exposure test unit.

Beispielsweise ist dabei vorgesehen, dass die Belichtungsanlage einen das Objekt aufnehmenden Objektträger umfasst, wobei der Objektträger und die Belichtungseinrichtung in einer Vorschubrichtung relativ zueinander bewegt werden. For example, it is provided that the exposure system comprises a slide receiving the object, wherein the slide and the exposure device are moved in a feed direction relative to each other.

Ferner ist bei einer Ausführungsform insbesondere vorgesehen, dass mit der Belichtungseinrichtung Belichtungsflecken positionsgesteuert auf der fotosensitiven Schicht erzeugt werden, wobei die Belichtungseinrichtung mindestens eine eine Vielzahl von Belichtungsstrahlen erzeugende Belichtungseinheit aufweist, mit welcher ein Belichtungsfleck auf der fotosensitiven Schicht erzeugt wird. Furthermore, in one embodiment it is provided, in particular, for exposure spots to be generated position-controlled on the photosensitive layer with the exposure device, the exposure device having at least one exposure unit generating a multiplicity of exposure beams with which an exposure spot is formed on the photosensitive layer.

Besonders vorteilhaft ist es dabei, wenn jeder der Belichtungsstrahlen durch eine Ablenkeinheit in einer quer zur Reihenrichtung verlaufenden Ablenkrichtung abgelenkt wird, so dass mit jedem Belichtungsstrahl in der Ablenkrichtung in einer Vielzahl von aufeinanderfolgenden Belichtungsfleckpositionen Belichtungsflecken durch Aktivieren des jeweiligen Belichtungsstrahls bei Erreichen der jeweiligen Belichtungsfleckposition erzeugt werden können. It is particularly advantageous if each of the exposure beams is deflected by a deflection unit in a direction transverse to the direction of deflection, so that with each exposure beam in the deflection in a plurality of successive exposure spot exposure spots are generated by activating the respective exposure beam upon reaching the respective exposure spot position can.

Weitere Merkmale einzelner Ausführungsformen des Verfahrens sind Gegenstand der Ansprüche 27 bis 41 und/oder im Zusammenhang mit der vorstehend beschriebenen Ausführungsform offenbart.Further features of individual embodiments of the method are the subject matter of claims 27 to 41 and / or disclosed in connection with the embodiment described above.

Weitere Merkmale und Vorteile der erfindungsgemäßen Lösung sind Gegenstand der nachfolgenden Beschreibung sowie der zeichnerischen Darstellung eines Ausführungsbeispiels. Further features and advantages of the inventive solution are the subject of the following description and the drawings of an embodiment.

In der Zeichnung zeigen: In the drawing show:

1 eine schematische perspektivische Darstellung eines ersten Ausführungsbeispiels einer erfindungsgemäßen Belichtungsanlage; 1 a schematic perspective view of a first embodiment of an exposure system according to the invention;

2 eine ausschnittsweise vergrößerte Darstellung eines auf einem Objektträger angeordneten Objekts mit einer fotosensitiven Schicht und gegebenenfalls in dieser zu erzeugenden Strukturen; 2 a fragmentary enlarged view of an object disposed on a slide object with a photosensitive layer and optionally in these structures to be produced;

3 eine schematische ausschnittsweise Darstellung eines Teilbereichs eines Belichtungsbereichs, in welchem Belichtungsflecken erzeugbar sind; 3 a schematic partial view of a portion of an exposure area in which exposure spots can be generated;

4 eine ausschnittsweise schematische Darstellung zweier Ablenkeinheiten mit diesen zugeordneten Belichtungseinheiten; 4 a fragmentary schematic representation of two deflection units with these associated exposure units;

5 eine Draufsicht in Richtung des Pfeils A; 5 a plan view in the direction of arrow A;

6 eine schematische vergrößerte Darstellung einer Funktion einer Ablenkungseinheit in 4 mit dem Wandern von zwei Belichtungsstrahlen in Ablenkrichtung; 6 a schematic enlarged view of a function of a deflection unit in 4 with the traveling of two exposure beams in deflection direction;

7 eine vergrößerte ausschnittsweise Darstellung von von einem Belichtungsstrahl einer Belichtungseinheit erzeugbaren Belichtungsfleckpositionen und Belichtungsflecken; 7 an enlarged fragmentary view of exposure spot positions and exposure spots that can be generated by an exposure beam of an exposure unit;

8 eine schematische vergrößerte Darstellung von nebeneinanderliegend angeordneten Belichtungseinheiten der Belichtungseinrichtung mit den zugeordneten Ablenkungseinheiten in einem Schnitt längs Linie 8-8 in 1; 8th a schematic enlarged view of juxtaposed exposure units of the exposure device with the associated deflection units in a section along line 8-8 in 1 ;

9 eine Darstellung ähnlich 3 von Sensoreinheiten in einem Belichtungsprüffeld zur Erfassung der Lichtleistung von Belichtungsstrahlen; 9 a representation similar 3 of sensor units in an exposure test field for detecting the light output of exposure beams;

10 eine vergrößerte Darstellung einer Sensoreinheit in dem Belichtungsprüffeld gemäß 9; 10 an enlarged view of a sensor unit in the exposure test field according to 9 ;

11 eine Darstellung ähnlich 9 einer ersten Variante eines Belichtungsprüffeldes; 11 a representation similar 9 a first variant of an exposure test field;

12 eine Darstellung einer zweiten Variante eines Belichtungsprüffeldes; 12 a representation of a second variant of an exposure test field;

13 eine Darstellung einer Möglichkeit zur Erfassung von Streustrahlung von Belichtungsstrahlen; 13 a representation of a possibility for detecting scattered radiation of exposure beams;

14 eine Darstellung einer Möglichkeit zur Erfassung von reflektierter Strahlung von Belichtungsstrahlen; 14 a representation of a possibility for detecting reflected radiation of exposure beams;

15 eine Darstellung einer Möglichkeit zur Erfassung von transmissiver Strahlung von Belichtungsstrahlung und 15 a representation of a way to detect transmissive radiation of exposure radiation and

16 eine schematische Darstellung einer Auswertung bei quantitativ erfasster Lichtleistung. 16 a schematic representation of an evaluation at quantitatively detected light output.

Ein erstes Ausführungsbeispiel einer in 1 dargestellten Belichtungseinrichtung umfasst eine als Ganzes mit 10 bezeichnete Maschinenbasis, welche eine Führung 12 aufweist, längs welcher ein Objektträger 14 in Richtung einer Vorschubrichtung 16 einerseits bewegbar geführt ist und andererseits durch Vorschubantriebe, beispielsweise Linearantriebe, vorzugsweise positionsgenau bewegbar ist. A first embodiment of an in 1 The exposure device shown comprises one as a whole 10 designated machine base, which is a guide 12 along which a slide 14 in the direction of a feed direction 16 on the one hand is movably guided and on the other hand by feed drives, such as linear actuators, preferably positionally accurate movable.

Die Führung 12 ist dabei beispielsweise auf einer einer Standfläche 18 abgewandten Seite der Maschinenbasis 10 angeordnet und führt den Objektträger 14 parallel zur Vorschubrichtung 16, wobei auf dessen der Maschinenbasis 10 abgewandter Oberseite 20, wie in 2 dargestellt, ein Objekt 22 auflegbar und fixierbar ist, das auf seiner dem Objektträger 14 wiederum abgewandten Seite mit einer fotosensitiven Schicht 24 versehen ist, in welcher durch eine geeignete Belichtung Strukturen 26 durch optisch induzierte fotochemische Umwandlung des Materials der fotosensitiven Schicht 24 erzeugbar sind. The leadership 12 is for example on one of a stand area 18 opposite side of the machine base 10 arranged and guides the slide 14 parallel to the feed direction 16 , where on the machine base 10 facing away from the top 20 , as in 2 represented an object 22 can be placed and fixed on its slide 14 turn away side with a photosensitive layer 24 is provided, in which by a suitable exposure structures 26 by optically induced photochemical conversion of the material of the photosensitive layer 24 can be generated.

Wie in 2 dargestellt, dienen beispielsweise derartige Strukturen 26 dazu, einzelne Bereiche einer Schicht 28, beispielsweise einer elektrisch leitfähigen Schicht 28, insbesondere einer Kupferschicht, des Objekts 22 selektiv abzudecken, um dann im Rahmen beispielsweise eines Ätzvorgangs die Schicht 28 an den Stellen, an denen sie nicht durch die Strukturen 26 abgedeckt ist, abzutragen, so dass die Schicht 28 lediglich in den Bereichen, in denen sie durch die Strukturen 26 abgedeckt ist, bestehen bleibt. As in 2 For example, such structures are used 26 to, individual areas of a layer 28 , For example, an electrically conductive layer 28 , in particular a copper layer, of the object 22 selectively cover, then in the context of, for example, an etching process, the layer 28 in the places where they are not through the structures 26 covered, remove, leaving the layer 28 only in the areas where they pass through the structures 26 is covered, persists.

Das Herstellen der in 2 dargestellten Strukturen 26 durch optische Umwandlung der fotosensitiven Schicht 24 erfolgt durch eine in 1 als Ganzes mit 30 bezeichnete Belichtungseinrichtung, die in einer quer zur Vorschubrichtung 16 verlaufenden Stellrichtung 31 bewegbar und positionierbar an einer Brücke 32 angeordnet ist, welche sich beiderseits der Führung 12 auf der Maschinenbasis 10 abstützt und sich im Übrigen über die Führung 12 hinwegerstreckt. Making the in 2 represented structures 26 by optical conversion of the photosensitive layer 24 done by a in 1 as a whole with 30 designated exposure device, in a direction transverse to the feed direction 16 extending adjustment direction 31 movable and positionable on a bridge 32 is arranged, which is on both sides of the leadership 12 on the machine base 10 supports and, moreover, about the leadership 12 hinwegerstreckt.

Bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel ist es mit der erfindungsgemäßen Belichtungseinrichtung 30 möglich, bei einer einmaligen Bewegung des Objektträgers 14 mit dem Objekt 22 mit der fotosensitiven Schicht 24 die fotosensitive Schicht 24 im Zuge dieser einmaligen Bewegung der fotosensitiven Schicht 24 in der Vorschubrichtung 16 innerhalb eines Strukturenbereichs 34 alle in diesem Strukturenbereich 34 vorgesehenen Strukturen 26 durch selektive Belichtung herzustellen, wobei die Belichtungseinrichtung 30 in der Lage ist, im Zuge der einmaligen Bewegung der fotosensitiven Schicht 24 in der Vorschubrichtung 16 den Strukturenbereich 34 sowohl in seiner Längsrichtung 36 als auch in seiner Querrichtung 38 in einem Zuge zu belichten, um sämtliche innerhalb des Strukturenbereichs 34 vorgesehenen und geforderten Strukturen 26 herzustellen, ohne dass es weiterer Bewegungen des Objektträgers 14 in der Vorschubrichtung 16 oder entgegengesetzt zu dieser bedarf. In the illustrated embodiment, it is with the exposure device according to the invention 30 possible, with a single movement of the slide 14 with the object 22 with the photosensitive layer 24 the photosensitive layer 24 in the course of this unique movement of the photosensitive layer 24 in the feed direction 16 within a structural area 34 all in this structural area 34 provided structures 26 by selective exposure, the exposure device 30 is able, in the course of the one-time movement of the photosensitive layer 24 in the feed direction 16 the structure area 34 both in its longitudinal direction 36 as well as in its transverse direction 38 to expose in one go to all within the structural area 34 provided and required structures 26 produce without further movements of the slide 14 in the feed direction 16 or contrary to this needs.

Um innerhalb dieses Strukturenbereichs 34 alle erforderlichen Strukturen 26 erzeugen zu können, sind innerhalb eines der Belichtungseinrichtung 30 zugeordneten Belichtungsbereichs 40, dargestellt in 1 und teilweise in 3, einzelne Belichtungsflecken 42 erzeugbar, welche derart innerhalb des Belichtungsbereichs 40 angeordnet sind, dass die Summe aller in dem Belichtungsbereich 40 vorhandenen Belichtungsflecken 42 all diejenigen Belichtungsflecken 42 umfasst, die gegebenenfalls erforderlich sind, um eine sich über die gesamte Ausdehnung des Strukturenbereichs 34 in der Querrichtung 38 erstreckende linienförmige Struktur zu erzeugen, die in der Querrichtung 38 ununterbrochen durchgängig ist, wozu die Belichtungsflecken 42 so anzuordnen sind, dass sich in der Querrichtung 38 aufeinanderfolgende Belichtungsflecken 42 überlappen. To within this structural area 34 all necessary structures 26 to be able to generate are within one of the exposure device 30 associated exposure range 40 represented in 1 and partly in 3 , single exposure spots 42 which can be generated within the exposure range 40 are arranged that the sum of all in the exposure area 40 existing exposure spots 42 all those exposure spots 42 which may be required to extend over the entire extent of the structural area 34 in the transverse direction 38 to generate extending linear structure in the transverse direction 38 is continuous without interruption, including the exposure spots 42 to be arranged so that in the transverse direction 38 successive exposure spots 42 overlap.

Das heißt mit anderen Worten, dass die innerhalb des Belichtungsbereichs 40 erzeugbaren Belichtungsflecken 42 eine derartige Größe haben und derart angeordnet sind, dass mit diesen unter Berücksichtigung der Bewegung des Objekts 22 in der Vorschubrichtung 16 flächendeckend im gesamten Strukturbereich 34 der fotosensitiven Schicht 24 im Rahmen der durch die flächenhafte Ausdehnung der Belichtungsflecken 42 in der Längsrichtung 36 und der Querrichtung 38 bedingten Auflösung sämtliche mögliche Strukturen 26 erzeugbar sind. In other words, that's within the exposure range 40 producible exposure spots 42 have such a size and are arranged such that with these in consideration of the movement of the object 22 in the feed direction 16 nationwide in the entire structural area 34 the photosensitive layer 24 in the context of the areal extent of the exposure spots 42 in the longitudinal direction 36 and the transverse direction 38 conditional resolution all possible structures 26 can be generated.

Es ist aber auch bei einer Abwandlung des ersten Ausführungsbeispiels denkbar, den Objektträger 14 einmal in einer Richtung der Vorschubrichtung 16 zu bewegen und ein andermal entgegengesetzt hierzu, so dass ausgehend von einer in 1 dargestellten Ausgangsstellung eine Hin- und Zurückbewegung des Objektträgers 14 zur gewünschten umfassenden Belichtung im Strukturenbereich 34 führt, so dass es beispielsweise denkbar wäre, im Zuge einer Bewegung in einer Richtung der Vorschubrichtung 16 in der Querrichtung 38 gesehen in einer ersten Stellung der Belichtungseinrichtung 30 in der Stellrichtung 31 die Hälfte des Strukturenbereichs 34 durch einen kleiner gewählten Belichtungsbereich 40 zu belichten und nach einer Verschiebung der Belichtungseinrichtung 30 mitsamt dem dieser zugeordneten Belichtungsbereich 40 in der Stellrichtung 31 in einer zweiten Stellung im Gegenzug dazu die andere Hälfte zu belichten.But it is also conceivable in a modification of the first embodiment, the slide 14 once in one direction of the feed direction 16 to move and at other times contrary to this, so starting from an in 1 shown starting position a back and forth movement of the slide 14 for the desired comprehensive exposure in the structural area 34 leads, so that it would be conceivable, for example, in the course of a movement in one direction of the feed direction 16 in the transverse direction 38 seen in a first position of the exposure device 30 in the direction of adjustment 31 half of the structure area 34 through a small selected exposure range 40 to expose and after a shift of the exposure device 30 together with the associated exposure range 40 in the direction of adjustment 31 in a second position, in return, to expose the other half.

Um innerhalb des Belichtungsbereichs 40 die Belichtungsflecken 42 mit der erforderlichen Anzahl und Lage erzeugen zu können, sind, wie in 4 dargestellt, in der Belichtungseinrichtung 30 mehrere Belichtungseinheiten 50 vorgesehen, von denen jede, wie in 5 dargestellt, eine Reihe von in einer Reihenrichtung 53 aufeinanderfolgend und im Abstand voneinander angeordnete Strahlführungen 52 aufweist, die einen dieser Belichtungseinheit 50 zugeordneten Satz 51 von Strahlführungen 52 _x bilden. Jede der Strahlführungen 52 _x weist einen Strahlungsaustrittsbereich 54 auf, aus dem jeweils ein Belichtungsstrahl BS mit einem divergenten Belichtungsstrahlabschnitt 56 austritt, der durch Optiken 58 in einen kollimierten Belichtungsstrahlabschnitt 60 umgeformt wird, wobei dann der kollimierte Belichtungsstrahlabschnitt 60, wie in 4 und 5 dargestellt, durch eine Umlenkeinheit 62, (4 und 7) quer zu seiner Ausbreitungsrichtung umgelenkt wird.To within the exposure range 40 the exposure spots 42 with the required number and location to be able to generate, as in 4 shown in the exposure device 30 several exposure units 50 provided, each of which, as in 5 shown a series of in a row direction 53 successive and spaced jet guides 52 having one of these exposure unit 50 assigned sentence 51 of beamlines 52 form _x . Each of the beamlines 52 _x has a radiation exit area 54 from each of which an exposure beam BS with a divergent exposure beam section 56 exiting through optics 58 into a collimated exposure beam section 60 is transformed, in which case the collimated exposure beam section 60 , as in 4 and 5 represented by a deflection unit 62 , ( 4 and 7 ) is deflected transversely to its direction of propagation.

Der Belichtungsstrahlabschnitt 60 trifft dann auf eine in 4 und 7 dargestellte Ablenkeinheit 70 mit einem Ablenkelement 72, das, wie in 4 und 7 dargestellt, den kollimierten Belichtungsstrahl 60 in einen in einer Ablenkrichtung 74 quer zu der Reihenrichtungen 53 wandernde Belichtungsstrahlabschnitt 66 umlenkt. The exposure beam section 60 then meets one in 4 and 7 shown deflection unit 70 with a deflector 72 that, as in 4 and 7 shown, the collimated exposure beam 60 in one in a direction of deflection 74 transverse to the row directions 53 wandering exposure beam section 66 deflects.

Die Ablenkeinheit 70 umfasst als Ablenkelement 72 beispielsweise einen Spiegelkörper 80, der symmetrisch zu einer Achse 82 angeordnete und sich parallel zur Achse 82 erstreckende Spiegelflächen 84 aufweist, die vorzugsweise mantelseitig des Spiegelkörpers 80 angeordnet sind (7). The deflection unit 70 includes as a deflecting element 72 for example, a mirror body 80 , which is symmetrical to an axis 82 arranged and parallel to the axis 82 extending mirror surfaces 84 has, preferably the shell side of the mirror body 80 are arranged ( 7 ).

Insbesondere grenzen die Spiegelflächen 84 in Umfangsrichtung 86 im Wesentlichen aneinander an und erstrecken sich in ihrer Längsrichtung 87 sowie in ihrer Querrichtung 88 über dieselbe Länge bzw. Breite, so dass alle Spiegelflächen 84 dieselbe Ausdehnung aufweisen. In particular, the mirror surfaces border 84 in the circumferential direction 86 substantially to each other and extend in their longitudinal direction 87 as well as in their transverse direction 88 over the same length or width, so that all mirror surfaces 84 have the same extent.

Darüber hinaus sind alle Spiegelflächen 84 insbesondere ebene Flächen, so dass der Spiegelkörper 80 im einfachsten Fall eine Querschnittsfläche aufweist, die die eines regelmäßigen Vielecks ist, wobei die Zahl der Spiegelflächen 84 beispielsweise größer als 4 und kleiner als 100 ist. In addition, all mirror surfaces 84 especially flat surfaces, so that the mirror body 80 in the simplest case has a cross-sectional area which is that of a regular polygon, wherein the number of mirror surfaces 84 for example, greater than 4 and less than 100.

Eine bevorzugte Ausführung sieht vor, dass die Zahl der Spiegelflächen 84 größer als 30 und kleiner als 50 ist. A preferred embodiment provides that the number of mirror surfaces 84 greater than 30 and less than 50.

Jede der Spiegelflächen 84 reflektiert – wie in 7 dargestellt – mit jeweils einem aktiv genutzten Spiegelflächenbereich 89 jeweils den von der Umlenkeinheit 62 umgelenkten kollimierten Belichtungsstrahlabschnitt 60 des entsprechend der jeweiligen Drehstellung des Spiegelkörpers 80 derart, dass, wie in 6 und 7 dargestellt, in einer ersten Stellung der Spiegelfläche 84 beispielsweise der erste wandernde Belichtungsstrahlabschnitt 66 ₁ des Satzes 61 einen Belichtungsfleck 42 ₁₁ in einer ersten Belichtungsfleckposition 90 ₁₁, erzeugt, der dann bei der Drehung des Spiegelkörpers 80 um die Achse 82 in Richtung der Ablenkrichtung 74 über eine Ablenkungsstrecke AS weiter wandert bis zu einer letzten N-ten Belichtungsfleckposition 90 _1N, die der Stellung der jeweiligen Spiegelfläche 84 entspricht, in welcher der Belichtungsstrahlabschnitt 60 ₁ noch auf den aktiv genutzten Bereich 89 der Spiegelfläche 84 auftrifft und somit noch von dieser zur Erzeugung des der letzten Belichtungsfleckposition 90 _1N zugeordneten Belichtungsflecks 42 _1N reflektiert wird. Each of the mirror surfaces 84 reflected - as in 7 shown - each with an actively used mirror surface area 89 respectively from the deflection unit 62 deflected collimated exposure beam section 60 of the corresponding rotational position of the mirror body 80 such that, as in 6 and 7 shown in a first position of the mirror surface 84 for example, the first traveling exposure beam section 66 _{1 of} the sentence 61 an exposure spot 42 ₁₁ in a first exposure spot position 90 ₁₁ , which then during the rotation of the mirror body 80 around the axis 82 in the direction of the deflection 74 via a deflection distance AS continues to migrate to a last Nth exposure spot position 90 _1N , the position of the respective mirror surface 84 corresponds to, in which the exposure beam section 60 ₁ still on the active area 89 the mirror surface 84 and thus still from this to produce the last exposure spot position 90 _1N associated exposure spot 42 _{1N is} reflected.

Ein Weiterdrehen des Spiegelkörpers 80 in der Drehrichtung 92 führt dann dazu, dass der Belichtungsstrahl 60 ₁ auf den aktiv genutzten Bereich 89 der nächsten Spiegelfläche 84 auftrifft, die dann den Belichtungsstrahlabschnitt 60 ₁ wiederum so in den wandernden Belichtungsstrahlabschnitt 66 ₁ reflektiert, dass dieser wiederum den Belichtungsfleck 42 ₁₁ in der ersten Belichtungsfleckposition 90 ₁₁ erzeugt. Further rotation of the mirror body 80 in the direction of rotation 92 then causes the exposure beam 60 ₁ to the active area 89 the next mirror surface 84 which then hits the exposure beam section 60 ₁ again so in the traveling exposure beam section 66 ₁ reflects that this in turn the exposure _spot 42 ₁₁ in the first exposure spot position 90 ₁₁ generated.

Somit führt die ständige Rotation des Spiegelkörpers 80 um die Achse 82 zu einer ständigen Wanderung der von einem Belichtungsstrahl BS_x erzeugten Belichtungsflecken 42 von der ersten Belichtungsfleckposition 90 _x1 mit dem Belichtungsfleck 42 _x1 bis zur letzten N-ten Belichtungsfleckposition 90 _xN mit dem Belichtungsfleck 42 _xN über die Ablenkungsstrecken AS auf der fotosensitiven Schicht 24. Thus, the constant rotation of the mirror body leads 80 around the axis 82 to a constant migration of the exposure spots generated by an exposure beam BS _x 42 from the first exposure spot position 90 _x1 with the exposure spot 42 _x1 to the last Nth exposure spot position 90 _xN with the exposure spot 42 _xN over the deflection distances AS on the photosensitive layer 24 ,

Damit besteht die Möglichkeit, im Bereich der Ablenkungsstrecke AS längs der Ablenkrichtung 74 durch die Belichtungsflecken 42 _xy in definiert wählbaren Belichtungsfleckpositionen 90 _xy eine Belichtung der fotosensitiven Schicht 24 durchzuführen, und zwar dann, wenn der jeweilige Belichtungsfleck 42 _xy in der jeweiligen Belichtungsfleckposition 90 _xy steht, wobei nur in dieser Stellung auf der fotosensitiven Schicht 24 durch Aktivieren des jeweiligen Belichtungsstrahls BS_x, das heißt beispielsweise Einschalten der dem Strahlungsaustritt 54 _xy zugeordneten Strahlungsquelle, eine Belichtung mit ausreichender Intensität erfolgt, durch welche eine fotochemische Umwandlung in der fotosensitiven Schicht im Bereich dieses Belichtungsflecks 42 _xy erreichbar ist. This makes it possible in the region of the deflection distance AS along the deflection direction 74 through the exposure spots 42 _xy in defined selectable exposure spot positions 90 _xy an exposure of the photosensitive layer 24 perform, if the respective exposure spot 42 _xy in the respective exposure spot position 90 _xy stands, only in this position on the photosensitive layer 24 by activating the respective exposure beam BS _x , that is, for example, switching on the radiation exit 54 _xy associated radiation source, an exposure of sufficient intensity is effected, by which a photochemical conversion in the photosensitive layer in the region of this exposure spot 42 _{xy is} reachable.

Ist in den übrigen Belichtungsfleckpositionen 90 _xy innerhalb der Ablenkungsstrecke AS_x keine Belichtung der fotosensitiven Schicht 24 vorgesehen, so wird die dem jeweiligen Strahlungsaustritt 54 _x zugeordnete Strahlungsquelle beim Durchlaufen dieser übrigen Belichtungsfleckpositionen 90 _xy nicht eingeschaltet oder mit einer Intensität betrieben, die zu keiner fotochemischen Umwandlung der fotosensitiven Schicht 24 im Bereich des jeweiligen Belichtungsflecks 42 _xy führen kann. Is in the remaining exposure spot positions 90 _xy within the deflection distance AS _x no exposure of the photosensitive layer 24 provided, so is the respective radiation outlet 54 _x associated radiation source when passing through these remaining exposure spot positions 90 _{xy is} not turned on or operated at an intensity that results in no photochemical conversion of the photosensitive layer 24 in the area of the respective exposure spot 42 _{xy can} lead.

Zur Fokussierung der wandernden Belichtungsstrahlen BS_x auf die fotosensitive Schicht 24 und somit zur Einstellung der Ausdehnung der von den jeweiligen Belichtungsstrahlen BS_x erzeugten Belichtungsflecken 42 ist zwischen der Ablenkeinheit 70 und der fotosensitiven Schicht 24 noch eine dem Satz 51 von Strahlführungen 52 zugeordnete optische Einheit 102 vorgesehen, welche für jeden der Belichtungsstrahlabschnitte 66 _x eine eigene Abbildungsoptik 104, beispielsweise in Form eines Linsensystems, aufweist, durch welche der jeweilige wandernde Belichtungsstrahlabschnitt 66 hindurchtritt und damit auf den jeweiligen Belichtungsfleck 42 mit einer definierten Größe des Belichtungsflecks 42 sowie einer definierten Intensitätsverteilung im Belichtungsfleck 42 auf die fotosensitive Schicht 24 fokussiert wird. For focusing the traveling exposure beams BS _x onto the photosensitive layer 24 and thus for adjusting the extension of the exposure spots generated by the respective exposure beams BS _x 42 is between the deflection unit 70 and the photosensitive layer 24 one more sentence 51 of beamlines 52 assigned optical unit 102 provided for each of the exposure beam sections 66 _x own imaging optics 104 , for example in the form of a lens system, through which the respective traveling exposure beam section 66 passes through and thus on the respective exposure spot 42 with a defined size of the exposure spot 42 and a defined intensity distribution in the exposure spot 42 on the photosensitive layer 24 is focused.

Insbesondere sind vorteilhafte Abbildungseigenschaften der Abbildungsoptik 104 dann gegeben, wenn der mittlere Abstand zwischen dem wirksamen Spiegelflächenbereich 89 der Spiegelfläche 84 ungefähr der Brennweite f der Abbildungsoptik 104 entspricht, so dass die Abbildungsverhältnisse für den wandernden Belichtungsstrahl aufgrund der telezentrischen Optik im Wesentlichen identisch sind und somit auch die Belichtungsflecken 42 im Wesentlichen dieselbe Größe und im Wesentlichen dieselbe Intensitätsverteilung aufweisen (7). In particular, advantageous imaging properties of the imaging optics 104 then given if the mean distance between the effective mirror surface area 89 the mirror surface 84 approximately the focal length f of the imaging optics 104 corresponds so that the imaging conditions for the traveling exposure beam due to the telecentric optics are substantially identical and thus the exposure spots 42 have substantially the same size and substantially the same intensity distribution ( 7 ).

Ferner ist vorzugsweise vorgesehen, dass auch der Abstand zwischen der Abbildungsoptik 104 und der zu belichtenden fotosensitiven Schicht 24 ungefähr der Brennweite f der Abbildungsoptik 104 entspricht (6), um eine optimale Fokussierung des jeweiligen Belichtungsstrahls 66 im Belichtungsfleck 42 auf der fotosensitiven Schicht 24 zu erhalten. Furthermore, it is preferably provided that the distance between the imaging optics 104 and the photosensitive layer to be exposed 24 approximately the focal length f of the imaging optics 104 corresponds to 6 ) for optimal focusing of the respective exposure beam 66 in the exposure spot 42 on the photosensitive layer 24 to obtain.

Um die Spiegelkörper 80 raumsparend anordnen zu können, sind diese einseitig von einer Antriebseinheit 130 um die Achse 82 angetrieben, jedoch beidseitig drehbar gelagert, wobei die Antriebseinheiten 130 in der Querrichtung 38 quer zur Vorschubrichtung 16 aufeinanderfolgender Spiegelkörper 80 jeweils auf gegenüberliegenden Seiten angeordnet sind, so dass eine Antriebseinheit 130 in der Vorschubrichtung 16 vor und die in der Querrichtung 38 nächstfolgende in der Vorschubrichtung 16 hinter dem Belichtungsfleck 40 liegt (8). To the mirror body 80 To arrange space-saving, they are one-sided by a drive unit 130 around the axis 82 driven, but rotatably mounted on both sides, wherein the drive units 130 in the transverse direction 38 transverse to the feed direction 16 successive mirror body 80 are each arranged on opposite sides, so that a drive unit 130 in the feed direction 16 in front and in the transverse direction 38 next in the feed direction 16 behind the exposure spot 40 lies ( 8th ).

Ferner ist, wie in 7 dargestellt, jeder der Antriebseinheiten 130 noch mit einem Sensor 132 versehen, welcher in der Lage ist, optische, d. h. beispielsweise über einen von einer Strahlungsquelle 134 erzeugten und an einer der Spiegelflächen 84 reflektierten Messstrahl 136, der auf einen Detektor 138 auftrifft, direkt die Drehstellung des Spiegelkörpers 80 und somit insbesondere die Stellung der Spiegelflächen 84 zu erfassen und einer als Ganzes mit 140 bezeichneten Steuereinheit zu übermitteln. Furthermore, as in 7 represented, each of the drive units 130 still with a sensor 132 provided which is capable of optical, ie for example via one of a radiation source 134 generated and on one of the mirror surfaces 84 reflected measuring beam 136 that is on a detector 138 impinges, directly the rotational position of the mirror body 80 and thus in particular the position of the mirror surfaces 84 to capture and one as a whole with 140 to communicate designated control unit.

Diese Steuereinheit 140 steuert die Antriebseinheiten 130 so an, dass diese mit sich konstanter Drehzahl drehen und steuert außerdem die Ausleuchtung der Belichtungsflecken 42. This control unit 140 controls the drive units 130 so that they rotate at a constant speed and also controls the illumination of the exposure spots 42 ,

Hinsichtlich der Erzeugung der Belichtungsstrahlen BS wurden bislang keinerlei nähere Angaben gemacht. With regard to the generation of the exposure beams BS, no further details have been given so far.

Vorzugsweise ist zur Erzeugung der Belichtungsstrahlen BS separat von der Belichtungseinrichtung 30 eine Strahlungserzeugungseinheit 150 vorgesehen, welche eine Vielzahl von ebenfalls durch die Steuereinheit 140 hinsichtlich ihrer Lichtleistung ansteuerbaren Strahlungsquellen 152, beispielsweise Laserdioden, umfasst, wobei der von jeder der Strahlungsquellen 152 erzeugte Belichtungsstrahl BS in einen Lichtleiter 154 eingekoppelt wird, der von der Strahlungserzeugungseinheit 150 zur Belichtungseinrichtung 30 verläuft und eine Endfläche aufweist, welche den jeweiligen Strahlungsaustrittsbereich 54 bildet, aus dem die Belichtungsstrahlen 56 austreten. Preferably, to generate the exposure beams BS is separate from the exposure device 30 a radiation generating unit 150 provided which a plurality of likewise by the control unit 140 with regard to their light output controllable radiation sources 152 For example, laser diodes include that of each of the radiation sources 152 generated exposure beam BS in a light guide 154 coupled from the radiation generating unit 150 to the exposure device 30 extends and has an end surface which the respective radiation exit region 54 forms, from which the exposure rays 56 escape.

Die Anordnung der Strahlungserzeugungseinheit 150 getrennt von der Belichtungseinheiten 50 hat den Vorteil, dass damit die Möglichkeit besteht, die Strahlungsquellen 152 für deren Betrieb optimal anzuordnen und die von dieser erzeugte Wärme optimal abzuführen, ohne dass eine thermische Beeinflussung der Belichtungseinrichtung 30 damit verbunden sein könnte. The arrangement of the radiation generating unit 150 separate from the exposure units 50 has the advantage that there is the possibility of the radiation sources 152 to arrange for their operation optimally and to dissipate the heat generated by this optimally, without any thermal influence on the exposure device 30 could be associated with it.

Vielmehr sind die Belichtungseinrichtung 30 und die fotosensitive Schicht 24 völlig von der Strahlungserzeugungseinheit 150 thermisch entkoppelt und somit besteht keine Gefahr einer Beeinträchtigung der Präzision im Bereich der Belichtungseinrichtung 30 aufgrund von thermischen, durch die Strahlungserzeugungseinheit 150 bedingten Effekten. Rather, the exposure device 30 and the photosensitive layer 24 completely from the radiation generation unit 150 thermally decoupled and thus there is no risk of deterioration of precision in the area of the exposure device 30 due to thermal, by the radiation generating unit 150 conditional effects.

Die Strahlungserzeugungseinheit 150 kann dabei im Abstand über der Belichtungseinrichtung 30 angeordnet werden, es besteht aber auch die Möglichkeit bei ausreichend lang ausgeführten Lichtleitern 154 die Strahlungserzeugungseinheit 150 seitlich der Maschinenbasis 10, beispielsweise neben der Steuereinheit 140, anzuordnen. The radiation generation unit 150 can be at a distance above the exposure device 30 can be arranged, but it is also possible with sufficiently long running optical fibers 154 the radiation generation unit 150 at the side of the machine base 10 , for example next to the control unit 140 to arrange.

Wie bereits dargelegt, besteht für die Steuereinheit 140 die Möglichkeit, einerseits exakt die Drehstellung des jeweiligen Spiegelkörpers 80 über die dem jeweiligen Spiegelkörper 80 zugeordneten Sensoren 132 zu erfassen und somit durch entsprechende Ansteuerung der Antriebseinheiten 130 bestimmen zu können, auf welcher Spiegelfläche 84 der aktiv genutzte Bereich 89 liegt, in welcher Belichtungsfleckposition 90 der jeweilige erzeugte Belichtungsfleck 42 längs der Ablenkungsstrecke AS zu dem jeweils bestimmten Zeitpunkt steht und somit zu entscheiden, ob in dieser Belichtungsfleckposition 90 eine Belichtung der fotosensitiven Schicht 24 durchgeführt werden soll oder nicht, und entsprechend dieser Entscheidung die Strahlungsquelle 152, die für die Erzeugung des jeweiligen Belichtungsflecks 42 vorgesehen ist, so anzusteuern, dass diese die Lichtleistung liefert, welche einen fotochemischen Effekt in der fotosensitiven Schicht 24 im Bereich des Belichtungsflecks 42 auslöst, oder abzuschalten oder hinsichtlich ihrer Lichtleistung soweit zu verringern, dass kein fotochemischer Effekt im Bereich des in der jeweiligen Belichtungsfleckposition 90 stehenden Belichtungsflecks 42 auftritt. As already stated, it is for the control unit 140 the possibility, on the one hand exactly the rotational position of the respective mirror body 80 about the respective mirror body 80 associated sensors 132 to capture and thus by appropriate control of the drive units 130 to be able to determine on which mirror surface 84 the actively used area 89 is in which exposure spot position 90 the respective generated exposure spot 42 along the deflection distance AS stands at the particular point in time and thus to decide whether in this exposure spot position 90 an exposure of the photosensitive layer 24 be carried out or not, and according to this decision, the radiation source 152 necessary for the generation of the respective exposure spot 42 is provided to drive so that it provides the light output, which has a photochemical effect in the photosensitive layer 24 in the area of the exposure spot 42 triggers, or turn off, or decrease in light output to such an extent that there is no photochemical effect in the region of the respective exposure spot position 90 stationary exposure spot 42 occurs.

Um nicht nur innerhalb der Ablenkungsstrecke AS die einzelnen Belichtungsflecken 42 in den einzelnen Belichtungsfleckpositionen 90 so positionieren zu können, dass diese – für die Herstellung zusammenhängender, sich mindestens mit einer Komponente in der Querrichtung erstreckender Strukturen 26 – einander überlappen, um die zusammenhängende Struktur 26 durch eine Vielzahl von einzelnen Belichtungsflecken 42 erzeugen zu können, sondern um auch die Belichtungsflecken 42, die durch in der Reihenrichtung 53 aufeinanderfolgende Belichtungsstrahlen 66 erzeugbar sind, in der Querrichtung 38 überlappend anzuordnen, verläuft die Reihenrichtung 53 relativ zur Vorschubrichtung 16 oder zu einer Parallelen zu dieser in einem Winkel α so, dass eine zur Vorschubrichtung 16 parallele Referenzgerade 160 durch die letzte Belichtungsfleckposition 90 _1N des beispielsweise ersten Belichtungsstrahls 66 ₁ einer Belichtungseinheit 50 den Belichtungsfleck 42 ₂₁ in der ersten Belichtungsfleckposition 90 ₂₁ des in der Reihenrichtung 53 nächstfolgenden Belichtungsstrahls 66 ₂ tangiert, vorzugsweise schneidet, so dass durch Bewegung des letzten Belichtungsflecks 42 _1N in der Vorschubrichtung 16 bis zur Vorschubposition des ersten Belichtungsflecks 42 ₂₁ des nächstfolgenden Belichtungsstrahls 66 ₂ die beiden Belichtungsflecke 42 _1N und 42 ₂₁ miteinander überlappend angeordnet werden können und somit auch die Belichtungsflecke 42 ₂ des zweiten Belichtungsstrahls 66 ₂ dazu herangezogen werden können, zusammen mit den Belichtungsflecken 42 ₁ des ersten Belichtungsstrahls 66 ₁ die in der Querrichtung 38 zusammenhängende Struktur 26 zu erzeugen. Not only within the deflection distance AS, the individual exposure spots 42 in the individual exposure spot positions 90 be able to position them so as to produce contiguous structures extending at least with one component in the transverse direction 26 - overlap each other to the coherent structure 26 through a variety of individual exposure spots 42 but also the exposure spots 42 passing through in the row direction 53 successive exposure beams 66 can be generated, in the transverse direction 38 to arrange overlapping, runs the row direction 53 relative to the feed direction 16 or to a parallels to this at an angle α so that one to the feed direction 16 parallel reference line 160 through the last exposure spot position 90 _{1N of} the first exposure _beam, for example 66 _{1 of} an exposure unit 50 the exposure spot 42 ₂₁ in the first exposure spot position 90 ₂₁ of the row direction 53 next exposure beam 66 ₂ touches, preferably cuts, so that by movement of the last exposure spot 42 _1N in the feed direction 16 to the feed position of the first exposure spot 42 _{21 of} the next exposure beam 66 ₂ the two exposure spots 42 _1N and 42 ₂₁ can be overlapped with each other and thus the exposure spots 42 _{2 of} the second exposure beam 66 ₂ can be used, along with the exposure spots 42 _{1 of} the first exposure beam 66 ₁ in the transverse direction 38 coherent structure 26 to create.

Diese relative Anordnung des jeweils letzten Belichtungsflecks 42 _xN eines Belichtungsstrahls BS_x zum jeweils ersten Belichtungsfleck 42 _x+1 des nächstfolgenden Belichtungsstrahls BS_x+1 ist bei allen Belichtungsstrahlen BS und Belichtungsflecken 42 einer Belichtungseinheit 50 vorgesehen, so dass theoretisch alle Belichtungsflecken 42 dieser Belichtungseinheit 50 dazu herangezogen werden können, eine sich mit einer Komponente in der Querrichtung 38 über die gesamte Ausdehnung der Belichtungsstrahlen BS des Satzes 51 der Strahlführungen 52 dieser Belichtungseinheit 50 in der Querrichtung 38 erstreckende zusammenhängende Struktur 26 zu erzeugen. This relative arrangement of the last exposure spot 42 _{xN of} an exposure beam BS _x to the respective first exposure spot 42 _{x + 1 of} the next exposure beam BS _{x + 1} is BS and exposure spots in all the exposure beams 42 an exposure unit 50 provided, so that theoretically all exposure spots 42 this exposure unit 50 can be used to align with a component in the transverse direction 38 over the entire extent of the exposure beams BS of the set 51 the beam guides 52 this exposure unit 50 in the transverse direction 38 extending coherent structure 26 to create.

In gleicher Weise wie im Zusammenhang mit der Anordnung der Belichtungsflecken 42, erzeugt durch verschiedene Belichtungsstrahlen BS beschrieben, sind auch die ersten und zweiten Belichtungseinheiten 50a, 50b, etc. so relativ zueinander angeordnet, dass, wie beispielsweise in 3 dargestellt, eine zur Vorschubrichtung 16 parallele Referenzgerade 170 durch die letzte Belichtungsposition 90 _NN einer ersten Belichtungseinheit 50, beispielsweise der Belichtungseinheit 50a, den Belichtungsfleck 42 ₁₁ der ersten Belichtungsposition 90 ₁₁ der in der Querrichtung 38 nächstfolgenden Belichtungseinheit, beispielsweise der Belichtungseinheit 50b, tangiert oder schneidet, so dass auch die von allen in der Querrichtung 38 aufeinanderfolgenden Belichtungseinheiten, beispielsweise den Belichtungseinheiten 50a und 50b, erzeugbaren Belichtungsflecken 42 zur Erzeugung einer zusammenhängenden Struktur 26 herangezogen werden können, dadurch, dass die Belichtungsflecken 42 einer Belichtungseinheit 50, beispielsweise der Belichtungseinheit 50a, überlappend positioniert werden und der letzte Belichtungsfleck 42 _NN des letzten Belichtungsstrahls BS_N überlappend mit dem ersten Belichtungsfleck 42 ₁₁ des ersten Belichtungsstrahls BS₁ der in der Querrichtung 38 nächstfolgenden Belichtungseinheit, beispielsweise der Belichtungseinheit 50b, angeordnet werden kann. In the same way as in connection with the arrangement of the exposure spots 42 , generated by different exposure beams BS, are also the first and second exposure units 50a . 50b , etc. arranged so relative to each other that, such as in 3 shown, one to the feed direction 16 parallel reference line 170 through the last exposure position 90 _{NN of} a first exposure unit 50 For example, the exposure unit 50a , the exposure spot 42 _{11 of} the first exposure position 90 ₁₁ in the transverse direction 38 next exposure unit, for example, the exposure unit 50b , tangents or cuts, so that too of all in the transverse direction 38 successive exposure units, for example the exposure units 50a and 50b , producible exposure spots 42 to create a coherent structure 26 can be used, in that the exposure spots 42 an exposure unit 50 For example, the exposure unit 50a , be positioned overlapping and the last exposure spot 42 _{NN of} the last exposure beam BS _N overlapping with the first exposure spot 42 _{11 of} the first exposure beam BS ₁ in the transverse direction 38 next exposure unit, for example, the exposure unit 50b , can be arranged.

Unter der Voraussetzung, dass sich der Belichtungsbereich 40 in der Querrichtung 38 über die gesamte Breite der fotosensitiven Schicht 24 oder zumindest über einen zur Belichtung und zur Erzeugung von Strukturen 26 vorgesehenen Bereich der fotosensitiven Schicht 24, erstreckt, sind in dem gesamten vom Belichtungsbereich 40 überdeckten Bereich der fotosensitiven Schicht 24 zusammenhängende oder dann auch nicht zusammenhängende Strukturen 26 erzeugbar. Provided that the exposure area 40 in the transverse direction 38 over the entire width of the photosensitive layer 24 or at least one for exposure and for creating structures 26 provided area of the photosensitive layer 24 , extends, are in the whole of the exposure area 40 covered area of the photosensitive layer 24 coherent or unrelated structures 26 produced.

Da alle Belichtungseinheiten 50 der Belichtungseinrichtung 30 relativ zueinander in der beschriebenen Weise angeordnet sind, besteht somit die Möglichkeit, auf der fotosensitiven Schicht 24 über deren gesamte Querrichtung 38 und über die gesamte Längsrichtung 36 unter Heranziehen der Vorschubbewegung 16 in beliebigen Bereichen beliebig gestaltete zusammenhängende Strukturen 26 zu erzeugen, die sowohl in der Längsrichtung 36 als auch in der Querrichtung 38 oder in jedem Winkel zu diesen verlaufen können. As all exposure units 50 the exposure device 30 Thus, it is possible to deposit on the photosensitive layer 24 over its entire transverse direction 38 and over the entire longitudinal direction 36 using the feed movement 16 in any area arbitrarily designed coherent structures 26 to produce, both in the longitudinal direction 36 as well as in the transverse direction 38 or can run at any angle to these.

Hierzu erfasst die Steuereinheit 140 sowohl die Position der fotosensitiven Schicht 24 in der Vorschubrichtung 16 durch Detektion der Position des Objektträgers 14 sowie die Positionen der einzelnen erzeugbaren Belichtungsflecken 42 längs der Ablenkungsstrecke AS durch die Drehstellung der Spiegelkörper 80 und ist damit in der Lage, zusätzlich noch durch geeignete Ansteuerung der jeweiligen Strahlungsquelle 152 zum geeigneten Zeitpunkt an jeder Stelle des vorgesehenen Belichtungsbereichs 40 auf der fotosensitiven Schicht 24 einen Belichtungsfleck 42 zu generieren, wobei dies vorzugsweise durch geeignete Ansteuerung der Strahlungsquellen 152 im Zuge einer einzigen Bewegung des Objektträgers 14 in der Vorschubrichtung 16 erfolgt. The control unit detects this 140 both the position of the photosensitive layer 24 in the feed direction 16 by detecting the position of the slide 14 and the positions of the individual exposure spots that can be generated 42 along the deflection path AS through the rotational position of the mirror body 80 and is thus able, in addition still by suitable control of the respective radiation source 152 at the appropriate time at any point of the intended exposure range 40 on the photosensitive layer 24 an exposure spot 42 to generate this, preferably by suitable control of the radiation sources 152 in the course of a single movement of the slide 14 in the feed direction 16 he follows.

Für eine ausreichende Genauigkeit beim Positionieren der Belichtungsflecken 42 zur Erzeugung der Strukturen 26 ist es günstig, wenn die Geschwindigkeit in Vorschubrichtung 16 nur so groß ist, dass die von zwei in der Umfangsrichtung 86 aufeinanderfolgenden Spiegelflächenbereichen 88 durch einen Belichtungsstrahl 66 erzeugten Belichtungsflecken 42 maximal einen halben Durchmesser, noch besser um Werte im Bereich eines Fünftel- bis eines Zehnteldurchmessers der Belichtungsflecken 42 gegeneinander versetzt sind, das heißt in erheblichem Umfang überlappen. For sufficient accuracy in positioning the exposure spots 42 for generating the structures 26 It is favorable if the speed in the feed direction 16 just so big is that of two in the circumferential direction 86 successive mirror surface areas 88 through an exposure beam 66 generated exposure spots 42 a maximum of half a diameter, even better around values in the range of one-fifth to one-tenth of the diameter of the exposure spots 42 are offset from each other, that overlap to a considerable extent.

Um die Funktionsfähigkeit der erfindungsgemäßen Belichtungsanlage überprüfen zu können, insbesondere überprüfen zu können, ob jeder der Belichtungsstrahlen BS aktivierbar ist und somit in der Lage ist, in dem entsprechenden Belichtungsfleck 42 die fotosensitive Schicht mit Lichtleistung zu beaufschlagen, ist eine Belichtungsprüfeinheit 180 vorgesehen, welche in der Lage ist, die Lichtleistung aller Belichtungsstrahlen BS zu erfassen. In order to be able to check the operability of the exposure system according to the invention, in particular to be able to check whether each of the exposure beams BS can be activated and is therefore able to operate in the corresponding exposure spot 42 applying light power to the photosensitive layer is an exposure test unit 180 which is capable of detecting the light output of all the exposure beams BS.

Hierzu ist beispielsweise die Belichtungsprüfeinheit 180 mit einem Belichtungsprüffeld 182 gekoppelt, das seinerseits in der Vorschubrichtung 16 relativ zu der Belichtungseinrichtung 30 positionierbar ist. For this purpose, for example, the exposure test unit 180 with an exposure test field 182 coupled, in turn, in the feed direction 16 relative to the exposure device 30 is positionable.

Das Belichtungsprüffeld 182 kann dabei auf einem eigens für dieses vorgesehenen Objektträger angeordnet werden oder direkt auf der Oberseite 20 des Objektträgers 14, der ebenfalls in Vorschubrichtung 16 vorne liegend oder hinten liegend das Objekt 22 mit der fotosensitiven Schicht 24 trägt. The exposure test field 182 can be placed on a specially designed for this slide or directly on the top 20 of the slide 14 , which is also in the feed direction 16 lying in front or lying behind the object 22 with the photosensitive layer 24 wearing.

In dem Belichtungsprüffeld 182, sind, wie in 9 dargestellt, Sensoreinheiten 184 angeordnet, und zwar in in der Querrichtung 38 von den Ablenkstrecken AS der einzelnen Belichtungsstrahlen 66 überfahrenen Bereichen der jeweiligen Ablenkstrecken AS, wobei jedem Belichtungsstrahl 66, beispielsweise dem Belichtungsstrahl BS₁ auf seinem Weg längs der Ablenkstrecke AS₁ eine einzige Sensoreinheit 184, in diesem Fall die Sensoreinheit 184 ₁ zugeordnet ist. In the exposure test field 182 , are, as in 9 shown, sensor units 184 arranged, in the transverse direction 38 from the deflection distances AS of the individual exposure beams 66 traversed areas of the respective deflection lines AS, wherein each exposure beam 66 For example, the exposure beam BS ₁ on its way along the deflection AS ₁ a single sensor unit 184 , in this case the sensor unit 184 _{1 is} assigned.

Jede Sensoreinheit 184 umfasst dabei ein Sensorgehäuse 186, welches auf einer Seite einen Sensorbereich 188 aufweist, innerhalb von welchem die Erfassung der Lichtleistung der diesen Sensorbereich 188 beaufschlagenden Belichtungsflecken 42 möglich ist. Each sensor unit 184 includes a sensor housing 186 which has a sensor area on one side 188 within which the detection of the light output of this sensor area 188 impinging exposure spots 42 is possible.

Hat beispielsweise, wie in 10 dargestellt, die Sensoreinheit 184 ₁ eine Dimension des Sensorgehäuses 186 ₁ derart, dass die Ablenkstrecke AS₁ die maximale Ausdehnung des Sensorgehäuses 186 überstreicht, so treffen beispielsweise die Belichtungsflecken 42 ₁₁ und 42 _1N jeweils das Sensorgehäuse 186, während in einem mittigen Bereich der Ablenkstrecke AS₁ liegende Belichtungsflecken 42 _1x bis 42 _1x+y innerhalb des Sensorbereichs 188 liegen und somit besteht die Möglichkeit, bei allen Belichtungsflecken 42 _1x bis 42 _1x+y die Lichtleistung durch den Sensorbereich 188 ₁ zu erfassen. For example, like in 10 shown, the sensor unit 184 ₁ a dimension of the sensor housing 186 ₁ such that the deflection AS _1, the maximum extent of the sensor housing 186 For example, the exposure spots hit 42 ₁₁ and 42 _1N each the sensor housing 186 , while in a central region of the deflection AS ₁ exposure spots 42 _1x to 42 _{1x + y} within the sensor range 188 lie and thus there is a possibility for all exposure spots 42 _1x to 42 _{1x + y} the light output through the sensor area 188 ₁ to capture.

Dabei kann der Sensorbereich 188 entweder die auf diesen insgesamt auftretende Lichtleistung integral erfassen oder der Sensorbereich 188 ₁ kann als Kameraarray ausgebildet sein, so dass die Lichtleistung in einzelnen Stellen des Sensorbereichs 188 ₁ selektiv erfasst werden kann. In this case, the sensor area 188 either integrally detect the total light output occurring on this or the sensor area 188 ₁ may be formed as a camera array, so that the light output in individual locations of the sensor area 188 ₁ can be detected selectively.

Da jedoch die zwischen dem Belichtungsfleck 42 _1x und dem Belichtungsfleck 42 _1x+y liegenden Belichtungsflecken 42 längs der Ablenkstrecke AS₁ aufeinanderfolgend mit der jeweiligen Lichtleistung des entsprechenden Belichtungsstrahls BS₁ beaufschlagt werden, ist es möglich, entweder durch eine Messung über sämtliche Belichtungsflecken 42 _1x bis 42 _1x+y oder durch eine Messung der Lichtintensität der einzelnen Belichtungsflecken 42 zwischen dem Belichtungsfleck 42 _1x bis 42 _1x+y die Lichtintensität des entsprechenden Belichtungsstrahls BS₁ zu erfassen, wobei beispielsweise bei einer Erfassung der Lichtintensität durch Erfassen mehrerer Belichtungsflecken 42 eine Mittelung und somit eine verbesserte Messung der Lichtintensität möglich ist. However, as the between the exposure spot 42 _1x and the exposure spot 42 _{1x + y} exposure spots 42 along the deflection line AS ₁ successively acted upon by the respective light output of the corresponding exposure beam BS ₁ , it is possible either by a measurement over all exposure spots 42 _1x to 42 _{1x + y} or by measuring the light intensity of the individual exposure spots 42 between the exposure spot 42 _1x to 42 _{1x + y} to detect the light intensity of the corresponding exposure beam BS ₁ , wherein, for example, upon detection of the light intensity by detecting a plurality of exposure spots 42 an averaging and thus an improved measurement of the light intensity is possible.

Im einfachsten Fall arbeitet die erfindungsgemäße Belichtungsprüfeinheit 180 so, dass sie prüft, ob der dem jeweiligen Belichtungsstrahl 66 zugeordnete Sensorbereich 188 eine von Null verschiedene Lichtleistung für den jeweiligen Belichtungsfleck 42 oder die jeweiligen Belichtungsflecken erfasst oder nicht. In the simplest case, the exposure test unit according to the invention operates 180 so that it checks if the the respective exposure beam 66 assigned sensor area 188 a non-zero light output for the respective exposure spot 42 or the respective exposure spots are detected or not.

Wird keine Lichtleistung am Ort des jeweiligen Belichtungsflecks 42 oder der jeweilige Belichtungsflecken 42 erfasst, so erzeugt die Belichtungsprüfeinheit 180 ein Fehlersignal FS, das beispielsweise eine der Belichtungsprüfeinheit 180 zugeordnete akustische Signaleinheit 192 und/oder eine optische Signaleinheit 194 aktiviert, so dass eine Bedienungsperson der erfindungsgemäßen Belichtungsanlage über das Vorliegen eines Fehlersignals FS informiert wird. Will no light power at the location of the respective exposure spot 42 or the respective exposure spots 42 detected, the exposure test unit generates 180 an error signal FS, for example, one of the exposure test unit 180 assigned acoustic signal unit 192 and / or an optical signal unit 194 activated, so that an operator of the exposure system according to the invention is informed about the presence of an error signal FS.

Es ist aber auch denkbar, das Fehlersignal FS der Steuereinheit 140 zu übermitteln, die dann beispielsweise bei Vorliegen des Fehlersignals FS in der Lage ist, einen weiteren Belichtungsvorgang zu verhindern, sei es in der Form, dass bereits ein sich unmittelbar anschließender Belichtungsvorgang gestoppt wird oder in der Form, dass ein auf den momentan ausgeführten Belichtungsvorgang nächstfolgender Belichtungsvorgang verhindert wird. But it is also conceivable, the error signal FS of the control unit 140 then, for example, in the presence of the error signal FS is able to prevent a further exposure process, be it in the form that already an immediately subsequent exposure process is stopped or in the form that a subsequent to the currently running exposure process next Exposure process is prevented.

Bei dem in 9 dargestellten Ausführungsbeispiel des Belichtungsprüffelds 182 sind die einzelnen Sensoreinheiten 184 so angeordnet, dass sie an den Orten liegen, die genau den Ablenkstrecken AS₁ bis AS_N der Belichtungsstrahlen BS in einer Reihenrichtung 53 entsprechen. At the in 9 illustrated embodiment of the Exposure test field 182 are the individual sensor units 184 arranged so as to lie at the locations which are exactly the deflection distances AS ₁ to AS _{N of} the exposure beams BS in a row direction 53 correspond.

In diesem Fall ist es somit möglich, das Belichtungsprüffeld 182 stationär unter der Belichtungseinrichtung 30 in der Vorschubrichtung 16 zu positionieren und ohne eine Bewegung in der Vorschubrichtung 16 mit den vorhandenen Sensoreinheiten 184 ₁ bis 184 _N der verschiedenen Belichtungseinheiten 50 gleichzeitig alle Sensorbereiche 188 dieser Sensoreinheiten 184 mit aktivierten Belichtungsstrahlen BS zu beaufschlagen und somit bei allen Belichtungsstrahlen BS gleichzeitig die Lichtleistung durch den jeweils einem der Belichtungsstrahlen BS zugeordneten Sensorbereich 188 zu erfassen. In this case it is thus possible to use the exposure test field 182 stationary under the exposure device 30 in the feed direction 16 to position and without a movement in the feed direction 16 with the existing sensor units 184 ₁ to 184 _{N of} the different exposure units 50 at the same time all sensor areas 188 of these sensor units 184 act with activated exposure beams BS and thus at the same time the light output by the respective one of the exposure beams BS associated sensor area in all exposure beams BS 188 capture.

Dabei ist es beispielsweise möglich, mit dem jeweiligen Belichtungsstrahl BS innerhalb des diesem Belichtungsstrahl zugeordneten Sensorbereichs 188 einen einzigen Belichtungsfleck 42, beispielsweise einen der Belichtungsflecken zwischen den Belichtungsflecken 42 _1x bis 42 _1x+y mit der Lichtleistung zu beaufschlagen oder mehrere der Belichtungsflecken 42 zwischen den Belichtungsflecken 42 _1x bis 42 _1x+y nacheinander mit der Lichtleistung zu beaufschlagen. It is possible, for example, with the respective exposure beam BS within the sensor region associated with this exposure beam 188 a single exposure spot 42 For example, one of the exposure spots between the exposure spots 42 _1x to 42 _{Apply 1x + y} to the light output or several of the exposure spots 42 between the exposure spots 42 _1x to 42 _{1x + y} one after the other with the light power to apply.

Alternativ dazu kann, um die Flächenausdehnung des Belichtungsprüffelds 182' in der Längsrichtung 36 zu reduzieren, die Anordnung der einzelnen Sensoreinheiten 184 in einem beliebigen Flächenmuster erfolgen, so lange die einem Satz 51 von Strahlführungen 52 ₁ bis 52 _N zugeordneten Sensoreinheiten 184 ₁bis 184 _N in der Querrichtung 38 die den jeweiligen Ablenkstrecken AS₁ bis AS_N entsprechende Position in der Querrichtung 38 aufweisen, wobei die Position in der zur Vorschubrichtung 16 parallelen Längsrichtung 36 beliebig gewählt werden kann, so dass beliebig verschachtelte Flächenmuster für die Anordnung der Sensoreinheiten 184 ₁ bis 184 _N einer Reihe von Belichtungsstrahlen realisiert werden können. Alternatively, this may be the areal extent of the exposure test field 182 ' in the longitudinal direction 36 to reduce the arrangement of the individual sensor units 184 take place in any surface pattern, as long as the one sentence 51 of beamlines 52 ₁ to 52 _N associated sensor units 184 ₁ to 184 _N in the transverse direction 38 the respective deflection distances AS ₁ to AS _N corresponding position in the transverse direction 38 have, wherein the position in the direction of feed 16 parallel longitudinal direction 36 can be chosen arbitrarily, so that arbitrarily nested surface pattern for the arrangement of the sensor units 184 ₁ to 184 _N a series of exposure beams can be realized.

Ein Beispiel eines derartigen Flächenmusters ist in 11 dargestellt. An example of such a surface pattern is in 11 shown.

Damit ist jedoch eine Messung der Lichtleistung der einzelnen Belichtungsstrahlen BS einer Belichtungseinheit 50 nicht durch eine stationäre Positionierung des Belichtungsprüffelds 182' realisierbar, sondern es muss ein Verfahren des Belichtungsprüffeldes 182' in der Vorschubrichtung 16 dergestalt erfolgen, dass die jeweilige Sensoreinheit 184 bei Aktivierung des jeweiligen Belichtungsstrahls BS von der diesem Belichtungsstrahl BS zugeordneten Ablenkstrecke AS überschritten wird, so dass mindestens ein auf der Ablenkstrecke AS liegender Belichtungsfleck 42 in dem Sensorbereich 188 liegt und somit die in diesem Belichtungsfleck 42 vorhandene Lichtleistung durch die entsprechende Sensoreinheit 184 erfasst werden kann. However, this is a measurement of the light output of the individual exposure beams BS of an exposure unit 50 not by a stationary positioning of the exposure test field 182 ' realizable, but it must be a method of the exposure test field 182 ' in the feed direction 16 take place such that the respective sensor unit 184 upon activation of the respective exposure beam BS, the deflection distance AS associated with this exposure beam BS is exceeded, so that at least one exposure spot located on the deflection path AS 42 in the sensor area 188 lies and thus the in this exposure spot 42 existing light output through the corresponding sensor unit 184 can be detected.

Der Einfachheit halber werden sämtliche Belichtungsflecken 42 einer Ablenkstrecke AS aktiviert, so dass keine belichtungsfleckgenaue Positionierung der jeweiligen Sensoreinheit 184 erforderlich ist, sondern davon ausgegangen werden kann, dass einer der längs der Ablenkstrecke AS belichteten Belichtungsflecken 42 in dem Sensorbereich 188 liegt und somit die Lichtleistung dieses Belichtungsflecks 42 durch den Sensorbereich 188 erfasst werden kann. For the sake of simplicity, all the exposure spots become 42 a deflection AS, so that no exposure spot accurate positioning of the respective sensor unit 184 is required, but it can be assumed that one of the exposed along the deflection AS Exposure spots 42 in the sensor area 188 and thus the light output of this exposure spot 42 through the sensor area 188 can be detected.

Sind die Sensoreinheiten 184 ausreichend miniaturisiert, so besteht sogar die Möglichkeit, die Sensoreinheiten 184 in einer in der Querrichtung 38 verlaufenden Reihe anzuordnen. Are the sensor units 184 sufficiently miniaturized, so there is even the possibility of the sensor units 184 in one in the transverse direction 38 to arrange the running row.

Alternativ zum Anordnen einzelner Sensoreinheiten 184, wobei jeweils einem Belichtungsstrahl 66 eine Sensoreinheit 184 zugeordnet ist, besteht aber auch die Möglichkeit, eine großflächige Sensoreinheit 184" vorzusehen, deren fotosensitiver Bereich 200 sich über das gesamte Belichtungsprüffeld 182" erstreckt und einzelne Pixelbereiche 202 dieser Sensoreinheiten 184" als Sensorbereiche 188 zu definieren, so dass ein Pixelbereich 202 einen einem Belichtungsstrahl BS eindeutig zugeordneten Sensorbereich 188" darstellt, wie dies in 12 dargestellt ist. Alternatively to arranging individual sensor units 184 , each with an exposure beam 66 a sensor unit 184 is assigned, but it is also possible, a large-scale sensor unit 184 ' to provide their photosensitive area 200 over the entire exposure test field 182 ' extends and individual pixel areas 202 of these sensor units 184 ' as sensor areas 188 to define, so that a pixel area 202 a sensor beam uniquely assigned to an exposure beam BS 188 ' represents how this is in 12 is shown.

Alternativ oder ergänzend zum Vorsehen des Belichtungsprüffeldes 182 mit den Sensorbereichen 188 besteht auch die Möglichkeit, die Lichtleistung im jeweiligen Belichtungsstrahl BS mit anders angeordneten Sensoren zu erfassen. Alternatively or in addition to providing the exposure test field 182 with the sensor areas 188 it is also possible to detect the light output in the respective exposure beam BS with differently arranged sensors.

So besteht – wie in 3 dargestellt – beispielsweise die Möglichkeit, eine in dem jeweiligen Lichtleiter 154 vor Austritt aus dem Strahlaustrittsbereich 54 in einem Fasermantel 156 auftretende Streustrahlung SS durch einen am Fasermantel 156 außen anliegenden Sensor 204 mit einem Sensorbereich 208 zu erfassen, wobei die Streustrahlung SS hinsichtlich ihrer Lichtleistung proportional zur Lichtleistung im jeweiligen Belichtungsstrahl BS ist. So exists - as in 3 shown - for example, the possibility of one in the respective light guide 154 before exiting the jet exit area 54 in a fiber coat 156 Stray radiation SS occurring through one on the fiber cladding 156 external sensor 204 with a sensor area 208 to be detected, wherein the scattered radiation SS in terms of their light output is proportional to the light output in the respective exposure beam BS.

Alternativ oder ergänzend dazu besteht, wie in 14 dargestellt, die Möglichkeit, an der Optik 58, insbesondere einer gekrümmten Oberfläche 59 derselben auftretende reflektierte Strahlung RS mit einer Sensoreinheit 224 zu erfassen, die einen die reflektierte Strahlung RS detektierenden Sensorbereich 228 aufweist. Alternatively or additionally, as in 14 presented the possibility of optics 58 , in particular a curved surface 59 the same occurring reflected radiation RS with a sensor unit 224 to detect the sensor area detecting the reflected radiation RS 228 having.

Auch die vom Sensorbereich 228 erfasste Lichtleistung der reflektierten Strahlung RS ist proportional zu Lichtleistung des Belichtungsstrahls BS, allerdings mehr als eine, vorzugsweise mehr als zwei Zehnerpotenzen kleiner als die Lichtintensität des jeweiligen Belichtungsstrahls BS. Also from the sensor area 228 detected light power of the reflected radiation RS is proportional to the light output of the exposure beam BS, but more than one, preferably more than two powers of ten smaller than the light intensity of the respective exposure beam BS.

Bei einer weiteren ergänzenden oder alternativen Lösung, dargestellt in 15, ist der Umlenkeinheit 62 eine Sensoreinheit 244 zugeordnet, die einen Sensorbereich 248 aufweist, welcher nicht von einer Spiegelfläche 63 der Umlenkeinheit 62 reflektierte Teile des Belichtungsstrahls BS erfasst, sondern einen Bruchteil des Belichtungsstrahls BS, welcher in Transmission durch die reflektierende Spiegelfläche 63 hindurchtritt und somit den in Transmission durch die reflektierende Spiegelfläche 63 hindurchtretenden Anteil des Belichtungsstrahls BS erfasst, wobei eine Lichtleistung dieses transmissiven Strahlanteils TS ebenfalls proportional zur Lichtleistung im Belichtungsstrahl BS, allerdings mehr als eine, vorzugsweise mehr als zwei Zehnerpotenzen kleiner als dieser ist. In another supplementary or alternative solution, presented in 15 , is the diverter unit 62 a sensor unit 244 assigned to a sensor area 248 which does not have a mirror surface 63 the deflection unit 62 reflected parts of the exposure beam BS, but a fraction of the exposure beam BS, which in transmission through the reflective mirror surface 63 passes through and thus in transmission through the reflective mirror surface 63 detected proportion of the exposure beam BS, wherein a light output of this transmissive beam component TS is also proportional to the light power in the exposure beam BS, but more than one, preferably more than two powers of ten smaller than this.

Jede der Sensoreinheiten 204, 224 oder 244 ist mit der Belichtungsprüfeinheit 180 gekoppelt, so dass bei Vorsehen der Sensoreinheiten 204, 224 und 244 die Möglichkeit besteht, die Lichtleistung während eines wesentlichen Teils des Verlaufs des jeweiligen Belichtungsstrahls BS durch die Strahlführung 52 zu erfassen und dabei ebenfalls beispielsweise Störungen bei der Führung des Belichtungsstrahls BS zu erfassen. Each of the sensor units 204 . 224 or 244 is with the exposure test unit 180 coupled, so that when providing the sensor units 204 . 224 and 244 the possibility exists, the light output during a substantial part of the course of the respective exposure beam BS through the beam guide 52 to detect and also, for example, to detect disturbances in the management of the exposure beam BS.

Alternativ dazu können einzelne oder mehrere der Sensoreinheiten 204, 224, 244 anstelle des Belichtungsprüffeldes 182 eingesetzt werden, um die Existenz des Belichtungsstrahls BS überhaupt zu erfassen. Alternatively, one or more of the sensor units 204 . 224 . 244 instead of the exposure test field 182 can be used to detect the existence of the exposure beam BS at all.

Alternativ zum Erfassen der bloßen Existenz der Lichtleistung besteht, wie in 16 anhand eines Balkendiagrams dargestellt, die Möglichkeit, die Lichtleistung LL quantitativ zu erfassen und den erfassten Wert mit einem Schwellwert SW zu vergleichen. Alternatively, for detecting the mere existence of the light output, as in 16 illustrated by a bar chart, the ability to quantitatively detect the light output LL and to compare the detected value with a threshold SW.

In diesem Fall kann beispielsweise entschieden werden, ob die Lichtleistung LL Oberhalb des Schwellwerts SW liegt und somit beispielsweise in der Lage ist, in dem jeweiligen Belichtungsfleck 42 in der fotosensitiven Schicht 24 die fotochemische Umwandlung zu bewirken oder für die fotochemische Umwandlung innerhalb des Belichtungsflecks 42 nicht ausreichend ist. In this case, it can be decided, for example, whether the light output LL is above the threshold value SW and thus, for example, is capable of being in the respective exposure spot 42 in the photosensitive layer 24 to effect the photochemical conversion or for photochemical conversion within the exposure spot 42 is not enough.

Bei einem derartigen quantitativen Erfassen der Lichtleistung LL und einem Vergleich der Lichtleistung LL mit dem Schwellenwert SW besteht somit die Möglichkeit, zuverlässig zu überprüfen, ob jeder der Belichtungsstrahlen BS in der Lage ist, mit innerhalb des Belichtungsflecks 42, mit der erforderlichen Lichtleistung die fotochemische Umwandlung zu bewirken. With such quantitative detection of the light power LL and comparison of the light power LL with the threshold SW, it is therefore possible to reliably check whether each of the exposure beams BS is capable of being within the exposure spot 42 to effect the photochemical conversion with the required light output.

Eine weitere vorteilhafte Ergänzung oder Alternative sieht vor, dass ein Vergleich der Quantitativen Erfassung der Lichtleistung LL mit dem Schwellwert SW dahingehend erfolgt, dass die Belichtungsprüfeinheit 180 ein Lichtsteuersignal LS für die Steuereinheit 140 erzeugt, welches für jeden einzelnen Belichtungsstrahl BS ein Maß für die Abweichung vom Schwellwert SW angibt, so das die Möglichkeit besteht, mit der Steuereinheit 140 durch geeignete Ansteuerung der einzelnen Strahlungsquellen 152 die Lichtleistung jedes einzelnen Belichtungsstrahls BS derart zu steuern, dass dieser möglichst nahe am Schwellwert SW liegt, so dass jeder einzelne Belichtungsstrahl BS in dem von diesem erzeugten Belichtungsfleck 42 bis auf eine vorgesehene Toleranzabweichung dieselbe Lichtleistung zum Auslösen der fotochemischen Umwandlung in der fotosensitiven Schicht 24 erzeugt. A further advantageous supplement or alternative provides that a comparison of the quantitative detection of the light output LL with the threshold value SW takes place in such a way that the exposure test unit 180 a light control signal LS for the control unit 140 generates, which for each individual exposure beam BS indicates a measure of the deviation from the threshold SW, so that there is the possibility with the control unit 140 by suitable control of the individual radiation sources 152 To control the light output of each individual exposure beam BS so that it is as close as possible to the threshold SW, so that each individual exposure beam BS in the exposure spot generated by this 42 with the exception of an intended tolerance deviation, the same light output for triggering the photochemical conversion in the photosensitive layer 24 generated.

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

DE 102006059818 A1 [0002]

Claims

Exposure system for producing exposed structures ( 26 ) in one on one object ( 22 ) arranged photosensitive layer ( 24 ), comprising an exposure device ( 30 ), with the exposure device ( 30 ) Exposure spots ( 42 ) position-controlled on the photosensitive layer ( 24 ), wherein the exposure device comprises at least one exposure unit (8) generating a plurality of exposure beams (BS) 30 ), with each exposure beam (BS) exposure spots ( 42 ) can be generated, characterized in that the light output of all the exposure beams (BS) by at least one each exposure beam (BS) associated sensor area ( 188 . 208 . 228 . 248 ) from an exposure test unit ( 180 ) is detectable.

Exposure system according to Claim 1, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) generates an error signal (FS) in the absence of light power in one of the exposure beams (BS).

Exposure system according to claim 2, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) generates an optical and / or acoustic signal when the error signal (FS) is present.

Exposure system according to Claim 2 or 3, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) with a control unit ( 140 ) is coupled to the exposure system and that in the presence of the error signal (FS), the control unit ( 140 ) prevents another exposure process.

Exposure system according to the preamble of claim 1 or any one of the preceding claims, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) quantifies the light output of the individual exposure beams (BS).

Exposure plant according to Claim 5, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) compares the quantitatively detected light output of the individual exposure beams (BS) with at least one threshold value (SW) and in particular generates the error signal (FS) when the threshold value (SW) is undershot.

Exposure system according to Claim 5 or 6, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) quantifies a deviation from the threshold value (SW).

Exposure system according to one of Claims 5 to 7, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) with the control unit ( 140 ) cooperates and according to the quantitatively detected light output of the radiation generating unit ( 150 ) generates a drive signal for adjusting the intensity of the light output of the individual exposure beams (BS).

Exposure system according to the preamble of claim 1 or any one of the preceding claims, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) before performing an exposure of the photosensitive layer ( 24 ) detects the light output of each individual exposure beam (BS).

Exposure system according to the preamble of claim 1 or any one of the preceding claims, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) and a control unit ( 140 ) before one of the exposures of the object ( 22 ) set the light output of each exposure beam (BS) to a predeterminable value.

Exposure system according to one of the preceding claims, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) a maximum value of the light output during the exposure process of the respective exposure spot ( 42 ) detected.

Exposure system according to the preamble of claim 1 or according to one of the preceding claims, characterized in that each one of the exposure beams (BS) associated sensor area ( 188 ) at least at the location of one of the deflection ( 74 ) producible plurality of successive exposure spot positions ( 90 ) and detects only the light output of this one exposure beam (BS).

Exposure system according to the preamble of claim 1 or according to one of the preceding claims, characterized in that each one of the exposure beams (BS) associated sensor area ( 188 ) the light power at at least one of the exposure spots (BS) generated by this exposure beam ( 42 ) detected.

Exposure system according to Claim 12 or 13, characterized in that each sensor region assigned to one of the exposure beams (BS) ( 188 ) to a part of the exposure spot positions along a deflection line (AS) ( 90 ) exposure spots ( 42 ) detected.

Exposure plant according to one of Claims 12 to 14, characterized in that each sensor area assigned to one of the exposure beams (BS) ( 188 ) along the deflection line (AS) only exposure spots ( 42 ) of exposure spot positions ( 90 ) located between end exposure spot positions of this deflection path (AS).

Exposure system according to the preamble of claim 1 or any one of the preceding claims, characterized in that the sensor regions ( 188 ) are arranged in a surface pattern.

Exposure system according to claim 16, characterized in that the sensor areas ( 188 ) are arranged offset relative to each other.

Exposure system according to claim 16 or 17, characterized in that the sensor areas ( 188 ) with a feed direction ( 16 ) facing component are arranged offset relative to each other.

Exposure according to the preamble of claim 1 or according to one of the preceding claims, characterized in that the respective sensor area ( 208 . 228 . 248 ) detects the light output of a decoupled portion of the respective exposure beam (BS).

Exposure system according to claim 19, characterized in that the decoupling of the portion of the respective exposure beam (BS) on a deflection unit ( 62 ) of the beam guide ( 52 ) he follows.

Exposure system according to claim 20, characterized in that the deflection unit ( 62 ) a partially transparent mirror surface ( 63 ) having.

Exposure system according to one of the preceding claims, characterized in that the respective sensor region ( 228 ) detects a portion of the respective exposure beam (BS) decoupled by reflection.

Exposure plant according to Claim 22, characterized in that the coupling-out of the portion of the respective exposure beam (BS) by reflection on a surface of an element ( 58 ) of the beam guide ( 52 ) he follows.

Exposure system according to one of the preceding claims, characterized in that the respective sensor region ( 208 ) detects a portion of the respective exposure beam (BS) decoupled by scattering.

Exposure system according to one of the preceding claims, characterized in that each exposure beam (BS) has its own sensor unit ( 182 ) with a sensor area ( 188 ) assigned.

Method for producing exposed structures ( 26 ) in one on one object ( 22 ) arranged photosensitive layer ( 24 ) by means of an exposure system comprising an exposure device ( 30 ), with the exposure device ( 30 ) Exposure spots ( 42 ) position-controlled on the photosensitive layer ( 24 ), wherein the exposure device comprises at least one exposure unit (A) generating a plurality of exposure beams (BS) 30 ), with each exposure beam (BS) exposure spots ( 42 ) can be generated by activating the respective exposure beam when the respective exposure spot position is reached, characterized in that the light output of all the exposure beams (BS) is determined by at least one sensor area (BS) associated with each exposure beam (BS). 188 . 208 . 228 . 248 ) from an exposure test unit ( 180 ) is detected.

Method according to claim 26, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) generates an error signal (FS) in the absence of light power in one of the exposure beams (BS).

Method according to claim 27, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) generates an optical and / or acoustic signal when the error signal (FS) is present.

Method according to claim 27 or 28, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) with a control unit ( 140 ) is coupled to the exposure system and that in the presence of the error signal (FS) another exposure process is prevented.

Method according to the preamble of claim 26 or any one of claims 26 to 29, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) quantifies the light output of the individual exposure beams (BS).

Method according to claim 30, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) compares the quantitatively detected light output of the individual exposure beams (BS) with at least one threshold value (SW) and in particular generates the error signal (FS) when the threshold value (SW) is undershot.

Method according to claim 30 or 31, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) quantifies a deviation from the threshold value (SW).

Method according to one of claims 30 to 32, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) according to the quantitatively detected light output of the radiation generation unit ( 150 ) generates a drive signal for adjusting the intensity of the light output of the individual exposure beams (BS).

Method according to the preamble of claim 26 or according to one of the preceding claims, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) before performing an exposure of the photosensitive layer ( 24 ) detects the light output of each individual exposure beam (BS).

Method according to one of the preceding claims, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) a maximum value of the light output during the exposure process of the respective exposure spot ( 42 ) detected.

Method according to the preamble of claim 26 or according to one of claims 26 to 35, characterized in that the exposure test unit ( 180 ) and a control unit ( 140 ) before one of the exposures of the object ( 22 ) set the light output of each exposure beam (BS) to a predeterminable value.

Method according to the preamble of claim 26 or according to one of claims 26 to 36, characterized in that each of the exposure areas (BS) associated sensor area ( 188 ) at least at the location of one of the deflection ( 74 ) producible plurality of successive exposure spot positions ( 90 ) and detects only the light output of this one exposure beam (BS).

Method according to one of Claims 26 to 37, characterized in that each sensor area assigned to one of the exposure beams (BS) ( 188 ) the light power at at least one of the exposure spots (BS) generated by this exposure beam ( 42 ) detected.

Method according to the preamble of claim 26 or according to one of claims 26 to 38, characterized in that the respective sensor area ( 208 . 228 . 248 ) detects the light output of a decoupled defined portion of the respective exposure beam (BS).

Method according to one of claims 26 to 39, characterized in that the respective sensor area ( 228 ) detects a portion of the respective exposure beam (BS) decoupled by reflection.

Method according to one of claims 26 to 40, characterized in that the respective sensor area ( 208 ) detects a defined portion of the respective exposure beam (BS) decoupled by scattering.