DE102013218322B4 - Evaporator body for a PVD coating system and a method for providing such an evaporator body - Google Patents
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Abstract
Verdampferkörper (2) für eine PVD-Beschichtungsanlage mit einem Grundkörper (4), der eine Verdampferfläche (6) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass auf die Verdampferfläche (6) eine Schicht (16) enthaltend einen ersten Reaktanten sowie einen zweiten Reaktanten aufgebracht ist und die beiden Reaktanten bei einer Erwärmung chemisch miteinander reagieren und unabhängig von dem Material des Grundkörpers (4) eine Benetzungsschicht (12) ausbilden.Evaporator body (2) for a PVD coating system with a base body (4) which has an evaporator surface (6), characterized in that a layer (16) containing a first reactant and a second reactant is applied to the evaporator surface (6) and the two reactants react chemically with one another when heated and form a wetting layer (12) regardless of the material of the base body (4).
Description
Hintergrund der ErfindungBackground of the invention
Die Erfindung betrifft einen Verdampferkörper für eine PVD-Beschichtungsanlage mit einem Grundkörper, der eine Verdampferfläche aufweist. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zum Bereitstellen eines derartigen Verdampferkörpers für eine PVD-Beschichtungsanlage.The invention relates to an evaporator body for a PVD coating system with a base body which has an evaporator surface. The invention also relates to a method for providing such an evaporator body for a PVD coating system.
Ein derartiger Verdampferkörper und ein derartiges Verfahren sind beispielsweise aus der
Ein derartiger Verdampferkörper wird in einer sogenannten Vakuum-Metallisierungsanlage gemäß der PVD-Technik (physical vapor deposition) eingesetzt. Die Beschichtungsanlage dient zum Beschichten insbesondere von flexiblen Substraten typischerweise mit Metallen, insbesondere mit Aluminium. Als Substrate werden hierbei häufig Folien, insbesondere Kunststofffolien eingesetzt. Das Beschichtungsmaterial, insbesondere Aluminium wird kontinuierlich dem erhitzten Verdampferkörper zugeführt und verdampft im Vakuum auf einer Verdampferfläche des Verdampferkörpers.Such an evaporator body is used in a so-called vacuum metallization system based on PVD (physical vapor deposition) technology. The coating system is used to coat flexible substrates, in particular, typically with metals, in particular with aluminum. Films, in particular plastic films, are often used as substrates here. The coating material, in particular aluminum, is continuously fed to the heated evaporator body and evaporates in a vacuum on an evaporator surface of the evaporator body.
Bei dem Verdampferkörper handelt es sich um einen Keramikkörper, der als Hauptkomponenten Titandiborid und Bornitrid enthält und welcher durch eine geeignete Mischung dieser beiden Materialien auf einen spezifischen elektrischen Widerstand von beispielsweise 600 bis 6000 µΩ*cm eingestellt wird. Die beiden Komponenten Titandiborid und Bornitrid liegen dabei typischerweise etwa gleich verteilt mit jeweils etwa 50 Gew.-% (plus, minus 5 Gew.-%) vor. Zum Beheizen des Verdampferkörpers wird üblicherweise dieser von einem Heizstrom durchflossen.The evaporator body is a ceramic body which contains titanium diboride and boron nitride as main components and which is adjusted to a specific electrical resistance of, for example, 600 to 6000 μΩ * cm by a suitable mixture of these two materials. The two components, titanium diboride and boron nitride, are typically distributed approximately equally, each with about 50% by weight (plus, minus 5% by weight). To heat the evaporator body, a heating current usually flows through it.
Für ein kontinuierliches Beschichten mit möglichst hoher Prozessgeschwindigkeit ist die Einstellung der Verdampfungsparameter von entscheidender Bedeutung. Besonders wichtig ist hierbei, dass die Verdampferfläche des Verdampferkörpers möglichst homogen und vollständig mit dem zu verdampfenden Material, insbesondere Aluminium benetzt wird.The setting of the evaporation parameters is of crucial importance for continuous coating at the highest possible process speed. It is particularly important here that the evaporator surface of the evaporator body is wetted as homogeneously and completely as possible with the material to be evaporated, in particular aluminum.
Zur Verbesserung der Benetzung der Verdampferfläche sind aus dem Stand der Technik bereits unterschiedliche Maßnahmen bekannt. So ist aus der
In ähnlicher Weise ist aus der
Aus der
Aufgabe der ErfindungObject of the invention
Ausgehend hiervon liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, einen hinsichtlich des Benetzungsverhaltens von Aluminium verbesserten Verdampferkörper zu ermöglichen.Proceeding from this, the invention is based on the object of making possible an evaporator body which is improved with regard to the wetting behavior of aluminum.
Lösung der AufgabeSolution of the task
Die Aufgabe wird gemäß der Erfindung gelöst durch einen Verdampferkörper mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie des Anspruchs 10 und durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 11.The object is achieved according to the invention by an evaporator body having the features of claim 1 and claim 10 and by a method having the features of claim 11.
Der Verdampferkörper ist insbesondere für eine PVD-Beschichtungsanlage ausgebildet und weist einen Grundkörper mit einer Verdampferfläche auf, auf die im Betrieb das zu verdampfende Metall, insbesondere Aluminium aufgebracht wird. Bei dem Grundkörper handelt es sich dabei insbesondere um einen heißgepressten keramischen Grundkörper mit den Hauptkomponenten Titandiborid und Bornitrid mit Gewichtsanteilen von jeweils etwa 50% (plus, minus 5 Gew.-%). Erfindungsgemäß ist nunmehr vorgesehen, dass auf die Verdampferfläche eine Schicht enthaltend einen ersten Reaktanten sowie einen zweiten Reaktanten aufgebracht ist, wobei die beiden Reaktanten bei einer Erwärmung des Grundkörpers bevorzugt bei der Erstinbetriebnahme eine Benetzungsschicht ausbilden.The evaporator body is designed in particular for a PVD coating system and has a base body with an evaporator surface to which the metal to be evaporated, in particular aluminum, is applied during operation. The base body is in particular a hot-pressed ceramic base body with the main components titanium diboride and boron nitride with proportions by weight of approximately 50% each (plus, minus 5% by weight). According to the invention, it is now provided that a layer containing a first reactant and a second reactant is applied to the evaporator surface, the two reactants forming a wetting layer when the base body is heated, preferably during initial start-up.
Unter Reaktant wird hierbei eine Materialkomponente verstanden, welche beim Aufheizvorgang mit dem anderen Reaktanten eine Verbindung zur Ausbildung der Benetzungsschicht eingeht. Es werden daher auf die Verdampferfläche zwei derartige Ausgangskomponenten als Reaktanten aufgebracht, welche erst bei Erhitzen des Verdampferkörpers insbesondere bei Temperaturen über 1000°C sich miteinander zur Ausbildung der Benetzungsschicht verbinden. Der besondere Vorteil hierbei ist darin zu sehen, dass durch die Wahl der Reaktanten eine spezifische, geeignete Benetzungsschicht ausgebildet werden kann, die insbesondere unabhängig ist von dem Material des Grundkörpers, wie dies im Stand der Technik der Fall ist. Im Stand der Technik gemäß der
Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung handelt es sich bei dem ersten Reaktanten um Titandihydrid, welches insbesondere pulverförmig in der Schicht vorliegt. Die Pulverpartikel des Titandihydrids haben dabei eine Korngröße von bevorzugt < 0,05 mm.According to a preferred development, the first reactant is titanium dihydride, which is present in the layer in particular in powder form. The powder particles of the titanium dihydride have a grain size of preferably <0.05 mm.
Ergänzend handelt es sich bei dem zweiten Reaktanten vorzugsweise um Aluminium oder auch um eine aluminiumhaltige Substanz. Vorzugsweise wird als zweiter Reaktant jedoch möglichst reines Aluminiummetall in Pulverform beigemischt. Auch hier liegen die Korngrössen der Pulverpartikel vorzugsweise bei unter 0,05 mm.In addition, the second reactant is preferably aluminum or an aluminum-containing substance. However, preferably pure aluminum metal in powder form is added as the second reactant. Here, too, the grain sizes of the powder particles are preferably below 0.05 mm.
Bei Erwärmung des Verdampferkörpers bildet sich aus Titandihydrid und dem Aluminium in zweckdienlicher Weiterbildung eine Aluminium-Titan Verbindung, welche die Benetzungsschicht bildet. Untersuchungen haben gezeigt, dass insbesondere Aluminium als das zu verdampfende Material bei einer derartigen Aluminium-Titan Benetzungsschicht ein gutes Benetzungsverhalten zeigt.When the evaporator body is heated, an aluminum-titanium compound is formed from the titanium dihydride and the aluminum, which forms the wetting layer. Investigations have shown that aluminum, in particular, as the material to be evaporated, shows good wetting behavior in such an aluminum-titanium wetting layer.
Zweckdienlicherweise wird bei der Erwärmung eine Titanaluminid-Legierungsschicht ausgebildet, also eine metallische, nicht oxidische Schicht, insbesondere AL3Ti.A titanium aluminide alloy layer is expediently formed during the heating, that is to say a metallic, non-oxidic layer, in particular AL 3 Ti.
Zur Aufbringung der Schicht enthaltend die beiden Reaktanten stehen prinzipiell unterschiedliche Möglichkeiten zur Verfügung. Vorzugsweise wird eine Suspension enthaltend die beiden Reaktanten auf die Verdampferfläche aufgebracht. Die Schichtdicke der Suspension beträgt dabei beispielsweise maximal etwa 0,1 bis 0,2 mm. Die Suspension ist dabei vergleichsweise dünnflüssig und weist beispielsweise eine Konsistenz ähnlich wie Wasser auf. In bevorzugter Ausgestaltung wird dabei die Suspension durch ein Druckverfahren, insbesondere durch das sogenannte Tampon-Druckverfahren auf die Verdampferfläche aufgedruckt. Dadurch ist eine homogene Beschichtung der Verdampferfläche möglich.In principle, different options are available for applying the layer containing the two reactants. A suspension containing the two reactants is preferably applied to the evaporator surface. The layer thickness of the suspension is, for example, a maximum of about 0.1 to 0.2 mm. The suspension is comparatively thin and has a consistency similar to water, for example. In a preferred embodiment, the suspension is printed onto the evaporator surface by a printing process, in particular by the so-called tampon printing process. This enables a homogeneous coating of the evaporator surface.
Um eine geeignete Titan-Aluminium-Benetzungsschicht auszubilden liegt der Anteil des Titandihydrids in der Suspension dabei vorzugsweise etwa zwischen 2 und 10 Gew.-% und vorzugsweise bei etwa 4 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Suspension.In order to form a suitable titanium-aluminum wetting layer, the proportion of titanium dihydride in the suspension is preferably between about 2 and 10% by weight and preferably about 4% by weight, based on the total weight of the suspension.
Parallel hierzu liegt der Anteil des Aluminiums in der Suspension etwa bei 6 bis 30 Gew.-% und insbesondere bei etwa 12 Gew.-%. Mit diesen Gewichtsanteilen ist zum Einen eine ausreichend homogene Ausbildung der Schicht mit den Reaktanten gewährleistet und gleichzeitig ist die Ausbildung einer ausreichend homogenen Benetzungsschicht sichergestellt.In parallel to this, the proportion of aluminum in the suspension is approximately 6 to 30% by weight and in particular approximately 12% by weight. With these proportions by weight, on the one hand, a sufficiently homogeneous formation of the layer with the reactants is ensured and, at the same time, the formation of a sufficiently homogeneous wetting layer is ensured.
Die Suspension enthält vorzugsweise als flüssiges Suspensions- oder Trägermittel einen Kunststofflack, insbesondere einen PVC-Lack. Durch diesen ist ein gutes Anhaften der Suspension auf der Verdampferoberfläche gewährleistet. Beim Erhitzen verdampft bzw. zersetzt sich dieser Lack und es verbleiben die Reaktanten, die die Benetzungsschicht ausbilden. Weitere Rückstände verbleiben vorzugsweise nicht.The suspension preferably contains a plastic lacquer, in particular a PVC lacquer, as the liquid suspension or carrier medium. This ensures that the suspension adheres well to the surface of the evaporator. When heated, this lacquer evaporates or decomposes and the reactants that form the wetting layer remain. Further residues preferably do not remain.
Die Benetzungsschicht wird in bevorzugter Ausgestaltung bei der Erstinbetriebnahme, also beim erstmaligen Einsatz des Verdampferkörpers in einer Metallisierungsanlage beim Aufheizen des Verdampferkörpers erzeugt. Der Verdampferkörper mit der Suspensions-Schicht wird daher herstellerseitig bereitgestellt und an den Kunden ausgeliefert. Beim Betrieb in der Metallisierungsanlage wird ein derartiger Verdampferkörper typischerweise auf 1400 bis 1700°C erhitzt. Bevor der Verdampferkörper seine Endtemperatur von zumindest 1400°C erreicht, ist bereits das Träger- oder Suspensionsmittel verdampft bzw. zersetzt und die Reaktanten haben typischerweise bereits die gewünschte Benetzungsschicht ausgebildet. Der Verdampferkörper wird daher kontinuierlich ohne zwischenzeitige Abkühlung erwärmt, bevor dann das zu verdampfende Material, insbesondere Aluminium zugeführt wird. Alternativ hierzu besteht grundsätzlich auch die Möglichkeit, die Benetzungsschicht durch Erwärmen bereits herstellerseitig auszubilden. Dies ist jedoch mit einer Belastung und Verschleiß des Verbraucherkörpers sowie mit einem hohen Energieeinsatz verbunden.In a preferred embodiment, the wetting layer is generated when the evaporator body is first started up, that is to say when the evaporator body is used for the first time in a metallization system when the evaporator body is heated. The evaporator body with the suspension layer is therefore provided by the manufacturer and delivered to the customer. During operation in the metallization plant, such an evaporator body is typically heated to 1400 to 1700 ° C. Before the evaporator body reaches its final temperature of at least 1400 ° C., the carrier or suspension medium has already evaporated or decomposed and the reactants have typically already formed the desired wetting layer. The evaporator body is therefore heated continuously without intermediate cooling before the material to be evaporated, in particular aluminum, is then supplied. As an alternative to this, there is basically also the possibility of forming the wetting layer by the manufacturer by heating. However, this is associated with a load and wear and tear on the consumer body and with a high consumption of energy.
Beschreibung der FigurenDescription of the figures
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend anhand der einzigen Figuren näher erläutert. Diese zeigt in einer schematischen Darstellung einen Schnitt durch einen Verdampferkörper einer PVD-Beschichtungsanlage.An exemplary embodiment of the invention is explained in more detail below with reference to the single figures. This shows a schematic representation of a section through an evaporator body of a PVD coating system.
Beschreibung des AusführungsbeispielsDescription of the embodiment
Der in der Figur dargestellte Verdampferkörper
Der Boden der Kavität
Im Betrieb wird Aluminium beispielsweise als Stab der Verdampferfläche
Die Benetzungsschicht
Beim Erwärmen des Verdampferkörpers
Die Benetzungsschicht
Die derart gebildete Benetzungsschicht
Claims (13)
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Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2756166A (en) | 1951-01-27 | 1956-07-24 | Continental Can Co | Vacuum metallizing and apparatus therefor |
US3730507A (en) | 1971-01-18 | 1973-05-01 | Union Carbide Corp | Boron nitride base evaporation vessel having a surface coating of titanium-silicon thereon |
US4810531A (en) | 1984-10-13 | 1989-03-07 | Metal Box Plc | Vapor deposition of tin |
DE102005030862B4 (en) | 2005-07-01 | 2009-12-24 | Sintec Keramik Gmbh | First wetting auxiliary material for an evaporator body, its use for preparing the evaporator surface of an evaporator body and an electrically heatable ceramic evaporator body |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4884788A (en) * | 1988-04-12 | 1989-12-05 | Union Carbide Corporation | Boron nitride containing vessel having a surface coating of titanium iron-silicon thereon |
WO2007003428A1 (en) * | 2005-07-05 | 2007-01-11 | Helsa-Automotive Gmbh & Co. Kg | POROUS ß-SIC-CONTAINING CERAMIC MOLDED ARTICLE COMPRISING AN ALUMINUM OXIDE COATING, AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
DE102008016619B3 (en) * | 2008-04-01 | 2009-11-05 | Kennametal Sintec Keramik Gmbh | evaporator body |
-
2013
- 2013-09-12 DE DE102013218322.4A patent/DE102013218322B4/en active Active
-
2014
- 2014-08-22 WO PCT/EP2014/067921 patent/WO2015036223A1/en active Application Filing
- 2014-08-22 CN CN201480050210.XA patent/CN105555993B/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2756166A (en) | 1951-01-27 | 1956-07-24 | Continental Can Co | Vacuum metallizing and apparatus therefor |
US3730507A (en) | 1971-01-18 | 1973-05-01 | Union Carbide Corp | Boron nitride base evaporation vessel having a surface coating of titanium-silicon thereon |
US4810531A (en) | 1984-10-13 | 1989-03-07 | Metal Box Plc | Vapor deposition of tin |
DE102005030862B4 (en) | 2005-07-01 | 2009-12-24 | Sintec Keramik Gmbh | First wetting auxiliary material for an evaporator body, its use for preparing the evaporator surface of an evaporator body and an electrically heatable ceramic evaporator body |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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