DE102013209009B3 - Strip substrate processing system comprises conditioning chamber, rotary drum in chamber having cylindrical surface area for guiding strip substrate by partial circumference around the circumferential surface, and a coating device - Google Patents
Strip substrate processing system comprises conditioning chamber, rotary drum in chamber having cylindrical surface area for guiding strip substrate by partial circumference around the circumferential surface, and a coating device Download PDFInfo
- Publication number
- DE102013209009B3 DE102013209009B3 DE201310209009 DE102013209009A DE102013209009B3 DE 102013209009 B3 DE102013209009 B3 DE 102013209009B3 DE 201310209009 DE201310209009 DE 201310209009 DE 102013209009 A DE102013209009 A DE 102013209009A DE 102013209009 B3 DE102013209009 B3 DE 102013209009B3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- drum
- coating
- lateral surface
- frame panel
- substrate treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
Abstract
Description
Die Erfindung betrifft eine Bandsubstratbehandlungsanlage gemäß Oberbegriff von Patentanspruch 1. The invention relates to a belt substrate treatment plant according to the preamble of claim 1.
Bekannte Vakuumbeschichtungsanlagen zum Beschichten von bandförmigem Material in Prozesskammern umfassen in einer ersten evakuierbaren Haspelkammer eine Abwickeleinrichtung mit einem eingesetzten Abwickel des zu beschichtenden bandförmigen Materials, der in einem ersten Walzenstuhl angeordnet ist, und in einer zweiten evakuierbaren Haspelkammer eine Aufwickeleinrichtung mit einem herausnehmbaren Aufwickel des beschichteten Materials, der in einem zweiten Walzenstuhl angeordnet ist. Zwischen den Haspelkammern durchläuft das zu beschichtende bandförmige Material mindestens eine evakuierbare Prozesskammer, wobei in jeder Prozesskammer ein Prozesswalzenstuhl mit Führungseinrichtungen für das bandförmige Material und eine Kühlwalze angeordnet ist, über deren Oberfläche sich mindestens eine Magnetronsputterquelle befindet. Known vacuum coating systems for coating strip-shaped material in process chambers comprise in a first evacuated bobbin an unwinding device with an inserted unwinding of the strip material to be coated, which is arranged in a first roll mill, and in a second evacuated bobbin reel with a removable winding of the coated material which is arranged in a second roll mill. Between the reel chambers to be coated band-shaped material passes through at least one evacuated process chamber, wherein in each process chamber, a process roller chair with guide means for the band-shaped material and a cooling roller is arranged, over the surface of which is at least one Magnetronsputterquelle.
Bei anderen bekannten Bandbeschichtungsanlagen sind Abwickel und Aufwickel innerhalb der Prozesskammer angeordnet, mit dem Vorteil, dass keine separaten Haspelkammern benötigt werden, aber mit dem Nachteil, dass ein Austausch der Haspeln nicht ohne Belüftung der gesamten Prozesskammer möglich ist. Auch dieser Anlagentyp kann durch die hierin beschriebene Erfindung vorteilhaft verbessert werden. In other known coil coating systems unwinding and winding are arranged within the process chamber, with the advantage that no separate reel chambers are needed, but with the disadvantage that a replacement of the reels is not possible without ventilation of the entire process chamber. Also, this type of equipment can be advantageously improved by the invention described herein.
Aus der
Abwickel und Aufwickel befinden sich in Haspelkammern. Das zu beschichtende Material wird in der ersten Haspelkammer vom Abwickel abgerollt, dem Beschichtungsprozess zugeführt und anschließend in der zweiten Haspelkammer aufgewickelt. Unwind and take-up are located in reel chambers. The material to be coated is unrolled in the first reel chamber from the unwind, fed to the coating process and then wound up in the second coiler chamber.
Für die Beschichtung des bandförmigen Materials können beispielsweise Magnetronsputterquellen, aber auch andere Beschichtungsquellen wie beispielsweise thermische Verdampfer mit Dampfverteilerrohren, verwendet werden, die relativ zur jeweiligen Kühlwalze verstellbar angeordnet sind, dass ihre Mittellängslinie zur Mittelachse ihrer zugehörigen Kühlwalze achsenparallel justierbar ist. For example, magnetron sputtering sources, but also other coating sources such as, for example, thermal evaporators with steam distribution tubes can be used for the coating of the strip-shaped material, which are adjustably arranged relative to the respective cooling roller, so that their central longitudinal line to the central axis of their associated cooling roller can be adjusted parallel to the axis.
Aus
Es hat sich in der Praxis gezeigt, dass eine rein achsenparallele Verschiebung der Anordnung von üblicherweise mehreren, entlang der Peripherie der Oberfläche der Kühlwalze mit einem geringen Spalt angeordneten Magnetronsputterquellen schwierig zu realisieren ist, ohne dass es zu Berührungen zwischen der Anordnung und der Kühlwalze kommt. It has been found in practice that a purely axis-parallel displacement of the arrangement of usually several arranged along the periphery of the surface of the cooling roller with a small gap Magnetronsputterquellen is difficult to implement without causing contact between the assembly and the cooling roller.
Deshalb wurden in der Vergangenheit auch Mehrfachbeschichtungseinrichtungen mit einer Kühlwalze und einer Anordnung von Beschichtungsquellen entlang der Peripherie der Kühlwalze verwendet, die dieses Problem zu umgehen suchen. Dazu sind diese Anordnungen in mehrere, meist drei Teilanordnungen von Beschichtungsquellen unterteilt, die jeweils einen Teilumfang der Kühlwalze von nicht mehr als 180° umfassen und die untereinander schwenkbar verbunden sind. Therefore, in the past, multiple coating devices having a chill roll and an array of coating sources along the periphery of the chill roll have been used which seek to circumvent this problem. For this purpose, these arrangements are divided into several, usually three sub-assemblies of coating sources, each comprising a partial circumference of the cooling roller of not more than 180 ° and which are pivotally connected to each other.
Bei einer Kühlwalze mit horizontal ausgerichteter Achse sind beispielsweise Beschichtungsquellen auf den Positionen 2 Uhr, 4 Uhr, 6 Uhr, 8 Uhr und 10 Uhr angeordnet, wobei analog zu einem Zifferblatt die 6-Uhr-Position dem tiefsten Punkt der Peripherie der Kühlwalze entspricht. For example, in a chill roll with a horizontally aligned axis, coating sources are located at the 2 o'clock, 4 o'clock, 6 o'clock, 8 o'clock, and 10 o'clock positions, with the 6 o'clock position corresponding to the lowest point of the periphery of the chill roll analogous to a dial.
Die physikalisch notwendige Distanz der Beschichtungsquellen zur Kühlwalze beträgt dabei im Beschichtungsbetrieb wenige Millimeter, beispielsweise 2 bis 3 mm wegen der notwendigen Druckseparation. Eine bekannte Mehrfachbeschichtungseinrichtung zur Oberflächenbeschichtung eines Bandsubstrats umfasst eine Kühlwalze mit einer zylindrischen Mantelfläche zur kühlenden Führung des Bandsubstrats um einen mehr als 180° umfassenden Teilumfang der Mantelfläche herum sowie eine über einen mehr als 180° umfassenden Teilumfang der Mantelfläche verteilte Anordnung von Beschichtungsquellen mit jeweils einer auf die Mantelfläche gerichteten Beschichtungsrichtung, wobei die Anordnung von Beschichtungsquellen in zwei durch eine Trennebene getrennte Teilanordnungen aufgeteilt ist, die Beschichtungsquellen jeder Teilanordnung relativ zueinander ortsfest angeordnet sind und jede Teilanordnung einen Teilumfang der Mantelfläche der Kühlwalze von nicht mehr als 180° umschließt, wobei beide Teilanordnungen in einer Richtung senkrecht zur Trennebene von der Kühlwalze weg verschiebbar sind. The physically necessary distance of the coating sources to the cooling roller is in the coating operation a few millimeters, for example 2 to 3 mm because of the necessary pressure separation. A known multiple coating device for surface coating of a tape substrate comprises a cooling roller with a cylindrical surface for cooling the tape substrate around a more than 180 ° part circumference of the lateral surface around and a distributed over more than 180 ° part circumference of the lateral surface array of coating sources with one on each the coating surface facing the coating surface, wherein the arrangement of coating sources is divided into two sub-arrangements separated by a dividing plane, the coating sources of each sub-assembly are arranged stationary relative to each other and each subassembly encloses a partial circumference of the lateral surface of the cooling roller of not more than 180 °, wherein both sub-assemblies are displaceable away in a direction perpendicular to the parting plane of the cooling roller.
Mehrere Beschichtungseinrichtungen, die jeweils eine oder mehrere in einem gemeinsamen Gehäuse angeordnete Beschichtungsquellen aufweisen, können dabei in sogenannten Teilanordnungen, die auch als Compartment Units bezeichnet werden, fest miteinander verbunden sein. Die Beschichtungsquellen können beispielsweise drehbare Rohrmagnetrons sein. Several coating devices, each having one or more coating sources arranged in a common housing, can be firmly connected to one another in so-called subassemblies, which are also referred to as compartment units. The coating sources may be rotatable tubular magnetrons, for example.
Dabei ist es erforderlich, die radiale Entfernung der Beschichtungseinrichtungen zur Herstellung einer effektiven Druckseparation von zum Beispiel 1:100 bis 1:300 hochgenau einstellen zu können, so dass zwischen der Beschichtungseinrichtung und der Mantelfläche der Trommel, die beispielsweise als Heiz- oder Kühlwalze ausgeführt sein kann, ein Spalt verbleibt, der gerade zum Hindurchführen des Bandsubstrats ausreicht, ohne dass das Bandsubstrat an der Beschichtungseinrichtung schleift. Dieser Spalt wird einerseits durch die Mantelfläche der Trommel und andererseits durch eine Rahmenblende begrenzt, die am Gehäuse der Beschichtungseinrichtung befestigt ist und eine Öffnung aufweist, durch die das dampfförmige Beschichtungsmaterial von der Beschichtungsquelle zur Oberfläche des über die Trommel geführten Substrats gelangt. Der Form der zylindrischen Mantelfläche der Trommel folgend weist die Rahmenblende eine gebogene Form auf, so dass der Spalt an jeder Stelle gleich groß ist. It is necessary to be able to set the radial distance of the coating devices for producing an effective pressure separation of, for example, 1: 100 to 1: 300 with high precision, so that between the coating device and the lateral surface of the drum, which may be designed for example as a heating or cooling roller can remain, a gap which is just sufficient for passing the tape substrate without the tape substrate rubbing on the coating device. This gap is delimited on the one hand by the lateral surface of the drum and on the other by a frame stop which is fastened to the housing of the coating device and has an opening through which the vaporous coating material passes from the coating source to the surface of the substrate guided over the drum. Following the shape of the cylindrical surface of the drum, the frame plate has a curved shape, so that the gap is the same size at each point.
Dazu wird die Compartment Unit, ohne die Trommel zu berühren, aufwendig mechanisch fixiert. Schwingungen, die während des Betriebs der Bandsubstratbehandlungsanlage, namentlich der Trommel und der Bandsubstratbehandlungseinrichtung auftreten können, thermische Verwerfungen und Ausdehnungen kann diese Art des Positionierens jedoch nicht standhalten, wodurch es zu Berührungen zwischen dem Bandsubstrat und der Beschichtungseinrichtung, genauer deren Rahmenblende, kommen kann. In diesem Fall wird die abgeschiedene Schicht beschädigt und das Bandsubstrat muss verworfen werden. For this purpose, the Compartment Unit, without the drum to touch, consuming mechanically fixed. However, vibrations that may occur during operation of the belt substrate treatment equipment, namely the drum and the belt substrate treatment equipment, can not withstand this type of positioning, which may result in contact between the belt substrate and the coating equipment, more particularly its frame bezel. In this case, the deposited layer is damaged and the tape substrate must be discarded.
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die beschriebenen Nachteile bekannter Bandsubstratbehandlungsanlagen zu beseitigen und dadurch die Ausbeute an korrekt beschichtetem Bandsubstrat zu erhöhen. It is an object of the present invention to eliminate the described disadvantages of known tape substrate processing equipment and thereby increase the yield of correctly coated tape substrate.
Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Bandsubstratbehandlungsanlage mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1. Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbindungen sind in den abhängigen Ansprüchen beschrieben. This object is achieved by a belt substrate treatment system with the features of claim 1. Advantageous embodiments and further developments are described in the dependent claims.
Bei einer Bandsubstratbehandlungsanlage, die eine Anlagenkammer und in der Anlagenkammer mindestens eine drehbare Trommel mit einer zylindrischen Mantelfläche zur Führung des Bandsubstrats um mindestens einen Teilumfang der Mantelfläche herum, sowie mindestens eine Beschichtungseinrichtung umfasst, die mindestens eine in einem Gehäuse angeordnete Beschichtungsquelle mit einer auf die Mantelfläche der Trommel gerichteten Beschichtungsrichtung aufweist, wobei zwischen der mindestens einen Beschichtungsquelle und der Mantelfläche der Trommel am Gehäuse eine Rahmenblende mit einer Öffnung so angeordnet ist, dass das Beschichtungsmaterial von der Beschichtungsquelle durch die Öffnung auf das über die Mantelfläche geführte Bandsubstrat gelangt, wird vorgeschlagen, dass die Rahmenblende am Gehäuse in der radialen Richtung der Trommel beweglich angeordnet ist und an der Rahmenblende mindestens zwei in der axialen Richtung der Trommel beabstandete Distanzrollen angeordnet sind, deren Außenflächen durch Berührung der Mantelfläche der Trommel den Abstand der Rahmenblende von der Mantelfläche festlegen. In a belt substrate treatment plant comprising a plant chamber and in the plant chamber at least one rotatable drum with a cylindrical surface for guiding the tape substrate around at least a partial circumference of the lateral surface around, and at least one coating device, the at least one arranged in a housing coating source with a on the lateral surface the drum facing coating direction, wherein between the at least one coating source and the lateral surface of the drum on the housing, a frame aperture is arranged with an opening so that the coating material passes from the coating source through the opening on the guided over the lateral surface belt substrate, it is proposed that the frame panel is movably disposed on the housing in the radial direction of the drum and at least two spacer rollers spaced apart in the axial direction of the drum are disposed on the frame panel; In outer surfaces, contact the outer surface of the drum to set the distance between the frame and the outer surface.
Durch die relative Beweglichkeit der Rahmenblende bezüglich des Gehäuses sowie durch die axial zueinander beabstandeten Distanzrollen wird eine stets korrekte Einstellung des radialen Abstands der Rahmenblende zur Mantelfläche der Trommel über die gesamte Länge der Beschichtungseinrichtung in axialer Richtung der Trommel garantiert. Da sich die Trommel dreht, drehen sich auch die Distanzrollen, so dass zwischen den Distanzrollen und der Trommel keine Haftreibung auftritt, die den Prozess verunreinigen könnte. Due to the relative mobility of the frame panel with respect to the housing and by axially spaced apart spacer rollers always correct adjustment of the radial distance of the frame panel is guaranteed to the lateral surface of the drum over the entire length of the coating device in the axial direction of the drum. As the drum rotates, the spacer rollers also rotate, so there is no stiction between the spacer rollers and the drum that could contaminate the process.
Insbesondere bei Ausgestaltungen, bei denen die radiale Verschiebbarkeit der Rahmenblende deren einzigen Freiheitsgrad darstellt, ist die Anordnung von je einer Distanzrolle an jedem Ende der Beschichtungseinrichtung, also beispielsweise auf jeder Seite des vom Bandsubstrat bedeckten Bereichs der Mantelfläche der Trommel, ausreichend, um die Breite des Spalts zwischen Beschichtungseinrichtung und Trommel definiert einzustellen und zu gewährleisten. Um dies zu erreichen ist es sinnvoll, die Rahmenblende am Gehäuse in radialer Richtung der Trommel zwangszuführen. In particular, in embodiments in which the radial displaceability of the frame aperture represents their single degree of freedom, the arrangement of each a spacer roller at each end of the coating device, so for example on each side of the tape substrate covered area of the lateral surface of the drum, sufficient to the width of the Defines gap between coating device and drum defined and ensure. To achieve this, it makes sense to forcibly guide the frame panel on the housing in the radial direction of the drum.
In einer Ausgestaltung ist vorgesehen, dass die Rahmenblende am Gehäuse in radialer Richtung der Trommel federnd angeordnet ist. Dadurch können einerseits Toleranzen ausgeglichen werden und andererseits sichergestellt werden, dass der radiale Abstand der Rahmenblende zur Mantelfläche der Trommel stets korrekt ist, auch wenn sich Teile der Beschichtungseinrichtung oder/und die Trommel durch Wärmeeinwirkung ausdehnen. In one embodiment, it is provided that the frame panel is resiliently arranged on the housing in the radial direction of the drum. As a result, on the one hand tolerances can be compensated and on the other hand it can be ensured that the radial distance of the frame panel to the lateral surface of the drum is always correct, even if parts extend the coating device and / or the drum by the action of heat.
In einer anderen Ausgestaltung ist vorgesehen, dass die Distanzrollen außerhalb des vom Bandsubstrat bedeckten Bereichs der Mantelfläche der Trommel angeordnet sind. Dadurch wird eine Berührung des Bandsubstrats durch die Distanzrollen vermieden, so dass die auf dem Bandsubstrat abgeschiedene Schicht von Beschichtungsmaterial unberührt bleibt. In another embodiment, it is provided that the spacer rollers are arranged outside the region of the lateral surface of the drum covered by the tape substrate. Thereby, a contact of the tape substrate is avoided by the spacer rollers, so that the deposited on the tape substrate layer of coating material remains untouched.
In einer weiteren Ausgestaltung ist vorgesehen, dass auf jeder Seite des vom Bandsubstrat bedeckten Bereichs der Mantelfläche der Trommel mindestens zwei Distanzrollen angeordnet sind. Diese Ausgestaltung ist insbesondere dafür geeignet, ein unerwünschtes Kippen der Rahmenblende um eine parallel zur Achse der Trommel verlaufende Kippachse zu verhindern, falls die Rahmenblende in radialer Richtung nicht geführt wird. In a further embodiment it is provided that at least two spacer rollers are arranged on each side of the area covered by the tape substrate of the lateral surface of the drum. This embodiment is particularly suitable for preventing undesired tilting of the frame panel about a tilting axis extending parallel to the axis of the drum, if the frame panel is not guided in the radial direction.
Weiter kann vorgesehen sein, dass der Abstand der Rahmenblende zur Mantelfläche der Trommel im Betrieb der Bandsubstratbehandlungsanlage verstellbar ist. Es gibt Ausgestaltungen von in der Bandsubstratbehandlungsanlage durchführbaren Beschichtungsprozessen, bei denen das Bandsubstrat nicht nur in einer Vorwärtsrichtung, sondern auch entgegengesetzt dazu bewegt werden muss. Dies ist immer dann der Fall, wenn das eigentliche Beschichtungsverfahren in einer ersten Transportrichtung mit einer (relativ geringen) Prozessgeschwindigkeit stattfindet, wobei das Bandsubstrat vom Abwickel abgewickelt und auf den Aufwickel aufgewickelt wird, und anschließend das Bandsubstrat zurückgespult, d.h. mit einer (relativ hohen) Rückspulgeschwindigkeit vom Aufwickel abgewickelt und auf den Abwickel aufgewickelt wird. Da beim Rücktransport des Bandsubstrats Geschwindigkeiten von ca. 100 m/min gefordert werden, kann sich für die Distanzrollen eine Drehzahl von beispielsweise 10 U/s ergeben, wenn diese während des Zurückspulens in Kontakt mit der Trommel bleiben. Um dabei Kollisionen des Bandsubstrats mit der Rahmenblende zu vermeiden und die Reibung zwischen den Distanzrollen und der Trommel aufzuheben, ist es sinnvoll, den Abstand zwischen der Rahmenblende und der Trommel beim Zurückspulen des Bandsubstrats zu vergrößern, wodurch gleichzeitig die Distanzrollen von der Trommel abheben. It can further be provided that the distance between the frame panel and the jacket surface of the drum is adjustable during operation of the belt substrate treatment installation. There are embodiments of coating processes that can be carried out in the belt substrate treatment installation, in which the belt substrate has to be moved not only in a forward direction, but also in the opposite direction. This is always the case when the actual coating process takes place in a first transport direction at a (relatively low) process speed, wherein the tape substrate is unwound from the take-up and wound onto the take-up, and then the tape substrate is rewound, i. unwound from the take-up with a (relatively high) rewinding speed and wound up on the unwind. Since speeds of about 100 m / min are required for the return transport of the tape substrate, a speed of, for example, 10 U / s may result for the spacer rollers if they remain in contact with the drum during rewinding. In order to avoid collisions of the tape substrate with the frame panel and to eliminate the friction between the spacer rollers and the drum, it makes sense to increase the distance between the frame and the drum when rewinding the tape substrate, which at the same time lift the spacer rollers from the drum.
Die Rollkörper oder ihre in Kontakt mit der Trommel stehenden Außenflächen sind vorzugsweise mit Kunststoff, beispielsweise einer Umhüllung wie einer Bandage oder dergleichen aus Viton, NBR oder dergleichen belegt, um einerseits ein Zerkratzen der Trommel zu vermeiden und andererseits die durch Reibung mit der Trommel verursachte synchrone Drehbewegung der Distanzrollen sicherzustellen, weil diese direkten Kontakt zur hartverchromten Trommel haben. The rolling bodies or their outer surfaces in contact with the drum are preferably covered with plastic, for example a cladding such as a bandage or the like made of Viton, NBR or the like, in order to avoid scratches on the one hand and the synchronous friction caused by friction with the drum To ensure rotational movement of the spacer rollers, because they have direct contact with the hard chrome drum.
Die radiale Verstellbarkeit der Rahmenblende kann beispielsweise dadurch erzielt werden, dass der Abstand der Rahmenblende zur Mantelfläche der Trommel durch einen Hebelmechanismus verstellbar ist, der mindestens eine achsparallel zur Trommel angeordnete Welle und mindestens einen an der Welle drehfest angeordneten, mit der Rahmenblende gelenkig verbundenen Hebel aufweist. Dieser einfache Mechanismus funktioniert auch unter erhöhten Temperaturen zuverlässig und problemlos. The radial adjustability of the frame panel can be achieved, for example, that the distance of the frame panel to the lateral surface of the drum is adjustable by a lever mechanism having at least one axially parallel to the drum shaft and at least one rotatably mounted on the shaft, hingedly connected to the frame panel lever , This simple mechanism works reliably and easily even at elevated temperatures.
Um eine gleichmäßige radiale Verschiebung der Rahmenblende auch bei großen Substratbreiten, d.h. sehr langen Trommeln und Beschichtungseinrichtungen, zu gewährleisten, kann weiter vorgesehen sein, dass an der mindestens einen Welle mindestens zwei Hebel angeordnet sind, die an einer entsprechenden Anzahl von in der axialen Richtung der Trommel zueinander beabstandeten Angriffspunkten mit der Rahmenblende gelenkig verbunden sind. Greift beispielsweise je ein Hebel an jedem Ende der Beschichtungseinrichtung an die Rahmenblende an, so wird sichergestellt, dass die radiale Verschiebung an beiden Enden gleich groß ist. To ensure uniform radial displacement of the frame stop, even with large substrate widths, i. To ensure very long drums and coating devices, can be further provided that at least two levers are arranged on the at least one shaft, which are connected at a corresponding number of mutually spaced in the axial direction of the drum attack points with the frame panel. If, for example, a lever on each end of the coating device engages the frame panel, this ensures that the radial displacement at both ends is the same.
Dabei kann die Welle oder können die Wellen durch ein Hebelgetriebe oder/und einen Seilzug oder/und ein Zahnradgetriebe mit einer Antriebseinrichtung wirkverbunden sein. Insbesondere kann vorgesehen sein, dass die Beschichtungseinrichtung mindestens zwei Wellen aufweist, die mit derselben Antriebseinrichtung in Wirkverbindung stehen oder/und dass die Wellen von zwei oder mehr Beschichtungseinrichtungen mit derselben Antriebseinrichtung in Wirkverbindung stehen. Dadurch verringert sich der apparative Aufwand zum Betätigen der radialen Verschiebung der Rahmenblende oder Rahmenblenden erheblich, wodurch die Bandsubstratbehandlungsanlage insgesamt preiswerter herstellbar ist. Darüber hinaus sind hierdurch einzelne Blenden gleichmäßiger bewegbar und mehrere Blenden synchron zueinander verstellbar. In this case, the shaft or the waves can be operatively connected by a lever mechanism and / or a cable pull and / or a gear transmission with a drive device. In particular, it can be provided that the coating device has at least two shafts which are in operative connection with the same drive device and / or that the shafts of two or more coating devices are in operative connection with the same drive device. As a result, the expenditure on equipment for actuating the radial displacement of the frame panel or frame panels is reduced considerably, as a result of which the band substrate treatment installation is less expensive to produce overall. In addition, as a result, individual apertures are more uniformly movable and multiple apertures synchronously adjustable.
In einer Weiterbildung ist vorgesehen, dass die Antriebseinrichtung außerhalb der Anlagenkammer angeordnet ist und mit der oder den Wellen mittels einer in einer Wand der Anlagenkammer angeordneten Drehdurchführung und über eine lösbare Steckverbindung wirkverbunden ist. Einerseits kann dadurch eine preiswerte Antriebseinrichtung, beispielsweise ein nicht vakuumfester Elektromotor verwendet werden, andererseits ist die Antriebseinrichtung zu Wartungszwecken leichter zugänglich und schließlich kann eine als Kammertür ausgebildete Kammerwand, an der die Antriebseinrichtung befestigt ist, geöffnet werden, wobei sich die als lösbare Steckverbindung ausgebildete Kupplung zwischen der Antriebseinrichtung und der oder den Wellen ohne weitere Maßnahmen löst. In a further development, it is provided that the drive device is arranged outside the installation chamber and is operatively connected to the shaft or shafts by means of a rotary feedthrough arranged in a wall of the installation chamber and via a detachable plug connection. On the one hand, a low-cost drive device, for example, a non-vacuum-proof electric motor can be used, on the other hand, the drive device for maintenance purposes more easily accessible and finally designed as a chamber door chamber wall to which the drive device is attached to be opened, which is designed as a detachable connector coupling between the drive device and the waves or solves without further action.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen und zugehörigen Zeichnungen näher erläutert. Dabei zeigen The invention will be explained in more detail with reference to embodiments and accompanying drawings. Show
In
Die Beschichtungseinrichtung
Die Rahmenblende
An der Rahmenblende
Wie aus dem direkten Vergleich der Darstellungen in
Jeder der beiden an einer Welle
In den
Dargestellt ist jeweils eine Teilanordnung von zwei fest zu einer sogenannten Compartment Unit miteinander verbundenen Beschichtungseinrichtungen
An jeder Rahmenblende
Die Wellen
Das Hebelgetriebe
In beiden Ausführungsbeispielen sind alle vier Wellen
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 1 1
- Trommel drum
- 2 2
- Beschichtungseinrichtung coater
- 3 3
- Gehäuse casing
- 4 4
- Beschichtungsquelle coating source
- 5 5
- Rahmenblende frame cover
- 6 6
- Öffnung opening
- 7 7
- Distanzrolle Spacing roller
- 8 8th
- Welle wave
- 9 9
- Hebel lever
- 10 10
- Hebelgetriebe lever mechanism
- 11 11
- Seilzug cable
- 12 12
- Rückstellfeder Return spring
- 13 13
- Steckverbindung connector
Claims (11)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE201310209009 DE102013209009B3 (en) | 2013-05-15 | 2013-05-15 | Strip substrate processing system comprises conditioning chamber, rotary drum in chamber having cylindrical surface area for guiding strip substrate by partial circumference around the circumferential surface, and a coating device |
JP2014100499A JP5658397B2 (en) | 2013-05-15 | 2014-05-14 | Strip base material processing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE201310209009 DE102013209009B3 (en) | 2013-05-15 | 2013-05-15 | Strip substrate processing system comprises conditioning chamber, rotary drum in chamber having cylindrical surface area for guiding strip substrate by partial circumference around the circumferential surface, and a coating device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102013209009B3 true DE102013209009B3 (en) | 2014-07-24 |
Family
ID=51064680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE201310209009 Expired - Fee Related DE102013209009B3 (en) | 2013-05-15 | 2013-05-15 | Strip substrate processing system comprises conditioning chamber, rotary drum in chamber having cylindrical surface area for guiding strip substrate by partial circumference around the circumferential surface, and a coating device |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5658397B2 (en) |
DE (1) | DE102013209009B3 (en) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10205805C1 (en) * | 2002-02-13 | 2003-08-14 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Apparatus for coating strips of material in vacuum has magnetrons mounted in housing fitted with screen over its top and inflatable seal between two |
US20090252893A1 (en) * | 2005-08-31 | 2009-10-08 | Koji Ozaki | Plasma discharge treatment apparatus, and method of manufacturing gas barrier film |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6320456A (en) * | 1986-07-14 | 1988-01-28 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | Differential evacuation type vapor deposition treatment chamber |
-
2013
- 2013-05-15 DE DE201310209009 patent/DE102013209009B3/en not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-05-14 JP JP2014100499A patent/JP5658397B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10205805C1 (en) * | 2002-02-13 | 2003-08-14 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Apparatus for coating strips of material in vacuum has magnetrons mounted in housing fitted with screen over its top and inflatable seal between two |
US20090252893A1 (en) * | 2005-08-31 | 2009-10-08 | Koji Ozaki | Plasma discharge treatment apparatus, and method of manufacturing gas barrier film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5658397B2 (en) | 2015-01-21 |
JP2014224319A (en) | 2014-12-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2176442B1 (en) | Vacuum treatment of strip-shaped substrates | |
EP3626662B1 (en) | Cable reel | |
DE102010029653B4 (en) | Substrate treatment plant | |
DE102015104039B4 (en) | Tape substrate coater with a magnetron assembly | |
WO2014060468A1 (en) | Multiple coating device for strip substrates and strip substrate vacuum coating apparatus | |
DE3216182C3 (en) | Calender for paper and other material webs | |
EP2556412A1 (en) | Method and device for producing contact prints of volume reflection holograms | |
DE102009046592A1 (en) | Apparatus and method for longitudinally stretching a film web | |
DE102006011517A1 (en) | Transport device, in particular for transporting flat substrates by a coating system | |
DE19506465C2 (en) | Smoothing device for a paper web in a paper processing machine | |
DE2825102C2 (en) | Feed device for a label carrier web | |
DE102012202477B4 (en) | Media rotation and displacement device | |
DE102013209009B3 (en) | Strip substrate processing system comprises conditioning chamber, rotary drum in chamber having cylindrical surface area for guiding strip substrate by partial circumference around the circumferential surface, and a coating device | |
DE202014105987U1 (en) | Abbiegeeinrichtung | |
EP0101931A1 (en) | Roller exchanging process in a continuous roller hearth furnace, and furnace for the application of it | |
DE202013003546U1 (en) | Tape substrate chuck | |
EP1607492B1 (en) | Strip treatment apparatus with at least one vacuum chamber | |
EP0555944A1 (en) | Receiving cassette for sheet material, in particular for exposed films | |
DE102013206805B4 (en) | Tape substrate chuck | |
DE102013107690A1 (en) | Tape substrate treatment plant | |
WO2015055637A1 (en) | Double friction unit having movable friction spindles | |
DE102013112067B4 (en) | Tape substrate treatment plant | |
DE102014112536A1 (en) | Substrate treatment plant and heating device | |
DE102014115386B4 (en) | Vacuum substrate processing system | |
DE102015119259A1 (en) | Tape substrate transfer device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R082 | Change of representative |
Representative=s name: PATENTANWAELTE LIPPERT, STACHOW & PARTNER, DE |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: VON ARDENNE GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH, 01324 DRESDEN, DE Effective date: 20140922 Owner name: VON ARDENNE ASSET GMBH & CO. KG, DE Free format text: FORMER OWNER: VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH, 01324 DRESDEN, DE Effective date: 20140922 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: PATENTANWAELTE LIPPERT, STACHOW & PARTNER, DE Effective date: 20140922 Representative=s name: LIPPERT STACHOW PATENTANWAELTE RECHTSANWAELTE , DE Effective date: 20140922 |
|
R020 | Patent grant now final | ||
R082 | Change of representative | ||
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: VON ARDENNE ASSET GMBH & CO. KG, DE Free format text: FORMER OWNER: VON ARDENNE GMBH, 01324 DRESDEN, DE |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |