DE102013112861A1 - Magnetron arrangement comprises support and target which is disposed on the support and has three boundary surfaces resting on the support - Google Patents

Magnetron arrangement comprises support and target which is disposed on the support and has three boundary surfaces resting on the support Download PDF

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Abstract

Magnetron arrangement (300) comprises: a support; and at least one target (302) disposed on the support. The target with three boundary surfaces rests on the support. An independent claim is also included for a target for a Magnetron arrangement, comprising three edge supporting surfaces for placing the target on a support, where three edge support surfaces are formed by a number of recesses.

Description

Die Erfindung betrifft eine Magnetronanordnung und ein Target für eine Magnetronanordnung.The invention relates to a magnetron arrangement and a target for a magnetron arrangement.

Ein Planarmagnetron besteht bekannterweise aus einem Magnetsystem, einem Kühlsystem um die Abwärme des Sputterprozesses abzuführen und einem Target. Das Target wird üblicherweise indirekt durch das Kühlsystem gekühlt. Bei speziellen Materialien/Prozessen kann es jedoch erforderlich sein, dass das Targetmaterial nicht gekühlt wird und somit höhere Temperaturen annimmt.A planar magnetron is known to consist of a magnet system, a cooling system to dissipate the waste heat of the sputtering process and a target. The target is usually cooled indirectly by the cooling system. However, special materials / processes may require that the target material is not cooled, thus assuming higher temperatures.

In diesem Fall ist für die thermische Abschirmung des Magnetsystems zu sorgen. Eine solche Lösung ist in DE 100 18 858 A1 beschrieben.In this case, provide for the thermal shielding of the magnet system. Such a solution is in DE 100 18 858 A1 described.

Diese Variante der Targethalterung für ungekühlte Targets ist gut geeignet für schmale Targets, wie sie bei einem SDM (Standard Dual Magnetron) oder einem SSM (Standard Single Magnetron) zur Anwendung kommen. Für breite Targets, wie sie bei einem WSM (Wide Single Magnetron) verwendet werden, ist die Aufnahme der Targetkachel nach beschriebener Art im Bereich des so genannten Racetrackbogens jedoch nicht möglich, wenn die Forderung nach kleinen Targetkacheln besteht.This variant of the target holder for uncooled targets is well suited for narrow targets, such as those used with a standard dual magnetron (SDM) or standard single magnetron (SSM). For wide targets, as used in a WSM (Wide Single Magnetron), the inclusion of the target tile in the manner described in the field of so-called Racetrackbogens is not possible if there is a demand for small target tiles.

1 zeigt den üblichen Aufbau einer Targetbestückung 100 von SSM mit einer Mehrzahl von vier nebeneinander in einer Reihe angeordneten Targets 1 (im Folgenden auch bezeichnet als Targetkacheln 1). Jedes der Targets 1 weist zwei einander gegenüberliegende Rand-Auflageflächen 2 auf. 1 shows the usual structure of a target assembly 100 of SSM with a plurality of four targets arranged side by side in a row 1 (hereinafter also referred to as target tiles 1 ). Each of the targets 1 has two opposing edge-bearing surfaces 2 on.

2 zeigt den üblichen Aufbau einer Targetbestückung 200 von WSM mit einer Mehrzahl von vier kleineren Targets 1, wobei die kleineren Targets 1 in einer Matrix mit zwei Zeilen und zwei Spalten angeordnet sind, wobei die kleineren Targets 1 in einer jeweiligen Zeile unmittelbar nebeneinander angeordnet sind und die Targets 1 unterschiedlicher Zeilen in einem Abstand voneinander angeordnet sind. Ferner weist die Targetbestückung 200 jeweils zwei am jeweiligen Rand der Targetbestückung 200 angeordnete größere Targets 202 auf. Sowohl die kleineren Targets 1 als auch die größeren Targets 202 weisen jeweils zwei einander gegenüberliegende Rand-Auflageflächen 2 auf. 2 shows the usual structure of a target assembly 200 from WSM with a majority of four smaller targets 1 , where are the smaller targets 1 are arranged in a matrix with two rows and two columns, with the smaller targets 1 are arranged in a row directly next to each other and the targets 1 different lines are arranged at a distance from each other. Furthermore, the target assembly 200 two at each edge of the target assembly 200 arranged larger targets 202 on. Both the smaller targets 1 as well as the bigger targets 202 each have two opposing edge-bearing surfaces 2 on.

Bei verschiedenen Ausführungsformen sind die Endsegmente einer (beispielsweise WSM-)Targetbestückung so gestaltet, dass auch kleinere Targetkacheln (beispielsweise an den Rändern der Targetbestückung) aufgenommen werden können.In various embodiments, the end segments of a (for example, WSM) target assembly are designed so that smaller target tiles (for example, at the edges of the target assembly) can be accommodated.

In verschiedenen Ausführungsformen wird eine Magnetronanordnung bereitgestellt, aufweisend: einen Träger; und mindestens ein auf dem Träger angeordnetes Target; wobei das mindestens eine Target mit drei Randflächen des Targets auf dem Träger aufliegt.In various embodiments, a magnetron assembly is provided, comprising: a support; and at least one target disposed on the carrier; wherein the at least one target rests with three edge surfaces of the target on the support.

Ferner können die drei Randflächen des mindestens einen Targets mittels mehrerer Aussparungen bereitgestellt sein oder von mehreren Aussparungen gebildet werden.Furthermore, the three edge surfaces of the at least one target may be provided by means of a plurality of recesses or may be formed by a plurality of recesses.

Ferner kann das mindestens eine Target eine fünfeckige oder sechseckige Oberfläche aufweisen. Die Oberfläche des Targets kann anschaulich dadurch definiert sein, dass von dieser Material während eines Sputterprozesses abgetragen werden kann.Furthermore, the at least one target may have a pentagonal or hexagonal surface. The surface of the target can be clearly defined by the fact that it can be removed from this material during a sputtering process.

Ferner kann die fünfeckige oder sechseckige Oberfläche des Targets ausgehend von einer Rechteckstruktur mit einer Aussparungsstruktur an einer inneren Ecke des mindestens einen Targets gebildet werden. In einer Ausgestaltung kann das mindestens eine Target eine fünfteckige Struktur (beispielsweise in Draufsicht auf das Target) aufweisen.Furthermore, the pentagonal or hexagonal surface of the target may be formed starting from a rectangular structure having a recess structure at an inner corner of the at least one target. In one embodiment, the at least one target may have a five-cornered structure (for example in plan view of the target).

In noch einer Ausgestaltung kann die fünfeckige Struktur gebildet werden ausgehend von einer Rechteckstruktur mit einer abgefasten Ecke.In yet another embodiment, the pentagonal structure can be formed starting from a rectangular structure with a chamfered corner.

In noch einer Ausgestaltung kann die Magnetronanordnung ferner aufweisen ein Magnetsystem.In yet another embodiment, the magnetron assembly may further include a magnet system.

In noch einer Ausgestaltung kann das mindestens eine Target eine Vielzahl von Targets aufweisen, die nebeneinander angeordnet sind, so dass die Targetanordnung mindestens zwei Randtargets und mindestens ein Zwischentarget aufweist, das zwischen den zwei Randtargets angeordnet ist; wobei mindestens ein Randtarget der mindestens zwei Randtargets mit drei Randflächen des Randtargets auf dem Träger aufliegt.In yet another embodiment, the at least one target may include a plurality of targets arranged side by side so that the target assembly has at least two edge targets and at least one intermediate target disposed between the two edge targets; wherein at least one edge target of the at least two edge targets rests with three edge surfaces of the edge target on the support.

In noch einer Ausgestaltung können die drei Randflächen aufweisen: eine erste Randfläche, die an einer ersten freiliegenden Seite des Randtargets angeordnet ist; eine zweite Randfläche, die an einer ersten freiliegenden Seite des Randtargets angeordnet ist; eine dritte Randfläche, die an der von der abgefasten Ecke gebildeten Seite des Randtargets angeordnet ist.In yet another embodiment, the three edge surfaces may include: a first edge surface disposed on a first exposed side of the edge target; a second edge surface disposed on a first exposed side of the edge target; a third edge surface disposed on the side of the peripheral target formed by the chamfered corner.

In noch einer Ausgestaltung kann die Magnetronanordnung eingerichtet sein als eine WSM(Wide Single Magnetron)-Magnetronanordnung.In yet another embodiment, the magnetron assembly may be configured as a WSM (Wide Single Magnetron) magnetron assembly.

In verschiedenen Ausführungsformen wird ein Target für eine Magnetronanordnung bereitgestellt. Das Target kann drei Rand-Auflageflächen zum Auflegen des Targets auf einem Träger aufweisen.In various embodiments, a target for a magnetron assembly is provided. The target may have three edge-bearing surfaces for placing the target on a support.

In verschiedenen Ausführungsformen wird eine Anordnung zum physikalischen Abscheiden aus der Gasphase (beispielsweise eine Sputter-Anordnung) bereitgestellt mit breiten Planarmagnetrons, wobei die Anordnung eine Magnetronanordnung aufweist, wie sie oben beschrieben wurde und im Folgenden nach näher erläutert wird. In various embodiments, a physical vapor deposition assembly (eg, a sputter assembly) is provided having wide planar magnetrons, the assembly having a magnetron assembly as described above and further explained below.

In verschiedenen Ausführungsformen kann ein Target für eine Magnetronanordnung drei Rand-Auflageflächen zum Auflegen des Targets auf einem Träger aufweisen, wobei die drei Rand-Auflageflächen von mehreren Aussparungen gebildet sind.In various embodiments, a target for a magnetron assembly may have three edge-bearing surfaces for mounting the target on a carrier, wherein the three edge-bearing surfaces are formed by a plurality of recesses.

Ferner können zwei Rand-Auflageflächen der drei Rand-Auflageflächen in einem Abstand zu der dritten Rand-Auflagefläche der drei Rand-Auflageflächen angeordnet sein.Further, two edge-bearing surfaces of the three edge-bearing surfaces may be arranged at a distance from the third edge-bearing surface of the three edge-bearing surfaces.

Ferner können sich die mehreren Aussparungen jeweils von einer Oberfläche des Targets ausgehend in das Target hinein erstrecken.Further, the plurality of recesses may each extend into the target from a surface of the target.

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert.Embodiments of the invention are illustrated in the figures and are explained in more detail below.

Es zeigenShow it

1 eine herkömmliche SSM-Targetanordnung in Draufsicht; 1 a conventional SSM target assembly in plan view;

2 eine herkömmliche WSM-Targetanordnung in Draufsicht; und 2 a conventional WSM target assembly in plan view; and

3 eine WSM-Targetanordnung in Draufsicht gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen; 3 a plan view WSM target assembly according to various embodiments;

4 ein Target in einer Draufsicht und Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen; 4 a target in plan and cross-sectional view, according to various embodiments;

5 eine Teil einer WSM-Targetanordnung in einer schematischen perspektivischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen; und 5 a portion of a WSM target assembly in a schematic perspective view, according to various embodiments; and

6 verschiedene Rand-Targets jeweils in einer Draufsicht, gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen. 6 different edge targets each in a plan view, according to various embodiments.

3 zeigt eine WSM-Targetanordnung 300 in Draufsicht gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen. Anders ausgedrückt zeigt 3 die WSM-Targetanordnung 300 in Draufsicht mit einer Dreiseitenauflage der Endkachel(n) 302. 3 shows a WSM target assembly 300 in plan view according to various embodiments. In other words, shows 3 the WSM target assembly 300 in plan view with a three-sided support of the end tile (s) 302 ,

Die WSM-Targetanordnung 300 weist eine Vielzahl von Targets (auch bezeichnet als Targetkacheln) 302, 304 auf, die in mehreren Spalten und Zeilen in einer Matrix angeordnet sind. In einer ersten Zeile 306 sind vier Targets 302, 304 in einer Reihe nebeneinander angeordnet, so dass zwei der Targets als Randtargets (auch bezeichnet als Endkacheln) 302 der ersten Zeile 306 angeordnet sind und die zwei restlichen Targets als Zwischentargets (auch bezeichnet als Zwischenkacheln) 304 zwischen den Randtargets 302 angeordnet sind. In einer zweiten Zeile 308 sind ebenfalls vier Targets 302, 304 in einer Reihe nebeneinander angeordnet, so dass zwei der Targets als Randtargets 302 der zweiten Zeile 308 angeordnet sind und die zwei restlichen Targets 304 zwischen den Randtargets 302 angeordnet sind.The WSM target assembly 300 has a variety of targets (also referred to as target tiles) 302 . 304 which are arranged in several columns and rows in a matrix. In a first line 306 are four targets 302 . 304 arranged in a row next to each other so that two of the targets are known as border targets (also called end tiles) 302 the first line 306 are arranged and the two remaining targets as intermediate targets (also referred to as intermediate tiles) 304 between the border targets 302 are arranged. In a second line 308 are also four targets 302 . 304 arranged in a row next to each other, leaving two of the targets as border targets 302 the second line 308 are arranged and the two remaining targets 304 between the border targets 302 are arranged.

Jedes der Randtargets 302 kann beispielsweise in Draufsicht eine fünfeckige Struktur aufweisen, die gebildet wird ausgehend von einer Rechteckstruktur mit einer abgefasten Ecke. In verschiedenen Ausführungsbeispielen ist die jeweils zum Zentrum der WSM-Targetanordnung 300 ausgerichtete Ecke abgefast (oder anders ausgedrückt angeschrägt). Alternativ kann die jeweils zum Zentrum der WSM-Targetanordnung 300 ausgerichtete Ecke eine andere Struktur aufweisen, die mittels einer Aussparungsstruktur bereitgestellt ist oder werden kann, wie beispielsweise in 4 und 6 veranschaulicht ist.Each of the border targets 302 For example, in plan view may have a pentagonal structure which is formed starting from a rectangular structure with a chamfered corner. In various embodiments, each is the center of the WSM target assembly 300 aligned corner bevelled (or in other words bevelled). Alternatively, each may be at the center of the WSM target assembly 300 aligned corner having a different structure which is or can be provided by means of a recess structure, such as in 4 and 6 is illustrated.

Jedes der Randtargets 302 kann folgenden Aufbau aufweisen:

  • • eine erste Randfläche (auch bezeichnet als erste Rand-Auflagefläche) 2a, die an einer ersten freiliegenden Seite des Randtargets 302 angeordnet ist;
  • • eine zweite Randfläche (auch bezeichnet als zweite Rand-Auflagefläche) 2b, die an einer zweiten freiliegenden Seite des Randtargets angeordnet ist;
  • • eine dritte Randfläche (auch bezeichnet als dritte Rand-Auflagefläche) 2c, die an der von der abgefasten Ecke gebildeten Seite des Randtargets angeordnet ist.
Each of the border targets 302 can have the following structure:
  • A first edge surface (also referred to as first edge support surface) 2a located on a first exposed side of the border target 302 is arranged;
  • A second edge surface (also referred to as a second edge bearing surface) 2 B disposed on a second exposed side of the edge target;
  • A third edge surface (also referred to as a third edge bearing surface) 2c which is arranged on the side of the edge target formed by the chamfered corner.

Die erste Randfläche 2a und die zweite Randfläche 2b bilden einen Außenwinkel (beispielsweise einen 90°-Außenwinkel) der WSM-Targetanordnung 300.The first edge surface 2a and the second edge surface 2 B form an outside angle (for example, a 90 ° outward angle) of the WSM target assembly 300 ,

Anschaulich wird in verschiedenen Ausführungsbeispielen eine Targetkachel mit einer gegenüber einer herkömmlichen Targetkachel zusätzlichen Auflagefläche an der Targetkachel vorgesehen, so dass eine Dreiseitenauflage erreicht wird (siehe beispielsweise 3). Anschaulich gesehen kann die Dreiseitenauflage konstruktiv stabil sein und somit kann die Targetkachel beispielsweise stabil in einem Träger aufgenommen sein oder werden und/oder weniger kippeln.Illustratively, in various exemplary embodiments, a target tile is provided on the target tile with an additional bearing surface compared with a conventional target tile, so that a three-side support is achieved (see, for example, FIG 3 ). Illustratively, the three-side support can be structurally stable, and thus the target tile can for example be stably received in a carrier or be and / or less tilt.

Die erste Auflagefläche 2a kann sich anschaulich entlang der Länge 301 der Targetanordnung 300 erstrecken. Die zweite Auflagefläche 2b kann sich anschaulich entlang der Breite der Targetanordnung 300 erstrecken (beispielsweise senkrecht zur Länge 301). Die zweite Auflagefläche kann sich beispielsweise an der Stirnseite 2b der Targetkachel befinden. Die dritte Auflagefläche 2c kann sich an der (beispielsweise angeschrägten) inneren Ecke der Targetkachel befinden. Die innere Ecke der Targetkachel kann sich gegenüber der äußeren Ecke der Targetkachel befinden, von welcher sich die erste Auflagefläche 2a und die zweite Auflagefläche 2b aus erstreckt.The first contact surface 2a can be vivid along the length 301 the target arrangement 300 extend. The second bearing surface 2 B can be vivid along the width of the target assembly 300 extend (for example, perpendicular to the length 301 ). The second bearing surface may be, for example, on the front side 2 B the target tile are located. The third bearing surface 2c may be at the (for example, beveled) inner corner of the target tile. The inner corner of the target tile may be opposite the outer corner of the target tile, from which the first bearing surface 2a and the second bearing surface 2 B extends out.

Durch die einfache Gestaltung werden die Lagerkräfte gut verteilt und es entstehen keine zusätzlichen Anforderungen für die Herstellung.Due to the simple design, the bearing forces are well distributed and there are no additional requirements for the production.

4 zeigt eine Draufsicht und eine Querschnittsansicht eines Randtargets 302, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. Das Randtarget 302 kann eine Quaderform aufweisen, mit entsprechend vier Seitenflächen 312a, 312b, 312c, 312d und einer Grundfläche 312g und einer Deckfläche 312e, wobei die vier Seitenflächen 312a, 312b, 312c, 312d das Randtarget 302 seitlich umlaufend begrenzen. Dabei kann beispielsweise mindestens eine Seitenfläche 312b des Randtargets 302 eine Aussparung 314b (oder Ausnehmung) aufweisen, welche eine Auflagefläche 2b bildet. Dabei kann die Aussparung 314b beispielsweise stufenförmig sein, wie in der Querschnittsansicht in 4 veranschaulicht ist. 4 shows a plan view and a cross-sectional view of a border target 302 according to various embodiments. The edge target 302 may have a cuboid shape, with four corresponding side surfaces 312a . 312b . 312c . 312d and a floor space 312g and a top surface 312e , with the four side surfaces 312a . 312b . 312c . 312d the edge target 302 limit the circumference laterally. In this case, for example, at least one side surface 312b of the border target 302 a recess 314b (or recess) which has a bearing surface 2 B forms. In this case, the recess 314b For example, be stepped, as in the cross-sectional view in 4 is illustrated.

Ferner können zwei aneinander angrenzende Seitenflächen 312a, 312b des Randtargets 302 jeweils eine Aussparung 314a, 314b (oder Ausnehmung) aufweisen, welche zwei Auflageflächen 2a, 2b bilden. Dabei können die Aussparungen 314a, 314b stufenförmig gebildet sein oder werden, wie beispielsweise in 4 veranschaulicht ist. Die zwei Aussparung 314a, 314b können aneinander angrenzen und anschaulich auch eine zusammenhängende Auflagefläche 2a, 2b bilden. Alternativ können die zwei Aussparung 314a, 314b auch voneinander getrennt sein, so dass diese keine gemeinsame Auflagefläche bilden, sondern zwei separate bzw. separierte Auflageflächen 2a, 2b.Furthermore, two adjoining side surfaces 312a . 312b of the border target 302 one recess each 314a . 314b (or recess), which two bearing surfaces 2a . 2 B form. The recesses can do this 314a . 314b be formed stepwise or be, such as in 4 is illustrated. The two recess 314a . 314b can adjoin one another and vividly also a coherent bearing surface 2a . 2 B form. Alternatively, the two recess 314a . 314b Also be separated from each other so that they do not form a common bearing surface, but two separate or separated bearing surfaces 2a . 2 B ,

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die zwei Aussparung 314a, 314b an den zwei aneinander angrenzenden Seitenflächen 312a, 312b des Randtargets 302 sich jeweils über die gesamte Seitenfläche erstrecken, wie in 4 dargestellt ist. Wie vorangehend beschrieben, kann sich die erste Seitenfläche 312a entlang der Länge 301 der WSM-Targetanordnung 300 erstrecken und die zweite Seitenfläche 312b entlang der Breite der WSM-Targetanordnung. Die erste Seitenfläche 312a und die zweite Seitenfläche 312b können in einem rechten Winkel zueinander stehen. Ferner kann die erste Seitenfläche 312a eine erste Aussparung 314a aufweisen und die zweite Seitenfläche 312b eine zweite Aussparung 314b.According to various embodiments, the two recesses 314a . 314b on the two adjoining side surfaces 312a . 312b of the border target 302 each extend over the entire side surface, as in 4 is shown. As described above, the first side surface 312a along the length 301 the WSM target assembly 300 extend and the second side surface 312b along the width of the WSM target assembly. The first side surface 312a and the second side surface 312b can be at a right angle to each other. Furthermore, the first side surface 312a a first recess 314a and the second side surface 312b a second recess 314b ,

Ferner kann an das Randtarget 302 eine dritte Aussparung 314c an der Ecke 316 aufweisen, z. B. an der inneren Ecke 316 des Randtargets 302. Ferner kann an das Randtarget 302 eine Aussparungsstruktur 314c aufweisen, welche beispielsweise zumindest einen Teil der Ecke 316 bildet. Die Ecke 316 des Randtargets 302 kann beispielsweise von den zwei Seitenflächen 312c, 312d definiert sein oder werden, welche gegenüber den zwei aneinander angrenzenden Seitenflächen 312a, 312b liegen, welche die Auflageflächen 2a, 2b aufweisen. Anschaulich gesehen kann die dritte Aussparung 314c eine dritte Auflagefläche 2c bilden, wobei die dritte Auflagefläche 2c nicht mit den Auflageflächen 2a, 2b verbunden ist, die mittels der zwei Aussparung 314a, 314b bereitgestellt sind oder werden. Mit anderen Worten kann die dritte Aussparung 314c nicht mit den zwei Aussparung 314a, 314b verbunden sein, so dass die zwei Aussparungen 314a, 314b und die dritte Aussparung 314c keine gemeinsame Aussparungen bilden.Furthermore, to the edge target 302 a third recess 314c at the corner 316 have, for. B. at the inner corner 316 of the border target 302 , Furthermore, to the edge target 302 a recess structure 314c which, for example, at least part of the corner 316 forms. The corner 316 of the border target 302 for example, from the two side surfaces 312c . 312d be defined or which are opposite to the two adjacent side surfaces 312a . 312b lie, which the bearing surfaces 2a . 2 B exhibit. Visually, the third recess can be seen 314c a third bearing surface 2c form, wherein the third bearing surface 2c not with the bearing surfaces 2a . 2 B connected by means of the two recess 314a . 314b are or are provided. In other words, the third recess 314c not with the two recess 314a . 314b be connected so that the two recesses 314a . 314b and the third recess 314c do not form common recesses.

Die Grundfläche 312g des Randtargets 302 kann eine viereckige Form aufweisen. Die Deckfläche 312e des Randtargets 302 kann, abhängig von der spezifischen Form der dritten Aussparung 314c eine sechseckige Form aufweisen, wie in 4 für eine quaderförmige Aussparung 314c dargestellt ist. Die Aussparung 314c kann alternativ auch eine runde Form (z. B. eine Kreisform) aufweisen oder eine beliebige prismatische Form, so dass die Deckfläche 312e des Randtargets 302 mindestens eine fünfeckige Form (fünf Ecken oder mehr als fünf Ecken) aufweisen kann.The base area 312g of the border target 302 may have a quadrangular shape. The top surface 312e of the border target 302 may, depending on the specific shape of the third recess 314c have a hexagonal shape, as in 4 for a cuboid recess 314c is shown. The recess 314c may alternatively have a round shape (eg a circular shape) or any prismatic shape, so that the top surface 312e of the border target 302 may have at least one pentagonal shape (five corners or more than five corners).

Das Randtarget 302 kann beispielsweise an der ersten Seitenfläche 312a eine entlang der ersten Seitenfläche 312a durchgängige erste Aussparung 314a aufweisen. Anschaulich gesehen kann sich die erste Rand-Auflagefläche 2a über die gesamte erste Seitenfläche 312a des Randtargets 302 erstrecken. Ferner kann das Randtarget 302 beispielsweise an der zweiten Seitenfläche 312b eine entlang der zweiten Seitenfläche 312b durchgängige zweite Aussparung 314b aufweisen. Anschaulich gesehen kann sich die zweite Rand-Auflagefläche 2b über die gesamte zweite Seitenfläche 312b erstrecken. Die erste Rand-Auflagefläche 2a und die zweite Rand-Auflagefläche 2b können an einer äußeren Ecke 315 des Randtargets 302 aneinander angrenzen, wobei das Randtarget 302 an einer weiteren Ecke 316 (inneren Ecke), gegenüber der ersten Ecke 315 eine Aussparung 314c oder Aussparungsstruktur 314c aufweist, wie vorangehend beschrieben.The edge target 302 For example, on the first side surface 312a one along the first side surface 312a continuous first recess 314a exhibit. Illustratively, the first edge bearing surface can be 2a over the entire first side surface 312a of the border target 302 extend. Furthermore, the border target 302 for example, on the second side surface 312b one along the second side surface 312b continuous second recess 314b exhibit. Illustratively, the second edge-bearing surface can be 2 B over the entire second side surface 312b extend. The first edge support surface 2a and the second edge bearing surface 2 B can on an outer corner 315 of the border target 302 adjacent to each other, with the edge target 302 at another corner 316 (inside corner), opposite the first corner 315 a recess 314c or recess structure 314c has as described above.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist das Randtarget 302 mindestens drei Seitenflächen mit jeweils einer Aussparung auf. Ferner kann das das Randtarget 302 eine seitliche Umrandung (z. B. die Seitenflächen 312a, 312b, 312c, 312d) mit einer Aussparungsstruktur (z. B. die Aussparungen 314a, 314b, 314c) aufweisen, wobei die Aussparungsstruktur das Randtarget 302 nicht vollständig (sondern nur teilweise) umgibt. Damit kann beispielsweise das Randtarget 302 in einem Targethalter stabil gelagert werden und mehrere in dem Targethalter aufgenommene Targets können eine geschlossene Fläche entlang des sogenannten Racetracks bilden.According to various embodiments, the border target has 302 at least three Side surfaces each with a recess on. Furthermore, this may be the edge target 302 a lateral border (eg the side surfaces 312a . 312b . 312c . 312d ) with a recess structure (eg the recesses 314a . 314b . 314c ), wherein the recess structure is the edge target 302 not completely (but only partially) surrounds. Thus, for example, the border target 302 Stably supported in a target holder and a plurality of targets received in the target holder can form a closed surface along the so-called Racetracks.

5 zeigt einen Ausschnitt einer WSM-Targetanordnung 300 in einer perspektivischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen. Wie bezüglich 4 beschrieben ist, kann das Randtarget 302 der WSM-Targetanordnung 300 eine erste Auflagefläche 2a und eine zweite Auflagefläche 2b aufweisen. Eine dritte Auflagefläche 2c kann an der inneren Ecke 316 des Randtargets 302 eingerichtet sein. Anschaulich kann die innere Ecke 316 derart eingerichtet sein, dass das Randtarget 302 an drei Auflageflächen 2a, 2b, 2c auf einen Träger aufgelegt sein kann oder werden kann, bzw. so dass das Randtarget von einem Träger (Targethalter) an den drei Auflageflächen 2a, 2b, 2c gestützt oder gehalten werden kann. 5 shows a section of a WSM target assembly 300 in a perspective view, according to various embodiments. As for re 4 described, the marginal target 302 the WSM target assembly 300 a first bearing surface 2a and a second bearing surface 2 B exhibit. A third bearing surface 2c can at the inner corner 316 of the border target 302 be furnished. The inner corner can be clear 316 be set up so that the edge target 302 on three contact surfaces 2a . 2 B . 2c can be placed on a support or can be, or so that the edge target of a support (target holder) on the three bearing surfaces 2a . 2 B . 2c be supported or held.

Die drei Auflageflächen 2a, 2b, 2c befinden sich an jeweils drei verschiedenen Seiten des Randtargets 302.The three contact surfaces 2a . 2 B . 2c are located on three different sides of the border target 302 ,

Die Form der inneren Ecke 316 und somit die äußere Form des Randtargets 302 und die Form der dritten Auflagefläche 2c können modifiziert sein oder werden, wie beispielsweise in 6 dargestellt ist.The shape of the inner corner 316 and thus the outer shape of the border target 302 and the shape of the third bearing surface 2c can be modified or, for example, in 6 is shown.

6 veranschaulicht in einer schematischen Draufsicht verschiedene Ausführungsformen 302a, 302b, 302c eines Randtargets 302, wobei jedes dargestellte Randtarget 302a, 302b, 302c wie vorangehend beschrieben mindestens drei Auflageflächen 2a, 2b, 2c aufweist. 6 illustrates in a schematic plan view various embodiments 302a . 302b . 302c a border target 302 where each illustrated edge target 302a . 302b . 302c as described above at least three bearing surfaces 2a . 2 B . 2c having.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Träger (Targethalter) an die Form der inneren Ecke 316 und/oder an die Form der Aussparung 314c angepasst sein oder werden.According to various embodiments, the carrier (target holder) may conform to the shape of the inner corner 316 and / or to the shape of the recess 314c be adjusted or become.

Die drei Auflageflächen 2a, 2b, 2c können beispielsweise keine zusammenhängende Auflagefläche bilden, was sich beispielsweise aus dem konstruktiven Aufbau der WSM-Targetanordnung 300 ergibt, wie beispielsweise in 3 dargestellt ist.The three contact surfaces 2a . 2 B . 2c For example, they can not form a contiguous support surface, which can be, for example, the design of the WSM target assembly 300 results, such as in 3 is shown.

Das Randtarget 302a, wie beispielsweise in 6 dargestellt ist, kann beispielsweise eine schräg abgefaste Ecke 316 (innere Ecke) aufweisen. In diesem Fall kann das Randtarget eine fünfeckige Grundfläche und eine fünfeckige Deckfläche 312e aufweisen. Ferner kann die Aussparung, welche die Auflagefläche 2c bildet, entsprechend stufenförmig entlang der schräg abgefasten Ecke 316 gebildet sein. Alternativ kann lediglich die Aussparung, welche die Auflagefläche 2c bildet, schräg verlaufen, so dass das Randtarget eine viereckige Grundfläche und eine fünfeckige Deckfläche 312e aufweisen kann.The edge target 302a , such as in 6 is shown, for example, an obliquely bevelled corner 316 (inner corner). In this case, the border target can have a pentagonal base and a pentagonal top surface 312e exhibit. Furthermore, the recess, which the bearing surface 2c forms, correspondingly stepwise along the diagonally chamfered corner 316 be formed. Alternatively, only the recess, which the bearing surface 2c forms obliquely so that the border target has a quadrangular base and a pentagonal top surface 312e can have.

Das Randtarget 302b, wie beispielsweise in 6 dargestellt ist, kann beispielsweise eine quaderförmige zweistufige Aussparung aufweisen, welche die Ecke 316 bildet und die Auflagefläche 2c. In diesem Fall kann das Randtarget eine sechseckige Grundfläche und eine sechseckige Deckfläche 312e aufweisen. Alternativ kann lediglich die Aussparung, welche die Auflagefläche 2c bildet, quaderförmig sein (vgl. 4), so dass das Randtarget 302 eine viereckige Grundfläche 312g und eine sechseckige Deckfläche 312e aufweisen kann.The edge target 302b , such as in 6 is shown, for example, a cuboid two-stage recess having, which the corner 316 forms and the bearing surface 2c , In this case, the border target can have a hexagonal base and a hexagonal top surface 312e exhibit. Alternatively, only the recess, which the bearing surface 2c forms, be cuboid (cf. 4 ), so the edge target 302 a square base 312g and a hexagonal top surface 312e can have.

Das Randtarget 302c, wie beispielsweise in 6 dargestellt ist, kann beispielsweise eine rund ausgesparte Ecke 316 aufweisen. In diesem Fall kann das Randtarget eine fünfeckige Grundfläche und eine fünfeckige Deckfläche 312e aufweisen. Ferner kann die runde oder bogenförmige Aussparung, welche die Auflagefläche 2c bildet, entsprechend stufenförmig entlang der rund ausgesparten Ecke 316 gebildet sein. Alternativ kann lediglich die Aussparung, welche die Auflagefläche 2c bildet, rund sein oder bogenförmig verlaufen, so dass das Randtarget eine viereckige Grundfläche und eine fünfeckige Deckfläche 312e aufweisen kann.The edge target 302c , such as in 6 can be represented, for example, a round recessed corner 316 exhibit. In this case, the border target can have a pentagonal base and a pentagonal top surface 312e exhibit. Furthermore, the round or arcuate recess, which the bearing surface 2c forms, correspondingly stepwise along the round recessed corner 316 be formed. Alternatively, only the recess, which the bearing surface 2c forms, be round or arcuate, so that the edge target has a quadrangular base and a pentagonal top surface 312e can have.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Ecken des Randtargets auch abgerundet sein. Die Deckfläche des Randtargets kann beispielsweise dadurch definiert sein, dass von dieser das Material des Targets beim Sputtern abgetragen werden soll.According to various embodiments, the corners of the border target may also be rounded. The top surface of the border target can be defined for example by the fact that the material of the target during sputtering should be removed from this.

Die Aussparungen, welche die Auflageflächen bilden, können beispielsweise derart gebildet sein oder werden, dass eine möglichst große Fläche als Deckfläche 312e zum Sputtern zur Verfügung stehen kann.The recesses which form the bearing surfaces can be formed, for example, in such a way that the largest possible surface is used as a cover surface 312e can be available for sputtering.

Wie vorangehend beschrieben und dargestellt, können zwei Auflageflächen (Rand-Auflageflächen) 2a, 2b in einem Abstand zu der verbleibenden Rand-Auflagefläche 2c angeordnet sein. Dies kann beispielsweise notwendig sein, damit die Oberflächen der Targets 302, 304 eine geschlossene Fläche zum Sputtern entlang des sogenannten Racetrackbogens bilden.As previously described and illustrated, two bearing surfaces (edge bearing surfaces) 2a . 2 B at a distance to the remaining edge bearing surface 2c be arranged. This may be necessary, for example, to allow the surfaces of the targets 302 . 304 form a closed surface for sputtering along the so-called Racetrackbogens.

Anschaulich gesehen können mindestens zwei der mehreren Auflageflächen nicht aneinander angrenzen.Illustratively, at least two of the plurality of bearing surfaces can not adjoin one another.

Die drei Rand-Auflageflächen (2a, 2b, 2c) können von mehreren Aussparungen gebildet werden, welche sich jeweils von einer Oberfläche (312e) des Targets (302) in das Target hinein erstrecken. Dabei können mindestens zwei Aussparungen der mehreren Aussparungen in einem Abstand voneinander angeordnet sein. Anschaulich gesehen könnnen mindestens zwei der mehreren Aussparungen nicht aneinander angrenzen. The three edge bearing surfaces ( 2a . 2 B . 2c ) can be formed by a plurality of recesses, which each extend from a surface ( 312e ) of the target ( 302 ) extend into the target. In this case, at least two recesses of the plurality of recesses may be arranged at a distance from each other. Illustratively, at least two of the plurality of recesses can not adjoin one another.

Die hierin beschriebene Magnetronanordnung 300 kann als ein Planarmagnetron eingerichtet sein oder zumindest ein Teil eines Planarmagnetrons sein. Mit anderen Worten kann der Träger der Magnetronanordnung 300 ein Targethalter oder eine Targethaltevorrichtung sein. Mit anderen Worten kann die Magnetronanordnung 300 einen Targethalter oder eine Targethaltevorrichtung zum Halten und/oder Befestigen der Targets an dem Planarmagnetron aufweisen. Dabei kann das Target (bzw. die Targetkachel) das zu zerstäubende Material aufweisen, wobei im Betrieb der Magnetronanordnung 300 (bzw. des Planarmagnetrons) das Target auf ein elektrisches Potential gebracht wird, so dass das Target als Kathode in einem Zerstäubungsprozess (Sputterprozess) fungieren kann. Somit kann die Magnetronanordnung 300 derart eingerichtet sein, dass die aufgenommenen Targetkacheln 302, 304 elektrisch kontaktiert sind. Beispielsweise können die Targetkacheln 302, 304 mittels des Trägers (bzw. des Targethalters) elektrisch kontaktiert sein oder werden.The magnetron assembly described herein 300 may be configured as a planar magnetron or at least part of a planar magnetron. In other words, the carrier of the magnetron arrangement 300 a target holder or a target holder. In other words, the magnetron arrangement 300 a target holder or a target holding device for holding and / or attaching the targets to the planar magnetron. In this case, the target (or the target tile) have the material to be atomized, wherein in operation of the magnetron arrangement 300 (or the Planarmagnetrons) the target is brought to an electric potential, so that the target can act as a cathode in a sputtering process (sputtering process). Thus, the magnetron can 300 be set up such that the recorded target tiles 302 . 304 electrically contacted. For example, the target tiles 302 . 304 be electrically contacted by the carrier (or the target holder) or be.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Targetkacheln 302, 304 an dem Träger befestigt sein oder werden, z. B. geschraubt, geklemmt, gesteckt. Ferner können die Targetkacheln 302, 304 derart an dem Träger (Targethalter) befestigt sein, dass die Targetkacheln 302, 304 eine elektrisch und/oder thermisch leitende Verbindung mit einem weiteren Bauteil der Magnetronanordnung 300 (z. B. mit einer Strom-Spannungs-Versorgung und/oder einer Kühlvorrichtung) aufweisen.According to various embodiments, the target tiles 302 . 304 be attached to the carrier or are, for. B. screwed, clamped, plugged. Furthermore, the target tiles 302 . 304 be attached to the support (target holder) such that the target tiles 302 . 304 an electrically and / or thermally conductive connection with another component of the magnetron assembly 300 (eg with a current-voltage supply and / or a cooling device).

Es versteht sich, dass die Magnetronanordnung 300 ein Magnetsystem (Magnetanordnung) aufweisen kann und ferner in verschiedenen Konfigurationen als Planarmagnetron betrieben werden kann oder eingerichtet sein kann. Ferner kann die Magnetronanordnung 300 eine Kühlvorrichtung aufweisen, zum Kühlen der Targetkacheln 302, 304 und/oder des Magnetsystems.It is understood that the magnetron arrangement 300 a magnet system (magnet arrangement) and can also be operated in different configurations as Planarmagnetron or may be arranged. Furthermore, the magnetron arrangement 300 a cooling device for cooling the target tiles 302 . 304 and / or the magnet system.

Ferner kann die Breite (vgl. 3: wobei sich die Breite senkrecht zur Länge 301 erstreckt) der Magnetronanordnung 300 (bzw. die Breite des gesamten Magnetrons) und/oder die Breite des Trägers (des Targethalters) in einem Bereich von ungefähr 20 cm bis ungefähr 50 cm liegen, oder größer sein als 50 cm. Somit kann die Breite der Targetkacheln und/oder die Breite der Randtargets 302 in einem Bereich von ungefähr 10 cm bis ungefähr 25 cm liegen, oder größer sein als 25 cm. Mit anderen Worten kann die hierin beschriebene WSM-Targetanordnung eine Targetanordnung für ein WSM sein, wobei das WSM ein Planarmagnetron mit einer Breite der Targetoberfläche von mehr als 20 cm ist.Furthermore, the width (cf. 3 : where the width is perpendicular to the length 301 extending) of the magnetron assembly 300 (or the width of the entire magnetron) and / or the width of the carrier (the target holder) are in a range of about 20 cm to about 50 cm, or greater than 50 cm. Thus, the width of the target tiles and / or the width of the border targets 302 in a range of about 10 cm to about 25 cm, or greater than 25 cm. In other words, the WSM target assembly described herein may be a target assembly for a WSM, where the WSM is a planar magnetron having a target surface width greater than 20 cm.

Ferner kann ein erster Teil des Trägers (bzw. des Targethalter der Magnetronanordnung 300) die Randtargets an den äußeren Randflächen (Randauflageflächen) 2a, 2b halten oder festklemmen und ein zweiter Teil des Trägers kann die Randtargets an der inneren Randfläche (Randauflagefläche) 2c halten oder festklemmen. Anschaulich gesehen kann der Träger beispielsweise Klemmleisten (oder sogenannte Pratzleisten) aufweisen, zum festklemmen der Targetkachlen 302, 304 an oder in der Magnetronanordnung 300. Ferner können die Targetkachlen 302, 304 vollständig aus dem zu zerstäubenden Material bestehen, also beispielsweise nicht auf einer zusätzlichen Bondplatte aufgebracht sein. Alternativ können die Targetkachlen 302, 304 auch seitlich geklemmt sein oder nur auf einem Bereich des Trägers aufliegen.Furthermore, a first part of the carrier (or the target holder of the magnetron arrangement 300 ) the marginal targets on the outer marginal areas (marginal support areas) 2a . 2 B hold or clamp and a second part of the support, the edge targets on the inner edge surface (edge support surface) 2c hold or clamp. Illustratively, the carrier can have, for example, terminal strips (or so-called clip strips) for clamping the target tiles 302 . 304 on or in the magnetron arrangement 300 , Furthermore, the Targetkachlen 302 . 304 completely made of the material to be sputtered, so for example, not be applied to an additional bond plate. Alternatively, the Targetkachlen 302 . 304 also be clamped laterally or rest only on one area of the carrier.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Planarmagnetronanordnung 300 innerhalb einer Vakuumkammer betrieben werden (nicht dargestellt).According to various embodiments, the planar magnetron assembly 300 operated within a vacuum chamber (not shown).

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • DE 10018858 A1 [0003] DE 10018858 A1 [0003]

Claims (10)

Magnetronanordnung (300), aufweisend: • einen Träger; • mindestens ein auf dem Träger angeordnetes Target (302); • wobei das Target (302) mit drei Randflächen (2a, 2b, 2c) des Targets (302) auf dem Träger aufliegt.Magnetron arrangement ( 300 ), comprising: • a carrier; At least one target ( 302 ); • where the target ( 302 ) with three edge surfaces ( 2a . 2 B . 2c ) of the target ( 302 ) rests on the carrier. Magnetronanordnung (300) gemäß Anspruch 1, wobei die drei Randflächen (2a, 2b, 2c) des mindestens einen Targets (302) mittels mehrerer Aussparungen (314a, 314b, 314c) bereitgestellt sind.Magnetron arrangement ( 300 ) according to claim 1, wherein the three edge surfaces ( 2a . 2 B . 2c ) of the at least one target ( 302 ) by means of several recesses ( 314a . 314b . 314c ) are provided. Magnetronanordnung (300) gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei das mindestens eine Target (302) eine fünfeckige oder sechseckige Oberfläche (302e) aufweist.Magnetron arrangement ( 300 ) according to claim 1 or 2, wherein the at least one target ( 302 ) a pentagonal or hexagonal surface ( 302e ) having. Magnetronanordnung (300) gemäß Anspruch 3, wobei die fünfeckige oder sechseckige Oberfläche (312e) gebildet wird ausgehend von einer Rechteckstruktur mit einer Aussparungsstruktur an einer inneren Ecke (316) des mindestens einen Targets (302).Magnetron arrangement ( 300 ) according to claim 3, wherein the pentagonal or hexagonal surface ( 312e ) is formed starting from a rectangular structure with a recess structure at an inner corner ( 316 ) of the at least one target ( 302 ). Magnetronanordnung (300) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, • wobei das mindestens eine Target (302) eine Vielzahl von Targets (302) aufweist, die nebeneinander angeordnet sind, so dass die Targetanordnung mindestens zwei Randtargets (302) und mindestens ein Zwischentarget (304) aufweist, das zwischen den zwei Randtargets (302) angeordnet ist; • wobei mindestens ein Randtarget (302) der mindestens zwei Randtargets (302) mit mindestens drei Randflächen (2a, 2b, 2c) des Randtargets (302) auf dem Träger aufliegt.Magnetron arrangement ( 300 ) according to one of claims 1 to 4, • wherein the at least one target ( 302 ) a plurality of targets ( 302 ), which are arranged next to one another, so that the target arrangement has at least two boundary targets ( 302 ) and at least one intermediate target ( 304 ) between the two border targets ( 302 ) is arranged; • where at least one marginal target ( 302 ) of the at least two boundary targets ( 302 ) with at least three edge surfaces ( 2a . 2 B . 2c ) of the border target ( 302 ) rests on the carrier. Magnetronanordnung (300) gemäß Anspruch 5, wobei die drei Randflächen (2a, 2b, 2c) aufweisen: • eine erste Randfläche (2a), die an einer ersten Seitenfläche (312a) des Randtargets (302) angeordnet ist; • eine zweite Randfläche (2b), die an einer zweiten Seitenfläche (312b) des Randtargets (302) angeordnet ist; wobei die erste Seitenfläche und die zweite Seitenfläche an einer äußeren Ecke (315) des Randtargets (302) aneinander angrenzen; • eine dritte Randfläche (2c), welche in einem Abstand von der ersten Seitenfläche (312a) und der zweiten Seitenfläche (312b) angeordnet ist.Magnetron arrangement ( 300 ) according to claim 5, wherein the three edge surfaces ( 2a . 2 B . 2c ): • a first edge surface ( 2a ) on a first side surface ( 312a ) of the border target ( 302 ) is arranged; A second edge surface ( 2 B ) on a second side surface ( 312b ) of the border target ( 302 ) is arranged; wherein the first side surface and the second side surface at an outer corner ( 315 ) of the border target ( 302 ) abut each other; • a third edge surface ( 2c ), which at a distance from the first side surface ( 312a ) and the second side surface ( 312b ) is arranged. Magnetronanordnung (300) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, eingerichtet als WSM-Magnetronanordnung.Magnetron arrangement ( 300 ) according to one of claims 1 to 6, arranged as a WSM magnetron arrangement. Target (302) für eine Magnetronanordnung (300), das Target aufweisend: drei Rand-Auflageflächen (2a, 2b, 2c) zum Auflegen des Targets (302) auf einem Träger, wobei die drei Rand-Auflageflächen von mehreren Aussparungen (314a, 314b, 314c) gebildet sind.Target ( 302 ) for a magnetron arrangement ( 300 ), the target comprising: three edge-bearing surfaces ( 2a . 2 B . 2c ) for placing the target ( 302 ) on a carrier, wherein the three edge-bearing surfaces of a plurality of recesses ( 314a . 314b . 314c ) are formed. Target (302) gemäß Anspruch 8, wobei zwei Rand-Auflageflächen (2a, 2b) der drei Rand-Auflageflächen (2a, 2b, 2c) in einem Abstand zu der dritten Rand-Auflagefläche (2c) der drei Rand-Auflageflächen (2a, 2b, 2c) angeordnet sind.Target ( 302 ) according to claim 8, wherein two edge bearing surfaces ( 2a . 2 B ) of the three edge bearing surfaces ( 2a . 2 B . 2c ) at a distance to the third edge bearing surface ( 2c ) of the three edge bearing surfaces ( 2a . 2 B . 2c ) are arranged. Target (302) gemäß Anspruch 8 oder 9, wobei sich die mehreren Aussparungen (314a, 314b, 314c) jeweils von einer Oberfläche (312e) des Targets (302) aus in das Target (302) hinein erstrecken.Target ( 302 ) according to claim 8 or 9, wherein the plurality of recesses ( 314a . 314b . 314c ) each from a surface ( 312e ) of the target ( 302 ) out into the target ( 302 ) extend into it.
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2920780A1 (en) * 1978-08-21 1980-03-06 Vac Tec Syst SPRAYING DEVICE WITH MAGNETIC REINFORCEMENT
DE3009836A1 (en) * 1979-03-19 1980-09-25 Delbar Products METHOD AND DEVICE FOR EXTENDING THE USEFUL LIFE OF SPRAYING CATHODES
EP0144572B1 (en) * 1983-12-05 1989-10-18 Leybold Aktiengesellschaft Magnetron-cathodes for the sputtering of ferromagnetic targets
EP0166256B1 (en) * 1984-06-22 1990-08-08 Westinghouse Electric Corporation Apparatus for coating nuclear fuel pellets with a burnable absorber
DE4301516A1 (en) * 1993-01-21 1994-07-28 Leybold Ag Target cooling with tub
DE29615533U1 (en) * 1996-07-22 1997-02-20 Balzers Prozess Systeme Vertriebs- und Service GmbH, 81245 München Target arrangement with a circular plate, magnetron source for receiving said target arrangement
DE10018858A1 (en) 2000-04-14 2001-10-25 Ardenne Anlagentech Gmbh Magnetron including open, sputtering target, transfers heat to cooling plate by thermal radiation

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2920780A1 (en) * 1978-08-21 1980-03-06 Vac Tec Syst SPRAYING DEVICE WITH MAGNETIC REINFORCEMENT
DE3009836A1 (en) * 1979-03-19 1980-09-25 Delbar Products METHOD AND DEVICE FOR EXTENDING THE USEFUL LIFE OF SPRAYING CATHODES
EP0144572B1 (en) * 1983-12-05 1989-10-18 Leybold Aktiengesellschaft Magnetron-cathodes for the sputtering of ferromagnetic targets
EP0166256B1 (en) * 1984-06-22 1990-08-08 Westinghouse Electric Corporation Apparatus for coating nuclear fuel pellets with a burnable absorber
DE4301516A1 (en) * 1993-01-21 1994-07-28 Leybold Ag Target cooling with tub
DE29615533U1 (en) * 1996-07-22 1997-02-20 Balzers Prozess Systeme Vertriebs- und Service GmbH, 81245 München Target arrangement with a circular plate, magnetron source for receiving said target arrangement
DE10018858A1 (en) 2000-04-14 2001-10-25 Ardenne Anlagentech Gmbh Magnetron including open, sputtering target, transfers heat to cooling plate by thermal radiation

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