DE102013100383A1 - Magnetronanordnung - Google Patents
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Abstract
Description
- Die Erfindung betrifft eine Magnetronanordnung.
- Ein Planarmagnetron besteht bekannterweise aus einem Magnetsystem, einem Kühlsystem, um die Abwärme des Sputterprozesses abzuführen, und einem Target. Das Target wird üblicherweise indirekt mittels eines Kühlsystems gekühlt. Bei speziellen Materialien/Prozessen kann es jedoch erforderlich sein, dass das Targetmaterial nicht gekühlt wird und somit höhere Temperaturen annimmt.
- In diesem Fall ist für die thermische Abschirmung des Magnetsystems zu sorgen. Eine solche Lösung ist in
DE 100 18 858 A1 beschrieben. - Eine weitere bekannte Ausführungsform besteht darin, dass die einzelnen so genannten Targetkacheln mit Federn an die Lagerfläche der Trägerplatte gedrückt werden und damit eine gleichmäßige Lage der Targetkacheln erreicht wird (siehe Magnetronanordnung
100 in1 ). Die Magnetronanordnung100 weist ein Magnetsystem1 sowie ein Kühlsystem2 auf. Mittels Federn5 (die anschaulich eine Federklemmung bilden) wird weiterhin eine homogene Stromkontaktierung gewährleistet. Nachteilig an dieser Ausführung ist, dass durch den Kontakt mit der Trägerplatte3 undefinierte Wärmeübergänge entstehen, welche zu thermischen Spannungen im Target4 (auch bezeichnet als Targetkachel4 ) führen können. Weiterhin wird durch Fertigungstoleranzen und durch Verformungen der Trägerplatte3 infolge der Montagesituation eine vollflächige Auflage zwischen Lagerfläche und Targetkachel4 nicht erreicht, was wiederum im Zusammenwirken mit den Federkräften zu mechanischen Spannungen in der Targetkachel4 führt. Besonders bei spröden Targetmaterialien führen diese mechanischen Spannungen mit zunehmender Materialschwächung zum Bruch der Targetkachel4 . - Verschiedene Ausführungsformen der Erfindung reduzieren oder minimieren thermische und/oder mechanische Spannungen in einer Targetkachel.
- In verschiedenen Ausführungsformen wird eine Magnetronanordnung bereitgestellt, aufweisend: einen Träger; ein auf dem Träger gelagertes Target, wobei der Träger einen Target-Aufnahmebereich zum Aufnehmen des Targets aufweist und eine Aussparung unterhalb des Targets; und eine Klemmstruktur, welche das Target gegen den Träger klemmt derart, dass ein direkter Kraftfluss zwischen der Klemmstruktur und dem Target-Aufnahmebereich bereitgestellt ist.
- In einer Ausgestaltung kann die Aussparung einen Hohlraum zwischen dem Target und dem Träger bilden.
- In noch einer Ausgestaltung kann das Target einen Zentralbereich und mindestens einen Randbereich aufweisen.
- In noch einer Ausgestaltung kann der Zentralbereich dicker sein als der mindestens eine Randbereich.
- In noch einer Ausgestaltung kann die Klemmstruktur teilweise oberhalb des mindestens einen Randbereichs des Targets angeordnet sein.
- In noch einer Ausgestaltung kann die Klemmstruktur den Randbereich des Targets elektrisch leitend koppeln.
- In noch einer Ausgestaltung kann die Aussparung im Wesentlichen (beispielsweise nur) unterhalb des Zentralbereichs des Targets angeordnet sein.
- In noch einer Ausgestaltung kann die Magnetronanordnung ferner eine Magnetstruktur aufweisen; wobei der Träger zwischen der Magnetstruktur und dem Target angeordnet sein kann.
- In noch einer Ausgestaltung kann die Magnetronanordnung ferner eine Kühlungsstruktur aufweisen; wobei der Träger zwischen der Kühlungsstruktur und dem Target angeordnet sein kann.
- Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert.
- Es zeigen
-
1 eine Querschnittansicht einer herkömmlichen Magnetronanordnung; und -
2 eine Querschnittansicht einer Magnetronanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen. - Wie in
2 dargestellt, weist eine Magnetronanordnung200 einen Träger (beispielsweise in Form einer Trägerplatte)3 auf, sowie ein auf einer ersten Seite des Trägers3 auf oder über dem Träger3 angeordnetes (Sputter-)Target4 (auch bezeichnet als Targetkachel4 ) auf. Seitlich zwischen dem Träger3 und dem Target4 kann ein Spalt (beispielsweise ein Vakuumspalt)202 vorgesehen sein. - Das Target
4 kann einen Zentralbereich204 sowie mindestens einen Randbereich206 aufweisen. Der Zentralbereich204 kann dicker sein als der mindestens eine Randbereich206 . - In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann der Träger
3 eine Vertiefung aufweisen, wobei das Target4 teilweise in der Vertiefung aufgenommen sein kann. Dabei kann das Target4 bis zu der Dicke des Randbereichs206 in der Vertiefung aufgenommen sein und der Rest des Targets4 (und somit beispielsweise der Zentralbereich204 ) kann sich aus der Vertiefung heraus erstrecken. - Auf dem Träger
3 und auf dem Target4 , beispielsweise auf dem Randbereich106 des Targets4 kann eine (elektrisch leitfähige) Klemmstruktur5 (beispielsweise in Form einer Federklemmung5 ) zum mechanischen Klemmen und elektrischen Kontaktieren des Targets4 (mittels des Randbereichs206 ) vorgesehen sein. - Weiterhin kann der Träger
3 in dem Bodenbereich der Vertiefung eine oder mehrere weitere Vertiefungen oder eine oder mehrere Aussparungen6 aufweisen, die anschaulich eine zurückgesetzte Lagerfläche6 für das Target4 bildet oder bilden. Anschaulich ist somit ein Target-Aufnahmebereich208 bereitgestellt, auf dem das Target4 aufliegt, wobei das Target4 auf dem Bereich der Vertiefung(en) oder Aussparung(en)6 nicht aufliegt und somit darauf keine Kraft ausgeübt wird. - Die Klemmstruktur
5 und die Gestaltung des Trägers3 können derart gewählt und ausgebildet und zueinander angeordnet sein, dass ein direkter Kraftfluss zwischen der Klemmstruktur5 und dem Target-Aufnahmebereich bereitgestellt ist. - Die Klemmstruktur
5 kann teilweise oberhalb des mindestens einen Randbereichs206 des Targets4 angeordnet sein (anders ausgedrückt lateral überlappend angeordnet sein), und die Klemmstruktur5 kann den Randbereich206 des Targets4 elektrisch leitend koppeln. - Wie in
2 ferner dargestellt, weist die Magnetronanordnung200 auf einer der ersten Seite des Trägers3 gegenüberliegenden zweiten Seite des Trägers3 eine Magnetstruktur1 (anders ausgedrückt ein Magnetsystem1 , welches einen oder mehrere Magnete, beispielsweise Permanentmagnete, aufweist) auf. Weiterhin kann auf der zweiten Seite des Trägers3 eine Kühlungsstruktur2 (anders ausgedrückt ein Kühlsystem2 ) vorgesehen sein. - In verschiedenen Ausführungsformen wird eine Magnetronanordnung in Form einer Anordnung zum physikalischen Abscheiden aus der Gasphase (beispielsweise eine Sputter-Anordnung) bereitgestellt mit Planarmagnetrons, wobei die Anordnung eine Magnetronanordnung aufweist, wie sie oben beschrieben wurde und im Folgenden noch näher erläutert wird.
- In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird eine spezielle Gestaltung der Target-Lagerfläche bereitgestellt. Die Auflagebereiche werden beispielsweise auf die Flächen hinter der Federklemmung reduziert, so dass ein direkter Kraftfluss zwischen Federkraft und Auflager gegeben ist. Einige andere oder alle anderen Bereiche werden zurückgesetzt, um thermische und mechanische Einflüsse auf die Targetkachel
4 zu vermeiden. - ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- DE 10018858 A1 [0003]
Claims (9)
- Magnetronanordnung (
200 ), aufweisend: • einen Träger (3 ); • ein auf dem Träger (3 ) gelagertes Target (4 ), wobei der Träger (3 ) einen Target-Aufnahmebereich (208 ) zum Aufnehmen des Targets (4 ) aufweist und eine Aussparung (6 ) unterhalb des Targets (4 ); und • eine Klemmstruktur (5 ), welche das Target (4 ) gegen den Träger (3 ) klemmt derart, dass ein direkter Kraftfluss zwischen der Klemmstruktur (5 ) und dem Target-Aufnahmebereich bereitgestellt ist. - Magnetronanordnung (
200 ) gemäß Anspruch 1, wobei die Aussparung (6 ) einen Hohlraum zwischen dem Target (4 ) und dem Träger (3 ) bildet. - Magnetronanordnung (
200 ) gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei das Target (4 ) einen Zentralbereich (204 ) und mindestens einen Randbereich (206 ) aufweist. - Magnetronanordnung (
200 ) gemäß Anspruch 3, wobei der Zentralbereich (204 ) dicker ist als der mindestens eine Randbereich (206 ). - Magnetronanordnung (
200 ) gemäß Anspruch 3 oder 4, wobei die Klemmstruktur (5 ) teilweise oberhalb des mindestens einen Randbereichs (206 ) des Targets (4 ) angeordnet ist. - Magnetronanordnung (
200 ) gemäß Anspruch 5, wobei die Klemmstruktur (5 ) den Randbereich (206 ) des Targets (4 ) elektrisch leitend koppelt. - Magnetronanordnung (
200 ) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die Aussparung (6 ) im Wesentlichen unterhalb des Zentralbereichs (206 ) des Targets (4 ) angeordnet ist. - Magnetronanordnung (
200 ) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, ferner aufweisend: • eine Magnetstruktur (1 ); • wobei der Träger (3 ) zwischen der Magnetstruktur (1 ) und dem Target (4 ) angeordnet ist. - Magnetronanordnung (
200 ) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8, ferner aufweisend: • eine Kühlungsstruktur (2 ); • wobei der Träger (3 ) zwischen der Kühlungsstruktur (2 ) und dem Target (4 ) angeordnet ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
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DE102013100383A1 true DE102013100383A1 (de) | 2014-07-17 |
DE102013100383B4 DE102013100383B4 (de) | 2019-12-05 |
Family
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DE102013100383.4A Expired - Fee Related DE102013100383B4 (de) | 2013-01-15 | 2013-01-15 | Magnetronanordnung |
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DE (1) | DE102013100383B4 (de) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE10018858A1 (de) | 2000-04-14 | 2001-10-25 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Magnetronanordnung |
WO2004007791A1 (de) * | 2002-07-10 | 2004-01-22 | Interpane Entwicklungs- Und Beratungsgesellschaft Mbh & Co. Kg | Targetträgeranordnung |
US6689254B1 (en) * | 1990-10-31 | 2004-02-10 | Tokyo Electron Limited | Sputtering apparatus with isolated coolant and sputtering target therefor |
WO2007098858A1 (de) * | 2006-03-02 | 2007-09-07 | Gfe Fremat Gmbh | Targetanordnung |
-
2013
- 2013-01-15 DE DE102013100383.4A patent/DE102013100383B4/de not_active Expired - Fee Related
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R081 | Change of applicant/patentee |
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R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
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