DE102012209005A1 - Seed template useful for producing multicrystalline silicon ingots, comprises crystalline seed pieces with axial and lateral orientation, in which adjacent seed pieces are arranged so that their axial orientations are mutually parallel - Google Patents
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- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 15
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 56
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 25
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 23
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 8
- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims description 3
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims description 3
- 241000201976 Polycarpon Species 0.000 abstract 1
- 241000283690 Bos taurus Species 0.000 description 19
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 15
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 12
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 12
- 244000052616 bacterial pathogen Species 0.000 description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000004830 Super Glue Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 4
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 3
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000035784 germination Effects 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001632427 Radiola Species 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- FGBJXOREULPLGL-UHFFFAOYSA-N ethyl cyanoacrylate Chemical compound CCOC(=O)C(=C)C#N FGBJXOREULPLGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 2
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-[[2-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(2-methylphenyl)ethyl]amino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C(CNC=2C=3N=CN(C=3N=CN=2)[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)C=2C(=CC=CC=2)C)=C1 BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B11/00—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
- C30B11/14—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method characterised by the seed, e.g. its crystallographic orientation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B28/00—Production of homogeneous polycrystalline material with defined structure
- C30B28/04—Production of homogeneous polycrystalline material with defined structure from liquids
- C30B28/06—Production of homogeneous polycrystalline material with defined structure from liquids by normal freezing or freezing under temperature gradient
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/06—Silicon
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0236—Special surface textures
- H01L31/02363—Special surface textures of the semiconductor body itself, e.g. textured active layers
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
- H01L31/1804—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof comprising only elements of Group IV of the Periodic Table
- H01L31/182—Special manufacturing methods for polycrystalline Si, e.g. Si ribbon, poly Si ingots, thin films of polycrystalline Si
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Abstract
Description
Die Erfindung betrifft eine Keimvorlage. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Herstellung von Keimvorlagen. Außerdem betrifft die Erfindung eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Herstellung von multikristallinen Silizium-Ingots. Schließlich betrifft die Erfindung einen nach diesem Verfahren hergestellten Silizium-Ingot und aus einem derartigen Silizium-Ingot hergestellte Wafer.The invention relates to a germ template. The invention further relates to a method for the production of seed templates. Moreover, the invention relates to an apparatus and a method for producing multicrystalline silicon ingots. Finally, the invention relates to a silicon ingot produced by this process and to wafers produced from such a silicon ingot.
Keimvorlagen für die Verwendung bei der Herstellung von Silizium-Ingots sind beispielsweise aus der
Es besteht fortwährend Bedarf, die Herstellung von Silizium-Ingots zu verbessern.There is a continuing need to improve the production of silicon ingots.
Eine Aufgabe der Erfindung besteht darin, Keimvorlagen für die Herstellung von Silizium-Ingots zu verbessern.An object of the invention is to improve seed templates for the production of silicon ingots.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruches 1 gelöst. This object is solved by the features of
Der Kern der Erfindung besteht darin, Keimvorlagen mit einer Mehrzahl von kristallinen Keimstücken auszubilden, wobei benachbarte Keimstücke derart angeordnet sind, dass ihre axiale <100>-Orientierung parallel zueinander ausgerichtet ist, ihre lateralen Orientierungen hingegen gegeneinander verdreht sind. The gist of the invention is to form seed templates having a plurality of crystalline seed pieces with adjacent seed pieces arranged such that their axial <100> orientation is oriented parallel to one another, while their lateral orientations are rotated against each other.
Die axiale <100>-Orientierung der Keimstücke führt zu einer entsprechenden Orientierung des an die Keimstücke in Axialrichtung angrenzenden, kristallisierenden Silizium-Ingots. Sie führt somit zu einem Silizium-Ingot mit einer axialen <100>-Orientierung. Dies führt zu besonders vorteilhaften Eigenschaften des Silizium-Ingots, insbesondere zu einer Texturierbarkeit durch alkalische Ätzlösungen. The axial <100> orientation of the seed pieces results in a corresponding orientation of the crystallizing silicon ingots adjacent to the seed pieces in the axial direction. It thus leads to a silicon ingot with an axial <100> orientation. This leads to particularly advantageous properties of the silicon ingot, in particular to a texturability by alkaline etching solutions.
Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass durch eine gegeneinander verdrehte Anordnung der Keimstücke die Kristallsymmetrie an deren Grenzen unterbrochen wird, wodurch sich verhindern lässt, dass sich Versetzungen über diese Grenzen hinaus ausbreiten. Die Grenzen bilden somit mit anderen Worten Hindernisse für die Ausbreitung von Versetzungen. Die lateralen Orientierungen, insbesondere die laterale <100>-Orientierung benachbarter Keimstücke ist insbesondere um mindestens 15° gegeneinander verdreht. Es handelt sich somit insbesondere um Großwinkelkorngrenzen.According to the invention, it has been recognized that the crystal symmetry at its boundaries is interrupted by a twisted arrangement of the seed pieces, whereby it is possible to prevent dislocations from spreading beyond these limits. In other words, borders are obstacles to the spread of displacements. The lateral orientations, in particular the lateral <100> orientation of adjacent seed pieces, are in particular rotated by at least 15 ° relative to one another. These are thus in particular large angle grain boundaries.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung sind die Kernstücke derart angeordnet, dass in einer senkrecht zur Axialrichtung verlaufenden Ebene Opferbereiche zwischen den Keimstücken verbleiben. Unter einem Opferbereich sei hierbei ein Bereich verstanden, in welchem eine einheitliche Kristallstruktur angrenzender Bereiche durchbrochen wird und sich insbesondere eine unregelmäßige Kristallstruktur ausbildet. In derartigen Opferbereichen kann ein Spannungsabbau durch Versetzungsbildung erfolgen. According to one aspect of the invention, the core pieces are arranged such that in a plane extending perpendicular to the axial direction sacrificial areas remain between the seed pieces. In this context, a sacrificial region is understood as meaning a region in which a uniform crystal structure of adjacent regions is broken through and, in particular, an irregular crystal structure is formed. In such sacrificial areas, stress relaxation may occur by dislocation formation.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung kann vorgesehen sein, die Keimstücke möglichst dicht, insbesondere spaltfrei nebeneinander anzuordnen. Sie können insbesondere derart angeordnet sein, dass sie in Richtung senkrecht zur Axialrichtung, d. h. in Lateralrichtung, vorzugsweise im Bereich ihrer Seitenwände, aneinander stoßen. Sie können hierbei insbesondere nach Art einer Parkettierung, insbesondere nach Art einer Tesselation, insbesondere einer regulären Tesselation, angeordnet sein. Sie bilden mit anderen Worten Kachel-Elemente, vorzugsweise mit kongruentem, polygonalem Querschnitt. Sie können insbesondere dreieckig, viereckig, insbesondere quadratisch, oder sechseckig ausgebildet sein. According to one aspect of the invention, it may be provided to arrange the seed pieces as closely as possible, in particular without gaps, next to each other. They may in particular be arranged such that they are in the direction perpendicular to the axial direction, d. H. in the lateral direction, preferably in the region of their side walls, abut one another. They may in this case in particular be arranged in the manner of a tiling, in particular in the manner of a tessellation, in particular a regular tessellation. In other words, they form tile elements, preferably with a congruent, polygonal cross-section. In particular, they can be triangular, quadrangular, in particular square, or hexagonal.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung sind die Keimstücke derart angeordnet, dass mindestens drei, insbesondere mindestens vier, insbesondere mindestens sechs Keimstücke an einem gemeinsamen Eckpunkt aneinander stoßen. Eine derartige Anordnung gilt üblicherweise als ungünstig für die Herstellung von Silizium-Ingots, da sie insbesondere energetisch ungünstig für ein Einkristallwachstum ist. Überraschenderweise wurde jedoch gefunden, dass sie für die Herstellung multikristalliner Silizium-Ingots vorteilhaft ist, da sie die Ausbreitung von Versetzungen unterdrücken, insbesondere verhindern kann.According to one aspect of the invention, the seed pieces are arranged such that at least three, in particular at least four, in particular at least six seed pieces abut one another at a common corner point. Such an arrangement is usually considered to be unfavorable for the production of silicon ingots, since it is in particular energetically unfavorable for a single crystal growth. Surprisingly, however, it has been found that it is advantageous for the production of multicrystalline silicon ingots, since it can suppress, in particular prevent, the propagation of dislocations.
Die Keimstücke können auch einen runden, insbesondere einen kreisförmigen Querschnitt aufweisen. Sie können in diesem Fall dicht gepackt oder beabstandet zueinander angeordnet sein. The seed pieces may also have a round, in particular a circular cross-section. They may be tightly packed or spaced apart in this case.
Allgemein beträgt die Packungsdichte der Keimvorlage, definiert durch das Verhältnis der Summe der Querschnitte sämtlicher Keimstücke der Keimvorlage zum Querschnitt der gesamten Keimvorlage, mindestens 0,5. Die Packungsdichte beträgt insbesondere mindestens 0,6, insbesondere mindestens 0,7, insbesondere mindestens 0,78. In general, the packing density of the seed sample, defined by the ratio of the sum of the cross sections of all seed pieces of the seed sample to the cross section of the entire seed sample, is at least 0.5. The packing density is in particular at least 0.6, in particular at least 0.7, in particular at least 0.78.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung wurde erkannt, dass eine große Anzahl von Korngrenzen zur Verhinderung der Ausbreitung von Versetzungen vorteilhaft sein kann, im Gegensatz zu den üblichen Bestrebungen, möglichst großflächige Keimstücke zu verwenden, ist daher vorgesehen, eine größere Anzahl relativ kleiner Keimstücke zur Ausbildung der Keimvorlage nebeneinander anzuordnen. Die einzelnen Keimstücke weisen insbesondere in Richtung senkrecht zur Axialrichtung einen Querschnitt von weniger als 25 cm2, insbesondere im Bereich von 0,5 cm2 bis 16 cm2, insbesondere im Bereich von 2 cm2 bis 10 cm2, insbesondere im Bereich von 2,7 cm2 bis 6 cm2, insbesondere im Bereich von 4 cm2 bis 6cm2 auf. Ihre Ausdehnung in Axialrichtung liegt insbesondere im Bereich von 0,5 cm bis 5 cm, insbesondere im Bereich von 1 cm bis 3 cm. Die Anzahl der Keimstücke der Keimvorlage kann mehr als 10, insbesondere mehr als 20, insbesondere mehr als 50, insbesondere mehr als 100 betragen.According to another aspect of the invention, it has been recognized that a large number of grain boundaries may be advantageous in preventing the propagation of dislocations, thus providing a larger number of relatively small seed pieces for formation, in contrast to the usual efforts to use as large as possible seed pieces to arrange the germ template next to each other. The individual seed pieces have, in particular in the direction perpendicular to the axial direction, a cross section of less than 25 cm 2 , in particular in the range of 0.5 cm 2 to 16 cm 2 , in particular in the range of 2 cm 2 to 10 cm 2 , in particular in the range of 2.7 cm 2 to 6 cm 2, in particular in the range from 4 cm 2 to 6cm 2. Their extension in the axial direction is in particular in the range of 0.5 cm to 5 cm, in particular in the range of 1 cm to 3 cm. The number of seed pieces of the seed sample may be more than 10, in particular more than 20, in particular more than 50, in particular more than 100.
Prinzipiell kann die Keimvorlage Abmessungen aufweisen, welche durch Hinzufügen weiterer Keimstücke beliebig erweiterbar sind. In principle, the germ template can have dimensions which can be extended as desired by adding further germ elements.
Insbesondere im Falle von Keimstücken mit einem runden Querschnitt können diese derart angeordnet werden, dass ihre lateralen Orientierungen eine zufällige oder quasi-zufällige Verteilung aufweisen. Unter einer zufälligen Verteilung sei hierbei eine Verteilung verstanden, welche keinen vorbestimmten System folgt. Ist die Anzahl der Keimstücke einer Keimvorlage groß genug, insbesondere beispielsweise mindestens 20, kommt es bei einer derartigen Anordnung der Keimstücke in der Regel von selbst zur Ausbildung von Großwinkelkorngrenzen zumindest zwischen einem Teil der Keimstücke. Unter einer quasi-zufälligen Anordnung, d. h. einer Anordnung gemäß einer quasi-zufälligen Verteilung, sei verstanden, dass die Keimstücke gezielt derart angeordnet werden, dass ihre lateralen Orientierungen eine bestimmte zufällig, d. h. stochastisch erscheinende Verteilung aufweisen. Especially in the case of seed pieces with a round cross-section, they can be arranged such that their lateral orientations have a random or quasi-random distribution. In this case, a random distribution is understood to mean a distribution which does not follow a predetermined system. If the number of seed pieces of a seed sample is large enough, in particular, for example, at least 20, such an arrangement of the seed pieces usually results in the formation of large-angle grain boundaries, at least between a part of the seed pieces. Under a quasi-random arrangement, i. H. an arrangement according to a quasi-random distribution, it should be understood that the seed pieces are selectively arranged such that their lateral orientations a certain random, d. H. have stochastically appearing distribution.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung sind die Keimstücke relativ zueinander fixiert. Sie können insbesondere mechanisch miteinander verbunden sein. Sie können insbesondere zu einem festen Gefüge miteinander verbunden sein. Sie können insbesondere auf einer gemeinsamen Grundplatte angeordnet sein. Sie können beispielsweise mit benachbarten Keimstücken und/oder mit der Grundplatte verklebt und/oder verschmolzen sein. Sie können insbesondere mittels eines organischen Klebstoffs, insbesondere mittels Sekundenkleber, d. h. einem Cyanacrylat-Klebstoff, miteinander und/oder mit der Grundplatte verklebt sein. According to another aspect of the invention, the seed pieces are fixed relative to each other. In particular, they can be mechanically interconnected. In particular, they can be connected to one another in a solid structure. In particular, they can be arranged on a common base plate. For example, they can be glued and / or fused to adjacent seed pieces and / or to the base plate. They can in particular by means of an organic adhesive, in particular by means of superglue, d. H. a cyanoacrylate adhesive, bonded together and / or with the base plate.
Die Keimstücke können auch in einen Schlicker, insbesondere in einen Siliziumnitrid-Schlicker oder einen Siliziumoxid-Schlicker, eingebettet werden. The seed pieces can also be embedded in a slurry, in particular in a silicon nitride slurry or a silicon oxide slurry.
Die Keimstücke können auch miteinander verschmolzen sein. Sie können insbesondere mittels eines Laserverfahrens miteinander verschmolzen sein.The seed pieces can also be fused together. In particular, they can be fused together by means of a laser process.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen Keimvorlagen anzugeben.Another object of the invention is to provide a method for producing the seed templates according to the invention.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruchs 9 gelöst.This object is solved by the features of
Die Vorteile entsprechen den bereits beschriebenen.The advantages correspond to those already described.
Vorzugsweise werden die Keimstücke aus einem oder mehreren Kristallstücken mit einer bekannten <100>-Orientierung hergestellt. Sie werden insbesondere aus einem monokristallinen Siliziumstück hergestellt. Preferably, the seed pieces are prepared from one or more pieces of crystal having a known <100> orientation. They are produced in particular from a monocrystalline silicon piece.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung ist vorgesehen, die Keimstücke aus einer sogenannten Schwarte eines Silizium-Ingots, insbesondere eines monokristallinen Silizium-Ingots, herzustellen. Die Schwarte bezeichnet hierbei den Randbereich, welcher beim Quadrieren eines kreiszylinderförmigen Silizium-Ingots entfernt wird. Durch die Verwendung der Schwarte zur Herstellung der Keimstücke kann diese sinnvoll genutzt werden. Hierdurch wird die Ausbeute des nutzbaren Volumens des Silizium-Ingots gesteigert. According to one aspect of the invention, it is provided to produce the seed pieces from a so-called rind of a silicon ingot, in particular a monocrystalline silicon ingot. The rind here refers to the edge area, which is removed when squaring a circular cylindrical silicon ingot. By using the rind for producing the germ parts, this can be used meaningfully. As a result, the yield of the usable volume of the silicon ingot is increased.
Die Keimstücke können aus dem Kristallstück, insbesondere aus der Schwarte, gesägt, geschnitten oder ausgebohrt werden. The seed pieces can be sawed, cut or drilled out of the crystal piece, in particular from the rind.
Weitere Aufgaben der Erfindung bestehen darin, eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Herstellung von multikristallinen Silizium-Ingots zu verbessern.Other objects of the invention are to improve an apparatus and a method for producing multicrystalline silicon ingots.
Diese Aufgaben werden durch die Merkmale der Ansprüche 10 und 11 gelöst.These objects are achieved by the features of
Die Vorteile entsprechen den vorhergehend mit Bezug auf die Keimvorlage und deren Herstellung beschriebenen.The advantages are the same as those described above with reference to the seed and its preparation.
Beim Verfahren zur Herstellung eines multikristallinen Silizium-Ingots werden die Keimstücke angeschmolzen. Sie werden insbesondere in Axialrichtung von oben angeschmolzen. Sie werden insbesondere höchstens bis zu einer Anschmelzlinie angeschmolzen. Es wird insbesondere sichergestellt, dass die Keimstücke nicht vollständig aufgeschmolzen werden. Sie werden höchstens so weit aufgeschmolzen, dass die Ausdehnung des festen, kristallinen Bereichs in Axialrichtung noch mindestens 0,5 cm beträgt. In the process for producing a multicrystalline silicon ingot, the seed pieces are melted. They are melted in particular in the axial direction from above. In particular, they are melted at most up to a melting line. In particular, it is ensured that the seed pieces are not completely melted. They are melted at most so far that the extent of the solid, crystalline region in the axial direction is still at least 0.5 cm.
Durch die Anordnung der Keimstücke der mindestens einen Keimvorlage auf der Bodenwand des Tiegels zur Herstellung des Silizium-Ingots kann die Lage von Korngrenzen im Ingot, welche im Wesentlichen parallel zur Axialrichtung verlaufen, vorgegeben werden. Hierunter sei verstanden, dass die Korngrenzen im Ingot einen Winkel von höchstens 10° mit der Axialrichtung einschließen. Die Korngrenzen können sich ausgehend von den Keimstößen zwischen benachbarten Keimstücken über mindestens 50 %, insbesondere mindestens 75 %, insbesondere mindestens 90 % der Ausdehnung des Silizium-Ingots in Axialrichtung erstrecken.By arranging the seed pieces of the at least one seed deposit on the bottom wall of the crucible for producing the silicon ingot, the position of grain boundaries in the ingot, which run essentially parallel to the axial direction, can be predetermined. This is understood to mean that the grain boundaries in the ingot enclose an angle of at most 10 ° with the axial direction. The Grain boundaries may extend over at least 50%, in particular at least 75%, in particular at least 90%, of the extent of the silicon ingot in the axial direction, starting from the seed joints between adjacent seed pieces.
Weitere Aufgaben der Erfindung bestehen darin, einen Silizium-Ingot und einen Wafer aus multikristallinen Silizium zu verbessern. Diese Aufgaben werden durch die Merkmale der Ansprüche 13 und 14 gelöst. Der erfindungsgemäß hergestellte, multikristalline Silizium-Ingot ist zum einen besonders defektarm. Des Weiteren weist er über mindestens 50 %, insbesondere mindestens 60 %, insbesondere mindestens 70 %, insbesondere mindestens 80%, insbesondere mindestens 90 %, insbesondere mindestens 95 %, insbesondere mindestens 99 % seiner Querschnittsfläche eine einheitliche axiale <100>-Orientierung auf. Die aus dem erfindungsgemäß hergestellten Ingot herstellbaren Wafer weisen daher eine besonders gute Texturierbarkeit durch alkalische Ätzlösungen auf. Other objects of the invention are to improve a silicon ingot and a wafer of multicrystalline silicon. These objects are achieved by the features of
Die erfindungsgemäß hergestellten Wafer weisen insbesondere über mindestens 80 %, insbesondere mindestens 90 %, insbesondere mindestens 95 % der Waferfläche Kristallkörner mit einem Durchmesser im Bereich von 5 mm bis 50 mm auf. Die Kristallkörner weisen insbesondere parallel zur Waferoberfläche einen Querschnitt auf, welcher im Wesentlichen dem Querschnitt der Keimstücke entspricht. Ihr Querschnitt weicht insbesondere um höchstens 10 % vom Querschnitt der Keimstücke ab. The wafers produced according to the invention have, in particular over at least 80%, in particular at least 90%, in particular at least 95% of the wafer surface, crystal grains having a diameter in the range from 5 mm to 50 mm. The crystal grains have, in particular parallel to the wafer surface, a cross section which substantially corresponds to the cross section of the seed pieces. In particular, their cross-section deviates by at most 10% from the cross-section of the seed pieces.
Mindestens 60 %, insbesondere mindestens 70 %, insbesondere mindestens 80 %, insbesondere mindestens 90 %, insbesondere mindestens 95 %, insbesondere mindestens 99 % der Kristallkörner weisen eine <100>-Orientierung auf, die parallel zur Flächennormale des Wafers orientiert ist. At least 60%, in particular at least 70%, in particular at least 80%, in particular at least 90%, in particular at least 95%, in particular at least 99% of the crystal grains have a <100> orientation which is oriented parallel to the surface normal of the wafer.
Außerdem ist die Mehrheit dieser Kristallkörner, insbesondere mindestens 50%, insbesondere mindestens 60 %, insbesondere mindestens 70 %, insbesondere mindestens 80 %, insbesondere mindestens 90 % derselben, durch Großwinkelkorngrenzen voneinander getrennt. Moreover, the majority of these crystal grains, in particular at least 50%, in particular at least 60%, in particular at least 70%, in particular at least 80%, in particular at least 90% thereof, are separated from one another by large-angle grain boundaries.
Weitere Vorteile und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der Zeichnungen. Es zeigen:Further advantages and details of the invention will become apparent from the description of embodiments with reference to the drawings. Show it:
Im Folgenden wird exemplarisch der allgemeine Aufbau einer Vorrichtung zur Herstellung von Silizium-Ingots, insbesondere zur Herstellung von multikristallinen Silizium-Ingots, beschrieben. Die Vorrichtung wird auch als Kristallisationsanlage
Zusätzlich oder alternativ zu den Heizplatten
Vorzugsweise sind die Heizplatten
Die Kokille
Die Kokille
Am Boden der Kokille
Im Folgenden werden allgemeine Merkmale eines Verfahrens zur Herstellung eines Silizium-Ingots beschrieben. Zunächst wird die Kristallisationsanlage
Sodann wird Rohmaterial in der Kokille
Das Rohmaterial wird insbesondere zum Ankeimen von oben ausgehend geschmolzen. Hierbei sickert das geschmolzene Silizium in der Kokille
Zur Herstellung des Silizium-Ingots wird die Temperatur in der Kokille
Im Folgenden werden die Keimvorlagen
Die Keimvorlagen
Wie in der
Bei der in
Die Keimstücke
Bei der in
Prinzipiell sind auch Keimstücke
Die Keimstücke
Je nach Querschnitt der Keimstücke
Die Keimstücke
Die Keimstücke
Die Keimvorlage
Die Keimvorlage kann senkrecht zur Axialrichtung einen Querschnitt von mindestens 400 cm2, insbesondere mindestens 900 cm2, insbesondere mindestens 1600 cm2, insbesondere mindestens 2500 cm2 aufweisen.The germ template may have a cross section of at least 400 cm 2 , in particular at least 900 cm 2 , in particular at least 1600 cm 2 , in particular at least 2500 cm 2 , perpendicular to the axial direction.
Eine einzelne Keimvorlage
Die Keimstücke
Die Keimstücke
Vorzugsweise weisen sämtliche Keimstücke
Wie in den
Es ist jedoch ebenso möglich, die Einkristallstäbe
Zur Herstellung der Keimvorlagen
Wie bereits beschrieben, kann vorgesehen sein, die Keimstücke
Mit den erfindungsgemäßen Verfahren ist es möglich, Keimvorlagen
Außerdem sind die Abmessungen der Keimvorlagen
Bei dem in
Im Falle von Keimstücken
Grundsätzlich ist es möglich, die Keimstücke
Gemäß einer in
Die Schwarte
Die Keimstücke
Sofern die Keimstücke
Prinzipiell ist es möglich, die Keimstücke
Die Details der beschriebenen Ausführungsbeispiele, insbesondere die Herstellung und/oder geometrische Ausbildung der Keimstücke
Bei der Kristallisation der Silizium-Schmelze
Die Wafer umfassen eine Vielzahl von Kristallkörnern, deren Abmessungen in Richtung senkrecht zur Axialrichtung
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
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Zitierte PatentliteraturCited patent literature
- WO 2010/088046 A1 [0002, 0065] WO 2010/088046 A1 [0002, 0065]
- DE 102005013410 B4 [0048, 0055] DE 102005013410 B4 [0048, 0055]
Claims (15)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE102012209005.3A DE102012209005B4 (en) | 2012-05-29 | 2012-05-29 | Keimvorlage and method for producing the same and apparatus and method for producing a silicon ingot |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102012209005A1 true DE102012209005A1 (en) | 2013-12-05 |
DE102012209005B4 DE102012209005B4 (en) | 2016-11-17 |
Family
ID=49579356
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE102012209005.3A Expired - Fee Related DE102012209005B4 (en) | 2012-05-29 | 2012-05-29 | Keimvorlage and method for producing the same and apparatus and method for producing a silicon ingot |
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DE (1) | DE102012209005B4 (en) |
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---|---|---|---|---|
CN112746321A (en) * | 2019-10-31 | 2021-05-04 | 赛维Ldk太阳能高科技(新余)有限公司 | Seed crystal laying method, preparation method of mono-like silicon ingot and mono-like silicon ingot |
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