DE102011103749A1 - Multi-channel detection device for detecting field components of magnetic field vector produced by magnetic field line camera, has sensor chips whose respective associated Hall-sensors form separate measuring channel - Google Patents

Multi-channel detection device for detecting field components of magnetic field vector produced by magnetic field line camera, has sensor chips whose respective associated Hall-sensors form separate measuring channel Download PDF

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Abstract

The device has sensor chips (10,20) formed in silicon substrate (1). The chips have equal number of Hall sensors (11,12,21,22) on active surface along a line specific interval. The sensor chips on the carrier are arranged, such that Hall sensors of sensor chips are aligned orthogonally to each other. The respective associated Hall-sensors of sensor chips form a separate measuring channel.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine integrierte mehrkanalige Detektorvorrichtung zum Erfassen der Feldkomponenten eines magnetischen Feldvektors.The present invention relates to an integrated multi-channel detector device for detecting the field components of a magnetic field vector.

Integrierte Magnetfeldsensoren, die den Hall-Effekt zum Erfassen eines magnetischen Feldes nutzen, weisen beispielsweise einen quadratischen, plattenförmigen elektrischen Leiter auf, an dessen vier Schmalseiten oder Ecken jeweils eine Kontaktelektrode vorgesehen ist. Die Kontaktelektroden sind mit einer elektronischen Schaltung verbunden. Jeweils zwei an dem plattenförmigen elektrischen Leiter gegenüberliegend angeordnete Kontaktelektroden werden zu einem Kontaktelektrodenpaar zusammengefasst. Die Elektroden eines Kontaktelektrodenpaares sind jeweils am elektrischen Leiter gegenüberliegend angeordnet. Über das erste Kontaktelektrodenpaar kann ein Strom zur Erzeugung eines Stromflusses durch den plattenförmigen elektrischen Leiter eingeprägt werden. Das zweite Kontaktelektrodenpaar dient als Messkontaktelektrodenpaar, mit dem die Hall-Spannung abgegriffen werden kann, die bei einem anliegenden Magnetfeld senkrecht zur Richtung des eingeprägten Stromflusses in dem leitfähigen Bereich des Magnetfeldsensors entsteht.Integrated magnetic field sensors that use the Hall effect to detect a magnetic field, for example, have a square, plate-shaped electrical conductor, on whose four narrow sides or corners each have a contact electrode is provided. The contact electrodes are connected to an electronic circuit. In each case two contact electrodes arranged opposite the plate-shaped electrical conductor are combined to form a pair of contact electrodes. The electrodes of a pair of contact electrodes are each arranged opposite to the electrical conductor. Via the first contact electrode pair, a current for generating a current flow through the plate-shaped electrical conductor can be impressed. The second contact electrode pair serves as a measuring contact electrode pair, with which the Hall voltage can be tapped, which arises in an applied magnetic field perpendicular to the direction of the impressed current flow in the conductive region of the magnetic field sensor.

Bei in CMOS Technologie integrierten Hall-Sensoren besteht das elektrisch leitfähige Gebiet zum Beispiel aus einem n-dotierten Halbleiterbereich auf einem p-dotierten Substrat eines Siliziumchips. Bei sog. lateral integrierten Hall-Sensoren erstreckt sich der plattenförmige elektrisch leitfähige n-dotierte Bereich parallel zur Oberfläche des Halbleiterchips. Durch die CMOS Technologie können mehrere Hall-Sensoren inklusive einer zugehörigen elektronischen Schaltung monolithisch in einem Chip integriert werden, so dass Hall-Sensor-Module mit jeweils mehreren parallel arbeitenden Messkanälen realisierbar sind, die zum Beispiel durch Anreihung für einen magnetfeldempfindlichen Zeilensensor geeignet sind.For example, in Hall sensors integrated in CMOS technology, the electrically conductive region consists of an n-doped semiconductor region on a p-doped substrate of a silicon chip. In so-called laterally integrated Hall sensors, the plate-shaped electrically conductive n-doped region extends parallel to the surface of the semiconductor chip. By CMOS technology several Hall sensors including an associated electronic circuit can be monolithically integrated in a chip, so that Hall sensor modules, each with several parallel measuring channels can be realized, which are suitable, for example, by baying for a magnetic field-sensitive line sensor.

Nachteilig an einem Zeilensensor mit lateral integrierten Hall-Sensoren ist, dass nur eine senkrecht zur Oberfläche eines integrierten Hall-Sensor-Moduls wirkende Komponente eines magnetischen Feldvektors erfassbar ist.A disadvantage of a line sensor with laterally integrated Hall sensors is that only a component of a magnetic field vector acting perpendicular to the surface of an integrated Hall sensor module can be detected.

Die vorliegende Erfindung hat sich somit die Aufgabe gestellt, ein Hall-Sensor-Modul mit mehreren Kanälen bereitzustellen, welche ein mehrdimensionales Erfassen eines magnetischen Feldvektors ermöglicht.The present invention has thus set itself the task of providing a Hall sensor module with multiple channels, which allows a multi-dimensional detection of a magnetic field vector.

Zur Lösung dieser Aufgabe schlägt die vorliegende Erfindung eine mehrkanalige Detektorvorrichtung zum Erfassen der Feldkomponenten eines magnetischen Feldvektors in zumindest zwei Raumrichtungen vor. Diese Detektorvorrichtung umfasst wenigstens einen ersten Sensorchip und einen zweiten Sensorchip sowie einen Träger. Der erste Sensorchip und der zweite Sensorchip besitzen jeweils eine gleiche Anzahl von wenigstens zwei Hall-Sensoren, die auf einer aktiven Oberfläche des jeweiligen Sensorchips entlang einer Linie in Abständen zueinander angeordnet sind. Der erste Sensorchip und der zweite Sensorchip sind auf dem Träger derart angeordnet, dass die Hall-Sensoren des ersten Sensorchips zu den Hall-Sensoren des zweiten Sensorchips jeweils orthogonal zueinander ausgerichtet sind. Jeder Hall-Sensor des ersten Sensorchips ist dabei einem separaten Hall-Sensor des zweiten Sensorchips zugeordnet. Die jeweils zugeordneten Hall-Sensoren der ersten Sensorchips und des zweiten Sensorchips bilden einen separaten Messkanal.To achieve this object, the present invention proposes a multi-channel detector device for detecting the field components of a magnetic field vector in at least two spatial directions. This detector device comprises at least a first sensor chip and a second sensor chip and a carrier. The first sensor chip and the second sensor chip each have an equal number of at least two Hall sensors which are arranged on an active surface of the respective sensor chip along a line at intervals from each other. The first sensor chip and the second sensor chip are arranged on the carrier such that the Hall sensors of the first sensor chip are aligned in each case orthogonal to the Hall sensors of the second sensor chip. Each Hall sensor of the first sensor chip is assigned to a separate Hall sensor of the second sensor chip. The respective associated Hall sensors of the first sensor chips and of the second sensor chip form a separate measuring channel.

Vorteilhafter Weise sind die Hall-Sensoren des ersten und zweiten Sensorchips jeweils in gleichmäßigen Abständen entlang der Linie zueinander angeordnet.Advantageously, the Hall sensors of the first and second sensor chips are each arranged at regular intervals along the line to each other.

Eine vorteilhafte Ausbildungsform sieht vor, dass die Detektorvorrichtung wenigstens zwei dritte Sensorchips umfasst, die zum Erfassen einer weiteren magnetischen Feldkomponente in einer dritten Raumrichtung ausgebildet sind. Die dritten Sensorchips besitzen jeweils wenigstens einen Hall-Sensor und sind jeweils derart auf dem Träger angeordnet, dass jeder dritte Sensorchip einem der Messkanäle zugeordnet ist.An advantageous embodiment provides that the detector device comprises at least two third sensor chips, which are designed to detect a further magnetic field component in a third spatial direction. The third sensor chips each have at least one Hall sensor and are each arranged on the carrier in such a way that every third sensor chip is assigned to one of the measuring channels.

Die vorliegende Erfindung stellt mit dieser bevorzugten Ausführung eine Detektorvorrichtung zum dreidimensionalen Erfassen eines magnetischen Feldes bereit, wobei die magnetischen Feldvektoren in einem räumlich eng begrenzten Bereich zumindest zweikanalig abgetastet werden können.The present invention provides with this preferred embodiment a detector device for the three-dimensional detection of a magnetic field, wherein the magnetic field vectors can be scanned in a spatially narrow range at least two channels.

Die Messkanäle weisen bevorzugt einen äquidistanten Abstand zueinander auf, so dass mit der Detektorvorrichtung ein 3D magnetfeldempfindlicher Zeilensensor mit einer konstanten örtlichen Abtastung bereitgestellt werden kann.The measuring channels preferably have an equidistant distance from each other, so that a 3D magnetic field-sensitive line sensor with a constant local scanning can be provided with the detector device.

Sämtliche Hall-Sensoren sind dafür bevorzugt gleichartig aufgebaut.All Hall sensors are preferably of similar construction.

Besonders vorteilhaft sind sämtliche Hall-Sensoren im Wesentlichen in einer gemeinsamen Ebene angeordnet, die parallel zur Ebene der Trägers liegt. Die magnetischen Feldvektoren sind somit sowohl in allen Raumrichtungen, als auch in allen räumlich beabstandeten Messkanälen mit im Wesentlichen vergleichbaren Toleranzen zu erfassen.Particularly advantageously, all Hall sensors are arranged substantially in a common plane, which is parallel to the plane of the carrier. The magnetic field vectors can thus be detected in all spatial directions as well as in all spatially-spaced measurement channels with substantially comparable tolerances.

Die Sensorchips können ein Siliziumsubstrat enthalten, in dem die Hall-Sensoren mit zumindest einem Teil einer Auswerteelektronik mittels CMOS Technologie monolithisch integriert sind.The sensor chips may include a silicon substrate in which the Hall sensors with at least a part of an evaluation by means of CMOS technology monolithic integrated.

Durch die monolithische Integration können beispielsweise für jeden einzelnen Hall-Sensor mehrere Hall-Sensorelemente zum Beispiel auch mit unterschiedlichen Sensor-Geometrien bereitgestellt werden, die in Verbindung mit der Elektronik eine Offset-Kompensation ermöglichen.Due to the monolithic integration, it is possible, for example, to provide a plurality of Hall sensor elements for each individual Hall sensor, for example also with different sensor geometries, which enable offset compensation in conjunction with the electronics.

In einer weiteren bevorzugten Ausführung der Erfindung kann auch der Träger ein Siliziumsubstrat enthalten, in dem zumindest ein Teil einer Auswerteelektronik mittels CMOS Technologie monolithisch integriert ist. Dieses ermöglicht eine integrierte Signalaufbereitung bzw. eine Abgleich aller Sensoren eines jeweiligen Messkanals sowie ggf. einen Abgleich der einzelnen Messkanäle untereinander.In a further preferred embodiment of the invention, the carrier can also contain a silicon substrate in which at least part of an evaluation electronics are monolithically integrated by means of CMOS technology. This enables an integrated signal processing or an adjustment of all sensors of a respective measurement channel and, if necessary, an adjustment of the individual measurement channels with each other.

Der Träger und die Sensorchips der Detektorvorrichtung können mittels Bonddrähten, leitfähigem Klebstoff und/oder Lötverbindungen elektrisch miteinander verbunden werden.The carrier and the sensor chips of the detector device can be electrically connected to one another by means of bonding wires, conductive adhesive and / or solder joints.

Erfindungsgemäß wird ein hybrid integriertes Bauelement mit einer Detektorvorrichtung bereitgestellt. Das Bauelement umfasst eine Anzahl monolithisch integrierter CMOS Hall-Sensor-Chips, die auf einem gemeinsamen Träger angeordnet sind und den Aufbau eines magnetfeldempfindlichen Zeilensensors mit einer Auflösung im Bereich von zum Beispiel 1 mm als Zeilenabstand ermöglichen.According to the invention, a hybrid integrated component is provided with a detector device. The device comprises a number of monolithically integrated CMOS Hall sensor chips, which are arranged on a common carrier and allow the construction of a magnetic field-sensitive line sensor with a resolution in the range of, for example, 1 mm as line spacing.

Die Erfindung umfasst auch eine magnetfeldempfindliche Zeilenkamera mit wenigstens einer zuvor beschriebenen mehrkanaligen Detektorvorrichtung, die insbesondere für metallurgische Analyseverfahren, d. h. in der Materialkunde, geeignet ist.The invention also encompasses a magnetic-field-sensitive line scan camera with at least one multi-channel detector device described above, which is particularly suitable for metallurgical analysis methods, ie. H. in materials science, is suitable.

Eine solche magnetfeldempfindliche Zeilenkamera ist zum Beispiel zur Kontrolle von Schweißverbindungen in Rohren oder zur Detektion von Fehlstellen oder von Rost auf ferromagnetischen Materialien geeignet.Such a magnetic field-sensitive line scan camera is suitable, for example, for checking welded joints in pipes or for detecting defects or rust on ferromagnetic materials.

Eine erfindungsgemäße Detektorvorrichtung wird nachfolgend anhand einer beispielhaften Ausführungsform eines Hall-Sensor-Moduls unter Bezugnahme auf eine Figur detailliert beschrieben.A detector device according to the invention will be described in detail below with reference to an exemplary embodiment of a Hall sensor module with reference to a figure.

Die Figur zeigt ein fünfkanaliges 3D-Hall-Sensor-Modul zum Erfassen der Feldkomponenten der Feldvektoren eines magnetischen Feldes in allen drei Raumrichtungen.The figure shows a five-channel 3D Hall sensor module for detecting the field components of the field vectors of a magnetic field in all three spatial directions.

Das in der Figur beispielhaft dargestellte Hall-Sensor-Modul umfasst einen Träger 1, der vorteilhaft aus einem Siliziumsubstrat hergestellt ist. Der Träger 1 besteht im Wesentlichen aus einem Siliziumchip, auf dessen Oberfläche zumindest eine Metallisierungsebene vorgesehen ist. In der Zeichnung sind beispielhaft die Kontaktfelder 18 und 38 als ein wesentlicher Bestandteil der Metallisierungsebene dargestellt. Des Weiteren sind Leiterbahnenstrukturen mit den Metallisierungsebenen realisierbar, die in der Figur nicht explizit dargestellt sind. Auf der Oberfläche des Trägers 1 kann ein Passivierungsoxid vorgesehen sein, das in den Bereichen der Kontaktfelder 18 und 38 entsprechende Kontaktfenster aufweist. Die dargestellten Kontaktfelder 18 und 38 können beispielsweise die Bondpads für elektrische Verbindungen durch Bonddrähte, Klebe- oder Lötverbindungen bereitstellen.The Hall sensor module exemplified in the figure comprises a carrier 1 which is advantageously made of a silicon substrate. The carrier 1 consists essentially of a silicon chip, on the surface of which at least one metallization plane is provided. In the drawing are exemplary the contact fields 18 and 38 represented as an essential part of the metallization level. Furthermore, conductor track structures can be realized with the metallization levels, which are not explicitly shown in the figure. On the surface of the carrier 1 For example, a passivation oxide may be provided in the areas of the contact pads 18 and 38 has corresponding contact window. The illustrated contact fields 18 and 38 For example, the bond pads may provide electrical connections through bond wires, glue or solder joints.

Die Siliziumoberfläche des Trägers 1 kann eine zum Beispiel mittels CMOS Technologie integrierte Schaltung beinhalten, mit der Messsignale des Hall-Sensor-Moduls elektronisch aufbereitet werden können.The silicon surface of the carrier 1 may include, for example, a CMOS technology integrated circuit, with the measurement signals of the Hall sensor module can be processed electronically.

Auf dem Träger 1 ist eine Anzahl Siliziumchips 10, 20 und 30 angeordnet, die durch adhäsives Bonden zum Beispiel mittels Klebstoff an der Oberfläche des Trägers befestigt werden.On the carrier 1 is a number of silicon chips 10 . 20 and 30 arranged by adhesive bonding, for example by means of adhesive to the surface of the carrier.

Der erste Siliziumchip 10 stellt ein integriertes Sensor-Mikrosystem dar, das beispielhaft eine Anzahl von fünf Hall-Sensoren umfasst. Die Hall-Sensoren sind durch die mit den Bezugszeichen 11, 12, 13, 14 und 15 gekennzeichneten quadratischen Strukturen auf der aktiven Oberfläche des ersten Siliziumchips 10 angedeutet. Die skizzierten Hall-Sensoren können jeweils mehrere miteinander verschaltete Hall-Sensorelemente umfassen. Durch unterschiedliche Hall-Sensorelementen, die sich zum Beispiel in ihrer räumlichen Ausrichtung und/oder in ihren geometrischen Formen oder Dimensionierungen voneinander unterscheiden, können verschiedene Messfehler (z. B. Offsets) kompensiert werden.The first silicon chip 10 FIG. 10 illustrates an integrated sensor microsystem that includes, by way of example, a number of five Hall sensors. The Hall sensors are identified by the reference numerals 11 . 12 . 13 . 14 and 15 characterized square structures on the active surface of the first silicon chip 10 indicated. The sketched Hall sensors may each comprise a plurality of interconnected Hall sensor elements. Different Hall sensor elements, which differ from one another for example in their spatial orientation and / or in their geometric shapes or dimensions, can be used to compensate for different measurement errors (eg offsets).

Den Hall-Sensoren kann jeweils eine in der Chipoberfläche integrierte Schaltung zugeordnet sein, die neben einer Verschaltung für eine Offset-Fehlerkompensation einen Signalverstärker aufweisen kann. Eine solche integrierte Schaltung zur Signalaufbereitung ist aus Gründen der Darstellbarkeit und der besseren Übersicht wegen in der Figur nicht dargestellt.The Hall sensors may each be associated with an integrated circuit in the chip surface, which may have a signal amplifier in addition to an interconnection for offset error compensation. Such an integrated circuit for signal conditioning is not shown for reasons of representability and better clarity in the figure.

Auf der Oberfläche des dargestellten Siliziumchips 10 ist eine Anzahl von Kontaktflächen 16 zu erkennen, die für die elektrische Kontaktierung des Siliziumchips 10 dienen.On the surface of the illustrated silicon chip 10 is a number of contact surfaces 16 to recognize that for the electrical contacting of the silicon chip 10 serve.

Die Oberfläche des in Figur dargestellten Trägers 1 ist parallel zu der Ebene ausgerichtet, die von der x- und y-Achse des Koordinatensystems definiert wird. Die fünf Hall-Sensoren 11, 12, 13, 14 und 15 des ersten Siliziumchips 10 sind somit entlang einer in x-Richtung ausgerichteten Linie in gleichmäßigen Abständen zueinander angeordnet. Außerdem sind die Hall-Sensoren, wie aus der Figur zu entnehmen ist, parallel zur x-y-Ebene ausgerichtet, so dass die in z-Richtung wirkenden Feldkomponenten der magnetischen Feldvektoren von den in x-Richtung beabstandeten Hall-Sensoren parallel erfasst werden können.The surface of the carrier shown in FIG 1 is aligned parallel to the plane defined by the x and y axes of the coordinate system. The five Hall sensors 11 . 12 . 13 . 14 and 15 of the first silicon chip 10 are thus uniform along an x-directional line Spaced apart. In addition, as can be seen from the figure, the Hall sensors are aligned parallel to the xy plane, so that the field components of the magnetic field vectors acting in the z direction can be detected in parallel by the x-directional Hall sensors.

Der erste Siliziumchip 10 bildet somit eine in x-Richtung ausgedehnte fünfkanalige Detektorvorrichtung zur Erfassung der z-Feldkomponenten eines magnetischen Feldes.The first silicon chip 10 thus forms an extended in the x-direction five-channel detector device for detecting the z-field components of a magnetic field.

Der erste Siliziumchip 10 ist rückseitig auf dem Silizium-Träger 1 befestigt. Die Kontaktflächen 16 auf der Oberfläche des ersten Siliziumchips 10 sind somit parallel zu den Kontaktflächen 18 auf der Chipoberfläche des Trägers 1 ausgerichtet. Der erste Siliziumchip 10 kann mit dem Träger 1 über Bonddrähte elektrisch verbunden werden. Das dazu verwendete Bondwerkzeug kann beim Bonden auf die in Z-Richtung beabstandet und parallel zueinander ausgerichteten Kontaktflächen des ersten Siliziumchips 10 und des Trägers 1 jeweils waagerecht aufgesetzt werden. Der in z-Richtung vorhandene Höhenunterschied kann, wie beim herkömmlichen Packaging in einem IC-Gehäuse, durch den Loop im Bonddraht ausgeglichen werden.The first silicon chip 10 is on the back of the silicon carrier 1 attached. The contact surfaces 16 on the surface of the first silicon chip 10 are thus parallel to the contact surfaces 18 on the chip surface of the carrier 1 aligned. The first silicon chip 10 can with the carrier 1 be electrically connected via bonding wires. During bonding, the bonding tool used for this purpose can be spaced apart in the Z direction and aligned parallel to one another by contact surfaces of the first silicon chip 10 and the vehicle 1 each be placed horizontally. The height difference in the z-direction can be compensated for by the loop in the bonding wire, as in conventional packaging in an IC package.

Der zweite Siliziumchip 20 ist im Wesentlichen identisch zu dem ersten Siliziumchip 10 aufgebaut. Im Unterschied zu dem ersten Siliziumchip 10 ist der zweite Siliziumchip 20 in Bezug auf eine Längsachse um 90° gedreht auf dem Träger 1 angeordnet. Die an die Kontaktflächen 26 auf der Oberfläche angrenzende längliche Seite des zweiten Siliziumchips 20 ist daher entsprechend für ein entsprechendes Bondverfahren auf dem Träger 1 vorbereitet.The second silicon chip 20 is essentially identical to the first silicon chip 10 built up. Unlike the first silicon chip 10 is the second silicon chip 20 with respect to a longitudinal axis rotated by 90 ° on the support 1 arranged. The to the contact surfaces 26 on the surface adjacent elongated side of the second silicon chip 20 is therefore correspondingly for a corresponding bonding process on the support 1 prepared.

Die Hall-Sensoren 21, 22, 23, 24 und 25 sind in y-Richtung parallel zu den Hall-Sensoren 11, 12, 13, 14 und 15 des ersten Siliziumchips 10 verschoben und in den gleichmäßigen Abständen entlang einer in x-Richtung ausgerichteten Linie angeordnet.The Hall sensors 21 . 22 . 23 . 24 and 25 are in the y-direction parallel to the Hall sensors 11 . 12 . 13 . 14 and 15 of the first silicon chip 10 shifted and arranged at equal intervals along an x-directional line.

Die Oberfläche des zweiten Siliziumchips 20 ist parallel zu der x-z-Ebene des in der Figur definierten Koordinatensystems ausgerichtet und somit orthogonal zu der Oberfläche des ersten Siliziumchips 10. Die Hall-Sensoren 21, 22, 23, 24 und 25 sind somit zum Erfassen der in y-Richtung wirkenden Feldkomponenten von magnetischen Feldvektoren geeignet.The surface of the second silicon chip 20 is aligned parallel to the xz-plane of the coordinate system defined in the figure and thus orthogonal to the surface of the first silicon chip 10 , The Hall sensors 21 . 22 . 23 . 24 and 25 are thus suitable for detecting the y-directional field components of magnetic field vectors.

Die elektrische Kontaktierung des zweiten Siliziumchips 20 erfolgt über die Kontaktflächen 26, die rechtwinklig zu einer entsprechenden Kontaktebene des Trägers 1 angeordnet sind. Diese Kontaktebene wird durch den ersten Siliziumchip 10 verdeckt und ist damit in der Figur nicht zu erkennen. Eine elektrisch leitfähige Verbindung zwischen den zugeordneten Kontaktflächen von Siliziumchip 20 und Träger 1 kann zum Beispiel durch einen leitfähigen Klebstoff oder durch Lötverbindungen gewährleistet werden.The electrical contacting of the second silicon chip 20 takes place via the contact surfaces 26 perpendicular to a corresponding contact plane of the carrier 1 are arranged. This contact level is through the first silicon chip 10 hidden and is therefore not visible in the figure. An electrically conductive connection between the associated contact surfaces of silicon chip 20 and carriers 1 can be ensured for example by a conductive adhesive or by solder joints.

Der zweite Siliziumchip 20 stellt somit eine in x-Richtung ausgedehnte fünfkanalige Detektorvorrichtung zum Erfassen der in y-Richtung wirkenden Feldkomponenten von magnetischen Feldvektoren bereit.The second silicon chip 20 thus provides an extended in the x-direction five-channel detector device for detecting the acting in the y direction field components of magnetic field vectors.

Die Hall-Sensoren des ersten und des zweiten Siliziumchips 10 und 20 sind im Wesentlichen in einer gemeinsamen Ebene, die parallel zur Ebene der Trägers 1 liegt, angeordnet. Das heißt, die in der x-z-Ebene ausgerichteten Hall-Sensoren 21, 22, 23, 24 und 25 des zweiten Siliziumchips 20 weisen in z-Richtung zumindest durchschnittlich den gleichen Abstand zum Träger 1 auf wie die in x-y-Richtung ausgerichteten Hall-Sensoren 11, 12, 13, 14 und 15 des ersten Siliziumchips 10.The Hall sensors of the first and second silicon chips 10 and 20 are essentially in a common plane that is parallel to the plane of the wearer 1 lies, arranged. That is, the Hall sensors aligned in the xz plane 21 . 22 . 23 . 24 and 25 of the second silicon chip 20 have in the z-direction at least on average the same distance from the carrier 1 like the xy-direction Hall sensors 11 . 12 . 13 . 14 and 15 of the first silicon chip 10 ,

Der erste Siliziumchip 10 und der zweite Siliziumchip 20 wirken zusammen und bilden somit eine fünfzeilige Detektorvorrichtung, mit der in y- und z-Richtung wirkende Feldkomponenten von magnetischen Feldvektoren gleichzeitig erfasst werden können.The first silicon chip 10 and the second silicon chip 20 act together and thus form a five-line detector device, with the acting in the y and z direction field components of magnetic field vectors can be detected simultaneously.

Zum Erfassen einer dritten, d. h. in x-Richtung wirkende Feldkomponente sind bei dem in der Figur dargestellten Hall-Sensor-Modul fünf weitere Siliziumchips 30 vorgesehen, die jeweils einen integrierten Hall-Sensor 31, 32, 33, 34 und 35 besitzen. Die aktiven Oberflächen der fünf weiteren Siliziumchips 30 sind jeweils in Bezug zu den aktiven Oberflächen des ersten 10 und den zweiten 20 Siliziumchip orthogonal angeordnet.For detecting a third, ie acting in the x-direction field component in the Hall sensor module shown in the figure, five further silicon chips 30 each provided with an integrated Hall sensor 31 . 32 . 33 . 34 and 35 have. The active surfaces of the five other silicon chips 30 are each related to the active surfaces of the first 10 and the second 20 Silicon chip arranged orthogonally.

Die Hall-Sensoren 31, 32, 33, 34 und 35 sind gemäß dem Koordinatensystem der Figur parallel zu der von den y- und z-Achse definierten Ebene ausgerichtet, und somit zum Erfassen der in x-Richtung wirkende Feldkomponenten eines magnetischen Feldvektors ausgebildet. Des Weiteren sind die fünf Siliziumchips 30 derart auf der Oberfläche des Träger 1 ausgerichtet, dass die jeweiligen Hall-Sensoren 31, 32, 33, 34 und 35 entlang einer in x-Richtung ausgerichteten Linie eine gleichmäßig beabstandete Anordnung bilden.The Hall sensors 31 . 32 . 33 . 34 and 35 are aligned according to the coordinate system of the figure parallel to the plane defined by the y- and z-axis, and thus formed for detecting the acting in the x-direction field components of a magnetic field vector. Furthermore, the five silicon chips 30 such on the surface of the carrier 1 aligned that the respective Hall sensors 31 . 32 . 33 . 34 and 35 along a line oriented in the x-direction form a uniformly spaced arrangement.

Die fünf Siliziumchips 30 stellen somit eine in x-Richtung ausgedehnte fünfkanalige Detektorvorrichtung zum Erfassen der in x-Richtung wirkenden Feldkomponenten von magnetischen Feldvektoren bereit.The five silicon chips 30 Thus, provide an extended in the x-direction five-channel detector device for detecting the acting in the x-direction field components of magnetic field vectors.

Die elektrische Kontaktierung der fünf Siliziumchips 30 erfolgt über die Kontaktflächen 36, die rechtwinklig zu den Kontaktflächen 38 des Trägers 1 angeordnet sind. Eine elektrisch leitfähige Verbindung zwischen den zugeordneten Kontaktflächen von Siliziumchip 20 und Träger 1 kann zum Beispiel durch einen leitfähigen Klebstoff oder durch Lötverbindungen (z. B. Lötbumps) gewährleistet werden. Diese leitfähigen Verbindungen sind jeweils in den Bereichen 37 ausgebildet, in denen die Kontaktflächen 36 und 38 aneinanderstoßen.The electrical contacting of the five silicon chips 30 takes place via the contact surfaces 36 perpendicular to the contact surfaces 38 of the carrier 1 are arranged. An electrically conductive connection between the associated contact surfaces of silicon chip 20 and carriers 1 can be ensured, for example, by a conductive adhesive or by solder joints (eg solder bumps). These conductive connections are each in the areas 37 formed, in which the contact surfaces 36 and 38 abut.

Die Hall-Sensoren der fünf Siliziumchips 30 weisen in y-Richtung jeweils den gleichen Abstand zu den Hall-Sensoren des zweiten 20 bzw. des ersten Siliziumchips 10 auf.The Hall sensors of the five silicon chips 30 each have the same distance to the Hall sensors of the second in the y direction 20 or the first silicon chip 10 on.

Die Hall-Sensoren des ersten und zweiten Siliziumchips 10 und 20 sowie der fünf weiteren Siliziumchips 30 bilden eine in x-Richtung ausgedehnte fünfkanalige Detektorvorrichtung, mit der die Feldkomponenten von magnetischen Feldvektoren in x-, y- und z-Richtung erfasst werden können. Jeder Hall-Sensor des ersten Siliziumchips 10 ist mit einem Sensor des zweiten Siliziumchips 20 und einem Hall-Sensor von den fünf weiteren Siliziumchips 30 jeweils zu einem Messkanal zusammengefasst. Jeder dieser Messkanäle umfasst somit drei Hall-Sensoren zur Erfassung jeweils einer Feldkomponente von magnetischen Feldvektoren. Die drei Hall-Sensoren sind entlang einer in y-Richtung ausgerichteten Linie bevorzugt mit gleichmäßigen Abständen zueinander angeordnet.The Hall sensors of the first and second silicon chips 10 and 20 as well as the five other silicon chips 30 form an extended in the x-direction five-channel detector device with which the field components of magnetic field vectors in the x-, y- and z-direction can be detected. Each Hall sensor of the first silicon chip 10 is with a sensor of the second silicon chip 20 and a Hall sensor from the five other silicon chips 30 each combined into a measuring channel. Each of these measuring channels thus comprises three Hall sensors for detecting in each case one field component of magnetic field vectors. The three Hall sensors are preferably arranged along a line oriented in the y-direction with uniform distances from one another.

Die fünf in x-Richtung parallel zueinander angeordneten Messkanäle des dargestellten Hall-Sensor-Moduls bilden eine fünfkanalige Detektorvorrichtung, die eine in x-Richtung ausgedehnte fünfzeilige Abtastung eines Magnetfeldes erlaubt. Die Hall-Sensor-Module können für eine Anreihung in einer geraden oder gekrümmten Ebene vorzugsweise mit gleichem Abstand der Sensoren untereinander und zum jeweils benachbarten Modul ausgelegt werden.The five measuring channels of the illustrated Hall sensor module which are arranged parallel to one another in the x-direction form a five-channel detector device which permits a five-line scanning of a magnetic field which is extended in the x direction. The Hall sensor modules can be designed for a baying in a straight or curved plane, preferably with the same distance between the sensors and with each other to the adjacent module.

Sämtliche Hall-Sensoren sind im Wesentlichen in einer gemeinsamen Ebene angeordnet, die parallel zu der x-y-Ebene liegt. Die oberflächenintegrierten Hall-Sensoren des ersten Siliziumchips 10 sind parallel zur x-y-Ebene ausgerichtet, während die Hall-Sensoren des zweiten Siliziumchips 20 und die der fünf weiteren Siliziumchips 30 jeweils orthogonal in einer von den Hall-Sensoren des ersten Siliziumchips 10 definierten Ebene liegen.All Hall sensors are arranged substantially in a common plane that is parallel to the xy plane. The surface-integrated Hall sensors of the first silicon chip 10 are aligned parallel to the xy plane while the Hall sensors of the second silicon chip 20 and those of the five other silicon chips 30 each orthogonal in one of the Hall sensors of the first silicon chip 10 defined level lie.

Das beispielhaft dargestellte Hall-Sensor-Modul ist bevorzugt als mehrkanalige Detektorvorrichtung für eine magnetfeldempfindliche Zeilenkamera geeignet. Diese kann zum Beispiel für metallurgische Analyseverfahren eingesetzt werden. Zum Abtasten eines ferromagnetischen Materials kann das dargestellte Hall-Sensor-Modul in y-Richtung über eine abzutastende Fläche bewegt werden, so dass ein magnetisches Feld in fünf Zeilen, die in x-Richtung gleichmäßig beabstandet sind, abgetastet wird. Ein örtlicher, bzw. bei Bewegung zeitlicher Versatz bei der Erfassung der x-, y- und z-Komponenten, die durch die beabstandete Anordnung der Siliziumchips 10, 20 und 30 bedingt ist, kann elektronisch kompensiert werden.The hall sensor module shown as an example is preferably suitable as a multi-channel detector device for a magnetic field-sensitive line scan camera. This can be used, for example, for metallurgical analysis methods. For scanning a ferromagnetic material, the Hall sensor module shown can be moved in the y-direction over a surface to be scanned, so that a magnetic field in five lines, which are uniformly spaced in the x-direction, is scanned. A local, or in motion temporal offset in the detection of the x, y and z components, by the spaced arrangement of the silicon chips 10 . 20 and 30 conditional, can be electronically compensated.

Durch die monolithische Integration der Hall-Sensoren in die Siliziumchips 10, 20 und 30 und in Verbindung mit der Aufbau- und Verbindungstechnik (AVT) mittels adhäsivem Bonden der Komponenten auf dem Silizium-Träger 1 können mit dem dargestellten Hall-Sensor-Modul Ortsauflösungen mit einem Zeilenabstand von 1 mm erreicht werden. Die Hall-Sensoren aller Siliziumchips 10, 20 und 30 sind jeweils als laterale Hall-Sensoren in der Chipoberfläche integriert und weisen bevorzugt ein identisches Design auf. Die Ausrichtung der Sensoren zu den zu erfassenden Raumrichtungen erfolgt besonders vorteilhaft durch die räumliche Ausrichtung der Siliziumchips 13, 20 und 30 auf der Oberfläche des Trägers 1.Through the monolithic integration of the Hall sensors into the silicon chips 10 . 20 and 30 and in connection with the assembly and connection technique (AVT) by means of adhesive bonding of the components on the silicon support 1 can be achieved with the illustrated Hall sensor module spatial resolutions with a line spacing of 1 mm. The Hall sensors of all silicon chips 10 . 20 and 30 are each integrated as a lateral Hall sensors in the chip surface and preferably have an identical design. The orientation of the sensors to the spatial directions to be detected is particularly advantageous due to the spatial orientation of the silicon chips 13 . 20 and 30 on the surface of the carrier 1 ,

Claims (10)

Mehrkanalige Detektorvorrichtung zum Erfassen der Feldkomponenten eines magnetischen Feldvektors in zumindest zwei Raumrichtungen (y, z), wobei die Detektorvorrichtung wenigstens einen ersten Sensorchip (10) und einen zweiten Sensorchip (20) sowie einen Träger (1) umfasst, wobei der erste Sensorchip (10) und der zweite Sensorchip (20) jeweils eine gleiche Anzahl von wenigstens zwei Hall-Sensoren (11, 12; 21, 22) besitzen, die auf einer aktiven Oberfläche des jeweiligen Sensorchips (10, 20) entlang einer Linie in Abständen zueinander angeordnet sind, und wobei der erste Sensorchip (10) und der zweite Sensorchip (20) auf dem Träger (1) derart angeordnet sind, dass die Hall-Sensoren (11, 12) des ersten Sensorchips (10) zu den Hall-Sensoren (11, 22) des zweiten Sensorchips (20) jeweils orthogonal zueinander ausgerichtet sind, wobei jeder Hall-Sensor (11, 12) des ersten Sensorchips (10) einem separaten Hall-Sensor (21, 22) des zweiten Sensorchips (20) zugeordnet ist, wobei die jeweils zugeordneten Hall-Sensoren der ersten Sensorchips (10) und des zweiten Sensorchips (20) einen separaten Messkanal bilden.Multi-channel detector device for detecting the field components of a magnetic field vector in at least two spatial directions (y, z), wherein the detector device comprises at least one first sensor chip ( 10 ) and a second sensor chip ( 20 ) as well as a carrier ( 1 ), wherein the first sensor chip ( 10 ) and the second sensor chip ( 20 ) each have an equal number of at least two Hall sensors ( 11 . 12 ; 21 . 22 ) on an active surface of the respective sensor chip ( 10 . 20 ) are arranged along a line at intervals, and wherein the first sensor chip ( 10 ) and the second sensor chip ( 20 ) on the support ( 1 ) are arranged such that the Hall sensors ( 11 . 12 ) of the first sensor chip ( 10 ) to the Hall sensors ( 11 . 22 ) of the second sensor chip ( 20 ) are each aligned orthogonal to each other, each Hall sensor ( 11 . 12 ) of the first sensor chip ( 10 ) a separate Hall sensor ( 21 . 22 ) of the second sensor chip ( 20 ), wherein the respective associated Hall sensors of the first sensor chips ( 10 ) and the second sensor chip ( 20 ) form a separate measuring channel. Detektorvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Hall-Sensoren (11, 12; 21, 22) des ersten und zweiten Sensorchips (10, 20) jeweils entlang der Linie in gleichmäßigen Abständen zueinander angeordnet sind.Detector device according to claim 1, characterized in that the Hall sensors ( 11 . 12 ; 21 . 22 ) of the first and second sensor chips ( 10 . 20 ) are each arranged along the line at regular intervals from each other. Detektorvorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüchen, gekennzeichnet durch wenigstens zwei dritte Sensorchips (30) zum Erfassen einer magnetischer Feldkomponenten in einer dritten Raumrichtung, wobei die dritten Sensorchips (30) wenigstens einen Hall-Sensor (31, 32) besitzen, und wobei die dritten Sensorchips (30) derart auf dem Träger (1) angeordnet sind, dass jeder dritte Sensorchip (30) einem der Messkanäle zugeordnet ist.Detector device according to one of the preceding claims, characterized by at least two third sensor chips ( 30 ) for detecting a magnetic field components in a third spatial direction, wherein the third sensor chips ( 30 ) at least one Hall sensor ( 31 . 32 ), and wherein the third sensor chips ( 30 ) on the support ( 1 ) are arranged such that every third sensor chip ( 30 ) is assigned to one of the measuring channels. Detektorvorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Messkanäle einen äquidistanten Abstand zueinander aufweisen.Detector device according to one of the preceding claims, characterized in that the measuring channels have an equidistant distance from each other. Detektorvorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sämtliche Hall-Sensoren (11, 12; 21, 22; 21, 32) gleichartig aufgebaut sind.Detector device according to one of the preceding claims, characterized in that all Hall sensors ( 11 . 12 ; 21 . 22 ; 21 . 32 ) are constructed identically. Detektorvorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sämtliche Hall-Sensoren (11, 12; 21, 22; 31, 32) im Wesentlichen in einer gemeinsamen Ebene, die parallel zur Ebene der Trägers (1) liegt, angeordnet sind.Detector device according to one of the preceding claims, characterized in that all Hall sensors ( 11 . 12 ; 21 . 22 ; 31 . 32 ) substantially in a common plane parallel to the plane of the carrier ( 1 ), are arranged. Detektorvorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Sensorchips (10, 20, 30) ein Siliziumsubstrat enthalten, in dem die Hall-Sensoren (11, 12; 21, 22; 31, 32) mit zumindest einem Teil einer Auswerteelektronik mittels CMOS Technologie monolithisch integriert sind.Detector device according to one of the preceding claims, characterized in that the sensor chips ( 10 . 20 . 30 ) contain a silicon substrate in which the Hall sensors ( 11 . 12 ; 21 . 22 ; 31 . 32 ) are monolithically integrated with at least part of an evaluation by means of CMOS technology. Detektorvorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Träger (1) ein Siliziumsubstrat enthält, in dem zumindest ein Teil einer Auswerteelektronik mittels CMOS Technologie monolithisch integriert ist.Detector device according to one of the preceding claims, characterized in that the carrier ( 1 ) contains a silicon substrate, in which at least part of an evaluation by means of CMOS technology is monolithically integrated. Detektorvorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Träger (1) und die Sensorchips (10, 20, 30) mittels Bonddrähten, leitfähigem Klebstoff und/oder Lötverbindungen elektrisch miteinander verbunden sind.Detector device according to one of the preceding claims, characterized in that the carrier ( 1 ) and the sensor chips ( 10 . 20 . 30 ) are electrically connected to each other by means of bonding wires, conductive adhesive and / or solder joints. Magnetfeldempfindliche Zeilenkamera für metallurgische Analyseverfahren mit mindestens einer mehrkanaligen Detektorvorrichtung gemäß einem der vorstehenden Ansprüche.Magnetic field-sensitive line scan camera for metallurgical analysis methods with at least one multi-channel detector device according to one of the preceding claims.
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DE102007041230B3 (en) * 2007-08-31 2009-04-09 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Calibratable multi-dimensional magnetic point sensor and corresponding method and computer program therefor
DE102009049639A1 (en) * 2009-10-15 2011-04-21 Ic-Haus Gmbh Circuit arrangement i.e. surface mounted component, for use in magnetic camera for determining direction and magnitude of magnetic field vector, has carrier including connecting contacts on which arrangement is connected to external device

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