DE102011080408A1 - Support for mirror of extreme UV-projection exposure system used in microlithography process to produce small structure in e.g. nanometer range, has actuators associated to bipod holder, mirror connection and support elements as compensator - Google Patents

Support for mirror of extreme UV-projection exposure system used in microlithography process to produce small structure in e.g. nanometer range, has actuators associated to bipod holder, mirror connection and support elements as compensator Download PDF

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Abstract

The support has a bipod holder (2), a mirror connection (6), and support elements (2', 6') for fixedly connecting a mirror (7) with a holder or a housing part (1). Actuators (5, 5') e.g. piezo elements, are associated to the bipod holder, the mirror connection and the support elements as a compensator. The actuators are designed so that an actuating possibility of the actuators is adjusted relative to a type and/or a magnitude of one or multi dimensional position change of position deviations to be expected due to temperature fluctuations, aging phenomena and/or assembly inaccuracies. Independent claims are also included for the following: (1) a projection exposure system (2) a method for operating a projection exposure system.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION

GEBIET DER ERFINDUNGFIELD OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft die Lagerung für ein optisches Element einer Projektionsbelichtungsanlage und eine entsprechende Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere EUV(extrem ultraviolett)-Projektionsbelichtungsanlage sowie ein Verfahren zum Betrieb einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage.The present invention relates to the mounting for an optical element of a projection exposure apparatus and to a corresponding projection exposure apparatus, in particular EUV (extreme ultraviolet) projection exposure apparatus, and a method for operating such a projection exposure apparatus.

STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART

In der Mikrolithografie sind zur Erzeugung kleinster Strukturen im Mikrometer- und Nanometerbereich sogenannte EUV-Projektionsbelichtungsanlagen bekannt, die mit Licht, d.h. elektromagnetischer Strahlung, im Wellenlängenbereich mit Wellenlängen ≤ 193 nm, insbesondere mit Wellenlängen von 11 nm bis 14 nm, vorzugsweise 13,5 nm, betrieben werden. Die Abkürzung EUV steht hierbei für extrem ultraviolett, welche elektromagnetische Strahlung bezeichnet, die auch als weiche Röntgenstrahlung bekannt ist. Entsprechende Projektionsbelichtungsanlagen sind beispielsweise aus der DE 10 2006 043 251 A1 , der EP 1095379 B1 oder der EP 1950594 A1 bekannt. In microlithography so-called EUV projection exposure systems are known for the generation of very small structures in the micrometer and nanometer range, with light, ie electromagnetic radiation, in the wavelength range with wavelengths ≤ 193 nm, in particular with wavelengths of 11 nm to 14 nm, preferably 13.5 nm , operate. The abbreviation EUV stands for extremely ultraviolet, which designates electromagnetic radiation, which is also known as soft X-ray radiation. Corresponding projection exposure systems are for example from DE 10 2006 043 251 A1 , of the EP 1095379 B1 or the EP 1950594 A1 known.

In derartigen EUV-Profjektionsbelichtungsanlagen kommen als optische Elemente Spiegel zum Einsatz, wobei für die Projektionsobjektive Systeme mit unterschiedlicher Anzahl von Spiegeln bekannt sind. Sie zeigen beispielsweise die US 5,063,586 und die US 6,577,443 ein 4-Spiegel-System während die US 6,660,552 ein 6-Spiegel-System und die US 6,710,917 ein 8-Spiegel-System offenbaren. Die Offenbarung dieser Spiegel-Systeme wird durch Verweis vollumfänglich in die vorliegende Offenbarung mit aufgenommen.In such EUV-Profjektionsbelichtungsanlagen come as optical elements mirrors are used, wherein the projection lenses systems with different numbers of mirrors are known. They show, for example, the US 5,063,586 and the US 6,577,443 a 4-mirror system while the US 6,660,552 a 6-mirror system and the US 6,710,917 reveal an 8-mirror system. The disclosure of these mirror systems is fully incorporated by reference into the present disclosure.

Im Stand der Technik werden die Spiegel eines derartigen Mehrspiegelsystems üblicherweise so ausgeführt, dass N – 1 aktive, d. h. aktuierte bzw. betätigbare Spiegel und ein fester Spiegel vorgesehen sind, wobei N die Anzahl der Spiegel des Systems angibt, wie beispielsweise vier, sechs oder acht Spiegel. Unter aktiven bzw. aktuierten Spiegeln ist hierbei zu verstehen, dass die Spiegel in ihrer Position verstellbar sind, um durch die Positionseinstellung der Spiegel Bildfehler korrigieren zu können.In the prior art, the mirrors of such a multi-mirror system are usually designed so that N-1 active, d. H. actuated mirrors and a fixed mirror, where N indicates the number of mirrors of the system, such as four, six or eight mirrors. By active or actuated mirrors is to be understood here that the mirrors are adjustable in their position in order to be able to correct image errors by adjusting the position of the mirrors.

Allerdings sind bei den verstellbaren optischen Elementen bzw. Spiegeln die Verstellbereiche und die Kräfte zur Ausführung der Verstellbewegungen möglichst klein zu halten, da bei großen Verstellbereichen und Verstellkräften die Positioniergenauigkeit eingeschränkt ist. Gleichzeitig stellt jedoch die begrenzte Nachführbarkeit des Wafers und des Retikels bei der Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen einen limitierenden Faktor für die Korrektur von Bildfehlern mittels aktiver Spiegel dar.However, in the case of the adjustable optical elements or mirrors, the adjustment ranges and the forces for carrying out the adjustment movements are to be kept as small as possible since the positioning accuracy is limited in the case of large adjustment ranges and adjusting forces. At the same time, however, the limited traceability of the wafer and the reticle in the microlithography projection exposure apparatus is a limiting factor for the correction of image errors by means of active mirrors.

OFFENBARUNG DER ERFINDUNGDISCLOSURE OF THE INVENTION

AUFGABE DER ERFINDUNGOBJECT OF THE INVENTION

Es ist deshalb Aufgabe der vorliegenden Erfindung die oben beschriebenen Nachteile des Standes der Technik zu vermeiden und eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage bzw. insbesondere eine EUV-Projektionsoptik bereitzustellen, bei denen die Positioniergenauigkeit der Spiegel und somit die Abbildungseigenschaften verbessert werden. Gleichzeitig soll eine entsprechende Projektionsbelichtungsanlage einfach aufgebaut und einfach betreibbar sein.It is therefore an object of the present invention to avoid the disadvantages of the prior art described above and to provide an EUV projection exposure apparatus or in particular an EUV projection optics in which the positioning accuracy of the mirrors and thus the imaging properties are improved. At the same time a corresponding projection exposure system should be simple and easy to operate.

TECHNISCHE LÖSUNGTECHNICAL SOLUTION

Die oben beschriebene Aufgabenstellung wird gelöst durch eine Lagerung für ein optisches Element einer Projektionsbelichtungsanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie einer Projektionsbelichtungsanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 7 und Verfahren zum Betrieb von Projektionsbelichtungsanlagen mit den Merkmalen der Ansprüche 9 oder 10. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.The object described above is achieved by a mounting for an optical element of a projection exposure apparatus having the features of claim 1 and a projection exposure apparatus having the features of claim 7 and a method for operating projection exposure apparatuses with the features of claims 9 or 10. Advantageous embodiments are the subject of dependent claims.

Die Lösung der Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass einem ortsfest zu lagernden optischen Element einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, also z. B. einem ortsfest gelagerten Spiegel in einem Mehrspiegelsystem einer Projektionsoptik, mindestens ein Aktuator zugeordnet wird, welcher Positionierungenauigkeiten aufgrund von Montage-, Temperatur- oder Lifetime-Effekten (wie z. B. Materialausdehnung) entgegen wirkt. Dadurch kann der Verstellbereich bei den aktiven bzw. verstellbaren Spiegeln kleiner gewählt werden und auch die Aktuationskräfte können minimiert werden, sodass die Positioniergenauigkeit sämtlicher optischer Elemente des Systems insgesamt verbessert und somit auch die Abbildungsqualität erhöht werden kann.The solution of the invention is characterized in that a stationary to be stored optical element of a microlithography projection exposure system, ie z. B. a stationarily mounted mirror in a multi-mirror system of a projection optics, at least one actuator is assigned, which positioning inaccuracies due to assembly, temperature or Lifetime effects (such as material expansion) counteracts. As a result, the adjustment range in the active or adjustable mirrors can be selected to be smaller, and the actuation forces can also be minimized, so that the positioning accuracy of all the optical elements of the system as a whole is improved and thus the imaging quality can also be increased.

Entsprechend wird eine Lagerung für ein optisches Element einer Projektionsbelichtungsanlage vorgeschlagen, welche im Wesentlichen als ortsfeste Lagerung ausgebildet ist, wobei die Lagerung mindestens einen Aktuator aufweist, mittels dem Positionsabweichungen des optischen Elements kompensierbar sind.Accordingly, a mounting for an optical element of a projection exposure apparatus is proposed, which is designed essentially as a stationary mounting, wherein the bearing has at least one actuator, by means of the position deviations of the optical element can be compensated.

In diesem Zusammenhang bedeutet ortsfeste Lagerung, dass die Lagerung an sich so ausgeführt ist, dass keine Beweglichkeit mittels der Lagerung erzielt werden soll, sondern lediglich geringfügige Abweichungen von der ursprünglich einzustellenden Position kompensiert werden können. Entsprechend kann der Aktuator so ausgestaltet sein, dass die Art und/oder der Umfang der Aktuatorbetätigung auf die zu erwartenden Positionsabweichungen des optischen Elements, wie beispielsweise eines Spiegels, abgestimmt ist bzw. entsprechend eingeschränkt ist. Anstelle eines großen Verstellbereichs, wie beispielsweise bei einem aktiv verstellbaren optischen Element ist der Aktuator somit bei der ortsfesten Lagerung lediglich darauf ausgerichtet geringfügige Positionsänderungen aufgrund von Temperaturschwankungen, Alterungserscheinungen oder Montageungenauigkeiten zu kompensieren.In this context, stationary storage means that the storage itself is designed so that no mobility should be achieved by means of storage, but only slight deviations from the original position to be adjusted can be compensated. Accordingly, the actuator can be configured such that the type and / or scope of the actuator operation is matched to the expected position deviations of the optical element, such as a mirror, or is correspondingly limited. Instead of a large adjustment range, such as in an actively adjustable optical element, the actuator is thus only designed to compensate for minor positional changes due to temperature fluctuations, aging phenomena or assembly inaccuracies in the stationary storage.

Die Lagerung kann hierbei einen oder mehrere Aktuatoren umfassen, die eindimensionale oder mehrdimensionale Positionsveränderungen bzw. Aktuatorbetätigungen ermöglichen.The bearing may in this case comprise one or more actuators which enable one-dimensional or multi-dimensional position changes or actuator actuations.

Um eine möglichst einfachere Kompensation von Positionsveränderungen von Positionsabweichungen mittels des oder der Aktuatoren zu ermöglichen, kann der Aktuator unmittelbar mit dem oder den Lagerelementen der Lagerung für das optische Element verbunden sein, sodass bei der Betätigung des Aktuators die selben Verhältnisse vorherrschen, die bei der Positionsabweichung des optischen Elements gegeben sind. Mit anderen Worten kann durch eine unmittelbare Anordnung des Aktuators an dem zu kompensierenden Lagerelement beispielsweise der gleiche Drehpunkt oder die gleiche Drehachse zur Kippkorrektur genutzt werden, die für die Verkippung des optischen Elements verantwortlich ist. Kommt es beispielsweise durch ein Lagerelement zu einer Längenausdehnung, so kann ein unmittelbar an dem Lagerelement angeordneter Aktuator durch entsprechende Verkürzung des Aktuators der Längenänderung entgegenwirken. Entsprechend kann allgemein der Aktuator so angeordnet werden, dass die Positionsänderung bzw. allgemeine Betätigung des Aktuators unmittelbar der Positionsabweichung entgegenwirkt.In order to facilitate the simplest possible compensation of changes in position of position deviations by means of the actuator or actuators, the actuator may be directly connected to the one or more bearing elements of the storage for the optical element, so prevail in the actuation of the actuator, the same conditions that in the position deviation of the optical element are given. In other words, by a direct arrangement of the actuator on the bearing element to be compensated for example, the same pivot point or the same axis of rotation can be used for tilt correction, which is responsible for the tilting of the optical element. If, for example, a linear expansion occurs through a bearing element, then an actuator arranged directly on the bearing element can counteract the change in length by a corresponding shortening of the actuator. Accordingly, in general, the actuator can be arranged so that the position change or general actuation of the actuator directly counteracts the position deviation.

Dem ein oder mehrere Sensorelemente zugeordnet sein, mittels denen die Positionsabweichung von einer gewünschten Sollposition ermittelt werden kann. Allerdings kann der Aktuator auch ohne zugeordneten Sensorelement betrieben werden, da aus den Sensorsignalen und bekannten Verstellwegen weiterer optischer Elemente in einer Projektionsbelichtungsanlage, z. B. der aktiven Spiegel in einem Mehrspiegelsystem, die notwendigen Betätigungen des Aktuators ermittelt werden können. Insbesondere können bei einem Mehrspiegelsystem einer Projektionsbelichtungsanlage die aktiven optischen Elemente Sensorelemente aufweisen bzw. die Projektionsbelichtungsanlage eine Überwachungseinrichtung für die Abbildungsqualität umfassen, mittels denen der oder die Akuatoren der ortsfesten Lagerung betrieben werden können.To be associated with the one or more sensor elements by means of which the position deviation can be determined from a desired desired position. However, the actuator can also be operated without associated sensor element, since from the sensor signals and known adjustment paths of further optical elements in a projection exposure apparatus, for. As the active mirror in a multi-mirror system, the necessary operations of the actuator can be determined. In particular, in a multi-mirror system of a projection exposure apparatus, the active optical elements may comprise sensor elements or the projection exposure apparatus may comprise a monitoring device for the imaging quality by means of which the one or more stationary storage actuators can be operated.

Folglich können bei einem System aktiver bzw. verstellbarer optischer Elemente und eines ortsfesten optischen Elements durch das Vorsehen einer Kompensationsmöglichkeit für Positionsabweichungen des ortsfest angeordneten optischen Elements mittels der erfindungsgemäßen Lagerung der Verstellbereich und die Betätigungskräfte für die aktiv verstellbaren optischen Elemente klein gehalten werden, so dass die Positioniergenauigkeit insgesamt, also für alle optische Elemente des Systems, und somit die Abbildungsqualität verbessert werden kann.Thus, in a system of active optical elements and a fixed optical element, by providing compensation for positional deviations of the fixedly arranged optical element by means of the support according to the invention, the adjustment range and the actuation forces for the actively variable optical elements can be kept small Positioning accuracy overall, so for all optical elements of the system, and thus the imaging quality can be improved.

Entsprechend wird erfindungsgemäß ein System optischer Elemente, wie z. B. eine Projektionsoptik einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage mit einem Mehrspiegelsystem, vorgeschlagen, bei dem alle optischen Elemente, also beispielsweise alle Spiegel des Mehrspiegelsystems Möglichkeiten zur Positionsveränderung aufweisen, wobei jedoch aktive, justierbare optische Elemente größere Verstellmöglichkeiten aufweisen als die Kompensationsmöglichkeit des ortsfest angeordneten optischen Elements.Accordingly, a system of optical elements, such. Example, a projection optics EUV projection exposure system with a multi-mirror system proposed, in which all optical elements, for example, all mirrors of the multi-mirror system have possibilities for changing position, but active, adjustable optical elements have greater adjustment than the possibility of compensation of the stationarily arranged optical element.

KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWING

Die beigefügte Zeichnung zeigt in rein schematischer Weise die erfindungsgemäße Lagerung eines Spiegels in einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage.The attached drawing shows in a purely schematic way the storage according to the invention of a mirror in an EUV projection exposure apparatus.

AUSFÜHRUNGSBEISPIELEmbodiment

Weitere Vorteile, Kennzeichnungsmerkmale der vorliegenden Erfindung werden bei der nachfolgenden detaillierten Beschreibung eines Ausführungsbeispiels anhand der beigefügten Zeichnung deutlich. Allerdings ist die folgende Erfindung nicht auf dieses Ausführungsbeispiel beschränkt, sondern das Ausführungsbeispiel dient lediglich der beispielhaften Darstellung der Erfindung.Further advantages, characteristic features of the present invention will become apparent in the following detailed description of an embodiment with reference to the accompanying drawings. However, the following invention is not limited to this embodiment, but the embodiment is merely illustrative of the invention.

Die beigefügte Figur zeigt eine Halterung 1 oder ein Gehäuseteil einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage und insbesondere eines EUV-Projektionsobjektivs, an der bzw. dem ein optisches Element in Form eines Spiegels 7 angeordnet ist.The attached figure shows a holder 1 or a housing part of an EUV projection exposure apparatus and in particular an EUV projection objective, on which or an optical element in the form of a mirror 7 is arranged.

Der Spiegel 7 ist über eine Lagerung 2, 6 mit der Halterung bzw. dem Gehäuseteil 1 verbunden. Neben der nachfolgend näher beschriebenen Lagerung 2, 6 können weitere Lagerungen 2´, 6´ zur Verbindung des Spiegels 7 mit der Halterung bzw. dem Gehäuseteil 1 vorgesehen sein. Bei der schematischen Darstellung der beigefügten Figur ist eine zusätzliche Lagerung 2´, 6´ dargestellt, wobei jedoch selbstverständlich ist, dass noch mehrere Lagerungen vorhanden sein können. Die zusätzlichen Lagerungen können identisch oder unterschiedlich ausgebildet sein.The mirror 7 is about a storage 2 . 6 with the holder or the housing part 1 connected. In addition to the storage described in more detail below 2 . 6 can more storages 2' . 6' to connect the mirror 7 with the holder or the housing part 1 be provided. In the schematic representation of the accompanying figure is an additional storage 2' . 6' However, it is understood that several more Storage can be present. The additional bearings may be identical or different.

Die Lagerung 2, 6 des dargestellten Ausführungsbeispiels umfasst eine sogenannte Bipod-Halterung 2 mit zwei Füßen 3, 4, welche im gezeigtem Ausführungsbeispiel an der Halterung bzw. dem Gehäuseteil 1 angeordnet ist und eine Spiegelanbindung 6 aufweist. Insofern weist die Lagerung 2, 6 des Ausführungsbeispiels zwei Lagerelemente, nämlich die Bipod-Halterung 2 und die Spiegelanbindung 6 auf. Tatsächlich kann die Lagerung mehr oder weniger Lagerelemente umfassen, nämlich aus nur einem einzigen Lagerelement gebildet sein oder eine Vielzahl von Lagerelementen aufweisen.Warehousing 2 . 6 of the illustrated embodiment includes a so-called bipod holder 2 with two feet 3 . 4 , which in the embodiment shown on the holder or the housing part 1 is arranged and a mirror connection 6 having. In this respect, the storage points 2 . 6 of the embodiment, two bearing elements, namely the bipod holder 2 and the mirror connection 6 on. In fact, the bearing may comprise more or fewer bearing elements, namely formed from only a single bearing element or have a plurality of bearing elements.

Bei dem gezeigten Ausführungsbeispiel umfasst die Lagerung 2, 6 erfindungsgemäß einen Aktuator 5, der bei dem gezeigten Ausführungsbeispiel zwischen der Bipod-Halterung 2 und der Spiegelanbindung 6 angeordnet ist und beispielsweise als Piezoelement ausgeführt sein kann. Beispielsweise kann der Aktuator 5 als eindimensional betätigbarer Aktuator ausgebildet sein, der beispielsweise eine Verlängerung oder Verkürzung des Aktuators durchführen kann, also entsprechend des dargestellten Koordinatensystems z, y eine eindimensionale Bewegung in z-Richtung ermöglicht. Mittels des Aktuators 5 können somit eindimensionale Positionsveränderungen der Lagerung 2, 6 in z-Richtung kompensiert werden. Weist beispielsweise die Spiegelanbindung 6 ein Material auf, welches sich bei Erwärmung des Spiegels 7 in Betrieb durch die einfallende Strahlungsleistung des EUV-Lichts erwärmt und dadurch in z-Richtung ausdehnt, so kann der Aktuator 5 so betätigt werden, dass dieser Längenänderung entgegengewirkt wird und eine dadurch erzeugte Positionsveränderung des Spiegels 7 vermieden wird.In the embodiment shown, the storage comprises 2 . 6 According to the invention an actuator 5 in the embodiment shown between the bipod holder 2 and the mirror connection 6 is arranged and can be designed for example as a piezoelectric element. For example, the actuator 5 be designed as a one-dimensionally actuable actuator, which can perform, for example, an extension or shortening of the actuator, thus according to the illustrated coordinate system z, y allows a one-dimensional movement in the z-direction. By means of the actuator 5 can thus one-dimensional position changes of storage 2 . 6 be compensated in the z direction. For example, indicates the mirror connection 6 a material that dissipates when the mirror is heated 7 heated in operation by the incident radiation power of the EUV light and thereby expands in the z-direction, so the actuator 5 be actuated so that this change in length is counteracted and thereby generated a change in position of the mirror 7 is avoided.

Entsprechend lässt sich bei einer Projektionsbelichtungsanlage mit einem Spiegel 7, der gemäß dem Ausführungsbeispiel mit Lagerungen 2, 6; 2´, 6´ gelagert ist, eine Positionsabweichung des Spiegels aufgrund von Erwärmung, Montageungenauigkeiten oder Alterungserscheinungen kompensieren. Hierzu können Sensorelemente vorgesehen sein, mittels denen die exakte Position des Spiegels 7 ermittelt werden kann, so dass über eine Steuerungs- und/oder Regelungseinrichtung der oder die Aktuatoren 5, 5´ betätigbar sind, so dass die vorgegebene Position des Spiegels erreicht oder beibehalten wird.Accordingly, in a projection exposure apparatus with a mirror 7 , according to the embodiment with bearings 2 . 6 ; 2' . 6' is stored, compensate for a positional deviation of the mirror due to heating, assembly inaccuracies or signs of aging. For this purpose, sensor elements may be provided by means of which the exact position of the mirror 7 can be determined, so that via a control and / or regulating device of the actuators or 5 . 5 ' are actuated, so that the predetermined position of the mirror is reached or maintained.

Allerdings kann auch auf zusätzliche Sensorelemente, die dem Spiegel 7 zugeordnet sind, verzichtet werden, wenn beispielsweise über entsprechende Sensorelemente und/oder Überwachungseinrichtungen, die anderen optischen Elementen der Projektionsbelichtungsanlage oder insgesamt der Projektionsbelichtungsanlage zugeordnet sind, Positionsabweichungen des Spiegels 7 bzw. eine optimierte Position des Spiegels 7 feststellbar sind.However, even on additional sensor elements, the mirror 7 are assigned, if, for example, via corresponding sensor elements and / or monitoring devices, the other optical elements of the projection exposure system or a total of the projection exposure system are assigned, positional deviations of the mirror 7 or an optimized position of the mirror 7 are detectable.

Der Aktuator 5 ist unmittelbar an den Lagerelementen 2, 6 angeordnet, um unmittelbar dort entstehende Positionsungenauigkeiten kompensieren zu können. Insbesondere ist es vorteilhaft, wenn der Aktuator 5 unmittelbar eine der Positionsveränderung entgegen gerichtete Positionseinstellung vornehmen kann, wie beispielsweise bei einer temperaturbedingten Ausdehnung der Spiegelanbindung in z-Richtung eine entsprechende Längenänderung des Aktuators. Auf diese Weise kann der Aufwand zur Kompensation von Positionsveränderungen klein gehalten werden.The actuator 5 is directly on the bearing elements 2 . 6 arranged to compensate for directly arising there position inaccuracies can. In particular, it is advantageous if the actuator 5 can directly make a position adjustment opposing position adjustment, such as in a temperature-induced expansion of the mirror connection in the z direction a corresponding change in length of the actuator. In this way, the effort to compensate for changes in position can be kept small.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand des dargestellten Ausführungsbeispiels detailliert beschrieben worden ist, ist die Erfindung nicht auf dieses Ausführungsbeispiel beschränkt, sondern es sind viel mehr Abwandlungen in der Weise möglich, dass einzelne Merkmale der vorliegenden Erfindung weggelassen oder andersartig kombiniert werden, ohne dass der Schutzbereich der beigefügten Ansprüche verlassen wird. Insbesondere umfasst die Offenbarung der vorliegenden Erfindung sämtliche Kombinationen aller vorgestellten Einzelmerkmale.Although the present invention has been described in detail with reference to the illustrated embodiment, the invention is not limited to this embodiment, but many more modifications are possible in such a way that individual features of the present invention omitted or otherwise combined, without the scope of the is left attached claims. In particular, the disclosure of the present invention includes all combinations of all featured individual features.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Claims (10)

Lagerung für ein optisches Element einer Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Lagerelement (2, 6; 2´, 6´), mittels dem das optische Element (7) mit einer Halterung oder einem Gehäuse ortsfest verbindbar ist, dadurch gekennzeichnet, dass dem Lagerelement mindestens ein Aktuator (5, 5´) als Kompensator zugeordnet ist, welcher so ausgebildet ist, dass Positionsabweichungen des optischen Elements kompensierbar sind.Mounting for an optical element of a projection exposure apparatus with at least one bearing element ( 2 . 6 ; 2' . 6' ), by means of which the optical element ( 7 ) is fixedly connected to a holder or a housing, characterized in that the bearing element at least one actuator ( 5 . 5 ' ) is assigned as a compensator, which is designed so that position deviations of the optical element can be compensated. Lagerung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Aktuator (5, 5´) so ausgestaltet ist, dass die Betätigungsmöglichkeit des Aktuators bezüglich Art und/oder Größenordnung der Positionsänderung auf die zu erwartenden Positionsabweichungen auf Grund von Temperaturschwankungen, Alterungserscheinungen und/oder Montageungenauigkeiten abgestimmt ist. Bearing according to claim 1, characterized in that the actuator ( 5 . 5 ' ) Is designed so that the possibility of actuation of the actuator with respect to the type and / or magnitude of the change in position on the expected position deviations due to temperature variations, aging phenomena and / or assembly inaccuracies is tuned. Lagerung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Aktuator (5, 5´) eine eindimensionale oder mehrdimensionale Positionsveränderung ermöglicht. Bearing according to claim 1 or 2, characterized in that the actuator ( 5 . 5 ' ) allows a one-dimensional or multi-dimensional position change. Lagerung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Aktuator (5, 5´) unmittelbar mit dem Lagerelement (2, 6; 2´, 6´) verbunden ist. Bearing according to one of the preceding claims, characterized in that the actuator ( 5 . 5 ' ) directly with the bearing element ( 2 . 6 ; 2' . 6' ) connected is. Lagerung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Aktuator (5, 5´) so angeordnet ist, dass die Positionsänderung des Aktuators unmittelbar der Positionsabweichung entgegenwirkt. Bearing according to one of the preceding claims, characterized in that the actuator ( 5 . 5 ' ) is arranged so that the position change of the actuator directly counteracts the position deviation. Lagerung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass dem Aktuator (5, 5´) kein Sensorelement zugeordnet ist. Bearing according to one of the preceding claims, characterized in that the actuator ( 5 . 5 ' ) no sensor element is assigned. Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere EUV-Projektionsbelichtungsanlage, mit mehreren optischen Elementen und mindestens einem, vorzugsweise genau einem, optischen Element (7) mit einer ortsfesten Lagerung, insbesondere nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Lagerung mindestens ein Aktuator (5, 5´) als Kompensator zugeordnet ist, welcher so ausgebildet ist, dass Positionsabweichungen des ortsfesten optischen Elements kompensierbar sind. Projection exposure apparatus, in particular EUV projection exposure apparatus, with a plurality of optical elements and at least one, preferably exactly one, optical element ( 7 ) with a stationary mounting, in particular according to one of the preceding claims, characterized in that the bearing at least one actuator ( 5 . 5 ' ) is assigned as a compensator, which is designed so that position deviations of the stationary optical element can be compensated. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere optische Elemente, insbesondere alle übrigen optischen Elemente der mehreren optischen Elemente, eine verstellbare Lagerung aufweisen, wobei die absolute, maximale Größe der Positionsänderung des Aktuators der ortsfesten Lagerung kleiner ist als die absolute, maximale Größe der Positionsänderungen der verstellbaren Lagerungen. Projection exposure apparatus according to claim 7, characterized in that a plurality of optical elements, in particular all other optical elements of the plurality of optical elements, have an adjustable mounting, wherein the absolute, maximum size of the position change of the actuator of the stationary storage is smaller than the absolute, maximum size of the Position changes of the adjustable bearings. Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere nach einem der Ansprüche 7 oder 8, mit mehreren optischen Elementen, von denen mehrere optische Elemente verstellbare Lagerungen aufweisen und mindestens ein optisches Element (7) eine ortsfeste Lagerung, insbesondere nach einem der Ansprüche 1 bis 6, umfasst, wobei den optischen Elementen mit verstellbarer Lagerung ein oder mehrere Sensorelemente zugeordnet sind und/oder eine Überwachungseinrichtung für die Abbildungsqualität vorgesehen ist, so dass durch Verstellung der verstellbaren Lagerungen die Positioniergenauigkeit der optischen Elemente und/oder die Abbildungsqualität optimiert werden kann, dadurch gekennzeichnet, dass der ortsfesten Lagerung mindestens ein Aktuator (5, 5´) zugeordnet ist, der in Abhängigkeit der ermittelten Daten der Sensorelemente der verstellbaren Lagerungen und/oder der Überwachungseinrichtung betrieben wird. Method for operating a projection exposure apparatus, in particular according to one of Claims 7 or 8, with a number of optical elements, of which several optical elements have adjustable supports and at least one optical element ( 7 ), a stationary mounting, in particular according to one of claims 1 to 6, comprising, wherein the optical elements with adjustable storage one or more sensor elements are assigned and / or a monitoring device is provided for the image quality, so that by adjusting the adjustable bearings, the positioning accuracy of optical elements and / or the image quality can be optimized, characterized in that the stationary storage at least one actuator ( 5 . 5 ' ), which is operated as a function of the determined data of the sensor elements of the adjustable bearings and / or the monitoring device. Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere nach einem der Ansprüche 7 oder 8, mit mehreren optischen Elementen, von denen mehrere optische Elemente verstellbare Lagerungen aufweisen und mindestens ein optisches Element eine ortsfeste Lagerung, insbesondere nach einem der Ansprüche 1 bis 6, umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass der ortsfesten Lagerung mindestens ein Aktuator (5, 5´) als Kompensator zugeordnet ist, welcher so ausgebildet ist, dass Positionsabweichungen des optischen Elements mit ortsfester Lagerung kompensierbar sind. Method for operating a projection exposure apparatus, in particular according to one of claims 7 or 8, with a plurality of optical elements, of which several optical elements have adjustable bearings and at least one optical element comprises a stationary mounting, in particular according to one of claims 1 to 6, characterized in that the stationary bearing has at least one actuator ( 5 . 5 ' ) is assigned as a compensator, which is designed so that positional deviations of the optical element can be compensated with stationary storage.
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