DE102011004494A1 - Filter for filtering undesired light portions in projection exposure system for microlithography, has lattice arrangement formed on glass plate that is transparent to light having particular wavelength or wavelength range - Google Patents

Filter for filtering undesired light portions in projection exposure system for microlithography, has lattice arrangement formed on glass plate that is transparent to light having particular wavelength or wavelength range Download PDF

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Abstract

The filter (4) has multiple fields (7) arranged next to each other, where each field is assigned with a light beam of particular wavelength so as to be transmissive or impermeable based on the wavelength range of the light beam. A lattice arrangement (10) encloses and defines the fields, where the lattice arrangement is formed on a glass plate (9) that is transparent to light having the particular wavelength or wavelength range. The lattice arrangement is formed such that a metal opaque stopper (13) is releasably inserted into the fields. An independent claim is also included for a projection exposure system for microlithography.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION

GEBIET DER ERFINDUNGFIELD OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Filter zum Ausblenden bestimmter Anteile des Arbeitslichts aus einem Strahlengang einer optischen Vorrichtung, insbesondere einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie und eine entsprechende Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Filter.The present invention relates to a filter for masking certain portions of the working light from a beam path of an optical device, in particular a projection exposure apparatus for microlithography and a corresponding projection exposure apparatus with such a filter.

STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART

In Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithographie, mittels denen kleinste Strukturen für die Mikroelektronik, Mikrosystemtechnik oder Nanotechnik hergestellt werden können, werden Beleuchtungssysteme eingesetzt, welche sogenannte Mehrfachspiegelanordnungen (Multi Mirror Arrays MMA) aufweisen können. Die Mehrfachspiegelanordnungen umfassen tausende von kleinen Spiegeln, welche durch Reflexion des Arbeitslichts der Projektionsbelichtungsanlage eine bestimmte Beleuchtungseinstellung durch die Einstellung einer bestimmten Lichtverteilung in einer Pupillenebene ermöglichen. Die Spiegel der Mehrfachspiegelanordnungen können dabei einzeln in ihrer Verkippung eingestellt werden, wobei sogenannte Monitoringsysteme überwachen, ob die entsprechenden Einstellungen richtig vorgenommen werden.In projection exposure systems for microlithography, by means of which the smallest structures for microelectronics, microsystems technology or nanotechnology can be produced, illumination systems are used which may have so-called multi-mirror arrays (MMA). The multi-mirror arrays comprise thousands of small mirrors which, by reflecting the working light of the projection exposure apparatus, allow a certain illumination setting by setting a specific light distribution in a pupil plane. The mirrors of the multi-mirror arrangements can be set individually in their tilt, so-called monitoring systems monitor whether the appropriate settings are made properly.

Unter Arbeitslicht der Projektionsbelichtungsanlage wird hierbei jede geeignete elektromagnetische Strahlung zur Abbildung der Mikro- oder Nanostrukturen verstanden.In this case, working light of the projection exposure apparatus is understood as meaning any suitable electromagnetic radiation for imaging the microstructures or nanostructures.

Aus verschiedenen Gründen, wie beispielsweise durch Probleme im lithographischen Herstellungsprozess der Mehrfachspiegelanordnung, Probleme mit der Ansteuerelektronik, Probleme mit dem Monitoringsystem, Verunreinigungen während des Betriebs und so weiter, können einzelne Spiegel der Mehrfachspiegelanordnung bereits zum Zeitpunkt der Herstellung oder aber auch anschließend während des Betriebs ausfallen. Die ausgefallenen Spiegel, die auch als sogenannte tote Spiegel bezeichnet werden, können dann nicht mehr auf eine gewünschte Position gebracht werden und das Arbeitslicht, das auf diese Spiegel fällt wird in unerwünschter bzw. unkontrollierter Weise reflektiert. Dies kann dazu führen, dass in der Pupillenebene nicht tolerierbare Abweichungen von den Beleuchtungseinstellungen gegeben sind, die insgesamt die Abbildungseigenschaften negativ beeinflussen.For various reasons, such as problems in the lithographic manufacturing process of the multi-mirror assembly, problems with the control electronics, problems with the monitoring system, contamination during operation and so on, individual mirrors of the multi-mirror assembly may already fail at the time of manufacture or subsequently during operation , The failed mirrors, which are also referred to as so-called dead mirrors, can then no longer be brought to a desired position and the working light incident on these mirrors is reflected in an undesired or uncontrolled manner. This can lead to intolerable deviations from the illumination settings in the pupil plane, which altogether negatively influence the imaging properties.

Entsprechend ist bereits versucht worden diese Problematik zu lösen.Accordingly, an attempt has already been made to solve this problem.

Nach dem Stand der Technik wird das Problem mit fehlerhaften Spiegeln dadurch gelöst, dass vermieden wird, dass Licht auf den fehlerhaften Spiegel fallen kann, sodass auch keine unkontrollierte Reflexion des Lichts stattfinden kann. Hierzu wird durch eine fokussierende Mikrolinsenanordnung das einfallende Licht in eine Vielzahl von Lichtstrahlenbündel getrennt, die mit nahezu paralleler Strahlrichtung nebeneinander und hintereinander so auf die Spiegel der Mehrfachspiegelanordnung gerichtet sind, dass jedes Lichtstrahlenbündel auf einen Spiegel trifft. Ist nun ein Spiegel defekt, so kann das zugeordnete Lichtstrahlenbündel durch einen Filter für den defekten Spiegel ausgeblendet werden.According to the prior art, the problem with defective mirrors is solved by avoiding that light can fall on the defective mirror, so that no uncontrolled reflection of the light can take place. For this purpose, the incident light is separated by a focusing microlens arrangement in a plurality of light beams, which are directed with nearly parallel beam direction side by side and one behind the other on the mirrors of the multi-mirror arrangement that each light beam strikes a mirror. Now, if a mirror is defective, the associated light beam can be hidden by a filter for the defective mirror.

Nach dem Stand der Technik werden die entsprechenden Filter so gestaltet, dass auf einer Glasplatte in den Bereichen, in denen das Lichtstrahlenbündel, das ausgeblendet werden soll, auftrifft, eine Chrombeschichtung aufgebracht wird, sodass das auszublendende Lichtstrahlenbündel durch Absorption und Reflexion an einem Auftreffen auf den defekten Spiegel gehindert wurde. Der Filter wurde entsprechend zwischen die fokussierende Mikrolinsenanordnung und die Mehrfachspiegelanordnung gestellt, sodass die lichtundurchlässige Beschichtung in den entsprechenden Bereichen die Lichtstrahlenbündel, die auf defekte Spiegel gerichtet sind, ausblendet.According to the prior art, the corresponding filters are designed so that a chromium coating is applied to a glass plate in the areas in which the light beam, which is to be hidden, so that the light beam to be blended by absorption and reflection of an impact on the defective mirror was hindered. The filter was placed between the focussing microlens array and the multi-mirror array, respectively, so that the opaque coating in the corresponding areas fades out the light beams directed at defective mirrors.

Durch die erforderliche Aufbringung einer Chrombeschichtung ist dieses Verfahren jedoch sehr aufwändig und es kann insbesondere nicht auf eine geänderte Situation bei der Mehrfachspiegelanordnung in geeigneter kurzer Zeit reagiert werden, da bei einem Ausfall eines Spiegels erst eine entsprechende Beschichtung auf die Glasplatte aufgebracht werden muss.Due to the required application of a chromium coating, however, this method is very complicated and, in particular, it is not possible to react to a changed situation in the multi-mirror arrangement in a suitable short time, since in the event of a failure of a mirror only a corresponding coating has to be applied to the glass plate.

Alternativ wurde im Stand der Technik versucht, mit einer Gitteranordnung einen entsprechenden Filter zu realisieren, wobei die Lichtstrahlenbündel durch die Öffnungen des Gitters ungehindert hindurch treten sollen, während in den Bereichen, in denen das Licht ausgeblendet werden soll, die Gitteröffhung durch lichtundurchlässiges Material verschlossen werden soll. Allerdings hat sich gezeigt, dass es durch die enge Anordnung der nebeneinander vorliegenden Lichtstrahlenbündel und der sich daraus ergebenden kleinen Dimensionierung der Gitterstäbe sowie der Erwärmung der verschlossenen Bereiche durch das auftreffende Licht zu starken mechanischen Instabilitäten kommt, so dass ein entsprechendes Gitter nicht sinnvoll einsetzbar ist.Alternatively, attempts have been made in the prior art to realize a corresponding filter with a grating arrangement, wherein the light beams should pass unhindered through the openings of the grating, while in the areas in which the light is to be faded, the grating opening is closed by opaque material should. However, it has been found that the close arrangement of the juxtaposed light beams and the resulting small dimensioning of the bars and the heating of the sealed areas by the incident light to strong mechanical instabilities, so that a corresponding grid is not useful.

OFFENBARUNG DER ERFINDUNG DISCLOSURE OF THE INVENTION

AUFGABE DER ERFINDUNGOBJECT OF THE INVENTION

Es besteht deshalb weiterhin Bedarf an einem Filter, der es ermöglicht, unerwünschte Lichtanteile aus einer Vielzahl von parallelen Lichtstrahlenbündeln auszublenden, wobei der Filter flexibel einsetzbar sein soll und insbesondere eine schnelle Anpassungsmöglichkeit an geänderte Bedingungen, wie geänderte Filtererfordernisse, bieten soll. Darüber hinaus soll der Filter jedoch ausreichende Stabilität und Zuverlässigkeit bieten. Insbesondere soll der Filter für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie geeignet sein bzw. es soll eine entsprechende Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie bereitgestellt werden.There is therefore still a need for a filter that makes it possible to hide unwanted light components from a plurality of parallel light beams, the filter should be flexible and in particular a quick adjustment to changing conditions, such as changing filter requirements to offer. In addition, however, the filter should provide sufficient stability and reliability. In particular, the filter should be suitable for a projection exposure apparatus for microlithography or a corresponding projection exposure apparatus for microlithography should be provided.

TECHNISCHE LÖSUNGTECHNICAL SOLUTION

Diese Aufgabe wird gelöst durch einen Filter mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie eine Projektionsbelichtungsanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 9. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.This object is achieved by a filter having the features of claim 1 and a projection exposure apparatus having the features of claim 9. Advantageous embodiments of the invention are the subject of the dependent claims.

Die Erfindung geht aus von der Idee, dass durch eine Kombination einer Gitteranordnung mit einer transparenten Trägerplatte, die für das Licht, welches mit dem Filter gefiltert werden soll, transparent ist, die oben genannte Aufgabe gelöst werden kann. Durch die transparente Trägerplatte, die beispielsweise durch eine Glasplatte gebildet sein kann, kann eine entsprechende Gitteranordnung mit transparenten oder lichtundurchlässigen Gitterstreben stabilisiert werden, sodass die Vorteile der bisherigen Varianten eines entsprechenden Filters gleichzeitig erzielt werden können. So kann die Lichtundurchlässigkeit zum Ausblenden eines unerwünschten Lichtanteils, also eines Strahlenbündels, durch eine lichtundurchlässige Beschichtung auf der transparenten Trägerplatte erzielt werden und/oder es können entsprechende Öffnungen der Gitteranordnung durch lichtundurchlässiges Material verschlossen werden.The invention is based on the idea that by a combination of a grid arrangement with a transparent support plate, which is transparent to the light which is to be filtered with the filter, the above-mentioned object can be achieved. Through the transparent support plate, which may be formed for example by a glass plate, a corresponding grid arrangement can be stabilized with transparent or opaque lattice struts, so that the advantages of the previous variants of a corresponding filter can be achieved simultaneously. Thus, the opacity for hiding an unwanted light component, ie a beam, can be achieved by an opaque coating on the transparent support plate and / or corresponding openings of the grating arrangement can be closed by opaque material.

Durch die Gitteranordnung werden Felder in dem Filter definiert, die entsprechenden Lichtstrahlenbündel zugeordnet sind. Im Bereich der Felder kann nunmehr entweder ein lichtundurchlässiger Stopfen in die Öffnung der Gitteranordnung eingesetzt werden oder die Trägerplatte kann in den entsprechenden Feldern mit einer lichtundurchlässigen Beschichtung versehen werden.The grid arrangement defines fields in the filter associated with corresponding light beams. In the field of fields now either an opaque plug can be inserted into the opening of the grid assembly or the support plate can be provided in the corresponding fields with an opaque coating.

Durch die erfindungsgemäße Kombination wird auch der zusätzliche Vorteil erzielt, dass die erfindungsgemäßen Filter auch bisher eingesetzte Filter, die lediglich Beschichtungen auf einer transparenten Trägerplatte aufweisen, ersetzen können, da bei Verwendung gleicher Trägerplatten der optische Weg gleich bleibt.The combination according to the invention also achieves the additional advantage that the filters according to the invention can also replace hitherto used filters which merely have coatings on a transparent carrier plate, since the optical path remains the same when the same carrier plates are used.

Während die Stopfen zum Verschließen der Gitteröffnungen lösbar in den entsprechenden Feldern des Filters einsetzbar sind, ist die Beschichtung auf der Trägerplatte üblicherweise dauerhaft. Gleichwohl können beide Varianten zur Erzeugung lichtundurchlässiger Felder nebeneinander eingesetzt werden, da beispielsweise Beschichtungen für eine Ausgangskonfiguration des Filters zum Ausblenden von Lichtstrahlenbündel für bei der Herstellung bereits defekte Spiegel der Mehrfachspiegelanordnung eingesetzt werden können, während nachträglich bei im Betrieb ausgefallenen Spiegeln die entsprechenden Felder des Filters durch lichtundurchlässige Stopfen verschlossen werden können.While the plugs for closing the grid openings are releasably insertable in the corresponding fields of the filter, the coating on the support plate is usually permanent. However, both variants can be used side by side to produce opaque fields, since, for example, coatings for an output configuration of the filter for hiding light beams for already defective in the manufacturing mirror levels of the multi-mirror arrangement can be used, while subsequently failed in operation failed mirrors the corresponding fields of the filter opaque plug can be closed.

Die Gitteranordnung auf der transparenten Trägerplatte kann selbst lichtdurchlässig oder lichtundurchlässig sein. Beispielsweise kann der Trägerplatte aus Glas und die Gitteranordnung mit den Gitterstreben aus Metall gefertigt sein.The grid arrangement on the transparent support plate may itself be translucent or opaque. For example, the carrier plate made of glass and the grid arrangement with the lattice struts can be made of metal.

Die Gitterstreben der Gitteranordnung können eine Breite von 0,1 bis 0,3 mm, insbesondere 0,15 bis 0,25 mm aufweisen und in einem Abstand von 0,8 bis 1,2, vorzugsweise ca. 1 mm. angeordnet sein, sodass sich die Feldgröße mit 0,8 × 0,8 mm2 oder 1,2 × 1,2 mm2 ergibt. Dies entspricht einer entsprechenden Dimensionierung der Anordnung der Lichtstrahlenbündel in einer Mirkolithographieprojektionsbelichtungsanlage. Selbstverständlich können auch andere Dimensionen gewählt werden, wenn die Anordnung der Lichtstrahlenbündel dies erfordert.The grid struts of the grid arrangement may have a width of 0.1 to 0.3 mm, in particular 0.15 to 0.25 mm and at a distance of 0.8 to 1.2, preferably about 1 mm. be arranged so that the field size of 0.8 × 0.8 mm 2 or 1.2 × 1.2 mm 2 results. This corresponds to a corresponding dimensioning of the arrangement of the light beams in a Mirkolithographieprojektionsbelichtungsanlage. Of course, other dimensions can be chosen if the arrangement of the light beams requires it.

KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGENBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

Die beigefügten Zeichnungen zeigen in rein schematischer Weise inThe accompanying drawings show in a purely schematic manner in FIG

1 eine Darstellung einer Lichtstrahlenbündelanordnung, die durch eine fokussierende Mikrolinsenanordnung erzeugt und auf eine Mehrfachspiegelanordnung gerichtet ist; 1 a representation of a light beam assembly, which is generated by a focusing microlens array and directed to a multi-mirror assembly;

2 eine Draufsicht auf einen Filter in Richtung der auftreffenden Lichtstrahlenbündel, wie er in 1 eingesetzt ist; und in 2 a plan view of a filter in the direction of the incident light beams, as in 1 is used; and in

3 eine perspektivische Darstellung des Filters aus 2. 3 a perspective view of the filter 2 ,

AUSFÜHRUNGSBEISPIELEmbodiment

Weitere Vorteile, Kennzeichen und Merkmale der Erfindung ergeben sich bei der nachfolgenden Beschreibung eines Ausführungsbeispiels anhand der beigefügten Figuren.Further advantages, characteristics and features of the invention will become apparent in the following description of an embodiment with reference to the accompanying figures.

Die 1 zeigt eine Mehrfachspiegelanordnung 6, bei der eine Vielzahl von Spiegeln 5 hintereinander und nebeneinander in einem Feld (array) angeordnet sind, wobei auf jeden der Spiegel 5 ein Lichtstrahl 3 gerichtet ist, der durch die Spiegel 5 in eine Pupillenebene des Beleuchtungssystems einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie gespiegelt wird. Damit ist es möglich die Beleuchtungseinstellungen variabel zu gestalten, da Lichtstrahlen aus dem Strahlengang komplett heraus reflektiert werden können oder eine unterschiedliche Anzahl von Lichtstrahlen in bestimmten Bereichen einer Pupillenebene gebündelt werden können. The 1 shows a multiple mirror arrangement 6 in which a variety of mirrors 5 one behind the other and next to each other in a field (array) are arranged, with each of the mirrors 5 a ray of light 3 is directed by the mirror 5 is mirrored in a pupil plane of the illumination system of a projection exposure apparatus for semiconductor lithography. This makes it possible to make the illumination settings variable, since light beams can be completely reflected out of the beam path or a different number of light beams can be focused in certain areas of a pupil plane.

Allerdings besteht bei einer Mehrfachspiegelanordnung 6, wie sie in 1 lediglich schematisch. gezeigt ist, die Problematik darin, dass bei einer Vielzahl von Spiegeln 5 die Wahrscheinlichkeit besteht, dass Spiegel bereits bei der Fertigung oder im späteren Betrieb ausfallen, sodass sie nicht mehr angesteuert werden können. Dies führt dazu, dass im Strahlengang unkontrollierte Lichtstrahlen enthalten sind. Dies soll jedoch im Hinblick auf die Abbildungseigenschaften vermieden werden. Entsprechend ist bei der Anordnung, die in 1 gezeigt ist, ein Filter 4 vorgesehen, mit dem bestimmte Lichtstrahlen 3 aus dem Strahlengang ausgeblendet werden können, sodass kein Licht auf entsprechend defekte Spiegel 5 trifft. Die Ausblendung der Lichtstrahlen im Filter 4 kann durch entsprechende Felder erzeugt werden, die für das Licht undurchlässig sind und das entsprechende Licht absorbieren und/oder reflektieren.However, there is a multiple mirror arrangement 6 as they are in 1 only schematically. is shown, the problem is that in a variety of mirrors 5 there is a likelihood that mirrors will fail during production or during subsequent operation, so that they can no longer be controlled. This leads to the fact that uncontrolled light rays are contained in the beam path. However, this should be avoided in terms of imaging properties. Accordingly, in the arrangement which is in 1 shown is a filter 4 provided with the specific light rays 3 can be hidden from the beam path, so no light on correspondingly defective mirror 5 meets. The suppression of the light rays in the filter 4 can be generated by appropriate fields which are opaque to the light and absorb and / or reflect the corresponding light.

Die Lichtstrahlenbündel 3 werden durch eine fokussierende Mikrolinsenanordnung 2 erzeugt, der rein schematisch mit einer Vielzahl von optischen Linsen angedeutet ist. Durch die fokussierende Mikrolinsenanordnung 2 wird das einfallende Licht 1 in eine Vielzahl diskreter Lichtstrahlenbündel aufgeteilt, welche mit ihrer Strahlrichtung nahezu parallel zueinander hintereinander und nebeneinander in einer Richtung quer zur Strahlrichtung gesehen angeordnet sind.The light beams 3 be through a focusing microlens array 2 generated, which is indicated purely schematically with a plurality of optical lenses. Through the focusing microlens array 2 becomes the incident light 1 divided into a plurality of discrete light beams, which are arranged with their beam direction almost parallel to each other behind one another and side by side in a direction transverse to the beam direction.

Der Filter 4 ist in 2 in einer Draufsicht dargestellt und zwar in Strahlrichtung der auftreffenden Lichtstrahlenbündel 3. In der Draufsicht der 2 ist zu erkennen, dass der Filter 4 eine Gitteranordnung 10 umfasst, welche durch im Bild vertikal und horizontal verlaufende Streben 8 gebildet ist. Die Streben 8 sind beabstandet voneinander angeordnet, sodass zwischen den Streben Felder 7 definiert sind, die den Lichtstrahlenbündeln 3 so zugeordnet sind, dass die Lichtstrahlenbündel 3 jeweils einzeln im Bereich einzelner Felder 7 auf den Filter 4 treffen.The filter 4 is in 2 shown in a plan view and in the beam direction of the incident light beam 3 , In the plan view of 2 it can be seen that the filter 4 a grid arrangement 10 includes, which in the image vertically and horizontally extending struts 8th is formed. The aspiration 8th are spaced apart from each other so that fields between the struts 7 are defined, which are the light beams 3 are assigned so that the light beams 3 each individually in the area of individual fields 7 on the filter 4 to meet.

Die Felder 7 lassen sich nun mehr unterscheiden in lichtdurchlässige Felder 12 und lichtundurchlässige Felder 11, die die auf sie auftreffenden Lichtstrahlen 3 aus dem Strahlengang ausblenden und verhindern, dass die Lichtstrahlenbündel 3 auf die Spiegel 5 der Mehrfachspiegelanordnung 6 treffen.The fields 7 can now be more different in translucent fields 12 and opaque fields 11 , the light rays striking them 3 Hide from the beam path and prevent the light beams 3 on the mirror 5 the multi-mirror arrangement 6 to meet.

Die Gitterstreben 8 sind in Bereichen zwischen den Lichtstrahlenbündeln 3 angeordnet und definieren mit Ihrem Abstand d die Gitterkonstante der Gitteranordnung 10 bzw. die Dimension der Felder 7. Die Breite B der Gitterstreben 8 wird so gewählt, dass die Lichtstrahlenbündel nicht auf die Gitterstreben 8 treffen. Da die Lichtstrahlenbündel 3 sowohl mit einem bestimmten Öffnungswinkel und/oder schräg auf den Filter 4 auftreffen können, sollte die Dicke D der Gitterstäbe 8, also die Dimension in Richtung der Strahlrichtung der Lichtstrahlenbündel 3, ebenfalls so gewählt werden, dass keine Wechselwirkung der Lichtstrahlenbündel 3 mit den Gitterstäben 8 der Gitteranordnung 10 auftritt.The lattice struts 8th are in areas between the light beams 3 arranged and define with your distance d the lattice constant of the grid array 10 or the dimension of the fields 7 , The width B of the lattice struts 8th is chosen so that the light beams are not on the lattice struts 8th to meet. Because the light beams 3 both with a certain opening angle and / or obliquely on the filter 4 should be able to hit the thickness D of the bars 8th , So the dimension in the direction of the beam direction of the light beam 3 , also be chosen so that no interaction of the light beams 3 with the bars 8th the grid arrangement 10 occurs.

Die perspektivische dreidimensionale Ansicht der 3 zeigt den Filter 4 schräg von der Seite, an der die Gitteranordnung 10 angeordnet ist. Hier ist zu erkennen, dass die Gitteranordnung 10 auf einer Trägerplatte 9 befestigt ist, die beispielsweise durch eine Glasplatte gebildet sein kann. Die Gitterstäbe 8 der Gitteranordnung 10, die beispielsweise ebenfalls aus Glas oder aber auch Metall, Kunststoff oder einem sonstigen geeignetem Material gebildet sein können, sind auf der Oberfläche der Trägerplatte 9 angeordnet. In der Darstellung der 3 sind auch gut die Dicke D und die Breite B der Gitterstäbe 8 zu erkennen.The perspective three-dimensional view of 3 shows the filter 4 obliquely from the side where the grid arrangement 10 is arranged. Here it can be seen that the grid arrangement 10 on a carrier plate 9 is fixed, which may be formed for example by a glass plate. The bars 8th the grid arrangement 10 , which may for example also be made of glass or metal, plastic or other suitable material are on the surface of the support plate 9 arranged. In the presentation of the 3 are also good the thickness D and the width B of the bars 8th to recognize.

Aus der 3 ist auch ersichtlich, dass eines der Felder 11, welches undurchlässig für das Licht ist, mit einer Beschichtung auf der Trägerplatte 9 versehen ist. Die Beschichtung besteht aus einem lichtundurchlässigen Material, wie beispielsweise einem Metall, zum Beispiel Chrom. Darüber hinaus ist in der 3 zu erkennen, dass das andere lichtundurchlässige Feld 11, das in 2 gezeigt ist durch einen Stopfen 13 erzeugt wird, welcher ebenfalls lichtundurchlässig ist und auf das Feld, welches lichtundurchlässig gemacht werden soll, gesteckt werden kann.From the 3 is also apparent that one of the fields 11 , which is impermeable to the light, with a coating on the support plate 9 is provided. The coating consists of an opaque material, such as a metal, for example chromium. In addition, in the 3 to realize that the other opaque field 11 , this in 2 shown by a plug 13 which is also opaque and can be plugged into the field which is to be made opaque.

Beispielsweise kann es sich auch um einen Glasstopfen 13 mit einer entsprechenden lichtundurchlässigen Beschichtung, beispielsweise einer Metallbeschichtung handeln, oder um einen Metallstopfen. Der Stopfen 13 wird durch die Gitterstreben 8 der Gitteranordnung 10 gehalten, wobei der Stopfen 13 beispielsweise klemmend zwischen den Gitterstreben 8 gehalten werden kann oder auch lediglich durch eine entsprechende formschlüssige Anordnung.For example, it can also be a glass stopper 13 to act with a corresponding opaque coating, such as a metal coating, or a metal plug. The stopper 13 is through the lattice struts 8th the grid arrangement 10 held, with the stopper 13 for example, clamping between the lattice struts 8th can be kept or even only by a corresponding positive arrangement.

Mittels des wieder entfernbaren Stopfens 13 kann somit der Filter 4 variable auf die Anforderungen eingestellt werden, da beliebige Felder 7 von einem lichtdurchlässigen Feld 12 zu einem lichtundurchlässigen Feld 11 gemacht werden können. Der entsprechende Vorgang ist zudem reversibel, da der Stopfen 13 wieder entfernt werden kann, sodass das entsprechende Feld wieder lichtdurchlässig wird.By means of the removable plug 13 can thus the filter 4 variable to be set to the requirements, as any fields 7 from a translucent field 12 to an opaque field 11 can be made. The corresponding process is also reversible, since the plug 13 can be removed again, so that the corresponding field is translucent again.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand der beigefügten Zeichnungen bezüglich eines Ausführungsbeispiels deutlich beschrieben worden ist, ist für den Fachmann selbstverständlich, dass die Erfindung nicht auf dieses Ausführungsbeispiel beschränkt ist, sondern dass vielmehr Abwandlungen in der Weise möglich sind, dass einzelne Merkmale weggelassen oder eine andersartige Kombinationen von Merkmalen vorgenommen werden, ohne dass der Schutzbereich der beigefügten Ansprüche verlassen wird. Insbesondere umfasst die vorliegende Erfindung sämtliche Kombinationen aller vorgestellter Merkmale.Although the present invention has been clearly described with reference to the accompanying drawings with respect to an embodiment, it will be understood by those skilled in the art that the invention is not limited to this embodiment, but rather modifications are possible in the manner that individual features omitted or a different combinations features are made without departing from the scope of the appended claims. In particular, the present invention includes all combinations of all presented features.

Claims (12)

Filter zur Beeinflussung einer Lichtstrahlenbündelanordnung mit mehreren, nebeneinander angeordneten Lichtstrahlenbündeln (3) mit Licht einer bestimmten Wellenlänge oder eines bestimmen Wellenlängenbereichs, wobei der Filter eine Vielzahl von nebeneinander angeordneten Feldern (7) aufweist und jedes Feld einem Lichtstrahlenbündel zugeordnet ist, wobei jedes Feld für das Licht der bestimmten Wellenlänge oder des bestimmten Wellenlängenbereichs durchlässig (12) oder undurchlässig (11) ist und von einem durchlässigen Zustand in deinen undurchlässigen Zustand überführbar ist, und wobei der Filter eine Gitteranordnung (10) umfasst, die die nebeneinander angeordneten Felder definiert und jedes Feld umschließt, dadurch gekennzeichnet, dass die Gitteranordnung auf einer für das Licht mit der bestimmten Wellenlänge oder dem Wellenlängenbereich transparenten Trägerplatte angeordnet ist.Filter for influencing a light beam arrangement with a plurality of juxtaposed light beams ( 3 ) with light of a specific wavelength or wavelength range, the filter comprising a plurality of juxtaposed fields ( 7 ) and each field is associated with a light beam, each field being transmissive to the light of the particular wavelength or wavelength range ( 12 ) or impermeable ( 11 ) and is convertible from a transmissive state to its impermeable state, and wherein the filter is a grating assembly ( 10 ) defining the juxtaposed fields and enclosing each field, characterized in that the grating arrangement is arranged on a support plate transparent to the light of the particular wavelength or wavelength range. Filter nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass ein lichtundurchlässiges Feld (11) eine lichtundurchlässige Beschichtung auf der Trägerplatte oder einen durch die Gitteranordnung gehaltenen, lichtundurchlässigen Stopfen (13) aufweist.Filter according to claim 1, characterized in that an opaque field ( 11 ) an opaque coating on the carrier plate or a light-impermeable plug ( 13 ) having. Filter nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die lichtundurchlässige Beschichtung oder der lichtundurchlässige Stopfen (13) das Licht absorbieren und/oder reflektieren.Filter according to claim 2, characterized in that the opaque coating or the opaque plug ( 13 ) absorb and / or reflect the light. Filter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Gitteranordnung (10) so ausgebildet ist, dass lichtundurchlässige Stopfen (13) lösbar in die Felder (7) einsetzbar sind, wo sie insbesondere klemmend und/oder formschlüssig gehalten werden.Filter according to one of the preceding claims, characterized in that the grid arrangement ( 10 ) is formed so that opaque plug ( 13 ) detachable in the fields ( 7 ) are used, where they are held in particular clamping and / or positive fit. Filter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Gitteranordnung (10) lichtdurchlässig oder lichtundurchlässig ist.Filter according to one of the preceding claims, characterized in that the grid arrangement ( 10 ) is translucent or opaque. Filter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägerplatte (9) und/oder die Gitteranordnung (10) und/oder in die Gitteranordnung einsetzbare Stopfen (13) aus Glas sind.Filter according to one of the preceding claims, characterized in that the carrier plate ( 9 ) and / or the grid arrangement ( 10 ) and / or insertable into the grid arrangement plug ( 13 ) are made of glass. Filter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Gitteranordnung (10) und/oder in die Gitteranordnung einsetzbare Stopfen (13) aus Metall gebildet sind.Filter according to one of the preceding claims, characterized in that the grid arrangement ( 10 ) and / or insertable into the grid arrangement plug ( 13 ) are formed of metal. Filter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Gitteranordnung (10) durch Gitterstreben (8) gebildet ist, die eine Breite von 0,1 bis 0,3 mm, insbesondere 0,15 bis 0,25 mm aufweisen.Filter according to one of the preceding claims, characterized in that the grid arrangement ( 10 ) by lattice struts ( 8th ) is formed, which have a width of 0.1 to 0.3 mm, in particular 0.15 to 0.25 mm. Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer Mehrfachspiegelanordnung (6), welche durch eine Mehrzahl nebeneinander angeordneter Lichtstrahlenbündel (3) beleuchtet wird, so dass den einzelnen Spiegeln (5) der Mehrfachspiegelanordnung einzelne Lichtstrahlenbündel angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Projektionsbelichtungsanlage einen Filter (4) nach einem der vorhergehenden Ansprüche umfasst.Projection exposure apparatus for microlithography with a multi-mirror arrangement ( 6 ), which by a plurality of juxtaposed light beams ( 3 ), so that the individual mirrors ( 5 ) of the multi-mirror arrangement individual light beams are arranged, characterized in that the projection exposure apparatus comprises a filter ( 4 ) according to one of the preceding claims. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 8. dadurch gekennzeichnet, dass die Projektionsbelichtungsanlage eine fokussierende Mikrolinsenanordnung (2) umfasst, mit welchem die Lichtstrahlenbündel erzeugt werden.Projection exposure apparatus according to claim 8, characterized in that the projection exposure apparatus has a focusing microlens arrangement ( 2 ), with which the light beams are generated. Projektionsbelichtungsanlage nach einem der Ansprüche 8 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Filter (4) an der Einstrahlseite des Lichts auf die Mehrfachspiegelanordnung (6), insbesondere zwischen fokussierende Mikrolinsenanordnung und Mehrfachspiegelanordnung angeordnet ist.Projection exposure apparatus according to one of claims 8 to 9, characterized in that the filter ( 4 ) on the irradiation side of the light on the multi-mirror arrangement ( 6 ), in particular between focusing microlens array and multiple mirror array is arranged. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Gitteranordnung des Filters so angeordnet ist, dass Gitterstreben der Gitteranordnung zwischen den Lichtstrahlenbündeln angeordnet sind.Projection exposure apparatus according to claim 8, characterized in that the grating arrangement of the filter is arranged so that grid struts of the grating arrangement are arranged between the light beams.
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