DE102011003622A1 - Flexible multilayered circuit substrate, has flexible film substrates with opposing main surfaces, where bonding material of specific thickness is applied at connecting areas for separating flexible film substrates - Google Patents

Flexible multilayered circuit substrate, has flexible film substrates with opposing main surfaces, where bonding material of specific thickness is applied at connecting areas for separating flexible film substrates Download PDF

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Abstract

The substrate (10) has two flexible film substrates with opposing main surfaces whose portions (12) are connected to each other at respective connecting areas (32, 34) by bonding material e.g. adhesive material and solder material, where the connecting areas are disconnected and are separated from the other connecting area at a distance (B0) that is larger than maximum dimension (A0) of the connecting area. The bonding material has specific thickness at the connecting areas for separating the flexible film substrates. The connecting areas are circular, oval or rectangular in shape. An independent claim is also included for a method for producing a flexible multi-layered circuit substrate.

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein flexibles, mehrschichtiges Schaltungssubstrat und auf ein Verfahren zum Herstellen desselben. Insbesondere bezieht sich die vorliegende Erfindung auf eine gezielte Einstellung der Topologie eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats bei dessen Herstellung, wobei das mehrschichtigen Schaltungssubstrats aus einer Mehrzahl von flexiblen Einzelfolien oder Foliensubstraten aufgebaut ist, die mittels eines Verbindungsmaterials, das an getrennten und speziell positionierten Verbindungsgebieten angeordnet ist, mechanisch verbunden sind, um eine vorgegebene Flexibilität des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats, beispielsweise in einer oder mehreren Vorzugsbiegerichtungen, zu erhalten.The present invention relates to a flexible multilayer circuit substrate and to a method of manufacturing the same. In particular, the present invention relates to a selective adjustment of the topology of a flexible, multilayer circuit substrate in its manufacture, wherein the multilayer circuit substrate is constructed from a plurality of flexible sheets or film substrates which are disposed by means of a bonding material disposed on separate and specially positioned connection regions , are mechanically connected to obtain a given flexibility of the flexible, multilayer circuit substrate, for example in one or more preferred winding directions.

Auf dem technischen Gebiet der Leiterplattenfertigung werden flexible Substrate insbesondere mit Leiterbahnen aus Kupfer häufig in einer Volumenproduktion gefertigt. Solche flexiblen Substrate bzw. Substratfolien, die auch als Flex-Folien bezeichnet werden, weisen beispielsweise eine Substratdicke von 25 μm, 50 μm oder 125 μm auf. Werden nun zwei oder mehr solche Flex-Folien zusammenlaminiert oder zusammengeklebt, entsteht ein Flex-Folienstapel (Folien-Stack), der eine deutlich geringere Flexibilität bzw. Biegsamkeit als eine einzelne Flex-Folie aufweist. Solche Flex-Folienstapel sind dabei insbesondere bei einer Biegebelastung hohen, ortsspezifischen Biegestress- oder Scherstress-Belastungen ausgesetzt, die bereits nach wenigen Biegevorgängen bzw. Biegezyklen zu einer mechanischen Beschädigung des Flex-Folienstapels führen können.In the technical field of printed circuit board production, flexible substrates, in particular with copper conductor tracks, are frequently produced in a volume production. Such flexible substrates or substrate films, which are also referred to as flex films, have, for example, a substrate thickness of 25 μm, 50 μm or 125 μm. If two or more such flex films are laminated together or glued together, a flex film stack (film stack) results, which has a significantly lower flexibility than a single flex film. Such flex film stacks are exposed to high, site-specific bending stress or shear stress loads, in particular in the case of a bending load, which can lead to mechanical damage of the flex film stack even after a few bending operations or bending cycles.

10 zeigt nun ein bekanntes Schaltungssubstrat 100 gemäß dem Stand der Technik mit einer Substratfolie 101, Leiterbahnen 102 und einer Schutzschicht 103. Auf einer ersten Hauptoberfläche 101a der Substratfolie 101 sind Leiterbahnen 102, die beispielsweise aus einem Kupfermaterial bestehen, aufgebracht. Wie in 10 dargestellt ist, sind die Leiterbahnen 102 an deren freiliegenden Oberflächen von der Schutzschicht 103 umgeben bzw. darin eingebettet, wobei, wie in 10 dargestellt ist, üblicherweise die Topographie der Leiterbahnen 102 durch die Schutzschicht 103 nicht vollständig eingeebnet wird. Dieses als Einlagen-Flexsubstrat bezeichnete Foliensubstrat 100 weist nun beispielsweise eine Flexibilität bzw. Biegsamkeit X0 auf, die von den Materialeigenschaften der Substratfolie 101, der Leiterbahnen 102 und der Schutzschicht 103 und von der Dicke d0 des Foliensubstrats 100 abhängt. 10 now shows a known circuit substrate 100 according to the prior art with a substrate film 101 , Tracks 102 and a protective layer 103 , On a first main surface 101 the substrate film 101 are tracks 102 , which consist for example of a copper material applied. As in 10 is shown, are the tracks 102 on their exposed surfaces of the protective layer 103 surrounded or embedded therein, wherein, as in 10 is shown, usually the topography of the tracks 102 through the protective layer 103 is not completely leveled. This film substrate referred to as a flexible insert substrate 100 now has, for example, a flexibility or flexibility X 0 , which depends on the material properties of the substrate film 101 , the conductor tracks 102 and the protective layer 103 and the thickness d 0 of the film substrate 100 depends.

Zur Beschreibung der Biegsamkeit bzw. Flexibilität einer Substratanordnung wird häufig die Anzahl von Biegezyklen, d. h. von Biegevorgängen um einen bestimmten Biegewinkel, verwendet, bis beispielsweise ein Defekt der elektrischen Funktion oder eine mechanische Beschädigung auftritt. Solche Defekte können sich beispielsweise in dem Bruch einer Leiterbahn, einem Lösen eines Kontakts oder einer Delamination des Schichtaufbaus zeigen.For describing the flexibility of a substrate assembly, the number of bending cycles, i. E. H. bending operations by a certain bending angle, until, for example, a failure of the electrical function or mechanical damage occurs. Such defects can be manifested, for example, in the breakage of a conductor track, a detachment of a contact or a delamination of the layer structure.

Die Anzahl der Biegezyklen bis zu einem elektrischen oder mechanischen Defekt hängt dabei stark von dem jeweiligen Biegeradius des Foliensubstrats ab. Kleine Biegeradien, die eine starke Verformung der jeweils betroffenen Materialbereiche zur Folge haben, führen unter Umständen bereits nach einer relativ geringen Anzahl von Biegevorgängen zu einem elektrischen oder mechanischen Defekt. Bei großen Biegeradien mit einer relativ geringfügigen mechanischen Verformung der jeweiligen Substratbereiche kann eine sehr hohe Anzahl von Biegezyklen, z. B. mehrere Millionen Biegezyklen, erreicht werden, ohne dass ein Defekt an dem Schichtsubstrat auftritt.The number of bending cycles up to an electrical or mechanical defect depends strongly on the respective bending radius of the film substrate. Small bending radii, which result in a strong deformation of the respectively affected material areas, may even after a relatively small number of bending operations lead to an electrical or mechanical defect. For large bending radii with a relatively small mechanical deformation of the respective substrate areas, a very high number of bending cycles, for. B. several million bending cycles can be achieved without a defect occurs on the layer substrate.

Bezüglich des in 10 dargestellten Foliensubstrats 100 wird noch darauf hingewiesen, dass die Leiterbahnen 102 (wie in 10 dargestellt) direkt auf der Hauptoberfläche 101a der Substratfolie 101 angeordnet sind, wobei gleichermaßen zwischen den Leiterbahnschichten 102 und der Oberfläche 101a der Substratfolie 101 noch eine Klebeschicht (nicht gezeigt in 10) vorhanden sein kann. Beide beschriebenen Alternativen gemäß der 10, d. h. mit oder ohne Klebeschicht zwischen den Leiterbahnen 102 und der Substratoberfläche 101a, sind somit als ein einlagiges Foliensubstrat bzw. Einlagen-Flexsubstrat anzusehen.Regarding the in 10 illustrated film substrate 100 it is also noted that the tracks 102 (as in 10 shown) directly on the main surface 101 the substrate film 101 are arranged, equally between the interconnect layers 102 and the surface 101 the substrate film 101 still an adhesive layer (not shown in FIG 10 ) may be present. Both described alternatives according to the 10 ie with or without adhesive layer between the tracks 102 and the substrate surface 101 , are thus to be regarded as a single-layer film substrate or insert flex substrate.

Anhand von 11 wird nun ein mehrschichtiges Foliensubstrat 120 gemäß dem Stand der Technik dargestellt. Wie in 11 dargestellt ist, sind zwei (oder auch mehr) Substratebenen, d. h. Einlagen-Flexsubstrate, wie sie beispielsweise anhand von 10 beschrieben wurden, miteinander verklebt bzw. laminiert. So weist die erste Substratebene 100 wiederum die Substratfolie 101, die Leiterbahnen 102 und die Schutzschicht 103 auf. Entsprechend weist die zweite Substratebene 110 eine Substratfolie 111, Leiterbahnen 112 und eine Schutzabdeckung 113 auf.Based on 11 now becomes a multilayer film substrate 120 represented according to the prior art. As in 11 are two (or more) substrate planes, ie, insert flex substrates, as exemplified by 10 were described, glued together or laminated. Thus, the first substrate level 100 again the substrate film 101 , the tracks 102 and the protective layer 103 on. Accordingly, the second substrate level 110 a substrate film 111 , Tracks 112 and a protective cover 113 on.

Um die gegenseitige Verbindung des ersten einschichtigen Foliensubstrats 100 mit dem zweiten einschichtigen Foliensubstrat 110 vorzunehmen, ist zwischen beiden Foliensubstraten 100, 110 eine Klebstoffschicht 104 zur ganzflächigen Verbindung des ersten und zweiten einschichtigen Foliensubstrats 100, 110 angeordnet. Daraus ergibt sich eine Gesamtdicke d1 der in 11 gezeigten Gesamtanordnung 120, d. h. des dort gezeigten mehrschichtigen Foliensubstrats 120. Aufgrund der mit dem Klebstoffmaterial 104 ganzflächig verbundenen einschichtigen Foliensubstrate 100, 110 ergibt sich je nach Beschaffenheit des Klebstoffmaterials 104 und des Materials für die Schutzschichten 103, 113 für die Gesamtanordnung, d. h. für das mehrschichtige Foliensubstrat 120, gegenüber dem in 10 dargestellten einschichtigen Foliensubstrat 100 eine deutlich reduzierte Biegsamkeit bzw. Flexibilität X1. Somit kann beispielsweise mit dem gleichen Kraftaufwand bei dem mehrschichtigen Foliensubstrat 120 von 11 eine deutlich geringere Biegung gegenüber dem in 10 dargestellten einschichtigen Foliensubstrat 100 erreicht werden.To the mutual connection of the first single-layer film substrate 100 with the second single layer film substrate 110 is between the two film substrates 100 . 110 an adhesive layer 104 for the entire surface connection of the first and second single-layer film substrate 100 . 110 arranged. This results in a total thickness d 1 of in 11 shown overall arrangement 120 , ie the multilayer film substrate shown there 120 , Due to the adhesive material 104 full-surface connected single-layer film substrates 100 . 110 arises each according to the nature of the adhesive material 104 and the material for the protective layers 103 . 113 for the overall arrangement, ie for the multilayer film substrate 120 , opposite to in 10 shown single-layer film substrate 100 a significantly reduced flexibility or flexibility X 1 . Thus, for example, with the same force in the multilayer film substrate 120 from 11 a significantly lower bend compared to the 10 shown single-layer film substrate 100 be achieved.

12 zeigt nun mögliche Stressverläufe bei einer Biegebeanspruchung des in 11 dargestellten mehrschichtigen Foliensubstrats 120 über dessen Dicke d1. Wird beispielsweise bei dem mehrschichtigen Foliensubstrat 120 eine Biegebeanspruchung ausgeübt, z. B. durch die Kraft F (in 12 senkrecht nach unten in der Zeichenebene), so ergibt sich die in 12 prinzipiell dargestellte mechanische Schicht-Stressverteilung über der Gesamtschichtdicke d1 aufgrund mikromechanischer Kräfte, die der Biegekraft F entgegenstehen. Wie in 12 dargestellt ist, ergeben sich entlang der Dicke d1 des mehrschichtigen Foliensubstrats 120 in Richtung der oberen Hauptoberfläche 120a des mehrschichtigen Foliensubstrats 120 sich erhöhende Zugkräfte, während sich in Richtung der unteren Hauptoberfläche 120b des mehrschichtigen Foliensubstrats 120 sich erhöhende Druckkräfte aufgrund der Biegekraft bzw. Biegebeanspruchung F ergeben. Bei einer Biegebeanspruchung des mehrschichtigen Foliensubstrats 120 von 11 führen die Zugkräfte beispielsweise zu einer Materialdehnung und die Druckkräfte zu einer Materialstauchung der entsprechenden Bereiche des mehrschichtigen Foliensubstrats 120. Solange eine Elastizitätsgrenze des mehrschichtigen Foliensubstrats von 11 nicht übersteigende Dickebeanspruchung anliegt, ist die Verformung des mehrschichtigen Foliensubstrats 120 reversibel. 12 shows now possible stress gradients at a bending stress of in 11 shown multilayer film substrate 120 about the thickness d 1 . For example, in the multilayer film substrate 120 exerted a bending stress, z. B. by the force F (in 12 vertically downwards in the drawing plane), the results in 12 in principle illustrated mechanical layer stress distribution over the total layer thickness d 1 due to micromechanical forces that oppose the bending force F. As in 12 shown, arise along the thickness d 1 of the multilayer film substrate 120 in the direction of the upper main surface 120a of the multilayer film substrate 120 increasing tensile forces while moving towards the lower major surface 120b of the multilayer film substrate 120 increasing pressure forces due to the bending force or bending stress F result. At a bending stress of the multilayer film substrate 120 from 11 for example, the tensile forces lead to a material expansion and the compressive forces lead to a material compression of the corresponding regions of the multilayer film substrate 120 , As long as an elastic limit of the multilayer film substrate of 11 is not excessive thickness stress, is the deformation of the multilayer film substrate 120 reversible.

Bezüglich der in 10 und 11 dargestellten ein- oder mehrschichtigen Foliensubstrate 100 bzw. 120 sollte beachtet werden, dass die jeweiligen Leiterbahnen nicht nur auf einer der Hauptoberflächen der Substratfolien bzw. Flex-Substrate 101, 111, sondern auch auf gegenüberliegenden Hauptoberflächen angeordnet sein können. Darüber hinaus können elektrische Kontaktierungsverbindungen, wie z. B. Durchführungskontaktierungen (Vias), zwischen Leitbahnen gegenüberliegender Hauptoberflächen (d. h. Rückseite und Vorderseite) bzw. zu Metallisierungsschichten vorhanden sein. So führen insbesondere bei elektrischen Verbindungen in Form von Durchkontaktierungen durch die jeweiligen Foliensubstrate hindurch zu zumindest lokalen Versteifungen des resultierenden Foliensubstrats und somit zu einer Reduzierung der Flexibilität bzw. Biegsamkeit der Gesamtanordnung, da die Durchkontaktierungen in Form beispielsweise von Metallhülsen eine hohe örtliche Steifigkeit aufweisen. Anliegende Biegekräfte bzw. Biegbeanspruchungen können somit sogenannte Hülsenbrüche der Durchkontaktierungen oder eine Delamination der einzelnen Schichten hervorrufen.Regarding the in 10 and 11 shown single or multilayer film substrates 100 respectively. 120 It should be noted that the respective tracks are not only on one of the major surfaces of the substrate films or flex substrates 101 . 111 , but also on opposite main surfaces can be arranged. In addition, electrical contacting compounds, such as. B. Durchführungsungskontaktierungen (vias), between interconnects of opposing main surfaces (ie back and front) or be present to metallization. Thus, in particular in the case of electrical connections in the form of plated-through holes through the respective foil substrates, at least local stiffening of the resulting foil substrate and thus a reduction in the flexibility or flexibility of the overall arrangement, since the plated-through holes in the form of metal sleeves, for example, have a high local rigidity. Applied bending forces or bending stresses can thus cause so-called sleeve breaks of the plated-through holes or a delamination of the individual layers.

Ferner können bei den in 10 und 11 dargestellten ein- bzw. mehrschichtigen Foliensubstraten 100 bzw. 120 auf einer der Hauptoberflächen in der verwendeten Foliensubstrate 100 bzw. 110 elektrische bzw. elektronische Bauelemente angeordnet und integriert sein. Als elektrische Bauelemente werden Bauelemente mit passiven elektrischen Eigenschaften zusammengefasst, z. B. Widerstände, Kapazitäten und Induktivitäten, während als elektronische Bauelemente ferner Bauelemente mit aktiven elektrischen Eigenschaften, z. B. Halbleiterchips, bezeichnet werden. Die elektrische Kontaktierung dieser elektrischen oder elektronischen Bauelemente kann beispielsweise mit Hilfe elektrisch leitfähiger Klebstoffe oder durch ein Lotmaterial realisiert werden, sofern sie nicht direkt beispielsweise per Siebdruck mit den Leiterbahnen kontaktiert sind. Bei einer Biegebeanspruchung der Gesamtanordnung, d. h. des mehrschichtigen Foliensubstrats 120, können nun die Verbindungsstellen zwischen Leiterbahnen und elektrischen bzw. elektronischen Bauelementen mechanisch beschädigt werden bzw. brechen. Die Bruchgefahr hängt dabei unmittelbar mit der Stärke der anliegenden Biegebeanspruchung zusammen.Furthermore, with the in 10 and 11 illustrated single or multilayer film substrates 100 respectively. 120 on one of the major surfaces in the film substrates used 100 respectively. 110 be arranged and integrated electrical or electronic components. As electrical components components with passive electrical properties are summarized, for. As resistors, capacitors and inductors, while as electronic components further components with active electrical properties, eg. B. semiconductor chips are called. The electrical contacting of these electrical or electronic components can be realized for example by means of electrically conductive adhesives or by a solder material, unless they are contacted directly by screen printing with the conductor tracks, for example. At a bending stress of the overall arrangement, ie the multilayer film substrate 120 Now, the joints between traces and electrical or electronic components can be mechanically damaged or break. The risk of breakage is directly related to the strength of the applied bending stress.

Ausgehend von diesem Stand der Technik besteht somit die Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, ein flexibles, mehrschichtiges Schaltungssubstrat und ein Verfahren zum Herstellen desselben zu schaffen, bei dem das resultierende mehrschichtige Foliensubstrat einerseits sehr widerstandsfähig gegenüber möglichen Biegbeanspruchungen und andererseits gezielt anpassbar an vorgegebene Biegebeanspruchungen ist.Based on this prior art, the object of the present invention is therefore to provide a flexible, multilayer circuit substrate and a method for producing the same, in which the resulting multilayer film substrate is on the one hand very resistant to possible bending stresses and on the other hand specifically adaptable to predetermined bending stresses.

Diese Aufgabe wird durch ein flexibles, mehrschichtiges Schaltungssubstrat gemäß Anspruch 1 oder 16 und durch ein Verfahren zum Herstellen eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats gemäß Patentanspruch 19 oder 32 gelöst.This object is achieved by a flexible, multilayer circuit substrate according to claim 1 or 16 and by a method for manufacturing a flexible, multilayer circuit substrate according to claim 19 or 32.

Der Kerngedanke der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine verbesserte Anordnung und Topologie zur Assemblierung von Foliensubstraten mit elektrischer und/oder elektronischer Funktionen zu flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstraten zu ermöglichen, indem bei einem beispielsweise zweischichtigen Foliensubstrat die beiden Einzelfoliensubstrate lediglich an geometrisch vorgegebenen, räumlich getrennten Verbindungspositionen mit einem Verbindungsmaterial, wie z. B. Klebstoff oder Lotmaterial, verbunden werden. Dabei ist die Anordnung der mechanischen Verbindungspunkte als auch deren geometrische Ausdehnung und Verteilung so gewählt, dass sich ein Soll-Biegeradius beispielsweise entlang einer Vorzugsbiegelinie zumindest in einem Teilbereich des resultierenden flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats ergibt. So werden erfindungsgemäß geometrische Gebiete und deren Ausrichtung bzw. Anordnung zueinander definiert, in denen eine mechanische Verbindung, z. B. Klebeverbindung oder Lötverbindung, und eventuell auch elektrische Verbindungen angeordnet sind. Diese Verbindungsgebiete sind räumlich voneinander getrennt und mit einem vorgegebenen Mindestabstand zueinander angeordnet. Somit weisen zusammenhängende geometrische Gebiete zwischen gegenüberliegenden Hauptoberflächen des ersten und zweiten zu verbindenden flexiblen Foliensubstrats nur an vorgegebenen, getrennten Verbindungsgebieten ein Verbindungsmaterial zur mechanischen Fixierung auf. Die mechanischen Verbindungsgebiete zwischen den gegenüberliegenden Hauptoberflächen des ersten und zweiten zu verbindenden flexiblen Foliensubstrats sind nun entsprechend eines vorgegebenen, geometrischen Zusammenhangs zwischen der Ausdehnung der getrennt angeordneten Verbindungsgebiete, und dem Abstand zwischen benachbarten Verbindungsgebieten, d. h. der Ausdehnung verbindungsfreier Gebiete, so von den geometrischen Größen wie beispielsweise der Foliendicke und der Dicke des Verbindungsmaterials an den Verbindungsgebieten abgeleitet, so dass bei der Verbindung von zwei flexiblen Foliensubstraten zu einem resultierenden flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrat insgesamt ein gegenüber dem vorliegenden Stand der Technik einerseits verbesserte Flexibilität als auch gezielt einstellbare Flexibilität erhalten wird. Damit können insbesondere Teilbereiche des resultierenden flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats so ausgebildet werden, um einer vorgegebenen Biegebeanspruchung ausgesetzt werden zu können. Dazu wird an dem flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrat bzw. zumindest in Teilbereichen desselben durch die gezielte Anordnung und Ausgestaltung der Verbindungsgebiete ein vorgegebener Biegeradius (Soll-Biegeradius), der beispielsweise eine vorgegebene Vorzugsbiegerichtung aufweist, basierend auf den Abmessungen und Materialeigenschaften der verwendeten flexiblen Foliensubstrate bzw. des Verbindungsmaterials und dessen Grundfläche, Dicke und Beabstandung eingestellt.The core idea of the present invention is to enable an improved arrangement and topology for the assembly of film substrates with electrical and / or electronic functions to flexible, multilayer circuit substrates by having the two individual film substrates only at geometrically predetermined, spatially separated connection positions with an example two-layer film substrate a connecting material, such. As adhesive or solder material, are connected. Here, the arrangement of the mechanical connection points as well as their geometric extent and Distribution selected so that a desired bending radius, for example along a preferential bending line results in at least a portion of the resulting flexible multilayer circuit substrate. Thus, according to the invention geometric areas and their orientation or arrangement are defined to each other, in which a mechanical connection, for. B. adhesive connection or solder joint, and possibly also electrical connections are arranged. These connection areas are spatially separated from each other and arranged with a predetermined minimum distance from each other. Thus, contiguous geometric regions between opposed major surfaces of the first and second flexible film substrates to be bonded have bonding material for mechanical fixation only at predetermined discrete bonding regions. The mechanical connection areas between the opposing major surfaces of the first and second flexible film substrates to be joined are now in accordance with a given geometrical relationship between the extent of the separated connection areas and the distance between adjacent connection areas, ie the extension of connectionless areas, such as geometric dimensions For example, the film thickness and the thickness of the bonding material derived at the connection areas, so that in the connection of two flexible film substrates to a resulting flexible, multilayer circuit substrate is achieved over the present prior art, on the one hand improved flexibility and selectively adjustable flexibility. In particular, subsections of the resulting flexible, multilayer circuit substrate can thus be designed so that they can be subjected to a predetermined bending stress. For this purpose, a predetermined bending radius (target bending radius), for example, has a predetermined preferred bending direction, based on the dimensions and material properties of the flexible film substrates used or on the flexible, multi-layer circuit substrate or at least in parts thereof by the targeted arrangement and design of the connection areas. of the connecting material and its base, thickness and spacing.

Sind nun beispielsweise bei einem flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrat in Form eines Folienstapels bzw. Foliensubstratstapels bestimmte Teilbereiche oder Gebiete (voraussichtlich) unterschiedlichen Biegeanforderungen ausgesetzt, so können unterschiedliche geometrische Ausbildungen der mechanischen Verbindungsgebiete und deren Anordnung abhängig beispielsweise von einer Dicke (Mindestdicke) des Verbindungsmaterials an den Verbindungsgebieten und eines erreichbaren Soll-Biegeradius die Abstände benachbarter bzw. gegenüberliegender mechanischer Verbindungsgebiete gewählt werden, um den Soll-Biegeradius (zumindest bereichsweise) einzustellen bzw. zu verändern. Geht man beispielsweise von einer linearen Ausrichtung der Verbindungsgebiete aus, wird der Abstand (Mindestabstand) gegenüberliegender mechanischer Verbindungsgebiete entsprechend des einzustellenden Soll-Biegeradius gewählt. Erfindungsgemäß ist nun insbesondere der Abstand z. B. gegenüberliegender Verbindungsgebiete, die entlang benachbarter Verbindungslinien angeordnet sind, größer als eine Abmessung, wie z. B. der Durchmesser, die Seitenlänge oder die Breite, der Verbindungsgebiete zu wählen. Erfindungsgemäß sind dabei die mechanischen Verbindungsgebiete als in sich abgeschlossene „punktförmige” oder streifenförmige Gebilde zu verstehen, die voneinander getrennt angeordnet sind. Die effektive oder wirksame Abmessung der Verbindungsgebiete ergibt sich dabei beispielsweise aus der Ausdehnung des jeweiligen Verbindungsgebiets in Richtung eines gegenüberliegenden Verbindungsgebiets, das sich in einem benachbarten Verbindungsbereich befindet, und z. B. durch den geometrischen Schwerpunkt oder Mittelpunkt dieses Verbindungsgebiets hindurch.If, for example, in a flexible, multilayer circuit substrate in the form of a film stack or film substrate stack, certain subregions or regions are (presumably) exposed to different bending requirements, then different geometric configurations of the mechanical connection regions and their arrangement may depend, for example, on a thickness (minimum thickness) of the connecting material on the Connection areas and an achievable target bending radius, the distances of adjacent or opposite mechanical connection areas are selected to set the desired bending radius (at least partially) or change. For example, assuming a linear orientation of the connection regions, the distance (minimum distance) of opposing mechanical connection regions is selected according to the desired bending radius to be set. According to the invention, in particular the distance z. B. opposite connection areas, which are arranged along adjacent connecting lines, larger than a dimension such. As the diameter, the side length or the width of the connection areas to choose. According to the invention, the mechanical connection areas are to be understood as self-contained "point-like" or strip-shaped structures which are arranged separately from one another. The effective or effective dimension of the connection regions results, for example, from the extent of the respective connection region in the direction of an opposite connection region, which is located in an adjacent connection region, and z. B. through the geometric center or center of this connection area.

Flexible, mehrschichtige Schaltungssubstrate können nun insbesondere so entworfen werden, dass diese zumindest bereichsweise für eine vorgegebene Biegeanforderung ausgelegt sind, indem diese Bereiche einen Soll-Biegeradius, d. h. einen einstellbaren bzw. erreichbaren Biegeradius, aufweisen.Flexible, multilayer circuit substrates can now be designed in particular such that they are designed at least in regions for a given bending requirement, by virtue of these regions having a desired bending radius, ie. H. an adjustable or achievable bending radius.

Basierend auf dem erfindungsgemäßen Konzept kann nun für ein flexibles, mehrschichtiges Schaltungssubstrat eine Topologie gefunden werden, um bei einer Assemblierung von zumindest zwei flexiblen Foliensubstraten (Flex-Folien bzw. Einlagen-Flexfolien) mit elektrischen und/oder elektronischen Funktionen eine Biegsamkeit bzw. Flexibilität des resultierenden Folienstapels, d. h. des resultierenden flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats, zu erhalten, die einerseits gegenüber Einzelfoliensubstratanordnungen nicht deutlich reduziert ist und andererseits entsprechend vorgegebenen Biegebeanspruchungen gezielt eingestellt werden kann. Darüber hinaus wird durch die erfindungsgemäße Vorgehensweise zum Ausgestalten der Topologie eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats erreicht, dass in der Gesamtanordnung des Folienstapels die ortsspezifische Biegestress- oder Scherstress-Belastung deutlich geringer ist, als dies mit herkömmlichen mehrschichtigen Schaltungssubstraten möglich ist.Based on the concept according to the invention, a topology can now be found for a flexible, multilayer circuit substrate in order to achieve a flexibility or flexibility in the case of an assembly of at least two flexible film substrates (flex films or insert flex films) with electrical and / or electronic functions resulting film stack, d. H. of the resulting flexible, multilayer circuit substrate, which on the one hand is not significantly reduced compared to individual film substrate arrangements and on the other hand can be adjusted in a targeted manner according to predetermined bending stresses. In addition, the procedure of the present invention for designing the topology of a flexible, multilayer circuit substrate achieves that the overall location of the film stack significantly reduces the site-specific bending stress or shear stress load that is possible with conventional multilayer circuit substrates.

Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:Preferred embodiments of the present invention will be explained below with reference to the accompanying drawings. Show it:

1a–d Prinzipdarstellungen eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats mit jeweiligen Verbindungsgebieten gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; 1a FIG. 3 shows schematic diagrams of a flexible, multilayer circuit substrate having respective connection regions according to an embodiment of the present invention; FIG.

2a–d eine Prinzipdarstellung der geometrischen Anordnung von Verbindungsgebieten des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; 2a -D is a schematic diagram of the geometric arrangement of connection regions of the flexible multilayer circuit substrate according to another embodiment of the present invention;

3a–d Prinzipdarstellung der geometrischen Anordnung der Verbindungsbereiche bei einem flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrat gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; 3a -D schematic diagram of the geometric arrangement of the connection areas in a flexible, multilayer circuit substrate according to a further exemplary embodiment of the present invention;

4 eine schematische Draufsicht auf ein flexibles, mehrschichtiges Schaltungssubstrats gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; 4 a schematic plan view of a flexible multilayer circuit substrate according to another embodiment of the present invention;

5 eine schematische Querschnittsansicht eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; 5 a schematic cross-sectional view of a flexible multilayer circuit substrate according to another embodiment of the present invention;

6 eine schematische Querschnittsansicht eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; 6 a schematic cross-sectional view of a flexible multilayer circuit substrate according to another embodiment of the present invention;

7 eine schematische Querschnittsansicht eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; 7 a schematic cross-sectional view of a flexible multilayer circuit substrate according to another embodiment of the present invention;

8 eine schematische Querschnittsansicht eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; 8th a schematic cross-sectional view of a flexible multilayer circuit substrate according to another embodiment of the present invention;

9a–b Ablaufdiagramme eines Herstellungsverfahrens für ein flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrat gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; 9a FIG. 5 shows flowcharts of a manufacturing method for a flexible multilayer circuit substrate according to another embodiment of the present invention; FIG.

10 eine schematische Querschnittsansicht eines einschichtigen Foliensubstrats gemäß dem Stand der Technik; 10 a schematic cross-sectional view of a single-layer film substrate according to the prior art;

11 eine schematische Querschnittsansicht eines mehrschichtigen Foliensubstrats gemäß dem Stand der Technik; und 11 a schematic cross-sectional view of a multilayer film substrate according to the prior art; and

12 eine schematische Darstellung der Biegebeanspruchung über der Dicke des mehrschichtigen Foliensubstrats gemäß dem Stand der Technik. 12 a schematic representation of the bending stress across the thickness of the multilayer film substrate according to the prior art.

Bevor nachfolgend die vorliegende Erfindung im Detail anhand der Zeichnungen näher erläutert wird, wird darauf hingewiesen, dass identische, funktionsgleiche oder gleichwirkende Elemente in den Figuren mit den gleichen Bezugszeichen versehen sind, so dass die in unterschiedlichen Ausführungsbeispielen dargestellte Beschreibung dieser Elemente untereinander austauschbar ist bzw. aufeinander angewendet werden kann.Before the present invention is explained in more detail in detail with reference to the drawings, it is pointed out that identical, functionally identical or equivalent elements are provided in the figures with the same reference numerals, so that the description of these elements shown in different embodiments is interchangeable or can be applied to each other.

Im Folgenden wird nun anhand von 1a–d ein erstes Ausführungsbeispiel für ein flexibles, mehrschichtiges Schaltungssubstrat gemäß der vorliegenden Erfindung beschrieben.The following will now be based on 1a Figure 1 shows a first embodiment of a flexible multilayer circuit substrate according to the present invention.

1a zeigt in einer schematischen Draufsicht auf zumindest einen Teilbereich 12 eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 mit den rechteckigen Verbindungsgebieten 32. Zur Vereinfachung der Darstellung und Beschreibung sind nur 16 Verbindungsgebiete 32 beispielhaft dargestellt, wobei die nachfolgenden Ausführungen auf eine i. W. beliebige Anzahl von Verbindungsgebieten 32 anwendbar ist. 1a shows in a schematic plan view of at least a partial area 12 a flexible, multilayer circuit substrate 10 with the rectangular connecting areas 32 , For ease of illustration and description, only 16 connection areas 32 illustrated by way of example, wherein the following explanations to an i. W. any number of connection areas 32 is applicable.

Wie nun in 1b in Form einer Querschnittsansicht des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 dargestellt ist, sind die Verbindungsgebiete 32 vorgesehen, um ein erstes einschichtiges Foliensubstrat 20 und ein zweites einschichtiges Foliensubstrat 40 miteinander zu verbinden. Wie in 1b dargestellt ist, weist das einschichtige Foliensubstrat 20 eine Einlagen-Flex-Folie bzw. Substratfolie 22 auf. Die zweite Substratebene 40 des erfindungsgemäßen flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 weist nun beispielsweise eine weitere Substratfolie bzw. ein Einlagen-Flex-Substrat 42 auf. Bei dem in 1b dargestellten flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrat 10 sind die Verbindungsgebiete 32 z. B. direkt an den einschichtigen Foliensubstraten 22 und 42 angeordnet und mit denselben verbunden. In den nachfolgenden Ausführungsbeispiele werden noch optionale Schutzschichten für die Foliensubstrate 22 bzw. 42 beschrieben, die dann auch mit den Verbindungsgebieten 32 verbunden sein können.Like now in 1b in the form of a cross-sectional view of the flexible, multilayer circuit substrate 10 are shown are the connection areas 32 provided to a first single-layer film substrate 20 and a second single layer film substrate 40 to connect with each other. As in 1b is shown, has the single-layer film substrate 20 an insert flex film or substrate film 22 on. The second substrate level 40 of the flexible, multilayer circuit substrate according to the invention 10 now has, for example, a further substrate film or an insert Flex substrate 42 on. At the in 1b shown flexible, multilayer circuit substrate 10 are the connection areas 32 z. B. directly on the single-layer film substrates 22 and 42 arranged and connected to the same. In the following exemplary embodiments, optional protective layers for the film substrates are still being used 22 respectively. 42 described, which then also with the connection areas 32 can be connected.

Wie nun in 1c in Form einer Querschnittsansicht einer optionalen Ausgestaltung des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 dargestellt ist, weist das einschichtige Foliensubstrat 20 beispielsweise ein elektrisches oder elektronisches Funktionselement 24, z. B. eine Leiterbahn, auf. Elektrische oder elektronische Funktionselemente werden im Nachfolgenden einfach als Funktionselemente bezeichnet.Like now in 1c in the form of a cross-sectional view of an optional embodiment of the flexible, multilayer circuit substrate 10 is shown, has the single-layer film substrate 20 for example, an electrical or electronic functional element 24 , z. B. a conductor track, on. Electrical or electronic functional elements are referred to below simply as functional elements.

Das Funktionselement 24 ist zum Beispiel mit einer Schutzschicht 26 abgedeckt, wobei die Schutzschicht 26 beispielsweise nicht vollständig die Topographie des Funktionselements 24 (z. B. einer Leiterbahn) einebnet. Bezüglich der beispielsweise als Leiterbahn ausgebildeten elektrischen oder elektronischen Elemente 20 wird darauf hingewiesen, dass diese z. B. noch mittels eines Klebstoffs oder einer Klebstoffschicht (nicht gezeigt in 1c) auf der Hauptoberflächen 22a oder auch auf der gegenüberliegenden Hauptoberfläche 22b der Substratfolie 22 angeordnet sein können.The functional element 24 is for example with a protective layer 26 covered, with the protective layer 26 for example, not completely the Topography of the functional element 24 (eg a trace). With respect to the example designed as a conductor electrical or electronic elements 20 It should be noted that these z. B. still by means of an adhesive or an adhesive layer (not shown in FIG 1c ) on the main surfaces 22a or on the opposite main surface 22b the substrate film 22 can be arranged.

Die zweite Substratebene 40 des erfindungsgemäßen flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 weist nun beispielsweise eine weitere Substratfolie bzw. ein Einlagen-Flex-Substrat 42, elektrische bzw. elektronische Funktionselemente 44, 46 und optional eine Schutzschicht 48 auf. Auf der oberen Hauptoberfläche 42a der Substratfolie 42 sind nun optional die Schaltungselemente 44 bzw. 46 angeordnet, die wiederum von einer Schutzschicht 48 umgeben sind. Auch bei der zweiten Substratebene 40 des erfindungsgemäßen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 sind die Schaltungselemente 44, 46 beispielsweise nicht vollständig durch die Schutzschicht 48 eingebettet, so dass die Topographie der Schaltungselemente 44, 46 beispielsweise auch in der zweiten Substratebene 40 nicht vollständig eingeebnet ist. Natürlich können einzelne oder beide Schutzschichten 26, 48 so ausgebildet sein, um die Oberflächen der Substratebenen 20, 40 vollständig einzuebnen, um beispielsweise ebene Oberflächen zu erhalten.The second substrate level 40 of the flexible, multilayer circuit substrate according to the invention 10 now has, for example, a further substrate film or an insert Flex substrate 42 , electrical or electronic functional elements 44 . 46 and optionally a protective layer 48 on. On the upper main surface 42a the substrate film 42 are now optional the circuit elements 44 respectively. 46 arranged, in turn, by a protective layer 48 are surrounded. Also at the second substrate level 40 of the multilayer circuit substrate according to the invention 10 are the circuit elements 44 . 46 for example, not completely through the protective layer 48 embedded, leaving the topography of the circuit elements 44 . 46 for example, in the second substrate level 40 is not completely leveled. Of course, single or both protective layers 26 . 48 be formed to the surfaces of the substrate planes 20 . 40 completely level, for example, to obtain flat surfaces.

Wie in 1c dargestellt ist, ist das elektrische bzw. elektronische Funktionselement 24 der ersten Substratebene 20 versetzt zu den Verbindungsgebieten 32 angeordnet, während die elektrischen bzw. elektronischen Funktionselemente 44, 46 der zweiten Substratebene mit den Verbindungsgebieten 32 ausgerichtet angeordnet sind. Die nachfolgenden Ausführungen werden noch zeigen, dass die Funktionselemente 24, 44, 46 abhängig von deren Flexibilität beispielsweise bevorzugt an bestimmten Gebieten der ersten oder zweiten Substratebene 20, 40 des mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 angeordnet sind. Ist beispielsweise die Flexibilität eines Funktionselements ausreichend hoch, so kann dieses Funktionselement an im Wesentlichen einer beliebigen Position an der zugehörigen Substratebene 20, 40 angeordnet sein. Ist nun beispielsweise die Flexibilität eines oder mehrerer der Funktionselemente deutlich geringer als die der zugeordneten Substratebenen 20, 40, so sind diese Funktionselemente beispielsweise im Bereich der Verbindungsgebiete an der zugehörigen Substratebene 20, 40 angeordnet. Die genauen Zusammenhänge werden nachfolgend noch deutlicher erläutert.As in 1c is shown, is the electrical or electronic functional element 24 the first substrate level 20 offset to the connection areas 32 arranged while the electrical or electronic functional elements 44 . 46 the second substrate plane with the connection areas 32 are arranged aligned. The following explanations will show that the functional elements 24 . 44 . 46 depending on their flexibility, for example, preferably at certain areas of the first or second substrate level 20 . 40 of the multilayer circuit substrate 10 are arranged. If, for example, the flexibility of a functional element is sufficiently high, then this functional element can be connected to substantially any desired position on the associated substrate plane 20 . 40 be arranged. If, for example, the flexibility of one or more of the functional elements is significantly lower than that of the associated substrate planes 20 . 40 , these functional elements are, for example, in the region of the connection regions at the associated substrate level 20 . 40 arranged. The exact relationships will be explained more clearly below.

Im Folgenden wird nun auf die erfindungsgemäße geometrische Anordnung der zur Verbindung der beiden Substratebenen 20, 40 verwendeten Verbindungsgebiete 32 eingegangen, wie dies in den 1a–c beispielhaft dargestellt ist. Im Zusammenhang der vorliegenden Erfindung sollte beachtet werden, dass optional auch noch weitere Substratebenen (nicht gezeigt in 1b und 1c) hinzugefügt werden können. Die erfindungsgemäße Topologie des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 befasst sich mm insbesondere mit der mechanischen und nachrangig mit der elektrischen Verbindung von zumindest zwei Substratebenen 20, 40, die jeweils beispielsweise ein Einlagen-Flex-Foliensubstrat 22 bzw. 42 aufweisen. Gemäß der vorliegenden Erfindung wird mm dargestellt, wie die Verbindungsgebiete 32 (mit dem Verbindungsmaterial) z. B. hinsichtlich Grundfläche und Dicke auszubilden sind, und in welcher geometrischen Anordnung die Mehrzahl von Verbindungsgebieten zueinander anzuordnen sind, um das erfindungsgemäße flexible, mehrschichtige Schaltungssubstrats 10 zu erhalten. Die gezielte Ausbildung der Flexibilität des erfindungsgemäßen mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 erfolgt beispielsweise unter Berücksichtigung eines erreichbaren bzw. einstellbaren Biegeradius R0 (Soll-Biegeradius) des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10.In the following, the geometric arrangement according to the invention for connecting the two substrate planes will now be described 20 . 40 used connection areas 32 received, as in the 1a C is shown by way of example. In the context of the present invention, it should be noted that optionally also other substrate planes (not shown in FIG 1b and 1c ) can be added. The inventive topology of the flexible, multilayer circuit substrate 10 In particular, mm deals with the mechanical and subordinate with the electrical connection of at least two sub-levels 20 . 40 , respectively, for example, an insert flex film substrate 22 respectively. 42 exhibit. According to the present invention, mm is represented as the connection areas 32 (with the connection material) z. B. in terms of footprint and thickness are formed, and in which geometric arrangement, the plurality of connection areas are to be arranged to each other to the inventive flexible, multilayer circuit substrate 10 to obtain. The targeted design of the flexibility of the multilayer circuit substrate according to the invention 10 takes place, for example, taking into account an achievable or adjustable bending radius R 0 (nominal bending radius) of the flexible, multilayer circuit substrate 10 ,

Die erfindungsgemäße Topologie des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 zeichnet sich nun dadurch aus, dass geometrische Gebiete definiert sind, die als Verbindungsgebiete 32 bezeichnet werden, in denen mittels des dort angeordneten Verbindungsmaterials eine mechanische Klebeverbindung und eventuell auch eine elektrische Verbindung zwischen den zwei Substratebenen 20, 40 ausgebildet wird, während andere, zusammenhängende geometrische Gebiete keine mechanische Verbindung aufweisen. Erfindungsgemäß werden nun die Vorgaben hinsichtlich des geometrischen Zusammenhangs der Gebiete ohne mechanische Verbindung (in Form der effektiven Abstände B0 gegenüberliegender Verbindungsgebiete 32) von den geometrischen Abmessungen der jeweiligen Dicken D20, D40 der Substratebenen 20, 40 und der Dicke D0 des Verbindungsmaterials 33 in den Verbindungsgebieten 33 abgeleitet, so dass insgesamt eine einstellbare Flexibilität mit einer erhöhten Biegebeanspruchbarkeit in entsprechend ausgebildeten Teilbereichen 12, 14 oder vollständig in dem flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrat 10 erhalten wird.The inventive topology of the flexible, multilayer circuit substrate 10 is characterized by the fact that geometric areas are defined as connecting areas 32 in which by means of the connecting material arranged there, a mechanical adhesive bond and possibly also an electrical connection between the two substrate planes 20 . 40 is formed, while other, coherent geometric areas have no mechanical connection. According to the invention, the specifications regarding the geometric relationship of the areas without mechanical connection (in the form of the effective distances B 0 of opposing connection areas 32 ) of the geometric dimensions of the respective thicknesses D 20 , D 40 of the substrate planes 20 . 40 and the thickness D 0 of the bonding material 33 in the connecting areas 33 derived, so that overall an adjustable flexibility with increased bending load in appropriately trained sections 12 . 14 or completely in the flexible multilayer circuit substrate 10 is obtained.

Wie nun in den 1b und 1c dargestellt ist, weist die erste Substratebene 20 eine Dicke D20, die zweite Substratebene 40 eine Dicke D40 und die Verbindungsgebiete 32 eine Dicke D0 auf. Darüber hinaus weisen die Verbindungsgebiete 32 (beispielsweise ausgehend von einer rechteckigen oder kreisrunden Ausgestaltung), z. B. in einer Richtung aufeinander zu, eine Abmessung A0 auf, während benachbarte bzw. gegenüberliegende Verbindungsgebiete 32 zumindest in einem Abstand B0 voneinander entfernt angeordnet sind. Wie in 1a dargestellt ist, sind die Verbindungsgebiete 32 rechteckig ausgebildet und in einem orthogonalen Raster angeordnet. Wie die nachfolgenden Ausführungen zeigen werden, ist diese Anordnung und Ausgestaltung der Verbindungselemente nur als beispielhaft anzusehen, wobei im Weiteren noch andere mögliche Ausgestaltungen bzw. geometrische Anordnungen der Verbindungsgebiete 32 gemäß Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung erläutert werden.Like now in the 1b and 1c is shown, the first substrate level 20 a thickness D 20 , the second substrate plane 40 a thickness D 40 and the connection areas 32 a thickness D 0 . In addition, the connection areas indicate 32 (For example, starting from a rectangular or circular configuration), z. B. in a direction toward each other, a dimension A 0 , while adjacent or opposite connecting regions 32 at least at a distance B 0 are arranged away from each other. As in 1a are shown are the connection areas 32 rectangular and arranged in an orthogonal grid. As the following explanations will show, this arrangement and design of the connecting elements is to be regarded as exemplary only, with other possible configurations or geometrical arrangements of the connecting regions also being mentioned below 32 according to embodiments of the present invention will be explained.

1d zeigt nun beispielhaft eine Biegeauslenkung des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 aufgrund der Biegebeanspruchung F. Aufgrund der erfindungsgemäßen Anordnung und Ausrichtung der Verbindungsgebiete 32 bzw. Verbindungsbereiche 34 ergibt sich nun beispielsweise eine Vorzugsbiegerichtung BR, die in 1d beispielhaft senkrecht zu einem Biegebereich entlang einer Vorzugsbiegelinie BL angegeben ist. Senkrecht zu der Oberfläche des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 und damit zu der Vorzugsbiegelinie BL ergibt sich der resultierende Biegeradius R0 aufgrund der einwirkenden Kraft F. Erfindungsgemäß kann mm der erreichbare Biegeradius R0 des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 gezielt eingestellt und angepasst werden, um die Biegebeanspruchung F (in Form einer Biegeverformung des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10) ohne mechanische Beschädigungen aufnehmen zu können. 1d now shows by way of example a bending deflection of the flexible, multilayer circuit substrate 10 due to the bending stress F. Due to the arrangement and alignment of the connection areas according to the invention 32 or connection areas 34 For example, a preferential bending direction BR, which results in 1d is given as an example perpendicular to a bending area along a preferred bending line BL. Perpendicular to the surface of the flexible, multilayer circuit substrate 10 and thus to the preferred bending line BL results in the resulting bending radius R 0 due to the applied force F. According to the invention, the achievable bending radius R 0 of the flexible, multilayer circuit substrate 10 be adjusted and adjusted to the bending stress F (in the form of bending deformation of the flexible, multilayer circuit substrate 10 ) without being able to absorb mechanical damage.

Wie nun in 1a–d dargestellt ist, sind die erste Substratebene 20 und die zweite Substratebene 40 mittels des in den Verbindungsgebieten 32 angeordneten Verbindungsmaterials, z. B. eines Klebstoffmaterials, Lotmaterials, usw., mechanisch miteinander verbunden. Die Verbindungsgebiete sind nun zumindest in den Teilbereichen des Folienstapels 10, d. h. des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10, die beispielsweise einer vorgegebenen Biegebeanspruchung ausgesetzt werden, so angeordnet, dass sich eine Vorzugsbiegerichtung des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 (zumindest in dem Teilbereich) ergibt. Die Verbindungsgebiete 32, die nun höchstens eine Abmessung A0 aufweisen und zumindest mit einem Abstand B0 von einem benachbarten Verbindungsgebiet 32 getrennt angeordnet sind, sind nun so ausgebildet, dass der Abstand B0 größer als die Abmessung A0 gewählt ist. Werden mm die Verbindungsgebiete 32 symmetrisch zueinander, z. B. in einem linearen, parallelen oder in einem orthogonalen Raster zur Verbindung der ersten und zweiten Substratebene 20, 40 angeordnet, so ergibt sich in dem resultierenden, mehrschichtigen Schaltungssubstrat 10 eine Vorzugsbiegerichtung des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 (zumindest) in dem entsprechend ausgebildeten Teilbereich. Sind nun die Verbindungsgebiete 32 beispielsweise in einem linear parallelen und/oder einem orthogonalen Raster zueinander angeordnet, so können benachbarte Verbindungsgebiete 32, die sich beispielsweise wie in 1a gezeigt ist, entlang einer (z. B. linearen) Verbindungslinie erstrecken, jeweils zu zusammengehörenden Verbindungsbereichen 34 zusammengefasst werden. Bei der in 1a dargestellten beispielhaften Anordnung der Verbindungsgebiete 32 ergeben sich nun eine Mehrzahl von parallel zueinander ausgerichteten Verbindungsbereichen 34 basierend auf der jeweils gewählten Symmetrie der geometrischen Anordnung der Verbindungsgebiete 32.Like now in 1a -D are the first substrate plane 20 and the second substrate plane 40 by means of in the connection areas 32 arranged connecting material, for. As an adhesive material, solder material, etc., mechanically interconnected. The connection areas are now at least in the subregions of the film stack 10 ie, the flexible, multilayer circuit substrate 10 For example, which are subjected to a predetermined bending stress, arranged so that a preferential bending direction of the flexible multilayer circuit substrate 10 (at least in the subarea). The connection areas 32 , which now have at most one dimension A 0 and at least with a distance B 0 from an adjacent connection area 32 are arranged separately, are now designed so that the distance B 0 is greater than the dimension A 0 is selected. Mm are the connection areas 32 symmetrical to each other, z. B. in a linear, parallel or in an orthogonal grid for connecting the first and second substrate plane 20 . 40 arranged, results in the resulting multilayer circuit substrate 10 a preferred bending direction of the flexible multilayer circuit substrate 10 (at least) in the correspondingly formed subarea. Are now the connection areas 32 For example, arranged in a linear parallel and / or an orthogonal grid to each other, so adjacent connection areas 32 for example, as in 1a 2, extend along a (eg, linear) connection line, respectively, to mating connection areas 34 be summarized. At the in 1a illustrated exemplary arrangement of the connection areas 32 now arise a plurality of mutually parallel connection areas 34 based on the respectively selected symmetry of the geometric arrangement of the connection areas 32 ,

Aufgrund des beispielhaft in 1a dargestellten orthogonalen Rasters der Verbindungsgebiete 32 ergeben sich beispielsweise entsprechend eines eingezeichneten x-y-Koordinatensystems parallele Verbindungsbereiche 34 in der x-Richtung, in der y-Richtung und in beiden diagonalen Richtungen. Zur Vereinfachung der Ansicht von 1a sind nur in einer diagonalen Richtung die Verbindungsbereiche angegeben.Due to the example in 1a illustrated orthogonal rasters of the connection areas 32 arise, for example, according to a marked xy coordinate system parallel connection areas 34 in the x-direction, in the y-direction and in both diagonal directions. To simplify the view of 1a the connection areas are indicated only in a diagonal direction.

Wie nun insbesondere aus 1a ersichtlich werden sollte, können alternativ beispielsweise Vorzugsbiegerichtungen dadurch gezielt, eingestellt bzw. gezielt unterbunden werden, indem beispielsweise in den Zeilen I, II, III und IV die jeweiligen Verbindungsgebiete 32 jeweils linear angeordnet bleiben, jedoch deren Abstände innerhalb des zugeordneten Verbindungsbereichs 34 variabel bzw. nicht-konstant oder nicht-periodisch zueinander vorgesehen werden, so dass sich eine Vorzugsbiegelinie nur entlang der x-Richtung ausbildet und sich somit ein Vorzugsbiegeradius nur im Wesentlichen senkrecht zu der x-Richtung ergibt. Diese Vorgabe der geometrischen Anordnung der Verbindungsgebiete 32 ist im Wesentlichen für jede der in 1a dargestellten Verbindungsbereiche 34 wählbar. Als eine Alternative zu der in 1a dargestellten Anordnung können also beispielsweise die Verbindungsgebiete 32 der in x-Richtung angeordneten Verbindungsbereiche 34 in einem zufälligen, nicht-konstanten Abstand oder in einem sehr geringen Abstand (z. B. kleiner A0) zueinander angeordnet, so dass sich ausschließlich die parallel zur x-Richtung ausgerichteten Verbindungsbereiche 34 ergeben. Aufgrund der fehlenden Symmetrie ergeben sich dann keine in y-Richtung bzw. in einer diagonalen Richtung ausgebildeten Verbindungsbereiche 34.As now in particular from 1a should be apparent, alternatively, for example, preferential breeder judgments targeted, can be set or selectively prevented by, for example, in lines I, II, III and IV, the respective connection areas 32 each remain linearly arranged, but their distances within the associated connection area 34 be provided variable or non-constant or non-periodic to each other, so that forms a preferred bending line only along the x-direction and thus results in a preferred bending radius only substantially perpendicular to the x-direction. This specification of the geometric arrangement of the connection areas 32 is essentially for each of the in 1a illustrated connection areas 34 selectable. As an alternative to the in 1a Thus, for example, the connection areas shown 32 the connection areas arranged in the x-direction 34 arranged at a random, non-constant distance or at a very small distance (eg, smaller A 0 ) to each other, so that only the aligned parallel to the x-direction connecting areas 34 result. Due to the lack of symmetry, no connection areas are formed in the y-direction or in the diagonal direction 34 ,

Aus den obigen Ausführungen sollte deutlich werden, dass zur Definition der Verbindungsbereiche 34, die jeweils symmetrisch zueinander angeordnete Verbindungsgebiete 32 aufweisen, die Abmessung A0 als Durchmesser der Verbindungsbereiche 34 und der Abstand B0 als Abstand der Verbindungsbereiche 34 angenommen werden kann.From the above it should be clear that to define the connection areas 34 , the connection areas arranged symmetrically to each other 32 have the dimension A 0 as the diameter of the connecting portions 34 and the distance B 0 as the distance of the connection areas 34 can be accepted.

Die effektive oder wirksame Abmessung der Verbindungsgebiete ergibt sich dabei beispielsweise aus der Ausdehnung des jeweiligen Verbindungsgebiets in Richtung eines gegenüberliegenden Verbindungsgebiets, das sich in einem benachbarten Verbindungsbereich befindet, und z. B. durch den geometrischen Schwerpunkt oder Mittelpunkt dieses Verbindungsgebiets hindurch. The effective or effective dimension of the connection regions results, for example, from the extent of the respective connection region in the direction of an opposite connection region, which is located in an adjacent connection region, and z. B. through the geometric center or center of this connection area.

Gemäß weiteren Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung können nun die Verbindungsgebiete 32 zumindest in dem Teilbereich 12 des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 so hinsichtlich Durchmesser, Dicke und Abstand zueinander angeordnet werden, um einen erreichbaren bzw. einstellbaren Biegeradius (Soll-Biegeradius) R0 zu erhalten, dem der zugeordnete Teilbereich 12 des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 bei einer Biegebeanspruchung zumindest folgen soll.According to further embodiments of the present invention, the connection areas 32 at least in the subarea 12 flexible, multi-layered circuit substrate 10 be arranged with respect to diameter, thickness and distance from each other to obtain an achievable or adjustable bending radius (target bending radius) R 0 , which is the associated portion 12 flexible, multi-layered circuit substrate 10 should at least follow at a bending stress.

Wird nun beispielsweise ein Soll-Biegeradius R0 bei einer Beabstandung B0 der Verbindungsgebiete 32 bezüglich benachbarter Verbindungsbereiche 34 und bei einer vorgegebenen Mindestdicke D0 in dem Teilbereich 12 des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 vorgesehen, so kann dies erreicht werden, indem folgende mathematische Beschreibung bzw. Bedingung erfüllt wird:

Figure 00130001
Now, for example, a target bending radius R 0 at a spacing B 0 of the connection areas 32 with respect to adjacent connection areas 34 and at a predetermined minimum thickness D 0 in the subregion 12 flexible, multi-layered circuit substrate 10 provided, this can be achieved by the following mathematical description or condition is met:
Figure 00130001

In diesem Zusammenhang wird der Faktor α0 als Toleranzfaktor bezeichnet, in den beispielsweise Randbedingungen hinsichtlich der Eigenschaften der verwendeten Substratebene 20, 40, Leiterbahnanordnungen, Anordnungen der Funktionselemente usw., eingehen. So ist der Toleranzfaktor je nach Auslegung der Randbedingungen beispielsweise mit α0 = 0,4 bis 1 oder α0 = 0,7 bis 1 (und z. B. α0 = 0,8 oder α0 = 1) zu wählen.In this context, the factor α 0 is referred to as tolerance factor, in the example, boundary conditions with respect to the properties of the substrate level used 20 . 40 , Track arrangements, arrangements of the functional elements, etc., enter. For example, depending on the design of the boundary conditions, the tolerance factor should be selected with α 0 = 0.4 to 1 or α 0 = 0.7 to 1 (and, for example, α 0 = 0.8 or α 0 = 1).

So kann beispielsweise bei einer Realisierung eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats der Abstand

Figure 00130002
gewählt werden. Ferner wird darauf hingewiesen, dass als eine obere Begrenzung B0-max für den zu wählenden Abstand B0 beispielsweise folgender Wert vorgesehen sein kann:
Figure 00130003
For example, in a realization of a flexible, multi-layered circuit substrate, the distance
Figure 00130002
to get voted. It should also be noted that, for example, the following value can be provided as an upper limit B 0-max for the distance B 0 to be selected:
Figure 00130003

Für den zu wählenden Abstand B0 bei einem vorgegebenen Soll-Biegeradius R0 finden ferner folgende Nebenbedingungen Anwendung: B0 < R0/4 und B0 > A0. For the distance B 0 to be selected for a given desired bending radius R 0 , the following secondary conditions are also used: B 0 <R 0/4 and B 0 > A 0 .

Bezüglich der obigen Bedingungen für den zu wählenden Abstand B0 zwischen benachbarten Verbindungsgebieten 32 bzw. benachbarten Verbindungsbereichen 34 wird ferner darauf hingewiesen, dass die Dicke D20, D40 der Substratebene 20, 40 viel geringer (z. B. weniger als 5%) als der Soll-Biegeradius R0 des resultierenden Substratstapels, d. h. des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10, als weitere Nebenbedingung gewählt werden: D20 << R0; D0 << R0; D40 << R0. Regarding the above conditions for the distance B 0 to be selected between adjacent connection areas 32 or adjacent connection areas 34 It is further noted that the thickness D 20 , D 40 of the substrate plane 20 . 40 much lower (eg, less than 5%) than the desired bend radius R 0 of the resulting substrate stack, ie, the flexible multilayer circuit substrate 10 to be chosen as another constraint: D 20 << R 0 ; D 0 << R 0 ; D 40 << R 0 .

Bezüglich der obigen Hauptbedingung sollte beachtet werden, dass diese im Wesentlichen die Größenordnung der geometrischen Verhältnisse der Abmessungen und der Anordnung der Verbindungsgebiete 32 bezüglich der Abmessungen der Substratebenen 20, 40 angeben, wobei der Toleranzfaktor α0 weitere mögliche Randbedingungen für die obige Hauptbedingung berücksichtigen soll.Regarding the above main condition, it should be noted that these are substantially the order of magnitude of the geometrical relationships of the dimensions and the arrangement of the connection areas 32 with respect to the dimensions of the substrate planes 20 . 40 where the tolerance factor α 0 is to take into account further possible boundary conditions for the above main condition.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung kann somit zumindest ein Teilbereich 12 oder das gesamte, als flexibler Schichtstapel ausgebildete Schaltungssubstrat 10, das die erfindungsgemäß angeordneten Verbindungsgebiete 32 aufweist, mit dem gewünschten Soll-Biegeradius R0 ausgebildet werden, um beispielsweise für eine vorgegebene Biegebeanspruchung angepasst zu werden.Thus, according to an embodiment of the present invention, at least a portion 12 or the entire circuit substrate formed as a flexible layer stack 10 that the connection areas arranged according to the invention 32 have to be formed with the desired target bending radius R 0 , to be adapted for example for a predetermined bending stress.

Gemäß weiteren Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung können mm beispielsweise weitere Teilbereiche des Schichtstapels 10 mit unterschiedlichen gewünschten Soll-Biegeradien R0, R1 versehen werden, so dass unterschiedliche Gebiete des Folienstapels unterschiedlichen Biegeanforderungen ausgesetzt werden können. So kann entsprechend der obigen Beziehungen der Abstand der mechanischen Verbindungsgebiete 32 unter Einbeziehung der weiteren geometrischen Abmessungen der ersten und zweiten Substratebenen 20, 40 und der Mindestdicke D0 des Verbindungsmaterials in den Verbindungsgebieten 32 in dem einzustellenden Teilbereich 12 des Folienstapels 10 eingestellt werden. Der Abstand der mechanischen Verbindungsgebiete 32 bzw. der benachbarten Verbindungsbereiche 34 kann also mit der Variation des vorzusehenden Soll-Biegeradius R0 verändert werden. In diesem Zusammenhang wird darauf hingewiesen, dass die geometrischen Abmessungen, die als Abmessung A0 der Verbindungsgebiete bzw. Abstand B0 der Verbindungsgebiete in 1a–d angegeben sind, nicht als maßstäblich zueinander dargestellt sind. Lediglich der Abstand B der Verbindungsgebiete 32 ist (maßstäblich) größer als die Breite A0 der Verbindungsgebiete 32 bzw. der Verbindungsgebiete 34 angegeben. In diesem Zusammenhang wird nochmals darauf hingewiesen, dass die Verbindungsgebiete 32 bzw. die Verbindungsbereiche 34 als in sich abgeschlossene punktförmige oder streifenförmige Gebilde zu verstehen sind, und sich somit deutlich von zusammenhängenden Klebeschichten unterscheiden.According to further embodiments of the present invention, for example, further subregions of the layer stack may be used 10 be provided with different desired target bending radii R 0 , R 1 , so that different areas of the film stack can be exposed to different bending requirements. Thus, according to the above relationships, the distance of the mechanical connection areas 32 taking into account the further geometric dimensions of the first and second substrate planes 20 . 40 and the minimum thickness D 0 of the bonding material in the bonding areas 32 in the subset to be set 12 of the film stack 10 be set. The distance of the mechanical connection areas 32 or the adjacent connection areas 34 can therefore be changed with the variation of the intended bending radius R 0 to be provided. In this context, it is pointed out that the geometric dimensions which are measured as dimension A 0 of the connection regions or distance B 0 of the connection regions in 1a Are not shown to scale to each other. Only the distance B of the connection areas 32 is (to scale) larger than the width A 0 of the connection areas 32 or the connection areas 34 specified. In this context will again noted that the connection areas 32 or the connection areas 34 are to be understood as self-contained punctiform or strip-like structures, and thus differ significantly from contiguous adhesive layers.

Gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung kann nun in einem weiteren Teilbereich 14 des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 eine Mehrzahl von weiteren Verbindungsgebieten 32 vorgesehen sein, die wiederum getrennt voneinander angeordnet sind. Entsprechend den vorhergehenden Ausführungsbeispielen kann wieder eine Mehrzahl von zugehörigen Verbindungsgebieten 32 einen zugeordneten Verbindungsbereich 38 bilden. Insbesondere können die Verbindungsgebiete 32 entlang sich linear erstreckender, benachbarter Verbindungsbereiche 34 angeordnet sein, wobei jeder der weiteren Verbindungsbereiche 34 jeweils ein längliches, weiteres Verbindungsgebiet 32 oder eine Mehrzahl von getrennten, weiteren Verbindungsgebieten 32 aufweist. Die weiteren, benachbarten Verbindungsbereiche 34 weisen dann beispielsweise die weitere Abmessung A1 auf und sind zumindest in dem weiteren Abstand B1 angeordnet. Dabei kann wiederum der weitere Abstand B1 (der benachbarten, weiteren Verbindungsbereiche 34 in dem weiteren Teilbereich 14) unter Berücksichtigung eines weiteren Soll-Biegeradius R1 des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 folgende Bedingung erfüllen:

Figure 00150001
According to a further embodiment of the present invention can now in a further sub-area 14 flexible, multi-layered circuit substrate 10 a plurality of further connection areas 32 be provided, which in turn are arranged separately from each other. According to the preceding embodiments, again a plurality of associated connection areas 32 an associated connection area 38 form. In particular, the connection areas 32 along linearly extending, adjacent connection areas 34 be arranged, wherein each of the further connection areas 34 each an elongated, further connection area 32 or a plurality of separate, further connection regions 32 having. The other, adjacent connection areas 34 then have, for example, the further dimension A 1 and are arranged at least in the further distance B 1 . In this case, in turn, the further distance B 1 (the adjacent, further connection areas 34 in the further subarea 14 ) considering another target bending radius R1 of the flexible multilayer circuit substrate 10 fulfill the following condition:
Figure 00150001

Als eine weitere Nebenbedingung bezüglich des weiteren Abstand B1 bezüglich des weiteren Soll-Biegeradius R1 und der weiteren Abmessung A1 ergibt sich beispielsweise folgende Bedingung: B1 < R1/4 und B1 > A1. As a further constraint with respect to the further distance B 1 with respect to the further desired bending radius R 1 and the further dimension A 1 , the following condition results, for example: B 1 <R 1/4 and B 1> A1.

In diesem Zusammenhang wird auch der Faktor α1 wiederum als Toleranzfaktor bezeichnet, in den beispielsweise Randbedingungen hinsichtlich der Eigenschaften der verwendeten Substratebene 20, 40, der Leiterbahnanordnungen, der Anordnungen der Funktionselemente usw., eingehen. So ist der Toleranzfaktor je nach Kenntnis der Randbedingungen beispielsweise mit α1 = 0,4 bis 1 oder α1 = 0,7 bis 1 (und z. B. α1 = 0,8 oder α1 = 1) zu wählen.In this context, the factor α 1 is again referred to as a tolerance factor, in the example, boundary conditions with respect to the properties of the substrate level used 20 . 40 , the conductor track arrangements, the arrangements of the functional elements, etc., enter. For example, depending on the knowledge of the boundary conditions, the tolerance factor should be selected as α 1 = 0.4 to 1 or α 1 = 0.7 to 1 (and, for example, α 1 = 0.8 or α 1 = 1).

So kann beispielsweise bei einer Realisierung eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats der Abstand

Figure 00150002
gewählt werden. Ferner wird darauf hingewiesen, dass als eine obere Begrenzung B1-max für den zu wählenden Abstand B1 beispielsweise folgender Wert vorgesehen sein kann:
Figure 00150003
For example, in a realization of a flexible, multi-layered circuit substrate, the distance
Figure 00150002
to get voted. It should also be noted that, for example, the following value can be provided as an upper limit B 1-max for the distance B 1 to be selected:
Figure 00150003

Bezüglich der obigen Hauptbedingung sollte beachtet werden, dass diese im Wesentlichen die Größenordnung der geometrischen Verhältnisse der Abmessungen und der Anordnung der Verbindungsgebiete 32 bezüglich der Abmessungen der Substratebenen 20, 40 angeben, wobei der Toleranzfaktor α1 weitere mögliche Randbedingungen für die obige Hauptbedingung berücksichtigen soll.Regarding the above main condition, it should be noted that these are substantially the order of magnitude of the geometrical relationships of the dimensions and the arrangement of the connection areas 32 with respect to the dimensions of the substrate planes 20 . 40 where the tolerance factor α 1 is to take into account further possible boundary conditions for the above main condition.

Flexible Substrate bzw. Substratfolien, die auch als Flex-Folien bezeichnet werden, weisen beispielsweise eine Substratdicke D0 in einem Bereich von 1 μm bis 200 μm und beispielsweise Werte von 25 μm, 50 μm oder 125 μm oder Zwischenwerte davon auf. Bei einer ausreichenden Flexibilität der Flex-Folien sind Schichtdicken auch bis etwa 500 μm denkbar. Gleichermaßen sind bei einer ausreichenden Festigkeit der Flex-Folien Schichtdicken auch unter 1 μm denkbar.Flexible substrates or substrate films, which are also referred to as flex films, for example, have a substrate thickness D 0 in a range of 1 .mu.m to 200 .mu.m and for example values of 25 .mu.m, 50 .mu.m or 125 .mu.m or intermediate values thereof. With sufficient flexibility of the flex films, layer thicknesses of up to about 500 μm are also conceivable. Similarly, with a sufficient strength of the flex films, layer thicknesses of less than 1 μm are conceivable.

Im Folgenden werden nun anhand der 2a–d mögliche alternative Implementierungen für die geometrische Anordnung der Verbindungsgebiete 32 bzw. Verbindungsbereiche 34 näher erläutert.The following are now based on the 2a -D possible alternative implementations for the geometric arrangement of the connection areas 32 or connection areas 34 explained in more detail.

2a stellt nun beispielsweise zwei parallele Verbindungsbereiche 34 mit den darin angeordneten Verbindungsgebieten 32 dar. Bei einer parallelen und linearen Ausrichtung der Verbindungsgebiete 32 und damit der Verbindungsbereiche 34 ergibt sich als Abstand B0 der Abstand zwischen zwei gegenüberliegenden Verbindungsgebieten 32 von zwei benachbarten, parallelen Verbindungsbereichen 34. So ist der Abstand B0 als ein „Mindestabstand” zwischen den beiden Verbindungsbereichen 34 anzusehen. 2a zeigt nun ferner die Verbindungsgebiete 32 in Form von kreisrunden Gebieten. Erfindungsgemäß können aber gleichermaßen rechteckige, quadratische, ovale, bzw. beliebige Grundformen für die Verbindungsgebiete 32 gewählt werden, solange sie technisch sinnvoll und auch geeignet herstellbar sind, wobei als Abstand B0 dann der geringste Abstand zwischen den Ausdehnungen der Verbindungsgebiete 32 in benachbarten Verbindungsbereichen 34 darstellt. So kann beispielsweise die Abmessung der Verbindungsgebiete 32 innerhalb eines Toleranzbereichs von beispielsweise < ±10% variabel sein, solange dieser Toleranzbereich für die Abmessung klein (z. B. < 10%) gegenüber dem Abstand B0 zwischen den benachbarten Verbindungsbereichen 34 ist. 2a For example, now set two parallel connection areas 34 with the connection areas arranged therein 32 In a parallel and linear alignment of the connection areas 32 and thus the connection areas 34 the distance B 0 results between the distance between two opposite connection areas 32 of two adjacent, parallel connection areas 34 , Thus, the distance B 0 is a "minimum distance" between the two connection areas 34 to watch. 2a now also shows the connection areas 32 in the form of circular areas. However, in accordance with the invention, rectangular, square, oval, or any desired basic shapes for the connection regions can equally well be used 32 can be selected, as long as they are technically useful and suitable to produce, where as the distance B 0 then the smallest distance between the dimensions of the connection areas 32 in adjacent connection areas 34 represents. For example, the dimension of the connection areas 32 within a tolerance range of, for example, <± 10%, as long as this tolerance range for the dimension is small (eg <10%) compared to the distance B 0 between the adjacent connection regions 34 is.

2b zeigt nun eine Darstellung von den Verbindungsgebieten 32 benachbarter Verbindungsbereiche 34, wobei die Verbindungsgebiete 32 eines Verbindungsbereichs 34 jeweils linear angeordnet sind, die Verbindungsgebiete 32 eines Verbindungsbereichs 34 zu den Verbindungsgebieten 32 des benachbarten Verbindungsbereichs um einen variablen oder konstanten Versatz Δx versetzt angeordnet sind. Bei der in 2b dargestellten Teilansicht von getrennt angeordneten Verbindungsgebieten 32 in zwei benachbarten Verbindungsbereichen 34 kann der Abstand B0 als Mindestabstand der beiden benachbarten Verbindungsbereiche 34 angesehen werden. Bei einem relativ geringen Versatz Δx (mit Δx ≤ 0,1 B0) kann auch der in 2b eingezeichnete Abstand B0x zur Ermittlung der gewünschten Topologie der Verbindungsgebiete 32 herangezogen werden, d. h. der Abstand eines Verbindungsgebietes 32 in einem Verbindungsbereich 34 zu dem als nächstes benachbarten Verbindungsgebiet 32 in dem benachbarten Verbindungsbereich 34. 2 B now shows a representation of the connection areas 32 adjacent connection areas 34 , where the connection areas 32 a connection area 34 are each arranged linearly, the connection areas 32 a connection area 34 to the connection areas 32 of the adjacent connection area are offset by a variable or constant offset Δx. At the in 2 B shown partial view of separately arranged connection areas 32 in two adjacent connection areas 34 can the distance B 0 as a minimum distance of the two adjacent connection areas 34 be considered. With a relatively small offset Δx (with Δx ≤ 0.1 B 0 ), the in 2 B drawn distance B 0x to determine the desired topology of the connection areas 32 be used, ie the distance of a connection area 32 in a connection area 34 to the next adjacent connection area 32 in the adjacent connection area 34 ,

2c zeigt nun eine Prinzipdarstellung von Verbindungsgebieten 32 in benachbarten Verbindungsbereichen 34. Wie in 2c dargestellt ist, können die Verbindungsgebiete in den benachbarten Verbindungsbereichen 34 auch eine unterschiedliche Grundfläche aufweisen, wobei wiederum als Abstand B0 (Mindestabstand) der Abstand der benachbarten Verbindungsbereiche 34 anzusehen ist. Erfindungsgemäß können gleichermaßen auch einzelne Verbindungsgebiete 32 eines Verbindungsbereichs 34 eine unterschiedliche Größe aufweisen, wobei aber zur Ermittlung des Mindestabstands B0 die jeweils (bezüglich ihrer Ausdehnung) die größten Verbindungsgebiete 32 oder die sich am nächsten annähernden Verbindungsgebiete 32 zwischen zwei benachbarten Verbindungsbereichen 34 die Außenlinie des jeweiligen Verbindungsbereichs 34 und damit den Mindestabstand B0 definieren. Ferner ist zu beachten, dass gemäß der vorliegenden Erfindung und der in 2c dargestellten Anordnung die effektive Abmessung A0 beispielsweise auf den Verbindungsgebieten mit der jeweils größten Ausdehnung basiert. 2c now shows a schematic representation of connection areas 32 in adjacent connection areas 34 , As in 2c is shown, the connection areas in the adjacent connection areas 34 also have a different base area, again as a distance B 0 (minimum distance), the distance of the adjacent connection areas 34 is to be considered. Likewise, according to the invention, individual connection regions can likewise be used 32 a connection area 34 have a different size, but for determining the minimum distance B 0 each (in terms of their extent) the largest connection areas 32 or the closest approximate connection areas 32 between two adjacent connection areas 34 the outline of the respective connection area 34 and thus define the minimum distance B 0 . It should also be noted that according to the present invention and that in 2c illustrated arrangement, the effective dimension A 0, for example, based on the connection areas with the largest extent.

2d zeigt nun eine geometrische Anordnung der Verbindungsgebiete 32 von zwei benachbarten Verbindungsbereichen 34, bei der die Verbindungsgebiete zumindest eines Verbindungsbereichs nicht auf einer geraden Linie ausgerichtet sind, sondern z. B. auf einem Abschnitt eines Kreisbogens oder eines sonstigen Kurvenverlaufs. Wie bei der in 2 dargestellten Anordnung ersichtlich ist, ergibt sich der Mindestabstand B0 als geringster Abstand zwischen den zwei benachbarten Verbindungsbereichen 34. 2d now shows a geometric arrangement of the connection areas 32 of two adjacent connection areas 34 in which the connection areas of at least one connection area are not aligned on a straight line, but z. B. on a portion of a circular arc or other curve. As with the in 2 shown arrangement, the minimum distance B 0 results as the smallest distance between the two adjacent connection areas 34 ,

Die Biegelinie ergibt sich bei Ausbildungsformen mit parallel und in gerader Linie zueinander angeordneten Verbindungsgebieten vorzugsweise entlang der Mittellinien zu den. Verbindungsgebieten. Wenn nun die orthogonale Anordnung der Verbindungsgebiete aufgegeben wird und eine ”gebogene” Anordnung vorliegt, ergibt sich eine Variation der Achse der Biegelinie und somit eine Variation der Vorzugsbiegerichtung. Dies könnte in (seltenen) Applikationen nützlich sein, in denen aufgrund von Parallelitätsfehlern die Ausrichtung der Biegelinie eine Toleranz haben soll. Allerdings führen gebogene Anordnungen von Verbindungsgebieten zu einer Verringerung der Biegelinien pro Flächeneinheit auf der Folie, da die Biegelinie ein Gerade ist und der Abstand zweier Biegelinien im gebogenen Anordnungsfall von den Scheitelpunkten der Biegung bestimmt wird.The bending line results in embodiments with parallel and in a straight line to each other arranged connection areas preferably along the center lines to the. Connecting areas. Now, if the orthogonal arrangement of the connection areas is abandoned and a "bent" arrangement is present, there is a variation of the axis of the bending line and thus a variation of the preferential bending direction. This could be useful in (rare) applications where the alignment of the bendline should have a tolerance due to parallelism errors. However, curved arrays of interconnect areas result in a reduction in bendlines per unit area on the film since the bendline is a straight line and the spacing of two bendlines in the curved array case is determined by the vertices of the bend.

Im Wesentlichen ist davon auszugehen, dass viele kleine Biegungen entlang von vielen parallelen Biegelinien zu einem gesamten Biegeradius des Folienstapels führen, vgl. Approximation eines Kreises durch Tangentensegmente.Essentially, it can be assumed that many small bends along many parallel bending lines lead to an overall bending radius of the film stack, cf. Approximation of a circle by tangent segments.

Die in den 2a–d dargestellten weiteren Ausführungsbeispiele zeigen, wie die maximal von den Verbindungsgebieten 32 bzw. Verbindungsbereichen 34 anzunehmende Abmessung A0 und der zugeordnete Mindestabstand B0 zwischen benachbarten Verbindungsgebieten 32 bzw. Verbindungsbereichen 34 anwendbar ist. Ferner können die in den 2a–d dargestellten Anordnungen der Verbindungsgebiete 32 bzw. der Verbindungsbereiche 34 kombiniert werden, d. h. einer der oberen Verbindungsbereiche 34 in den 2a–d jeweils mit einem der unteren Verbindungsbereiche in 2a–d.The in the 2a -D shown further embodiments, such as the maximum of the connection areas 32 or connection areas 34 assumed dimension A 0 and the associated minimum distance B 0 between adjacent connection areas 32 or connection areas 34 is applicable. Furthermore, in the 2a -D shown arrangements of the connection areas 32 or the connection areas 34 be combined, ie one of the upper connection areas 34 in the 2a Each with one of the lower connection areas in 2a d.

Eine Folie ist, sofern nur geringer innerer mechanischer Stress vorhanden sein soll, nur ein-dimensional und somit also senkrecht zu parallelen Biegelinien möglich, wie z. B. eine Folie, die zu einem Zylindermantel gebogen ist. In 2a ergeben sich für die Biegelinien eine Haupt-Vorzugsrichtung in x-Richtung (in West-Ost-Richtung) und eine Neben-Vorzugsrichtung in y-Richtung (in Nord-Süd-Richtung). In 2b ergeben sich für die Biegelinien eine Haupt-Vorzugsrichtung in x- Richtung (in West-Ost-Richtung) und eine Neben-Vorzugsrichtung in einer diagonalen x-y-Richtung (in NNW-SSO-Richtung). In 2d ergibt sich eine Haupt-Biegelinie mit Toleranzbereich x-Richtung (in West-Ost-Richtung).A film is, if only minor internal mechanical stress is to be present, only one-dimensional and therefore perpendicular to parallel bending lines possible, such. B. a foil which is bent into a cylinder jacket. In 2a result for the bending lines a main preferred direction in the x-direction (in west-east direction) and a minor preferred direction in the y-direction (in north-south direction). In 2 B For the bending lines, a principal preferred direction in the x direction (in the west-east direction) and a minor preferred direction in a diagonal xy direction (in the NNW-SSO direction) are obtained. In 2d results in a main bending line with tolerance range x-direction (in west-east direction).

Eine Kombination ist z. B. in dem Maße zulässig, wenn wenigstens eine Haupt-Vorzugsrichtung für eine Biegung vorhanden bleibt, der zufolge eine Formung eines Zylindermantels oder eines Kegelmantels möglich ist. Der Biegeradius (vgl. Schneckenhaus) und die Krümmungsorientierung (vgl. Wellblech) kann variieren. Würde als Biegeform ein Kegelmantel angestrebt, können die Verbindungsgebiete entlang von Kegelmantel-Linien durch die Kegelspitze angeordnet werden, wobei also kein orthogonales schachbrettartiges Anordnungsmuster der Verbindungsgebiete resultieren würde.A combination is z. B. permissible to the extent that at least one main preferential direction for a bend remains, according to which a shaping of a cylinder jacket or a cone sheath is possible. The bending radius (see snail shell) and the curvature orientation (see corrugated sheet metal) may vary. If a cone sheath was desired as the bending shape, the connecting regions can be arranged along conical sheath lines through the cone tip, so that no orthogonal checkerboard pattern of connection areas would result.

Im Folgenden werden nun anhand der 3a–d mögliche Ausgestaltungen der im Vorhergehenden beschriebenen Verbindungsgebiete 32 bzw. die zugehörigen Verbindungsbereiche 34 beschrieben. Wie bereits im Vorhergehenden dargestellt wurde, weist ein Verbindungsbereich ein längliches, zusammenhängendes Verbindungsgebiet oder eine Mehrzahl von getrennten, zueinander ausgerichteten Verbindungsgebieten auf, d. h. ein Verbindungsbereich 34 ist ein zusammenhängendes Gebiet oder ist abschnittsweise in einzelne Verbindungsgebiete 32 unterteilt, die beispielsweise zueinander linear ausgerichtet sind, d. h. entlang einer Verbindungslinie angeordnet sind. Sind nun die Verbindungsbereiche oder die zugehörigen Verbindungsgebiete z. B. linear oder entlang einer Verbindungslinie zueinander ausgerichtet, ist zwischen diesen Verbindungsbereichen ein Biegebereich bzw. Vorzugs-Biegebereich mit einer Vorzugs-Biegerichtung ausbildbar. Werden noch die anhand der 1a–b und 2a–d dargestellten Bedingungen hinsichtlich der geometrischen Ausgestaltungen und Abmessungen der Substratebenen 20, 40 und der Verbindungsgebiete 32 und des darin angeordneten Verbindungsmaterials eingehalten, so kann über die Einstellung des Abstands (Mindestabstands) B0 ein Soll-Biegeradius R0 beispielsweise in einer Vorzugsrichtung bezüglich der Oberfläche des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 erreicht werden.The following are now based on the 3a -D possible embodiments of the connection areas described above 32 or the associated connection areas 34 described. As already stated above, a connection region has an elongate, contiguous connection region or a plurality of separate, mutually aligned connection regions, ie a connection region 34 is a contiguous area or is in sections into individual connection areas 32 divided, for example, are aligned linearly with each other, that are arranged along a connecting line. Are now the connection areas or the associated connection areas z. B. aligned linearly or along a connecting line to each other, a bending region or preferential bending region with a preferred bending direction can be formed between these connection areas. Are still the basis of the 1a -Federation 2a -D shown conditions with respect to the geometric configurations and dimensions of the substrate planes 20 . 40 and the connection areas 32 and the connecting material arranged therein, so by setting the distance (minimum distance) B 0, a target bending radius R 0, for example, in a preferred direction with respect to the surface of the flexible multilayer circuit substrate 10 be achieved.

3a zeigt mm schematisch die geometrische Anordnung der Verbindungsgebiete 32 zwischen den beiden Substratebenen 20, 30 (nicht gezeigt in 3a) des erfindungsgemäßen flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10. Wie in 3a beispielhaft dargestellt ist, weisen alle Verbindungsgebiete 32 eine rechteckige Form mit einer Seitenlänge A0 auf. Da die in einem orthogonalen Raster angeordneten Verbindungsgebiete 32 ferner jeweils zu den orthogonal benachbarten Verbindungsgebieten 32 einen Abstand B0 aufweisen, ergeben sich bezüglich der in Form 3a gezeigten geometrischen Anordnung jeweils Vorzugsbiegelinien, die entsprechend den eingezeichneten orthogonalen x-/y-Koordinaten ausgerichtet sind. Die entsprechenden Soll-Biegeradien R0 ergeben sich senkrecht zu diesen Vorzugsbiegelinien. Bei dem in 3a dargestellten Ausführungsbeispiel bilden jeweils orthogonal zueinander angeordnete Verbindungsgebiete 32 und optional auch diagonal ausgerichtete Verbindungsgebiete 32 jeweils einen Verbindungsbereich 34. 3a shows mm schematically the geometric arrangement of the connection areas 32 between the two substrate planes 20 . 30 (not shown in 3a ) of the flexible multilayer circuit substrate of the present invention 10 , As in 3a is exemplified, all have connection areas 32 a rectangular shape with a side length A 0 . Since the arranged in an orthogonal grid connection areas 32 each further to the orthogonally adjacent connection areas 32 have a distance B 0 , resulting in terms of in shape 3a shown preferred geometric reference lines each, which are aligned according to the drawn orthogonal x- / y-coordinates. The corresponding desired bending radii R 0 arise perpendicular to these preferred bending lines. At the in 3a illustrated embodiment form mutually orthogonal connection areas 32 and optionally also diagonally aligned connection areas 32 each one connection area 34 ,

3b zeigt nun eine Anordnung von Verbindungsgebieten 32, bei der sich der Abstand B0 in einem Teilbereich 14 gegenüber einem Teilbereich 12 verdoppelt hat, so dass sich im Teilbereich 14 sowohl entlang der orthogonalen Achsen des x-/y-Koordinatensystems als auch in beiden diagonalen Richtungen Vorzugsbiegebereiche bzw. Vorzugsbiegelinien ergeben. Der in 3b dargestellten Teilbereiche 12, 14 haben beispielsweise die bereits in 3a dargestellten prinzipiellen Eigenschaften, wobei in dem Teilbereich 14 ein gegenüber dem Teilbereich 12 aufgrund der unterschiedlichen Beabstandung der Verbindungsbereiche ein unterschiedlicher Soll-Biegeradius R0 realisierbar ist. In 3b bilden jeweils orthogonal zueinander ausgerichtete Verbindungsgebiete 32 und optional auch diagonal ausgerichtete Verbindungsgebiete 32 jeweils einen Verbindungsbereich 34. 3b now shows an arrangement of connection areas 32 in which the distance B 0 in a partial area 14 opposite a subarea 12 has doubled, so that in the subarea 14 yield preferential bending or preferential bending lines both along the orthogonal axes of the x / y coordinate system and in both diagonal directions. The in 3b shown subareas 12 . 14 For example, those already in 3a illustrated basic properties, wherein in the sub-area 14 one opposite the subarea 12 due to the different spacing of the connecting portions, a different desired bending radius R 0 can be realized. In 3b each form orthogonally aligned connection areas 32 and optionally also diagonally aligned connection areas 32 each one connection area 34 ,

Die eingezeichneten (gestrichelt gezeichneten) Biegelinien sind gleichbedeutend vorstellbar mit Mantellinien auf einer Zylindermantelfläche. Eine einfache Vorstellungshilfe wäre vielleicht der Vorgang, der beim Einwickeln einer Flasche auftritt. Flaschenkörper und Flaschenhals haben einen unterschiedlichen Biegeradius. Wickelt man eine Folie (z. B. Papier) um die Flasche, so lässt sich das ohne Falten am Übergang von Flaschenkörper zu Flaschenhals nicht bewerkstelligen, weil dort die ein-dimensionale Biegung in eine zweidimensionale Biegung übergeht. Stressfrei d. h. faltenfrei ist das nicht möglich. Gemäß der Darstellung von 3b sind unterschiedliche Biegeradien aber ”faltenfrei” möglich.The drawn (dashed lines) bending lines are synonymous conceivable with generatrices on a cylindrical surface. A simple idea guide might be the process that occurs when wrapping a bottle. Bottle body and bottleneck have a different bending radius. If a film (eg paper) is wrapped around the bottle, this can not be accomplished without wrinkles at the transition from bottle body to bottle neck, because there the one-dimensional bend merges into a two-dimensional bend. Stress-free ie wrinkle-free is not possible. As shown by 3b are different bending radii but "wrinkle-free" possible.

Wie nun in 3c dargestellt ist, sind die Verbindungsgebiete 32 mit einer länglichen Grundfläche versehen, so dass sich parallele Verbindungsbereiche nur entlang der Ausrichtung der Verbindungsgebiete 32, d. h. in y-Richtung ergeben, die die Beziehung B0 > A0 erfüllen. Damit ergeben sich Vorzugsbiegebereiche nur parallel zu der Ausrichtung der Verbindungsgebiete 32 bzw. der Verbindungsbereiche 34, d. h. in x-Richtung. Bei dem in 3c dargestellten Ausführungsbeispiel bilden beispielsweise sechs, linear in x-Richtung zueinander ausgerichtete Verbindungsgebiete 32 einen Verbindungsbereich 34. Die Vorzugsrichtung für eine erfindungsgemäße Dimensionierung zu einer Biegung wäre hierbei durch folgenden Gedankengang zu ersehen. Der Abstand zwischen den Verbindungsgebieten 32 in x-Richtung erfüllt nicht die Nebenbedingung B0 > A0. In y-Richtung ist diese Nebenbedingung erfüllt. Des weiteren sind die Verbindungsgebiete parallel angeordnet und somit ergibt sich eine Biegung entsprechend eines Zylindermantels und wiederum folglich verläuft die Vorzugsrichtung der Mantellinien in x-Richtung. Da die Verbindungsgebiete in y-Richtung regelmäßig beabstandet sind, ist diese Ausführungsform vorzugsweise geeignet für einen gleichbleibenden Biegeradius (vgl. Biegung um eine Zylindermantelfläche).Like now in 3c are shown are the connection areas 32 provided with an elongated base, so that parallel connection areas only along the alignment of the connection areas 32 , that is to say in the y-direction, which satisfy the relationship B 0 > A 0 . This results in preferred bending ranges only parallel to the orientation of the connection areas 32 or the connection areas 34 ie in the x-direction. At the in 3c illustrated embodiment form, for example, six, linearly aligned in the x-direction connection areas 32 a connection area 34 , The preferred direction for a dimensioning according to the invention to a bend would be seen here by the following train of thought. The distance between the connection areas 32 in the x-direction, the constraint B 0 > A 0 does not satisfy. In the y-direction, this constraint is fulfilled. Furthermore, the connection regions are arranged in parallel and thus results in a bend corresponding to a cylinder jacket and, in turn, therefore, the preferred direction of the generatrices in the x-direction. Since the connection regions are regularly spaced in the y-direction, this embodiment is preferably suitable for a constant bending radius (cf bend around a cylinder jacket surface).

Als Weiterführung des in 3c dargestellten Ausführungsbeispiels ist nun in 3d eine Anordnung der Verbindungsgebiete 32 dargestellt, bei der diese als längliche, zusammenhängende geometrische Gebilde dargestellt sind, so dass ein Verbindungsgebiet 32 gleichermaßen einen Verbindungsbereich 34 darstellt.As a continuation of the in 3c illustrated embodiment is now in 3d a Arrangement of the connection areas 32 shown in which they are shown as elongated, contiguous geometric shapes, so that a connection area 32 equally a connection area 34 represents.

Bezüglich der in den 3a–d dargestellten Anordnungen sollte beachtet werden, dass die Abstände benachbarter Verbindungsbereiche 34 auch variabel ausgebildet sein können, wobei basierend auf dem geringsten Abstand B0 zwischen zwei benachbarten Verbindungsbereichen 34 der zu erwartende Soll-Radius R0 einstellbar ist.Regarding in the 3a -D illustrated arrangements should be noted that the distances of adjacent connection areas 34 may also be formed variable, based on the smallest distance B 0 between two adjacent connection areas 34 the expected target radius R 0 is adjustable.

Bezüglich den in 3a–d dargestellten Implementierungen für die Anordnung der Verbindungsgebiete 32 bzw. der zugeordneten Verbindungsbereiche 34 wird darauf hingewiesen, dass diese gleichmäßig über den gesamten Folienstapel, d. h. das flexible, mehrschichtige Schaltungssubstrat 10, verteilt sein können oder auf zumindest einen Teilbereich 12, 14 des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 begrenzt sind. Ferner kann die geometrische Anordnung der Verbindungsgebiete 32 bzw. der Verbindungsbereiche 34 in dem Schichtstapel variieren, um für unterschiedliche Teilbereiche des Schichtstapels 10 unterschiedliche Soll-Biegeradien R0, R1, etc. vorzugeben.Regarding the in 3a -D illustrated implementations for the arrangement of the connection areas 32 or the associated connection areas 34 It should be noted that these are uniform over the entire film stack, ie the flexible, multilayer circuit substrate 10 , can be distributed or on at least a subarea 12 . 14 flexible, multi-layered circuit substrate 10 are limited. Furthermore, the geometric arrangement of the connection areas 32 or the connection areas 34 in the layer stack to vary for different portions of the layer stack 10 specify different desired bending radii R 0 , R 1 , etc.

In diesem Zusammenhang wird aber darauf hingewiesen, dass für Schichtstapel mit mehr als zwei Substratebenen die den jeweiligen Substratebenen zugeordneten Verbindungsgebiete 32 bezüglich einer Projektion durch die Substratebenen innerhalb einer projizierten Grundfläche der gewünschten Verbindungsbereiche 34 liegen können, um die gewünschten Vorzugsbiegerichtungen und Vorzugsbiegebereiche des resultierenden Schichtstapels 10 auch bei Vorliegen einer größeren Anzahl von Substratebenen zu gewährleisten.In this context, however, it is pointed out that for layer stacks with more than two substrate planes, the connection regions assigned to the respective substrate planes 32 with respect to projection through the substrate planes within a projected footprint of the desired bond areas 34 to the desired preferred and preferred bending ranges of the resulting layer stack 10 to ensure even in the presence of a larger number of substrate levels.

In 4 ist nun schematisch eine Draufsicht (in einer Durchsichtansicht) auf das flexible, mehrschichtige Schaltungssubstrat 10 gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung gezeigt. Insbesondere kann beispielsweise die Schnittlinie SS der in 1c dargestellten Schnittansicht entsprechen.In 4 FIG. 12 is a schematic plan view (in a see-through view) of the flexible multilayer circuit substrate. FIG 10 according to another embodiment of the present invention. In particular, for example, the section line SS of in 1c Corresponding sectional view correspond.

Wie in 4 dargestellt ist, sind die Verbindungsgebiete 32 beispielsweise als längliche rechteckige Gebiete ausgebildet (vgl. dazu beispielsweise die 3c und d), wobei ferner die in 1b dargestellten Funktionselemente 24, 44 und 46 in Form von elektrischen Leiterbahnen dargestellt sind. Wie 4 insbesondere zu entnehmen ist, sind die Verläufe der Leiterbahnen 24, 44, 46 nicht auf die Bereiche der mechanischen Verbindungsgebiete bzw. Klebeverbindungsgebiete 32 begrenzt, sondern können, falls die Leiterbahnen 24, 44 und 46 eine ausreichende Flexibilität aufweisen, im Wesentlichen beliebig entlang der Substratebenen 20, 40 (nicht gezeigt in 4) verlaufen.As in 4 are shown are the connection areas 32 For example, formed as elongated rectangular areas (see, for example, the 3c and d), where further the in 1b illustrated functional elements 24 . 44 and 46 are shown in the form of electrical conductors. As 4 in particular, it can be seen, the courses of the conductor tracks 24 . 44 . 46 not on the areas of the mechanical connection areas or adhesive bonding areas 32 limited but can, if the interconnects 24 . 44 and 46 have sufficient flexibility, essentially arbitrary along the substrate planes 20 . 40 (not shown in 4 ).

Wie bereits im Vorhergehenden angesprochen wurde, können die Ausbildungsformen der Verbindungsgebiete 32 beispielsweise in dem gesamten Folienstapel 10 gleich sein oder auch von einem benachbarten Verbindungsbereich 34 zu einem weiteren benachbarten Verbindungsbereich 34 variieren. So können neben länglich oder rechteckig ausgebildeten Verbindungsgebieten 32 auch quadratische oder runde, ovale oder kreisrunde Verbindungsgebiete 32 vorgesehen sein, wobei beispielsweise mehrere dieser Verbindungsgebiete 32 in einer Rasteranordnung von Verbindungsgebieten 32 und dazwischen liegenden Zwischenräumen angeordnet sind und sich aufgrund der Rasteranordnung bzw. symmetrischen Ausrichtung der Verbindungsgebiete 32 bzw. der daraus resultierenden Verbindungsbereiche 34 Vorzugsrichtungen für eine Flexibilität bei einer Biegebeanspruchung des erhaltenen Folienstapels 10 ergeben. Bei streifenförmigen mechanischen Verbindungsgebieten (z. B. in Form von Klebestreifen) ergibt sich die Vorzugsrichtung zum Biegen senkrecht zur Streifenrichtung. Das heißt, Biegegebiete des Folienstapels 10 bilden sich beispielsweise parallel zu den Verbindungsbereichen 34 aus.As already mentioned above, the forms of training of the linked areas 32 for example, in the entire film stack 10 be the same or from a neighboring connection area 34 to another adjacent connection area 34 vary. Thus, in addition to oblong or rectangular formed connecting areas 32 also square or round, oval or circular connection areas 32 be provided, for example, a plurality of these connection areas 32 in a grid arrangement of connection areas 32 and intervening spaces are arranged and due to the grid arrangement or symmetrical alignment of the connection areas 32 or the resulting connection areas 34 Preferred directions for flexibility in a bending stress of the resulting film stack 10 result. In the case of strip-shaped mechanical connection regions (for example in the form of adhesive strips), the preferred direction results in bending perpendicular to the strip direction. That is, bending areas of the film stack 10 form, for example, parallel to the connection areas 34 out.

5 zeigt nun ein weiteres Ausführungsbeispiel eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10, bei dem beispielsweise eine elektrische Verbindung zwischen der Vorder- und Rückseite des Foliensubstrats 20 vorgesehen ist, wobei diese elektrische Verbindung mittels einer Durchkontaktierung (Via) 50 in Gebieten außerhalb der mechanischen Verbindungsgebiete 32 zwischen den Hauptoberflächen eines Foliensubstrats 22 angeordnet sind. In 5 ist eine solche Durchkontaktierung 50 schematisch und ohne Anspruch auf Maßstäblichkeit dargestellt. Neben der in 5 dargestellten Formgebung der Durchkontaktierung 50 sind im Wesentlichen beliebige andere Ausführungsmöglichkeiten zur Realisierung von Durchkontaktierungen erfindungsgemäß anwendbar. So wird die tatsächliche Ausbildungsform der Kontaktierung 50 durch die spezifische Herstellungsmethode für solche Durchkontaktierungen beeinflusst. Wie also in 5 dargestellt ist, befindet sich eine solche Durchkontaktierung zwischen zwei Hauptoberflächen der Substratebene 20 in Gebieten ohne mechanische Verbindungsgebiete 32, d. h. in sog. B0-Gebieten. Die weiteren in 5 gezeigten Elemente weisen die bereits anhand von 1b beschriebenen Funktionalitäten auf. Zusätzlich weist die in 5 dargestellte Anordnung noch eine weitere Schutzschicht 28 an der unteren Hauptoberfläche des Foliensubstrats 22 auf. 5 now shows another embodiment a flexible, multilayer circuit substrate 10 in which, for example, an electrical connection between the front and back of the film substrate 20 is provided, this electrical connection by means of a via (Via) 50 in areas outside the mechanical connection areas 32 between the major surfaces of a film substrate 22 are arranged. In 5 is such a via 50 shown schematically and without pretension to scale. In addition to the in 5 illustrated shaping of the via 50 are essentially any other possible embodiments for the realization of vias according to the invention applicable. So the actual training form of contacting 50 influenced by the specific manufacturing method for such vias. So how in 5 is shown, such a via is located between two main surfaces of the substrate plane 20 in areas without mechanical connection areas 32 ie in so-called B 0 areas. The others in 5 shown elements already have the basis of 1b described functionalities. In addition, the in 5 arrangement shown yet another protective layer 28 at the lower major surface of the film substrate 22 on.

6 zeigt nun in einer schematischen Schnittansicht ein weiteres Ausführungsbeispiel eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10, bei der eine elektrische Verbindung zwischen der Vorderseite (der ersten Hauptoberfläche) der ersten Substratebene 20 zu der Vorderseite (der ersten Hauptoberfläche) der zweiten Substratebene 40 mittels einer Durchkontaktierung 52 vorgenommen ist. Solche Durchkontaktierungen 52 von einer Hauptoberfläche einer ersten Substratebene zu einer abgewandten Hauptoberfläche der zweiten Substratebene 40 werden beispielsweise in Bereichen der mechanischen Verbindungsgebiete 32, in denen sich auch das Verbindungsmaterial 33 befindet, vorgenommen. 6 zeigt beispielhaft eine solche Durchkontaktierung 52 (Via) schematisch und ohne Anspruch auf Maßstäblichkeit. Auch hier ist anzumerken, dass sich die gezeigte Formgebung bzw. die letztendliche Ausgestaltung der Durchkontaktierung 52 im Schnittbild nicht auf diese Darstellung begrenzen lässt, sondern im Wesentlichen durch die jeweils verwendete Herstellungsmethode für solche Durchkontaktierungen beeinflusst wird. Die weiteren in 6 gezeigten Elemente weisen die bereits anhand von 1b beschriebenen Funktionalitäten auf. 6 now shows in a schematic sectional view of another embodiment of a flexible, multilayer circuit substrate 10 in that an electrical connection between the front side (the first main surface) of the first substrate plane 20 to the front side (the first main surface) of the second substrate plane 40 by means of a via 52 is made. Such vias 52 from a major surface of a first substrate plane to a remote major surface of the second substrate plane 40 For example, in areas of mechanical connection areas 32 in which also the connecting material 33 is made. 6 shows an example of such a via 52 (Via) schematically and without pretension to scale. Again, it should be noted that the shape shown or the final configuration of the via 52 in the sectional view is not limited to this representation, but is essentially influenced by the particular manufacturing method used for such vias. The others in 6 shown elements already have the basis of 1b described functionalities.

Aus der Sicht der mechanischen Stresssituation auf elektrische bzw. elektronische Funktionen in dem flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrat 10 (Folienstapel) ist es vorteilhaft, wenn die Integration der Funktionselemente in Schichtbereichen mit einem geringen Schichtstress erfolgt. Somit ergibt sich beispielsweise entsprechend 7 eine mögliche Realisierung einer elektrischen Verbindung zwischen zwei an gegenüberliegenden Hauptoberflächen der ersten und zweiten Substratebene 20 und 40 angeordneten Leiterbahn 24 und 44 dadurch, dass eine solche Kontaktierung 54 (Via) von der Leiterbahn 24 der (oberen) Substratebene 20 zu der Leiterbahn 44 der unteren Substratebene 40, d. h. im Innenlagenbereich des Schichtstapels 10 im Bereich der mechanischen Verbindungsgebiete realisiert wird, indem beispielsweise das mechanische Verbindungsmaterial 33 zumindest bereichsweise mittels eines z. B. leitfähigen Klebstoffs oder eines Lötmaterials ausgebildet ist, um die elektrische Verbindung zwischen den beiden auf den unterschiedlichen Substratebenen 20, 40 gegenüberliegenden Leiterbahnen 24, 44 herzustellen. Zusätzlich weist die in 7 dargestellte Anordnung noch eine weitere Schutzschicht 28 an der unteren Hauptoberfläche des Foliensubstrats 22 auf.From the perspective of the mechanical stress situation on electrical or electronic functions in the flexible, multilayer circuit substrate 10 (Film stack), it is advantageous if the integration of the functional elements takes place in layer areas with a low layer stress. Thus, for example, results accordingly 7 a possible realization of an electrical connection between two on opposite main surfaces of the first and second substrate plane 20 and 40 arranged conductor track 24 and 44 in that such contacting 54 (Via) from the track 24 the (upper) substrate level 20 to the track 44 the lower substrate level 40 ie in the inner layer area of the layer stack 10 is realized in the field of mechanical connection areas, for example by the mechanical connection material 33 at least partially by means of a z. As conductive adhesive or a solder material is formed to the electrical connection between the two on the different substrate levels 20 . 40 opposite tracks 24 . 44 manufacture. In addition, the in 7 arrangement shown yet another protective layer 28 at the lower major surface of the film substrate 22 on.

Bezüglich der anhand der 5, 6 und 7 dargestellten Ausführungsbeispiele für das erfindungsgemäße flexible, mehrschichtige Schaltungssubstrat 10 sollte deutlich werden, dass die Realisierungen der Durchkontaktierungen 50, 52 und 54 natürlich auch in Kombination miteinander an unterschiedlichen Positionen des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 realisierbar sind.Regarding the basis of the 5 . 6 and 7 illustrated embodiments of the inventive flexible, multilayer circuit substrate 10 should be clear that the realizations of the vias 50 . 52 and 54 of course also in combination with each other at different positions of the flexible, multilayer circuit substrate 10 are feasible.

In 8 ist nun schematisch in einer Seiten- bzw. Schnittansicht ein zwischen zwei Leiterbahnen 62, 64 der ersten Substratebene angeordnetes elektrisches oder elektronisches Funktionselement 60 in einem Schichtaufbau an der ersten Substratebene 20 dargestellt. So kann beispielsweise das Funktionselement 60 als ein Widerstandselement in dem Folienstapel 10 ausgebildet sein. So ist zwischen den Leiterbahnen 62 und 64 des ersten Foliensubstrats 20 eine entsprechende Materialschicht für dass Widerstandselement 60 auf der Oberfläche der unteren Hauptoberfläche des ersten Foliensubstrats 20 angeordnet. Die Anordnung des Funktionselements 60 in der Innenlage ist hinsichtlich der mechanischen Stresssituation vorteilhaft. Anstelle des Funktionselements 60 in Form einer Widerstandsschicht ist gleichermaßen der Schichtaufbau eines Kondensators (z. B. Plattenkondensators) integrierbar. Ferner sollte beachtet werden, dass im Wesentlichen beliebige Funktionselemente, d. h. elektrische oder elektronische Bauelemente mit einer ausreichenden Flexibilität an der Innenlage eines der Foliensubstrate der Substratebene 20 bzw. 40 angeordnet sein können. So können beispielsweise auch gedünnte Halbleiterchips, die eine ausreichende Flexibilität aufweisen, als ein Funktionselement an einer der Substratebene 20, 40 angeordnet werden. So können beispielsweise Halbleiterchips bis auf mehrere 10 μm (z. B. ≤ 50 μm) gedünnt werden, so dass deren erlaubbarer Biegeradius (vor dem Eintreten von elektrischen oder mechanischen Beschädigungen) kleiner ist als der einzustellende bzw. erreichbare Soll-Biegeradius R0 des erfindungsgemäßen, flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10. So beginnen beispielsweise Si-Chips ab einer Restdicke von ca. 50 μm biegsam zu werden.In 8th is now schematically in a side or sectional view one between two tracks 62 . 64 the first substrate level arranged electrical or electronic functional element 60 in a layer structure at the first substrate level 20 shown. For example, the functional element 60 as a resistive element in the film stack 10 be educated. So is between the tracks 62 and 64 of the first film substrate 20 a corresponding material layer for that resistive element 60 on the surface of the lower major surface of the first film substrate 20 arranged. The arrangement of the functional element 60 in the inner layer is advantageous in terms of mechanical stress situation. Instead of the functional element 60 The layer structure of a capacitor (eg plate capacitor) can likewise be integrated in the form of a resistive layer. Furthermore, it should be noted that essentially any functional elements, ie electrical or electronic components having sufficient flexibility on the inner layer of one of the substrate substrates of the substrate level 20 respectively. 40 can be arranged. Thus, for example, thinned semiconductor chips that have sufficient flexibility as a functional element at one of the substrate level 20 . 40 to be ordered. Thus, for example, semiconductor chips can be thinned down to several 10 μm (eg ≦ 50 μm) so that their permissible bending radius (before the occurrence of electrical or mechanical damage) is smaller than the desired bending radius R 0 of the set or achievable target according to the invention, flexible, multilayer circuit substrate 10 , For example, Si chips begin to become flexible from a residual thickness of about 50 microns.

Als elektrische Bauelemente werden im Zusammenhang mit der vorliegenden Erfindung Bauelemente mit passiven elektrischen Eigenschaften zusammengefasst, z. B. Widerstände, Kapazitäten und Induktivitäten während als elektronische Bauelemente beispielsweise Bauelemente mit aktiven elektrischen Eigenschaften, z. B. Halbleiterchips, bezeichnet werden. Die elektrische Kontaktierung dieser elektrischen oder elektronischen Bauelemente kann beispielsweise mit Hilfe elektrisch leitfähiger Klebstoffe oder durch ein Lotmaterial realisiert werden, sofern sie nicht direkt beispielsweise per Siebdruck oder Aerosoldruck oder Inkjet-Druck mit den Leiterbahnen kontaktiert sind.As electrical components are combined in the context of the present invention, components with passive electrical properties, for. B. resistors, capacitors and inductors while as electronic components, for example, devices with active electrical properties, eg. B. semiconductor chips are called. The electrical contacting of these electrical or electronic components can be realized for example by means of electrically conductive adhesives or by a solder material, unless they are contacted directly with the printed conductors, for example by screen printing or aerosol printing or inkjet printing.

Es sollte aber deutlich werden, dass die in 8 dargestellte Ausbildungsform eines schichtförmig ausgebildeten Funktionselement 60 an der Innenlage des oberen Foliensubstrats 20 keine abschließende Implementierungsvorgabe darstellt, sondern Anordnungen von Funktionselementen auch auf der Innenlage des unteren Foliensubstrats 40 oder auch an Außenlagen der Foliensubstrate 20, 40 ebenso realisierbar sind. Die in 8 dargestellte Anordnung des Funktionselements 60 an der Innenlage eines der Foliensubstrate 20, 40 stellt aber aufgrund einer relativ geringen Schichtstress-Belastung bei einer Biegebeanspruchung des Schichtstapels 10 eine mögliche Realisierung dar. So können alle möglichen Kombinationen der im Vorhergehenden beschriebenen Ausführungsbeispiele und gezeigten Anordnungen von Leiterbahnen, Funktionsschichten und Funktionselementen auf der jeweiligen Vorder- und Rückseite eines der Foliensubstrate 20, 40 des Folienstapels, d. h. des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10, im Rahmen der erfindungsgemäßen Topologie erreicht werden.It should be clear, however, that the in 8th illustrated embodiment of a layer-shaped functional element 60 on the inner layer of the upper film substrate 20 is not a final implementation specification, but arrangements of functional elements also on the inner layer of the lower film substrate 40 or on outer layers of the film substrates 20 . 40 are also feasible. In the 8th illustrated arrangement of the functional element 60 on the inner layer of one of the film substrates 20 . 40 but due to a relatively low stress layer stress at a bending stress of the layer stack 10 a possible realization. Thus, all possible combinations of the above-described embodiments and shown arrangements of conductor tracks, functional layers and functional elements on the respective front and back of one of the film substrates 20 . 40 the film stack, ie the flexible, multilayer circuit substrate 10 , can be achieved within the scope of the topology according to the invention.

9a–b zeigen nun Ablaufdiagramme optionaler Herstellungsverfahren zum Herstellen eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats und insbesondere ein Verfahren zur Herstellung eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 mit einem erreichbaren bzw. einstellbaren Soll-Biegeradius R0 zumindest für Teilbereiche des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats. 9a Figs. 1 b show flowcharts of optional manufacturing methods for manufacturing a flexible, multilayer circuit substrate, and more particularly, a method of manufacturing a flexible, multilayer circuit substrate 10 with an achievable or adjustable nominal bending radius R 0 at least for partial regions of the flexible, multilayer circuit substrate.

Wie in 9a dargestellt ist, wird beidem Herstellungsverfahren 80 zunächst bei einem Schritt 82 ein erstes und zweites flexibles Foliensubstrat bereitgestellt. Dabei weist zumindest ein Teilbereich 12 einer Hauptoberfläche des ersten und/oder zweiten flexiblen Foliensubstrats 20, 40 einer Mehrzahl von getrennt angeordneten Verbindungsgebieten 32 ein Verbindungsmaterial auf. Die Verbindungsgebiete 32 weisen maximal eine Abmessung A0 auf und sind zumindest mit einem Abstand B0 von einem benachbarten Verbindungsgebiet beabstandet, wobei der Abstand B0 größer als die Abmessung A0 ist. Das Verbindungsmaterial an den Verbindungsgebieten weist zumindest eine Dicke D0 zur Beabstandung des ersten und zweiten flexiblen Foliensubstrats auf.As in 9a is shown in both manufacturing processes 80 first at a step 82 a first and second flexible film substrate provided. It has at least one subarea 12 a major surface of the first and / or second flexible film substrate 20 . 40 a plurality of separately arranged connection areas 32 a connecting material. The connection areas 32 have a maximum dimension A 0 and are spaced at least a distance B 0 from an adjacent connection area, wherein the distance B 0 is greater than the dimension A 0 . The bonding material at the connection regions has at least a thickness D 0 for spacing the first and second flexible film substrates.

Bei einem weiteren Schritt 84 wird nun das erste und das zweite flexible Foliensubstrat 20, 40 zumindest in dem Teilbereich mittels des Verbindungsmaterials an den getrennten Verbindungsgebieten 32 miteinander verbunden, um das flexible, mehrschichtige Schaltungssubstrat 10 herzustellen.In another step 84 now becomes the first and the second flexible film substrate 20 . 40 at least in the partial area by means of the connecting material at the separate connection areas 32 interconnected to the flexible, multi-layered circuit substrate 10 manufacture.

Bei dem Verfahren 80 wird beispielsweise das Verbindungsmaterial an den Verbindungsgebieten vor oder während dem Schritt des Bereitstellens 82 auf das erste und/oder das zweite flexible Foliensubstrat 20, 40 aufgebracht. Die Verbindungsgebiete 32 sind beispielsweise symmetrisch zueinander, wie z. B. in einer linearen parallelen oder in einem orthogonalen Raster, an der Hauptoberfläche des ersten und/oder des zweiten flexiblen Foliensubstrats 20, 40 angeordnet, um nach dem Verbinden des ersten und des zweiten flexiblen Foliensubstrats 20, 40 eine Vorzugsbiegerichtung des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 zumindest in dem Teilbereich 12 zu erhalten. Die Verbindungsgebiete 32 können beispielsweise eine runde (z. B. kreisrunde), eine ovale, eine rechteckige oder eine vieleckige Grundform aufweisen.In the process 80 For example, the bonding material will be at the bonding areas before or during the providing step 82 on the first and / or the second flexible film substrate 20 . 40 applied. The connection areas 32 For example, are symmetrical to each other, such. In a linear parallel or in an orthogonal grid, on the major surface of the first and / or the second flexible film substrate 20 . 40 arranged after connecting the first and second flexible film substrates 20 . 40 a preferred bending direction of the flexible multilayer circuit substrate 10 at least in the subarea 12 to obtain. The connection areas 32 For example, they may have a round (eg circular), an oval, a rectangular or a polygonal basic shape.

Bei dem Schritt des Aufbringen kann beispielsweise Klebstoffmaterial als Abschnitte einer beidseitig klebefähigen Klebstofffolie oder per Schablonendruck oder Siebdruck oder ein Lotmaterial als das Verbindungsmaterial an den Verbindungsgebieten 32 an der Hauptoberfläche des ersten und/oder des zweiten Foliensubstrats 20, 40 aufgebracht werden. Darüber hinaus können schichtförmig ausgebildete, elektrische oder elektronische Funktionselemente an dem ersten und/oder zweiten Foliensubstrat 20, 40 zwischen zwei unterschiedlichen Leiterbahnen angeordnet werden.In the applying step, for example, adhesive material may be used as portions of a double-sided adhesive film, or by stencil printing or screen printing, or a solder material as the bonding material at the bonding areas 32 on the main surface of the first and / or the second film substrate 20 . 40 be applied. In addition, layer-shaped, electrical or electronic functional elements on the first and / or second film substrate 20 . 40 be arranged between two different tracks.

Ferner können elektrische Verbindungselemente, wie z. B. eine Durchkontaktierung oder ein Via, jeweils zwischen dem ersten und zweiten flexiblen Foliensubstrat und beispielsweise an einem der Verbindungsgebiete angeordnet werden, um eine elektrische Verbindung zwischen einem elektrischen oder elektronischen Funktionselement an dem ersten Foliensubstrat und einem elektrischen oder elektronischen Funktionselement an dem zweiten Foliensubstrat herzustellen.Furthermore, electrical connection elements, such as. A via or a via, respectively between the first and second flexible film substrates and, for example, at one of the connection regions to establish an electrical connection between an electrical or electronic functional element on the first film substrate and an electrical or electronic functional element on the second film substrate ,

So werden insbesondere Durchkontaktierungen 50 zwischen den Hauptoberflächen eines Foliensubstrats in Bereichen durchgeführt, in denen sich kein Verbindungsgebiet 32 (A0-Gebiete) befindet, während Durchkontaktierungen 52, 54 von einem Funktionselement an dem ersten Foliensubstrat 20 zu einem Funktionselement an dem zweiten Foliensubstrat 40 mittels leitfähiger Verbindungen bzw. Durchkontaktierungen an den Verbindungsgebieten 32, z. B. mittels eines leitfähigen Klebstoffs oder eines Lotmaterials, vorgenommen werden können.In particular, vias become 50 between the major surfaces of a film substrate in areas where there is no connection area 32 (A 0 areas), while vias 52 . 54 from a functional element on the first film substrate 20 to a functional element on the second film substrate 40 by means of conductive connections or plated-through holes at the connection areas 32 , z. B. by means of a conductive adhesive or a solder material can be made.

Vor dem Verbinden 84 der beiden Foliensubstrate 20, 40 zu dem Folienstapel 10 wird an den Verbindungsgebieten, d. h. vor oder während dem Schritt des Bereitstellens der Foliensubstrate 20, 40, entlang der sich linear erstreckenden, benachbarten Verbindungsbereiche das Verbindungsmaterial aufgebracht.Before joining 84 the two film substrates 20 . 40 to the film pile 10 is at the connection areas, ie before or during the step of providing the film substrates 20 . 40 , applied along the linearly extending, adjacent connection areas, the bonding material.

Dabei weisen die Verbindungsbereiche 34 jeweils ein längliches, zusammenhängendes Verbindungsgebiet 32 oder eine Mehrzahl von getrennten, zueinander ausgerichteten oder entlang einer Verbindungslinie angeordnete Verbindungsgebiete 32 auf, in denen das Verbindungsmaterial 33 aufgebracht wird. Dabei weisen die benachbarten Verbindungsgebiete 34 höchstens die Abmessung A0 auf und sind zumindest in dem Abstand B0 angeordnet. Der Abstand bzw. Mindestabstand B0 benachbarter Verbindungsbereiche in dem Teilbereich des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 wird nun unter Berücksichtigung eines bereichsweise erreichbaren bzw. einstellbaren Biegeradius R0 (Soll-Biegeradius) für das flexible, mehrschichtige Schaltungssubstrat 10 folgende Bedingung:

Figure 00260001
In this case, the connection areas 34 each an elongated, coherent connection area 32 or a plurality of separate, aligned or interconnected connection regions 32 on, in which the connecting material 33 is applied. In this case, the adjacent connection areas 34 at most the dimension A 0 and are arranged at least in the distance B 0 . The distance or minimum distance B 0 of adjacent connection areas in the partial area of the flexible, multilayer circuit substrate 10 is now taking into account a partially achievable or adjustable bending radius R 0 (target bending radius) for the flexible, multi-layer circuit substrate 10 the following condition:
Figure 00260001

Dabei stellt α0 einen sog. Toleranzfaktor dar.Α 0 represents a so-called tolerance factor.

Der Mindestabstand B0 bezüglich des Soll-Biegeradius R0 und der Abmessung A erfüllt ferner folgende Bedingungen: B0 < R0/4 und B0 > A0. The minimum distance B 0 with respect to the desired bending radius R 0 and the dimension A also fulfills the following conditions: B 0 <R 0/4 and B 0 > A 0 .

Falls in dem zu assemblierenden Folienstapel zum Erhalten des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 unterschiedliche Soll-Biegeradien R0, R1 für unterschiedliche Biegeanforderungen eingestellt werden sollen, kann ferner ein weiteres Verbindungsmaterial 33 an eine Mehrzahl von weiteren, getrennt angeordneten Verbindungsgebieten 32 in einem weiteren Teilbereich 14 des ersten und/oder des zweiten flexiblen Foliensubstrat 20, 40 aufgebracht werden, wobei die weiteren Verbindungsgebiete jeweils einer weiteren Abmessung A1 aufweisen und zumindest mit einem Abstand B1 von einem benachbarten, weiteren Verbindungsgebiet beabstandet sind. Dabei ist der weitere Abstand B1 wieder größer als die weitere Abmessung A1 zu wählen. Ferner weist das weitere Verbindungsmaterial eine weitere Dicke D1 zur Beabstandung des ersten und zweiten flexiblen Foliensubstrats 20, 40 in dem weiteren Teilbereich 14 auf.If in the film stack to be assembled to obtain the flexible multilayer circuit substrate 10 different target bending radii R 0 , R 1 to be set for different bending requirements, can also be another connecting material 33 to a plurality of further, separately arranged connection areas 32 in another subarea 14 the first and / or the second flexible film substrate 20 . 40 be applied, wherein the further connection areas each have a further dimension A 1 and are at least spaced at a distance B 1 from an adjacent, further connection area. In this case, the further distance B 1 is greater again than the further dimension A 1 to choose. Further, the further bonding material has a further thickness D 1 for spacing the first and second flexible film substrates 20 . 40 in the further subarea 14 on.

Das weitere Verbindungsmaterial 33 wird mm an den weiteren Verbindungsgebieten 32 entlang sich linear erstreckender, benachbarter, weiterer Verbindungsbereiche 34 aufgebracht, wobei die weiteren Verbindungsbereiche 34 jeweils ein längliches, zusammenhängendes Verbindungsgebiet 32 oder eine Mehrzahl von getrennten, zueinander ausgerichteten Verbindungsgebieten 32 aufweisen. In dem weiteren Teilbereich 14 ist nun der Abstand (Mindestabstand) B1 wieder entsprechend der obigen Bedingung(en) zu wählen.The other connecting material 33 becomes mm at the other connection areas 32 along linearly extending, adjacent, further connection areas 34 applied, wherein the further connection areas 34 each an elongated, coherent connection area 32 or a plurality of separate, aligned connection regions 32 exhibit. In the further subarea 14 Now the distance (minimum distance) B 1 must again be selected in accordance with the above condition (s).

Gemäß dem in 9b dargestellten Verfahren 90 zur Herstellung eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 mit einem beispielsweise bereichsweise erreichbaren oder einstellbaren Biegeradius (Soll-Biegeradius) R0 wird bei einem Schritt 92 auf einem ersten und/oder zweiten bereitgestellten flexiblen Foliensubstrat 20, 40 zunächst ein Verbindungsmaterial 33 zumindest in einem Teilbereich 12 einer Hauptoberfläche des ersten und/oder zweiten flexiblen Foliensubstrats 20, 40 an einer Mehrzahl von symmetrisch angeordneten und voneinander getrennten Verbindungsbereichen 34 aufgebracht. Dabei weisen die Verbindungsbereiche 34 jeweils ein längliches, zusammenhängendes Verbindungsgebiet 32 oder eine Mehrzahl von getrennten, zueinander (entlang einer geraden oder gekrümmten Verbindungslinie) ausgerichteten Verbindungsgebiete 32 auf, die ferner maximal eine Abmessung A0 aufweisen. Die Verbindungsbereiche 34 sind also entweder zusammenhängend ausgebildet oder abschnittsweise in einzelne Verbindungsgebiete 32 unterteilt und entlang einer geradlinigen oder gekrümmten Verbindungslinie zueinander ausgerichtet angeordnet.According to the in 9b illustrated method 90 for producing a flexible, multilayer circuit substrate 10 with a for example partially reachable or adjustable bending radius (target bending radius) R 0 is in one step 92 on a first and / or second provided flexible film substrate 20 . 40 first a connecting material 33 at least in one subarea 12 a major surface of the first and / or second flexible film substrate 20 . 40 at a plurality of symmetrically arranged and separate connection areas 34 applied. In this case, the connection areas 34 each an elongated, coherent connection area 32 or a plurality of separate connection regions aligned with each other (along a straight or curved connecting line) 32 which furthermore have at most one dimension A 0 . The connection areas 34 So they are either coherent or partially in individual connection areas 32 divided and arranged aligned along a straight or curved connecting line to each other.

Insbesondere weisen die benachbarten Verbindungsgebiete 32 zumindest einen Abstand B0 zueinander auf, wobei das Verbindungsmaterial 33 in den Verbindungsbereichen 34 an den Verbindungsgebieten 32 zumindest eine Dicke D0 zur Beanstandung des ersten und zweiten Foliensubstrats zumindest in dem Teilbereich aufweist. Dabei erfüllt der Abstand B0 folgende Bedingung:

Figure 00270001
In particular, the adjacent connection areas 32 at least one distance B 0 to each other, wherein the connecting material 33 in the connection areas 34 at the connection areas 32 has at least a thickness D 0 to the complaint of the first and second film substrate at least in the partial area. The distance B 0 fulfills the following condition:
Figure 00270001

Schließlich wird das erste und zweite flexible Foliensubstrat 20, 40 in einem Schritt 94 zumindest in dem Teilbereich mittels des Verbindungsmaterial an den Verbindungsgebieten 32 in den Verbindungsbereichen 34 miteinander verbunden.Finally, the first and second flexible film substrates become 20 . 40 in one step 94 at least in the partial area by means of the connecting material at the connecting areas 32 in the connection areas 34 connected with each other.

Insbesondere wird das Verbindungsmaterial in einem Schritt 96 an den Verbindungsgebieten so aufgebracht, dass die Verbindungsgebiete 32 symmetrisch zueinander, z. B. in einem parallelen linearen oder orthogonalen Raster an der Hauptoberfläche des ersten und/der zweiten flexiblen Foliensubstrats 20, 40 angeordnet werden, um nach dem Verbinden des ersten und/oder zweiten flexiblen Foliensubstrats eine Vorzugsbiegerichtung des flexiblen, mehrschichtigen Foliensubstrats 10 zumindest in dem Teilbereich zu erhalten.In particular, the bonding material becomes one step 96 applied to the connection areas so that the connection areas 32 symmetrical to each other, z. In a parallel linear or orthogonal grid on the major surface of the first and / or second flexible film substrates 20 . 40 arranged after the joining of the first and / or second flexible film substrate, a preferential bending direction of the flexible multilayer film substrate 10 to get at least in the subarea.

Gemäß dem vorliegenden erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren können die einzelnen Foliensubstrate 20, 40 in einem Rolle-zu-Rolle-Vorgang zu dem jeweiligen Verarbeitungsschritt bereitgestellt werden. Ferner kann das jeweilige Verbindungsmaterial auf einer Hauptoberfläche eines der Foliensubstrate 20, 40 oder auf beiden gegenüberliegenden Hauptoberflächen beider Foliensubstrate 20, 40 angeordnet werden.According to the present inventive production process, the individual film substrates 20 . 40 in a roll-to-roll process to the respective processing step. Further, the respective bonding material may be on a major surface of one of the film substrates 20 . 40 or on both opposing major surfaces of both film substrates 20 . 40 to be ordered.

Falls als mechanisches Verbindungsmaterial 33 z. B. ein Klebstoffmaterial verwendet wird, kann dies beispielsweise unter Verwendung von Druck, Wärme und/oder beispielsweise UV-Strahlung ausgehärtet werden bzw. die abschließenden Verbindungseigenschaften erhalten werden. Wird beispielsweise als mechanisches Verbindungsmaterial ein Lotmaterial verwendet, wird dieses Lotmaterial zumindest an den Verbindungsgebieten an zumindest einem oder an beiden Foliensubstraten 20, 40 angeordnet, wobei in einem Reflow-Prozess das Lotmaterial verflüssigt und nach einer Abkühlung z. B. ausgehärtet wird. Bei der Verwendung eines Lotmaterials ist zu beachten, dass auf den gegenüberliegenden Hauptoberflächen des ersten und zweiten Halbleitersubstrats 20, 40 zueinander ausgerichtete Verbindungsgebiete zum Eingehen einer Verbindung mit dem Lotmaterial angeordnet sind.If as mechanical connection material 33 z. B. an adhesive material is used, this can be cured, for example, using pressure, heat and / or for example UV radiation or the final connection properties are obtained. Becomes For example, when using a solder material as a mechanical bonding material, this solder material is at least at the connecting regions on at least one or both film substrates 20 . 40 arranged, wherein liquefied in a reflow process, the solder material and after cooling z. B. is cured. When using a solder material, it should be noted that on the opposite major surfaces of the first and second semiconductor substrate 20 . 40 mutually aligned connection areas for entering into a connection with the solder material are arranged.

Bei dem erfindungsgemäßen Aufbau eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 bzw. dem erfindungsgemäßen Verfahren zum Herstellen des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 ist die Topologie der Verbindungsgebiete bei zumindest zwei Foliensubstraten so gewählt, dass die mechanischen Verbindungsgebiete 32 getrennt voneinander angeordnet sind und deren Beabstandung B0, d. h. der Mindestabstand benachbarter Verbindungsbereiche, in Abhängigkeit des in der Anwendung vorgesehenen Soll-Biegeradius R0 größer als die Abmessung A0 der Verbindungsbereiche gewählt ist und beispielsweise mittels einer mathematischen Abschätzungsgleichung in Abhängigkeit von einem Soll-Biegeradius R0 und der Dicke D0 des aufgebrachten Verbindungsmaterials bestimmbar bzw. relativ genau abschätzbar ist, so dass das resultierende, flexible, mehrschichtige Schaltungssubstrat 10 hinsichtlich seiner Flexibilität bzw. Biegsamkeit aufgrund einer Biegebeanspruchung sehr gute, einstellbare Eigenschaften, die insbesondere auf den jeweiligen Anwendungsfall optimal abstimmbar sind, aufweist.In the structure according to the invention of a flexible, multilayer circuit substrate 10 or the method according to the invention for producing the flexible, multilayer circuit substrate 10 the topology of the connection regions in at least two film substrates is chosen such that the mechanical connection regions 32 are separated from each other and whose spacing B 0 , ie the minimum distance between adjacent connection regions, is greater than the dimension A 0 of the connection regions, depending on the desired bending radius R 0 provided in the application, and selected for example by means of a mathematical estimation equation as a function of a desired Bend radius R 0 and the thickness D 0 of the applied bonding material can be determined or relatively accurately estimated, so that the resulting flexible multilayer circuit substrate 10 in terms of its flexibility or flexibility due to a bending stress very good, adjustable properties that are optimally tuned in particular to the particular application has.

Insbesondere wird somit einer gegenüber dem Stand der Technik erheblich verbesserten Flexibilität bzw. Biegsamkeit des resultierenden, flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10 erreicht. Darüber hinaus kann bei einer Biegebeanspruchung des erfindungsgemäßen, flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats 10, d. h. des Schichtstapels aus zumindest zwei Foliensubstraten bzw. Substratebenen 20, 40 ein relativ geringer mechanischer Stress aufgrund der erfindungsgemäßen Topologie über den gesamten Querschnitt des Schaltungssubstrats 10 und insbesondere an den Außenflächen des Schaltungssubstrats 10 erreicht werden. Diese Vorteile aufgrund einer geringeren Stressbelastung des Folienstapels 10 kommen insbesondere auch dann zum Tragen, wenn elektrische oder elektronische Funktionselemente bzw. Bauelemente in den Folienstapel 10 integriert werden, da diese Funktionselemente und deren Kontaktstellen zu den jeweiligen Leiterbahnen dann ebenfalls einem deutlich geringeren mechanischen Stress ausgesetzt sind. Somit lässt sich beispielsweise ein mechanischer Bruch von Leiterbahnen, ein mechanischer Bruch von Kontaktierungen von Funktionselementen mit Leiterbahnen, oder eine Delamination des Schichtaufbaus bei dem erfindungsgemäßen Konzept für ein flexibles, mehrschichtiges Foliensubstrat 10 unter Berücksichtigung der erfindungsgemäßen Topologie für die Kontaktbereiche unter Berücksichtigung eines erreichbaren Soll-Biegeradius und damit im Wesentlichen, jegliche mechanischen oder elektrischen Defekte des Schaltungssubstrats 10 aufgrund von Biegebeanspruchungen deutlich verringern.In particular, this results in a flexibility or flexibility of the resulting, flexible, multilayer circuit substrate that is significantly improved compared with the prior art 10 reached. Moreover, in a bending stress of the flexible multilayer circuit substrate of the present invention 10 , ie the layer stack of at least two film substrates or substrate planes 20 . 40 a relatively low mechanical stress due to the topology of the invention over the entire cross-section of the circuit substrate 10 and in particular on the outer surfaces of the circuit substrate 10 be achieved. These advantages due to less stress on the film stack 10 come especially into play when electrical or electronic functional elements or components in the film stack 10 be integrated, since these functional elements and their contact points to the respective interconnects are then also exposed to a significantly lower mechanical stress. Thus, for example, a mechanical breakage of interconnects, a mechanical fracture of contacts of functional elements with interconnects, or a delamination of the layer structure in the inventive concept for a flexible, multilayer film substrate can be 10 taking into account the topology according to the invention for the contact areas, taking into account an achievable target bending radius and thus substantially, any mechanical or electrical defects of the circuit substrate 10 significantly reduced due to bending stresses.

Die erfindungsgemäße Topologie hinsichtlich der mit einem Verbindungsmaterial versehenen Verbindungsgebiete bzw. Verbindungsbereiche eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats zeichnet sich nun beispielsweise dadurch aus, dass ein erstes Foliensubstrat 20 verwendet wird, das mit wenigstens einem zweiten Foliensubstrat 40 mittels eines mechanischen Verbindungsmaterials, z. B. einem Klebstoff oder einem Lotmaterial, verbunden ist bzw. wird, wobei die geometrisch strukturierte Verbindungsstelle, d. h. das Verbindungsgebiet, von einer benachbarten geometrisch strukturierten Verbindungsstelle beabstandet und getrennt von demselben angeordnet ist, wobei eine geometrische Ausrichtung der Verbindungsgebiete beispielsweise senkrecht zu einer möglichen Biegung bzw. einem Vorzugsbiegeradius für das flexible, mehrschichtige Schaltungssubstrat 10 zumindest in dem Teilbereich verläuft. Eine mögliche Ausbildung der erfindungsgemäßen Topologie besteht nun darin, dass der Abstand (Mindestabstand) B0 zwischen benachbarten Verbindungsgebieten beispielsweise mittels einer mathematischen Beschreibung näherungsweise vorgegeben wird mit

Figure 00300001
wobei erfindungsgemäß begrifflich unter dem näherungsweisen Wert eine Größenordnung des Abstandes B0 zu verstehen ist.The topology according to the invention with regard to the connecting regions or connecting regions of a flexible, multilayer circuit substrate provided with a connecting material is now distinguished, for example, in that a first film substrate 20 is used, with at least one second film substrate 40 by means of a mechanical joining material, e.g. As an adhesive or a solder material, is connected, wherein the geometrically structured junction, ie the connection area, spaced from a neighboring geometrically structured junction and is disposed separately therefrom, wherein a geometric orientation of the connection areas, for example, perpendicular to a possible bend or a preferred bending radius for the flexible, multilayer circuit substrate 10 at least in the subarea runs. A possible embodiment of the topology according to the invention consists in the fact that the distance (minimum distance) B 0 between adjacent connection regions is approximately predetermined, for example, by means of a mathematical description
Figure 00300001
according to the invention conceptually by the approximate value is an order of magnitude of the distance B 0 to understand.

Der Toleranzfaktor α0 lasst in die Gleichung bzw. Bedingung eine gewisse Toleranz gegenüber der streng mathematischen Geometrie einfließen, um beispielsweise auch Fertigungstoleranzen, unterschiedliche Materialeigenschaften von Foliensubstraten usw. zu berücksichtigen.Tolerance factor α 0 allows the equation or condition to incorporate a certain tolerance with respect to the strictly mathematical geometry in order, for example, to take into account manufacturing tolerances, different material properties of film substrates, etc.

Obwohl manche Aspekte im Zusammenhang mit einer Vorrichtung beschrieben wurden, versteht es sich, dass diese Aspekte auch eine Beschreibung des entsprechenden Verfahrens darstellen, sodass ein Element einer Vorrichtung oder dessen Ausgestaltung auch als ein entsprechender Verfahrensschritt oder als ein Merkmal eines Verfahrensschrittes zu verstehen ist. Analog dazu stellen Aspekte, die im Zusammenhang mit einem oder als ein Verfahrensschritt beschrieben wurden, auch eine Beschreibung eines entsprechenden Elements, Details oder Merkmals einer entsprechenden Vorrichtung dar.Although some aspects have been described in the context of a device, it will be understood that these aspects also constitute a description of the corresponding method, so that an element of a device or its configuration is also to be understood as a corresponding method step or as a feature of a method step. Similarly, aspects described in connection with or as a method step also represent a description of a corresponding item, detail or feature of a corresponding apparatus.

Claims (32)

Flexibles, mehrschichtiges Schaltungssubstrat (10), mit folgenden Merkmalen: einem ersten und einem zweiten flexiblen Foliensubstrat (20, 40), wobei zumindest ein Teilbereich der gegenüberliegenden Hauptoberflächen des ersten und zweiten Foliensubstrats mittels eines Verbindungsmaterials an einer Mehrzahl von getrennt angeordneten Verbindungsgebieten (32) miteinander verbunden sind, wobei die Verbindungsgebiete maximal eine Abmessung A0 aufweisen und zumindest mit einem Abstand B0 von einem benachbarten Verbindungsgebiet beabstandet sind, wobei der Abstand B0 größer als die Abmessung A0 ist, und wobei das Verbindungsmaterial an den Verbindungsgebieten (32) zumindest eine Dicke D0 zur Beabstandung des ersten und zweiten flexiblen Foliensubstrats (20, 40) aufweist.Flexible, Multilayer Circuit Substrate ( 10 ), comprising: a first and a second flexible film substrate ( 20 . 40 ), wherein at least a portion of the opposing major surfaces of the first and second film substrates are bonded by means of a bonding material to a plurality of separately arranged connection regions (FIG. 32 ), wherein the connection areas have a maximum dimension A 0 and at least with a distance B 0 are spaced from an adjacent connection area, wherein the distance B 0 is greater than the dimension A 0 , and wherein the bonding material at the connection areas ( 32 ) at least one thickness D 0 for spacing the first and second flexible film substrates ( 20 . 40 ) having. Schaltungssubstrat nach Anspruch 1, wobei die Verbindungsgebiete (32) mit dem Verbindungsmaterial symmetrisch zueinander, in einer linearen Ausrichtung oder in einem orthogonalen Raster angeordnet sind, um eine Vorzugsbiegerichtung des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats (10) in dem Teilbereich (12) zu erhalten.A circuit substrate according to claim 1, wherein the connection regions ( 32 ) are arranged with the bonding material symmetrical to each other, in a linear orientation or in an orthogonal raster to form a preferential bending direction of the flexible multilayer circuit substrate ( 10 ) in the subarea ( 12 ) to obtain. Schaltungssubstrat nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Verbindungsgebiete (32) eine kreisrunde, ovale oder rechteckige Grundform aufweisen.Circuit substrate according to claim 1 or 2, wherein the connection regions ( 32 ) have a circular, oval or rectangular basic shape. Schaltungssubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei das Verbindungsmaterial (33) ein Klebstoffmaterial oder ein Lotmaterial aufweist.Circuit substrate according to one of claims 1 to 3, wherein the connecting material ( 33 ) comprises an adhesive material or a solder material. Schaltungssubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei an dem ersten und/oder zweiten Foliensubstrat (20, 40) ein schichtfömig ausgebildetes, elektrisches oder elektronischen Funktionselement angeordnet ist.Circuit substrate according to one of claims 1 to 4, wherein on the first and / or second film substrate ( 20 . 40 ) is arranged schichtfömig trained, electrical or electronic functional element. Schaltungssubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei ein elektrisches Verbindungselement zwischen einer ersten und zweiten Hauptoberfläche des ersten flexiblen Foliensubstrats (20) außerhalb des Bereichs der Verbindungsgebiete (32) angeordnet ist, um eine elektrische Verbindung zwischen einem Funktionselement an der ersten Hauptoberfläche und einem Funktionselement an der zweiten Hauptoberfläche des ersten Foliensubstrats (20) herzustellen.A circuit substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein an electrical connection element between a first and second main surface of the first flexible film substrate (FIG. 20 ) outside the area of the connection areas ( 32 ) is arranged to provide an electrical connection between a functional element on the first main surface and a functional element on the second main surface of the first film substrate ( 20 ). Schaltungssubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei ein elektrisches Verbindungselement zwischen dem ersten und zweiten flexiblen Foliensubstrat an einem der Verbindungsgebiete (32) angeordnet ist, um eine elektrische Verbindung zwischen einem Funktionselement an dem ersten Foliensubstrat (20) und einem Funktionselement an dem zweiten Foliensubstrat (40) herzustellen.A circuit substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein an electrical connection element between the first and second flexible film substrates at one of the connection regions ( 32 ) is arranged to provide an electrical connection between a functional element on the first film substrate ( 20 ) and a functional element on the second film substrate ( 40 ). Schaltungssubstrat nach Anspruch 7, wobei das elektrische Verbindungselement an dem Verbindungsgebiet 32 einen leitfähigen Klebstoff oder ein leitfähiges Lotmaterial aufweist.The circuit substrate of claim 7, wherein the electrical connection element is at the connection area 32 a conductive adhesive or a conductive solder material. Schaltungssubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei das Verbindungsmaterial (33) an den Verbindungsgebieten (32) der benachbarten Verbindungsbereiche (34) angeordnet ist, und wobei die Verbindungsbereiche (34) jeweils ein längliches Verbindungsgebiet (32) oder eine Mehrzahl von getrennten Verbindungsgebieten (32) aufweisen.Circuit substrate according to one of claims 1 to 8, wherein the connecting material ( 33 ) at the connection areas ( 32 ) of the adjacent connection areas ( 34 ), and wherein the connection areas ( 34 ) an elongated connection area ( 32 ) or a plurality of separate connection areas ( 32 ) exhibit. Schaltungssubstrat nach Anspruch 9, wobei die benachbarten Verbindungsbereiche (34) die Abmessung A0 aufweisen und zumindest in dem Abstand B0 angeordnet sind, und wobei der Abstand B0 benachbarter Verbindungsbereiche (34) unter Berücksichtigung eines Soll-Biegeradius R0 für den Teilbereich (12) des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats (10) folgende Bedingung erfüllt:
Figure 00320001
A circuit substrate according to claim 9, wherein the adjacent connection areas ( 34 ) have the dimension A 0 and are arranged at least in the distance B 0 , and wherein the distance B 0 of adjacent connection areas ( 34 ) taking into account a desired bending radius R 0 for the subregion ( 12 ) of the flexible multilayer circuit substrate ( 10 ) satisfies the following condition:
Figure 00320001
Schaltungssubstrat nach Anspruch 10, wobei der Abstand B0 bezüglich des Soll-Biegeradius R0 und der Abmessung A0 ferner folgende Bedingungen erfüllt: B0 < R0/4 und B0 > A0. The circuit substrate according to claim 10, wherein the distance B 0 with respect to the target bending radius R 0 and the dimension A 0 further satisfies the following conditions: B 0 <R 0/4 and B 0 > A 0 . Schaltungssubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 11, wobei in einem weiteren Teilbereich (14) des ersten und/oder des zweiten flexiblen Foliensubstrats (20, 40) ein weiteres Verbindungsmaterial an einer Mehrzahl von weiteren Verbindungsgebieten, die getrennt zueinander angeordnet sind, aufgebracht ist, wobei die Verbindungsgebiete eine Abmessung A1 aufweisen und zumindest mit einem Abstand B1 von einem benachbarten, weiteren Verbindungsgebiet beabstandet sind, wobei der Abstand B1 größer als die Abmessung A1 ist, und wobei das weitere Verbindungsmaterial eine Dicke D1 zur Beabstandung des ersten und zweiten flexiblen Foliensubstrats (20, 40) in dem weiteren Teilbereich aufweist.Circuit substrate according to one of claims 1 to 11, wherein in a further subregion ( 14 ) of the first and / or the second flexible film substrate ( 20 . 40 ), a further connection material at a plurality of further connection areas, which are arranged separately, is applied, wherein the connection areas have a dimension A 1 and at least with a distance B 1 are spaced from an adjacent, further connection area, wherein the distance B 1 greater is the dimension A 1 , and wherein the further bonding material has a thickness D 1 for spacing the first and second flexible film substrates (FIG. 20 . 40 ) in the further subarea. Schaltungssubstrat nach Anspruch 12, wobei das weitere Verbindungsmaterial an den weiteren Verbindungsgebieten entlang weiterer, benachbarter Verbindungsbereiche aufgebracht ist, und wobei die weiteren Verbindungsbereiche jeweils ein längliches, weiteres Verbindungsgebiet oder eine Mehrzahl von getrennten, weiteren Verbindungsgebieten aufweisen.The circuit substrate according to claim 12, wherein the further bonding material is applied to the further bonding regions along further, adjacent bonding regions, and wherein the further bonding regions are each an elongate, further bonding region or a connection region Have a plurality of separate, further connection areas. Schaltungssubstrat nach Anspruch 12 oder 13, wobei die weiteren, benachbarten, Verbindungsbereiche die Abmessung A1 aufweisen und zumindest in dem Abstand B1 angeordnet sind, wobei der Abstand B1 unter Berücksichtigung eines Soll-Biegeradius R1 in dem weiteren Teilbereich (14) des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats (10) folgende Bedingung erfüllt:
Figure 00330001
Circuit substrate according to claim 12 or 13, wherein the further, adjacent, connecting regions have the dimension A 1 and are arranged at least in the distance B 1 , the distance B 1 taking into account a desired bending radius R 1 in the further subregion ( 14 ) of the flexible multilayer circuit substrate ( 10 ) satisfies the following condition:
Figure 00330001
Schaltungssubstrat nach Anspruch 14, wobei der Abstand B1 bezüglich des Soll-Biegeradius R1 und der Abmessung A1 ferner folgende Bedingungen erfüllt: B1 < R1/4 und B1 > A1. The circuit substrate according to claim 14, wherein the distance B 1 with respect to the target bending radius R 1 and the dimension A 1 further satisfies the following conditions: B 1 <R 1/4 and B 1> A1. Flexibles, mehrschichtiges Schaltungssubstrat mit einem vorgegebenen Soll-Biegeradius R0, mit folgenden Merkmalen: einem ersten und einem zweiten flexiblen Foliensubstrat (20, 40), die zumindest in einem Teilbereich (12) der gegenüberliegenden Hauptoberflächen des ersten und zweiten Foliensubstrats (20, 40) mit einem Verbindungsmaterial (33) an einer Mehrzahl von symmetrisch angeordneten und voneinander getrennten Verbindungsbereichen (32) mechanisch verbunden sind, wobei die Verbindungsbereiche ein längliches, zusammenhängendes Verbindungsgebiet (32) oder eine Mehrzahl von getrennten, zueinander ausgerichteten Verbindungsgebieten (32) aufweisen, und ferner maximal eine Abmessung A0 aufweisen, wobei die benachbarten Verbindungsbereiche (34) zumindest einen Abstand B0 zueinander aufweisen, wobei das Verbindungsmaterial (33) in den Verbindungsbereichen (34) zumindest eine Dicke D0 zur Beabstandung des ersten und zweiten flexiblen Foliensubstrats (20, 40) aufweist, und wobei der Abstand B0 folgende Bedingung erfüllt:
Figure 00340001
Flexible, multilayer circuit substrate having a predetermined desired bending radius R 0 , comprising: a first and a second flexible film substrate ( 20 . 40 ), which at least in one subarea ( 12 ) of the opposing major surfaces of the first and second film substrates ( 20 . 40 ) with a connecting material ( 33 ) at a plurality of symmetrically arranged and separated connection areas ( 32 ) are mechanically connected, wherein the connection areas form an elongated, coherent connection area ( 32 ) or a plurality of separate, mutually aligned connection areas ( 32 ), and further have a maximum dimension A 0 , wherein the adjacent connection areas ( 34 ) have at least one distance B 0 to each other, wherein the connecting material ( 33 ) in the connection areas ( 34 ) at least one thickness D 0 for spacing the first and second flexible film substrates ( 20 . 40 ), and wherein the distance B 0 satisfies the following condition:
Figure 00340001
Schaltungssubstrat nach Anspruch 16, wobei die Verbindungsgebiete (32) mit dem Verbindungsmaterial (32) symmetrisch zueinander, in einer linearen Ausrichtung oder in einem orthogonalen Raster an der Hauptoberfläche des ersten und/oder des zweiten flexiblen Foliensubstrats (20, 40) angeordnet sind, um eine Vorzugsbiegerichtung des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats (10) in dem Teilbereich (12) vorzusehen.A circuit substrate according to claim 16, wherein said connection regions ( 32 ) with the connecting material ( 32 ) symmetrical to one another, in a linear orientation or in an orthogonal grid on the main surface of the first and / or the second flexible film substrate ( 20 . 40 ) are arranged to provide a preferential bending direction of the flexible multilayer circuit substrate ( 10 ) in the subarea ( 12 ). Schaltungssubstrat nach einem der Ansprüche 16 oder 17, wobei das Verbindungsmaterial (33) ein Klebstoffmaterial oder ein Lotmaterial aufweist.Circuit substrate according to one of claims 16 or 17, wherein the connecting material ( 33 ) comprises an adhesive material or a solder material. Verfahren (80) zum Herstellen eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats (10), mit folgenden Schritten: Bereitstellen (82) eines ersten und eines zweiten flexiblen Foliensubstrats (20, 40), wobei zumindest ein Teilbereich (12) einer Hauptoberfläche des ersten und/oder des zweiten flexiblen Foliensubstrats (20, 40) an einer Mehrzahl von getrennt angeordneten Verbindungsgebieten (32) ein Verbindungsmaterial aufweist, wobei die Verbindungsgebiete (32) maximal eine Abmessung A0 aufweisen und zumindest mit einem Abstand B0 von einem benachbarten Verbindungsgebiet beabstandet sind, wobei der Abstand B0 größer als die Abmessung A0 ist, und wobei das Verbindungsmaterial an den Verbindungsgebieten zumindest eine Dicke D0 zur Beabstandung des ersten und zweiten Foliensubstrats (20, 40) aufweist, und Verbinden (84) des ersten und des zweiten flexiblen Foliensubstrats (20, 40) zumindest in dem Teilbereich (12) mittels des Verbindungsmaterials an den getrennten Verbindungsgebieten (32).Procedure ( 80 ) for producing a flexible, multilayer circuit substrate ( 10 ), with the following steps: Deploy ( 82 ) of a first and a second flexible film substrate ( 20 . 40 ), whereby at least one subregion ( 12 ) of a main surface of the first and / or the second flexible film substrate ( 20 . 40 ) at a plurality of separately arranged connection areas ( 32 ) has a connection material, wherein the connection areas ( 32 ) have a maximum dimension A 0 and at least with a distance B 0 are spaced from an adjacent connection area, wherein the distance B 0 is greater than the dimension A 0 , and wherein the bonding material at the connection areas at least a thickness D 0 for spacing the first and second film substrate ( 20 . 40 ), and connect ( 84 ) of the first and second flexible film substrates ( 20 . 40 ) at least in the subarea ( 12 ) by means of the bonding material at the separate connection areas ( 32 ). Verfahren nach Anspruch 19, ferner mit folgendem Schritt: Aufbringen (86) des Verbindungsmaterials an den Verbindungsgebieten, wobei die Verbindungsgebiete symmetrisch zueinander an der Hauptoberfläche des ersten und/oder des zweiten flexiblen Foliensubstrats (20, 40) angeordnet werden, um nach dem Verbinden (84) des ersten und des zweiten flexiblen Foliensubstrats (20, 40) eine Vorzugsbiegerichtung des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats (10) in dem Teilbereich (12) zu erhalten.The method of claim 19, further comprising the step of: applying ( 86 ) of the connection material at the connection regions, the connection regions being symmetrical to one another on the main surface of the first and / or the second flexible film substrate ( 20 . 40 ) to connect after connecting ( 84 ) of the first and second flexible film substrates ( 20 . 40 ) a preferential bending direction of the flexible multilayer circuit substrate ( 10 ) in the subarea ( 12 ) to obtain. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 oder 20, ferner mit folgendem Schritt: Aufbringen von Klebstoffmaterial oder Lotmaterial als Verbindungsmaterial (33) an den Verbindungsgebieten (32) an der Hauptoberfläche des ersten und/oder des zweiten flexiblen Foliensubstrats (20, 40).Method according to one of claims 19 or 20, further comprising the following step: application of adhesive material or solder material as connecting material ( 33 ) at the connection areas ( 32 ) on the main surface of the first and / or the second flexible film substrate ( 20 . 40 ). Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 21, ferner mit folgendem Schritt: Aufbringen eines schichtförmig ausgebildeten, elektrischen oder elektronischen Funktionselements (60) an dem ersten und/oder zweiten Foliensubstrat (20, 40).Method according to one of claims 19 to 21, further comprising the following step: application of a layer-formed, electrical or electronic functional element ( 60 ) on the first and / or second film substrate ( 20 . 40 ). Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 22, ferner mit folgendem Schritt: Anordnen eines elektrischen Durchkontaktierungselements zwischen den zwei Hauptoberflächen des ersten und des zweiten Foliensubstrats (20, 40), in einem Bereich außerhalb der Verbindungsgebiete (32), um eine elektrische Verbindung zwischen einem Funktionselement an der ersten Hauptoberfläche und einem weiteren Funktionselement an der zweiten Hauptoberfläche des ersten Foliensubstrats (20) herzustellen.The method of any one of claims 19 to 22, further comprising the step of: disposing an electrical via element between the two major surfaces of the first and second film substrates (12); 20 . 40 ), in an area outside the connection areas ( 32 ) in order to establish an electrical connection between a functional element on the first main surface and a further functional element on the second main surface of the first film substrate (US Pat. 20 ). Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 23, ferner mit folgendem Schritt: Anordnen eines elektrischen Verbindungselements zwischen dem ersten und zweiten flexiblen Foliensubstrat (20, 40) an einem der Verbindungsgebiete (32), um eine elektrische Verbindung zwischen einem Funktionselement an dem ersten Foliensubstrat (20) und einem Funktionselement an dem zweiten Foliensubstrat (40) herzustellen.The method of any one of claims 19 to 23, further comprising the step of: disposing an electrical connection element between the first and second flexible film substrates (10). 20 . 40 ) at one of the connection areas ( 32 ) in order to establish an electrical connection between a functional element on the first film substrate ( 20 ) and a functional element on the second film substrate ( 40 ). Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 24, ferner mit folgendem Schritt: Aufbringen des Verbindungsmaterials an den Verbindungsgebieten (32) entlang von benachbarten, sich entlang einer geradlinigen oder gekrümmten Verbindungslinie erstreckenden Verbindungsbereichen (34), wobei die Verbindungsbereiche (34) jeweils ein längliches, zusammenhängendes Verbindungsgebiet (32) oder eine Mehrzahl von getrennt angeordneten, zueinander ausgerichteten Verbindungsgebieten (32) aufweisen.The method of any one of claims 19 to 24, further comprising the step of: applying the bonding material to the joining regions ( 32 ) along adjacent connecting regions extending along a straight or curved connecting line ( 34 ), wherein the connection areas ( 34 ) each an elongated, interconnected connection area ( 32 ) or a plurality of separately arranged, mutually aligned connection areas ( 32 ) exhibit. Verfahren nach Anspruch 25, wobei die benachbarten Verbindungsbereiche (34) höchstens die Abmessung A0 aufweisen und zumindest in dem Abstand B0 zueinander beabstandet angeordnet sind, und wobei der Abstand B0 unter Berücksichtigung eines Soll-Biegeradius R0 für den Teilbereich (12) des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats (10) folgende Bedingung erfüllt:
Figure 00360001
The method of claim 25, wherein the adjacent connection areas ( 34 ) at most have the dimension A 0 and at least in the distance B 0 are arranged spaced from each other, and wherein the distance B 0 , taking into account a desired bending radius R 0 for the subregion ( 12 ) of the flexible multilayer circuit substrate ( 10 ) satisfies the following condition:
Figure 00360001
Verfahren nach Anspruch 26, wobei der Abstand B0 bezüglich des Soll-Biegeradius R0 und der Abmessung A0 ferner folgende Bedingungen erfüllt: B0 < R0/4 und B0 > A0. The method of claim 26, wherein the distance B 0 with respect to the desired bending radius R 0 and the dimension A 0 further satisfies the following conditions: B 0 <R 0/4 and B 0 > A 0 . Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, ferner mit folgendem Schritt: Aufbringen eines weiteren Verbindungsmaterials an einer Mehrzahl von weiteren, getrennt angeordneten Verbindungsgebieten in einem weiteren Teilbereich (14) des ersten und/oder des zweiten flexiblen Foliensubstrats (20, 40), wobei die weiteren Verbindungsgebiete jeweils eine Abmessung A1 aufweisen und zumindest mit einem Abstand B1 von einem benachbarten, weiteren Verbindungsgebiet beabstandet sind, wobei der Abstand B1 größer als die Abmessung A1 ist, und wobei das weitere Verbindungsmaterial eine Dicke D1 zur Beabstandung des ersten und zweiten flexiblen Foliensubstrats (20, 40) in dem weiteren Teilbereich (14) aufweist.Method according to one of the preceding claims, further comprising the following step: applying a further bonding material to a plurality of further, separately arranged connecting regions in a further subregion ( 14 ) of the first and / or the second flexible film substrate ( 20 . 40 ), wherein the further connection regions each have a dimension A 1 and are spaced at least a distance B 1 from an adjacent, further connection region, wherein the distance B 1 is greater than the dimension A 1 , and wherein the further bonding material has a thickness D 1 for spacing the first and second flexible film substrates ( 20 . 40 ) in the further subarea ( 14 ) having. Verfahren nach Anspruch 28, ferner mit folgendem Schritt: Aufbringen des weiteren Verbindungsmaterials an den weiteren Verbindungsgebieten von benachbarten, sich entlang einer geradlinigen oder gekrümmten Verbindungslinie erstreckenden weiteren Verbindungsbereichen, wobei die weiteren Verbindungsbereiche jeweils ein weiteres, längliches, zusammenhängendes Verbindungsgebiet oder Mehrzahl von weiteren, getrennten, zueinander ausgerichteten Verbindungsgebieten aufweisen.The method of claim 28, further comprising the step of: Applying the further bonding material to the further connecting regions of adjacent connecting regions extending along a straight or curved connecting line, wherein the further connecting regions each have a further, elongate, contiguous connecting region or a plurality of further, separate, mutually aligned connecting regions. Verfahren nach Anspruch 28 oder 29, wobei die weiteren, benachbarten Verbindungsbereiche die Abmessung A1 aufweisen und zumindest in dem Abstand B1 angeordnet sind, und wobei der Abstand B1 unter Berücksichtigung eines Soll-Biegeradius R1 des flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats folgende Bedingung erfüllt:
Figure 00370001
The method of claim 28 or 29, wherein the further, adjacent connecting portions have the dimension A 1 and are arranged at least in the distance B 1 , and wherein the distance B 1 , taking into account a desired bending radius R 1 of the flexible multilayer circuit substrate satisfies the following condition :
Figure 00370001
Verfahren nach Anspruch 30, wobei der Abstand B1 bezüglich des Soll-Biegeradius R1 und der Abmessung A1 ferner folgende Bedingungen erfüllt: B1 < R1/4 und B1 > A1. The method of claim 30, wherein the distance B 1 with respect to the desired bending radius R 1 and the dimension A 1 further satisfies the following conditions: B 1 <R 1/4 and B 1> A1. Verfahren (90) zur Herstellung eines flexiblen, mehrschichtigen Schaltungssubstrats mit einem Soll-Biegeradius R0, mit folgenden Schritten: Aufbringen (92) eines Verbindungsmaterials zumindest in einem Teilbereich einer Hauptoberfläche eines ersten und/oder eines zweiten flexiblen Foliensubstrats (20, 40) an einer Mehrzahl von symmetrisch angeordneten und voneinander getrennten Verbindungsbereichen (32), wobei die Verbindungsbereiche (32) ein längliches, zusammenhängendes Verbindungsgebiet (32) oder eine Mehrzahl von getrennten, zueinander ausgerichteten Verbindungsgebieten (32) aufweisen, und ferner höchstens eine Abmessung A0 aufweisen, wobei die benachbarten. Verbindungsbereiche (34) zumindest einen Abstand B0 zueinander aufweisen, wobei das Verbindungsmaterial in den Verbindungsbereichen (34) zumindest eine Dicke D0 zur Beabstandung des ersten und zweiten flexiblen Foliensubstrats zumindest in dem Teilbereich (12) aufweist, wobei der Abstand B0 folgende Bedingung erfüllt:
Figure 00380001
Verbinden (94) des ersten und des zweiten flexiblen Foliensubstrats (20, 40) zumindest in dem Teilbereich (12) mittels des Verbindungsmaterials an den Verbindungsgebieten (32).
Procedure ( 90 ) for producing a flexible, multilayer circuit substrate having a desired bending radius R 0 , comprising the following steps: application ( 92 ) of a bonding material at least in a partial area of a main surface of a first and / or a second flexible film substrate ( 20 . 40 ) at a plurality of symmetrically arranged and separated connection areas ( 32 ), wherein the connection areas ( 32 ) an elongated, coherent connection area ( 32 ) or a plurality of separate, mutually aligned connection areas ( 32 ), and further at most have a dimension A 0 , wherein the adjacent. Connection areas ( 34 ) have at least one distance B 0 to each other, wherein the bonding material in the connecting regions ( 34 ) at least one thickness D 0 for spacing the first and second flexible film substrates at least in the partial area ( 12 ), wherein the distance B 0 satisfies the following condition:
Figure 00380001
Connect ( 94 ) of the first and second flexible film substrates ( 20 . 40 ) at least in the subarea ( 12 ) by means of the bonding material at the connection areas ( 32 ).
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