DE102010043627A1 - Method for cleaning polishing cloth used in double-sided silicon wafer polishing machine, involves arranging brush discs on carrier discs, for cleaning polishing cloths while supplying cleaning agent in presence of carrier discs - Google Patents

Method for cleaning polishing cloth used in double-sided silicon wafer polishing machine, involves arranging brush discs on carrier discs, for cleaning polishing cloths while supplying cleaning agent in presence of carrier discs Download PDF

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Abstract

The method involves removing workpieces from recesses of carrier discs (11) after polishing the workpieces between upper and lower polishing plates covered with polishing cloths. The carrier discs are remained on the lower polishing plate. The brush discs (10) are arranged on the carrier discs. The polishing cloths are cleaned by using the brush discs while supplying cleaning agent in the presence of carrier discs. The carrier disc is made of plastic material. An independent claim is included for brush disc for cleaning polishing cloth.

Description

Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zum Reinigen von Poliertüchern nach dem Polieren von Werkstücken zwischen zwei mit den Poliertüchern bedeckten unteren und oberen Poliertellern. Gegenstand der Erfindung ist auch eine Vorrichtung zum Reinigen von Poliertüchern zur Verwendung in Poliermaschinen zum Polieren von Werkstücken zwischen zwei mit den Poliertüchern bedeckten unteren und oberen Poliertellern.The invention relates to a method for cleaning polishing cloths after polishing workpieces between two covered with the polishing cloths lower and upper polishing plates. The invention also provides a device for cleaning polishing cloths for use in polishing machines for polishing workpieces between two lower and upper polishing plates covered with the polishing cloths.

Werkstücke wie beispielsweise Halbleiterscheiben aus Silizium werden in der Regel einer Politur unterzogen, die als Doppelseitenpolitur (DSP) bekannt ist. Während einer DSP werden beide Seitenflächen eines Werkstücks zwischen zwei mit Poliertüchern bedeckten oberen und unteren Poliertellern unter Zuführen eines Poliermittels gleichzeitig poliert. In der Regel liegen dann mehrere Werkstücke in Aussparungen mehrerer Läuferscheiben („carrier”), so dass eine Vielzahl von Werkstücken gleichzeitig poliert werden kann. Die Läuferscheiben weisen am Außenumfang Zähne auf, mittels derer sie während einer Politur in eine Drehbewegung versetzt werden, die die Werkstücke entlang einer zykloidalen Bahnkurve über die Poliertücher der sich drehenden Polierteller führt. Üblicherweise greifen Stifte eines äußeren und eines inneren Stiftkranzes der Poliermaschine in die Lücken zwischen den Zähnen der Läuferscheiben ein. Ein Antrieb, der den inneren Stiftkranz dreht, versetzt die Läuferscheiben in eine Drehbewegung um ihr eigenes Zentrum und um das Zentrum der Polierteller.Workpieces such as silicon wafers are typically subjected to a polish known as double-side polishing (DSP). During a DSP, both side surfaces of a workpiece are polished simultaneously between two upper and lower polishing plates covered with polishing cloths by supplying a polishing agent. As a rule, then several workpieces are in recesses of several carriers ("carrier"), so that a plurality of workpieces can be polished at the same time. The carriers have on the outer circumference teeth, by means of which they are placed during a polishing in a rotational movement, which guides the workpieces along a cycloidal trajectory on the polishing cloths of the rotating polishing plate. Typically, pins of an outer and an inner pin collar of the polishing machine engage in the gaps between the teeth of the carriers. A drive, which rotates the inner pin collar, rotates the carriers into their own center and around the center of the polishing plates.

Die US 2002/0115387 A1 enthält die Beschreibung eines DSP-Verfahrens, die das Prinzip dieser Art der Politur am Beispiel von Halbleiterscheiben verdeutlicht.The US 2002/0115387 A1 contains the description of a DSP process, which illustrates the principle of this type of polishing using the example of semiconductor wafers.

Mit der Zeit beeinträchtigt Abrieb, der von den Werkstücken stammt und sich in den Poren der Poliertücher festsetzt, die Funktionstüchtigkeit der Poliertücher. So verlängert sich insbesondere der Zeitraum, der benötigt wird, um mittels der Politur einen bestimmten Materialabtrag zu erzielen. Um diesem Effekt entgegenzuwirken, werden die Läuferscheiben von einem Operator durch Bürstenscheiben ersetzt, und die Bürstenscheiben unter Zuführen eines Reinigungsmittels in vergleichbarer Weise wie die Läuferscheiben über die Poliertücher bewegt. Die Reinigung der Poren erfolgt durch das Einwirken des Reinigungsmittels und der in die Poren der Poliertücher eindringenden Borsten der Bürstenscheiben.Over time, abrasion from the workpieces and lodged in the pores of the polishing cloths will affect the serviceability of the polishing cloths. In particular, the period required to achieve a specific material removal by means of the polish is thus extended. To counteract this effect, the runners are replaced by an operator by brush discs, and the brush discs moved by supplying a cleaning agent in a similar manner as the carriers over the polishing cloths. The pores are cleaned by the action of the cleaning agent and the bristles of the brush disks penetrating into the pores of the polishing cloths.

Hat die Reinigung der Poliertücher vergleichsweise häufig oder sogar nach jeder Politur von Werkstücken zu erfolgen, beansprucht sie einen beachtlichen Zeitaufwand, der sich auf die Produktivität der Politur nachteilig auswirkt.If the cleaning of the polishing cloths has to be done comparatively frequently or even after every polishing of workpieces, it takes a considerable amount of time, which has an adverse effect on the productivity of the polishing.

Zur Lösung dieses Problems wird in der US 2010/0130111 A1 vorgeschlagen, den Vorgang des Ersetzens der Läuferscheiben durch Bürstenscheiben zu automatisieren. Diese Lösung erfordert jedoch einen vergleichsweise hohen Investitionsaufwand, der den damit verbundenen Produktivitätsgewinn kaum ausgleichen kann.To solve this problem is in the US 2010/0130111 A1 proposed to automate the process of replacing the carriers by brush discs. However, this solution requires a relatively high capital expenditure, which can hardly compensate for the associated productivity gain.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine vorteilhaftere Lösung des geschilderten Problems anzubieten.Object of the present invention is to provide a more advantageous solution of the problem described.

Gelöst wird die Aufgabe durch ein Verfahren zum Reinigen von Poliertüchern nach dem Polieren von Werkstücken zwischen zwei mit den Poliertüchern bedeckten unteren und oberen Poliertellern, wobei
die polierten Werkstücke aus Aussparungen von Läuferscheiben entfernt werden und die Läuferscheiben auf dem unteren Polierteller liegen bleiben,
Bürstenscheiben auf eine Anzahl der Läuferscheiben gelegt werden, und
die Poliertücher mittels der Bürstenscheiben unter Zuführen eines Reinigungsmittels in Gegenwart der Läuferscheiben gereinigt werden.The object is achieved by a method for cleaning polishing cloths after polishing workpieces between two covered with the polishing cloths lower and upper polishing plates, wherein
the polished workpieces are removed from recesses of carriers and the carriers remain on the lower polishing plate,
Brush disks are placed on a number of rotor disks, and
the polishing cloths are cleaned by means of the brush discs by supplying a cleaning agent in the presence of the carrier discs.

Gelöst wird die Aufgabe ferner durch eine Bürstenscheibe zum Reinigen von Poliertüchern, die einen unteren und einen oberen Polierteller bedecken, umfassend
eine Trägerscheibe mit einer unteren und einer oberen Seitenfläche, deren Umfang mit Zähnen versehen ist;
Borsten, die in der Trägerscheibe verankert sind und die sich aus den Ebenen der unteren und oberen Seitenflächen erheben, wobei die untere Seitenfläche der Trägerscheibe Stellen aufweist, die frei von Borsten sind, um den direkten Kontakt der Trägerscheibe mit einer Läuferscheibe nach dem Ablegen der Bürstenscheibe auf der Läuferscheibe zum Zweck des Reinigens der Poliertücher zu ermöglichen.The object is further achieved by a brush disk for cleaning polishing cloths, which cover a lower and an upper polishing plate, comprising
a carrier disc having a lower and an upper side surface, the periphery of which is provided with teeth;
Bristles which are anchored in the support disc and which rise from the planes of the lower and upper side surfaces, wherein the lower side surface of the support disc has locations which are free of bristles to the direct contact of the carrier disc with a rotor disc after the disc has been deposited to allow on the rotor for the purpose of cleaning the polishing cloths.

Die vorgeschlagene Lösung lässt sich ohne hohen Investitionsbedarf realisieren, weil die Bürstenscheiben vergleichsweise einfach und kostengünstig hergestellt werden können. Darüber hinaus zeichnet sich die Lösung dadurch aus, dass der Zeitaufwand für die Reinigung der Poliertücher deutlich kürzer ist, weil das vergleichsweise zeitaufwändige Entfernen der Läuferscheiben vom unteren Polierteller vor der Reinigung und das Zurücklegen der Läuferscheiben auf den unteren Polierteller nach der Reinigung entfällt. Es wird erfindungsgemäß ersetzt durch das Zeit sparende Ablegen von Bürstenscheiben auf eine Anzahl der Läuferscheiben vor der Reinigung der Poliertücher und das Entfernen der abgelegten Bürstenscheiben nach der Reinigung der Poliertücher.The proposed solution can be realized without high investment requirements, because the brush discs can be made comparatively simple and inexpensive. In addition, the solution is characterized by the fact that the time required for cleaning the polishing cloths is significantly shorter, because the comparatively time-consuming removal of the carrier discs from the lower polishing plate before cleaning and covering the rotor discs on the lower polishing plate after cleaning is eliminated. It is inventively replaced by the time-saving storage of brush discs on a number of carriers before cleaning the polishing cloths and removing the discarded brush discs after cleaning the polishing cloths.

Die Erfindung wird nachfolgend an Hand von Figuren eingehender beschrieben. The invention will be described in more detail with reference to figures.

1 zeigt in der Draufsicht eine übliche Läuferscheibe. 1 shows in plan view a conventional rotor disc.

2 zeigt in der Draufsicht eine Anordnung von fünf Läuferscheiben auf dem unteren Polierteller einer DSP-Maschine. 2 shows in plan view an arrangement of five carriers on the lower polishing plate of a DSP machine.

3 zeigt in der Draufsicht die obere Seitenfläche der Trägerscheibe einer auf bevorzugte Weise ausgebildeten Bürstenscheibe der vorliegenden Erfindung. 3 shows in plan view the upper side surface of the carrier disc of a preferred trained brush disc of the present invention.

4 zeigt in der Draufsicht die untere Seitenfläche der Trägerscheibe der auf bevorzugte Weise ausgebildeten Bürstenscheibe der vorliegenden Erfindung. 4 shows in plan view the lower side surface of the carrier disk of the preferred formed brush disk of the present invention.

5 zeigt einen Schnitt durch die auf bevorzugte Weise ausgebildete Bürstenscheibe der vorliegenden Erfindung entlang der in den 3 und 4 gezeichneten Schnittlinie A-A. 5 shows a section through the preferred trained brush disk of the present invention along in the 3 and 4 drawn section line AA.

6 zeigt die Anordnung gemäß 2 mit drei auf Läuferscheiben abgelegten Bürstenscheiben. 6 shows the arrangement according to 2 with three brush discs placed on rotor discs.

Die in 1 dargestellte typische Läuferscheibe 1 ist ein am Umfang mit Zähnen 2 versehener Werkstückhalter mit Ausnehmungen 3, in die Werkstücke eingelegt werden. Werkstücke sind beispielsweise Halbleiterscheiben, insbesondere Halbleiterscheiben aus Silizium mit einem Durchmesser im Bereich von 200 bis 450 mm. Um die empfindliche Kante der Werkstücke zu schützen, sind die Ausnehmungen 3 mit Rahmen 4 aus Kunststoff ausgekleidet. Darüber hinaus sind weitere Ausnehmungen 5 vorhanden, die die Verteilung des Poliermittels während der Politur der Werkstücke erleichtern.In the 1 illustrated typical rotor disc 1 is one on the perimeter with teeth 2 provided workpiece holder with recesses 3 , in which workpieces are inserted. Workpieces are for example semiconductor wafers, in particular silicon wafers with a diameter in the range of 200 to 450 mm. To protect the delicate edge of the workpieces, the recesses are 3 with frame 4 plastic lined. In addition, there are more recesses 5 present, which facilitate the distribution of the polishing agent during the polishing of the workpieces.

In der Darstellung gemäß 2 sind fünf gleichartige Läuferscheiben 1 auf einen mit Poliertuch bedeckten unteren Polierteller 7 einer DSP-Maschine abgelegt. Die Läuferscheiben befinden sich zwischen einem inneren Stiftkranz 8 und einem äußeren Stiftkranz 9. Die Stifte 6 der beiden Stiftkränze greifen in die Lücken zwischen den Zähnen 2 am Umfang der Läuferscheiben.In the illustration according to 2 are five similar carriers 1 on a polishing pad covered lower polishing plate 7 a DSP machine stored. The carriers are located between an inner pin collar 8th and an outer pin collar 9 , The pencils 6 of the two pin rings reach into the gaps between the teeth 2 on the circumference of the carriers.

Nach einer Politur werden die polierten Werkstücke aus den Ausnehmungen gehoben. Ist nachfolgend eine Reinigung der Poliertücher vorgesehen, bleiben die Läuferscheiben dem erfindungsgemäßen Verfahren entsprechend auf dem unteren Polierteller 7 liegen. 2 repräsentiert diese Situation. Erfindungsgemäß werden dann Bürstenscheiben auf eine Anzahl der Läuferscheiben gelegt.After polishing, the polished workpieces are lifted out of the recesses. If subsequently a cleaning of the polishing cloths is provided, the carriers remain according to the method according to the invention on the lower polishing plate 7 lie. 2 represents this situation. Brush discs are then placed on a number of carriers according to the invention.

Eine auf eine bevorzugte Weise ausgebildete Bürstenscheibe ist in den 3 bis 5 in verschiedenen Sichten dargestellt. 3 zeigt die obere Seitenfläche 15 der Trägerscheibe 11 der Bürstenscheibe 10 in der Draufsicht. Die Trägerscheibe 11 ist an ihrem äußeren Umfang mit Zähnen 12 versehen. Der Durchmesser und die Zahnung der Trägerscheibe 11 entsprechen dem Durchmesser und der Zahnung der Läuferscheibe 1. In der Trägerscheibe 11 sind Borsten verankert, die sich aus den Ebenen der unteren und der oberen Seitenfläche der Trägerscheibe 11 erheben. Die Borsten sind vorzugsweise zu Borsten-Büschel 13 gruppiert. Die Borsten-Büschel 13 sind auf der oberen Seitenfläche 15 der Trägerscheibe 11 auf einer ringförmigen Fläche vorzugsweise in regelmäßigen Abständen angeordnet. Um das korrekte Positionieren der Bürstenscheibe beim Ablegen der Bürstenscheibe auf eine Läuferscheibe zu erleichtern und zu kontrollieren, sind Orientierungsausnehmungen in die Trägerscheibe eingearbeitet. Sie befinden sich an Stellen, an denen bei korrekter Positionierung korrespondierende Ausnehmungen in der darunter liegenden Läuferscheibe vorhanden sind. Die gezeigte Bürstenscheibe hat Orientierungsausnehmungen 14 und 16 am inneren Umfang und im Randbereich des inneren Umfangs. Die Trägerscheibe besteht vorzugsweise aus einem mechanisch widerstandsfähigen Kunststoff, beispielsweise aus Polyvinylchlorid (PVC) oder aus einem Kunststoff, dessen Materialeigenschaften ähnlich denen von PVC sind. Sie hat eine Dicke im Bereich von vorzugsweise 10 bis 20 mm.A trained in a preferred manner brush disk is in the 3 to 5 presented in different views. 3 shows the upper side surface 15 the carrier disk 11 the brush disc 10 in the plan view. The carrier disk 11 is at its outer periphery with teeth 12 Mistake. The diameter and the toothing of the carrier disc 11 correspond to the diameter and the toothing of the rotor disc 1 , In the carrier disk 11 Bristles are anchored, resulting from the levels of the lower and the upper side surface of the carrier disc 11 rise. The bristles are preferably bristle tufts 13 grouped. The bristle tufts 13 are on the upper side surface 15 the carrier disk 11 arranged on an annular surface, preferably at regular intervals. In order to facilitate the correct positioning of the brush disc when placing the brush disc on a rotor disc and to control, orientation recesses are incorporated in the carrier disc. They are located in places where, if correctly positioned, corresponding recesses are present in the underlying rotor disc. The brush disc shown has Orientierungsausnehmungen 14 and 16 on the inner circumference and in the edge area of the inner circumference. The carrier disc is preferably made of a mechanically resistant plastic, for example of polyvinyl chloride (PVC) or of a plastic whose material properties are similar to those of PVC. It has a thickness in the range of preferably 10 to 20 mm.

Die Borsten bestehen vorzugsweise aus einem thermoplastischen Kunststoff mit hoher Resistenz gegen Chemikalien, beispielsweise aus Polyamid (PA) oder aus einem Kunststoff, dessen Materialeigenschaften ähnlich denen von PA sind. Die Borsten haben vorzugsweise einen Durchmesser im Bereich von 0,5 bis 1,0 mm, die Borsten-Büschel einen Durchmesser im Bereich von vorzugsweise 5 bis 12 mm. Die Borsten erheben sich aus den Ebenen der unteren und oberen Seitenflächen der Trägerscheibe über eine Länge im Bereich von vorzugsweise 5 bis 12 mm.The bristles are preferably made of a thermoplastic material with high resistance to chemicals, for example of polyamide (PA) or of a plastic whose material properties are similar to those of PA. The bristles preferably have a diameter in the range of 0.5 to 1.0 mm, the bristle tufts have a diameter in the range of preferably 5 to 12 mm. The bristles rise from the planes of the lower and upper side surfaces of the carrier disk over a length in the range of preferably 5 to 12 mm.

4 zeigt die untere Seitenfläche 17 der Trägerscheibe 11 der Bürstenscheibe 10 in der Draufsicht. Die untere Seitenfläche unterscheidet sich bezüglich der Verteilung der Borsten-Büschel 13. Es gibt Stellen, die frei von Borsten sind, um den direkten Kontakt der Trägerscheibe 11 mit der Läuferscheibe 1 nach dem Ablegen der Bürstenscheibe 10 auf die Läuferscheibe zum Zweck des Reinigens der Poliertücher zu ermöglichen. 4 shows the lower side surface 17 the carrier disk 11 the brush disc 10 in the plan view. The lower side surface differs in the distribution of bristle tufts 13 , There are places that are free of bristles to the direct contact of the carrier disc 11 with the rotor disc 1 after removing the brush disc 10 on the rotor disc for the purpose of cleaning the polishing cloths to allow.

Die unterschiedliche Verteilung der Borsten-Büschel 13 auf der oberen und der unteren Seitenfläche 15 und 17 der Trägerscheibe der Bürstenscheibe 10 geht auch aus der Schnittdarstellung gemäß 5 hervor. Borsten 18 sind zu Borsten-Büschel 13 gruppiert.The different distribution of bristle tufts 13 on the upper and the lower side surface 15 and 17 the carrier disc of the brush disc 10 also goes from the sectional view according to 5 out. bristles 18 are to bristle tufts 13 grouped.

Gemäß einer besonderen Ausführungsform wird darauf geachtet, dass die Besetzungsdichte der oberen und unteren Seitenfläche der Trägerscheibe der Bürstenscheibe mit Borsten-Büschel (Borsten-Büschel je Flächeneinheit) im Wesentlichen die Selbe ist. Ist auf beiden Seitenflächen der Trägerscheibe die annähernd gleiche Anzahl an Borsten-Büschel vorhanden, werden das obere und untere Poliertuch während der Reinigung mit dem annähernd gleichen spezifischen Bürstendruck beaufschlagt.According to a particular embodiment care is taken that the population density of the upper and lower side surfaces of the carrier disk of the brush disk with bristle tufts (bristle tufts per unit area) is essentially the same. If the approximately equal number of bristle tufts is present on both side surfaces of the carrier disk, the upper and lower polishing cloths are subjected during cleaning to the approximately same specific brush pressure.

Dem erfindungsgemäßen Verfahren entsprechend werden zur Reinigung der Poliertücher Bürstenscheiben auf eine Anzahl der auf dem unteren Polierteller liegenden Läuferscheiben gelegt. Die Anzahl der auf die Läuferscheiben gelegten Bürstenscheiben ist gleich der Anzahl der auf dem unteren Polierteller liegenden Läuferscheiben, oder die Anzahl ist kleiner als die Anzahl der auf dem unteren Polierteller liegenden Läuferscheiben und es werden mindestens drei Bürstenscheiben auf die Läuferscheiben gelegt.In accordance with the method according to the invention, brush disks are placed on a number of the rotor disks lying on the lower polishing plate for cleaning the polishing cloths. The number of brush discs placed on the carriers is equal to the number of carriers located on the lower polishing plate, or the number is smaller than the number of carriers located on the lower polishing plate, and at least three brush discs are placed on the carriers.

Die zuletzt genannte Möglichkeit ist dann zu empfehlen, wenn mehr als drei Läuferscheiben auf dem unteren Polierteller liegen. In diesem Fall reichen drei Bürstenscheiben zur Reinigung der Poliertücher aus, so dass die Zeit gespart werden kann, weitere Läuferscheiben mit Bürstenscheiben zu belegen. Andererseits sollten mindestens drei Bürstenscheiben möglichst gleichmäßig über die vorhandenen Läuferscheiben verteilt werden, um eine stabile Anordnung zu erhalten.The latter possibility is recommended if more than three carriers are on the lower polishing plate. In this case, three brush discs are sufficient for cleaning the polishing cloths, so that the time can be saved, to occupy more rotor discs with brush discs. On the other hand, at least three brush discs should be distributed as evenly as possible over the existing carriers to obtain a stable arrangement.

6 zeigt eine solche Anordnung, die sich ergibt, wenn drei Bürstenscheiben 10 möglichst gleichmäßig verteilt auf die auf dem unteren Polierteller 7 liegenden Läuferscheiben 1 gemäß 2 gelegt werden. 6 shows such an arrangement, which results when three brush discs 10 distributed as evenly as possible on the lower polishing plate 7 lying rotor discs 1 according to 2 be placed.

Gemäß einer besonderen Ausführungsform der Erfindung wird die Verteilung der Borsten-Büschel auf der oberen und der unteren Seitenfläche der Trägerscheibe jeweils so gewählt, dass die Dichte der Borsten-Büschel bezogen auf die Fläche des unteren Poliertellers möglichst gleichmäßig wird. Auch diese Maßnahme ist darauf gerichtet, den Bürstendruck möglichst gleichmäßig über die Poliertücher zu verteilen.According to a particular embodiment of the invention, the distribution of the bristle tufts on the upper and the lower side surface of the carrier disk is selected in each case such that the density of the bristle tufts becomes as uniform as possible relative to the surface of the lower polishing plate. This measure is also directed to distribute the brush pressure as evenly as possible over the polishing cloths.

Nach dem Ablegen der Bürstenscheiben auf die Läuferscheiben wird der obere Polierteller auf den unteren Polierteller gesenkt, die Poliermaschine geschlossen, und die Poliertücher mittels der Bürstenscheiben unter Zuführen eines Reinigungsmittels in Gegenwart der Läuferscheiben gereinigt. Während der Reinigung der Poliertücher vollziehen die Bürstenscheiben zusammen mit den Läuferscheiben dieselben Drehbewegungen wie die Läuferscheiben während der Politur von Werkstücken.After placing the brush discs on the carriers, the upper polishing plate is lowered onto the lower polishing plate, the polishing machine is closed, and the polishing cloths are cleaned by means of the brush discs while supplying a cleaning agent in the presence of the carriers. During the cleaning of the polishing cloths, the brush discs, together with the carrier discs, perform the same rotational movements as the carriers during the polishing of workpieces.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • US 2002/0115387 A1 [0003] US 2002/0115387 A1 [0003]
  • US 2010/0130111 A1 [0006] US 2010/0130111 A1 [0006]

Claims (8)

Verfahren zum Reinigen von Poliertüchern nach dem Polieren von Werkstücken zwischen zwei mit den Poliertüchern bedeckten unteren und oberen Poliertellern, wobei die polierten Werkstücke aus Aussparungen von Läuferscheiben entfernt werden und die Läuferscheiben auf dem unteren Polierteller liegen bleiben, Bürstenscheiben auf eine Anzahl der Läuferscheiben gelegt werden, und die Poliertücher mittels der Bürstenscheiben unter Zuführen eines Reinigungsmittels in Gegenwart der Läuferscheiben gereinigt werden.A method of cleaning polishing cloths after polishing workpieces between two lower and upper polishing plates covered with the polishing cloths, wherein the polished workpieces are removed from recesses of carriers and the carriers remain on the lower polishing plate, Brush disks are placed on a number of rotor disks, and the polishing cloths are cleaned by means of the brush discs by supplying a cleaning agent in the presence of the carrier discs. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Anzahl der auf Läuferscheiben gelegten Bürstenscheiben gleich der Anzahl der auf dem unteren Polierteller liegenden Läuferscheiben ist, oder wobei die Anzahl der auf Läuferscheiben gelegten Bürstenscheiben kleiner ist als die Anzahl der auf dem unteren Polierteller liegenden Läuferscheiben und mindestens drei Bürstenscheiben auf Läuferscheiben gelegt werden.The method of claim 1, wherein the number of brush discs placed on carrier discs is equal to the number of carriers located on the lower polishing plate, or wherein the number of brush discs placed on carriers is less than the number of carriers located on the lower polishing plate and at least three brush discs be placed on carriers. Bürstenscheibe zum Reinigen von Poliertüchern, die einen unteren und einen oberen Polierteller bedecken, umfassend eine Trägerscheibe mit einer unteren und einer oberen Seitenfläche, deren äußerer Umfang mit Zähnen versehen ist; Borsten, die in der Trägerscheibe verankert sind und die sich aus den Ebenen der unteren und oberen Seitenflächen erheben, wobei die untere Seitenfläche der Trägerscheibe Stellen aufweist, die frei von Borsten sind, um den direkten Kontakt der Trägerscheibe mit einer Läuferscheibe nach dem Ablegen der Bürstenscheibe auf der Läuferscheibe zum Zweck des Reinigens der Poliertücher zu ermöglichen.A brush disc for cleaning polishing cloths covering a lower and an upper polishing plate, comprising a carrier disk having a lower and an upper side surface whose outer periphery is provided with teeth; Bristles which are anchored in the support disc and which rise from the planes of the lower and upper side surfaces, wherein the lower side surface of the support disc has locations which are free of bristles to the direct contact of the carrier disc with a rotor disc after the disc has been deposited to allow on the rotor for the purpose of cleaning the polishing cloths. Bürstenscheibe nach Anspruch 3, wobei sich die Borsten aus den Ebenen der unteren und oberen Seitenflächen der Trägerscheibe über eine Länge von 5 bis 12 mm erheben.A brush disc according to claim 3, wherein the bristles rise from the planes of the lower and upper side surfaces of the carrier disc over a length of 5 to 12 mm. Bürstenscheibe nach Anspruch 3 oder Anspruch 4, wobei die Trägerscheibe und die Borsten aus Kunststoff bestehen.Brush disc according to claim 3 or claim 4, wherein the carrier disc and the bristles are made of plastic. Bürstenscheibe nach einem der Ansprüche 3 bis 5, wobei die Borsten zu Borsten-Büschel gruppiert sind.A brush disc according to any one of claims 3 to 5, wherein the bristles are grouped into bristle tufts. Bürstenscheibe nach Anspruch 6, wobei die auf eine Seitenfläche der Trägerscheibe bezogene Dichte der Borsten-Büschel auf der unteren und der oberen Seitenfläche der Trägerscheibe im Wesentlichen gleich ist.A brush disc according to claim 6, wherein the density of the bristle tufts relative to a side surface of the carrier disc is substantially equal on the lower and upper side surfaces of the carrier disc. Bürstenscheibe nach einem der Ansprüche 3 bis 7, umfassend Orientierungsausnehmungen zum Positionieren der Bürstenscheibe beim Ablegen der Bürstenscheibe auf einer Läuferscheibe.Brush disc according to one of claims 3 to 7, comprising orientation recesses for positioning the brush disc when placing the brush disc on a rotor disc.
DE102010043627A 2010-11-09 2010-11-09 Method for cleaning polishing cloth used in double-sided silicon wafer polishing machine, involves arranging brush discs on carrier discs, for cleaning polishing cloths while supplying cleaning agent in presence of carrier discs Ceased DE102010043627A1 (en)

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