DE102010036161A1 - Strahlfalle zur Absorption der Strahlungsenergie unerwünschter Laserstrahlung - Google Patents
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Abstract
), ausgebildet zur Absorption der Strahlungsenergie unerwünschter Laserstrahlung (4). Die erfindungsgemäße Strahlfalle (1) umfasst zwei Reflektoren (5, 7), wobei – mindestens einer der beiden Reflektoren (5, 7) mit einer Strahlungsenergie absorbierenden Beschichtung versehen ist, – beide Reflektoren (5, 7) so zueinander positioniert sind, dass – die auf einen ersten Reflektor (5) treffende und dabei reflektierte Laserstrahlung (4) auf den zweiten Reflektor (7) gerichtet ist, und – die auf den zweiten Reflektor (7) treffende und dabei reflektierte Laserstrahlung (4) zurück auf den ersten Reflektor (5) gerichtet ist, so dass – nach vielfachen Reflexionen und dabeigie absorbiert ist.
Description
- Die Erfindung bezieht sich auf eine Strahlfalle, ausgebildet zur Absorption der Strahlungsenergie unerwünschter Laserstrahlung.
- Strahlfallen sind an sich bekannt. Sie werden dort eingesetzt, wo Laserstrahlung aufgefangen und kontrolliert geblockt werden soll.
- Unter Laborbedingungen werden sie zur Absorption von Laserstreustrahlung eingesetzt, während sie bei Messgeräten, die mit- Laserstrahlung arbeiten, dazu dienen, die Strahlungsenergie der Messstrahlung im Leistungsbereich des Gerätes zu halten oder auch Streu- oder sonstige nicht genutzte Energie im Strahlengang möglichst vollständig zu absorbieren oder zu eliminieren.
- In
US 4,864,098 ist ein HIGH POWERED BEAM DUMP beschrieben, ausgebildet zur Energieabsorption bei der Arbeit mit Hochleistungs-Lasern für Zeitspannen, in denen sich der Laserstrahl außer Kontakt mit einem zu bearbeitenden Werkzeug befindet. In diese Strahlfalle tritt die zu absorbierende Laserstrahlung durch eine Eintrittsöffnung hindurch ein, trifft auf die Mantelfläche eines kegelförmigen Reflektors und wird von dieser auf einen Absorber gelenkt, der die Mantelfläche zentrisch umschließt. - Material und Oberflächengüte des Absorbers sind auf die Wellenlänge der Laserstrahlung abgestimmt, um ein optimales Absorptionsvermögen zu erzielen. Die aufgrund der Absorption entstehende Wärme wird vom Absorber in einen Kupferzylinder geleitet und von dort über eine Kühlwicklung abtransportiert, die mit dem Kupferzylinder in thermischem Kontakt steht und von einem Kühlmittel durchflossen ist.
- Diese Strahlfall ist insbesondere ausgelegt für die Verwendung mit einem Hochleistungs-Carbon-Dioxid-Laser. Für Laserstrahlung im IR-Wellenlängenbereich ist diese Strahlfalle nicht effektiv nutzbar. Ein weiterer Nachteil besteht in der technisch aufwendigen Gestaltung.
- Davon ausgehend liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine Strahlfalle zu entwickeln, die insbesondere zur Absorption von Laserstrahlung im infraroten Wellenlängenbereich geeignet ist und die zudem einen vereinfachten technischen Aufbau hat.
- Erfindungsgemäß umfasst eine Strahlfalle der eingangsgenannten Art zwei Reflektoren, wobei
- – mindestens einer der beiden Reflektoren mit einer Strahlungsenergie absorbierenden Beschichtung versehen ist,
- – beide Reflektoren so zueinander positioniert sind, dass die auf einen ersten Reflektor treffende und dabei reflektierte Laserstrahlung auf den zweiten Reflektor gerichtet ist, und
- – die auf den zweiten Reflektor treffende und dabei reflektierte Laserstrahlung zurück auf den ersten Reflektor gerichtet ist, so dass
- – nach vielfachen Reflexionen und dabei stetiger teilweiser Absorption die Strahlungsenergie absorbiert ist.
- In einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung ist der erste Reflektor als Kegel mit einer sich in Einfallsrichtung der Laserstrahlung konisch erweiternden, reflektierenden Mantelfläche ausgebildet, und der zweite Reflektor weist eine die Mantelfläche in einem vorgegebenen Abstand umschließende, reflektierende Oberfläche auf, die mit Strukturen versehen ist, durch welche die auftreffende Laserstrahlung stets wieder zurück auf die Mantelfläche des ersten Reflektors reflektiert wird.
- Diese Strukturen können beispielsweise in Form von Rillen gestaltet sein, deren Breite sich in radialer Richtung – bezogen auf die Mittenachse des kegelförmigen ersten Reflektors – verjüngen.
- Obwohl es im Rahmen der Erfindung liegt, entweder nur den ersten oder den zweiten Reflektor mit einer die Strahlungsenergie absorbierenden Beschichtung zu versehen, sind vorzugsweise beide Reflektoren, konkret deren reflektierende Flächen, mit einer absorbierenden Beschichtung versehen, so dass mit jeder Reflexion der Laserstrahlung zugleich auch eine Verringerung der Strahlungsintensität und damit eine Reduzierung der Strahlungsenergie erzielt wird.
- Bevorzugt ist die absorbierende Beschichtung beider Reflektoren auf den Infrarot-Wellenlängenbereich abgestimmt und somit die erfindungsgemäße Strahlfalle insbesondere zur Absorption der Strahlungsenergie von Laserlicht im Infrarot-Wellenlängenbereich geeignet.
- Als absorbierende Beschichtung kann eine KEPLA-COAT-Beschichtung vorgesehen sein. KEPLA-COAT-Beschichtungen sind an sich als plasmachemische Beschichtungen von Aluminium- und Titanlegierungen bekannt, dort jedoch zum Zweck des Schutzes von Werkstücken, die aus Aluminium oder Titan gefertigt sind, vor Verschleiß und Korrosion. Außerdem sind KEPLA-COAT-Beschichtungen aufgrund ihrer besonderen Oberflächenstruktur im Stand der Technik zur Aufnahme von Schmierstoffen sowie zur nachträglichen Lackierung oder Imprägnierung von Werkstücken vorgesehen.
- Vorteilhaft ist die erfindungsgemäße Strahlfalle mit einer kreisrunden, zentrisch um die Kegelspitze verlaufenden Eintrittsöffnung für die zu absorbierende Laserstrahlung versehen.
- Die Erfindung wird nachfolgend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert. Dazu zeigt
1 den prinzipiellen Aufbau der erfindungsgemäßen Strahlfalle. - Wie aus
1 ersichtlich, ist die hier im Querschnitt dargestellte Strahlfalle1 mit einer kreisrunden, zentrisch zu einer Mittenachse2 ausgerichteten Eintrittsöffnung3 für die zu absorbierende Laserstrahlung4 versehen. - Durch die Eintrittsöffnung
3 hindurch kann Laserstrahlung4 , etwa in Form eines Strahlenbündels, sowohl parallel zur Richtung der Mittenachse2 in die Strahlfalle eintreten, wie beispielhaft mittels einer gestrichelten Linie dargestellt, oder auch in einem Winkel 0° ≤ α ≤ 90°, wie anhand der Volllinie ersichtlich. In jedem Fall trifft die Laserstrahlung4 auf einen kegelförmigen Reflektor5 , der zentrisch zur Mittenachse2 liegt und dessen Mantelfläche sich in Einfallsrichtung der Laserstrahlung4 gesehen konisch erweitert. Die Mantelfläche des Reflektors5 ist sowohl reflektierend als auch absorbierend ausgebildet. - Die reflektierende Wirkung wird beispielsweise mit einer Beschichtung aus Chrom, Gold oder Silber erzielt, die absorbierende Wirkung mittels einer KEPLA-COAT-Beschichtung.
- Wenn Schultafellack als absorbierende Schicht verwendet wird, sollte Korrosionsschutzbehandlung vorher erfolgen, z. B. Eloxschicht für Aluminium, Brünieren, chemisch geschwärzt oder vernickelt.
- Denkbar ist es auch, statt einer reflektierenden Beschichtung, die als Chromschicht ausgelegt sein kann, die Oberfläche zu polieren oder anders zu bearbeiten, um Reflexion der Strahlen zu ermöglichen.
- Der kegelförmigen Reflektor
5 kann aus Glas bestehen und als Strahlteiler ausgebildet sein, so dass bestimmte Strahlen im Innern weitergeleitet werden. - Kegelförmiger Reflektor
5 und Reflektor7 können aus demselben, aber auch aus unterschiedlichem Material gefertigt sein, Priorität hat die im Hinblick auf Reflexion und Absorption optimale Beschichtung. - Wie in
1 anhand von Pfeilrichtungen angedeutet, trifft die Laserstrahlung4 zunächst auf die Mantelfläche des Reflektors5 und wird von dieser in Richtung der rillenförmigen Strukturen6 gelenkt, die an einem zweiten Reflektor7 ausgebildet sind, der die Mittenachse in einem bestimmten Abstand umschließt. - Auch bei dem Reflektor
7 wird die reflektierende Wirkung beispielsweise mit einer beispielsweise dem Reflektor5 entsprechenden Beschichtung der rillenförmigen Strukturen6 erzielt, die absorbierende Wirkung dagegen ebenfalls mittels einer KEPLA-COAT-Beschichtung. - Von den rillenförmigen Strukturen
6 wird die Laserstrahlung4 zum Reflektor5 zurückgeworfen und trifft wieder auf dessen reflektierende und absorbierende Mantelfläche. - In Abhängigkeit von der Anzahl der Rillen in der Struktur
6 , der Neigung ihrer Innenflächen und ihrer parallele zur Mittenachse2 gemessenen Breite wird die Laserstrahlung4 mehrfach zwischen dem Reflektor5 und dem Reflektor7 hin und her reflektiert und trifft bei jeder Reflexion zugleich auf die absorbierenden Schichten, so dass die Strahlungsintensität bzw. die Strahlungsenergie von Reflexion zu Reflexion geschwächt wird bis zu ihrer vollständigen Absorption. Die Laserstrahlung4 tritt aufgrund dieser Gestaltung nicht wieder aus der Strahlfalle1 aus. - Die Strukturen
6 sind ausdrücklich nicht an die hier beispielhaft angegebene Rillenform gebunden. Sie können auch durch eingelegte Spiralteile oder in Form eines Labyrinths gebildet sein. Von Bedeutung sind lediglich die bereits beschriebenen Reflexionsrichtungen, die stets eine Rückreflexion auf den jeweils gegenüber liegenden Reflektor5 oder7 erzwingen. - Des weiteren ist die Ausführung der absorbierenden Beschichtungen nicht auf KEPLA-COAT beschränkt. Denkbar ist beispielsweise auch die Verwendung matter Farben, um eine möglichst vollständige Absorption der Strahlungsenergie zu erreichen.
- Bezugszeichenliste
-
- 1
- Strahlfalle
- 2
- Mittenachse
- 3
- Eintrittsöffnung
- 4
- Laserstrahlung
- 5
- Reflektor
- 6
- rillenförmige Strukturen
- 7
- Reflektor
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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- Zitierte Patentliteratur
-
- US 4864098 [0004]
Claims (6)
- Strahlfalle, ausgebildet zur Absorption der Strahlungsenergie unerwünschter Laserstrahlung (
4 ), umfassend zwei Reflektoren (5 ,7 ), wobei – mindestens einer der beiden Reflektoren (5 ,7 ) mit einer Strahlungsenergie absorbierenden Beschichtung versehen ist, – beide Reflektoren (5 ,7 ) so zueinander positioniert sind, dass – die auf einen ersten Reflektor (5 ) treffende und dabei reflektierte Laserstrahlung (4 ) auf den zweiten Reflektor (7 ) gerichtet ist, und – die auf den zweiten Reflektor (7 ) treffende und dabei reflektierte Laserstrahlung (4 ) zurück auf den ersten Reflektor (5 ) gerichtet ist, so dass – nach vielfachen Reflexionen und dabei stetiger teilweiser Absorption die Strahlungsenergie absorbiert ist. - Strahlfalle nach Anspruch 1, wobei – der erste Reflektor (
5 ) als Kegel mit einer sich in Einfallsrichtung der Laserstrahlung (4 ) konisch erweiternden reflektierenden Mantelfläche ausgebildet ist, und – der zweite Reflektor (7 ) eine in einem vorgegebenen Abstand die Mantelfläche umschließende reflektierende Oberfläche mit Strukturen (6 ) aufweist, durch welche die auftreffende Laserstrahlung (4 ) stets zurück auf die Mantelfläche gerichtet ist. - Strahlfalle nach Anspruch 1 oder 2, bei dem die Oberfläche des zweiten Reflektors (
7 ) Rillen mit sich in radialer Richtung verjüngenden Rillenbreiten aufweist. - Strahlfalle nach einem der vorgenannten Ansprüche, bei der die reflektierenden Flächen beider Reflektoren (
5 ,7 ) mit einer vorzugsweise Laserstrahlung (4 ) im Infrarot-Wellenlängenbereich absorbierenden Beschichtung versehen sind. - Strahlfalle nach Anspruch 4, bei der jeweils eine KEPLA-COAT-Beschichtung vorgesehen ist.
- Strahlfalle nach einem der vorgenannten Ansprüche, ausgestattet mit einer kreisrunden, zentrisch um die Kegelspitze verlaufenden Eintrittsöffnung (
2 ) für die Laserstrahlung (4 ).
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014019814A1 (de) * | 2012-07-30 | 2014-02-06 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur rekuperation ungenutzter optischer strahlungsenergie einer optischen bearbeitungsvorrichtung, rekuperationsvorrichtung und optische bearbeitungsvorrichtung |
CN104048755A (zh) * | 2014-05-21 | 2014-09-17 | 西北核技术研究所 | 一种全吸收高能激光能量计 |
WO2016138951A1 (de) | 2015-03-04 | 2016-09-09 | Trumpf Lasersystems For Semiconductor Manufacturing Gmbh | Strahlfalle, strahlführungseinrichtung, euv-strahlungserzeugungsvorrichtung und verfahren zum absorbieren eines strahls |
US20170278708A1 (en) * | 2016-03-23 | 2017-09-28 | Samsung Display Co., Ltd. | Laser crystallization device and method |
CN108279449A (zh) * | 2017-01-05 | 2018-07-13 | 罗伯特·博世有限公司 | 高功率射束阱 |
WO2024022577A1 (de) * | 2022-07-26 | 2024-02-01 | Trumpf Lasersystems For Semiconductor Manufacturing Gmbh | Rotationssymmetrische gekrümmte strahlfalle für konische strahlen |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102016220200A1 (de) | 2016-10-17 | 2018-04-19 | Robert Bosch Gmbh | Strahlfallenvorrichtung, Strahlfallenanordnung, Messvorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Strahlfallenanordnung |
CN110927841A (zh) * | 2019-12-10 | 2020-03-27 | 中国计量科学研究院 | 光陷阱 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01146386A (ja) * | 1987-12-03 | 1989-06-08 | Toshiba Corp | レーザビームダンプ |
US4864098A (en) | 1988-05-19 | 1989-09-05 | Rofin-Sinar, Inc. | High powered beam dump |
DE102004038321A1 (de) * | 2003-11-21 | 2005-06-02 | Leica Microsystems Heidelberg Gmbh | Lichtfalle |
-
2010
- 2010-09-02 DE DE102010036161A patent/DE102010036161B4/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01146386A (ja) * | 1987-12-03 | 1989-06-08 | Toshiba Corp | レーザビームダンプ |
US4864098A (en) | 1988-05-19 | 1989-09-05 | Rofin-Sinar, Inc. | High powered beam dump |
DE102004038321A1 (de) * | 2003-11-21 | 2005-06-02 | Leica Microsystems Heidelberg Gmbh | Lichtfalle |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2611608C2 (ru) * | 2012-07-30 | 2017-02-28 | Лимо Патентфервальтунг Гмбх Унд Ко.Кг | Способ рекуперации неиспользованной энергии оптического излучения оптического обрабатывающего устройства, рекуперационное устройство и оптическое обрабатывающее устройство |
CN104619457A (zh) * | 2012-07-30 | 2015-05-13 | Limo专利管理有限及两合公司 | 用于回收光学加工装置的未利用的光学辐射能的方法、回收装置和光学加工装置 |
WO2014019814A1 (de) * | 2012-07-30 | 2014-02-06 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur rekuperation ungenutzter optischer strahlungsenergie einer optischen bearbeitungsvorrichtung, rekuperationsvorrichtung und optische bearbeitungsvorrichtung |
CN104048755A (zh) * | 2014-05-21 | 2014-09-17 | 西北核技术研究所 | 一种全吸收高能激光能量计 |
CN104048755B (zh) * | 2014-05-21 | 2015-11-18 | 西北核技术研究所 | 一种全吸收高能激光能量计 |
CN107405728A (zh) * | 2015-03-04 | 2017-11-28 | 通快激光系统半导体制造有限公司 | 射束阱、射束引导装置、euv辐射产生设备和用于吸收射束的方法 |
WO2016138951A1 (de) | 2015-03-04 | 2016-09-09 | Trumpf Lasersystems For Semiconductor Manufacturing Gmbh | Strahlfalle, strahlführungseinrichtung, euv-strahlungserzeugungsvorrichtung und verfahren zum absorbieren eines strahls |
US10264660B2 (en) | 2015-03-04 | 2019-04-16 | Trumpf Lasersystems For Semiconductor Manufacturing Gmbh | Beam trap, beam guide device, EUV radiation generating apparatus, and method for absorbing a beam |
CN107405728B (zh) * | 2015-03-04 | 2020-05-12 | 通快激光系统半导体制造有限公司 | 射束阱、射束引导装置、euv辐射产生设备和用于吸收射束的方法 |
US20170278708A1 (en) * | 2016-03-23 | 2017-09-28 | Samsung Display Co., Ltd. | Laser crystallization device and method |
CN107230612A (zh) * | 2016-03-23 | 2017-10-03 | 三星显示有限公司 | 激光晶化装置及方法 |
US10475647B2 (en) * | 2016-03-23 | 2019-11-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Laser crystallization device and method |
CN107230612B (zh) * | 2016-03-23 | 2023-12-15 | 三星显示有限公司 | 激光晶化装置及方法 |
CN108279449A (zh) * | 2017-01-05 | 2018-07-13 | 罗伯特·博世有限公司 | 高功率射束阱 |
CN108279449B (zh) * | 2017-01-05 | 2021-11-26 | 罗伯特·博世有限公司 | 高功率射束阱 |
WO2024022577A1 (de) * | 2022-07-26 | 2024-02-01 | Trumpf Lasersystems For Semiconductor Manufacturing Gmbh | Rotationssymmetrische gekrümmte strahlfalle für konische strahlen |
Also Published As
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