DE102010035168A1 - Sensor for microelectromechanical system capacitor microphone used in e.g. medical field, has sound passage openings arranged anisotropically on counter electrode such that reduction of lateral forces on counter electrode is achieved - Google Patents
Sensor for microelectromechanical system capacitor microphone used in e.g. medical field, has sound passage openings arranged anisotropically on counter electrode such that reduction of lateral forces on counter electrode is achieved Download PDFInfo
- Publication number
- DE102010035168A1 DE102010035168A1 DE201010035168 DE102010035168A DE102010035168A1 DE 102010035168 A1 DE102010035168 A1 DE 102010035168A1 DE 201010035168 DE201010035168 DE 201010035168 DE 102010035168 A DE102010035168 A DE 102010035168A DE 102010035168 A1 DE102010035168 A1 DE 102010035168A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- counter electrode
- openings
- lateral forces
- membrane
- counterelectrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04R—LOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; DEAF-AID SETS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
- H04R19/00—Electrostatic transducers
- H04R19/04—Microphones
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Electrostatic, Electromagnetic, Magneto- Strictive, And Variable-Resistance Transducers (AREA)
- Pressure Sensors (AREA)
Abstract
Description
Die Erfindung umfasst Sensoren für Kondensatormikrofone mit einer beweglichen Membran und einer, der beweglichen Membran gegenüberliegenden, Gegenelektrode. Die auf der Gegenelektrode vorhandenen Schalldurchtrittsöffnungen sind anisotrop angeordnet und vorteilhaft von anisotroper Form und führen zu einer Reduktion der lateralen Kräfte auf der Gegenelektrode und damit zur Erhöhung der Nachgiebigkeit und somit zu einer Steigerung der Unempfindlichkeit der Mikrofone gegenüber dem Körperschall und einer verbesserten Toleranz gegenüber Herstellungsstreuungen.The invention comprises sensors for condenser microphones with a movable diaphragm and a counter electrode opposite the movable diaphragm. The sound passage openings provided on the counterelectrode are arranged anisotropically and advantageously of anisotropic form and lead to a reduction in the lateral forces on the counterelectrode and thus to increase the compliance and thus to increase the insensitivity of the microphones to structure-borne noise and to an improved tolerance to manufacturing variations.
In vielen Produkten der Telekommunikation, Audio- und Videotechnik sowie der Medizintechnik werden Mikrofone eingesetzt.Microphones are used in many telecommunications, audio and video technology and medical technology products.
Eine Fertigungstechnik zur Herstellung der Mikrofone basiert auf der sogenannten MEMS-Technologie (MEMS = Mikro Elektronische Mechanische Systeme). Es sind jedoch auch andere Fertigungstechniken bekannt und anwendbar.A manufacturing technology for the production of the microphones is based on the so-called MEMS technology (MEMS = Micro Electronic Mechanical Systems). However, other manufacturing techniques are known and applicable.
MEMS-Mikrofone enthalten eine schwingungsfähige Membran als auslenkbare Elektrode und eine perforierte Gegenelektrode. Die Auslenkung der Membran wird durch die Differenz der Drücke vor und hinter der Membran bestimmt. Druckänderungen, beispielsweise durch Schallwellen, bewirken eine Änderung des Abstandes zwischen der Membran und der Gegenelektrode, wodurch sich die Kapazität des gebildeten Kondensators ändert, was messtechnisch erfasst werden kann. Grundsätzlich lässt sich das Verfahren auch auf andere kapazitive Messverfahren anwenden, insbesondere bei sogenannten Elektret-Mikrophonen.MEMS microphones contain a vibratable membrane as a deflectable electrode and a perforated counter electrode. The deflection of the membrane is determined by the difference in pressures in front of and behind the membrane. Pressure changes, for example by sound waves, cause a change in the distance between the membrane and the counter electrode, whereby the capacitance of the capacitor formed changes, which can be detected by measurement. In principle, the method can also be applied to other capacitive measuring methods, in particular with so-called electret microphones.
Die Gegenelektrode wird sehr oft durch eine Schichtabscheidung von polykristallinem Silizium (Polysilizium) hergestellt. Diese Schicht sollte eine geringe Zugspannung aufweisen. Ist die Zugspannung zu groß, beeinflussen die dadurch erzeugten Kräfte die aktive Funktion des Mikrofons in unerwünschter und auch unkontrollierter Weise. Eine Streuung der Zugspannung oder auch deren Änderung über der Betriebstemperatur ändern die akustische Empfindlichkeit, weil sich die Zugspannung beziehungsweise die dadurch erzeugten lateralen Kräfte bis in die akustische Membrane fortpflanzen können.The counter electrode is very often produced by a layer deposition of polycrystalline silicon (polysilicon). This layer should have a low tensile stress. If the tension is too great, the forces generated thereby affect the active function of the microphone in an undesired and uncontrolled manner. A scattering of the tensile stress or its change over the operating temperature change the acoustic sensitivity, because the tensile stress or the lateral forces generated thereby can propagate into the acoustic membrane.
Über die Verringerung des störenden Einflusses der lateralen Kräfte hinaus ist es weiterhin von Vorteil, die Nachgiebigkeit beziehungsweise die Resonanzfrequenz der Gegenelektrode und der akustischen Membrane aufeinander abzustimmen. Bei richtiger Dimensionierung führt dies zu einer weitgehenden Unempfindlichkeit gegenüber dem sogenannten Körperschall.In addition to reducing the disturbing influence of the lateral forces, it is also advantageous to match the compliance or the resonance frequency of the counterelectrode and the acoustic diaphragm to one another. With proper dimensioning, this leads to a substantial insensitivity to the so-called structure-borne noise.
Der Körperschall kommt von Bewegungen oder Vibrationen und gibt ein unerwünschtes, störendes Ausgangssignal. Wenn die Gegenelektrode als auch die akustische Membrane bei Körperschall jedoch simultan in der gleichen Größe ausgelenkt werden und sich damit der Abstand nicht ändert, erzeugt diese Bewegung kein störendes Signal. Wird die Nachgiebigkeit der akustischen Membrane und der Gegenelektrode gut aufeinander abgestimmt, so wird eine Signalstörung durch den Körperschall somit weitgehend unterdrückt.The structure-borne sound comes from movements or vibrations and gives an undesirable, disturbing output signal. However, if the counterelectrode and the acoustic membrane are simultaneously deflected in the same size under structure-borne noise and the distance does not change, this movement does not generate a disturbing signal. If the compliance of the acoustic membrane and the counterelectrode is well matched, a signal disturbance due to structure-borne noise is thus largely suppressed.
Schallwellen hingegen bewirken im Wesentlichen lediglich eine Anregung der akustischen Membrane. Dies wird über Schalleintrittsöffnungen in der Gegenelektrode gewährleistet.Sound waves, on the other hand, essentially cause only excitation of the acoustic membrane. This is ensured by sound inlet openings in the counter electrode.
Um die Nachgiebigkeit zu verbessern sind verschiedenste Lösungen offenbart worden. So wird beispielsweise eine weiche Aufhängung der Gegenelektrode durch spezielle Aufhängungselemente am Rande der Gegenelektrode realisiert. Ein Beispiel für eine spezielle Aufhängung der Gegenelektrode mit besonderen Aufhängungselementen an der Peripherie der Gegenelektrode ist in
Für eine Verringerung der Empfindlichkeit gegenüber Körperschall sollten die Zugspannung beziehungsweise die lateralen Kräfte sehr niedrig sein, um die geforderte hohe Nachgiebigkeit der Gegenelektrode zu erreichen. Der Abbau der lateralen Kräfte ist durch spezielle konzentrierte, weiche Aufhängungselemente an der Peripherie der Gegenelektrode oder auch durch eine gefaltete Gegenelektrode mit einer Sicke an der Peripherie möglich. Dies erfordert jedoch eine komplexe Prozessführung, was die Herstellung der Strukturen anbelangt. Sowohl die Sicherstellung einer geringen initialen Zugspannung als auch einer geringen Änderung der Zugspannung über die Dicke der Gegenelektrode ist prozesstechnisch aufwändig. Da der innere Teil der Gegenelektrode als starre Fläche arbeitet, darf die Zugspannung sich senkrecht zu dieser Fläche nicht ändern, weil sich die Fläche sonst ausbeulen würde und sich eine konvexe oder konkave Form einstellen würde.To reduce the sensitivity to structure-borne noise, the tensile stress or the lateral forces should be very low in order to achieve the required high compliance of the counterelectrode. The reduction of the lateral forces is possible by special concentrated, soft suspension elements on the periphery of the counter electrode or by a folded counter electrode with a bead on the periphery. However, this requires complex process control as far as the fabrication of the structures is concerned. Both the assurance of a low initial tensile stress and a slight change in the tensile stress across the thickness of the counter electrode is technically complex. Since the inner part of the counter electrode works as a rigid surface, the tension must not change perpendicular to this surface, because otherwise the surface would bulge and a convex or concave shape would set.
Eine solche Form würde es jedoch unmöglich machen, einen geringen und auch konstanten Abstand zur akustischen Membrane zu realisieren, welcher für ein gutes Mikrofon notwendig ist.However, such a shape would make it impossible to realize a small and constant distance to the acoustic membrane, which is necessary for a good microphone.
Es gibt eine Vielzahl von Publikationen zu Mikrofonen und zur Verbesserung der akustischen Eigenschaften, wie Empfindlichkeit, Rauschen und Frequenzgang. There are a variety of publications on microphones and to improve the acoustic properties, such as sensitivity, noise and frequency response.
Speziell für MEMS-Mikrofone ist eine gute Übersicht zu finden in
Ebenso wird in der angeführten Dissertation explizit eine periodische Anordnung der Schalleintrittsöffnungen dargestellt. Eine solche periodische, isotrope Anordnung ist übernommen worden von nicht miniaturisierten Bautechniken. Bei diesen stand hinreichend viel Raum zur Verfügung, um sehr stabile Rahmen (äquivalent zu Silizium-Substrat (
In
Wohingegen die
Wünschenswert ist es, die Herstellung der Mikrofone weniger empfindlich gegenüber den unvermeidlichen Streuungen im Herstellungsprozess zu gestalten. Da die absolute Streuung der Zugspannung in der Gegenelektrode, die bei der Abscheidung von Materialien, wie polykristallinem Silizium, etwa konstant ist, wird die relative Streuung desto geringer, je höher die initiale Zugspannung in der Schicht sein darf. Jedoch sollte es vermieden werden, dass sich diese hohe initiale Zugspannung in signifikante laterale Kräfte umwandelt, damit diese die Eigenschaften des Mikrofones nicht ungünstig beeinflussen können.It is desirable to make the manufacture of the microphones less sensitive to the inevitable variations in the manufacturing process. Since the absolute scattering of the tensile stress in the counter electrode, which is approximately constant in the deposition of materials such as polycrystalline silicon, the relative scattering, the lower the higher the initial tensile stress in the layer may be. However, it should be avoided that this high initial tension transforms into significant lateral forces so that they can not adversely affect the characteristics of the microphone.
Weiterhin erscheint es günstig, wenn die Nachgiebigkeit der Gegenelektrode durch Strukturen, die sich über die ganze Fläche der Elektrode verteilen, erhöht wird, weil sich dann bei Anregung durch Körperschall die Gegenelektrode gleichförmig zur akustischen Membrane auslenkt, und insofern sich damit eine bessere Auslöschung der Signalstörungen durch den Körperschall ergibt.Furthermore, it appears favorable if the compliance of the counterelectrode is increased by structures which are distributed over the entire surface of the electrode, because then, when excited by structure-borne noise, the counterelectrode deflects uniformly toward the acoustic membrane, and thus a better extinction of the signal interference resulting from the structure-borne noise.
Wünschenswert ist es einen Sensor für Mikrofone bereit zu stellen, der eine erhöhte Nachgiebigkeit der Gegenelektrode aufweist und damit zu einer verbesserten Unempfindlichkeit des Mikrofons gegen Körperschall führt.It is desirable to provide a sensor for microphones, which has an increased flexibility of the counter electrode and thus leads to an improved insensitivity of the microphone against structure-borne noise.
Die Erfindung beschreibt einen Sensor für Kondensatormikrofone umfassend eine bewegliche Membran und eine der beweglichen Membran gegenüber liegende Gegenelektrode. Die auf der Gegenelektrode befindlichen Schalldurchtrittsöffnungen sind anisotrop angeordnet. Bevorzugt weisen auch die Öffnungen eine anisotrope Form auf.The invention describes a sensor for condenser microphones comprising a movable diaphragm and a counter electrode opposite to the movable diaphragm. The on the Counter-electrode located sound passage openings are arranged anisotropically. Preferably, the openings also have an anisotropic shape.
Die Erfindung löst die geschilderten Probleme durch die spezielle anistrope Anordnung und auch vorteilhaft durch die Struktur der Öffnungen der Gegenelektrode. Diese Öffnungen sind prinzipiell notwendig, um den akustischen Schalldruck zu der Membrane zu leiten. Entsprechend dem heutigen Stand der Technik sind diese Öffnungen eine im Wesentlichen isotrope und periodische Anordnung von vielen Kreisen, Fünfecken, Vierecken oder auch Dreiecken, wie im Stand der Technik dargestellt.The invention solves the problems described by the special anistropic arrangement and also advantageously by the structure of the openings of the counter electrode. These openings are in principle necessary to direct the acoustic sound pressure to the membrane. According to the current state of the art, these openings are a substantially isotropic and periodic arrangement of many circles, pentagons, squares or even triangles, as shown in the prior art.
Erfindungsgemäß werden diese Öffnungen nun in nicht-isotropen, d. h. anisotropen Strukturen und vorteilhaft auch Formen realisiert. Diese anisotrope Anordnung und Formen führen dazu, dass sich trotz einer höheren initialen Zugspannung in der abgeschiedenen polykristallinen Silizium-Schicht für die Gegenelektrode nur geringe laterale Kräfte aufbauen können.According to the invention, these openings are now in non-isotropic, d. H. Anisotropic structures and advantageously realized forms. This anisotropic arrangement and shapes mean that only a small lateral forces can build up in the deposited polycrystalline silicon layer for the counterelectrode despite a higher initial tensile stress.
Die anisotrope Anordnung und vorteilhaft auch die anisotrope Formgestaltung der Schalldurchtrittsöffnungen erlauben die Verwendung von Schichten mit höheren initialen Zugspannungen nach der Deposition und dadurch wird die relative Streuung signifikant verringert. Weiterhin wird durch die erfindungsgemäße Anordnung der Einfluss der Änderung der Zugspannung über die Dicke der Schicht, d. h. senkrecht zu Gegenelektrode, ganz wesentlich minimiert.The anisotropic arrangement and advantageously also the anisotropic shape of the sound passage openings allow the use of layers with higher initial tensile stresses after deposition, and thereby the relative scattering is significantly reduced. Furthermore, the arrangement of the invention, the influence of the change in the tensile stress over the thickness of the layer, d. H. perpendicular to the counter electrode, very much minimized.
Ein hierbei zu vermutender Nachteil, durch die unregelmäßige Anordnung und Formen der Öffnungen käme es zu einer Erhöhung der relative Streuung, tritt nicht auf, da die Form und Struktur durch photolithografische Verfahren definiert wird und diese Verfahren der Halbleitertechnik hochgenau sind.A presumable disadvantage hereby that the irregular arrangement and shapes of the openings would lead to an increase in the relative scattering does not occur, since the shape and structure are defined by photolithographic methods and these methods of semiconductor technology are highly accurate.
Weiterhin kann vorteilhaft durch die erfindungsgemäße Anordnung die Prozesskontrolle beim Aufbringen der Schicht für die Gegenelektrode vereinfacht werden oder es kann eine wirtschaftlich kostengünstigere Prozessvariante bzw. Prozessführung gewählt werden.Furthermore, the process control in the application of the layer for the counterelectrode can advantageously be simplified by the arrangement according to the invention, or a process variant that is more cost-effective can be selected.
Die erfindungsgemäße anisotrope Anordnung bedeutet, dass der Abstand einer Schalldurchtrittsöffnung zu mindestens zwei benachbarten Öffnungen in jeweils unterschiedlichen Richtungen (x, y) unterschiedlich ist.The anisotropic arrangement according to the invention means that the distance between a sound passage opening and at least two adjacent openings is different in each case in different directions (x, y).
Praktisch bedeutet die erfindungsgemäße Anordnung gegenüber dem Stand der Technik eine unregelmäßige Anordnung der Perforationen.Practically, the arrangement according to the invention over the prior art means an irregular arrangement of the perforations.
Bevorzugt sind die Formen der Öffnungen ebenfalls anisotrop, d. h. die Öffnungen weisen keine Form als Kreis, Vieleck, Rechteck, Oval auf. Anisotrope Formen zeichnen sich durch ein von 1 deutlich unterschiedliches Verhältnis von Höhe (h) zu Breite (b) der Öffnungen aus, wie in
Bevorzugt sind die Öffnungen in Form von Schlitzen angeordnet, die nicht radial angeordnet sind. Im Stand der Technik, wie beispielsweise
Zum Unterschied wird erfindungsgemäß durch die anisotrope Anordnung der Schalldurchtrittsöffnungen die Stabilität der Gegenelektrode erniedrigt und damit die Nachgiebigkeit erhöht. Deshalb werden, im Sinne des Zieles der vorliegenden Erfindung, die Form und die Anordnung der Schlitz so gewählt, dass sich dadurch in radialer Richtung eine sehr nachgiebige Kraftfortpflanzung ergibt.By contrast, according to the invention by the anisotropic arrangement of Sound passage openings lowered the stability of the counter electrode and thus increases the compliance. Therefore, in the sense of the aim of the present invention, the shape and the arrangement of the slot are chosen such that a very yielding force propagation results in the radial direction.
In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform sind die Öffnungen in einem konzentrischen Muster angeordnet. D. h. die anisotrope Anordnung der Öffnungen umfasst eine ringförmige Anordnung von Öffnungen deren Abstand gleichmäßig ist, der Abstand zum benachbarten Ring von Öffnungen sich aber wiederum vom Abstand zwischen den Öffnungen eines Ringes unterscheidet (s.
Erstaunlicherweise führt diese anisotrope Anordnung der Schalldurchtrittsöffnungen auf der Gegenelektrode dazu, dass die radialen lateralen Kräfte sehr stark reduziert werden, denn nur diese tragen zu der unerwünschten Deformation des Silizium-Substrates auf der Elektrode und zur Definition der Nachgiebigkeit bei. Dies kann durch Berechnungen der lateralen Kräfte bestätigt werden.Surprisingly, this anisotropic arrangement of the sound passage openings on the counterelectrode causes the radial lateral forces to be greatly reduced, because only these contribute to the unwanted deformation of the silicon substrate on the electrode and to the definition of the compliance. This can be confirmed by calculations of the lateral forces.
Die in den Abbildungen skizzierten Aufbauten der Mikrofone bzw. Gegenelektroden dienen der Veranschaulichung der Erfindung.The constructions of the microphones or counterelectrodes sketched in the figures serve to illustrate the invention.
Um den Schalldruck die Möglichkeit zu geben durch die Gegenelektrode (
Die Gegenelektrode (
Die Öffnungen (
Die Größe der Gesamtfläche der Öffnungen auf der Gegenelektrode wird vorzugsweise so gewählt, dass die Gesamtfläche 20 bis 50% der Gesamtfläche der Gegenelektrode ausmacht.The size of the total area of the openings on the counterelectrode is preferably chosen such that the total area accounts for 20 to 50% of the total area of the counterelectrode.
Die Öffnungen (
In
Zur dargestellten Problemlösung und um die lateralen Kräfte auf einen niedrigen Wert zu reduzieren, könnte man das Öffnungsverhältnis der Löcher wesentlich erhöhen, wie es in
Die Erfindung löst die Probleme nun dadurch, dass anisotrope Anordnungen und Formen der Löcher (
Die
Für eine rechteckige Membrane können die als kreisförmig dargestellten Öffnungen zumindest am Rand der Gegenelektrode zu Rechtecken wechseln.For a rectangular membrane, the openings shown as circular can change to rectangles at least at the edge of the counter electrode.
Grundsätzlich ist die Form der einzelnen Öffnungen innerhalb einer Gegenelektrode variierbar, z. B. kann die Länge einer Öffnung bei ansteigendem Radius, also zum Rand der Gegenelektrode hin, länger werden. In den Abbildungen ist jeweils nur das Zentrum der Gegenelektrode skizziert.In principle, the shape of the individual openings can be varied within a counterelectrode, z. For example, the length of an opening with increasing radius, so towards the edge of the counter electrode, become longer. In the figures, only the center of the counter electrode is sketched.
Wird eine noch weitergehende Erhöhung der Nachgiebigkeit gewünscht, so können die Öffnungen (
Mäanderförmige Öffnungen haben den Vorteil, dass bei einem ”Strecken” der Gegenelektrode, was etwa dem nachträglichen Erzeugen einer Spannung bedeutet, die peripheren Stege entlang der radialen Strahlen gespreizt werden, d. h. die peripheren Stege müssen etwas länger werden. Dies ist bei mäanderförmiger Gestaltung mit weniger Kräften verbunden. In der
Es zeigt sich überraschenderweise, dass, obwohl erfindungsgemäß das integrale Öffnungsverhältnis nicht erhöht worden ist, dass entsprechend dem Ziel der Erfindung die lateralen Kräfte speziell in radialer Richtung durch die erfindungsgemäße Anordnung deutlich reduziert werden, um erstens eine Verformung des Rahmens (Silizium-Substrat (
Die erfindungsgemäße Ausbildung der Schalldurchtrittsöffnungen lässt sich somit zur Reduktion der lateralen Kräfte in der Gegenelektrode verwenden sowie damit auch zur Erhöhung der Nachgiebigkeit der Gegenelektrode. Dies führt dazu, dass die Übertragung von Verformungen auf die Membran minimiert werden kann und die Nachgiebigkeit der Gegenelektrode an die Nachgiebigkeit der Membrane angepasst werden kann.The inventive design of the sound passage openings can thus be used to reduce the lateral forces in the counter electrode and thus also to increase the flexibility of the counter electrode. As a result, the transmission of deformations to the membrane can be minimized and the compliance of the counterelectrode can be adapted to the compliance of the membrane.
Der erfindungsgemäße Sensor führt durch seine Anwendung zu einer Verbesserung der Unempfindlichkeit gegenüber Körperschall von Mikrofonen sowie einer verbesserten Toleranz gegenüber Herstellungsstreuungen.The sensor of the invention leads by its application to an improvement in the insensitivity to structure-borne noise of microphones and an improved tolerance to manufacturing variations.
Es wird dadurch möglich, abgeschiedene Schichten, wie zum Beispiel polykristallines Silizium, mit einer höheren initialen Zugspannung zu verwenden. Diese lassen sich kostengünstiger und mit kleinerer relativer Streuung herstellen. Darüber hinaus kann die Nachgiebigkeit der Gegenelektrode soweit erhöht werden, dass sich eine sehr gute Elimination der Störungen durch Körperschall ergibt.It thereby becomes possible to use deposited layers, such as polycrystalline silicon, with a higher initial tensile stress. These can be produced more cost-effectively and with smaller relative scattering. In addition, the flexibility of the counter electrode can be increased so far that results in a very good elimination of the disturbances by structure-borne noise.
Weiterhin hat diese Anordnung keine Abhängigkeit mehr von einer Änderung der Zugspannung senkrecht zur Gegenelektrode, da eventuelle Verformungen aufgrund dieses Spannungsgradienten sich nur lokal über eine Strecke von wenigen μ auswirken. Auch diese Unempfindlichkeit ergibt weitere Möglichkeiten kostengünstige Herstellungsprozesse zu wählen.Furthermore, this arrangement no longer has any dependence on a change in the tensile stress perpendicular to the counterelectrode, since any deformations due to this voltage gradient only have a local effect over a distance of a few μ. This insensitivity also provides further options for choosing cost-effective production processes.
Die Erfindung ist anwendbar sowohl für elektrostatische Mikrofone als auch für sogenannte Elektret-Mikrophone. Der erste Typ von Mikrofonen benötigt eine externe Spannungsquelle zur Aufladung des Kondensator-Spaltes mit einer Ladung wohingegen bei Elektret-Mikrophonen die Ladung permanent in einer isolierenden Folie gespeichert ist.The invention is applicable both to electrostatic microphones and to so-called electret microphones. The first type of microphones requires an external voltage source to charge the capacitor gap with a charge whereas in electret microphones the charge is permanently stored in an insulating foil.
Die Erfindung kann problemlos in viele existierende Herstellungsprozesse integriert werden. Insbesondere bei dem gewählten Beispiel eines MEMS-Mikrofones benötigt diese Erfindung nur die Änderung einer Maske. Darüber hinaus können natürlich auch, aber nicht notwendigerweise, preiswertere Prozesse angewendet werden.The invention can be easily integrated into many existing manufacturing processes. Particularly in the selected example of a MEMS microphone, this invention requires only the modification of a mask. In addition, of course, but not necessarily, cheaper processes can be applied.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.This list of the documents listed by the applicant has been generated automatically and is included solely for the better information of the reader. The list is not part of the German patent or utility model application. The DPMA assumes no liability for any errors or omissions.
Zitierte PatentliteraturCited patent literature
- US 2007/7215527 A1 [0015] US 2007/7215527 A1 [0015]
- WO 2006/061058 A1 [0016] WO 2006/061058 A1 [0016]
- US 20050185812 A1 [0017] US 20050185812 A1 [0017]
- EP 1444864 A1 [0018, 0034] EP 1444864 A1 [0018, 0034]
- DE 10221660 A1 [0019] DE 10221660 A1 [0019]
- US 20050179100 A1 [0019] US 20050179100 A1 [0019]
Zitierte Nicht-PatentliteraturCited non-patent literature
- B. Holz, Advanced Laser Dicing of Sensitive MEMS Devices, SEMICOM Europa 2007, MEMS Forum, Stuttgart 2007 [0009] B. Wood, Advanced Laser Dicing of Sensitive MEMS Devices, SEMICOM Europe 2007, MEMS Forum, Stuttgart 2007 [0009]
- M. Füldner, Modellierung und Herstellung kapazitiver Mikrofone in BiCMOS-Technologie, Dissertation, Technische Fakultät der Universität Erlangen Nürnberg, München 2004 [0013] M. Füldner, Modeling and Production of Capacitive Microphones in BiCMOS Technology, Dissertation, Faculty of Engineering, University of Erlangen Nuremberg, Munich 2004 [0013]
Claims (8)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE201010035168 DE102010035168A1 (en) | 2010-08-23 | 2010-08-23 | Sensor for microelectromechanical system capacitor microphone used in e.g. medical field, has sound passage openings arranged anisotropically on counter electrode such that reduction of lateral forces on counter electrode is achieved |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE201010035168 DE102010035168A1 (en) | 2010-08-23 | 2010-08-23 | Sensor for microelectromechanical system capacitor microphone used in e.g. medical field, has sound passage openings arranged anisotropically on counter electrode such that reduction of lateral forces on counter electrode is achieved |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102010035168A1 true DE102010035168A1 (en) | 2012-02-23 |
Family
ID=45557298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE201010035168 Withdrawn DE102010035168A1 (en) | 2010-08-23 | 2010-08-23 | Sensor for microelectromechanical system capacitor microphone used in e.g. medical field, has sound passage openings arranged anisotropically on counter electrode such that reduction of lateral forces on counter electrode is achieved |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102010035168A1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9820059B2 (en) | 2013-05-29 | 2017-11-14 | Robert Bosch Gmbh | Mesh in mesh backplate for micromechanical microphone |
EP3962113A1 (en) * | 2020-08-31 | 2022-03-02 | InvenSense, Inc. | Edge patterns of microelectromechanical systems (mems) microphone backplate holes |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10221660A1 (en) | 2002-05-15 | 2003-11-27 | Infineon Technologies Ag | Micromechanical capacitive converter, e.g. silicon microphone, has carrying layer and conductive flat element perforated by openings of width approximately corresponding to carrying layer thickness |
EP1444864A1 (en) | 2001-12-11 | 2004-08-11 | Infineon Technologies AG | Micro-mechanical sensors and method for production thereof |
US20050179100A1 (en) | 2002-05-15 | 2005-08-18 | Infineon Technologies Ag | Micromechanical capacitive transducer and method for producing the same |
US20050185812A1 (en) | 2000-11-28 | 2005-08-25 | Knowles Electronics, Llc | Miniature silicon condenser microphone and method for producing the same |
WO2006061058A1 (en) | 2004-12-06 | 2006-06-15 | Austriamicrosystems Ag | Mems microphone and method for producing said microphone |
US20070215527A1 (en) | 2006-03-14 | 2007-09-20 | Ceramic Technology, Inc. | Adjustable coal screening apparatus |
-
2010
- 2010-08-23 DE DE201010035168 patent/DE102010035168A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050185812A1 (en) | 2000-11-28 | 2005-08-25 | Knowles Electronics, Llc | Miniature silicon condenser microphone and method for producing the same |
EP1444864A1 (en) | 2001-12-11 | 2004-08-11 | Infineon Technologies AG | Micro-mechanical sensors and method for production thereof |
DE10221660A1 (en) | 2002-05-15 | 2003-11-27 | Infineon Technologies Ag | Micromechanical capacitive converter, e.g. silicon microphone, has carrying layer and conductive flat element perforated by openings of width approximately corresponding to carrying layer thickness |
US20050179100A1 (en) | 2002-05-15 | 2005-08-18 | Infineon Technologies Ag | Micromechanical capacitive transducer and method for producing the same |
WO2006061058A1 (en) | 2004-12-06 | 2006-06-15 | Austriamicrosystems Ag | Mems microphone and method for producing said microphone |
US20070215527A1 (en) | 2006-03-14 | 2007-09-20 | Ceramic Technology, Inc. | Adjustable coal screening apparatus |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
B. Holz, Advanced Laser Dicing of Sensitive MEMS Devices, SEMICOM Europa 2007, MEMS Forum, Stuttgart 2007 |
M. Füldner, Modellierung und Herstellung kapazitiver Mikrofone in BiCMOS-Technologie, Dissertation, Technische Fakultät der Universität Erlangen Nürnberg, München 2004 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9820059B2 (en) | 2013-05-29 | 2017-11-14 | Robert Bosch Gmbh | Mesh in mesh backplate for micromechanical microphone |
EP3962113A1 (en) * | 2020-08-31 | 2022-03-02 | InvenSense, Inc. | Edge patterns of microelectromechanical systems (mems) microphone backplate holes |
US11490186B2 (en) | 2020-08-31 | 2022-11-01 | Invensense, Inc. | Edge patterns of microelectromechanical systems (MEMS) microphone backplate holes |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1444864B1 (en) | Micro-mechanical sensors and method for production thereof | |
DE102017212613A1 (en) | MEMS device and method of manufacturing a MEMS device | |
DE60118208T2 (en) | WIDE BAND MINIATURE CONVERTER | |
DE102013203180B4 (en) | Adjustable ventilation openings in MEMS structures | |
DE102015108918A1 (en) | System and method for a microphone | |
DE69823679T2 (en) | MINIATURIZED SEMICONDUCTOR CAPACITOR MICROPHONE | |
DE102012107457B4 (en) | MEMS device with membrane and method of manufacture | |
DE102015103311B4 (en) | Sound transducer structure with single diaphragm | |
DE102013211943A1 (en) | Microelectromechanical system (MEMS) structure e.g. pressure sensor used in MEMS device, has adjustable ventilation opening that is passively actuated as function of pressure difference between preset space and predetermined space | |
DE102018203029A1 (en) | Capacitive MEMS device, capacitive MEMS transducer, method for forming a capacitive MEMS device and method for operating a capacitive MEMS device | |
DE10247487A1 (en) | Membrane and process for its manufacture | |
DE102012200957A1 (en) | Component with a micromechanical microphone structure | |
DE102006004287A1 (en) | Micro mechanical structure used in microphones has rings of flexible electrode segments | |
DE102012212112A1 (en) | Component with a micromechanical microphone structure | |
DE112017003453B4 (en) | MEMS structure, capacitive sensor, piezoelectric sensor, acoustic sensor with MEMS structure | |
DE112016000099T5 (en) | Capacitive transmitter and acoustic sensor | |
WO2008141785A1 (en) | Electro-acoustic sound transducer, receiver and microphone | |
DE102020108433B4 (en) | Device with a membrane and method of manufacture | |
DE102013212173B4 (en) | MEMS device with a deflectable membrane and a fixed counter element and method for its preparation | |
DE102005023699B4 (en) | Method for producing a micromechanical component with a membrane | |
DE102017200108A1 (en) | Micromechanical sound transducer arrangement and a corresponding manufacturing method | |
DE102012215251A1 (en) | Micro-electro-mechanical systems component e.g. valve component, has anchorage structure setting counter-element under tensile stress so that deflections of counter-element counteract perpendicular to layer planes | |
DE102010035168A1 (en) | Sensor for microelectromechanical system capacitor microphone used in e.g. medical field, has sound passage openings arranged anisotropically on counter electrode such that reduction of lateral forces on counter electrode is achieved | |
EP3504152B1 (en) | Micromechanical component comprising two membranes and method for producing a micromechanical component with two membranes | |
DE102006022378A1 (en) | Method for producing a micromechanical component and micromechanical component |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R084 | Declaration of willingness to licence |
Effective date: 20120719 |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |