DE102010031215B3 - Charge coupled device camera calibrating method, involves determining respective output signals of camera for different intensities of micro-optical element, where linearity characteristic of camera is determined from output signals - Google Patents
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Abstract
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Anordnung zur Kalibrierung einer CCD-Kamera.The invention relates to a method and an arrangement for calibrating a CCD camera.
Insbesondere betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Kalibrierung einer CCD-Kamera für den Einsatz bei Wellenlängen unterhalb von 250 nm, wie sie z. B. in der Mikrolithographie verwendet werden.In particular, the invention relates to a method for calibrating a CCD camera for use at wavelengths below 250 nm, as z. B. be used in microlithography.
Die Verwendung einer CCD-Kamera zur Kalibration eines optischen Elements ist aus der
Die generelle Kalibration von Strahlungsdetektoren ist in der
Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise oder LCD's, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird in einer sogenannten Projektionsbelichtungsanlage durchgeführt, welche eine Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv aufweist. Das Bild einer mittels der Beleuchtungseinrichtung beleuchteten Maske (= Retikel) wird hierbei mittels des Projektionsobjektivs auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionsobjektivs angeordnetes Substrat (z. B. ein Siliziumwafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.Microlithography is used to fabricate microstructured devices such as integrated circuits or LCDs. The microlithography process is carried out in a so-called projection exposure apparatus which has an illumination device and a projection objective. The image of a mask (= reticle) illuminated by means of the illumination device is hereby projected onto a substrate (eg a silicon wafer) coated with a photosensitive layer (photoresist) and arranged in the image plane of the projection objective in order to place the mask structure onto the mask transfer photosensitive coating of the substrate.
In der Praxis besteht häufig ein Bedarf, die mittels mikrooptischer Elemente (z. B. eines diffraktiven optischen Elementes, kurz: DOE) erzeugte Fernfeldwinkelverteilung, welche z. B. in der Mikrolithographie zur Einstellung gewünschter Beleuchtungssettings in der Pupillenebene der Beleuchtungseinrichtung dient, mit möglichst hoher Genauigkeit zu vermessen.In practice, there is frequently a need for the far field angle distribution generated by means of microoptical elements (eg a diffractive optical element, in short: DOE), which z. B. in the microlithography for setting desired illumination settings in the pupil plane of the illumination device is used to measure with the highest possible accuracy.
In
Hierbei tritt jedoch das Problem auf, dass die Genauigkeit der mittels der CCD-Kamera
Eine lediglich beispielhafte Charakteristik einer CCD-Kamera ist schematisch in
Für eine Kalibrierung hinsichtlich des Linearitätsfehlers ist es grundsätzlich möglich, Filter unterschiedlicher Intensitätsabschwächungen einzusetzen, um anhand der erhaltenen Kalibrierungs-Messdaten jeweils eine Korrektur der im Prüfstand durchgeführten Messungen durchzuführen. Hierbei tritt jedoch im DUV-Bereich wie z. B. bei Wellenlängen von 248 nm oder 193 nm das Problem auf, dass verfügbare Abschwächungsfilter bei derart niedrigen Wellenlängen extrem abhängig von den Umweltbedingungen sind, wobei zudem die Filtereigenschaften sich auch unter DUV-Bestrahlung im laufenden Betrieb noch verändern können.For a calibration with regard to the linearity error, it is fundamentally possible to use filters of different intensity attenuation in order in each case to carry out a correction of the measurements carried out in the test bench on the basis of the calibration measurement data obtained. However, this occurs in the DUV area such. At wavelengths of 248 nm or 193 nm, for example, the problem is that available attenuation filters at such low wavelengths are extremely dependent on environmental conditions, and, in addition, the filter characteristics may still change under DUV irradiation during operation.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren sowie eine Anordnung zur Kalibrierung einer CCD-Kamera bereitzustellen, welche eine zuverlässige Kalibrierung auch bei Wellenlängen unterhalb von 250 nm ermöglichen.The object of the present invention is to provide a method and an arrangement for calibrating a CCD camera, which enable a reliable calibration even at wavelengths below 250 nm.
Diese Aufgabe wird durch das Verfahren gemäß den Merkmalen des unabhängigen Patentanspruchs 1 sowie die Anordnung gemäß den Merkmalen des nebengeordneten Patentanspruchs 10 gelöst.This object is achieved by the method according to the features of the
Ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Kalibrierung einer CCD-Kamera, wobei die CCD-Kamera im Fernfeld eines von einer Lichtquelle bestrahlten mikrooptischen Elementes zur Erzeugung einer winkelabhängigen Intensitätsverteilung angeordnet wird, weist folgende Schritte auf:
- – Bestrahlen des mikrooptischen Elementes mit wenigstens zwei unterschiedlichen Intensitäten;
- – Ermitteln der jeweiligen Ausgangssignale der CCD-Kamera für diese unterschiedlichen Intensitäten; und
- – Bestimmen einer Linearitätscharakteristik der CCD-Kamera aus diesen Ausgangssignalen.
- - irradiating the micro-optical element with at least two different intensities;
- - Determining the respective output signals of the CCD camera for these different intensities; and
- - Determining a linearity characteristic of the CCD camera from these output signals.
Der Erfindung liegt insbesondere das Konzept zugrunde, bei der Kalibrierung einer CCD-Kamera deren Linearitätscharakteristik dadurch zu ermitteln, dass zur Erzeugung einer Variation der Intensitätsverteilung, mit der die CCD-Kamera bei der Kalibrierung bestrahlt wird, die durch ein mikrooptisches Element bereitgestellte örtliche Variation der Lichtintensität genutzt wird, wobei dieses mikrooptisches Element seinerseits mit wenigstens zwei unterschiedlichen Intensitäten bestrahlt wird, um Aufschluss über die Linearitätscharakteristik zu erhalten.The invention is based in particular on the concept, in the calibration of a CCD camera, of determining its linearity characteristic in that, in order to produce a variation of the intensity distribution with which the CCD camera is irradiated during the calibration, the local variation of the CCD provided by a microoptical element Light intensity is used, this micro-optical element in turn is irradiated with at least two different intensities to obtain information about the linearity characteristic.
Als mikrooptisches Element kann z. B. ein diffraktives optisches Element (DOE), ein refraktives optisches Element (ROE) oder ein computergeneriertes Hologramm (CGH) verwendet werden. Die durch ein solches mikrooptisches Element bereitgestellte örtliche Variation der Lichtintensität hat gegenüber eine (grundsätzlich ebenfalls nutzbaren) zeitlichen Variation der Intensität den Vorteil, dass geringere Anforderungen an die zeitliche Konstanz der Lichtquelle gestellt sind.As a micro-optical element z. As a diffractive optical element (DOE), a refractive optical element (ROE) or a computer-generated hologram (CGH) can be used. The local variation of the light intensity provided by such a microoptical element has the advantage over a temporal variation of the intensity (basically likewise usable) that lower demands are placed on the temporal constancy of the light source.
Gemäß einer Ausführungsform besitzt die winkelabhängige Intensitätsverteilung einen im Wesentlichen kontinuierlichen, insbesondere rampenförmigen Verlauf. Dies hat etwa im Vergleich zur Verwendung einer diskreten Intensitätsverteilung (mit nur zwei oder mehreren diskreten Intensitätswerten) den Vorteil, dass auch die bei der erfindungsgemäßen Kalibrierung ermittelt Linearitätscharakteristik kontinuierlich (und nicht nur an verschiedenen diskreten Intensitätswerten) vorliegt.According to one embodiment, the angle-dependent intensity distribution has a substantially continuous, in particular ramp-shaped course. This has the advantage, for example, in comparison with the use of a discrete intensity distribution (with only two or more discrete intensity values), that the linearity characteristic determined during the calibration according to the invention is also continuous (and not only at different discrete intensity values).
Gemäß einer Ausführungsform weist das Licht der Lichtquelle eine Wellenlänge von weniger als 250 nm, insbesondere weniger als 200 nm, auf.According to one embodiment, the light of the light source has a wavelength of less than 250 nm, in particular less than 200 nm.
Gemäß einer Ausführungsform erfolgt der Schritt des Bestrahlens des mikrooptischen Elementes mit wenigstens zwei unterschiedlichen Intensitäten unter Verwendung von Filtern mit unterschiedlichem Transmissionsgrad.According to one embodiment, the step of irradiating the micro-optical element with at least two different intensities is performed using filters of different transmittance.
Gemäß einer Ausführungsform umfasst der Schritt des Bestrahlens des mikrooptischen Elementes mit wenigstens zwei unterschiedlichen Intensitäten ein Ansteuern der Lichtquelle zur Erzeugung unterschiedlicher Lichtintensitäten.According to one embodiment, the step of irradiating the microoptical element with at least two different intensities comprises activating the light source to generate different light intensities.
Gemäß einer Ausführungsform werden die vorstehend beschriebenen Kalibrierungsschritte für voneinander verschiedene Bestrahlungspositionen der CCD-Kamera durchgeführt. Hierzu kann insbesondere das mikrooptische Element gedreht werden.According to one embodiment, the above-described calibration steps are performed for mutually different irradiation positions of the CCD camera. For this purpose, in particular the micro-optical element can be rotated.
Die Erfindung betrifft ferner eine Anordnung zur Kalibrierung einer CCD-Kamera, welche dazu ausgelegt ist, ein Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche auszuführen. Zu weiteren Ausgestaltungen sowie Vorteilen wird auf die vorstehenden Ausführungen im Zusammenhang mit dem erfindungsgemäßen Verfahren Bezug genommen.The invention further relates to an arrangement for calibrating a CCD camera, which is designed to carry out a method according to one of the preceding claims. For further embodiments and advantages, reference is made to the above statements in connection with the method according to the invention.
Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind der Beschreibung sowie den Unteransprüchen zu entnehmen.Further embodiments of the invention are described in the description and the dependent claims.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von in den beigefügten Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert.The invention will be explained in more detail with reference to embodiments shown in the accompanying drawings.
Es zeigen:Show it:
Bei einem erfindungsgemäßen Verfahren wird gemäß
Sodann werden wenigstens zwei unterschiedlichen Abschwächungen dieser Intensitätsverteilung erzeugt, was im Ausführungsbeispiel durch Anordnen unterschiedlich stark abschwächender Filter
Mittels der CCD-Kamera
Bereits eine grobe Betrachtung zeigt, dass die Kurven „A”, „B” und „C” im Wesentlichen den gleichen Verlauf besitzen, was bedeutet, dass die CCD-Kamera
Aus der gemessenen Kurvenschar der Kurven „A”–„E” kann nun z. B. numerisch der Linearitätsverlauf der CCD-Kamera berechnet und entsprechend kalibriert werden. Dies kann wie im Folgenden skizziert z. B. durch Berechnung der Koeffizienten b_i eines „Linearitätspolynoms” erfolgen.From the measured set of curves of the curves "A" - "E" can now z. B. calculated numerically the linearity of the CCD camera and calibrated accordingly. This can be sketched as below. B. by calculating the coefficients b_i a "linearity polynomial" done.
Im Weiteren wird mit I_DOE(x, y) die Fernfeldverteilung des mikrooptischen Elementes
Dann gilt für die Intensitätsverteilung des auf die CCD-Kamera
Die Linearität der CCD-Kamera kann nach einem Polynom mit Koeffizienten b_i entwickelt und wie folgt geschrieben werden:
I_out(x, y) entspricht hierbei dem von der CCD-Kamera gemessenen Detektorsignal, welches z. B. einem die numerische Berechnung durchführenden Rechner in Form der (mit unterschiedlicher Abschwächung der durch das mikrooptische Element erzeugten Intensitätsverteilung gemessenen) Messkurven zugeführt wird. Weitere Eingabegrößen sind sowohl die nominellen Abschwächungen a_i (der jeweiligen Filter
Als Ergebnis der numerischen Berechnung werden die bestpassenden Werte für die Parameter b_0, b_1, b_2,... (und damit die Linearität der CCD-Kamera) als auch für die Abschwächungen a_i und die Parameter c1, c2 erhalten. Im Falle einer CCD-Kamera mit perfekt linearem Verhalten sind die Parameter b_2, b_3,... gleich Null, bei einer CCD-Kamera ohne Offset (oder „Dunkelstrom”) ist auch der Parameter b_0 gleich Null.As a result of the numerical calculation, the best matching values for the parameters b_0, b_1, b_2, ... (and thus the linearity of the CCD camera) as well as for the attenuations a_i and the parameters c1, c2 are obtained. In the case of a CCD camera with perfectly linear behavior, the parameters b_2, b_3,... Are equal to zero; for a CCD camera without offset (or "dark current"), the parameter b_0 is also equal to zero.
In einem einfachen Rechenbeispiel kann etwa für eine CCD-Kamera
Vorzugsweise wird das vorstehend beschriebene Kalibrierverfahren an verschiedenen Stellen bzw. Bestrahlungspositionen der CCD-Kamera
Wenn die Erfindung auch anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben wurde, erschließen sich für den Fachmann zahlreiche Variationen und alternative Ausführungsformen, z. B. durch Kombination und/oder Austausch von Merkmalen einzelner Ausführungsformen. Dementsprechend versteht es sich für den Fachmann, dass derartige Variationen und alternative Ausführungsformen von der vorliegenden Erfindung mit umfasst sind, und die Reichweite der Erfindung nur im Sinne der beigefügten Patentansprüche und deren Äquivalente beschränkt ist.While the invention has been described with reference to specific embodiments, numerous variations and alternative embodiments will become apparent to those skilled in the art. B. by combination and / or exchange of features of individual embodiments. Accordingly, it will be understood by those skilled in the art that such variations and alternative embodiments are intended to be embraced by the present invention, and the scope of the invention is limited only in terms of the appended claims and their equivalents.
Claims (10)
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- 2010-07-12 DE DE201010031215 patent/DE102010031215B3/en not_active Withdrawn - After Issue
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