DE102010006879A1 - Contacting a photovoltaic module, comprises providing a layer arrangement from a light-sensitive layer for generating a charge during falling light on the light-sensitive layer and a conductive layer arranged on the light-sensitive layer - Google Patents
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Abstract
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Kontaktierung eines Fotovoltaikmoduls, bei dem eine metallische Schicht, an der bei einem Lichteinfall auf das Fotovoltaikmodul ein Spannungspotential abgegriffen werden kann, mit einem Leiter kontaktiert wird. Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Fotovoltaikmodul, an dem ein Leiter zum Abgreifen einer Spannung vorgesehen ist.The invention relates to a method for contacting a photovoltaic module, in which a metallic layer, at which a voltage potential can be tapped at a light incident on the photovoltaic module, is contacted with a conductor. Furthermore, the invention relates to a photovoltaic module, on which a conductor for tapping a voltage is provided.
Ein Fotovoltaikmodul umfasst eine lichtempfindliche Schicht, in der beim Einfall von Licht freie Ladungsträger erzeugt werden. Die lichtempfindliche Schicht ist zwischen leitfähigen Schichten angeordnet, zwischen denen eine Spannung entsteht. Die Schichtstruktur aus der lichtempfindlichen Schicht und den leitfähigen Schichten ist auf einem Trägersubstrat, das beispielsweise eine Glasscheibe sein kann, angeordnet. Eine der leitfähigen Schichten kann als untere Schicht der Schichtstruktur beziehungsweise als Vorderseitenkontakt unmittelbar auf dem Trägersubstrat angeordnet sein. Die andere obere leitfähige Schicht kann als Rückseitenkontakt auf der lichtempfindlichen Schicht angeordnet sein. Zur Kontaktierung der oberen leitfähigen Schicht wird ein elektrischer Leiter mit der oberen leitfähigen Schicht verbunden. Der Leiter kann beispielsweise bandförmig ausgebildet sein und beidseitig mit einem Lotmaterial beschichtet sein.A photovoltaic module comprises a photosensitive layer in which charge carriers are generated when light is incident. The photosensitive layer is disposed between conductive layers between which a voltage is generated. The layer structure of the photosensitive layer and the conductive layers is arranged on a carrier substrate, which may be a glass pane, for example. One of the conductive layers may be arranged as a lower layer of the layer structure or as a front-side contact directly on the carrier substrate. The other upper conductive layer may be disposed as a backside contact on the photosensitive layer. For contacting the upper conductive layer, an electrical conductor is connected to the upper conductive layer. The conductor may for example be band-shaped and coated on both sides with a solder material.
Zum Verlöten des Leiters mit der oberen leitfähigen Schicht wird der Leiter mit der mit dem Lotmaterial beschichteten Seite zunächst auf die obere leitfähige Schicht aufgelegt. Zum Erhitzen des Lotmaterials wird ein temperaturgeregeltes Werkzeug, beispielsweise eine Thermode, mit einer erhitzten Kontaktfläche auf die obere leitfähige Schicht angedrückt. Durch das Andrücken der erhitzten Thermode auf den bandförmigen Leiter schmilzt das an dem Leiter unterseitig angeordnete Lotmaterial. Das geschmolzene Lotmaterial wird nachfolgend abgekühlt und erstarrt. Nach der Kühlphase ist der Leiter mit der leitfähigen Schicht des Fotovoltaikmoduls verbunden.For soldering the conductor to the upper conductive layer, the conductor with the side coated with the solder material is first placed on top of the upper conductive layer. For heating the solder material, a temperature-controlled tool, for example a thermode, with a heated contact surface is pressed onto the upper conductive layer. By pressing the heated thermode onto the band-shaped conductor, the solder material arranged on the underside of the conductor melts. The molten solder material is subsequently cooled and solidified. After the cooling phase, the conductor is connected to the conductive layer of the photovoltaic module.
Bei Verwendung eines beidseitig mit Lotmaterial beschichteten Leiters steht die Thermodenfläche während des Schmelzvorgangs in einem direkten Kontakt mit dem Lotmaterial des beschichteten Leiters. Nach dem Aufschmelzen der Lotschicht sinkt die Thermode in die Lotschicht ein. Dies führt dazu, dass die Thermode mit Lotmaterial verunreinigt wird. Da die Thermode mit zunehmender Anzahl von Lötungen immer mehr verschmutzt wird, ändern sich die Prozessparameter für nachfolgende Lötungen, so dass der gesamte Lötprozess über einen längeren Zeitraum hinweg inhomogen wird, wodurch sich die Qualität der Verlötung mit zunehmender Anzahl an Lötungen verschlechtert.When using a conductor coated on both sides with solder material, the thermode surface is in direct contact with the solder material of the coated conductor during the melting process. After the melting of the solder layer, the thermode sinks into the solder layer. This causes the thermode to be contaminated with solder material. As the thermode becomes more and more contaminated as the number of solders increases, the process parameters for subsequent solders change, so that the entire brazing process becomes inhomogeneous over an extended period of time, thereby degrading the quality of soldering as the number of solders increases.
Beim Lötvorgang wird eine kleine Kontaktfläche der erhitzten Thermode an einer Stelle, an der die Verlötung zwischen dem bandförmigen Leiter und der leitfähigen Schicht hergestellt werden soll, auf den bandförmigen Leiter gedrückt. Sowohl der Leiter als auch das mit der Schichtstruktur beschichtete Trägersubstrat befinden sich beim Kontakt der Thermode mit dem Leiter auf Raumtemperatur. Aufgrund des hohen Temperaturunterschiedes während des Lötprozesses zwischen der Schichtanordnung aus der Schichtstruktur und dem Trägersubstrat einerseits und der erhitzten Lötkomponenten, beispielsweise der erhitzten Thermodenfläche, andererseits entsteht im Material der Schichtanordnung in einem Bereich, der sich unter der Thermodenfläche befindet, ein großer Temperaturstress.In the soldering operation, a small contact area of the heated thermode is pressed onto the band-shaped conductor at a position where the soldering between the band-shaped conductor and the conductive layer is to be produced. Both the conductor and the support structure coated with the layer structure are at room temperature when the thermode contacts the conductor. Due to the high temperature difference during the soldering process between the layer arrangement of the layer structure and the carrier substrate on the one hand and the heated soldering components, such as the heated thermode surface, on the other hand arises in the material of the layer assembly in a region which is located below the thermode surface, a large temperature stress.
Der Temperaturstress führt dazu, dass die zur Ladungsträgererzeugung beitragenden elektrisch aktiven Schichten der Schichtanordnung delaminieren beziehungsweise aufbrechen können. Des Weiteren können die leitfähigen Schichten teilweise aufschmelzen, so dass die beiden leitfähigen Schichten durch einen ohmschen Kontakt miteinander verbunden sind. Infolge der Delamination der Schichten oder infolge des sich zwischen den leitfähigen Schichten ausbildenden ohmschen Kontaktes, ist allerdings die aus dieser Schichtstruktur gebildete Fotozelle zerstört, sodass zwischen den leitfähigen Schichten trotz Lichteinfalls auf die lichtempfindliche Schicht keine Spannung mehr erzeugt wird. Diejenige Stelle eines Fotovoltaikmoduls, an der der Lötvorgang stattfindet, kann daher in den meisten Fällen elektrisch nicht mehr genutzt werden. Im Allgemeinen ist ein Bereich der Schichtanordung aus Trägersubstrat und der darauf angeordneten Schichtstruktur betroffen, der sich in Projektion unter der Kontaktfläche der Thermode befindet.The temperature stress leads to the fact that the electrically active layers of the layer arrangement which contribute to the generation of the charge carriers can delaminate or break up. Furthermore, the conductive layers may partially melt, so that the two conductive layers are connected to each other by an ohmic contact. Due to the delamination of the layers or as a result of the ohmic contact forming between the conductive layers, however, the photocell formed from this layer structure is destroyed, so that no voltage is generated between the conductive layers despite the incident light on the photosensitive layer. The location of a photovoltaic module, at which the soldering takes place, therefore can not be used electrically in most cases. In general, an area of the layer arrangement of the carrier substrate and the layer structure arranged thereon which is projected below the contact surface of the thermode is concerned.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zur Kontaktierung eines Fotovoltaikmoduls anzugeben, bei dem eine leitfähige Schicht des Moduls, an der aufgrund des fotovoltaischen Effekts in einer lichtempfindlichen Schicht des Moduls ein Spannungspotential erzeugt wird, mit einem Leiter kontaktiert wird, wobei eine Zerstörung einer Fotozelle, die aus der lichtempfindlichen Schicht und der leitfähigen Schicht gebildet wird, weitestgehend vermieden werden kann.The object of the present invention is to specify a method for contacting a photovoltaic module, in which a conductive layer of the module, on which a voltage potential is generated in a photosensitive layer of the module due to the photovoltaic effect, is contacted with a conductor, whereby destruction a photocell, which is formed from the photosensitive layer and the conductive layer, can be largely avoided.
Eine Ausführungsform eines Verfahrens zur Kontaktierung eines Fotovoltaikmoduls umfasst das Bereitstellen einer Schichtanordnung aus einer lichtempfindlichen Schicht zum Erzeugen einer Ladung beim Einfall von Licht auf die lichtempfindliche Schicht und einer auf der lichtempfindlichen Schicht angeordneten leitfähigen Schicht zum Abgreifen einer Spannung. Des Weiteren werden ein Leiter zur Kontaktierung der leitfähigen Schicht und ein Lotmaterial zum Verlöten des Leiters auf der leitfähigen Schicht bereitgestellt. Der Leiter und das Lotmaterial werden auf der Schichtanordnung derart angeordnet, dass zwischen der leitfähigen Schicht und dem Leiter das Lotmaterial vorgesehen ist. Ein temperaturgeregeltes Werkzeug wird auf dem Leiter zum Erhitzen des Leiters angeordnet, wobei das temperaturgeregelte Werkzeug auf eine Temperatur, die zwischen 150°C und 190°C über der Schmelztemperatur des Lotmaterials liegt, erwärmt wird. Dadurch schmilzt das Lotmaterial. Das Lotmaterial wird abgekühlt und erstarrt, wodurch der Leiter mit der leitfähigen Schicht verbunden wird.An embodiment of a method for contacting a photovoltaic module comprises providing a layer arrangement of a photosensitive layer for generating a charge upon the incidence of light on the photosensitive layer and a conductive layer arranged on the photosensitive layer for picking up a voltage. Furthermore, a conductor for contacting the conductive layer and a solder material for soldering the conductor on the conductive Layer provided. The conductor and the solder material are arranged on the layer arrangement such that the solder material is provided between the conductive layer and the conductor. A temperature controlled tool is placed on the conductor to heat the conductor, the temperature controlled tool being heated to a temperature between 150 ° C and 190 ° C above the melting temperature of the solder material. This melts the solder material. The solder material is cooled and solidified, thereby connecting the conductor to the conductive layer.
Die Wärme zum Erhitzen der leitfähigen Schicht und des Leiters kann von einem temperaturgeregelten Werkzeug, beispielsweise einer Thermode, erzeugt werden, die mit ihrer erhitzen Kontaktfläche auf den Leiter angedrückt wird. Das temperaturgeregelte Werkzeug kann für eine Zeitdauer zwischen 500 ms und 700 ms auf den Leiter aufgedrückt werden. Die Andruckkraft kann zwischen 10 N und 40 N betragen. Insbesondere, wenn beispielsweise ein Lotmaterial verwendet wird, das Zinn oder Silber enthält und beispielsweise eine Schmelztemperatur von zirka 221°C aufweist, kann die Kontaktfläche des temperaturgeregelten Werkzeugs, die mit dem Leiter während des Andrückens in Kontakt steht auf eine Temperatur zwischen 370°C und 410°C, insbesondere auf eine Temperatur von 390°C erwärmt werden.The heat for heating the conductive layer and the conductor can be generated by a temperature controlled tool, such as a thermode, which is pressed with its heated contact surface on the conductor. The temperature-controlled tool can be pressed onto the conductor for a period between 500 ms and 700 ms. The pressure force can be between 10 N and 40 N. In particular, if, for example, a solder material is used which contains tin or silver and for example has a melting temperature of about 221 ° C, the contact surface of the temperature-controlled tool, which is in contact with the conductor during pressing to a temperature between 370 ° C and 410 ° C, in particular to a temperature of 390 ° C are heated.
Durch die kurze Zeit, während der die erhitzte Thermodenfläche auf dem Leiter aufliegt, breitet sich die Wärme ausgehend von der Thermodenfläche nahezu ausschließlich in dem Leiter, dem Lotmaterial und der darunter angeordneten leitfähigen Schicht aus. Insbesondere werden die unter der leitfähigen Schicht angeordnete lichtempfindliche Schicht und die darunter liegende leitfähige Schicht nur noch geringfügig oder sogar überhaupt nicht mehr erhitzt. Die Wärme verteilt sich lediglich in einem kleinen Bereich, der von der Kontaktfläche der Thermode, der Temperatur der Thermode, der Kontaktzeit, während der die Thermode mit dem Leiter in Kontakt gebracht wird, und der Andruckkraft, mit der die erhitzte Thermodenfläche auf den Leiter angedrückt wird, abhängig ist.Due to the short time during which the heated thermode surface rests on the conductor, the heat from the thermode surface spreads almost exclusively in the conductor, the solder material and the conductive layer disposed therebelow. In particular, the photosensitive layer disposed under the conductive layer and the underlying conductive layer are only slightly or even no longer heated. The heat is distributed only in a small area, which depends on the contact area of the thermode, the temperature of the thermode, the contact time during which the thermode is brought into contact with the conductor, and the pressing force with which the heated thermode surface is pressed onto the conductor will, is dependent.
Somit wird der Temperaturstress, dem der Leiter und die Schichtanordnung ausgesetzt sind, geringer, wodurch eine Delamination beziehungsweise ein Aufbrechen der Schichtanordnung während des Lötvorgangs weitestgehend vermieden werden kann. Dadurch können diejenigen Bereiche der lichtempfindlichen Schicht, die in Projektion unter der Kontaktfläche der Thermode und somit unter der Fläche des Leiters liegen, zur Spannungserzeugung verwendet werden. Insbesondere kann der Bereich der lichtempfindlichen Schicht zur Ladungsträgererzeugung bei Lichteinfall verwendet werden, der unter einer Fläche der leitfähigen Schicht liegt, an der der Leiter mit der leitfähigen Schicht verbunden ist.Thus, the temperature stress to which the conductor and the layer arrangement are exposed, lower, whereby a delamination or a breakage of the layer assembly during the soldering process can be largely avoided. Thereby, those areas of the photosensitive layer which are projected below the contact surface of the thermode and thus below the surface of the conductor can be used for voltage generation. In particular, the region of the photosensitive layer may be used to generate the charge when the light is incident, which lies under a surface of the conductive layer to which the conductor is connected to the conductive layer.
Bei einem Fotovoltaikmodul, bei dem mehrere Fotozellen in einer Reihenschaltung verschaltet sind und der Leiter auf einer Randzelle des Moduls, beispielsweise der Rückkontaktzelle des Fotovoltaikmoduls angeordnet ist, kann die Rückkontaktzelle zur Spannungserzeugung genutzt werden, da die lichtempfindliche Schicht der Rückkontaktzelle, die unter der Fläche des Leiters angeordnet ist, während des Lötvorgangs intakt bleibt.In a photovoltaic module in which a plurality of photocells are connected in a series connection and the conductor is arranged on an edge cell of the module, for example the back contact cell of the photovoltaic module, the back contact cell can be used for voltage generation, since the photosensitive layer of the back contact cell, which under the surface of the Conductor is arranged while the soldering remains intact.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Verfahrens kann das Lotmaterial Zinn oder Silber enthalten und kann eine Schmelztemperatur zwischen 210°C und 230°C aufweisen. Der Leiter kann an mindestens einer Seite mit dem Lotmaterial beschichtet sein.According to a further embodiment of the method, the solder material may contain tin or silver and may have a melting temperature between 210 ° C and 230 ° C. The conductor may be coated on at least one side with the solder material.
Die Schichtstruktur aus den leitfähigen Schichten und der lichtempfindlichen Schicht bildet zusammen mit einem Trägersubstrat, auf dem die Schichtstruktur angeordnet ist, eine Schichtanordnung eines Fotovoltaikmoduls. Das Trägersubstrat kann beispielsweise als eine Glasscheibe ausgebildet sein. Der Leiter kann bandförmig, beispielsweise als ein kupferbeschichtetes Kontaktband, ausgeführt sein, das zumindest an einer Seite mit einem Lotmaterial beschichtet ist. Die leitfähige Schicht der Schichtanordnung kann ein transparentes leitfähiges Oxid aufweisen.The layer structure of the conductive layers and the photosensitive layer forms, together with a carrier substrate on which the layer structure is arranged, a layer arrangement of a photovoltaic module. The carrier substrate may be formed, for example, as a glass sheet. The conductor may be strip-shaped, for example as a copper-coated contact strip, which is coated on at least one side with a solder material. The conductive layer of the layer assembly may comprise a transparent conductive oxide.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des Verfahrens wird das temperaturgeregelte Werkzeug nach einer Anzahl von Schritten des Andrückens des temperaturgeregelten Werkzeugs auf den Leiter gereinigt. Das Reinigen des temperaturgeregelten Werkzeugs kann nach jedem sechzigsten bis achtzigsten Schritt des Andrückens des temperaturgeregelten Werkzeugs auf den Leiter erfolgen. Das Reinigen des temperaturgeregelten Werkzeugs kann durch mechanisches oder chemisches Einwirken auf eine Fläche des temperaturgeregelten Werkzeugs, die während des Erhitzens des Leiters auf den Leiter angepresst wird, erfolgen.According to another embodiment of the method, the temperature controlled tool is cleaned after a number of steps of pressing the temperature controlled tool on the conductor. Cleaning of the temperature controlled tool may occur after every sixtieth to eightieth step of pressing the temperature controlled tool onto the conductor. Cleaning of the temperature controlled tool may be accomplished by mechanical or chemical action on a surface of the temperature controlled tool which is pressed against the conductor during heating of the conductor.
Durch die kurzen Kontaktzeiten der Thermode zwischen 500 ms und 700 ms, kann die Zeit, die zur Herstellung des Kontaktes zwischen der leitfähigen Schicht eines Fotovoltaikmoduls und dem Leiter benötigt wird, gegenüber einem Verfahren, bei dem die Thermode deutlich länger in Kontakt mit dem Leiter steht, derart verkürzt werden, dass beispielsweise nach jedem siebzigsten Schritt des Andrückens der Thermodenfläche auf den Leiter eine Reinigung der verschmutzten Thermodenfläche erfolgen kann und dennoch in der gleichen Zeitdauer eine geliche oder sogar höhere Anzahl von kontaktierten Modulen gefertigt werden kann. Während eines Reinigungszyklus wird die vom Lotmaterial verunreinigte Thermodenfläche beispielsweise zweimal über eine raue Oberfläche geführt, so dass das an der Kontaktfläche der Thermode haftende Lotmaterial abgerieben wird. Dadurch können Qualitätsschwankungen, die durch verschmutzte Thermoden während mehrerer nachfolgender Lötungen bisher aufgetreten sind, stark reduziert werden, wodurch der Prozess des Verlötens des Leiters mit der leitfähigen Schicht weitgehend homogen erfolgen kann. Durch die regelmäßige Reinigung der Thermoden-Kontaktfläche kann außerdem der Verschleiß der Thermode sehr stark reduziert werden.Due to the short contact times of the thermode between 500 ms and 700 ms, the time required to make the contact between the conductive layer of a photovoltaic module and the conductor, compared to a method in which the thermode is much longer in contact with the conductor be shortened so that, for example, after every seventh step of pressing the Thermodenfläche on the head, a cleaning of the dirty Thermodenfläche can be done and still in the same period of time a geliche or even higher number of contacted modules can be made. During a cleaning cycle, for example, the thermode surface contaminated by the solder material is guided twice over a rough surface, so that the contact surface the thermode adhering solder material is rubbed off. As a result, quality fluctuations that have hitherto occurred due to soiled thermodes during a number of subsequent soldering operations can be greatly reduced, as a result of which the process of soldering the conductor to the conductive layer can be largely homogeneous. The regular cleaning of the thermode contact surface also allows the wear of the thermode to be greatly reduced.
Mit dem Verfahren lässt sich ein Fotovoltaikmodul herstellen, bei dem die Fotozellstruktur, die unter den Kontaktbereichen des bandförmigen Leiters angeordnet ist, intakt bleibt und somit zur Ladungsträgererzeugung bei Lichteinfall genutzt werden kann, da aufgrund der kurzen Kontaktzeit und der hohen Thermodentemperatur das Lotmaterial zwar schmilzt, die Wärme sich aber nur bis in die leitfähige Schicht, die über der lichtempfindlichen Schicht angeordnet ist, ausbreitet. Das Fotovoltaikmodul umfasst eine Fotozelle mit einer lichtempfindlichen Schicht zum Erzeugen einer Ladung beim Einfall von Licht auf die lichtempfindliche Schicht, eine über der lichtempfindlichen Schicht angeordnete leitfähige Schicht zum Abgreifen eines Potentials einer Spannung und eine unter der lichtempfindlichen Schicht angeordnete weitere leitfähige Schicht. Des Weiteren umfasst das Modul einen Leiter zur Kontaktierung der leitfähigen Schicht, wobei der Leiter auf einer Fläche der leitfähigen Schicht mit der leitfähigen Schicht verbunden ist. Ein Bereich der lichtempfindlichen Schicht, der in Projektion unter der Fläche der leitfähigen Schicht angeordnet ist, erzeugt beim Einfall von Licht auf die lichtempfindliche Schicht eine Ladung, wodurch zwischen der leitfähigen Schicht und der weiteren leitfähigen Schicht eine Spannung entsteht. Der Leiter kann beispielsweise auf die Fläche der leitfähigen Schicht aufgelötet sein. Die leitfähige Schicht und die weitere leitfähige Schicht sind durch die lichtempfindliche Schicht voneinander isoliert.The method makes it possible to produce a photovoltaic module in which the photocell structure, which is arranged under the contact regions of the band-shaped conductor, remains intact and can thus be used to generate charge carriers in the event of incidence of light, since the solder material melts due to the short contact time and the high temperature of the thermistor, however, the heat propagates only into the conductive layer disposed over the photosensitive layer. The photovoltaic module comprises a photocell having a photosensitive layer for generating a charge when light is incident on the photosensitive layer, a conductive layer disposed over the photosensitive layer for sensing a potential of a voltage, and a further conductive layer disposed below the photosensitive layer. Furthermore, the module comprises a conductor for contacting the conductive layer, wherein the conductor is connected to the conductive layer on a surface of the conductive layer. A portion of the photosensitive layer projected below the surface of the conductive layer generates a charge upon the incident of light on the photosensitive layer, thereby creating a voltage between the conductive layer and the further conductive layer. The conductor may, for example, be soldered to the surface of the conductive layer. The conductive layer and the further conductive layer are isolated from each other by the photosensitive layer.
Das Fotovoltaikmodul kann weitere Schichtanordnungen mit jeweils einer lichtempfindlichen Schicht zum Erzeugen einer Ladung beim Einfall von Licht auf die lichtempfindliche Schicht umfassen, wobei die Schichtanordnung und die weiteren Schichtanordnungen untereinander in einer Reihenschaltung geschaltet sind.The photovoltaic module may comprise further layer arrangements, each with a photosensitive layer for generating a charge upon the incidence of light on the photosensitive layer, wherein the layer arrangement and the further layer arrangements are connected to one another in a series connection.
Die Erfindung wird im Folgenden anhand von Figuren, die Ausführungsformen der Erfindung zeigen, näher erläutert. Es zeigen:The invention will be explained in more detail below with reference to figures showing embodiments of the invention. Show it:
In der Ausführungsform eines Tandem-Solarmoduls kann die lichtempfindliche Schicht
Über der lichtempfindlichen Schicht
Die leitfähige Schicht
Die leitfähige Schicht
Die Schichtlage
Beim Einfall von Licht durch die untere Glasscheibe
Zur Kontaktierung der leitfähigen Schicht
Nach dem Herstellen der in
Vor dem Lötprozess befinden sich das Trägersubstrat sowie die Schichten
Durch die relativ lange Kontaktzeit von 1750 ms zwischen der Thermode und der leitfähigen Schicht
Des Weiteren entsteht aufgrund des großen Temperaturunterschiedes zwischen der erhitzten Thermodenflächen und dem Leiter
Die Delamination kann insbesondere an Grenzflächen der unter der Rückseitenmetallisierung
Insbesondere die den Rückkontakt des Fotovoltaikmoduls bildende Randzelle
Um eine Delamination der Schichten während des Lötvorgangs zu verhindern, kann unter anderem der Einsatz von haftvermittelnden Schichten notwendig werden, um ein ausreichend großes Prozessfenster für den Lötprozess gewährleisten zu können. Beispielsweise kann zwischen der transparenten leitfähigen Oxidschicht der Schicht
Wenn der Leiter
Obwohl die beiden Randzellen
Eine weitere Ausführungsform eines Verfahrens zur Herstellung eines Fotovoltaikmoduls und des mit diesem Verfahren hergestellten Fotovoltaikmoduls wird im Folgenden anhand der
Zur Herstellung des Fotovoltaikmoduls
Zur Trennung beziehungsweise Isolierung der zunächst auf dem Trägersubstrat durchgehend, ununterbrochen angeordneten leitfähige Schicht
Zunächst ist das Material der leitfähigen Schicht
Zur Kontaktierung der in Reihe geschalteten Fotozellen des Fotovoltaikmoduls mit den Leitern
Die einzelnen Prozessschritte F1, ..., F5 des Kontaktierungsvorgangs, bei dem jeweils ein Kontaktband
In einem Fertigungsschritt F1 wird die Schichtanordnung aus der leitfähigen Schicht
In einem Fertigungsschritt F2 wird ein Leiter
In einem nachfolgenden Fertigungsschritt F3 wird ein temperaturgeregeltes Werkzeug, beispielsweise eine Thermode, auf eine Temperatur erwärmt, die zwischen 150°C und 190°C über der Schmelztemperatur des Lotmaterials liegt. Wenn beispielsweise ein Lotmaterial verwendet wird, das eine Schmelztemperatur von zirka 221°C aufweist, kann die Thermode auf eine Temperatur zwischen 370°C und 410°C erwärmt werden. Vorzugsweise wird die Fläche, mit der die Thermode auf den Leiter aufgedrückt wird, auf eine Temperatur von 390°C erwärmt.In a subsequent production step F3, a temperature-controlled tool, for example a thermode, is heated to a temperature which lies between 150 ° C. and 190 ° C. above the melting temperature of the solder material. For example, if a solder material having a melting temperature of about 221 ° C is used, the thermode may be heated to a temperature between 370 ° C and 410 ° C. Preferably, the Surface, with which the thermode is pressed onto the conductor, heated to a temperature of 390 ° C.
Ein nachfolgender Fertigungsschritt F4 ist in
Der Leiter
Durch die kurze Kontaktzeit zwischen 500 ms und 700 ms, die Thermodentemperatur zwischen 150°C und 190°C über dem Schmelzpunkt des Lotmaterials und eine Andruckkraft der Thermoden zwischen 10 N und 40 N wird erreicht, dass sich die Wärme der Thermoden im Wesentlichen nur an den Kontaktbereichen B1 und B2 im Leiter
Die hohe Temperatur der Thermoden ermöglicht einerseits, dass das Lotmaterial, das zwischen dem Leiter
Als vorteilhaft hat sich bei Verwendung der kurzen Prozesszeiten erwiesen, dass Temperaturgradienten zwischen dem Kontaktband
Nach dem Schmelzen des Lotmaterials werden die erhitzten Bereiche B1 und B2 in einem Fertigungsschritt F5 abgekühlt, wodurch das Lotmaterial erstarrt. Dazu kann beispielsweise Luft mit Raumtemperatur auf die Lötstelle geblasen werden, bis das Lotmaterial erstarrt ist. Nach dem Erstarren des Lotmaterials ist der Leiter
Durch die Reduzierung der Kontaktzeit der Thermodenfläche von 1750 ms auf 500 ms bis 700 ms wird es ermöglicht, dass die von dem geschmolzenen Lotmaterial verunreinigten Thermodenflächen häufiger gereinigt werden können und dennoch die Anzahl der gefertigten Module pro Zeiteinheit, der sogenannte Durchsatz, bei der Herstellung der Fotovoltaikmodule im Vergleich zu einem Prozess, bei dem die Kontaktzeiten der Thermoden mehr als 1500 ms betragen, erhöht werden kann. Die Reinigung der Thermodenflächen kann chemisch oder physikalisch erfolgen. Bei der mechanischen Reinigung werden die Thermodenflächen beispielsweise über eine raue Oberfläche bewegt, wodurch das an der Thermodenfläche haftende Lotmaterial abgerieben wird. Die Verkürzung der Kontaktzeiten auf eine Zeit zwischen 500 ms und 700 ms ermöglicht es, nach zirka sechzig bis achtzig Lötvorgängen einen Reinigungszyklus durchzuführen. Bei einem solchen Reinigungsschritt werden die Kontaktflächen der Thermoden beispielswiese zweimal über eine raue Oberfläche bewegt, um das Lotmaterial von der Kontaktfläche zu entfernen.Reducing the contact time of the thermode area from 1750 ms to 500 ms to 700 ms allows the thermode areas contaminated by the molten solder material to be cleaned more frequently while still reducing the number of modules produced per unit of time, the so-called throughput Photovoltaic modules compared to a process in which the contact times of the thermodes are more than 1500 ms, can be increased. The cleaning of the thermode surfaces can be done chemically or physically. For example, during mechanical cleaning, the thermode surfaces are moved over a rough surface, thereby abrading the solder material adhering to the thermode surface. Shortening the contact times to a time between 500 ms and 700 ms makes it possible to perform a cleaning cycle after approximately sixty to eighty soldering operations. In such a cleaning step, for example, the contact surfaces of the thermodes are moved over a rough surface twice to remove the solder material from the contact surface.
Da ein Reinigungsvorgang zum Reinigen der Thermode beispielsweise bereits nach jeweils 70 Lötvorgängen durchgeführt wird, wird der Lötprozess deutlich stabiler, als wenn nur nach jeweils 140 Lötprozessen die Thermoden gereinigt werden. Dadurch erhöht sich auch die Standzeit beziehungsweise die Lebensdauer der Thermoden.Since a cleaning process for cleaning the thermode, for example, already carried out after every 70 soldering operations, the soldering process is much more stable than if the thermodes are cleaned only after every 140 soldering processes. This also increases the service life or the life of the thermodes.
Wie in den Ausführungsformen der Fotovoltaikmodule der
Somit kann der Bereich
Da eine Delamination der Schichtlagen der leitfähigen Schicht
Bei der Ausführungsform des Fotovoltaikmoduls gemäß
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 1010
- Trägersubstratcarrier substrate
- 2020
- leitfähige Schichtconductive layer
- 3030
- lichtempfindliche Schichtphotosensitive layer
- 4040
- leitfähige Schichtconductive layer
- 4141
- Kontaktflächecontact area
- 5050
- Folienmaterialfilm material
- 6060
- Trägersubstratcarrier substrate
- 100100
- Schichtanordnunglayer arrangement
- 200200
- elektrischer Leiterelectrical conductor
- 210210
- KontaktanschlussContact Termination
- 220220
- Verbindungsleiterconnecting conductors
- 300300
- Lotmaterialsolder
- 500500
- Thermodethermode
- 10001000
- Fotovoltaikmodulphotovoltaic module
Claims (14)
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DE102010006879A DE102010006879A1 (en) | 2010-02-04 | 2010-02-04 | Contacting a photovoltaic module, comprises providing a layer arrangement from a light-sensitive layer for generating a charge during falling light on the light-sensitive layer and a conductive layer arranged on the light-sensitive layer |
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---|---|
DE (1) | DE102010006879A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116930799A (en) * | 2023-09-15 | 2023-10-24 | 江苏森标科技有限公司 | Online sheet resistance detection system of battery piece |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3068823A (en) * | 1956-09-12 | 1962-12-18 | Meredith M Nyborg | Soldering apparatus |
US3089220A (en) * | 1957-09-20 | 1963-05-14 | Meredith M Nyborg | Automatic soldering machine |
DE3313456A1 (en) * | 1982-05-10 | 1983-11-17 | Kollmorgen Technologies Corp., 75201 Dallas, Tex. | IMPULSE SOLDERING PROCESS |
DE4241439A1 (en) * | 1992-12-10 | 1994-06-16 | Daimler Benz Ag | Keyed bonding between connectors and contacts on a semiconductor surface - uses an intermediate layer with structured melting point to fuse connector to solar cell contact under heat and pressure |
US20020096207A1 (en) * | 1999-11-17 | 2002-07-25 | Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. | Photovoltaic panel and method of producing same |
DE102005036130A1 (en) * | 2005-07-26 | 2007-02-01 | Ernst Knoll Feinmechanik Gmbh | Method and device for producing a solar cell string |
US20080023069A1 (en) * | 2006-07-28 | 2008-01-31 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Photovoltaic element and fabrication method thereof |
DE102006058892A1 (en) * | 2006-12-05 | 2008-06-12 | Somont Gmbh | Method for producing soldered joint between two elements, involves transferring heat in two elements that are to be connected, and thin protective layer is applied between soldering stamp and two elements |
DE102008046330A1 (en) * | 2008-08-29 | 2010-03-04 | Schmid Technology Systems Gmbh | Method for soldering contact wires to solar cells |
-
2010
- 2010-02-04 DE DE102010006879A patent/DE102010006879A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3068823A (en) * | 1956-09-12 | 1962-12-18 | Meredith M Nyborg | Soldering apparatus |
US3089220A (en) * | 1957-09-20 | 1963-05-14 | Meredith M Nyborg | Automatic soldering machine |
DE3313456A1 (en) * | 1982-05-10 | 1983-11-17 | Kollmorgen Technologies Corp., 75201 Dallas, Tex. | IMPULSE SOLDERING PROCESS |
DE4241439A1 (en) * | 1992-12-10 | 1994-06-16 | Daimler Benz Ag | Keyed bonding between connectors and contacts on a semiconductor surface - uses an intermediate layer with structured melting point to fuse connector to solar cell contact under heat and pressure |
US20020096207A1 (en) * | 1999-11-17 | 2002-07-25 | Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. | Photovoltaic panel and method of producing same |
DE102005036130A1 (en) * | 2005-07-26 | 2007-02-01 | Ernst Knoll Feinmechanik Gmbh | Method and device for producing a solar cell string |
US20080023069A1 (en) * | 2006-07-28 | 2008-01-31 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Photovoltaic element and fabrication method thereof |
DE102006058892A1 (en) * | 2006-12-05 | 2008-06-12 | Somont Gmbh | Method for producing soldered joint between two elements, involves transferring heat in two elements that are to be connected, and thin protective layer is applied between soldering stamp and two elements |
DE102008046330A1 (en) * | 2008-08-29 | 2010-03-04 | Schmid Technology Systems Gmbh | Method for soldering contact wires to solar cells |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116930799A (en) * | 2023-09-15 | 2023-10-24 | 江苏森标科技有限公司 | Online sheet resistance detection system of battery piece |
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Effective date: 20120901 |