DE102009024118A1 - Vorrichtung zur thermischen Manipulation eines optischen Elementes - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur thermischen Manipulation eines optischen Elementes (1), wobei das optische Element eine Vorderseite (2) zur Reflexion elektromagnetischer Strahlung und eine Rückseite (3) aufweist, und wobei thermische Aktuatoren (4) zur Beeinflussung der optischen Eigenschaften des optischen Elements (1) vorgesehen sind, die von der Rückseite (3) des optischen Elements (1) her auf dieses wirken sowie eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie, die eine erfindungsgemäße Vorrichtung enthält.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur thermischen Manipulation eines optischen Elements.
  • Für die Korrektur von Bildfehlern in Projektionsobjektiven für die Halbleiterlithographie werden nach dem gegenwärtigen Stand der Technik zwei Grundtypen von Manipulatoren verwendet, Positionsmanipulatoren und Deformationsmanipulatoren. Im Fall der Positionsmanipulatoren wird die Sensitivität eines optischen Elements auf seine Positionsänderung ausgenutzt, um bei einer geeigneten Verschiebung die gewünschte Korrektur der Wellenfront zu erreichen. Im Unterschied hierzu werden bei Deformationsmanipulatoren die Sensitivitäten von optischen Elementen auf mechanische Deformation ausgenutzt, um den gewünschten Korrektureffekt zu erzielen. Dabei sind bei Positionsmanipulatoren die Korrekturmöglichkeiten auf niedrige radiale und azimutale Ordnungen begrenzt. Deformationsmanipulatoren bieten zwar die Möglichkeit, durch die Anordnung einer geeigneten Anzahl von Aktuatoren auch höhere azimutale Ordnungen einzustellen, doch auch sie sind für radiale Korrekturen auf die erste Ordnung beschränkt. Dies rührt insbesondere daher, dass die zur mechanischen Deformation erforderlichen mechanischen Kräfte und Momente gewissen Einschränkungen unterliegen.
  • Eine weitere Alternative zu den beiden vorstehend skizzierten Möglichkeiten besteht darin, ein optisches Element wie beispielsweise eine Linse nicht mechanisch oder hinsichtlich seiner Position in der Gesamtanordnung, sondern thermisch zu manipulieren. Dabei wird die Temperaturabhängigkeit des Brechungsindex des Materials des optischen Elementes ausgenutzt, um mittels einer geeigneten Temperaturverteilung über das optische Element hinweg die gewünschte Korrektur der Wellenfront zu erreichen. Gängige Konzepte zur thermischen Manipulation eines optischen Elements bestehen darin, dieses entweder von seinem Rand her zu beheizen bzw. zu kühlen oder auch, beispielsweise durch im optisch aktiven Bereich des optischen Elements angeordnete dünne Heizdrähte, die Temperaturverteilung im optischen Element selbst direkt zu beeinflussen.
  • In der US-Patentanmeldung US 2005/0018269 A1 wird vorgeschlagen, die inhomogene, bereichsweise Erwärmung der verwendeten optischen Elemente in einer Halbleiterlithographieanlage dadurch auszugleichen, dass die optischen Elemente lokal mittels eines Lasers an denjenigen Stellen aufgeheizt werden, an denen die verwendeten optischen Elemente mit elektromagnetischer Strahlung geringerer Intensität als in anderen Bereichen beaufschlagt werden; auf diese Weise wird die inhomogene Bestrahlung der optischen Elemente kompensiert und im Ergebnis findet eine homogene Erwärmung der verwendeten optischen Elemente statt.
  • Eine weitere Variante wird in der europäischen Patentanmeldung EP 0 678 768 A2 vorgestellt. In dieser Schrift wird die Aufgabe adressiert, die Abbildungseigenschaften einer Projektionsbelichtungsanlage auszumessen und basierend auf theoretischen Modellen der Projektionsbelichtungsanlage einzelne Elemente der Anlage bereichsweise gezielt zu beheizen oder zu kühlen.
  • Die oben genannten Vorgehensweisen unterliegen jedoch bestimmten Einschränkungen. So besteht beispielsweise bei der thermischen Manipulation eines optischen Elements von seinem Rand her die Schwierigkeit, die Innenbereiche des optischen Elements in der gewünschten Weise anzusteuern; beim Einbringen von Heizdrähten in den optische aktiven Bereich des optischen Elements müssen ferner Beeinträchtigungen der Transmissionseigenschaften des optischen Elements in Kauf genommen werden.
  • Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein thermisch ansteuerbares optisches Element sowie eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem thermisch ansteuerbaren optischen Element anzugeben, das bzw. die den vorstehend geschilderten Einschränkungen nicht unterliegt.
  • Diese Aufgabe wird durch die Vorrichtung mit den in Patentanspruch 1 angegebenen Merkmalen sowie durch die Projektionsbelichtungsanlage mit den in Patentanspruch 14 angegebenen Merkmalen gelöst. Die Unteransprüche beziehen sich auf vorteilhafte Ausführungsformen und Varianten der Erfindung.
  • Die erfindungsgemäße Vorrichtung zeigt ein optisches Element mit einer Vorderseite, die zur Reflexion elektromagnetischer Strahlung geeignet ist sowie einer Rückseite, wobei thermische Aktuatoren zur Beeinflussung der optischen Eigenschaften des optischen Elements vorgesehen sind, die von der Rückseite des optischen Elements her auf dieses wirken. Diese Anordnung der thermischen Aktuatoren führt dazu, dass sich die thermischen Aktuatoren in einem Bereich des optischen Elements befinden, der von der elektromagnetischen Nutzstrahlung, der das optische Element im bestimmungsgemäßen Betrieb ausgesetzt ist, nicht erreicht wird. Durch diese Maßnahme entfallen die Einschränkungen, denen man bei der Anordnung von thermischen Aktuatoren an einem in Transmission betriebenen optischen Element unterliegt. Insbesondere wird es durch die erfindungsgemäße Lösung möglich, thermische Aktuatoren über den gesamten Querschnitt des optischen Elements hinweg auf diesem anzuordnen; beispielsweise können die thermischen Aktuatoren hinsichtlich der einzustellenden Temperaturverteilungen optimal angeordnet werden. Die realisierbaren Ortsfrequenzen in den Temperaturverteilungen sind hierbei im wesentlichen durch die Dichte der Aktuatoranordnung und gegebenenfalls der Dicke des optischen Elementes limitiert. Durch eine geeignete Anordnung der thermischen Aktuatoren lassen sich somit je nach optischer Korrekturaufgabe Sätze von Temperaturverteilungsfunktionen optimal gestalten. Begrenzungen in der Gestaltung der Basisfunktionen sind dabei im wesentlichen designbedingt, nicht jedoch prinzipbedingt. Ferner ist bei der erfindungsgemäßen Lösung für die Zeitkonstanten zur Einstellung einer Temperaturverteilung lediglich die Dicke des optischen Elementes und nicht sein Durchmesser ausschlaggebend. Dies führt dazu, dass im Vergleich zu optischen Elementen, deren Temperaturverteilung vom Rand her eingestellt wird, um etwa ein bis zwei Grö ßenordnungen kürzere Zeitkonstanten möglich sind, was aus regelungstechnischer Sicht einen erheblichen Vorteil darstellt. Bei dem optischen Element kann es sich in einer einfachen Realisationsform der Erfindung beispielsweise lediglich um einen Metallspiegel handeln, auf dessen Rückseite die thermischen Aktuatoren angeordnet sind. In diesem Fall wird die gewünschte Korrektur der optischen Eigenschaften des Metallspiegels ausschließlich durch die von der Rückseite her thermisch induzierte Formänderung der reflektierenden Vorderseite des Spiegels erreicht.
  • In einer ersten vorteilhaften Variante der Erfindung sind die thermischen Aktuatoren an der Rückseite des optischen Elements in der Weise angeordnet, dass sie nicht in mechanischem Kontakt zur Rückseite des optischen Elements stehen. Insbesondere kann zwischen dem thermischen Aktuator und der Rückseite des optischen Elements ein dünner Spalt verbleiben. Auf diese Weise wird gewährleistet, dass die thermischen Aktuatoren von dem zu manipulierenden optischen Element mechanisch entkoppelt angeordnet sind, wodurch parasitäre mechanische Effekte, wie sie beispielsweise durch Vibrationen oder mechanische Spannungen in der Anordnung oder auch nur der Aktuatoren hervorgerufen werden können, wirksam ausgeschlossen werden. Alternativ können die thermischen Aktuatoren auch – insbesondere für die Fälle, in denen sie als Peltierelemente oder Widerstandsheizelemente ausgebildet sind – in unmittelbarem mechanischen Kontakt mit der Rückseite des optischen Elementes stehen, wodurch ein effektiver Wärmeübergang gewährleistet wird.
  • Zwischen der thermisch wirksamen Fläche der beispielsweise als Peltierelemente ausgebildeten Aktuatoren und der Rückseite des optischen Elements kann dabei ein gas- oder flüssigkeitsgefüllter Spalt verbleiben; dabei dient das Gas bzw. die Flüssigkeit als Übertragungsmedium für die in das optische Element zu übertragende thermische Energie. Selbstverständlich sind bei der Realisation dieser Variante die verwendeten Gase bzw. Flüssigkeiten so zu wählen, dass sie einen hohen Wärmeleitwert aufweisen, um einen effizienten Wärmeübergang zwischen dem thermischen Aktuator und dem optischen Element zu gewährleisten. So kommt bei spielsweise als Gas aufgrund seiner hohen Wärmeleitfähigkeit für die genannte Anwendung Helium in Frage.
  • In einer vorteilhaften Variante der Erfindung kann es sich bei den thermischen Aktuatoren um im Bereich der Rückseite des optischen Elements angeordnete und auf diese gerichtete Gasdüsen handeln, die geeignet sind, die Rückseite des optischen Elements lokal mit Gasstößen der gewünschten Temperatur zu beaufschlagen. Diese Ausführungsform der Erfindung gewährleistet eine vergleichsweise schnelle Ansteuerbarkeit des optischen Elements. Diese Lösung hat mit der Realisation der thermischen Aktuatoren als Peltierelemente den Vorteil gemeinsam, dass entweder durch die Wahl der Polarität des Anschlusses der Peltierelemente oder durch die Wahl der Temperatur des Gasstoßes das optische Element lokal sowohl beheizt als auch gekühlt werden kann.
  • Auch die Realisation der thermischen Aktuatoren in der Weise, dass sie geeignet sind, elektromagnetische Strahlung zur Absorption auf der Rückseite des optischen Elements zu emittieren, hat für einige Anwendungsgebiete Vorteile. Einer der spezifischen Vorteile dieser Lösung besteht darin, dass sich auf diese Weise eine vollständig berührungslose Ankopplung der thermischen Aktuatoren an die Rückseite des optischen Elements erreichen lässt. Dabei können die thermischen Aktuatoren z. B. als LEDs oder Laserdioden, insbesondere mit einem Emissionsspektrum im infraroten Bereich realisiert sein; um die thermische Kopplung der so gewählten Aktuatoren mit der Rückseite des optischen Elements zu optimieren, ist es vorteilhaft, die den elektromagnetischen Strahlungsquellen zugewandte Seite des optischen Elements mit einer Beschichtung zu versehen, die für die von den Aktuatoren ausgesandte Strahlung einen hohen Absorptionsgrad aufweist.
  • Zur Steuerung der räumlichen Verteilung der in das optische Element eingetragenen thermischen Energie besteht einerseits die Möglichkeit, die von mindestens einem thermischen Aktuator ausgesandte Strahlung mittels Umlenkelementen gerichtet auf vorbestimmte Positionen auf der Rückseite des optischen Elements zu lenken. Auf diese Weise kann mit einer vergleichsweise geringen Anzahl von Aktuatoren dennoch der gesamte Bereich der Rückseite des optischen Elements angesteuert werden. Als Alternative oder Ergänzung hierzu können die thermischen Aktuatoren (ggf. als elektromagnetische Strahler ausgebildet) als Array auf oder im Bereich der Rückseite des optischen Elements angeordnet werden. In diesem Fall wird die gewünschte Verteilung der in das optische Element eingetragenen thermischen Energie über eine geeignete Ansteuerung der thermischen Aktuatoren erreicht.
  • Eine besonders vorteilhafte Variante der Gestaltung des optischen Elements besteht darin, dass sich an die Vorderseite des optischen Elements ein für die Nutzwellenlänge mindestens teilweise transparentes Substrat anschließt. Diese Maßnahme hat die Wirkung, dass die elektromagnetische Nutzstrahlung den Bereich vor dem optischen Element zweimal durchläuft. Die Korrektur der Wellenfront wird dabei nicht nur durch die geometrische Änderung der reflektiven Oberfläche des optischen Elements erreicht, sondern auch durch die sich aufgrund der ändernden Temperatur verändernden optischen Eigenschaften des Substrates. Es wird durch die sich ändernde Temperatur insbesondere die Dichte und damit der Brechungsindex des Substrates verändert, wodurch sich ein verbessertes Ansprechen der gesamten Anordnung auf die thermische Ansteuerung erreichen lässt. Dadurch, dass die elektromagnetische Nutzstrahlung das Substrat aufgrund der Reflexion an der Rückseite des optischen Elements zweimal durchläuft, wird die optische Wirkung der erfindungsgemäßen thermischen Manipulation weiter gesteigert und das Substrat kann deswegen vergleichsweise dünn gewählt werden. In diesem Zusammenhang ist die Realisation des optischen Elements als sogenannter Mangin-Spiegel besonders vorteilhaft. Dies wird dadurch erreicht, dass sich an das Substrat ein refraktives optisches Element, wie beispielsweise eine Linse, anschließt. Alternativ kann die Mangin-Konfiguration auch dadurch erreicht werden, dass beispielsweise eine Linse auf einer Seite mit einer Reflexionsschicht versehen wird, wodurch sich eine besonders einfache Ausführungsform des erfindungsgemäßen optischen Elements realisieren lässt.
  • Die thermische Ansteuerbarkeit des erfindungsgemäßen optischen Elements lässt sich dadurch weiter verbessern, dass im Bereich der Rückseite des optischen Elements ein flächiges, als Wärmesenke wirkendes, gegebenenfalls gekühltes Element angeordnet ist. In diesem Fall wird mittels der thermischen Aktuatoren lediglich lokal gegen die ständige Kühlung des flächigen Elements angeheizt. Hierdurch wird es möglich, die gewünschten Temperaturverteilungen entlang der Rückseite des optischen Elements möglichst schnell zu realisieren.
  • Insbesondere in Projektionsobjektiven für die Halbleiterlithographie, wo eine effiziente und präzise Korrektur von Wellenfrontfehlern besonders notwendig ist, zeigt die Erfindung erhebliches Verbesserungspotenzial.
  • Es zeigen:
  • 1 eine erste einfache Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung;
  • 2 eine Ausführungsform der Erfindung, bei der verschieden Varianten zur lokalen Beeinflussung der Temperatur des optischen Elements exemplarisch gezeigt sind, und
  • 3 eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem erfindungsgemäßen optischen Element.
  • 1 zeigt in einer Querschnittsdarstellung eine erste Ausführungsform der Erfindung. Das optische Element 1 ist dabei als einfacher Planspiegel mit einer reflektierenden Vorderseite 2 und auf der Rückseite 3 des optischen Elements 1 angeordneten als Peltierelemente ausgebildeten thermischen Aktuatoren 4 realisiert. Die thermischen Aktuatoren 4 werden von der Steuerung 5 selektiv angesteuert, so dass sich durch die entsprechende Wahl der Steuerspannungen für jeden einzelnen Aktuator 4 eine gewünschte Temperaturverteilung über die Gesamtfläche des optischen Elementes 1 hinweg erreichen lässt. Alternativ können die thermischen Aktuatoren 4 auch als Widerstandsheizelemente ausge bildet sein.
  • 2 zeigt ebenfalls in einer Querschnittsdarstellung eine beispielhafte Anordnung, bei der verschiedene Möglichkeiten zur lokalen Beeinflussung der Temperatur des optischen Elements 1 aufgezeigt sind. Das in 2 dargestellte optische Element 1 weist ein auf seiner Vorderseite 2 angeordnetes Substrat 6 auf, das für die Nutzstrahlung, das heißt die Strahlung die im bestimmungsgemäßen Betrieb auf das optische Element 1 einfällt, weitgehend transparent ist. Diese Vorgehensweise hat den Effekt, dass zusätzlich zu der thermisch verursachten Deformation der auf der Vorderseite 2 des optischen Elementes 1 angeordneten reflektiven Oberfläche, ein weiterer thermisch induzierter Effekt zur Beeinflussung der optischen Eigenschaften des optischen Elements 1 hinzukommt: Aufgrund der sich ändernden Temperatur ändert sich lokal in dem Substrat 6 die Dichte und damit der Brechungsindex, so dass die optische Wirkung der sich lokal ändernden Temperatur im optischen Element 1 und damit im Substrat 6 verstärkt. Eine weitere Verstärkung der Wirkung der Temperaturänderung lässt sich dadurch erreichen, dass alternativ oder zusätzlich zu dem Substrat 6 mittelbar beziehungsweise unmittelbar an der Vorderseite 2 des optischen Elementes 1 das weitere optische Element 14, das im Beispiel der 2 als Linse ausgebildet ist, angeordnet ist. An der Rückseite 3 des optischen Elementes 1 sind verschiedene thermische Aktuatoren angeordnet. So ist beispielsweise im oberen Bereich der 2 ein Peltier-element 41 im Bereich der Rückseite 3 des optischen Elementes 1 angeordnet; das Peltierelement 41 wird dabei von der Steuerung 5 angesteuert. Zwischen dem Peltierelement 41 und der Rückseite 3 des optischen Elementes 1 befindet sich ein luftgefüllter Spalt 7, in dem eine als flächige Platte ausgebildete Wärmesenke 9 angeordnet ist. Alternativ kann der Spalt auch von einer Flüssigkeit ausgefüllt sein. Die Wärmesenke 9 führt ständig Wärme aus dem Bereich der Rückseite 3 des optischen Elementes 1 ab; das heißt, dass die Solltemperatur beispielsweise im Bereich des Peltierelementes 41 lediglich durch ein gesteuertes beziehungsweise geregeltes Heizen des Peltierelementes 41 erfolgt. Als weitere Variante eines thermischen Aktuators ist in 2 die Gasdüse 44 angeordnet, die im vorliegenden Beispiel auf die Wärmesenke 9 gerichtet ist. Dabei steht die Gasdüse 44 mit der Gasversorgung 8 in Verbindung, die ebenfalls von der Steuerung 5 angesteuert wird. Dabei kann die Gasdüse 44 schwenkbar ausgebildet sein, so das der aus der Gasdüse 44 austretende Gasstrom auf vorbestimmte Stellen auf der Rückseite 3 des optischen Elementes 1 gerichtet werden kann.
  • Ferner ist an der Rückseite 3 des optischen Elementes 1 ein weiterer, als LED 42 ausgebildeter thermischer Aktuator angeordnet, wobei die von der LED emittierte elektromagnetische Strahlung durch das Umlenkelement 10, das – wie auch die LED 42 – von der Steuerung 5 gesteuert wird, in die gewünschten Bereiche der Rückseite 3 des optischen Elementes 1 gelenkt wird. Die Strahlrichtung ist durch den gestrichelten Pfeil 15 angedeutet.
  • Schließlich sind im unteren Bereich des optischen Elementes 1 an dessen Rückseite 3 mehrere als Array angeordnete LED's 43 positioniert, durch deren gezielte Ansteuerung eine gewünschte Temperaturverteilung eingestellt werden kann. Auch die als Array angeordneten LED's 43 werden von der Steuerung 5 angesteuert.
  • An der Rückseite 3 des optischen Elementes 1 ist in dem Bereich, der von der durch die LED's 42 bzw. 43 ausgesandten elektromagnetischen Strahlung beaufschlagt wird, eine Beschichtung 13 angeordnet, die für die von den LED's 42 und 43 ausgesandte elektromagnetische Strahlung einen hohen Absorptionsgrad aufweist. Auf diese Weise wird die Effizienz der thermischen Ansteuerung des optischen Elementes 1 durch elektromagnetische Strahlung weiter verbessert.
  • In 2 sind die verschiedenen Möglichkeiten, die Temperatur des optischen Elementes lokal zu beeinflussen, exemplarisch anhand eines einzigen optischen Elementes illustriert. Selbstverständlich sind erfindungsgemäße optische Elemente denkbar, bei denen lediglich eine der anhand 2 beschriebenen Möglichkeiten zur Anwendung kommen.
  • In 3 ist eine Projektionsbelichtungsanlage 16 für die Halbleiterlithographie, in die die beschriebene Vorrichtung integriert ist, dargestellt. Diese dient zur Belichtung von Strukturen auf ein mit photosensitiven Materialien beschichtetes Substrat, welches im allgemeinen überwiegend aus Silizium besteht und als Wafer 17 bezeichnet wird, zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, wie z. B. Computerchips.
  • Die Projektionsbelichtungsanlage 16 besteht dabei im wesentlichen aus einer Beleuchtungseinrichtung 18, einer Einrichtung 19 zur Aufnahme und exakten Positionierung einer mit einer Struktur versehenen Maske, einem sogenannten Reticle 20, durch welches die späteren Strukturen auf dem Wafer 17 bestimmt werden, einer Einrichtung 21 zur Halterung, Bewegung und exakten Positionierung eben dieses Wafers 17 und einer Abbildungseinrichtung, nämlich einem Projektionsobjektiv 22, mit mehreren optischen Elementen 23, die über Fassungen 24 in einem Objektivgehäuse 25 des Projektionsobjektives 22 gelagert sind.
  • Das grundsätzliche Funktionsprinzip sieht dabei vor, dass die in das Reticle 20 eingebrachten Strukturen auf den Wafer 17 abgebildet werden; die Abbildung wird in der Regel verkleinernd ausgeführt.
  • Nach einer erfolgten Belichtung wird der Wafer 17 in Pfeilrichtung weiterbewegt, sodass auf demselben Wafer 17 eine Vielzahl von einzelnen Feldern, jeweils mit der durch das Reticle 20 vorgegebenen Struktur, belichtet wird. Aufgrund der schrittweisen Vorschubbewegung des Wafers 17 in der Projektionsbelichtungsanlage 16 wird diese häufig auch als Stepper bezeichnet.
  • Die Beleuchtungseinrichtung 18 stellt einen für die Abbildung des Reticles 20 auf dem Wafer 17 benötigten Projektionsstrahl 26, beispielsweise Licht oder eine ähnliche elektromagnetische Strahlung, bereit. Als Quelle für diese Strahlung kann ein Laser oder dergleichen Verwendung finden. Die Strahlung wird in der Beleuchtungseinrichtung 18 über optische Elemente so geformt, dass der Projektionsstrahl 26 beim Auftreffen auf das Reticle 20 die gewünschten Eigenschaften hinsichtlich Durchmesser, Polarisation, Form der Wellenfront und dergleichen aufweist.
  • Über die Strahlen 26 wird ein Bild des Reticles 20 erzeugt und von dem Projektionsobjektiv 22 entsprechend verkleinert auf den Wafer 17 übertragen, wie bereits vorstehend erläutert wurde. Das Projektionsobjektiv 22 weist eine Vielzahl von einzelnen refraktiven, diffraktiven und/oder reflexiven optischen Elementen 23, wie z. B. Linsen, Spiegeln, Prismen, Abschlussplatten und dergleichen auf. Daneben ist in dem Projektionsobjektiv 22 die erfindungsgemäße Vorrichtung 50 integriert.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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  • Zitierte Patentliteratur
    • - US 2005/0018269 A1 [0004]
    • - EP 0678768 A2 [0005]

Claims (14)

  1. Vorrichtung zur thermischen Manipulation eines optischen Elements (1), wobei das optische Element (1) eine Vorderseite (2) zur Reflexion elektromagnetischer Strahlung und eine Rückseite (3) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass thermische Aktuatoren (4) zur Beeinflussung der optischen Eigenschaften des optischen Elements (1) vorhanden sind, die von der Rückseite (3) des optischen Elements (1) her auf dieses wirken.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die thermischen Aktuatoren (4) das optische Element (1) nicht berühren.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei den thermischen Aktuatoren (4) um Peltierelemente (41) handelt
  4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass sich zwischen der thermisch wirksamen Fläche der Peltierelemente (41) und der Rückseite (3) des optischen Elements (1) ein gas- oder flüssigkeitsgefüllter Spalt (7) befindet.
  5. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei den thermischen Aktuatoren (4) um Gasdüsen (44) handelt, die geeignet sind, die Rückseite (3) des optischen Elements (1) lokal mit Gasstößen einer bestimmten Temperatur zu beaufschlagen.
  6. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die thermischen Aktuatoren (4) geeignet sind, elektromagnetische Strahlung zur Absorption auf die Rückseite (3) des optischen Elements (1) zu emittieren.
  7. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei den thermischen Aktuatoren (4) um LEDs (42) oder Laser handelt, deren Emissionsspektrum im infraroten Spektral bereich liegt.
  8. Vorrichtung nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Rückseite (3) des optischen Elements (1) mit einer Beschichtung (13) versehen ist, die für die von den Aktuatoren (4) ausgesandte elektromagnetische Strahlung einen hohen Absorptionsgrad aufweist.
  9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass Umlenkelemente (10) vorhanden sind, die geeignet sind, die von mindestens einem thermischen Aktuator (4) ausgesandte Strahlung bzw. den von mindestens einem thermischen Aktuator ausgesandten Gasstrom gerichtet auf vorbestimmte Positionen auf der Rückseite (3) des optischen Elements (1) lenken.
  10. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die thermischen Aktuatoren (4) als Array angeordnet und selektiv ansteuerbar sind.
  11. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sich an die Vorderseite (2) des optischen Elements (1) ein für die Nutzwellenlänge mindestens teilweise transparentes Substrat (6) anschließt.
  12. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sich an die Vorderseite (2) des optischen Elements (1) mittelbar oder unmittelbar ein weiteres refraktives optisches Element (14), insbesondere eine Linse, anschließt.
  13. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass im Bereich der Rückseite (3) des optischen Elements (1) ein flächiges, als Wärmesenke wirkendes Element (9) angeordnet ist.
  14. Projektionsbelichtungsanlage (16) für die Halbleiterlithographie, dadurch gekennzeichnet, dass sie eine Vorrichtung (50) nach einem der vorangehenden Ansprüche 1 bis 13 enthält.
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