DE102008021896B4 - Device for determining a measured variable of a gas - Google Patents

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Abstract

Vorrichtung zur Bestimmung einer Messgröße eines Gases mit einem Substrat (5) und einem mit dem Substrat (5) in thermischer Verbindung stehenden thermischen Sensorelement (8), wobei eine Wärmeübertragungsfläche (13) des thermischen Sensorelements (8) zum Übertragen der Wärme des thermischen Sensorelements (8) auf das Substrat (5) geringer als eine Flächenausdehnung (14) des thermischen Sensorelements (8) entlang des Substrats (5) ist, und wobei das thermische Sensorelement (8) entlang seiner Flächenausdehnung (14) wenigstens teilweise vom Substrat (5) beabstandet angeordnet ist und das Substrat (5) mit seiner Wärmeübertragungsfläche (13) berührt, dadurch gekennzeichnet, dass das thermische Sensorelement (8) an seiner dem Substrat (5) zugewandten Seite (18) im Bereich seiner Wärmeübertragungsfläche (13) mehrere integral mit dem Sensorelement (8) ausgebildete Wärmeübertragungselemente (19) aufweist, die sich zwischen Ausnehmungen (20) erstrecken und von dem thermischen Sensorelement (8) vorspringen und das Substrat (5) berühren.Apparatus for determining a measured quantity of a gas with a substrate (5) and a thermal sensor element (8) thermally connected to the substrate (5), wherein a heat transfer surface (13) of the thermal sensor element (8) for transferring the heat of the thermal sensor element (8) on the substrate (5) is smaller than an area extent (14) of the thermal sensor element (8) along the substrate (5), and wherein the thermal sensor element (8) along its surface extent (14) at least partially from the substrate (5 ) is spaced and the substrate (5) with its heat transfer surface (13) touched, characterized in that the thermal sensor element (8) on its the substrate (5) facing side (18) in the region of its heat transfer surface (13) a plurality of integral with The sensor element (8) formed heat transfer elements (19) extending between recesses (20) and of the thermal Projecting sensor element (8) and the substrate (5) touch.

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Figure 00000001

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Bestimmung einer Messgröße eines Gases mit einem Substrat und einem mit dem Substrat in thermischer Verbindung stehenden thermischen Sensorelement.The The invention relates to a device for determining a measured variable of a Gas with a substrate and one with the substrate in thermal Connecting thermal sensor element.

Eine derartige Vorrichtung ist aus der DE 41 12 601 A1 bekannt. Bei der bekannten Vorrichtung handelt es sich um einen Luftmengensensor, der beispielsweise in der Automobilindustrie zur Motorsteuerung verwendet wird.Such a device is known from DE 41 12 601 A1 known. In the known device is an air flow sensor, which is used for example in the automotive industry for engine control.

Der bekannte Luftmengensensor weist ein elektrisch isoliertes Substrat auf, auf dem mehrere, als thermische Sensorelemente ausgebildete thermosensitive Widerstände angeordnet sind. Zwischen dem Substrat und den Widerständen ist eine Wärmeisolierschicht aus einem eine geringere Wärmeleitfähigkeit aufweisenden Material angeordnet, die sich entlang der gesamten Widerstandsausdehnung erstreckt. Mittels einer mit den Widerständen in Verbindung stehenden Steuerschaltung kann einem der Widerstände ein Heizstrom zugeführt werden, der diesen Widerstand auf eine Temperatur heizt, die größer als die durch den anderen Widerstand ermittelte Umgebungstemperatur ist. Aus dem zugeführten Heizstrom kann dann der Gasstrom ermittelt werden.Of the known air quantity sensor has an electrically insulated substrate on, on which several, designed as a thermal sensor elements thermosensitive resistors are arranged. There is between the substrate and the resistors a heat insulating layer from a lower thermal conductivity arranged material that extends along the entire Resistance expansion extends. By means of one with the resistors in Connected control circuit can one of the resistors Heating current supplied which heats this resistance to a temperature greater than the ambient temperature determined by the other resistor is. From the supplied Heating current can then be determined, the gas flow.

Bei dem aus der US 5.321.382 A bekannten Flusssensor ist der Heizwiderstand ganzflächig auf einer oberen und unteren Isolierschicht aufgebracht. Da die Wärmeübertragungsfläche des thermischen Sensorelements als diejenige Fläche anzusehen ist, mit der das Sensorelement auf dem Untergrund aufliegt, ist bei dem aus der US 5.321.382 A bekannten Ausführungsbeispiel die Wärmeübertragungsfläche genauso groß wie die Flächenausdehnung des thermischen Sensorelements entlang dem Substrat.In the from the US 5,321,382 A known flow sensor, the heating resistor is applied over the entire surface of an upper and lower insulating layer. Since the heat transfer surface of the thermal sensor element is to be regarded as the surface with which the sensor element rests on the ground, in which from the US 5,321,382 A the known embodiment, the heat transfer area as large as the surface area of the thermal sensor element along the substrate.

Die US 2004/0020286 A1 zeigt in 4 ein Ausführungsbeispiel, bei dem eine Vielzahl von Sensorelementen auf einer Basis angeordnet sind. Die Sensorelemente sind jeweils mit einem freitragenden Abschnitt versehen, der sich über der Oberfläche der Basis erstreckt.The US 2004/0020286 A1 shows in 4 an embodiment in which a plurality of sensor elements are arranged on a base. The sensor elements are each provided with a cantilevered portion extending over the surface of the base.

Zum Erfassen schneller Änderungen der Luftmenge weist der bekannte Luftmengensensor unter dem der Heizung dienenden Widerstand eine Verdünnung des Substrates aus. Ferner ist der Abschnitt des Substrates, auf dem sich der der Heizung dienende Widerstand befindet, lediglich durch einen schmalen Steg mit dem restlichen Substrat verbunden.To the Capture fast changes the amount of air, the known air quantity sensor under the Heating serving a dilution of the substrate. Further is the portion of the substrate on which the heater is used Resistance is located only by a narrow bridge with the remaining substrate connected.

Ein Nachteil des bekannten Gasmengensensors ist, dass die Ansprechzeit des Luftmengensensors trotz der zur Verkürzung der Ansprechzeit getroffenen Maßnahmen gelegentlich zu lang ist.One Disadvantage of the known gas quantity sensor is that the response time of the air quantity sensor despite being made to shorten the response time activities occasionally too long.

Ein weiterer Nachteil des Gasmengensensors ist, dass die Zeit, die der als Temperaturfühler wirkende Widerstand benötigt, um seine Temperatur an die Umgebungstemperatur anzugleichen, gelegentlich zu lang ist. Erfolgt die Auswertung des Heizstroms zu einem Zeitpunkt, zu dem der als Temperaturfühler dienende Widerstand noch nicht im thermischen Gleichgewicht mit der Umgebung ist, kann es zu Fehlmessungen kommen.One Another disadvantage of the gas quantity sensor is that the time that the acting as a temperature sensor Resistance needed, to adjust its temperature to the ambient temperature, occasionally is too long. If the evaluation of the heating current takes place at a time, to which as a temperature sensor serving resistance not yet in thermal equilibrium with environment, it can lead to incorrect measurements.

Ausgehend von diesem Stand der Technik liegt der Erfindung daher die Aufgabe zugrunde, eine hinsichtlich der Ansprechzeit und Messgenauigkeit verbesserte Vorrichtung bereitzustellen.outgoing From this prior art, the invention is therefore the task based on an improved response time and accuracy To provide device.

Diese Aufgabe wird durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des unabhängigen Anspruchs gelöst. In davon abhängigen Ansprüchen sind vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen angegeben.These The object is achieved by a device having the features of the independent claim. In it dependent claims Advantageous embodiments and developments are given.

Die erfindungsgemäße Vorrichtung ist dadurch gekennzeichnet, dass das thermische Sensorelement an seiner dem Substrat zugewandten Seite im Bereich seiner Wärmeübertragungsfläche mehrere integral mit dem Sensorelement ausgebildete Wärmeübertragungselemente aufweist, die sich zwischen Ausnehmungen erstrecken und von dem thermischen Sensorelement vorspringen und das Substrat berühren.The inventive device is characterized in that the thermal sensor element to its side facing the substrate in the region of its heat transfer surface several has integral with the sensor element formed heat transfer elements, which extend between recesses and of the thermal Project sensor element and touch the substrate.

Als Wärmeübertragungsfläche wird im Folgenden die mit dem Substrat in direktem oder indirektem thermischen Kontakt stehende Oberfläche des thermischen Sensorelements verstanden, über die eine Übertragung der Wärme vom thermischen Sensorelement auf das Substrat erfolgt. Die Flächenausdehnung des thermischen Sensorelements bezeichnet hingegen die Projektionsfläche des thermischen Sensorelements auf die Substratoberfläche bei einer im rechten Winkel zur Oberfläche des Substrats erfolgenden Projektion des Sensorelements auf die Substratoberfläche des Substrats. Hierbei werden durch Erhebungen und Vertiefungen entstehende Oberflächenvergrößerungen beziehungsweise Oberflächenverkleinerungen nicht berücksichtigt. Im Falle eines flachen, parallel zum Substrat angeordneten thermischen Sensorelements entspricht die Flächenausdehnung des thermischen Sensorelements seiner Oberfläche.When Heat transfer surface is in the following, those with the substrate in direct or indirect thermal Contact standing surface understood the thermal sensor element via which a transmission the heat from the thermal sensor element to the substrate. The area extent the thermal sensor element, however, denotes the projection surface of the thermal sensor element on the substrate surface at one taking place at right angles to the surface of the substrate Projection of the sensor element on the substrate surface of the Substrate. These are caused by elevations and depressions surface enlargements or surface reductions not considered. In the case of a flat, parallel to the substrate arranged thermal Sensor element corresponds to the surface area the thermal sensor element of its surface.

Durch die kleinere Ausgestaltung der Wärmeübertragungsfläche des thermischen Sensorelements im Vergleich zu seiner Flächenausdehnung wird die ungewollte Wärmeübertragung zwischen thermischem Sensorelement und Substrat verringert, so dass das thermische Sensorelement vom Substrat thermisch entkoppelt ist und in etwa seine Temperatur beibehält. Hierdurch wird die Ansprechzeit der erfindungsgemäßen Vorrichtung signifikant verringert.Due to the smaller design of the heat transfer surface of the thermal sensor element compared to its surface area, the unwanted heat transfer between the thermal sensor element and the substrate is reduced, so that the thermal sensor element from the Subst rat thermally decoupled and maintains its temperature approximately. As a result, the response time of the device according to the invention is significantly reduced.

Die Temperatur des thermischen Sensorelements korrespondiert ferner mit der zu ermittelnden Messgröße der erfindungsgemäßen Vorrichtung, wodurch die erfindungsgemäße Vorrichtung eine höhere Messgenauigkeit im Vergleich zu einem schlecht wärmeisolierten thermischen Sensorelement aufweist.The Temperature of the thermal sensor element also corresponds with the measured variable to be determined of the device according to the invention, whereby the device according to the invention a higher Measurement accuracy compared to a poorly thermally insulated thermal sensor element having.

Bei der erfindungsgemäßem Vorrichtung ist das thermische Sensorelement entlang seiner Flächenausdehnung wenigstens teilweise vom Substrat beabstandet angeordnet und berührt das Substrat mit seiner Wärmeübertragungsfläche. Diese Anordnung des thermischen Sensorelements bezüglich des Substrats ermöglicht eine gute Wärmeisolation beziehungsweise thermische Entkopplung beider Vorrichtungskomponenten, da der direkte thermische Kontakt zwischen beiden verringert ist und eine Wärmeübertragung nur im Bereich der Kontaktfläche des thermischen Sensorelements und des Substrats stattfindet. In diesem Zusammenhang ist es besonders bevorzugt, dass zwischen dem thermischen Sensorelement und dem Substrat ein luft- oder gasgefüllter Hohlraum vorhanden ist, der die thermische Entkopplung des thermischen Sensorelements und des Substrats erheblich verbessert.at the inventive device is the thermal sensor element along its surface area At least partially spaced from the substrate and touches the Substrate with its heat transfer surface. These Arrangement of the thermal sensor element with respect to the substrate allows a good heat insulation respectively thermal decoupling of both device components, since the direct Thermal contact between both is reduced and heat transfer only in the area of the contact area takes place of the thermal sensor element and the substrate. In In this context, it is particularly preferred that between the thermal sensor element and the substrate an air or gas-filled cavity is present, the thermal decoupling of the thermal sensor element and the substrate significantly improved.

Bei erfindungsgemäßem Vorrichtung weist das thermische Sensorelement an seiner dem Substrat zugewandten Seite im Bereich seiner Wärmeübertragungsfläche wenigstens ein Wärmeübertragungselement auf, das von dem thermischen Sensorelement vorspringt und das Substrat berührt. Durch die Ausbildung eines zwischen dem thermischen Sensorelement und dem Substrat vorhandenen Wärmeübertragungselements entsteht die wenigstens teilweise beabstandete Anordnung des thermischen Sensorelements vom Substrat, so dass die Wärmeisolierung des thermischen Sensorelements besonders gut ist. Das Wärmeübertragungselement kann beispielsweise integral mit dem thermischen Sensorelement ausgebildet oder aus einem zu dem Material des thermischen Sensorelements verschiedenen Material gefertigt sein.at inventive device has the thermal sensor element facing the substrate at its Side in the region of its heat transfer surface at least a heat transfer element which protrudes from the thermal sensor element and the substrate touched. By the formation of a between the thermal sensor element and the substrate existing heat transfer element arises the at least partially spaced arrangement of the thermal sensor element from the substrate, leaving the heat insulation the thermal sensor element is particularly good. The heat transfer element For example, it may be integrally formed with the thermal sensor element or a material different from the material of the thermal sensor element be made.

Vorzugsweise sind die Wärmeübertragungselemente entlang der Flächenausdehnung des thermischen Sensorelements regelmäßig verteilt angeordnet. Hierdurch wird eine besonders stabile Bauweise der erfindungsgemäßen Vorrichtung gewährleistet, da das thermische Sensorelement in regelmäßigen Abständen mit dem Substrat verbunden ist. Ferner erfolgt der Wärmeübertrag auf das Substrat an mehreren ausgewählten Substratbereichen, so dass eine temperaturbedingte Materialdegradation oder -ermüdung des Substrats durch einen erhöhten Wärmeübertrag an einem einzigen Substratbereich vermieden wird und folglich die Lebensdauer der erfindungsgemäßen Vorrichtung besonders lang ist.Preferably are the heat transfer elements along the surface area arranged distributed regularly the thermal sensor element. hereby becomes a particularly stable construction of the device according to the invention guaranteed since the thermal sensor element is connected to the substrate at regular intervals is. Furthermore, the heat transfer takes place on the substrate at a plurality of selected substrate areas, such that a temperature-induced material degradation or fatigue of the Substrate by increased heat transfer is avoided on a single substrate area and consequently the Life of the device according to the invention is particularly long.

Bei einer anderen Ausführungsform ist ein Wärmeisolierelement zum thermischen Isolieren des thermischen Sensorelements vom Substrat zwischen dem Substrat und dem thermischen Sensorelement vorhanden, und das Wärmeisolierelement berührt das thermische Sensorelement entlang wenigstens eines Teils der Wärmeübertragungsfläche des thermischen Sensorelements. Das zusätzlich zwischen dem Substrat und dem thermischen Sensorelement anordnenbare Wärmeisolierelement bewirkt eine zusätzliche thermische Isolierung beider Bauteile, so dass eine Wärmeübertragung vom thermischen Sensorelement auf das Substrat entsprechend verringert und dadurch die Ansprechzeit der erfindungsgemäßen Vorrichtung erhöht wird. Das Wärmeisolierelement kann sich beispielsweise entlang der gesamten Flächenausdehnung des thermischen Sensorelements erstrecken oder auch nur Teilbereiche zwischen dem thermischen Sensorelement und dem Substrat ausfüllen.at another embodiment is a heat insulating element for thermally insulating the thermal sensor element from the substrate present between the substrate and the thermal sensor element, and the heat insulating element touch that thermal sensor element along at least part of the heat transfer surface of the thermal sensor element. That in addition between the substrate and the thermal sensor element can be arranged heat insulating causes a additional thermal insulation of both components, allowing a heat transfer correspondingly reduced by the thermal sensor element to the substrate and As a result, the response time of the device according to the invention is increased. The heat insulating element can, for example, along the entire surface extent of the thermal Extend sensor element or even partial areas between the fill thermal sensor element and the substrate.

Weiterhin kann das Wärmeisolierelement das thermische Sensorelement entlang der gesamten Wärmeübertragungsfläche des thermischen Sensorelements berühren. Dadurch wird gewährleistet, dass die bereits geringe Wärmeübertragung vom thermischen Sensorelement auf das Substrat noch weiter reduziert wird, da diese beiden Vorrichtungskomponenten nur in indirektem thermischen Kontakt stehen.Farther can the heat insulating the thermal sensor element along the entire heat transfer surface of the touch the thermal sensor element. This will ensure that the already low heat transfer further reduced by the thermal sensor element on the substrate is because these two device components only in indirect thermal contact stand.

Bei einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist das thermische Sensorelement derart strukturiert, dass die vom Sub strat abgewandte Oberfläche des thermischen Sensorelements im Vergleich zur Flächenausdehnung des thermischen Sensorelements vergrößert ist. Dies bewirkt, dass die Kontaktfläche des thermischen Sensorelements mit der Umgebung vergrößert wird, so dass eine höhere Sensitivität des thermischen Sensorelements und damit der erfindungsgemäßen Vorrichtung mit der Umgebung erreicht wird. Im Falle der Ausgestaltung des thermischen Sensorelements als Temperaturfühler können kleine Temperaturschwankungen der Umgebung besonders schnell erfasst werden.at a further preferred embodiment is the thermal sensor element structured such that the of Sub strat surface facing away of the thermal sensor element compared to the surface area of the thermal sensor element is increased. This causes the contact area the thermal sensor element is enlarged with the environment, so that a higher sensitivity the thermal sensor element and thus the device according to the invention is achieved with the environment. In the case of the design of the thermal Sensor element as a temperature sensor can small temperature fluctuations of the environment detected particularly quickly become.

Vorzugsweise ist eine Schutzschicht zum Abdichten des Substrats, des thermischen Sensorelements und/oder des Wärmeisolierelements auf dem Substrat, dem thermischen Sensorelement und/oder dem Wärmeisolierelement ausgebildet. Die zusätzliche Schutzschicht bewirkt einen Schutz der erfindungsgemäßen Vorrichtung vor Umgebungseinflüssen, die die Stabilität und die Sensitivität der erfindungsgemäßen Vorrichtung negativ beeinträchtigen können.Preferably, a protective layer is formed for sealing the substrate, the thermal sensor element and / or the heat insulating element on the substrate, the thermal sensor element and / or the heat insulating element. The additional protective layer causes a protection of the device according to the invention from environmental influences that adversely affect the stability and sensitivity of the device according to the invention can.

Bei einer weiteren bevorzugten Ausführungsform sind das thermische Sensorelement, das Wärmeübertragungselement und/oder das Wärmeisolierelement durch Lithographieverfahren hergestellt. Diese Art der Herstellung der einzelnen Vorrichtungskomponenten ist besonders einfach, kostengünstig und mit aus dem Stand der Technik ausreichend bekannten Maßnahmen realisierbar.at a further preferred embodiment are the thermal sensor element, the heat transfer element and / or the heat insulating element produced by lithography process. This type of production the individual device components is particularly simple, inexpensive and with well-known from the prior art measures realizable.

Vorzugsweise sind das Substrat aus Glas, das thermische Sensorelement aus Molybdän und das Wärmeisolierelement aus Siliziumdioxid gefertigt. Die Verwendung von Glas und Siliziumdioxid als Substrat- und Wärmeisolierelementmaterial ermöglicht eine besonders kostengünstige Herstellung der erfindungsgemäßen Vorrichtung. Molybdän weist eine hohe Wärmeleitfähigkeit auf, so dass sich dieses Material besonders gut als Basismaterial für das thermische Sensorelement eignet.Preferably are the substrate of glass, the thermal sensor element of molybdenum and the thermal insulating made of silicon dioxide. The use of glass and silica as a substrate and heat insulating element material allows a particularly cost-effective Production of the device according to the invention. molybdenum has a high thermal conductivity on, making this material especially good as a base material for the thermal Sensor element is suitable.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist die Vorrichtung ein einen Gasstrom messender Gasmengensensor, der ein als Heizelement oder Temperaturfühler ausgestaltetes thermisches Sensorelement aufweist. Diese Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung kommt beispielsweise im Bereich der Automobilindustrie zum Einsatz.In a further preferred embodiment if the device is a gas flow measuring gas quantity sensor, a designed as a heating element or temperature sensor thermal Has sensor element. This embodiment of the device according to the invention is used for example in the automotive industry.

Weitere Vorteile und Eigenschaften der Erfindung gehen aus der nachfolgenden Beschreibung hervor, in der Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung im Einzelnen erläutert werden. Es zeigen:Further Advantages and characteristics of the invention will become apparent from the following Description forth, in the embodiments the invention with reference to the drawing will be explained in detail. Show it:

1 eine Aufsicht auf einen Gasmengensensor; 1 a plan view of a gas quantity sensor;

2 einen Querschnitt durch ein erstes Ausführungsbeispiel eines Heizarms des Gasmengensensors aus 1 entlang der Linie II-II; 2 a cross section through a first embodiment of a heating arm of the gas quantity sensor 1 along the line II-II;

3 eine Aufsicht auf ein weiteres Ausführungsbeispiel des Heizarms des Gasmengensensors aus 1; 3 a plan view of another embodiment of the heating of the gas quantity sensor 1 ;

4A4D vier Prozessstadien eines Verfahrens zur Herstellung des Heizarms des Gasmengensensors aus 2; und 4A - 4D four process stages of a method for producing the heating arm of the gas quantity sensor 2 ; and

5A5D vier Prozessstadien eines Verfahrens zur Herstellung des Heizarms des Gasmengensensors aus 3. 5A - 5D four process stages of a method for producing the heating arm of the gas quantity sensor 3 ,

In 1 ist eine Vorrichtung 1 dargestellt, die zum Erfassen einer Messgröße eingerichtet ist.In 1 is a device 1 represented, which is set up to detect a measured variable.

Bei der in 1 dargestellten Vorrichtung 1 handelt es sich um einen Gasmengensensor, der einen Gasstrom 2 in einem Strömungskanal 3 misst. Der Strömungskanal 3 wird durch die in 1 als gestrichelte Linien dargestellten Wände 4 be grenzt. Der Gasmengensensor 1 weist ein Substrat 5 auf, das in den Strömungskanal 3 hineinragt und einen mit dem Substrat 5 integral ausgebildeten Heizarm 6 und einen mit dem Substrat 5 integral ausgebildeten Temperaturmessarm 7 aufweist. Auf dem Heizarm 6 befindet sich ein Heizelement 8, und auf dem Temperaturmessarm 7 ist ein Temperaturfühler 9 angeordnet. Das Heizelement 8 und der Temperaturfühler 9 sind thermische Sensorelemente, die zur quantitativen Erfassung des Gasstroms 2 eingesetzt werden. Das Heizelement 8 und der Temperaturfühler 9 sind über Leiterbahnen 10 mit einer Steuerschaltung 11 verbunden, die dazu eingerichtet ist, den Betrieb des Gasmengensensors 1 zu gewährleisten. Der Gasmengensensor 1 verfügt ferner über Kontakte 12, über die der Gasmengensensor 1 elektrisch mit beispielsweise einer Motorsteuerung eines Kraftfahrzeugs kontaktierbar ist.At the in 1 illustrated device 1 it is a gas flow sensor, which is a gas flow 2 in a flow channel 3 measures. The flow channel 3 is through the in 1 shown as dashed lines walls 4 limited. The gas quantity sensor 1 has a substrate 5 on that in the flow channel 3 protrudes and one with the substrate 5 integrally formed Heizarm 6 and one with the substrate 5 integrally formed temperature measuring arm 7 having. On the heating arm 6 there is a heating element 8th , and on the temperature arm 7 is a temperature sensor 9 arranged. The heating element 8th and the temperature sensor 9 are thermal sensor elements used for quantitative detection of the gas flow 2 be used. The heating element 8th and the temperature sensor 9 are via tracks 10 with a control circuit 11 connected, which is adapted to the operation of the gas quantity sensor 1 to ensure. The gas quantity sensor 1 also has contacts 12 via which the gas quantity sensor 1 is electrically contacted with, for example, an engine control of a motor vehicle.

Bei der in 2 dargestellten Ausführungsform des Heizarms 6 des Gasmengensensors 1 ist das Heizelement 8 direkt auf dem Substrat 5 angeordnet, so dass beide Sensorkomponenten miteinander in direktem thermischen Kontakt stehen. Um eine Wärmeableitung vom Heizelement 8 auf das Substrat 5 zu verhindern, ist eine Wärmeübertragungsfläche 13 des Heizelements 8 geringer als eine Flächenausdehnung 14 des Heizelements 8 entlang des Substrats 5 ausgebildet. In dem gezeigten Ausführungsbeispiel entspricht die Wärmeübertragungsfläche 13 der Kontaktfläche 15 des Heizelements 8 und des Substrats 5. Die Flächenausdehnung 14 des Heizelements 8 entlang des Substrats 5 bezeichnet eine Querschnittsfläche des Heizelements 8 parallel zum Substrat 5.At the in 2 illustrated embodiment of the heating arm 6 of the gas quantity sensor 1 is the heating element 8th directly on the substrate 5 arranged so that both sensor components are in direct thermal contact with each other. To heat dissipation from the heating element 8th on the substrate 5 to prevent is a heat transfer surface 13 of the heating element 8th less than a surface area 14 of the heating element 8th along the substrate 5 educated. In the embodiment shown corresponds to the heat transfer surface 13 the contact surface 15 of the heating element 8th and the substrate 5 , The area extent 14 of the heating element 8th along the substrate 5 denotes a cross-sectional area of the heating element 8th parallel to the substrate 5 ,

Die im Vergleich zur Flächenausdehnung 14 des Heizelements 8 geringere Wärmeübertragungsfläche 13 bewirkt, dass ein Wärmeverlust über die Kontaktfläche 15 beider Sensorkomponenten 5, 8 verringert oder unterdrückt wird, so dass eine dem Heizelement 8 direkt zugeführte Heizleistung nicht durch eine ungewollte Wärmeableitung an das Substrat 5 reduziert wird. Daher weist der Luftmengensensor 1 eine schnelle Ansprechzeit auf.The compared to the area expansion 14 of the heating element 8th lower heat transfer area 13 causes a heat loss over the contact surface 15 both sensor components 5 . 8th is reduced or suppressed, so that the heating element 8th directly supplied heating power not by an unwanted heat dissipation to the substrate 5 is reduced. Therefore, the airflow sensor points 1 a fast response time.

Das Heizelement 8 weist einen rechteckförmigen Abschnitt 16 auf, der von einer Oberfläche 17 des Substrats 5 beabstandet angeordnet ist. Auf der dem Substrat 5 zugewandten Unterseite 18 des Heizelements 8 sind Wärmeübertragungselemente 19 angeordnet, die vom Heizelementabschnitt 16 zum Substrat 5 hin vorspringen. Stirnflächen der Wärmeübertragungselemente 19 bilden die Wärmeübertragungsfläche 13 des Heizelements 8 und berühren die Oberfläche 17 des Substrats 5. Die Wärmeübertragungselemente 19 sind integral mit dem Heizelement 8 ausgebildet.The heating element 8th has a rectangular section 16 on top of that, from a surface 17 of the substrate 5 spaced apart. On the substrate 5 facing bottom 18 of the heating element 8th are heat transfer elements 19 arranged from the heating element section 16 to the substrate 5 to project out. End faces of the heat transfer elements 19 form the heat transfer surface 13 of the heating element 8th and touch the surface 17 of the substrate 5 , The heat transfer elements 19 are integral with the heating element 8th educated.

Die Wärmeübertragungselemente 19 bilden brückenartige Strukturen, zwischen denen Ausnehmungen 20 ausgebildet sind. Die Wärmeübertragung entlang von Seitenflächen der Ausnehmungen 20 ist stark vermindert, da die mit Luft oder Gas gefüllten Ausnehmungen 20 das Heizelement 8 im Bereich ihrer Seitenflächen thermisch vom Substrat 5 isolieren.The heat transfer elements 19 form bridge-like structures, between which recesses 20 are formed. The heat transfer along side surfaces of the recesses 20 is greatly diminished because the cavities filled with air or gas 20 the heating element 8th in the region of their side surfaces thermally from the substrate 5 isolate.

Eine vom Substrat 5 abgewandte Oberfläche 21 des Heizelements 8 weist als Vertiefungen ausgebildete Strukturen 22 auf. Es ist ebenfalls möglich, dass die Strukturen 22 als Erhebungen ausgebildet sind. Durch die Strukturierung der Oberfläche 21 des Heizelements 8 wird eine Kontaktfläche des Gasmengensensors 1 mit der Umgebung vergrößert, so dass eine bessere Kopplung des Heizelements 8 an die Umgebung gewährleistet wird und die Sensitivität des Gasmengensensors 1 verbessert ist. Die Oberflächenstrukturen 22 des Heizelements 8 sind entlang der Flächenausdehnung 14 des Heizelements 8 regelmäßig verteilt angeordnet, sie können jedoch auch unregelmäßig oder abschnittsweise verschieden strukturiert ausgebildet sein.One from the substrate 5 remote surface 21 of the heating element 8th has structures formed as depressions 22 on. It is also possible that the structures 22 are designed as surveys. By structuring the surface 21 of the heating element 8th becomes a contact surface of the gas quantity sensor 1 Enlarged with the environment, allowing a better coupling of the heating element 8th is ensured to the environment and the sensitivity of the gas quantity sensor 1 is improved. The surface structures 22 of the heating element 8th are along the surface extent 14 of the heating element 8th arranged distributed regularly, but they can also be formed irregularly or partially differently structured.

Die regelmäßig verteilten Strukturen 22 der Oberfläche 21 des Heizelements 8 bieten den Vorteil, dass sie beispielsweise durch Photolithographieverfahren besonders einfach und kostengünstig hergestellt werden können.The regularly distributed structures 22 the surface 21 of the heating element 8th offer the advantage that they can be produced in a particularly simple and cost-effective manner, for example by means of photolithographic processes.

Der Gasmengensensor 1 weist ebenfalls eine Schutzschicht 23 auf, die das Heizelement 8 und das Substrat 5 von der Umgebung kapselt. Hierbei sind das Heizelement 8 und das Substrat 5 in die Schutzschicht 22 eingegossen, die beide Komponenten des Gasmengensensors 1 umhüllt.The gas quantity sensor 1 also has a protective layer 23 on that the heating element 8th and the substrate 5 encapsulated by the environment. Here are the heating element 8th and the substrate 5 in the protective layer 22 poured in, both components of the gas quantity sensor 1 envelops.

Das Substrat 5 des Gasmengensensors 1 besteht aus elektrisch isolierendem Glas, während das Heizelement 8 aus einem Material auf der Basis von Molybdän gefertigt ist, das eine große Wärmeleitfähigkeit ausweist. Die Schutzschicht 23 ist aus Siliziumdioxid gefertigt, das eine ausreichende elektrische Isolation gewährleistet und besonders exakt verarbeitbar ist.The substrate 5 of the gas quantity sensor 1 consists of electrically insulating glass, while the heating element 8th is made of a material based on molybdenum, which has a high thermal conductivity. The protective layer 23 is made of silicon dioxide, which ensures sufficient electrical insulation and is particularly accurate processable.

Eine Kantenlänge der in etwa quadratischen Querschnittsfläche des Wärmeübertragungselements 19 beträgt etwa 5–10 μm, während eine Beabstandung des Heizelementabschnitts 16 von der Substratoberfläche 17 etwa 0,5 μm beträgt. Eine im rechten Winkel zur Substratoberfläche 17 gemessene Dickenausdehnung des Heizelements 8 beträgt etwa 1 μm, während eine laterale Ausdehnung des als Leiterbahn ausgebildeten Heizelements 8 etwa 5–10 μm beträgt.An edge length of the approximately square cross-sectional area of the heat transfer element 19 is about 5-10 microns, while a spacing of the Heizelementabschnitts 16 from the substrate surface 17 is about 0.5 microns. One at right angles to the substrate surface 17 measured thickness expansion of the heating element 8th is about 1 micron, while a lateral extent of the formed as a conductor heating element 8th is about 5-10 microns.

3 zeigt ein abgewandeltes Ausführungsbeispiel des Heizarms 6 des Gasmengensensors 1 in 1. In Übereinstimmung mit dem in 2 dargestellten Gasmengensensors 1 ist ein Heizelement 24 auf einem Wärmeisolierelement 25 angeordnet, das wiederum auf einem Substrat 26 angebracht ist. Das Wärmeisolierelement 25 bildet somit ein Zwischenelement zwischen dem Heizelement 24 und dem Substrat 26. 3 shows a modified embodiment of the heating arm 6 of the gas quantity sensor 1 in 1 , In accordance with the in 2 illustrated gas quantity sensor 1 is a heating element 24 on a heat insulating element 25 arranged, in turn, on a substrate 26 is appropriate. The heat insulating element 25 thus forms an intermediate element between the heating element 24 and the substrate 26 ,

Das Heizelement 24 ist als längliche Leiterbahn ausgebildet, die sich serpentinenartig, parallel zu einer Substratoberfläche 27 erstreckt. Die Leiterbahn weist zueinander parallele erste Abschnitte 28 auf, die über zweite Abschnitte 29 miteinander verbunden sind. Die zweiten Abschnitte 29 verlaufen quer zu den ersten Abschnitten 28 und sind etwa viermal kür zer. Dies bewirkt, dass das Heizelement 24 einerseits eine ausreichend große Kontaktfläche mit der Umgebung hat, andererseits jedoch die als Wärmeabführfläche wirkende Oberfläche des Heizelements 24 entsprechend vermindert ist, so dass eine Wärmeübertragung auf das Substrat 26 im Vergleich zu einer flächigen Ausgestaltung des Heizelements 24 entsprechend kleiner ist.The heating element 24 is formed as an elongated conductor, which is serpentine, parallel to a substrate surface 27 extends. The conductor has mutually parallel first sections 28 on that over second sections 29 connected to each other. The second sections 29 run transversely to the first sections 28 and are about four times shorter. This causes the heating element 24 on the one hand has a sufficiently large contact surface with the environment, on the other hand, however, acting as a heat dissipation surface surface of the heating element 24 is reduced accordingly, so that a heat transfer to the substrate 26 in comparison to a flat configuration of the heating element 24 is correspondingly smaller.

Das zwischen dem Heizelement 24 und dem Substrat 26 angeordnete Wärmeisolierelement 25 besteht aus einer Vielzahl von länglichen, zueinander parallel verlaufenden Stegen 30. Die Stege 30 weisen einen in etwa rechteckförmigen Querschnitt auf und verlaufen quer zu den ersten Abschnitten 28 des Heizelements 24. Dadurch liegt das Heizelement 24 mit etwa rechteckigen beziehungsweise quadratischen Kontaktflächen 31 auf dem Wärmeisolierelement 25 auf. Der Umriss der Kontaktflächen 31 ist in 3 durch eine gestrichelte Linie dargestellt. Die Kontaktflächen 31 bilden Wärmeübertragungsflächen 32 des Heizelements 24, über die die Wärme des Heizelements 24 an das Substrat 26 geleitet wird. Im Bereich von zwischen den Stegen 30 vorhandenen Zwischenräumen 33 sitzt das Heizelement 24 nicht auf der Oberfläche 27 des Substrats 26 auf, sondern ist von dieser beabstandet. Durch diese Hohlräume wird eine besonders gute Wärmeisolierung des Heizelements 24 vom Substrat 26 gewährleistet.That between the heating element 24 and the substrate 26 arranged heat insulating element 25 consists of a variety of elongated, mutually parallel webs 30 , The bridges 30 have an approximately rectangular cross-section and extend transversely to the first sections 28 of the heating element 24 , This is the heating element 24 with approximately rectangular or square contact surfaces 31 on the heat insulating element 25 on. The outline of the contact surfaces 31 is in 3 represented by a dashed line. The contact surfaces 31 form heat transfer surfaces 32 of the heating element 24 , about the heat of the heating element 24 to the substrate 26 is directed. In the area of between the jetties 30 existing gaps 33 sits the heating element 24 not on the surface 27 of the substrate 26 on, but is spaced from this. Through these cavities, a particularly good thermal insulation of the heating element 24 from the substrate 26 guaranteed.

Vorzugsweise ist das Substrat 26 aus Glas, das Wärmeisolierschicht 25 aus Siliziumdioxid und das Heizelement 24 aus einem Material auf der Basis von Molybdän gefertigt. Abmessungen des Heizelements 24 entsprechen etwa den Abmessungen des Heizelements 8 in 2.Preferably, the substrate is 26 made of glass, the heat insulating layer 25 made of silicon dioxide and the heating element 24 made of a material based on molybdenum. Dimensions of the heating element 24 correspond approximately to the dimensions of the heating element 8th in 2 ,

Im Folgenden werden zwei Verfahren zum Herstellen der in 2 und 3 dargestellten Gasmengensensoren 1 beschrieben.The following are two methods of making the in 2 and 3 illustrated gas quantity sensors 1 described.

4A zeigt ein erstes Prozessstadium des Verfahrens zur Herstellung des Heizarms 6 des Gasmengensensors 1 in 2. 4A shows a first process stage of the method for producing the Heizarms 6 of the gas quantity sensor 1 in 2 ,

Auf das Substrat 5 ist eine Opferschicht 34 aus einem Nickelchrom aufweisenden Material aufgebracht. Dies kann beispielsweise durch Sputtern oder durch Vakuumbedampfen erfolgen. Danach wird die Opferschicht 34 geeignet strukturiert, so dass die Opferschicht 34, wie in 4B dargestellt, durch die Opferschicht hindurchgehende Öffnungen 35 mit zu der Oberfläche 17 des Substrats 5 etwa senkrecht verlaufenden Seitenwänden 36 aufweist. Zu diesem Zweck wird die Opferschicht 34 zuerst mit Photolack beschichtet, der dann durch ein ein geeignetes Muster aufweisendes Retikel hindurch belichtet wird. Im Anschluss hieran wird die Opferschicht 34 derart selektiv geätzt, dass die Öffnungen 35 in der Opferschicht 34 entstehen. Der Ätzschritt kann beispielsweise mittels nasschemischen Ätzen durchgeführt werden. Danach wird das Heizelement 8 durch Bedampfen als eine weitere Beschichtung auf das Substrat 5 und die Opferschicht 34 aufgebracht. Dies ist in dem in 4C dargestellten dritten Prozessstadium gezeigt. Danach wird die Oberfläche 21 des Heizelements 8 geeignet mit Vertiefungen oder Erhebungen strukturiert, bevor die Opferschicht 34 durch nasschemisches Ätzen selektiv entfernt wird, so dass die Ausnehmungen 20 zwischen dem Heizelement 8 und dem Substrat 5 entstehen. Abschließend wird gemäß 4D die Schutzschicht 23 aufgebracht, die das Heizelement 8 und das Substrat 5 gegenüber einer Umgebung abdichtet.On the substrate 5 is a sacrificial layer 34 applied from a nickel-chromium-containing material. This can be done, for example, by sputtering or vacuum vapor deposition. After that, the sacrificial layer becomes 34 suitably structured so that the sacrificial layer 34 , as in 4B represented, through openings passing through the sacrificial layer 35 with to the surface 17 of the substrate 5 approximately perpendicular side walls 36 having. For this purpose, the sacrificial layer becomes 34 first coated with photoresist, which is then exposed through a reticle having a suitable pattern. This is followed by the sacrificial shift 34 etched so selectively that the openings 35 in the sacrificial layer 34 arise. The etching step can be carried out, for example, by means of wet-chemical etching. Thereafter, the heating element 8th by vapor deposition as another coating on the substrate 5 and the sacrificial layer 34 applied. This is in the in 4C shown third process stage shown. After that, the surface becomes 21 of the heating element 8th properly structured with depressions or elevations before the sacrificial layer 34 is selectively removed by wet-chemical etching, so that the recesses 20 between the heating element 8th and the substrate 5 arise. Finally, according to 4D the protective layer 23 applied to the heating element 8th and the substrate 5 seals against an environment.

Im Folgenden wird das Verfahren zur Herstellung des in 3 dargestellten Heizarms 6 des Gasmengensensors 1 erläutert. Zuerst wird das Wärmeisolierelement 25 gemäß 5A auf das Substrat 26 aufgebracht. Danach wird das Wärmeisolierelement 25 mittels nicht näher ausgeführter Photolithographieprozesse derart strukturiert, dass sich die länglichen Stege 30 bilden, zwischen denen die Zwischenräume 33 durch nasschemisches Ätzen ausgebildet werden. Danach wird gemäß 5B eine Opferschicht 37 aufgebracht, die die Zwischenräume 33 auffüllt und die Stege 30 umschließt. Dann wird die Opferschicht 37 so lange geätzt, bis die Stege 30 frei liegen. Als nächstes wird gemäß 5C das Heizelement 24 schichtartig auf die Stege 30 und die Opferschicht 37 durch Bedampfen aufgebracht und geeignet strukturiert, so dass seine in 3 gezeigte serpentinenartige Ausgestaltung entsteht. Dazu ist beispielsweise eine Beschichtung des Heizelements 24 mit Photolack sowie Belichten und selektives Ätzen des Heizelements 24 notwendig. Als nächstes wird die in den Zwischenräumen 33 befindliche Opferschicht 37 selektiv durch nasschemisches Ätzen entfernt. Die Zwischenräume 33 bleiben somit frei. Abschließend wird gemäß 5D eine Schutzschicht 38 aufgebracht, die das Substrat 26, das Wärmeisolierelement 25 und das Heizelement 24 umschließt.In the following, the method for producing the in 3 shown Heizarms 6 of the gas quantity sensor 1 explained. First, the heat insulating element 25 according to 5A on the substrate 26 applied. Thereafter, the heat insulating member 25 structured by means of non-detailed photolithography processes such that the elongated webs 30 form, between which the spaces between 33 be formed by wet chemical etching. Thereafter, according to 5B a sacrificial layer 37 Applied to the interstices 33 fills up and the jetties 30 encloses. Then the sacrificial layer becomes 37 Etched until the bridges 30 lie free. Next is according to 5C the heating element 24 layered on the footbridges 30 and the sacrificial layer 37 applied by steaming and suitably structured so that its in 3 shown serpentine-like design arises. For this purpose, for example, a coating of the heating element 24 with photoresist as well as exposure and selective etching of the heating element 24 necessary. Next is the in between spaces 33 located sacrificial layer 37 selectively removed by wet chemical etching. The gaps 33 stay free. Finally, according to 5D a protective layer 38 applied to the substrate 26 , the thermal insulation element 25 and the heating element 24 encloses.

Abschließend sei noch darauf hingewiesen, dass Merkmale und Eigenschaften, die im Zusammenhang mit einem bestimmten Ausführungsbeispiel beschrieben worden sind, auch mit einem anderen Ausführungsbeispiel kombiniert werden können, außer wenn dies aus Gründen der Kompatibilität ausgeschlossen ist.In conclusion, be it should be noted that features and properties that are in the Described in connection with a particular embodiment may also be combined with another embodiment can, except if for reasons the compatibility is excluded.

11
Vorrichtungcontraption
22
Gasstromgas flow
33
Strömungskanalflow channel
44
Wändewalls
55
Substratsubstratum
66
Heizarmheating arm
77
TemperaturmessarmTemperaturmessarm
88th
Heizelementheating element
99
Temperaturfühlertemperature sensor
1010
Leiterbahnenconductor tracks
1111
Steuerschaltungcontrol circuit
1212
Kontaktecontacts
1313
WärmeübertragungsflächeHeat transfer surface
1414
Flächenausdehnungsurface area
1515
Kontaktflächecontact area
1616
Heizelementabschnittheating element
1717
Substratoberflächesubstrate surface
1818
Unterseitebottom
1919
WärmeübertragungselementHeat transfer element
2020
Ausnehmungrecess
2121
Heizelementoberflächeheating element
2222
Strukturstructure
2323
Schutzschichtprotective layer
2424
Heizelementheating element
2525
Wärmeisolierelementthermal insulating
2626
Substratsubstratum
2727
Substratoberflächesubstrate surface
2828
Erster Abschnittfirst section
2929
Zweiter Abschnittsecond section
3030
Stegweb
3131
Kontaktflächecontact area
3232
WärmeübertragungsflächeHeat transfer surface
3333
Zwischenraumgap
3434
Opferschichtsacrificial layer
3535
Öffnung OpferschichtOpening sacrificial layer
3636
Seitenwand OpferschichtSide wall sacrificial layer
3737
Opferschichtsacrificial layer
3838
Schutzschichtprotective layer

Claims (8)

Vorrichtung zur Bestimmung einer Messgröße eines Gases mit einem Substrat (5) und einem mit dem Substrat (5) in thermischer Verbindung stehenden thermischen Sensorelement (8), wobei eine Wärmeübertragungsfläche (13) des thermischen Sensorelements (8) zum Übertragen der Wärme des thermischen Sensorelements (8) auf das Substrat (5) geringer als eine Flächenausdehnung (14) des thermischen Sensorelements (8) entlang des Substrats (5) ist, und wobei das thermische Sensorelement (8) entlang seiner Flächenausdehnung (14) wenigstens teilweise vom Substrat (5) beabstandet angeordnet ist und das Substrat (5) mit seiner Wärmeübertragungsfläche (13) berührt, dadurch gekennzeichnet, dass das thermische Sensorelement (8) an seiner dem Substrat (5) zugewandten Seite (18) im Bereich seiner Wärmeübertragungsfläche (13) mehrere integral mit dem Sensorelement (8) ausgebildete Wärmeübertragungselemente (19) aufweist, die sich zwischen Ausnehmungen (20) erstrecken und von dem thermischen Sensorelement (8) vorspringen und das Substrat (5) berühren.Device for determining a measured variable of a gas with a substrate ( 5 ) and one with the substrate ( 5 ) in thermal communication thermal sensor element ( 8th ), wherein a heat transfer surface ( 13 ) of the thermal sensor element ( 8th ) for transferring the heat of the thermal sensor element ( 8th ) on the substrate ( 5 ) less than a surface area ( 14 ) of the thermal sensor element ( 8th ) along the substrate ( 5 ), and wherein the thermal sensor element ( 8th ) along its surface area ( 14 ) at least partially from the substrate ( 5 ) is spaced and the substrate ( 5 ) with its heat transfer surface ( 13 ), characterized in that the thermal sensor element ( 8th ) at its the substrate ( 5 ) facing side ( 18 ) in the region of its heat transfer surface ( 13 ) a plurality of integral with the sensor element ( 8th ) formed heat transfer elements ( 19 ), which extends between recesses ( 20 ) and of the thermal sensor element ( 8th ) and the substrate ( 5 ) touch. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Wärmeübertragungselemente (19) entlang der Flächenausdehnung (14) des thermischen Sensorelements (8) regelmäßig verteilt angeordnet sind.Device according to claim 1, characterized in that the heat transfer elements ( 19 ) along the surface area ( 14 ) of the thermal sensor element ( 8th ) are distributed regularly. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das thermische Sensorelement (8) derart strukturiert ist, dass die vom Substrat (5) abgewandte Oberfläche des thermischen Sensorelements (8) im Vergleich zur Flächenausdehnung (14) des thermischen Sensorelements (8) vergrößert ist.Device according to one of claims 1 or 2, characterized in that the thermal sensor element ( 8th ) is structured such that the from the substrate ( 5 ) facing away from the surface of the thermal sensor element ( 8th ) compared to the area ( 14 ) of the thermal sensor element ( 8th ) is enlarged. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass eine Schutzschicht (23) zum Abdichten des Substrats (5), und/oder des thermischen Sensorelements (8) auf dem Substrat (5) und/oder dem thermischen Sensorelement (8) ausgebildet ist.Device according to one of claims 1 to 3, characterized in that a protective layer ( 23 ) for sealing the substrate ( 5 ), and / or the thermal sensor element ( 8th ) on the substrate ( 5 ) and / or the thermal sensor element ( 8th ) is trained. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das thermische Sensorelement (8) eine Leiterbahn umfasst.Device according to one of claims 1 to 4, characterized in that the thermal sensor element ( 8th ) comprises a conductor track. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass das thermische Sensorelement (8) und/oder die Wärmeübertragungseleelemente (19) durch Lithographieverfahren hergestellt sind.Device according to one of claims 1 to 5, characterized in that the thermal sensor element ( 8th ) and / or the heat transfer elements ( 19 ) are produced by lithography process. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (5) aus Glas und das thermische Sensorelement (8) aus Molybdän gefertigt sind.Device according to one of claims 1 to 6, characterized in that the substrate ( 5 ) of glass and the thermal sensor element ( 8th ) are made of molybdenum. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (1) ein einen Gasstrom messender Gasmengensensor und das thermische Sensorelement (8) ein Heizelement oder ein Temperaturfühler des Gasmengensensors (1) ist.Device according to one of claims 1 to 7, characterized in that the device ( 1 ) a gas flow measuring gas quantity sensor and the thermal sensor element ( 8th ) a heating element or a temperature sensor of the gas quantity sensor ( 1 ).
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