-
Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Elektronenstrahlvorrichtung
und ein Verfahren zum Justieren eines Elektronenstrahls, der von
einer Elektronenstrahlvorrichtung erzeugt wird.
-
Zum
Elektronenstrahlschweißen
wird der im System Katode-Wehneltelektrode-Anode erzeugte Strahl
anschließend
durch Magnetfelder geformt bzw. abgelenkt, wobei die Fokussierung
in der Bohrung einer stromdurchflossenen Spule einen wichtigen Einfluss
hat.
-
Vor
allem für
die Fokussierung ist es erforderlich, dass der Strahl zentrisch
durch die Fokussierspule hindurch tritt, damit rotationssymmetrische Felder
auf den Strahl einwirken und beim Fokussieren nur die Lage der Fokusebene
verändert
wird. In allen anderen Fällen
wird der Strahl zusätzlich
zur Fokusänderung
abgelenkt, so dass der Auftreffpunkt des Strahles auf einem Werkstück bei Variation
des Fokusspulenstromes „wandert”.
-
Damit
der Elektronenstrahl den gewünschten
mittigen Weg durch die Fokussierspule nimmt, wird er üblicherweise
nach der Erzeugung – vor
der Fokussierung – durch
so genannte Zentrier- bzw. Justierspulen
geführt.
Diese erzeugen zwei gekreuzt (x- und y- Richtung) angeordnete Magnetfelder. Durch
geeignete Änderung
der Stromstärke
in den beiden Spulen kann der Strahlweg so justiert werden, dass
er die Fokussierspule im Magnetfeldzentrum passiert.
-
Ein
Problem besteht darin, die Zentrierströme für die korrekte Justierung zu
finden. Dafür
gibt es unterschiedliche bekannte Lösungen.
-
Ganz
traditionell beobachtet der Bediener der EB-Maschine (EB = Electron
Beam = Elektronenstrahl) das Auftreffen des Elektronenstrahls (geringer Leistung)
auf einer ebenen Fläche,
die orthogonal zur Strahlrichtung angeordnet ist. Dies kann eine
Werkstückebene
sein oder auch ein separater Probekörper; vorteilhafterweise verwendet
man einen speziellen Leuchtschirm, d. h. eine mit nachleuchtender
Beschichtung versehene Platte, welche im Folgenden zur Erläuterung
beispielhaft verwendet wird.
-
Auf
dem Schirm entsteht bei exakt auf dessen Oberfläche fokussiertem Strahl ein
leuchtender Punkt. Dieser weitet sich mit zunehmender Defokussierung
auf und umgekehrt. Beim so genannten Durchfokussieren, d. h. Änderung
der Fokussierebene von einer Lage oberhalb des Schirms bis zu einer Lage
unterhalb dessen „atmet” dann der
Leuchtfleck. Das heißt,
er wird bei zyklischem Vorgehen kleiner bis zum Punkt und dann wieder
größer usw.
-
Gemäß der oben
beschriebenen Abhängigkeit
der Leistungsdichteverteilung und der Strahllage von der Qualität des zentrierten
(oder nicht zentrierten) Durchgangs durch die Fokussierspule ergibt
sich zusätzlich
zum oben beschriebenen „Atmen” ein seitliches „Wandern” des Leuchtbildes
auf dem Schirm. Letzteres ist durch korrekte Einstellung der Zentrierströme auszuschließen (oder
bei nicht so guten Systemen zu minimieren).
-
Zu
diesem Zweck arbeitet der Bediener iterativ: Er wählt eine
bestimmte Einstellung der Zentrierströme und führt dann ein zyklisches Durchfokusssieren
aus. Abhängig
von seiner Beobachtung der Bildveränderung auf dem Leuchtschirm
erkennt er dann, dass der eine oder/und der andere Zentrierstrom
in einer gewissen Richtung zu ändern
ist, und wiederholt das Durchfokussieren. Diese Iteration kann – abhängig von
der Erfahrung des Ausführenden – eine merkliche
Zeit verbrauchen, was für
die Verfügbarkeit
der EB-Maschine von Nachteil ist. Und ungeübte Bediener erreichen unter
Umständen
die optimale Zentrierung überhaupt
nicht, was für
das Schweißergebnis
kritisch sein kann.
-
Bekannt
ist deshalb eine Alternative, die auf der Vermessung des Elektronenstrahls
entlang der Strahlachse beruht.
-
Nachteilig
bei dieser Verfahrensweise ist die Notwendigkeit eines nicht unerheblichen
apparativen Aufbaus. Insbesondere bei Kurztakt-Produktionsmaschinen,
die üblicherweise
kleine Kammerabmessungen und darin komplizierte Werkstückspannvorrichtungen
aufweisen, kann ein solcher Mess-Sensor nicht dauerhaft installiert
sein, zumal er dort durch Prozesseinflüsse schnell verschmutzen würde. Ihn im
Bedarfsfalle einzubringen, setzt nicht nur den notwendigen (und
oft nicht gegebenen) Freiraum voraus, sondern erfordert auch geeignete
Halterungen und eine nach außen
geführte
elektrische Verbindung.
-
Die
US 4 160 150 beschreibt
eine Elektronenstrahlschweißvorrichtung,
die dazu angepasst ist, die Neigung der Schmelze, aus der Schweißzone herauszufließen, durch
laufendes Ändern
des Fokussierungszustandes des Elektronenstrahls zu verringern.
-
Die
US 3 748 467 beschreibt
ein Abtastelektronenmikroskop mit einem Mittel zum periodischen Änderung
der Brennweite der letzten Kondensorlinse zwischen zwei Werten und
einem Mittel zum gleichzeitigen Anzeigen von zwei Bildern, die den
zwei Brennweiten entsprechen.
-
Die
US 7 075 076 B2 beschreibt
eine Inspektionsvorrichtung, die dazu angepasst ist, Bilder eines Inspektionsbereichs
bei unterschiedlichen Fokussiereinstellungen aufzunehmen.
-
Im
Unterschied dazu ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung,
eine verbesserte Technik zum Justieren einer Elektronenstrahlvorrichtung
anzugeben.
-
Diese
Aufgabe wird gelöst
durch eine Elektronenstrahlvorrichtung nach Anspruch 1 und ein Verfahren
zum Justieren eines Elektronenstrahls nach Anspruch 7.
-
Weiterbildungen
der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.
-
Durch
das Verschieben der Fokusebene kann zunächst ein immer wiederkehrendes
Abbild des atmenden und – bei
nicht zentrierter Einstellung – wandernden
Elektronenstrahls auf einem Schirm oder einem Werkstück erzeugt
werden.
-
Vorteilhafterweise
wird die Frequenz so hoch gewählt,
dass eine Art Stroboskop-Effekt entsteht und das Auge des Bedieners
das Atmen nicht mehr wahrnehmen kann. Dann ist ein summarischer
Lichteffekt, welcher die gesamte beim Durchfokussieren angeregte
Fläche
umfasst, zu sehen. Diese angeregte Fläche zeigt sich typischerweise
hantelförmig (zweidimensional),
wobei die „Kugeln”, genauer Kreisflächen, durch
die Umkehrpunkte der Wanderbewegung des Strahls gebildet werden.
Die „Stange” der Hantel
zeigt sich in der Mitte vergleichsweise dünn. Dort liegt der Fokus.
-
Das
beschriebene Hantelbild verformt sich, wenn die Zentrierströme verändert werden.
Die Hantel wird in der Bildebene gedreht und verlängert oder verkürzt. Dies
geschieht in einer solchen Weise, dass der Bediener mühelos sofort
und dank des Stroboskopeffekts quasi statisch das Ergebnis seiner Änderung
bewerten kann.
-
Eine
optimale Zentrierung ist erreicht, wenn die Hantelstangenlänge Null
geworden ist und beide Kugeln zur Deckung gekommen sind.
-
Diese
Optimierung kann in einfacher Weise „manuell” vorgenommen werden. Dabei ändert der Bediener
die Zentrierströme
mittels Potentiometer oder Digitaleingabe und beobachtet visuell
das Ergebnis. Eine Ausführung
mittels automatischer Bildauswertung ist ebenfalls möglich. Das
z. B. mit einer geeigneten Kamera aufgenommene Bild wird mit einer
geeigneten Software ausgewertet und die Zentrierströme werden
automatisch verändert,
bis das Bild die oben beschriebene optimale Situation (Deckung beider
Hantel-Kugeln) zeigt.
-
Gerade
für eine
Kurztakt-Produktionsmaschine eignen sich die angegebenen Lehren
besonders gut zur exakten Einstellung der Zentrierung des Elektronenstrahls.
-
Weitere
Merkmale und Zweckmäßigkeiten ergeben
sich aus der Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der
Figuren. Von den Figuren zeigen.
-
1 eine
Ausführungsform
einer Elektronenstrahlvorrichtung;
-
2 eine
Blockdarstellung einer Ausführungsform
einer Elektronenstrahlvorrichtung;
-
3 eine
Prinzipskizze einer Ausführungsform
einer Justiereinheit;
-
4 ein
erstes Beispiel von Leuchtbildern auf einem Schirm, die bei Verwendung
einer Ausführungsform
der Erfindung entstehen; und
-
5 ein
zweites Beispiel von Leuchtbildern auf einem Schirm, die bei Verwendung
einer Ausführungsform
der Erfindung entstehen.
-
1 zeigt
eine Elektronenstrahlvorrichtung, die einen Elektronenstrahlerzeuger 1 und
eine Justier- und Fokussiereinheit 2 aufweist. Der Elektronenstrahlerzeuger 1 erzeugt
einen Elektronenstrahl, der sich entlang einer Elektronenstrahlachse 5 ausbreitet.
Die Justier- und Fokussiereinheit 2 ist auf der Elektronenstrahlachse 5 in
Strahlrichtung nach dem Elektronenstrahlerzeuger 1 angeordnet.
Der Elektronenstrahlerzeuger 1 besteht bei dieser Ausführungsform
aus einer Katode 11, einer Elektrode 12, wie einer
Wehnelt-Elektrode, und einer Anode 13. Die Justier- und
Fokussiereinheit 2 besteht bei dieser Ausführungsform
aus einer Justiereinheit 21 und einer Fokussiereinheit 22.
In dieser Ausführungsform
ist die Justiereinheit 21 zwischen dem Elektronenstrahlerzeuger 1 und
der Fokussiereinheit 22 angeordnet. Eine Elektronenstrahlauftreffpunktanzeigevorrichtung 4 ist
auf der Elektronenstrahlachse 5 vor der Elektronenstrahlvorrichtung
angeordnet. In dieser Ausführungsform
ist die Elektronenstrahlauftreffpunktanzeigevorrichtung 4 senkrecht
zu der Elektronenstrahlachse 5 angeordnet. Der Elektronenstrahl wird
mittels der Justier- und Fokussiereinheit 2, bei dieser
Ausführungsform
mittels der Fokussiereinheit 22, in einer Fokusebene 6 fokussiert.
Die Fokusebene 6 ist somit eine Ebene, die senkrecht zu
der Elektronenstrahlachse 5 ist und den Fokus des Elektronenstrahls
enthält.
-
2 zeigt
eine Blockdarstellung der Ausführungsform.
Die Justier- und Fokussiereinheit 2 weist die Justiereinheit 21 und
die Fokussiereinheit 22 auf und ist mit einer Steuerung 3 verbunden.
Die Justier- und Fokussiereinheit 2 ist in dieser Ausführungsform
auch mit einer Bildverarbeitungsvorrichtung 7 verbunden.
-
3 zeigt
eine Ausführungsform
der Justiereinheit 21, die eine erste Justierspule 211 und eine
zweite Justierspule 213 aufweist. Die erste Justierspule 211 weist
Justierstromanschlüsse 212 auf und
die zweite Justierspule 213 weist Justierstromanschlüsse 214 auf.
Die erste Justierspule 211 weist in dieser Ausführungsform
zwei einander gegenüberliegenden
angeordneten Spulen 211a (auf der linken Seite der 3 gezeigt)
und 211b (auf der rechten Seite der 3 gezeigt)
auf. Einer Justierstromanschlüsse 212 ist
mit der Spule 211a verbunden und der andere der Justierstromanschlüsse 212 ist
mit der gegenüberliegenden
Spule 211b verbunden. Die zwei Spulen 211a und 211b sind
zusätzlich so
miteinander verbunden, dass ein Stromweg zwischen den Justierstromanschlüssen 212 durch
die beiden Spulen 211a und 211b gebildet wird.
Die zweite Justierspule 213 weist in dieser Ausführungsform
ebenso zwei einander gegenüberliegende
Spulen 213a (unten in der 3 gezeigt)
und 213b (oben in der 3 gezeigt)
auf, die in ähnlicher
Weise so miteinander verbunden sind, dass ein Stromweg zwischen
den Justierstromanschlüssen 214 durch
die beiden Spulen 213a und 213b gebildet wird.
-
Die
in 3 abgebildete Justiereinheit 21 ist in
dieser Ausführungsform
einer Elektronenstrahlvorrichtung so angebracht, dass die Elektronenstrahlachse 5 sich
senkrecht zu der Ebene der 3 und durch
den Bereich innerhalb der Spulen 211a, 211b, 213a und 213b erstreckt.
Bevorzugterweise sind die Abstände
zwischen den jeweiligen Spulen 211a, 211b, 213a und 213b und
der Elektronenstrahlachse 5 alle gleich.
-
Nachfolgend
wird die Funktion der beschriebenen Ausführungsform der Elektronenstrahlvorrichtung
beschrieben. Im Betrieb erzeugt der Elektronenstrahlerzeuger 1 einen
Elektronenstrahl entlang der Elektronenstrahlachse 5. Der
erzeugte Elektronenstrahl wird mittels der Justier- und Fokussiereinheit 2 justiert
und in einer Fokusebene 6 fokussiert. Das Justieren des
Elektronenstrahls erfolgt in der Ausführungsform, die in den Figuren
abgebildet ist, durch Einstellen der Justierströme, die den Justierstromanschlüssen 212 und 214 zugeführt werden.
Die Justierströme
erzeugen zwei gekreuzte Magnetfelder zwischen den Spulen 211a und 211b der
ersten Justierspule 211 und den Spulen 213a und 213b der zweiten
Justierspule 213, die den Elektronenstrahl ablenken. Somit
wird die Position, in der der Elektronenstrahl die Fokussiereinheit 22 passiert,
in Abhängigkeit
von den Justierströmen
festgelegt. Die Fokussiereinheit 22 wird mittels der Steuerung 3 so
angesteuert, dass die Fokusebene 6 mit einer vorbestimmten
Frequenz entlang der Elektronenstrahlachse 5 hin und her
verschoben wird. Die Verschiebung der Fokusebene 6 erfolgt
so, dass die Fokusebene 6 zwischen einer ersten Ebene,
die sich zwischen der Fokussiereinheit 22 und der Elektronenstrahlauftreffpunktanzeigevorrichtung 4 befindet,
und einer zweiten Ebene, die sich in Richtung der Strahlachse 5 auf der
anderen Seite der Elektronenstrahlauftreffpunktanzeigevorrichtung 4 befindet,
verschoben wird.
-
Durch
dieses periodische Durchfokussieren weist das Auftreffen des Elektronenstrahls
auf der Elektronenstahlauftreffpunktanzeigevorrichtung 4 einen
Verlauf defokussiert-fokussiert-defokussiert-fokussiert
usw. auf. Wenn die vorbestimmte Frequenz ausreichend hoch (z. B. ≥ 15 Hz) ist,
erzeugen die sich – bei
unveränderten
Justierströmen – laufend verändernden
Auftreffpunkte ein ”stehendes” (unveränderliches)
Abbild, wie es beispielhaft in den 4 und 5 gezeigt
ist. Die Abbilder, die in 4(a) und
(b) zu sehen sind, entstehen, wenn der Elektronenstrahl nicht absolut
zentrisch durch die Fokussierspule 22 hindurchtritt. In
diesem Fall übt
die Fokussiereinheit 22 zusätzlich zur Fokusänderung
eine Ablenkwirkung aus, so dass die Auftreffpunkte des Elektronenstrahls
auf der Elektronenstrahlauftreffpunktanzeigevorrichtung 4 bei
Variation des Fokusspulenstromes wandern. Dadurch entstehen hantelförmige Abbildungen,
wie sie in den 4(a) und (b) zu sehen sind.
Die Länge
der Hantel ist in dem Fall, der in 4(a) gezeigt
ist, größer als
die Länge
der Hantel in dem Fall, der in 4(b) gezeigt
ist. Die unterschiedliche Hantellänge ergibt sich dadurch, dass der
Elektronenstrahl in dem Fall der 4(a) zeitweise
mit einem größeren Abstand
von dem Zentrum der Fokussierspule 22 durch diese hindurchtritt
als in dem Fall, der in 4(b) gezeigt
ist. Deswegen ist die Ablenkwirkung, die die Fokussiereinheit 22 auf den
Elektronenstrahl ausübt,
größer in dem
Fall der 4(a). Deshalb ist die Wanderung
der auf der Elektronenstrahlauftreffpunktanzeigevorrichtung 4 angezeigten
Auftreffpunkte in 4(a) größer als in 4(b). Ferner ist zu bemerken, dass die Richtung des
Wanderns in 4(a) und (b) unterschiedlich
ist. Das liegt daran, dass die Ablenkwirkung der Justiereinheit
(21) unterschiedlich ist, z. B. durch unterschiedliche
Verhältnisse
zwischen den Justierströmen,
die der ersten Justierspule 211 und der zweiten Justierspule 213 zugeführt werden.
-
4(c) zeigt den Fall, in dem der Elektronenstrahl
exakt durch das Zentrum der Fokussiereinheit 22 hindurchtritt.
In diesem Fall wandert der Auftreffpunkt des Elektronenstrahls nicht
auf der Elektronenstrahlauftreffpunktanzeigevorrichtung 4 bei
Variation des Fokusspulenstromes.
-
Das
zyklische Durchfokussieren verursacht eine ständige Veränderung der Größe des Auftreffpunktes.
Aber bei einer Frequenz des Durchfokussieren ≥ 15 Hz ist diese Größenänderung
für das menschliche
Auge nicht mehr erkennbar, d. h. das menschliche Auge sieht eine
Kreisfläche,
wie sie in 4(c) gezeigt ist.
-
5 zeigt
ein Beispiel, das sich von dem in 4 gezeigten
Beispiel dadurch unterscheidet, dass die Amplitude des Durchfokussierens,
d. h. das maximale Defokussieren, kleiner ist. Deswegen sind die
beiden Hantelformen, die in 5(a) und
(b) gezeigt sind, und auch die Kreisfläche, die in 5(c) gezeigt ist, jeweils kleiner als in den entsprechenden Abbildungen
aus 4.
-
Die
für das
Erreichen einer Kreisform (wie in 4(c) und 5(c)) erforderliche Einstellung der Steuerung
der Justier- und Fokussiereinheit 2 kann manuell unter
Beobachtung der von der Elektronenstrahlauftreffpunktanzeigevorrichtung 4 angezeigten
Auftreffpunkte gemacht werden. Bevorzugterweise erfolgt die Einstellung
aber mittels einer Bildverarbeitungsvorrichtung 7, die
dazu angepasst ist, ein Bild der Elektronenstrahlauftreffpunktanzeigevorrichtung 4 abzutasten
und auszuwerten, so dass die entsprechenden Einstellungen der Steuersignale, wie
z. B. Justierströme,
die den Justierstromanschlüssen 212 und 214 zuzuführen sind,
automatisiert erzeugt werden können.
Die Bildverarbeitungsvorrichtung 7 ist dazu angepasst,
das Bild der von der Elektronenstrahlauftreffpunktanzeigevorrichtung 4 angezeigten
Auftreffpunkte auszuwerten und die Justier- und Fokussiereinheit 2 so
zu steuern, dass eine Kreisfläche,
wie die in 4(c) und 5(c) gezeigte,
erzeugt wird. Die Auswertung des Bildes und die Steuerung erfolgen
vorteilhafterweise iterativ. Die Auswertung kann z. B. darin bestehen, dass
die Bildverarbeitungsvorrichtung die Richtung der Hantel in dem
Bild bestimmt. Diese Richtung entspricht der Richtung, in der der
Elektronenstrahl gegenüber
einem mittigen Durchgang durch die Fokussiereinheit 22 verschoben
ist. Mit Kenntnis dieser Richtung berechnet die Steuerung 3 dann
iterativ Korrekturen der Steuersignale an die Justier- und Fokussiereinheit 2.
Abhängig
von der sich verändernden
Größe der „Hantel”, die von
der Bildverarbeitungsvorrichtung erkannt wird, kann die Iteration
so gesteuert werden, dass der Elektronenstrahl immer näher an das
Zentrum des Fokussiereinheit 22 gebracht wird. Abhängig von
der Leistungsfähigkeit
und Genauigkeit der Bildverarbeitungsvorrichtung (7) kann
es vorteilhaft sein, die vorbestimmte Frequenz ≥ 20 Hz, ≥ 25 Hz, ≥ 30 Hz, ≥ 50 Hz oder ≥ 100 Hz oder noch größer auszuwählen. Vorteilhaft
ist, dass das von der Bildverarbeitungsvorrichtung zu bearbeitende
Bild so stabil ist, dass eine einfache Auswertung des oder der Bilder
möglich
ist. Hier ist es vorteilhaft, die vorbestimmte Frequenz so auszuwählen, dass
sie größer als
die Bildaufnahmefrequenz ist. Alternativ kann die Elektronenstrahlauftreffpunktanzeigevor richtung 4 nachleuchtend
gestaltet sein, so dass auch bei niedriger vorbestimmter Frequenz
ein stabiles Bild entsteht. Ebenfalls können natürlich auch sich ändernden
Frames (Einzelbilder) einer Videokamera ausgewertet werden.
-
In
einer Ausführungsform
ist die Elektronenstrahlvorrichtung Teil einer Maschine, die zum
Bearbeiten von Werkstücken
mittels Elektronenstrahl, z. B. Elektronenstrahlschweißen, -härten o. ä. angepasst
ist. Dann kann zusätzlich
zu einer Spannvorrichtung für
Werkstücke
auch die Elektronenstrahlauftreffpunktanzeigevorrichtung 4,
z. B. ein Leuchtschirm, in die Arbeitskammer der Maschine eingebracht
werden. Z. B kann die Elektronenstrahlauftreffpunktanzeigevorrichtung 4 auf
die Spannvorrichtung aufgelegt und gegen Verrutschen gesichert werden.
Die Elektronenstrahlachse 5 und der Leuchtschirm 4 werden
so ausgerichtet, dass der Elektronenstrahl den Leuchtschirm trifft.
-
Bei
einer manuellen Einstellung schaltet der Bediener einen geeigneten
(geringen) Strahlstrom ein, bedient die Steuerung 3 so,
dass die Fokusebene 6 entlang der Elektronenstrahlachse 5 verschoben
wird, und nimmt dann – unter
visueller Beobachtung, vorteilhafterweise mit Hilfe einer Videokamera und
angeschlossenen Monitor – mit
den vorhandenen Einstellelementen die Optimierung der Justierströme vor.
-
Bei
automatischer Einstellung werden die Justierströme mittels der Bildverarbeitung
und daraus folgenden automatischen Einstellung, die oben beschrieben
wurde, eingestellt.
-
Nach
Abschluss der Einstellung – die
bei geübtem
Bediener oder automatischer Einstellung maximal 1 Minute dauert – kann das
nächste
(z. B. im Wechseltakt inzwischen geladene) Werkstück unmittelbar
der Bearbeitung zugeführt
werden. Der Elektronenstrahl ist dann optimal zentriert. Der Leuchtschirm
wird normalerweise zuvor aus der Maschine entnommen, weil das Volumen
der Arbeitskammer oft so klein ist, dass der notwendige Platz zum
Verstauen, z. B. durch Wegklappen des Leuchtschirms, nicht vorhanden
ist. Das Entnehmen des Leuchtschirms aus der Maschine vermeidet
auch, dass der Leuchtschirm während
Benutzung der Elektronenstrahlvorrichtung verschmutzt wird.
-
Es
wird explizit betont, dass alle in der Beschreibung und/oder den
Ansprüchen
offenbarten Merkmale als getrennt und unabhängig voneinander zum Zweck
der ursprünglichen
Offenbarung ebenso wie zum Zweck des Einschränkens der beanspruchten Erfindung
unabhängig
von den Merkmalskombinationen in den Ausführungsformen und/oder den Ansprüchen angesehen
werden sollen. Es wird explizit festgehalten, dass alle Bereichsangaben
oder Angaben von Gruppen von Einheiten jeden möglichen Zwischenwert oder Untergruppe
von Einheiten zum Zweck der ursprünglichen Offenbarung ebenso
wie zum Zweck des Einschränkens
der beanspruchten Erfindung offenbaren, insbesondere auch als Grenze einer
Bereichsangabe.