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Die
Erfindung betrifft ein Strahlung emittierendes Halbleiterbauelement,
das mischfarbige Strahlung mit einer kürzeren Wellenlänge
und einer längeren Wellenlänge emittiert.
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Mithilfe
einer LED, die beispielsweise blaues Licht erzeugt und durch ein
geeignetes Konvertermaterial einen Teil des blauen Lichts in gelbes
Licht umwandelt, kann infolge der entstehenden Farbmischung des
originären blauen Lichts mit dem konvertierten gelben Licht
Weißlicht erzeugt werden. Aufgrund verschiedener Weglängen
von Lichtstrahlen innerhalb einer die LED umgebenden Harzfüllung,
in welcher das Konvertermaterial enthalten ist, kann im Randbereich
eines Bauelements der gelbe Anteil in der Gesamtstrahlung überwiegen,
während im Gegensatz dazu in der Mitte der blaue Anteil überwiegt.
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Eine
zu lösende Aufgabe besteht vorliegend darin, ein Halbleiterbauelement
anzugeben, das Strahlung mit einem über einen gesamten
Einfallswinkelbereich hinweg einheitlichen Farbort emittiert.
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Diese
Aufgabe wird durch ein Strahlung emittierendes Halbleiterbauelement
gemäß Patentanspruch 1 gelöst.
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Vorteilhafte
Weiterbildungen des Strahlung emittierenden Halbleiterbauelements
sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben.
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Gemäß einer
vorteilhaften Ausführungsform umfasst das Strahlung emittierende
Halbleiterbauelement ein Chipgehäuse, einen Halbleiterchip,
der in dem Chipgehäuse angeordnet ist und Strahlung einer
kürzeren Wellenlänge erzeugt, ein Konversionselement,
das dem Halbleiterchip in einer Vorzugsrichtung nachgeordnet ist
und einen ersten Strahlungsanteil der von dem Halbleiterchip erzeugten Stahlung
unverändert durchlässt, so dass der unveränderte
Strahlungsanteil die kürzere Wellenlänge aufweist,
und das einen zweiten Strahlungsanteil umwandelt, so dass der umgewandelte
Strahlungsanteil eine längere Wellenlänge aufweist,
sowie ein chipfernes Winkelfilterelement, das in das Chipgehäuse
integriert ist und dem Konversionselement in der Vorzugsrichtung
nachgeordnet ist und innerhalb eines ersten Einfallswinkelbereichs,
der kleinere Einfallswinkel umfasst als ein zweiter Einfallswinkelbereich, den
unveränderten Strahlungsanteil stärker reflektiert
als den umgewandelten Strahlungsanteil.
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Lichtstrahlen,
die im Wesentlichen parallel zu der Vorzugsrichtung verlaufen, treffen
insbesondere unter Einfallswinkeln auf eine Hauptfläche
des Winkelfilterelements auf, die innerhalb des ersten Einfallswinkelbereichs
liegen. Hingegen treffen Lichtstrahlen, die schräg zur
Vorzugsrichtung verlaufen, unter Einfallswinkeln auf die Hauptfläche
auf, die innerhalb des zweiten Einfallswinkelbereichs liegen.
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Der
gesamte Einfallswinkelbereich erstreckt sich vorzugsweise von –90° bis
+90°, wobei Lichtstrahlen, die senkrecht auf die Hauptfläche
des Winkelfilterelements auftreffen, einen Einfallswinkel von 0° aufweisen.
Der gesamte Einfallswinkelbereich kann in den ersten und den zweiten Einfallswinkelbereich
unterteilt werden, wobei die beiden Einfallswinkelbereiche vorzugsweise
nicht miteinander überlappen. Ohne Winkelfilterelement
ergibt sich die Unterteilung in den ersten und den zweiten Einfallswinkelbereich
aus einer merklichen Änderung des Farborts. Denn ohne Winkelfilterelement
unterscheidet sich der Farbort innerhalb des ersten Einfallswinkelbereichs
merklich von dem Farbort innerhalb des zweiten Einfallswinkelbereichs.
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Um
die emittierte Strahlung innerhalb des gesamten Winkelbereichs zu
homogenisieren, wird vorliegend das Winkelfilterelement verwendet.
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Unter
einem „chipfernen" Element ist zu verstehen, dass dieses
Element nicht direkt an den Halbleiterchip angrenzt. Dementsprechend
bedeutet „chipnah", dass das Element an den Halbleiterchip angrenzt.
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Gemäß einer
weiteren Ausführungsform umfasst das Strahlung emittierende
Halbleiterbauelement ein Chipgehäuse, einen Halbleiterchip,
der in dem Chipgehäuse angeordnet ist und Strahlung der kürzeren
Wellenlänge erzeugt, ein Konversionselement, das dem Halbleiterchip
in einer Vorzugsrichtung nachgeordnet ist und einen ersten Strahlungsanteil
der von dem Halbleiterchip erzeugten Stahlung unverändert
durchlässt, so dass der unveränderte Strahlungsanteil
die kürzere Wellenlänge aufweist, und das einen
zweiten Strahlungsanteil umwandelt, so dass der umgewandelte Strahlungsanteil
die längere Wellenlänge aufweist, ein chipfernes
Winkelfilterelement, das in das Chipgehäuse integriert
ist und dem Konversionselement in der Vorzugsrichtung nachgeordnet
ist und innerhalb eines zweiten Einfallswinkelbereichs, der größere
Einfallswinkel umfasst als der erste Einfallswinkelbereich, den
umgewandelten Strahlungsanteil stärker reflektiert als
den unveränderten Strahlungsanteil.
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Den
beiden vorgenannten Ausführungsformen liegt folgende Annahme
zugrunde: innerhalb des ersten Einfallswinkelbereichs überwiegt
ohne Winkelfilterelement der unveränderte Strahlungsanteil
mit der kürzeren Wellenlänge, während
innerhalb des zweiten Einfallswinkelbereichs der umgewandelte Strahlungsanteil
mit der längeren Wellenlänge überwiegt.
Um über den gesamten Winkelbereich hinweg einen einheitlichen
Farbort zu erzielen, wird vorliegend mittels des Winkelfilterelements
entweder innerhalb des ersten Einfallswinkelbereichs der unveränderte
Strahlungsanteil abgeschwächt oder es wird innerhalb des
zweiten Einfallswinkelbereichs der umgewandelte Strahlungsanteil
abgeschwächt.
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Bezogen
auf das eingangs genannte Beispiel kann der erste Einfallswinkelbereich
vorliegend dem Einfallswinkelbereich entsprechen, innerhalb welchem
ohne Winkelfilterelement ein erhöhter Blauanteil und ein
verringerter Gelbanteil in der mischfarbigen Strahlung auftritt.
Durch eine stärkere Reflexion des blauen Lichts kann der
Blauanteil innerhalb des ersten Einfallswinkelbereichs reduziert
werden. Ferner kann der zweite Einfallswinkelbereich dem Einfallswinkelbereich
entsprechen, innerhalb welchem ohne Winkelfilterelement ein erhöhter
Gelbanteil und ein verringerter Blauanteil auftritt. Durch eine stärkere
Reflexion des gelben Lichts kann der Gelbanteil innerhalb des zweiten
Einfallswinkelbereichs reduziert werden.
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Der
am Winkelfilterelement reflektierte Strahlungsanteil wird in das
Chipgehäuse zurückreflektiert. Dort können
Reflexionsprozesse stattfinden, oder es können Absorptions-
und Reemissionsprozesse in dem Halbleiterchip auftreten, die zu
einer Wiedergewinnung des reflektierten Strahlungsanteils führen.
Im Laufe dieser Prozesse ist eine Richtungsänderung möglich,
so dass ein Teil des reflektierten Strahlungsanteils nachfolgend
unter Einfallswinkeln auf das Winkelfilterelement auftrifft, die
innerhalb des unkritischen Einfallswinkelbereichs liegen, und auskoppeln
kann. Ein Lichtstrahl läuft also im Halbleiterbauelement
beziehungsweise im Chipgehäuse idealerweise solange umher,
bis er unter einem geeigneten Einfallswinkel auftrifft und auskoppeln
kann. Oder der Lichtstrahl wird vom Halbleiterchip absorbiert und in
eine geeignete Richtung reemittiert und kann somit auskoppeln. Ferner
ist es denkbar, dass der Lichtstrahl im Konversionselement eine
Wellenlängenänderung erfährt und somit
auskoppeln kann.
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Gemäß einer
bevorzugten Ausführungsform des Chipgehäuses weist
dieses eine Ausnehmung auf, die durch eine Bodenfläche,
auf welcher der Halbleiterchip montiert ist, und wenigstens eine
Seitenfläche begrenzt ist, wobei zumindest die Seitenfläche
reflektierend ist. Die jeweilige reflektierende Fläche,
ob Seitenfläche oder Bodenfläche, kann eine Spiegelfläche
oder eine diffus streuende Fläche sein. Wichtig ist, dass
die reflektierende Fläche wenig absorbierend ist. Vorteilhafterweise
bilden die Seitenfläche und die Bodenfläche bei
dieser Ausführungsform einen Reflektor. Die Ausnehmung
kann insbesondere die Form eines Kegelstumpfes aufweisen und sich in
Richtung des Halbleiterchips verjüngen, wodurch eine für
einen Reflektor geeignete Form gegeben ist.
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Bei
einer vorteilhaften Variante ist das Winkelfilterelement auf einem
Träger angeordnet. Der Träger kann beispielsweise
ein Glasplättchen sein. Der Träger kann an dem
Chipgehäuse befestigt sein. Insbesondere kann der Träger
durch einen Kleber, der beispielsweise silikonhaltig ist, mit dem
Chipgehäuse verbunden sein.
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Vorzugsweise
deckt der Träger die Ausnehmung ab und kann den Halbleiterchip
beispielsweise vor äußeren Einflüssen
schützen. Der Träger kann entweder auf dem Chipgehäuse
aufliegen und die Ausnehmung abbedecken oder passgenau in der Ausnehmung
angeordnet sein.
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Gemäß einer
vorteilhaften Ausgestaltung ist auch das Konversionselement auf
dem Träger und chipfern angeordnet. Insbesondere kann das
Konversionselement auf einer dem Halbleiterchip zugewandten Oberfläche
des Winkelfilterelements angeordnet sein. Bevorzugterweise wird
bei dieser Ausgestaltung zunächst das Winkelfilterelement
auf den Träger aufgebracht. Anschließend wird
das Konversionselement auf das Winkelfilterelement aufgebracht. Der
Träger wird dann zusammen mit dem aufgebrachten Winkelfilterelement
und dem aufgebrachten Konversionselement auf dem Chipgehäuse
oder in der Ausnehmung angeordnet. Das Winkelfilterelement kann
ein dielektrischer Filter sein, der mindestens zwei dielektrische
Schichten mit verschiedenem Brechungsindex aufweist. Diese Schichten
können auf den Träger beispielsweise aufgesputtert
oder aufgedampft werden. Das Konversionselement ist vorzugsweise
eine direkt auf das Winkelfilterelement aufgebrachte Schicht aus
einem Verguss, der zumindest einen Konversionsstoff enthält.
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Ein
Zwischenraum zwischen dem Konversionselement und dem Halbleiterchip
kann mit Luft oder einer Füllmasse ausgefüllt
sein. Typischerweise wird eine Füllmasse verwendet, um
den Halbleiterchip vor äußeren Einflüssen
wie Feuchtigkeit, Staub oder anderen Fremdkörpern zu schützen.
Wird ein Träger verwendet, der die Ausnehmung abdeckt,
ist eine Füllmasse nicht zwingend notwendig und der Zwischenraum
kann mit Luft gefüllt sein. Allerdings kann durch die Verwendung
einer geeigneten Füllmasse, beispielsweise aus Silikon,
der Brechungsindexsprung zwischen dem Halbleiterchip und der Umgebung
verringert werden, so dass geringere Strahlungsverluste aufgrund
von Totalreflexionen am Übergang zwischen dem Halbleiterchip
und der Umgebung auftreten. Ferner bildet die Oberfläche
der Füllmasse eine geeignete Auflagefläche für
den Träger mit dem darauf aufgebrachten Winkelfilterelement
und Konversionselement.
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Bei
einer weiteren Ausgestaltung des Halbleiterbauelements ist das Konversionselement
nicht auf dem Winkelfilterelement angeordnet. Zwischen dem Konversionselement
und dem Winkelfilterelement ist ein Luftspalt vorgesehen. Das Winkelfilterelement
kann selbsttragend und am Chipgehäuse befestigt sein oder
zur Stabilisierung auf einem Träger angeordnet sein, der
am Chipgehäuse befestigt ist. Das Konversionselement ist
vorzugsweise eine Schicht mit einem Konversionsstoff, wobei die Schicht
direkt auf eine Füllmasse aufgebracht ist, in welche der
Halbleiterchip eingebettet ist. Insbesondere kann die Schicht eben
sein und eine gleichmäßige Dicke aufweisen.
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Gemäß einer
anderen vorteilhaften Ausführungsform ist der Halbleiterchip
in das Konversionselement eingebettet, das heißt das Konversionselement
bedeckt den Halbleiterchip auf allen frei liegenden Flächen.
Insbesondere weist das Konversionselement eine konvex gekrümmte
Strahlungsaustrittsfläche auf. Vorteilhafterweise kann
durch die konvexe Krümmung des Konversionselements in der
Vorzugsrichtung der umgewandelte Strahlungsanteil erhöht
werden. Dadurch kann beispielsweise im Vergleich zu einem eben ausgebildeten
Konversionselement ein Winkelfilterelement mit geringerem Reflexionsgrad
nahe der Vorzugsrichtung verwendet werden.
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Während
das Konversionselement bei dieser Ausführungsform chipnah
angeordnet ist, ist das Winkelfilterelement weiterhin chipfern angeordnet. Vorzugsweise
ist das Winkelfilterelement auf einen Träger aufgebracht,
der am Chipgehäuse befestigt ist. Ein Zwischenraum zwischen
dem Winkelfilterelement und dem Konversionselement kann mit Luft und/oder
einer Füllmasse ausgefüllt sein. Insbesondere
ist der Zwischenraum vollständig mit Luft oder einer Füllmasse
gefüllt, wenn das Winkelfilterelement ein dielektrischer
Filter ist. Wie bereits erwähnt, trägt eine Füllmasse
Vorteilhafterweise dazu bei, Strahlungsverluste am Übergang
zwischen Halbleiterchip und Umgebung zu reduzieren.
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Gemäß einer
weiteren Ausgestaltung kann das Winkelfilterelement auf das Konversionselement aufgebracht
sein. Beispielsweise kann das Konversionselement auf einer Füllmasse
angeordnet sein, in welche der Halbleiterchip eingebettet ist. In
diesem Fall wird kein Träger benötigt.
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Zur
Herstellung eines derartigen Halbleiterbauelements wird der Halbleiterchip
auf der Bodenfläche des Chipgehäuses montiert
und in die Füllmasse eingebettet. Vorzugsweise grenzt die
Füllmasse unmittelbar an die wenigstens eine Seitenfläche
und an die Bodenfläche an. Auf einer Strahlungsaustrittsfläche
der Füllmasse wird das Konversionselement, vorzugsweise
als Schicht mit einem Konversionsstoff, aufgebracht. Das Winkelfilterelement
wird auf dem Konversionselement abgeschieden. Insbesondere ist das
Winkelfilterelement ein dielektrischer Filter, der zumindest zwei
dielektrische Schichten mit unterschiedlichem Brechungsindex aufweist.
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Für
den dielektrischen Filter sind Silizium-haltige Materialien geeignet.
Beispielsweise kann eine erste Schicht ein Siliziumoxid und eine
zweite Schicht ein Siliziumnitrid enthalten. Ferner können auch
Titan-haltige Materialien für den dielektrischen Filter
verwendet werden. Beispielsweise kann eine erste Schicht ein Siliziumoxid
und eine zweite Schicht ein Titanoxid enthalten. Insbesondere weisen
die Schichten eine Schichtdicke von λ0/4n
auf, wobei λ0 die Vakuum-Wellenlänge
der zu reflektierenden Strahlung und n der Brechungsindex in der
jeweiligen dielektrischen Schicht ist.
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Das
Konversionselement ist vorzugsweise aus einem Vergussmaterial wie
beispielsweise Silikon gebildet, in welchem der Konversionsstoff
gleichmäßig verteilt ist. Geeignete Konversionsstoffe,
wie zum Beispiel YAG:Ce, sind aus der
WO 98/12757 bekannt, deren Inhalt
hiermit insbesondere in Bezug auf Leuchtstoffe durch Referenz aufgenommen
wird.
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Der
Halbleiterchip weist vorliegend insbesondere eine Epitaxie-Schichtenfolge
auf, die Nitridverbindungshalbleiter enthält, das heißt
die Epitaxie-Schichtenfolge ist aus AlxGayIn1-x-yN gebildet,
wobei 0 ≤ x ≤ 1, 0 ≤ y ≤ 1 und
x + y ≤ 1. Dabei muss dieses Material nicht zwingend eine mathematisch
exakte Zusammensetzung nach obiger Formel aufweisen. Vielmehr kann
es einen oder mehrere Dotierstoffe sowie zusätzliche Bestandteile
aufweisen, die die charakteristischen physikalischen Eigenschaften des
AlxGayIn1-x-yN-Materials im Wesentlichen nicht ändern.
Der Einfachheit halber beinhaltet obige Formel jedoch nur die wesentlichen
Bestandteile des Kristallgitters (Al, Ga, In, N), auch wenn diese
teilweise durch geringe Mengen weiterer Stoffe ersetzt sein können.
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Weiterhin
findet bevorzugt ein Halbleiterchip Verwendung, der in Dünnfilm-Technik
hergestellt ist. Bei der Herstellung eines Dünnfilm-Halbleiterchips wird
eine Halbleiterschichtenfolge, die eine Strahlung emittierende aktive
Schicht umfasst, zunächst epitaktisch auf einem Aufwachssubstrat
aufgewachsen. Dann wird ein Träger auf eine dem Aufwachssubstrat gegenüber
liegende Oberfläche der Halbleiterschichtenfolge aufgebracht
und nachfolgend das Aufwachssubstrat abgetrennt. Da insbesondere
die für Nitridverbindungshalbleiter verwendeten Aufwachssubstrate,
beispielsweise SiC, Saphir oder GaN vergleichsweise teuer sind,
bietet dieses Verfahren insbesondere den Vorteil, dass das Aufwachssubstrat wiederverwertbar
ist.
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Ein
Grundprinzip einer Dünnfilm-LED ist beispielsweise in I.
Schnitzer et al., Appl. Phys. Lett. 63 (16), 18. Oktober 1993, 2174–2176 beschrieben,
deren Offenbarungsgehalt insofern hiermit durch Rückbezug
aufgenommen wird.
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Der
Dünnfilm-Halbleiterchip ist ein Lambert'scher Strahler
mit vorteilhafter Auskoppeleffizienz.
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Bei
einer vorteilhaften Ausführungsform emittiert das Halbleiterelement
weißes Licht, wobei der Halbleiterchip blaues Licht erzeugt,
so dass der unveränderte Strahlungsanteil eine erste Vakuum-Wellenlänge
zwischen 450 und 500 nm aufweist, und das Konversionselement einen
zweiten Strahlungsanteil umwandelt, so dass der umgewandelte Strahlungsanteil
gelbes Licht und eine zweite Vakuum-Wellenlänge zwischen
560 und 590 nm aufweist.
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Weitere
Merkmale, Vorteile und Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich
aus den nachfolgend in Verbindung mit den 1 bis 3 erläuterten
Ausführungsbeispielen.
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Es
zeigen:
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1 eine
schematische Querschnittsansicht eines ersten Ausführungsbeispiels
eines erfindungsgemäßen Strahlung emittierenden
Halbleiterbauelements,
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2A eine
schematische Querschnittsansicht eines ersten Ausführungsbeispiels
eines bevorzugten Winkelfilterelements,
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2B ein
Schaubild darstellend das Reflexionswinkelspektrum des in 2A dargestellten Winkelfilterelements,
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3 eine
schematische Querschnittsansicht eines zweiten Ausführungsbeispiels
eines erfindungsgemäßen Strahlung emittierenden
Halbleiterbauelements.
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Das
in 1 dargestellte Strahlung emittierende Halbleiterbauelement 1 weist
ein Chipgehäuse 2 auf, in welchem ein Halbleiterchip 3 angeordnet
ist. Insbesondere ist der Halbleiterchip 3 auf einer Bodenfläche 7 des
Chipgehäuses 2 montiert, die zusammen mit einer
Seitenfläche 8 eine Ausnehmung 6 in dem
Chipgehäuse 2 begrenzt. Die Ausnehmung 6,
welche die Form eines Kegelstumpfes aufweist, verjüngt
sich in Richtung des Halbleiterchips 3 und ist damit als
Reflektor geeignet. Die Reflektorwirkung kann durch eine Verspiegelung
der Seitenfläche 8 und gegebenenfalls der Bodenfläche 7 verstärkt
werden.
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Der
Halbleiterchip 3 ist vorzugsweise ein Dünnfilm-Halbleiterchip,
der Strahlung in eine Vorzugsrichtung V emittiert. Die Vorzugsrichtung
V verläuft insbesondere senkrecht zu einer Ebene, in welcher
sich die aktive Zone des Halbleiterchips 3 befindet.
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Der
Halbleiterchip 3 umfasst typischerweise eine Schichtenfolge
mit einer aktiven Zone. Die aktive Zone weist einen Strahlung erzeugenden pn-Übergang
auf, der im einfachsten Fall mittels einer p-leitenden und einer
n-leitenden Halbleiterschicht gebildet ist, die unmittelbar aneinandergrenzen.
Es kann jedoch auch zwischen der p-leitenden und der n-leitenden
Halbleiterschicht die eigentliche Strahlung erzeugende Schicht,
etwa in Form einer dotierten oder undotierten Quantenschicht, angeordnet
sein. Die Quantenschicht kann als Einfachquantentopfstuktur (SQW,
Single Quantum Well) oder Mehrfachquantentopfstruktur (MQW, Multiple
Quantum Well) oder auch als Quantendraht oder Quantenpunktstruktur
ausgebildet sein. Von der aktiven Zone wird Strahlung einer kürzeren
Wellenlänge, zum Beispiel blaues oder ultraviolettes Licht,
erzeugt.
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In
der Vorzugsrichtung V ist dem Halbleiterchip 3 ein Konversionselement 4 nachgeordnet.
Das Konversionselement 4 lässt einen ersten Strahlungsanteil
der von dem Halbleiterchip 3 erzeugten Stahlung unverändert
durch, so dass der unveränderte Strahlungsanteil die kürzere
Wellenlänge aufweist, und wandelt einen zweiten Strahlungsanteil
um, so dass der umgewandelte Strahlungsanteil eine längere
Wellenlänge, beispielsweise gelbes Licht, aufweist.
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Ein
Zwischenraum zwischen dem Konversionselement 4 und dem
Halbleiterchip 3 kann mit Luft oder einer Füllmasse
gefüllt sein, in welche der Halbleiterchip 3 eingebettet
ist. Ist der Zwischenraum mit einer Füllmasse ausgefüllt,
so kann das Konversionselement 4 direkt auf der Füllmasse
angeordnet werden. Ist der Zwischenraum mit Luft gefüllt,
so kann das Konversionselement 4 wie in 1 dargestellt
auf einem Träger 9 angeordnet werden, der am Chipgehäuse 2 befestigt
wird. Zwischen dem Träger 2 und dem Konversionselement 4 befindet
sich das Winkelfilterelement 5.
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Insbesondere
ist das Winkelfilterelement 5 ein dielektrischer Filter,
der mindestens zwei dielektrische Schichten mit verschiedenem Brechungsindex aufweist,
wobei die dielektrischen Schichten vorzugsweise direkt auf den Träger 9 aufgebracht
sind, indem sie beispielsweise aufgesputtert oder aufgedampft werden.
Weiterhin ist das Konversionselement 4 insbesondere in
Form einer gleichmäßigen Schicht auf das Winkelfilterelement 5 aufgebracht. Die
Schicht kann aus einem Verguss gebildet sein, der beispielsweise
Silikon enthält und zumindest einen Konversionsstoff aufweist.
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Das
Winkelfilterelement 5 weist insbesondere dielektrische
Schichten mit alternierendem Brechungsindex auf, das heißt abwechselnd
erste Schichten mit einem ersten Brechungsindex und zweite Schichten
mit einem zweiten Brechungsindex.
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Für
den dielektrischen Filter sind Silizium-haltige Materialien geeignet.
Beispielsweise kann eine erste Schicht ein Siliziumoxid und eine
zweite Schicht ein Siliziumnitrid enthalten. Ferner können auch
Titan-haltige Materialien für den dielektrischen Filter
verwendet werden. Beispielsweise kann eine erste Schicht ein Siliziumoxid
und eine zweite Schicht ein Titanoxid enthalten. Entscheidend ist
der Brechungsindexsprung am Übergang zwischen den Schichten,
der möglichst groß sein sollte. Aufbau und Reflexionswinkelspektrum
eines geeigneten Winkelfilterelements 5 werden im Zusammenhang
mit den 2A und 2B näher
erläutert.
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An
dieser Stelle sei erwähnt, dass das in 1 dargestellte
Winkelfilterelement 5 innerhalb des ersten Einfallswinkelbereichs
den unveränderten Strahlungsanteil stärker reflektiert
als den umgewandelten Strahlungsanteil.
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Exemplarisch
ist ein von dem Halbleiterchip 3 ausgesandter Lichtstrahl
A gezeigt, der das Konversionselement 4 ohne Wellenlängenänderung
passiert. Da der Lichtstrahl A innerhalb des zweiten Einfallswinkelbereichs
auf das Winkelfilterelment 5 auftrifft, kann der Lichtstrahl
A, der die kürzere Wellenlänge aufweist, aus dem
Strahlung emittierenden Halbleiterbauelement 1 auskoppeln.
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Ein
Lichtstrahl B, der das Konversionselement 4 beim ersten
Durchgang ebenfalls ohne Wellenlängenänderung
passiert, trifft unter einem Einfallswinkel innerhalb des ersten
Einfallswinkelbereichs auf das Winkelfilterelment 5 auf
und wird daher reflektiert. Nach der Reflexion am Winkelfilterelment 5 gelangt
der Lichtstrahl B wieder in das Konversionselement 4, erfährt
dort eine Änderung der Wellenlänge und verlässt
das Konversionselement 4 in Richtung des Winkelfilterelments 5.
Der Lichtstrahl B, der nun die längere Wellenlänge
aufweist, kann durch das Winkelfilterelment 5 hindurch
auskoppeln.
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Ein
Lichtstrahl C tritt bei einem ersten Durchgang und bei einem zweiten
Durchgang nach der Reflexion am Winkelfilterelement 5 ohne Änderung
der Wellenlänge durch das Konversionselement 4 hindurch.
Dann trifft der Lichstrahl C auf die Bodenfläche 7,
wird dort reflektiert, tritt erneut in das Konversionselement 4 ein,
erfährt eine Änderung der Wellenlänge und
trifft unter einem Einfallswinkel, der innerhalb des ersten Einfallswinkelbereichs
liegt, auf das Winkelfilterelement 5 auf. Der Lichtstrahl
C, der nun die längere Wellenlänge aufweist, kann
aus dem Strahlung emittierenden Halbleiterbauelement 1 auskoppeln.
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Ein
Lichtstrahl D tritt beim ersten Durchgang ohne Änderung
der Wellenlänge durch das Konversionselement 4 hindurch
und wird am Winkelfilterelement 5 reflektiert, da der Lichstrahl
D mit der Vorzugsrichtung V einen Winkel einschließt, der
innerhalb des ersten Einfallswinkelbereichs liegt. Auch bei einem
zweiten Durchgang durch das Konversionselement 4 ändert
sich die Wellenlänge des Lichtstrahls D nicht. Der Lichtstrahl
D trifft auf die Seitenfläche 8 des Chipgehäuses 2 auf
und wird in Richtung des Konversionselements 4 reflektiert.
Durch das Konversionselement 4 tritt der Lichtstrahl D
erneut unverändert hindurch. Aufgrund der Reflexion am
Chipgehäuse 2 trifft der Lichtstrahl D nun unter
einem Einfallswinkel auf das Winkelfilterelement 5 auf,
der innerhalb des zweiten Einfallswinkelbereichs liegt. Somit kann
der Lichstrahl D, der nach wie vor die kürzere Wellenlänge
aufweist, aus dem Halbleiterbauelement 1 auskoppeln.
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Die
unterschiedlichen Verläufe der Lichtstahlen A bis D zeigen
exemplarisch, welche Prozesse in dem Halbleiterbauelement 1 ablaufen
können, bis es zu einer Auskopplung der einzelnen Lichtstrahlen kommt.
Die Überlagerung all dieser Prozesse führt letztendlich
dazu, dass der unveränderte Strahlungsanteil innerhalb
des ersten Einfallswinkelbereichs im Vergleich zu einem Halbleiterbauelement
ohne Winkelfilterelement abgeschwächt wird. Vorteilhafterweise
führt dies dazu, dass das Halbleiterbauelement 1 homogene
mischfarbige Strahlung emittiert.
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Es
sei angemerkt, dass das Winkelfilterelement 5 alternativ
derart ausgebildet werden kann, dass der umgewandelte Strahlungsanteil
innerhalb des zweiten Einfallswinkelbereichs stärker reflektiert wird
als der unveränderte Strahlungsanteil.
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2A zeigt
eine erste bevorzugte Variante eines Winkelfilterelementes 5.
Dieses ist ein dielektrischer Mehrschichtfilter. Das Winkelfilterelement 5 weist
eine Mehrzahl von Schichten auf, die sich durch Material oder Schichtdicke
voneinander unterscheiden. Insbesondere können die Schichten 50a und 50b eine
Schichtdicke aufweisen, die λ0/4n
beträgt, wobei λ0 die
kleinere Wellenlänge im Vakuum und n der Brechungsindex
eines jeweiligen Schichtmaterials ist. Geeignete Materialien sind
für die Schichten 50 und 50b SiO2 mit einem Brechungsindex n1 =
1.5 und für die Schichten 50a SiN mit einem Brechungsindex
n2 = 2.0. Der Brechungsindex n ändert
sich innerhalb des Winkelfilterelements 5 periodisch. Das Winkelfilterelement 5 ist
nicht auf die dargestellte Anzahl von Schichten festgelegt. Vielmehr
ist die Anzahl der Schichten abhängig von einer gewünschten
Charakteristik des Reflexionswinkelspektrums.
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Das
in 2A dargestellte Winkelfilterelement 5 ist
auf eine Designwellenlänge λD abgestimmt,
die kleiner ist als die kürzere Wellenlänge λ0 der von dem Halbleiterkörper erzeugten
Strahlung. Mit anderen Worten liegt die Designwellenlänge λD innerhalb eines Passbandes des Winkelfilterelements 5.
Ferner ist das Winkelfilterelement 5 gegenüber
der Wellenlänge λo verstimmt
oder anders ausgedrückt liegt die Wellenlänge λo an einer langwelligen Flanke eines Stoppbandes
des Winkelfilterelements 5. Dadurch kann das Winkelfilterelement 5 Lichtstrahlen,
die unter kleineren Einfallswinkeln auf das Winkelfilterelement 4 auftreffen,
stärker reflektieren als Lichtstrahlen, die unter größeren
Einfallswinkeln auf das Winkelfilterelement 4 auftreffen.
Insbesondere beträgt die Wellenlänge λ0 etwa 460 nm, während die Designwellenlänge λD etwa 400 nm beträgt.
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Das
Schaubild gemäß 2B zeigt
das Reflexionswinkelspektrum des in 2A dargestellten Winkelfilterelements 5.
Die gestrichelte Kurve I stellt einen Intensitätsreflexionsfaktor
für alle Einfallswinkel θ graphisch dar, wobei –90° ≤ θ ≤ 90° ist.
Die durchgezogene Kurve II stellt einen Intensitätstransmissionsfaktor
für denselben Einfallswinkelbereich graphisch dar. Wie
aus 2B hervorgeht, ist die Transmission in der Vorzugsrichtung
V, also bei dem Einfallswinkel θ = 0°, abgeschwächt,
während die Reflektivität erhöht ist.
Dieses Verhalten kehrt sich in einem Einfallswinkelbereich von etwa
30° ≤ θ ≤ 60° beziehungsweise –60° ≤ 0 ≤ –30° um.
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Lichtstrahlen,
die unter kleineren Einfallswinkeln, das heißt Winkeln,
die innerhalb des ersten Einfallswinkelbereichs liegen, auf das
Winkelfilterelement 5 auftreffen, das heißt mit
der Vorzugsrichtung V den Winkel –30° ≤ θ ≤ 30° einschließen,
werden zu etwa 40% reflektiert, während Lichtstrahlen,
die unter größeren Einfallswinkeln auf das Winkelfilterelement 5 auftreffen,
das heißt mit der Vorzugsrichtung V den Winkel 30° ≤ θ ≤ 60° beziehungsweise –60° ≤ θ ≤ –30° einschließen,
zu 80% bis 100% transmittiert werden. Diese Lichtstrahlen schließen
mit der Vorzugsrichtung V Winkel ein, die innerhalb des zweiten Einfallswinkelbereichs
liegen.
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In 3 ist
ein Strahlung emittierendes Halbleiterbauelement 1 dargestellt,
bei welchem das Konversionselement 4 chipnah angeordnet
ist. Das Winkelfilterelement 5 ist hingegen chipfern angeordnet.
Insbesondere ist der Halbleiterchip 3 in das Konversionselement 4 eingebettet.
Das Konversionselement 4 weist eine konvex gekrümmte
Strahlungsaustrittsfläche auf. Vorteilhafterweise kann
durch die konvexe Krümmung des Konversionselements 4 der umgewandelte
Strahlungsanteil in der Vorzugsrichtung V erhöht werden.
Dadurch kann beispielsweise im Vergleich zu einem eben ausgebildeten
Konversionselement, wie bei dem in 1 dargestellten
Ausführungsbeispiel, ein Winkelfilterelement mit geringerem
Reflexionsgrad V verwendet werden.
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Wie
bei dem in 1 dargestellten Ausführungsbeispiel
wird auch hier ein Winkelfilterelement 5, insbesondere
ein dielektrischer Filter, verwendet, das den unveränderten
Strahlungsanteil innerhalb des ersten Einfallswinkelbereichs stärker
reflektiert als den umgewandelten Strahlungsanteil.
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Der
Zwischenraum zwischen dem Winkelfilterelement 5 und dem
Konversionselement 4 ist vorzugsweise mit Luft gefüllt.
Das Winkelfilterelement 5 kann selbsttragend sein oder
wie in 3 dargestellt auf einem Träger 9 angeordnet
sein. Das Winkelfilterelement 5 oder der Träger 9 decken
die Ausnehmung 6 ab, so dass das Innere des Halbleiterelements 1 vor äußeren
Einflüssen geschützt ist. Vorzugsweise ist das
Winkelfilterelement 5 mittels des Trägers 9 an dem
Chipgehäuse 2 befestigt. Zweckmäßigerweise ist
der Träger 9 sowohl für den unveränderten
Strahlungsanteil als auch für den umgewandelten Strahlungsanteil
durchlässig. Beispielsweise kann der Träger ein
Glasplättchen sein.
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Exemplarisch
wird nachfolgend der Verlauf verschiedener Lichtstrahlen beschrieben.
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Ein
von dem Halbleiterchip 3 emittierter Lichtstrahl A tritt
ohne Wellenlängenänderung durch das Konversionselement 4 hindurch,
passiert den Zwischenraum zwischen dem Konversionselement 4 und
dem Winkelfilterelement 5 und trifft unter einem Einfallswinkel
auf das Winkelfilterelement 5, der innerhalb des zweiten
Einfallswinkelbereichs liegt, so dass der Lichstrahl beim ersten
Auftreffen auf das Winkelfilterelement 5 auskoppeln kann.
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Anders
verhält es sich bei einem Lichtstrahl B, der das Konversionselement 4 ohne
Wellenlängenänderung passiert und unter einem
Einfallswinkel auf das Winkelfilterelement 5 auftrifft,
der innerhalb des ersten Einfallswinkelbereichs liegt. Der Lichtstrahl
B wird beim ersten Auftreffen auf das Winkelfilterelement 5 reflektiert.
Der Lichtstrahl B wird in Richtung des Konversionselements 4 reflektiert,
wird dort umgewandelt, so das der Lichtstrahl B die längere Wellenlänge
aufweist, und trifft erneut auf das Winkelfilterelement 5 auf.
Obwohl der Einfallswinkel, unter welchem der Lichtstrahl B auf das
Winkelfilterelement 5 auftrifft, innerhalb des ersten Einfallswinkelbereichs
liegt, kann der Lichtstrahl B auskoppeln. Denn das Winkelfilterelement 5 weist
keine erhöhte Reflektivität für den umgewandelten
Strahlungsanteil mit der längeren Wellenlänge
auf.
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Ein
Lichtstrahl C, der durch das Konversionselement 4 auch
ohne Wellenlängenänderung hindurchtritt und am
Winkelfilterelement 5 reflektiert wird, trifft auf die
Seitenfläche 8 des Chipgehäuses 2 auf
und wird in Richtung des Winkelfilterelements 5 umgelenkt.
Da der Einfallswinkel, unter welchem der Lichtstrahl C auf das Winkelfilterelement 5 auftrifft,
innerhalb des zweiten Einfallswinkelbereichs liegt, kann der Lichtstrahl
C aus dem Halbleiterbauelement 1 auskoppeln.
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Weiterhin
wird ein Lichtstrahl D nach der Reflexion am Winkelfilterelement 5 an
der Bodenfläche 7 reflektiert und erfährt
auf dem Weg durch das Konversionelement 4 eine Änderung
der Wellenlänge. Der Lichtstrahl D trifft auf das Winkelfilterelement 5 auf
und kann auskoppeln.
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Die
Erfindung ist nicht durch die Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele
beschränkt. Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie
jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination
von Merkmalen in den Patentansprüchen beinhaltet, auch
wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit
in den Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben
ist.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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Zitierte Nicht-Patentliteratur
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- - I. Schnitzer
et al., Appl. Phys. Lett. 63 (16), 18. Oktober 1993, 2174–2176 [0029]