DE102007046446A1 - Method for adjusting measuring needles - Google Patents
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Abstract
Verfahren zur automatischen Justierung von Messnadeln (3) relativ zu Oberflächen von Prüflingen, wie elektronischen Bauelementen, wobei die Messnadeln zum elektrischen Prüfen relativ zum Prüfling verfahren werden und nach dem Aufsetzen und Kontaktieren entsprechend elektrisch prüfen, wobei mittels eines optischen Sensors die Lage von Messnadeln (3) mit dem Auflichtprinzip zu einem vorgebbaren Zeitpunkt in einem Prüfsystem erkannt wird, eine Bildverarbeitung Fehlstellungen hinsichtlich einer Verdrehung einer Gruppe von Messnadeln ermittelt und bei wesentlichen Fehlstellungen eine mit mehreren Messnadeln bestückte Messnadelspinne (1) mittels eines Stellantriebs in die korrekte Lage gedreht wird.Method for the automatic adjustment of measuring needles (3) relative to surfaces of specimens, such as electronic components, the measuring needles being moved relative to the specimen for electrical testing and correspondingly electrically tested after fitting and contacting, whereby the position of measuring needles ( 3) is detected with the incident light principle at a predeterminable time in a test system, an image processing determined malpositions with respect to a rotation of a group of measuring needles and in essential misalignments equipped with a plurality of measuring needles measuring needle spider (1) is rotated by means of an actuator in the correct position.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Justierung von Messnadeln zum genauen Kontaktieren von elektrisch zu testenden Bauelementen mittels mehrerer Messnadelspitzen gleichzeitig.The The invention relates to a method for the adjustment of measuring needles for Precise contacting of electrically testable devices by means of several Measuring needle tips at the same time.
Zum elektrischen Testen von Baugruppen, Chips auf Wafern oder sonstigen elektronischen Komponenten wird das zu testende Objekt mit den Messnadelspitzen eines Messinstrumentes kontaktiert und die Messung wird gestartet. Eine Anwendungsmöglichkeit des Messverfahrens ist der Wafer-Test. Auf einem Wafer sind beispielsweise mehrere Halbleiterbauelemente, die sogenannten Chips aufgebracht. Jeder Chip besitzt Messstellen für die elektrische Messung, sogenannte Pads. Beim elektrischen Wafer-Test werden die Messnadeln auf die hierfür vorgesehenen Pads aufgesetzt und anschließend wird die Funktion des elektronischen Bauteils geprüft. Zum Kontaktieren wird der Wafer derart angehoben, dass die Messnadeln des Messsystems die Pads des Messobjektes elektrisch kontaktieren. Dabei werden sämtliche kontaktierten Pads von den Messnadeln elektrisch kontaktiert. Die Messnadeln werden im Bezug zur Chiplage und zur Lage der Chipmatrix derart positioniert, dass ein fehlerfreies Kontaktieren sämtlicher Chips des Wafers möglich ist.To the electrical testing of assemblies, chips on wafers or other electronic components becomes the object to be tested with the measuring needle tips a measuring instrument contacted and the measurement is started. An application possibility the measurement method is the wafer test. For example, on a wafer several semiconductor devices, the so-called chips applied. Each chip has measuring points for the electrical measurement, so-called pads. At the electrical wafer test The measuring needles are placed on the pads provided for this purpose and subsequently the function of the electronic component is checked. To the Contact the wafer is raised so that the measuring needles of the measuring system electrically contact the pads of the measurement object. there be all contacted pads electrically contacted by the measuring needles. The Measuring needles are related to the chip position and to the position of the chip matrix positioned such that a faultless contacting of all Chips of the wafer is possible.
Bisher war es notwendig, dass ein Einrichter nach definierten zeitlichen Intervallen oder vor jedem Prüfvorgang die sogenannten Messkarten mit darauf befindlichen Messspinnen mit entsprechenden Messnadeln unter einem Mikroskop justieren musste. Ziel ist jeweils die Messnadeln möglichst optimal auf die elektrischen Anschlussflecken, die Pads, auszurichten wenn das Messsystem mit den Messnadeln jeweils auf zu prüfende elektronische Strukturen aufsetzt. Durch das bei einer Prüfung notwendige Anfahren, in Position fahren, und Kontaktieren von Chips werden auf den Pads Nadelabdrücke erzeugt. Diese Nadelabdrücke werden vom Einrichter unter dem Mikroskop analysiert und gegebenenfalls wird der Einrichtvorgang bis zum Erreichen eines befriedigenden Messergebnisses wiederholt.So far It was necessary for a setter to be defined in terms of time Intervals or before each test procedure the so-called measuring cards with thereon spiders with had to adjust corresponding measuring needles under a microscope. The aim is the measuring needles as optimally as possible on the electrical Pads, the pads, align when the measuring system with each of the measuring needles to be tested electronic structures. By the necessary in an examination Starting, driving into position, and contacting chips on the pads needleprints generated. These needleprints are analyzed by the installer under the microscope and if necessary the setup process will be satisfactory until it reaches a satisfactory level Measurement result repeated.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, ein Verfahren zur Justierung von Messnadeln zur Kontaktierung bei der elektrischen Prüfung von elektronischen Baugruppen oder Wafern bereitzustellen, wobei Fehlpositionierungen im Prüfvorgang vermieden werden.Of the Invention is based on the object, a method for adjustment of measuring needles for contacting in the electrical testing of provide electronic assemblies or wafers, with mispositioning in the inspection process be avoided.
Die Lösung dieser Aufgabe geschieht durch die Merkmalskombination entsprechend dem Hauptanspruch. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind den Unteransprüchen zu entnehmen.The solution This task is done by the combination of features accordingly the main claim. Advantageous embodiments are the dependent claims remove.
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zu Grunde, dass die Lage von Messnadelspitzen oder allgemein einer Gruppe von Messnadeln zu einem bestimmten vorgebbaren Zeitpunkt vor den eigentlichen Testvorgängen oder nach dem Einsetzen einer neuen Messnadelspinne mit mehreren Messnadeln unter Einsatz eines zweidimensionalen Kamerasystems und mittels mindestens eines Stellantriebes zunächst erfassbar ist, eine Fehlstellung erkennbar ist und eine Nachführung in eine optimale Lage durchführbar ist. Somit ist für mindestens einen, meist eine Vielzahl, von Testvorgängen die Gruppe von Messnadeln optimal positioniert und ausgerichtet. Optimal bedeutet, dass eine Vielzahl von gleichzeitig verfahrbaren Messnadeln mit entsprechenden Messnadelspitzen gleichzeitig auf eine zu testenden Oberfläche von Prüflingen aufsetzen.Of the The invention is based on the finding that the position of measuring needle tips or in general a group of measuring needles to a certain predeterminable Time before the actual testing or after insertion a new measuring needle spider with several measuring needles under use a two-dimensional camera system and by means of at least one Actuator first detectable is, a misalignment is recognizable and a tracking in an optimal location feasible is. Thus, for at least one, usually a multitude, of the test procedures Group of measuring needles optimally positioned and aligned. Optimal means a variety of simultaneously movable needles with corresponding needle tips simultaneously on one to be tested surface of test pieces put on.
Es werden die Messnadelspitzen im Wesentlichen unterhalb der Messstation im Auflicht beleuchtet und deren Bild wird nach der Übertragung mit entsprechenden Spiegeleinheiten in einer Kamera erzeugt, analysiert und hinsichtlich einer rotatorischen Fehlstellung um die Z-Achse untersucht. Mittels entsprechender Überwachung wird eine Messnadelkarte in einer vorhandenen rotatorischen Fehlstellung erkannt und in der Positionierung korrigiert, indem Sie um die Z-Achse gedreht wird. Somit ist insgesamt die Anordnung einer Vielzahl von Messnadelspitzen derart ausgerichtet dass sie eine große An zahl von Prüfvorgängen parallel beziehungsweise gleichzeitig auf den zu prüfenden Oberflächen aufsetzt. So wird ein bestimmtes elektronisches Bauteil, welches beispielsweise auf einen Wafer vorhanden ist, kurz mit den Messnadeln angefahren, kurz kontaktiert und elektrisch überprüft. Der entsprechende Vorgang wiederholt sich für eine große Anzahl von nebeneinander liegenden Bauelementen.It the measuring needle tips are essentially below the measuring station illuminated in reflected light and their image is transmitted after transmission generated with corresponding mirror units in a camera, analyzed and with respect to a rotational misalignment about the Z axis examined. By means of appropriate monitoring becomes a measuring needle card detected in an existing rotational misalignment and in the Corrected positioning by rotating around the Z-axis. Thus, overall, the arrangement of a plurality of measuring needle tips is such that they are a big one Parallel to a number of test procedures or simultaneously on the surfaces to be tested. Thus, a particular electronic component, which for example on a wafer, briefly hit with the measuring needles, briefly contacted and electrically checked. Of the corresponding process is repeated for a large number of side by side lying components.
Im Folgenden werden anhand von schematischen begleitenden Figuren, die die Erfindung jedoch nicht einschränken, wie im Ausführungsbeispiel beschrieben.in the The following will be described with reference to schematic accompanying figures, but not limit the invention, as in the embodiment described.
Der
Metallanschlussring
Eine
Anordnung nach
Ausgehend
von einer Fehlstellung in Form einer Verdrehung entsprechend
Der
Chuck
Die Verstellbereiche liegen im μm-Bereich. Im Strahlengang des optischen Sensors kann mindestens ein Umlenkspiegel enthalten sein. Maßgeblich für die parallele Ausrichtung ist die Oberfläche, beispielsweise eines Wafers oder eine Baugruppe.The Adjustment ranges are in the μm range. in the Beam path of the optical sensor can be at least one deflection mirror be included. decisive for the parallel alignment is the surface, such as a wafer or an assembly.
Anhand
der Figuren ist klar dargestellt, dass sich eine Messnadelspinne
Entsprechend
In
Der optische Sensor prüft eine Fehlstellung der Messnadelspitzen insbesondere unterhalb des Messanordnung. Zur Abbildung der Messnadelspitzen oder größerer Teile der Messnadeln wird mindestens ein Umlenkspiegel verwendet, welcher direkt oder indirekt fest mit der oberen Linearachse des Chuckan triebs verbunden ist. Mindestens ein Umlenkspiegel kann auch mit der auf der oberen Linearachse sitzenden Rotationsachse oder dem hierauf sitzenden Chuck verbunden sein.Of the optical sensor checks a malposition of the measuring needle tips, in particular below the measuring arrangement. For imaging the measuring needle tips or larger parts of the measuring needles At least one deflection mirror is used, which is direct or indirectly connected to the upper linear axis of the Chuckan drive is. At least one deflection mirror can also be used with the on the top Linear axis sitting axis of rotation or sitting on it Be connected to Chuck.
Ein Umlenkspiegel kann alternativ als Strahlteiler dargestellt werden. Dies ermöglicht eine zusätzliche Beleuchtung aus einer weiteren Richtung.One Deflection mirror can alternatively be represented as a beam splitter. this makes possible an additional Lighting from another direction.
Zur weiteren Beleuchtung der Messnadel ist eine zusätzliche Lichtquelle, die über einen Umlenkspiegel oder Strahlteiler einkoppelt, vorgesehen. Anstelle eines Umlenkspiegels kann auch ein optischer Sensor mit integrierter Lichtquelle verwendet werden.to Further illumination of the measuring needle is an additional light source, which has a Deflecting mirror or beam splitter coupled, provided. Instead of a deflection mirror can also be an optical sensor with integrated Be used light source.
Aufgrund automatisch einstellbaren Nadelpositionen kann sichergestellt werden, dass die Messnadeln im Rahmen der Kontaktfahrten bei den später auszuführenden Prüfverfahren beziehungsweise Kontaktfahrten auf die Pads treffen und nicht auf Regionen elektrisch kontaktieren, die nicht dafür vorgesehen sind. Zusätzlich kann die Messnadelqualität automatisch beurteilt werden. Verschlissene oder beschädigte Messnadeln werden rechtzeitig erkannt. Die elektronischen Bauelemente werden durch diese elektrischen Testvorgänge weniger belastet.by virtue of automatically adjustable needle positions can be ensured that the needles in the context of the contact trips at the later to be executed test methods or contact runs on the pads and not on Electrically contact regions that are not intended. In addition, can the measuring needle quality be judged automatically. Worn or damaged needles be recognized in time. The electronic components are going through these electrical tests less burdened.
Claims (7)
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE200710046446 DE102007046446A1 (en) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | Method for adjusting measuring needles |
PCT/EP2008/061381 WO2009043653A1 (en) | 2007-09-28 | 2008-08-29 | Method for adjusting measuring probes |
EP08804535A EP2193381A1 (en) | 2007-09-28 | 2008-09-22 | Method and device for adjusting measuring probes |
PCT/EP2008/062609 WO2009043752A1 (en) | 2007-09-28 | 2008-09-22 | Method and device for adjusting measuring probes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE200710046446 DE102007046446A1 (en) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | Method for adjusting measuring needles |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102007046446A1 true DE102007046446A1 (en) | 2009-04-09 |
Family
ID=40409830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE200710046446 Ceased DE102007046446A1 (en) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | Method for adjusting measuring needles |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP2193381A1 (en) |
DE (1) | DE102007046446A1 (en) |
WO (2) | WO2009043653A1 (en) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2007
- 2007-09-28 DE DE200710046446 patent/DE102007046446A1/en not_active Ceased
-
2008
- 2008-08-29 WO PCT/EP2008/061381 patent/WO2009043653A1/en active Application Filing
- 2008-09-22 WO PCT/EP2008/062609 patent/WO2009043752A1/en active Application Filing
- 2008-09-22 EP EP08804535A patent/EP2193381A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2009043752A1 (en) | 2009-04-09 |
EP2193381A1 (en) | 2010-06-09 |
WO2009043653A1 (en) | 2009-04-09 |
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