DE102007012754A1 - Method for analyzing impurities of wafer, involves providing drop of fluid between lower drop support and upper drop support, such that lower side of drop is in contact with lower drop support - Google Patents

Method for analyzing impurities of wafer, involves providing drop of fluid between lower drop support and upper drop support, such that lower side of drop is in contact with lower drop support Download PDF

Info

Publication number
DE102007012754A1
DE102007012754A1 DE200710012754 DE102007012754A DE102007012754A1 DE 102007012754 A1 DE102007012754 A1 DE 102007012754A1 DE 200710012754 DE200710012754 DE 200710012754 DE 102007012754 A DE102007012754 A DE 102007012754A DE 102007012754 A1 DE102007012754 A1 DE 102007012754A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
drop
holder
wafer
drop holder
edge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE200710012754
Other languages
German (de)
Inventor
Anton Huber
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
GEMETEC GES fur MESTECHNIK UN
GeMeTec Gesellschaft fur Messtechnik und Technologie mbH
Original Assignee
GEMETEC GES fur MESTECHNIK UN
GeMeTec Gesellschaft fur Messtechnik und Technologie mbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by GEMETEC GES fur MESTECHNIK UN, GeMeTec Gesellschaft fur Messtechnik und Technologie mbH filed Critical GEMETEC GES fur MESTECHNIK UN
Priority to DE200710012754 priority Critical patent/DE102007012754A1/en
Publication of DE102007012754A1 publication Critical patent/DE102007012754A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
    • G01N1/40—Concentrating samples
    • G01N1/4055—Concentrating samples by solubility techniques
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/02—Devices for withdrawing samples
    • G01N2001/028—Sampling from a surface, swabbing, vaporising

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Abstract

The method involves providing a drop of a fluid between a lower drop support (2) and an upper drop support (3), such that a lower side of the drop is in contact with the lower drop support and an upper side of the drop is in contact with the upper drop support. The edge of the wafer (1) is shut down with the drop, during the contact of the edge with a side surface of the drop with suction and analyzing the drop. The surface of the lower and the upper drop support, which comes in contact with the drop, contains polytetrafluoroethylene (PTFE). An independent claim is also included for a device for analyzing the impurities of a wafer.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren oder eine Vorrichtung zur Analyse von Verunreinigungen eines Wafers, bei welcher ein Tropfen einer Flüssigkeit zunächst mit dem Wafer in Kontakt gebracht wird und der Flüssigkeitstropfen daraufhin analysiert wird.The The present invention relates to a method or an apparatus for analyzing contaminants of a wafer in which a drop a liquid initially in contact with the wafer is brought and analyzed the liquid drop then becomes.

Ein solches Verfahren ist aus EP 787981 B1 bekannt, wobei eine hydrophobe Oberfläche eines Wafers mit einem Flüssigkeitstropfen abgefahren wird, so dass sich Verunreinigungen des Wafers im Tropfen ansammeln. Der Tropfen wird daraufhin abgesaugt und die vom Tropfen aufgenommenen Verunreinigungen der Waferoberfläche können untersucht werden. Die Oberflächenspannung des Tropfens sorgt dabei dafür, dass dieser auch bei der Bewegung über die Oberfläche des Wafers eine kompakte Form behält und relativ zur Oberfläche bewegt werden kann, ohne zerstört zu werden. Die für den Tropfen verwendete Flüssigkeit besteht dabei üblicherweise aus einer Fluorwasserstofflösung hoher Reinheit, welche die hydrophobe Oberfläche des Wafers nicht benetzt.Such a procedure is over EP 787981 B1 known, wherein a hydrophobic surface of a wafer is traversed with a liquid drop, so that accumulate impurities of the wafer in the droplet. The drop is then sucked off and the impurities of the wafer surface picked up by the drop can be examined. The surface tension of the drop ensures that it retains a compact shape even when moving over the surface of the wafer and can be moved relative to the surface without being destroyed. The liquid used for the drop usually consists of a high purity hydrogen fluoride solution which does not wet the hydrophobic surface of the wafer.

Hierfür ist wichtig, dass die Waferoberfläche hydrophob ist. Um die Oberfläche des Wafers hydrophob zu machen, kann diese dabei zunächst mit Fluorwasserstoff (HF) dampfbehandelt werden, wodurch ein auf der Oberfläche des Wafers vorhandener Oxidfilm entfernt werden kann.Therefor it is important that the wafer surface is hydrophobic. Around The surface of the wafer can make it hydrophobic initially steam-treated with hydrogen fluoride (HF) become, whereby one on the surface of the wafer existing Oxide film can be removed.

Bei dem aus EP 787981 B1 bekannten Verfahren wird der Flüssigkeitstropfen dabei üblicherweise von einer Pipette auf die Waferoberfläche aufgebracht und gehalten, während der Wafer unter der Pipette vorbei gedreht wird. Entsprechende Pipettierköpfe sind auch aus JP 2003344243 A und 2004170222 A bekannt. Alternativ läßt sich das Verfahren auch in umgekehrter Anordnung durchführen, wobei der Flüssigkeitstropfen in einer leichten Vertiefung ruht und die Oberfläche des Wafers von oben mit der Oberseite des Flüssigkeitstropfen in Kontakt gebracht wird.At the EP 787981 B1 In known processes, the liquid drop is usually applied and held by a pipette on the wafer surface, while the wafer is rotated past under the pipette. Corresponding pipetting heads are also off JP 2003344243 A and 2004170222 A known. Alternatively, the process can also be carried out in the reverse order, wherein the liquid drop rests in a slight depression and the surface of the wafer is brought from above with the top of the liquid drop in contact.

Zum einen bestehen nun aber bei den bekannten Verfahren Probleme bezüglich der Flexibilität, dem Schutz vor Störeinflüssen sowie der konstruktiven Umsetzung. Des weiteren können die bekannten Verfahren lediglich zur Analyse eines inneren Bereiches der Oberfläche eines Wafers herangezogen werden, während sie im Rand- bzw. Kantenbereich des Wafers versagen.To the However, there are problems with respect to the known methods flexibility, protection against interference as well as the constructional implementation. Furthermore, you can the known methods only for the analysis of an inner region the surface of a wafer while they fail in the edge or edge area of the wafer.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zur Analyse von Verunreinigungen eines Wafers zur Verfügung zu stellen, welche den Kantenbereich des Wafers analysieren können. Zudem ist es Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die bekannten Verfahren bezüglich Flexibilität und Schutz vor Störeinflüssen zu verbessern sowie eine einfache und sicher umsetzbare Konstruktion zu ermöglichen.task The present invention is therefore a method and a Device for analyzing impurities of a wafer available to provide, which can analyze the edge region of the wafer. In addition, it is an object of the present invention, the known methods in terms of flexibility and protection against interference to improve as well as a simple and safe to implement construction to enable.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß von einem Verfahren gemäß Anspruch 1 gelöst. Dieses Verfahren zur Analyse von Verunreinigungen eines Wafers umfaßt dabei die Schritte:

  • – Bereitstellen eines Tropfens einer Flüssigkeit zwischen einem unteren Tropfenhalter und einem oberen Tropfenhalter, so dass eine Unterseite des Tropfens mit dem unteren Tropfenhalter und eine Oberseite des Tropfens mit dem oberen Tropfenhalten in Kontakt steht und
  • – Abfahren der Kante des Wafers mit dem Tropfen, während diese mit einer Seite des Tropfens in Kontakt steht,
  • – Absaugen und Analysieren des Tropfens.
This object is achieved by a method according to claim 1. This method for analyzing impurities of a wafer comprises the steps:
  • Providing a drop of liquid between a lower drop holder and an upper drop holder such that an underside of the drop is in contact with the lower drop holder and an upper surface of the drop is in contact with the upper drop hold;
  • Traversing the edge of the wafer with the drop while it is in contact with one side of the drop,
  • - Aspirate and analyze the drop.

Durch das erfindungsgemäße Verfahren ist es erstmals möglich, auch die Kante eines Wafers mittels eines Tropfens auf Verunreinigungen zu überprüfen. Beim Abfahren der Kante mit dem Tropfen bewegt sich die Kante durch den Tropfen hindurch, so dass sich die abgelösten Verunreinigungen des Wafers in der Flüssigkeit des Tropfens ansammeln. Der Tropfen befindet sich dabei zwischen dem unteren und dem oberen Tropfenhalter und ermöglicht so ein leichtes Eintauchen der Kante des Wafers in den Tropfen, bei welchem auch die an die Kante selbst anschließenden Randbereiche auf der Ober- sowie der Unterseite des Wafers mit dem Tropfen in Kontakt kommen. Durch die hydrophobe Oberfläche des Wafers wird diese von der Flüssigkeit des Tropfens nicht benetzt, so dass der Tropfen aufgrund seiner Oberflächenspannung intakt bleibt und eine seitliche Einbuchtung bildet, in der sich die Kante des Wafers befindet. Ohne den Kontakt mit dem oberen Tropfenhalter würde der Tropfen dagegen lediglich den Randbereich auf der Unterseite des Wafers berühren, nicht aber in Kontakt mit dem Randbereich auf der Oberseite des Wafers treten.By the inventive method is the first time possible, even the edge of a wafer by means of a drop to check for impurities. When driving off the edge with the drop moves the edge through the drop through, so that the detached contaminants of the wafer in the liquid of the drop. Of the Drop is located between the lower and the upper Drop holder and thus allows easy dipping the edge of the wafer in the drops, in which the to the Edge itself adjoining edge areas on the upper and the underside of the wafer come in contact with the drop. Due to the hydrophobic surface of the wafer this is from the liquid of the drop is not wetted, so that the Drop remains intact due to its surface tension and forms a lateral indentation in which the edge of the Wafers is located. Without the contact with the upper drop holder would the drop, however, only the edge area on the bottom of the wafer, but not in contact with the periphery on the top of the wafer.

Außerdem würde der Tropfen ohne den oberen Tropfenhalter leicht von der Kante des Wafers vom unteren Tropfenhalter weggerissen, anstatt wie in der vorliegenden Erfindung zwischen dem unteren und dem oberen Tropfenhalter sicher gehalten zu werden, während die Kante des Wafers durch den Tropfen hindurch bewegt wird. Dadurch, dass in der vorliegenden Erfindung der Tropfen in Kontakt mit dem unteren und dem oberen Tropfenhalter steht und so sowohl oberhalb als auch unterhalb des Kontaktpunktes mit der Kante des Wafers stabilisiert wird, wird ein Abreißen des Tropfens durch die Bewegung der Kante sicher verhindert.Furthermore the drop would be light without the upper drop holder torn away from the edge of the wafer by the lower drop holder, instead of as in the present invention between the lower and the upper drop holder to be held securely while the edge of the wafer is moved through the drop. Thereby, in the present invention, the drop is in contact with the lower and the upper drop holder stands and so both above is stabilized below the contact point with the edge of the wafer, is a tearing of the drop by the movement of the edge safely prevented.

Auch in der vorliegenden Erfindung sollte die mit dem Tropfen in Kontakt kommende Kante des Wafers hydrophob sein, wozu diese wie bereits aus dem Stand der Technik bekannt ebenfalls mit Fluorwasserstoff dampfbehandelt werden kann, um eine eventuell dort vorhandene Oxidschicht zu entfernen.In the present invention, the coming into contact with the drop edge of the Wafers be hydrophobic, to which these, as already known from the prior art can also be steam-treated with hydrogen fluoride, to remove any existing there oxide layer.

Das Abfahren der Kante mit dem Tropfen kann dabei dadurch erfolgen, dass die Kante des Wafers durch den Tropfen hindurchbewegt wird, während die Kante des Wafers mit einer Seite des Tropfens in Kontakt steht. Die Tropfenhalter können dabei unbewegt bleiben, während der Wafer z. B. durch eine Drehvorrichtung gedreht wird.The Departure of the edge with the drop can thereby take place, that the edge of the wafer is moved through the drop, while the edge of the wafer is with one side of the drop in contact. The drop holders can be unmoved remain while the wafer z. B. by a rotating device is turned.

Vorteilhafterweise umfaßt das Bereitstellen des Tropfens in dem erfindungsgemäßen Verfahrend die Schritte

  • – Aufbringen des Tropfens auf den unteren Tropfenhalter sowie
  • – Kontaktieren der Oberseite des Tropfens mit dem oberen Tropfenhalter.
Advantageously, the provision of the drop in the method according to the invention comprises the steps
  • - Applying the drop to the lower drop holder as well
  • - Contact the top of the drop with the top drop holder.

Vorteilhafterweise sind hierzu unterer Tropfenhalter und oberer Tropfenhalter relativ zueinander bewegbar, so dass zunächst der Tropfen auf dem unteren Tropfer aufgebracht werden kann und erst daraufhin der Kontakt zwischen der Oberseite des Tropfens und dem oberen Tropfenhalter durch eine Bewegung des oberen Tropfenhalters erfolgt. Durch diese Beweglichkeit zwischen unterem und oberen Tropfenhalter ergibt sich ein äußerst flexible und sichere Handhabung des Tropfens, durch welche der Tropfen sicher bereitgestellt und zwischen unterem und oberem Tropfenhalter gehalten werden kann.advantageously, For this purpose, lower drop holder and upper drop holder are relative moving towards each other, so that first the drops on the lower dropper can be applied and only then the contact between the top of the drop and the top drop holder done by a movement of the upper drop holder. Through this mobility between lower and upper drop holder results in an extremely flexible and safe handling of the drop, through which the drop safely provided and held between the lower and upper drop holder can be.

Weiterhin vorteilhafterweise ist der obere Tropfenhalter gegenüber dem unteren Tropfenhalter insbesondere in vertikaler Richtung verfahrbar. So lässt sich der Spalt zwischen unterem und oberem Tropfenhalter, in welchem der Tropfen angeordnet ist, in der Höhe optimal einstellen, z. B. bezüglich der Flüssigkeitsmenge im Tropfen, der Drehgeschwindigkeit des Wafers und der Größe des Kantenbereichs, welcher mit dem Tropfen in Kontakt kommen soll.Farther Advantageously, the upper drop holder is opposite the lower drop holder in particular in the vertical direction movable. Thus, the gap between the lower and upper drop holder, in which the drop is arranged, optimal in height adjust, z. B. with respect to the amount of liquid in the drop, the rotational speed of the wafer and the size the edge area, which should come into contact with the drop.

Weiterhin vorteilhafterweise ist der obere Tropfenhalter gegenüber dem unteren Tropfenhalter in horizontaler Richtung verfahrbar. So ist der Tropfen durch die Beweglichkeit des oberen Tropfenhalters gegenüber dem unteren Tropfenhalter sehr viel besser zugänglich, um diesen z. B. sicher absaugen zu können. Insbesondere muß die Vorrichtung zum Aufbringen des Tropfens bzw. zum Absaugen des Tropfens so nicht in den Tropfenhalter integriert werden, sondern kann separat ausgeführt werden. Auch sonst ergibt sich durch die Bewegbarkeit vom oberen Tropfenhalter relativ zum unteren Tropfenhalter eine erhöht Flexibilität bei der Durchführung des Verfahrens.Farther Advantageously, the upper drop holder is opposite the lower drop holder in the horizontal direction. So is the drop due to the mobility of the upper drop holder much more accessible to the lower drop holder, around this z. B. safe to aspirate. Especially the device for applying the drop or the Sucking the drop so not be integrated into the drop holder, but can be done separately. Even otherwise results characterized by the mobility of the upper drop holder relative to lower drop holder increases flexibility in carrying out the process.

Das Kontaktieren der Kante des Wafers mit einer Seite des Tropfens kann dabei entweder gleichzeitig mit dem Aufbringen des Tropfens auf den unteren Tropfenhalter, nach dem Aufbringen des Tropfens auf den unteren Tropfenhalter oder nach dem Kontaktieren der Oberseite des Tropfens mit dem oberen Tropfenhalter erfolgen. Das Abfahren der Kante des Wafers mit dem Tropfen sollte jedoch erst dann erfolgen, wenn der Tropfen sowohl mit dem unteren als auch dem oberen Tropfenhalter in Kontakt steht und so in Position gehalten wird.The Contacting the edge of the wafer with one side of the drop may either simultaneously with the application of the drop the lower drop holder, after applying the drop on the lower drop holder or after contacting the top of the drop with the upper drop holder. The departure however, the edge of the wafer with the drop should not be if the drop with both the lower and the upper drop holder is in contact and held in position.

Weiterhin vorteilhafterweise erfolgt in dem erfindungsgemäßen Verfahren das Aufbringen des Tropfens auf den unteren Tropfenhalter mittels einer separaten Pipette. Das Verwenden der separaten Pipette zusätzlich zu einem unteren und oberen Tropfenhalter hat den großen Vorteil, dass die einzelnen Komponenten jeweils optimal auf ihre Aufgabe zugeschnitten werden können und dennoch relativ einfach aufgebaut sind. Zudem ergibt sich die Möglichkeit, dass jeweils nicht aktive Element während den Phasen der Inaktivität zu reinigen, was wiederum Störeinflüsse minimiert. Die Beweglichkeit des oberen Tropfenhalters relativ zum unteren Tropfenhalter ist dabei von entscheidendem Vorteil, da der Tropfen so auf einfache Art und Weise mittels der separaten Pipette aufgebracht bzw. abgesaugt werden kann, während der obere Tropfenhalter vom unteren Tropfenhalter wegbewegt ist.Farther advantageously takes place in the inventive Method of applying the drop to the lower drop holder by means of a separate pipette. Using the separate pipette in addition to a lower and upper drop holder has the big advantage that the individual components each can be optimally tailored to their task and nevertheless are relatively simple. In addition, there is the possibility that each non-active element during periods of inactivity to clean, which in turn minimizes interference. The mobility of the upper drop holder relative to the lower Drop holder is of crucial advantage, since the drop so applied in a simple manner by means of the separate pipette or can be sucked off, while the upper drop holder moved away from the lower drop holder.

Weiterhin vorteilhafterweise wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zum Kontaktieren der Oberseite des Tropfens mit dem oberen Tropfenhalter dieser von ei nem Seitenbereich in einen Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters bewegt. Der obere Tropfenhalter befindet sich also zunächst in einem Seitenbereich, während der Tropfen z. B. über eine separate Pipette auf den unteren Tropfenhalter aufgebracht wird. Daraufhin wird der obere Tropfenhalter dann in einen Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters bewegt und dort, z. B. durch Absenken mit der Oberseite des Tropfens in Kontakt gebracht. Dieses Vorgehen hat zusätzlich den Vorteil, dass der obere Tropfenhalter gereinigt werden kann, während er sich im Seitenbereich befindet. Hierdurch erhöht sich wiederum die Messgenauigkeit des erfindungsgemäßen Verfahrens und die Sicherheit vor Störeinflüssen.Farther Advantageously, in the inventive Method for contacting the top of the drop with the top Drop holder of this egg from a side area in an area above of the lower drop holder moves. The upper drop holder is located So first in a page area, while the drop z. B. via a separate pipette on the bottom Drop holder is applied. Then the upper drop holder becomes then moved to an area above the lower drop holder and there, z. B. by lowering the top of the drop in Brought in contact. This approach has the additional advantage that The upper drop holder can be cleaned while he is in the side area. This increases in turn, the measurement accuracy of the invention Procedure and safety from disturbing influences.

Weiterhin vorteilhafterweise umfaßt bei dem erfindungsgemäßen Verfahren das Bereitstellen des Tropfens die Schritte:

  • – Bewegen einer Pipette in einen Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters,
  • – Aufbringen des Tropfens auf den unteren Tropfenhalters mittels der Pipette,
  • – Wegbewegen der Pipette aus dem Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters,
  • – Bewegen des oberen Tropfenhalters in den Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters und
  • – Kontaktieren der Oberseite des Tropfens mit dem oberen Tropfenhalter.
Further advantageously, in the method according to the invention, the provision of the drop comprises the steps:
  • Moving a pipette into an area above the lower drop holder,
  • Applying the drop to the lower drop holder by means of the pipette,
  • Moving away the pipette from the area above the lower drop holder,
  • - moving the upper drop holder into the Be rich above the lower drop holder and
  • - Contact the top of the drop with the top drop holder.

Bei diesem erfindungsgemäßen Verfahren werden also Pipette und oberer Tropfenhalter abwechselnd in den Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters bewegt, um so nacheinander den Tropfen auf dem unteren Tropfenhalter aufzubringen und durch die Kontaktierung mit dem oberen Tropfenhalter in diesem Bereich zu sichern, während die Kante des Wafers durch den Tropfen bewegt wird. Durch das erfindungsgemäße Verfahren muß jedes der eingesetzten Elemente nur eine spezifische Funktion ausführen, so dass alle Element optimal auf diese Funktion ausgerichtet werden können und dennoch relativ einfach aufgebaut sind und damit eine kostengünstige Herstellung sowie einen zuverlässigen Betrieb ermöglichen.at This method according to the invention are thus Pipette and upper drop holder alternately in the area above of the lower drop holder moves to successively the drop on the lower drop holder and by the contact Secure with the top drop holder in this area while the edge of the wafer is moved through the drop. By the invention Procedure, each of the elements used only one perform specific function, making all element optimal can be aligned to this feature and still are relatively simple and thus a cost-effective Manufacture and allow reliable operation.

Weiterhin vorteilhafterweise erfolgen bei dem erfindungsgemäßen Verfahren nach dem Bewegen der Kante des Wafers durch den Tropfen die Schritte

  • – Wegbewegen des oberen Tropfenhalters aus dem Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters,
  • – Bewegen einer Pipette in einen Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters,
  • – Absaugen des Tropfens mittels der Pipette und
  • – Analysieren des Flüssigkeitstropfens.
Further advantageously, in the method according to the invention, the steps are carried out after the edge of the wafer has been moved through the drop
  • Moving away the upper drop holder from the area above the lower drop holder,
  • Moving a pipette into an area above the lower drop holder,
  • - Aspirate the drop by means of the pipette and
  • - Analyzing the liquid drop.

Wiederum kann hierdurch eine optimale Arbeitsteilung zwischen den einzelnen Elementen erfolgen, was eine einfache Konstruktion mit zuverlässigem Betrieb ermöglicht. Auch ist es wieder möglich, die jeweils nicht aktiven Elemente zu reinigen, um die Messgenauigkeit des Verfahrens zu erhöhen.In turn This allows an optimal division of labor between the individual Elements are made, resulting in a simple construction with reliable Operation possible. Also it is possible again, the each non-active elements to clean the accuracy of measurement of the procedure.

Weiterhin vorteilhafterweise werden bei dem erfindungsgemäßen Verfahren der untere und/oder der obere Tropfenhalter von einem Seitenbereich in den Bereich der Kante des Wafers bewegt. Hierdurch ergibt sich bei dem erfindungsgemäßen Verfahren eine erhöhte Flexibilität sowie ein einfaches Handling der Wafer, welche in die Vorrichtung eingelegt werden können, während sich die Tropfenhalter in einem Seitenbereich befinden. Auch während einem eventuell notwendigen Zentrieren der Wafer können sich die Tropfenhalter dabei weiterhin in einem Seitenbereich befinden. Diese werden dann erst in den Bereich der Kante des Wafers bewegt, wenn die Verunreinigungen auf der Kantenoberfläche des Wafers mittels des Tropfens analysiert werden sollen.Farther Advantageously, in the inventive Move the lower and / or upper drop holder from one Side area moved to the area of the edge of the wafer. This results in the inventive method a increased flexibility and easy handling of the Wafers which can be inserted into the device while the drop holders are in a side area. Also during any necessary centering of the Wafers allow the drop holders to continue in a page area. These are then only in the area the edge of the wafer moves when the contaminants on the edge surface of the wafer by means of the drop to be analyzed.

Weiterhin vorteilhafterweise werden dabei der untere und/oder der obere Tropfenhalter zwischen den Einsätzen gereinigt. Dies erhöht die Messgenauigkeit des Verfahrens sowie die Störsicherheit. Durch die Beweglichkeit von unterem und oberem Tropfenhalter ergibt sich dabei eine besonders einfache Reinigung, da die Reinigungsvorrichtungen im Seitenbereich angeordnet werden können.Farther advantageously, the lower and / or the upper drop holder cleaned between uses. This increases the measuring accuracy of the procedure as well as the interference immunity. By the mobility of lower and upper drop holder results doing a particularly simple cleaning, since the cleaning devices can be arranged in the side area.

Vorteilhafterweise befindet sich bei dem erfindungsgemäßen Verfahren die Kante des Wafers beim Abfahren mit dem Tropfen in einem Bereich zwischen dem oberen und den unteren Tropfenhalter. Hierdurch wird sichergestellt, dass der Kantenbereich des Wafers nicht nur auf der Unterseite des Wafers mit dem Tropfen in Kontakt ist, sondern auch im Randbereich auf der Oberseite des Wafers. So kann der zwischen dem unteren Tropfenhalter und dem oberen Tropfenhalter gehaltene Tropfen optimal dazu genutzt werden, den gesamten Kantenbereich des Wafers abzufahren. Die Kante des Wafers dringt dabei vorteilhafterweise maximal bis zur Hälfte in den von dem Tropfen ausgefüllten Bereich zwischen dem oberen und dem unteren Tropfenhalter seitlich ein, weiter vorteilhafterweise maximal bis zu einem Viertel des Durchmessers dieses Bereichs. Hierdurch wird der Tropfen durch die Bewegung der Kante des Wafers durch diesen hindurch nicht aus dem Bereich zwischen den beiden Tropfenhaltern herausgerissen, dennoch aber der gesamte Randbereich von dem Tropfen abgefahren. Weiterhin vorteilhafterweise entspricht der Abstand zwischen oberem und unterem Tropfenhalter dabei dem zwei- bis achtfachen der Dicke des Wafers, wobei der Wafer in etwa in der Mitte zwischen dem unteren und dem oberen Tropfenhalter durch den Tropfen hindurch bewegt wird.advantageously, is in the process of the invention the edge of the wafer when moving off with the drop in one area between the upper and the lower drop holder. This will ensure that the edge area of the wafer is not just up the bottom of the wafer is in contact with the drop, but instead also in the edge area on top of the wafer. So can the between the lower drop holder and the upper drop holder held Drops are optimally used to cover the entire edge area of the Depart Wafers. The edge of the wafer penetrates advantageously up to half in the filled from the drop Area between the upper and lower drop holder laterally a, further advantageously up to a quarter of the maximum Diameter of this area. As a result, the drop through the Movement of the edge of the wafer through this not out of the Ripped out the area between the two drip holders, nevertheless but the entire edge area of the drop traveled. Farther advantageously corresponds to the distance between the upper and lower Drop holder two to eight times the thickness of the wafer, the wafer being approximately midway between the lower and the upper drop holder is moved through the drops.

Weiterhin vorteilhafterweise umfaßt der obere Tropfenhalter bei dem erfindungsgemäßen Verfahren ein Röhrchen, dessen Öffnung mit der Oberseite des Tropfens in Kontakt steht. Das Röhrchen ist dabei nach unten hin offen und steht mit seinem umlaufenden Öffnungsrand mit der Oberseite des Tropfens in Kontakt, so dass die Öffnung durch den Tropfen verschlossen ist. Durch die Oberflächenspannung des Tropfens wird dieser dabei leicht in das Röhrchen hineingedrückt. Hierdurch ergibt sich ein optimale Führung und Halterung des Tropfens, während die Kante des Wafers durch den Tropfen hindurch bewegt wird.Farther Advantageously, the upper drop holder comprises in the method according to the invention a tube, the opening in contact with the top of the drop stands. The tube is open at the bottom and stands with its peripheral opening edge with the top of the drop in contact, so that the opening through the Drop is closed. Due to the surface tension of the Dripping this is easily pressed into the tube. This results in an optimal leadership and support of the drop, while the edge of the wafer through the drop is moved through.

Weiterhin vorteilhafterweise steht dabei das Röhrchen mit einer Schallquelle in Verbindung, über welche eine stehende Welle im Röhrchen erzeugbar ist. Weiterhin vorteilhafterweise wird der Tropfen dabei durch eine Frequenzerkennung der stehenden Welle detektiert. So kann durch die unterschiedliche Frequenz der stehenden Welle durch ein Verschließen des Röhrchens durch den Tropfen erkannt werden, ob der Tropfen ordnungsgemäß in Kontakt mit dem oberen Tropfenhalter steht. Zur Frequenzerkennung kann dabei z. B. ein Mikrophon verwendet werden.Farther Advantageously, the tube stands with a sound source in connection, over which a standing wave in the tube can be generated. Further advantageously, the drop is doing detected by a frequency detection of the standing wave. So can through the different frequency of the standing wave through a closing of the tube by the drop be recognized, whether the drop is properly in Contact with the upper drop holder stands. For frequency detection can be z. As a microphone can be used.

Mikrophon und Lautsprecher stehen dabei vorteilhafterweise über einen Schlauch mit dem Röhrchen in Verbindung.Microphone and speakers are included advantageously via a hose with the tube in conjunction.

Weiterhin vorteilhafterweise ist der Tropfen über das Röhrchen ausblasbar. Der Tropfen kann so durch einen Luftstoß aus dem Röhrchen herausgedrängt werden. Weiterhin vorteilhafterweise umfaßt das erfindungsgemäße Verfahren daher nach dem Bewegen der Kante des Wafers durch den Tropfen den Schritt des Ausblasens des Tropfens aus dem Röhrchen, so dass der Tropfen nicht an dem Röhrchen anhaftet und über die Pipette absaugbar ist. Auf diesen Schritt kann jedoch verzichtet werden, wenn sich der Tropfen auch ohne Ausblasen vom oberen Tropfenhalter löst, sobald dieser aus dem Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters wegbewegt wird.Farther Advantageously, the drop is over the tube blown out. The drop can be so through a puff of air pushed out of the tube. Farther Advantageously, the invention comprises Therefore, after moving the edge of the wafer through the process Drop the step of blowing the drop out of the tube, so that the drop does not adhere to the tube and over the pipette is aspirated. However, this step can be omitted If the drop is also without blowing out of the upper drop holder As soon as this one comes out of the area above the lower one Drop holder is moved away.

Weiterhin vorteilhafterweise weist der untere Tropfenhalter auf seiner Oberseite eine Vertiefung auf, in welcher die Unterseite des Tropfens ruht. Durch diese Vertiefung wird der Tropfen während der Bewegung der Kante durch den Tropfen bzw. während einer Bewegung des unteren Tropfenhalters sicher auf dem unteren Tropfenhalter gehalten.Farther Advantageously, the lower drop holder has on its upper side a depression in which the bottom of the drop rests. By This depression becomes the drop during the movement the edge through the drop or during a movement of the lower drop holder securely on the lower drop holder held.

Die vorliegende Erfindung umfaßt weiterhin eine Vorrichtung zur Analyse von Verunreinigungen eines Wafers, mit einem unteren Tropfenhalter, einem oberen Tropfenhalter, einer Vorrichtung zum Bereitstellen und/oder Absaugen eines Tropfens einer Flüssigkeit und einer Vorrichtung zum Analysieren des Flüssigkeitstropfens. Durch die erfindungsgemäße Vorrichtung ergeben sich offensichtlich die gleichen Vorteile wie durch das erfindungsgemäße Verfahren, welches mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung durchgeführt werden kann. Insbesondere kann durch den unteren Tropfenhalter und den oberen Tropfenhalter der Tropfen sicher gehalten werden, während eine Kante des Wafers mit einer Seitenfläche des Tropfens in Kontakt steht und durch den Tropfen hindurch bewegt wird. Vorteilhafterweise weist die erfindungsgemäße Vorrichtung zum Abfahren der Kante mit dem Tropfen weiterhin einer Vorrichtung zum Bewegen des Wafers relativ zu den Tropfenhaltern auf, z. B. eine Vorrichtung zum Rotieren des Wafers.The The present invention further includes an apparatus for analyzing impurities of a wafer, with a lower one Drop holder, an upper drop holder, a device for Providing and / or aspirating a drop of a liquid and a device for analyzing the liquid drop. Obtained by the device according to the invention obviously the same advantages as by the invention Method, which with the device according to the invention can be carried out. In particular, through the lower Drop holder and the upper drop holder of the drops safely held while one edge of the wafer is having a side surface the drop is in contact and moves through the drop becomes. Advantageously, the inventive Device for tracing the edge with the drop continues one Device for moving the wafer relative to the drop holders on, z. B. a device for rotating the wafer.

Vorteilhafterweise ist der obere Tropfenhalter gegenüber dem unteren Tropfenhalter beweglich ausgeführt. Hierdurch ist ein sicheres Aufbringen des Tropfens auf den unteren Tropfenhalter sowie ein ebenso sicheres Halten des Tropfen zwischen unterem und oberem Tropfenhalter gewährleistet. Vorteilhafterweise ist der obere Tropfenhalter dabei insbesondere in vertikaler Richtung gegenüber dem unteren Tropfenhalter verfahrbar, so dass z. B. die Höhe des Spaltes zwischen den Tropfenhaltern eingestellt werden kann. Weiterhin vorteilhafterweise ist der obere Tropfenhalter in horizontaler Richtung gegenüber dem unteren Tropfenhalter verfahrbar, so dass er von dem unteren Tropfenhalter seitlich wegbewegt werden kann und so ein einfacher Zugang zum unteren Tropfenhalter möglich wird.advantageously, is the upper drop holder opposite the lower drop holder movable. This is a safe application the drop on the lower drop holder as well as an equally safe Keeping the drop between the lower and upper drop holder guaranteed. Advantageously, the upper drop holder is in particular in the vertical direction opposite the lower drop holder movable, so that z. B. the height of the gap between the drop holders can be adjusted. Further advantageously is the upper drop holder in the horizontal direction opposite the lower drop holder movable, so he from the lower Drop holder can be moved sideways and so a simple Access to the lower drop holder is possible.

Weiterhin vorteilhafterweise sind bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung der untere Tropfenhalter, der obere Tropfenhalter und die Vorrichtung zum Bereitstellen und/oder Absaugen des Tropfens jeweils als separate Elemente ausgeführt. So können diese separaten Elemente jeweils optimal auf ihre jeweilige Aufgabe hin ausgelegt werden und ermöglichen dennoch eine einfache, kostengünstige und zuverlässige Konstruktion. Auch ist es so möglich, die jeweils nicht genutzten Elemente während der Zeiten der Inaktivität zu reinigen.Farther Advantageously, in the inventive Device the lower drop holder, the upper drop holder and the device for providing and / or sucking the drop each executed as separate elements. So can these separate elements each optimally towards their respective task be designed and still allow easy, cost-effective and reliable construction. It is also possible, the unused elements to clean during periods of inactivity.

Weiterhin vorteilhafterweise sind bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung die Vorrichtung zum Bereitstellen und/oder Absaugen des Tropfens und der untere Tropfenhalter relativ zueinander beweglich ausgeführt. Hierdurch ist es möglich, zum Bereitstellen bzw. Absaugen des Tropfens die Vorrichtung zum Bereitstellen und/oder Absaugen des Tropfens zum unteren Tropfenhalter zu bewegen und daraufhin die Vorrichtung wieder wegzubewegen. Dies ermöglicht es, den Tropfen z. B. durch eine separate Pipette auf dem unteren Tropfenhalter aufzubringen und durch einen davon getrennten Tropfenhalter zu halten, nachdem die Pipette wieder vom unteren Tropfenhalter wegbewegt wurde.Farther Advantageously, in the inventive Device, the device for providing and / or suction of the drop and the lower drop holder movable relative to each other executed. This makes it possible to provide or sucking the drop, the device for providing and / or Aspirate the drop to move to the lower drop holder and then to move the device away again. This makes it possible the drop z. B. by a separate pipette on the lower drop holder apply and hold through a separate drop holder, after the pipette has been moved away from the lower drop holder again.

Weiterhin vorteilhafterweise sind bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung der oberen Tropfenhalter und/oder die Vorrichtung zum Bereitstellen und/oder Absaugen des Tropfens von einem Seitenbereich in den Bereich des Randes des Wafers bewegbar. So ist es möglich, den oberen Tropfenhalter bzw. die Vorrichtung zum Bereitstellen und/oder Absaugen des Tropfens im Seitenbereich zu reinigen bzw. entsprechende Köpfe dieser Vorrichtungen zu wechseln.Farther Advantageously, in the inventive Device of the upper drop holder and / or the device for Provide and / or aspirate the drop from a side area movable in the region of the edge of the wafer. So it is possible the upper drop holder or the device for providing and / or to vacuum the drop in the side area to clean or to change corresponding heads of these devices.

Weiterhin vorteilhafterweise ist bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung auch der untere Tropfenhalter von einem Seitenbereich in den Bereich des Randes des Wafers bewegbar. So kann auch der untere Tropfenhalter durch im Seitenbereich angeordnete Reinigungsvorrichtungen gereinigt werden.Farther Advantageously, in the inventive Also, the lower drop holder from a side area movable in the region of the edge of the wafer. So can the lower drop holder by arranged in the side region cleaning devices getting cleaned.

Weiterhin vorteilhafterweise umfaßt die erfindungsgemäße Vorrichtung hierzu Reinigungsvorrichtungen für den unteren Tropfenhalter und/oder den oberen Tropfenhalter. Hierdurch läßt sich die Messgenauigkeit und die Sicherheit vor Störeinflüssen verbessern. Die Reinigungsvorrichtungen sind dabei vorteilhafterweise in einem Seitenbereich neben dem Drehbereich des Wafers angeordnet.Farther Advantageously, the invention comprises Device for cleaning devices for the lower Drop holder and / or the upper drop holder. This leaves Improve measuring accuracy and safety against interference. The cleaning devices are advantageously in one Side area arranged next to the rotation range of the wafer.

Weiterhin vorteilhafterweise umfaßt die erfindungsgemäße Vorrichtung auch mindestens eine Reinigungsvorrichtung für die Vorrichtung zum Bereitstellen und/oder Absaugen des Tropfen. Die Reinigungsvorrichtung ist dabei vorteilhafterweise ebenfalls in einem Seitenbereich neben dem Drehbereich des Wafers angeordnet.Further advantageously, the inventions includes device according to the invention also at least one cleaning device for the device for providing and / or suction of the drops. The cleaning device is advantageously also arranged in a side region next to the rotation range of the wafer.

Weiterhin vorteilhafterweise umfaßt die Vorrichtung zum Bereitstellen und/oder Absaugen des Tropfens eine Pipette. Diese Pipette kann der Tropfen sowohl auf den unteren Tropfenhalter aufgebracht werden als auch von diesem abgesaugt werden.Farther Advantageously, the device comprises for providing and / or aspirating the drop a pipette. This pipette can the drops are applied both to the lower drop holder be sucked out of this as well.

Weiterhin vorteilhafterweise besteht bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung zumindest die Oberfläche des unteren und des oberen Tropfenhalters, welche mit dem Tropfen in Kontakt tritt, aus PTFE (Polytetrafluorethylen). Weiterhin vorteilhafterweise bestehen der untere und der obere Tropfenhalter ganz aus PTFE. Dieses Material ist extrem reaktionsarm und weist eine extrem niedrige Oberflächenspannung auf, so dass es für die vorliegende Erfindung optimal geeignet ist. Auch läßt es sich äußerst gut reinigen, da nahezu keine Materialen existieren, welche an PTFE haften bleiben.Farther advantageously consists in the inventive Device at least the surface of the lower and the upper drop holder, which comes into contact with the drop, made of PTFE (polytetrafluoroethylene). Continue to exist advantageously the lower and the upper drop holder made entirely of PTFE. This material is extremely low in reaction and has an extremely low surface tension so that it is optimally suited for the present invention is. Also, it is extremely good Clean, since almost no materials exist, which in PTFE stick to it.

Weiterhin vorteilhafterweise weist der untere Tropfenhalter an seiner Oberseite eine Vertiefung zur Aufnahme der Unterseite des Tropfens auf. Diese Vertiefung hat vorteilhafterweise die Form einer kreisförmigen Aussparung, in welcher der Tropfen nach allen Richtungen seitlich gehalten wird. Aufgrund seiner Oberflächenspannung schaut der Tropfen mit seinen Seitenflächen und seiner Oberseite aus der Vertiefung heraus, so dass er in seinen Seitenbereichen freiliegt und auf seiner Oberseite mit dem oberen Tropfenhalter in Kontakt stehen kann. Die Kante des Wafers kann so ungehindert von der Seite her mit der Seitenfläche des Tropfens in Kontakt stehen und in diesen eintauchen.Farther Advantageously, the lower drop holder has at its upper side a recess for receiving the bottom of the drop. This depression advantageously has the shape of a circular recess, in which the drop is held laterally in all directions. Due to its surface tension, the drop looks with its side surfaces and its top out of the recess out so that it is exposed in its side areas and on its side Top can be in contact with the upper drop holder. The Edge of the wafer can thus freely from the side with the side surface the drop in contact and dive into this.

Weiterhin vorteilhafterweise weist der untere Tropfenhalter im wesentlichen die Form eines Zylinders auf, welcher vertikal angeordnet ist und auf dessen oberer Stirnseite der Tropfen aufgebracht wird. Hierdurch sind die Seitenflächen des Tropfens gut von allen Seiten her zugänglich.Farther Advantageously, the lower drop holder substantially the shape of a cylinder, which is arranged vertically and on the upper front side of the drop is applied. hereby the side surfaces of the drop are good from all sides accessible.

Weiterhin vorteilhafterweise umfaßt der obere Tropfenhalter der erfindungsgemäßen Vorrichtung ein Röhrchen, dessen Öffnung nach unten gerichtet ist. Das Röhrchen ist damit nach unten offen und kann so mit dem umlaufenden Rand seiner Öffnung mit dem Tropfen in Kontakt gebracht werden, wobei dieser aufgrund seiner Oberflächenspannung etwas ins Innere des Röhrchens hineinreicht. So kann der Tropfen optimal zwischen unterem Tropfenhalter und oberem Tropfenhalter gehalten werden, wobei er aufgrund seiner Oberflächenspannung stabil seine Form behält.Farther Advantageously, the upper drop holder comprises the invention Make a tube, its opening after is directed down. The tube is thus down open and so can with the circumferential edge of its opening the drop are brought into contact, this being due to its Surface tension slightly inside the tube extends. So the drop can optimally between lower drop holder and upper drop holder, being due to his Surface tension keeps its shape stable.

Weiterhin vorteilhafterweise steht das Röhrchen dabei mit einer Schallquelle in Verbindung, über welche eine stehende Welle im Röhrchen erzeugbar ist. Vorteilhafterweise steht das Röhrchen dabei über einen Schlauch mit einem Lautsprecher in Verbindung. Beim Erzeugen der stehenden Welle läßt sich an der Frequenz er kennen, ob die Öffnung des Röhrchens verschlossen ist und damit ordnungsgemäß mit dem Tropfen in Kontakt steht oder nicht.Farther Advantageously, the tube stands with a sound source in connection, over which a standing wave in the tube can be generated. Advantageously, the tube is over a Hose connected to a speaker. When creating the standing wave can be at the frequency he know whether the opening of the tube is closed and thus properly in contact with the drop is or not.

Vorteilhafterweise steht das Röhrchen dabei mit einer Vorrichtung zur Frequenzerkennung der stehenden Welle in Verbindung. Vorteilhafterweise wird hierzu ein Mikrophon eingesetzt, welches ebenfalls über einen Schlauch mit dem Röhrchen in Verbindung steht. Hierdurch läßt sich auf einfache Art und Weise erkennen, ob ein Tropfen mit dem Röhrchen in Kontakt steht.advantageously, the tube stands with a device for frequency detection the standing wave in connection. Advantageously, this is done a microphone used, which also has a Tube communicates with the tube. hereby can be easily recognized, whether a drop is in contact with the tube.

Weiterhin vorteilhafterweise ist der Tropfen über das Röhrchen des oberen Tropfenhalters ausblasbar. Hierdurch ist es möglich, den Tropfen vom oberen Tropfenhalter zu lösen, wenn dies nötig ist. Vorteilhafterweise steht das Röhrchen hierzu mit einer Druckluftquelle in Verbindung.Farther Advantageously, the drop is over the tube the upper drop holder can be blown out. This makes it possible Release the drop from the top drop holder if this is the case is necessary. Advantageously, the tube is For this purpose with a compressed air source in conjunction.

Weiterhin vorteilhafterweise ist bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung der Durchmesser des unteren Tropfenhalters an dessen Oberkante größer als der Durchmesser des oberen Tropfenhalters an dessen Unterkante. So kann der Tropfen in der Mitte des unteren Tropfenhalters gehalten werden und vorteilhafterweise in einem unteren Bereich in einer Vertiefung in diesem liegen, während die Oberseite des Tropfens mit dem kleineren oberen Tropfenhalter in Kontakt steht.Farther Advantageously, in the inventive Device of the diameter of the lower drop holder at the Upper edge larger than the diameter of the upper one Drop holder at the lower edge. So can the drop in the Center of the lower drop holder are held and advantageously lie in a lower area in a depression in this while the top of the drop with the smaller top drop holder in contact.

Vorteilhafterweise weist der als Röhrchen ausgebildete obere Tropfenhalter dabei einen Außendurchmesser von 4–8 mm und einen Innendurchmesser von 2–6 mm auf, so dass ein Tropfen von vorteilhafterweise 100–200 μl optimal zwischen dem unteren Tropfenhalter und dem oberen Tropfenhalter gehalten werden können. Der Abstand zwischen der Oberkante des unteren Tropfenhalters und der Unterkante des oberen Tropfenhalters beträgt dabei beim Abfahren der Kante mit de Tropfen vorteilhafterweise zwischen einem und vier Millimetern.advantageously, has the trained as a tube upper drop holder while an outer diameter of 4-8 mm and a Inner diameter of 2-6 mm, leaving a drop of advantageously 100-200 μl optimally between held the lower drop holder and the upper drop holder can be. The distance between the top of the bottom Drop holder and the lower edge of the upper drop holder is while running the edge with de drops advantageously between one and four millimeters.

Die Vorrichtung der vorliegenden Erfindung umfaßt weiterhin vorteilhafterweise eine Steuerung zur Durchführung eines der oben beschriebenen Verfahren. Dabei erzeugt die Steuerung Steuerungsimpulse zur Betätigung bzw. Bewegung der Kom ponenten der erfindungsgemäßen Vorrichtung derart, dass das erfindungsgemäße Verfahren durchgeführt wird.The Apparatus of the present invention further comprises Advantageously, a controller for performing a the method described above. The control generates control pulses for actuation or movement of the com ponents of the invention Device such that the inventive Procedure is performed.

Die vorliegende Erfindung umfasst weiterhin eine Vorrichtung mit Mitteln zur Durchführung eines der erfindungsgemäßen Verfahren.The present invention further includes a device with means for carrying out one of the methods according to the invention.

Die vorliegende Erfindung wird nun anhand eines Ausführungsbeispiels sowie Zeichnungen näher dargestellt.The The present invention will now be described with reference to an embodiment and drawings are shown in more detail.

Dabei zeigenthere demonstrate

1 eine perspektivische Ansicht eines ersten Ausführungsbeispiels der erfindungsgemäßen Vorrichtung, 1 a perspective view of a first embodiment of the device according to the invention,

2 eine vergrößerte perspektivische Ansicht des ersten Ausführungsbeispiels der erfindungsgemäßen Vorrichtung, 2 an enlarged perspective view of the first embodiment of the device according to the invention,

3 eine perspektivische Ansicht eines Verfahrensschrittes des erfindungsgemäßen Verfahrens, und 3 a perspective view of a process step of the method according to the invention, and

4 eine Schnittansicht durch die in 3 gezeigte Darstellung. 4 a sectional view through the in 3 shown illustration.

In 1 und 2 ist ein erstes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Analyse von Verunreinigungen eines Wafers 1 gezeigt. Um den Wafer 1 um eine Drehachse senkrecht zu seiner Hauptebene rotieren zu können, liegt dieser auf einer um eine vertikale Achse drehbaren Plattform auf, welche über einen Antriebsmotor in Rotation versetzt werden kann.In 1 and 2 is a first embodiment of the device according to the invention for the analysis of impurities of a wafer 1 shown. To the wafer 1 in order to be able to rotate about an axis of rotation perpendicular to its main plane, it lies on a platform rotatable about a vertical axis, which can be set in rotation by means of a drive motor.

Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Analyse von Verunreinigung des Wafers weist weiterhin einen unteren Tropfenhalter 2, einen oberen Tropfenhalter 3 sowie eine Pipette 4 auf. Der untere Tropfenhalter 2, der obere Tropfenhalter 3 und die Pipette 4 sind dabei jeweils als separate Elemente ausgeführt, welche gegeneinan der bewegbar sind. Hierzu sind sie jeweils an Schwanenhälsen 7 angeordnet, welche um Drehachsen 6 rotierbar sind. Der untere Tropfenhalter 2 ist weiterhin auf einem horizontal verlaufenden Schwenkarm angeordnet, welcher um eine vertikale Achse um das Ende des Schwanenhalses 7 rotierbar ist. Des weiteren sind der untere Tropfenhalter 2, der obere Tropfenhalter 3 sowie die Pipette 4 vertikal verfahrbar.The device according to the invention for analyzing contamination of the wafer further comprises a lower drop holder 2 , an upper drop holder 3 as well as a pipette 4 on. The lower drop holder 2 , the top drop holder 3 and the pipette 4 are each designed as separate elements which are gegeneinan the movable. For this they are each at goosenecks 7 arranged, which about axes of rotation 6 are rotatable. The lower drop holder 2 is further arranged on a horizontally extending pivot arm, which about a vertical axis about the end of the gooseneck 7 is rotatable. Furthermore, the lower drop holder 2 , the top drop holder 3 as well as the pipette 4 vertically movable.

Weiterhin sind im Seitenbereich der Vorrichtung neben dem Wafer 1 Reinigungsvorrichtungen 5 angeordnet, über welche der untere Tropfenhalter 2, der obere Tropfenhalter 3 und die Pipette 4 verschwenkbar und in welche diese absenkbar sind.Furthermore, in the side area of the device next to the wafer 1 cleaning devices 5 arranged over which the lower drop holder 2 , the top drop holder 3 and the pipette 4 pivotable and in which they are lowered.

Der untere Tropfenhalter 2 ist dabei von einem Seitenbereich zum Rand des Wafers 1 durch eine Drehung um die Drehachse 6 verschwenkbar, wobei er durch eine Höhenverstellung sowie eine Rotation des Schwenkarmes, auf welchem er angeordnet ist, unter den Randbereich des Wafers 1 verfahrbar ist. Auch der obere Tropfenhalter 3 sowie die Pipette 4 sind vom Seitenbereich in den Randbereich des Wafers 1 verfahrbar. Der untere Tropfenhalter 2, der obere Tropfenhalter 3 und die Pipette 4 sind dabei an einen gemeinsamen Punkt im Kantenbereich des Wafers 1 verfahrbar.The lower drop holder 2 is from one side area to the edge of the wafer 1 by a rotation about the axis of rotation 6 pivotable, wherein it by height adjustment and rotation of the pivot arm on which it is arranged, under the edge region of the wafer 1 is movable. Also the upper drop holder 3 as well as the pipette 4 are from the side area to the edge area of the wafer 1 traversable. The lower drop holder 2 , the top drop holder 3 and the pipette 4 are at a common point in the edge area of the wafer 1 traversable.

Ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Analyse von Verunreinigungen des Wafers 1 erfolgt dabei folgendermaßen: Zunächst befinden sich der untere Tropfenhalter 2, der obere Tropfenhalter 3 und die Pipette 4 in den Reinigungsvorrichtungen 5. Nun kann der Wafer 1 in die erfindungsgemäße Vorrichtung eingelegt und auf dem Rotationstisch zentriert werden. Zu Beginn des eigentlichen Verfahrens wird nun der untere Tropfenhalter 2 vom Seitenbereich in den Kantenbereich des Wafers 1 verfahren, wobei dies zunächst durch Verschwenken des Schwanenhalses 7 um die Drehachse 6, Absenken des unteren Tropfenhalters 2 in eine Position unterhalb des Wafers 1 und Verschwenken des Schwenkarms, auf welchem der untere Tropfenhalter 2 angeordnet ist, unter die Kante des Wafers 1 erfolgt. Die Pipette 4 wird nun vom Seitenbereich in einen Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters 2 verfahren, so dass die Pipette 4 im Kantenbereich des Wafers 1 knapp oberhalb der Kante des Wafers dem unteren Tropfenhalter 2 gegenübersteht. Nun wird der Tropfen 10 auf die Oberseite des unteren Tropfenhalters 2 aufgebracht, auf welcher sich eine Vertiefung befindet. Der Tropfen 10 sammelt sich hierdurch in der Vertiefung, wobei er jedoch durch seine Oberflächenspannung über die Vertiefung herausschaut und im Kontakt mit der Kante 1 des Wafers steht. Nun wird die Pipette 4 wieder aus dem Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters 2 weggefahren und kann gegebenenfalls in einer Reinigungsvorrichtung 5 gereinigt werden. Dabei sind drei verschiedene Reinigungsvorrichtungen 5 vorgesehen, wobei die Pipette 4 während der gesamten Zeit ihrer Inaktivität in einer der Reinigungsvorrichtungen verbleiben kann. Nach dem Wegfahren der Pipette 4 wird der obere Tropfenhalter 3 in den Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters 2 verfahren und mit der Oberseite des Tropfens 10 in Kontakt gebracht. Nun kann noch eine eventuell notwendige Feinjustage des Tropfens an der Kante durch Verfahren von unterem und oberem Tropfentäger erfolgen.An embodiment of the method according to the invention for analyzing impurities of the wafer 1 takes place as follows: First, there are the lower drop holder 2 , the top drop holder 3 and the pipette 4 in the cleaning devices 5 , Now the wafer can 1 be inserted into the device according to the invention and centered on the rotary table. At the beginning of the actual process is now the lower drop holder 2 from the side area to the edge area of the wafer 1 procedure, this first by pivoting the gooseneck 7 around the axis of rotation 6 , Lowering the lower drop holder 2 in a position below the wafer 1 and pivoting the pivot arm on which the lower drop holder 2 is placed under the edge of the wafer 1 he follows. The pipette 4 will now move from the side area into an area above the lower drop holder 2 proceed so that the pipette 4 in the edge region of the wafer 1 just above the edge of the wafer, the lower drop holder 2 faces. Now the drop will be 10 on top of the lower drop holder 2 applied, on which there is a depression. The drop 10 collects thereby in the depression, but he looks out through its surface tension on the recess and in contact with the edge 1 of the wafer. Now the pipette 4 again from the area above the lower drop holder 2 gone away and can optionally in a cleaning device 5 getting cleaned. There are three different cleaning devices 5 provided, the pipette 4 may remain in one of the cleaning devices throughout the period of inactivity. After driving away the pipette 4 becomes the upper drop holder 3 in the area above the lower drop holder 2 proceed with the top of the drop 10 brought into contact. Now, a possibly necessary fine adjustment of the drop at the edge can be done by moving the lower and upper drop carrier.

Alternativ zu diesem Vorgehen kann der untere Tropfenhalter 2 zunächst nicht unter die Kante des Wafers 1 verfahren werden, sondern bezüglich der horizontalen Position neben dem Wafer 1 angeordnet werden. Daraufhin wird der Tropfen 10 mittels der Pipette 4 auf dem unteren Tropfenhalter 2 aufgebracht, indem die Pipette 4 in einen Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters 2 verfahren wird und der Tropfen 10 in die Vertiefung auf der Oberseite des unteren Tropfenhalters 2 eingebracht wird. Der Tropfen 10 liegt dabei auf dem unteren Tropfenhalter 2 und befindet sich mit seiner Unterseite in der Vertiefung, wobei der Rest des Tropfens von der Oberflächenspannung der Flüssigkeit zusammen gehalten wird. Nun wird die Pipette 4 aus dem Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters weggefahren und der obere Tropfenhalter 3 in diesen Bereich gefahren. Der obere Tropfenhalter 3 kann nun mit der Oberseite des Tropfens 10 in Kontakt gebracht werden, z. B. durch Herabfahren des oberen Tropfenhalters 3. Der untere Tropfenhalter 2 befindet sich nun bezüglich seiner vertikalen Position unterhalb des Wafers 1, der obere Tropfenhalter 3 oberhalb des Wafers 1, und der Tropfen 10 auf Höhe des Wafers 1. Durch seitliches Verfahren sowohl des unteren als auch des oberen Tropfenhalters kann nun der Tropfen 10 mit der Kante des Wafers 1 in Kontakt gebracht werden. Hierbei verformt sich der Tropfen 10 so, dass die Kante des Wafers 1 in den Tropfen eintaucht und auch ein Randbereich auf der Oberseite und der Unterseite des Wafers 1 mit dem Tropfen 10 in Kontakt stehen.As an alternative to this procedure, the lower drop holder 2 initially not under the edge of the wafer 1 but with respect to the horizontal position next to the wafer 1 to be ordered. Then the drop will be 10 by means of the pipette 4 on the lower drop holder 2 Applied by the pipette 4 in an area above the lower drop holder 2 the procedure and the drop 10 into the depression on top of the lower drop holder 2 is introduced. The drop 10 lies on the lower drop holder 2 and is located with its bottom in the recess, with the remainder of the drop being held together by the surface tension of the liquid. Now the pipette 4 moved away from the area above the lower drop holder and the upper drop holder 3 drove into this area. The upper drop holder 3 can now with the top of the drop 10 be brought into contact, for. B. by descending the upper drop holder 3 , The lower drop holder 2 is now below the wafer with respect to its vertical position 1 , the top drop holder 3 above the wafer 1 , and the drop 10 at the height of the wafer 1 , By lateral movement of both the lower and the upper drop holder can now the drop 10 with the edge of the wafer 1 be brought into contact. This deforms the drop 10 so that the edge of the wafer 1 immersed in the drops and also an edge area on the top and bottom of the wafer 1 with the drop 10 stay in contact.

Unabhängig davon, welche der beiden beschriebenen Alternativen genutzt wurde, ergibt sich nun die in 3 und 4 gezeigte Situation. Der untere Tropfenhalter 2 befindet sich dabei unterhalb der Kante des Wafers 1, der obere Tropfenhalter oberhalb der Kante des Wafers 1. Der Tropfen 10 ist zwischen dem unteren Tropfenhalter und dem oberen Tropfenhalter 3 angeordnet, wobei er mit beiden in Kontakt steht. Die Kante des Wafers 1 steht mit einer Seite des Tropfens 10 ebenfalls in Kontakt. Die Kante des Wafers 1 reicht dabei etwas in den Bereich zwischen dem oberen Tropfenhalter 3 und dem unteren Tropfenhalter 2 hinein, so dass der gesamte Kantenbereich einschließlich eines kleinen Randbereiches auf der Ober- und Unterseite des Wafers mit dem Tropfen in Kontakt stehen.Regardless of which of the two described alternatives was used, the in 3 and 4 shown situation. The lower drop holder 2 is located below the edge of the wafer 1 , the upper drop holder above the edge of the wafer 1 , The drop 10 is between the lower drop holder and the upper drop holder 3 arranged, wherein it is in contact with both. The edge of the wafer 1 stands with one side of the drop 10 also in contact. The edge of the wafer 1 extends something into the area between the upper drop holder 3 and the lower drop holder 2 so that the entire edge area, including a small edge area on the top and bottom of the wafer, is in contact with the drop.

Der untere Tropfenhalter 2 hat dabei die Form eines Zylinders, auf dessen horizontal verlaufender Stirnfläche eine Vertiefung angeordnet ist. Der obere Tropfenhalter 3 hat die Form eines Röhrchens, welches vertikal angeordnet ist. Die untere Öffnung des Röhrchens liegt dabei in einer im wesentlichen horizontalen Ebene. Der Außendurchmesser des Röhrchens beträgt dabei in dem Ausführungsbeispiel 6 mm, der Innendurchmesser 4 mm. Der Durchmesser des unteren Tropfenhalters 2 ist größer als der Außendurchmesser des oberen Tropfenhalters 3, wobei der Durchmesser der Vertiefung in etwa dem Außendurchmesser des Röhrchens entspricht. Die Kante des Wafers 1 befindet sich dabei in etwa in der Mitte zwischen der Oberkante des unteren Tropfenhalters und der Unterkante des oberen Tropfenhalters 3, wobei der Abstand zwischen der Oberkante des unteren Tropfenhalters 2 und der Unterkante des oberen Tropfenhalters 3 kleiner ist als der Außendurchmesser des oberen Tropfenhalters. Die Kante des Wafers 1 befindet sich dabei teilweise unterhalb des oberen Tropfenhalters 3, wobei der Oberlappungsbereich zwischen Wafer und Unterkante des oberen Tropfenhalters 3 bei einer Projektion in eine horizontale Ebene eine maximale radiale Länge von ca. 20% des Außendurchmessers des oberen Tropfenhalters 3 aufweist.The lower drop holder 2 has the shape of a cylinder, on the horizontally extending end face of a depression is arranged. The upper drop holder 3 has the shape of a tube, which is arranged vertically. The lower opening of the tube lies in a substantially horizontal plane. The outer diameter of the tube is in the embodiment 6 mm, the inner diameter 4 mm. The diameter of the lower drop holder 2 is larger than the outer diameter of the upper drop holder 3 , wherein the diameter of the recess corresponds approximately to the outer diameter of the tube. The edge of the wafer 1 is located approximately in the middle between the upper edge of the lower drop holder and the lower edge of the upper drop holder 3 , where the distance between the top of the lower drip holder 2 and the lower edge of the upper drop holder 3 smaller than the outer diameter of the upper drop holder. The edge of the wafer 1 is partially below the upper drop holder 3 , wherein the overlapping area between wafer and lower edge of the upper drop holder 3 when projecting in a horizontal plane, a maximum radial length of about 20% of the outer diameter of the upper drop holder 3 having.

Durch die in 3 und 4 gezeigte Anordnung entsteht einerseits ein optimaler Kontakt zwischen dem Kantenbereich des Wafers 1 und dem Tropfen 10, andererseits wird der Tropfen 10 auch optimal zwischen unterem Tropfenträger 2 und oberem Tropfenträger 3 gehalten. Der Rand des Wafers 1 wird nun durch Rotation des Wafers durch den Tropfen 10 hindurchbewegt und so abgefahren. Die Verunreinigungen im Kantenbereich des Wafers 1 sammeln sich im Tropfen 10 an und können in entsprechend hoher Konzentration analysiert werden.By the in 3 and 4 On the one hand shown optimal contact between the edge region of the wafer 1 and the drop 10 on the other hand, the drop becomes 10 also optimally between lower drop carrier 2 and upper drop carrier 3 held. The edge of the wafer 1 is now by rotation of the wafer through the drop 10 moved through and so driven off. The impurities in the edge area of the wafer 1 collect in the drop 10 and can be analyzed in a correspondingly high concentration.

Nachdem der gesamte Kantenbereich des Wafers 1 z. B. durch eine Drehung um mindestens 360° des Wafers abgefahren wurde, wird der obere Tropfenhalter 3 aus dem Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters 2 weggefahren, woraufhin die Pipette in diesem Bereich verfahren wird und den Tropfen 10 aufsaugt. Die Abfolge der Schritte kann dabei wieder in zwei Alternativen umgekehrt zur Schrittfolge beim Aufbringen des Tropfens erfolgen. Der mit der Pipette abgesaugte Tropfen 10 kann nun auf die vom Kantenbereich des Lasers in die Flüssigkeit übergegangenen Verunreinigungen hin analysiert werden.After the entire edge area of the wafer 1 z. B. was driven by a rotation of at least 360 ° of the wafer, the upper drop holder 3 from the area above the lower drop holder 2 moved away, whereupon the pipette is moved in this area and the drop 10 sucks. The sequence of steps can be done again in two alternatives vice versa to the sequence of steps when applying the drop. The dripped with the pipette drops 10 can now be analyzed for the impurities transferred from the edge region of the laser into the liquid.

Der obere Tropfenhalter 3 in Form eines Röhrchens steht bei dem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung über Schläuche mit einem Lautsprecher und einem Mikrophon in Verbindung. Über den Lautsprecher kann im Röhrchen eine stehende Welle erzeugt werden, deren Frequenz davon abhängt, ob die Öffnung des Röhrchens durch den Tropfen verschlossen ist oder nicht. Durch Messen der Frequenz läßt sich damit feststellen, ob der obere Tropfenhalter mit dem Tropfen 10 in Kontakt steht. Des weiteren weist das Röhrchen eine Ausblasvorrichtung auf, über welche in dem Röhrchen ein Überdruck hergestellt werden kann, durch welchen der Tropfen wenn nötig sicher vom oberen Tropfenhalter getrennt werden kann.The upper drop holder 3 in the form of a tube is in the embodiment of the present invention via hoses with a speaker and a microphone in combination. About the speaker, a standing wave can be generated in the tube, the frequency of which depends on whether the opening of the tube is closed by the drop or not. By measuring the frequency can thus determine whether the upper drop holder with the drop 10 in contact. Furthermore, the tube has a blow-out device, via which an overpressure can be produced in the tube, by means of which the drop can be safely separated from the upper drop holder if necessary.

Der untere Tropfenhalter 2 sowie der obere Tropfenhalter 3 bestehen in dem Ausführungsbeispiel dabei aus PTFE (Polytetrafluorethylen), welches aufgrund seiner Materialeigenschaften optimal für die erfindungsgemäßen Tropfenhalter geeignet ist. Die für den Tropfen 10 verwendete Flüssigkeit ist eine Fluorwasserstofflösung hoher Reinheit.The lower drop holder 2 as well as the upper drop holder 3 consist in the embodiment of PTFE (polytetrafluoroethylene), which is due to its material properties optimally suitable for the invention drop holder. The one for the drop 10 used liquid is a high purity hydrogen fluoride solution.

Durch das erfindungsgemäße Verfahren sowie die erfindungsgemäße Vorrichtung ist es möglich, auch den Randbereich eines Wafers auf Verunreinigungen zu analysieren. Durch die Verwendung eines unteren und eines oberen Tropfenhalters, zwischen welchen sich der Tropfen bei dem erfindungsgemäßen Verfahren befindet, ist dabei ein guter Kontakt zwischen dem gesamten Kantenbereich des Wafers und dem Tropfen sichergestellt. Des weiteren wird so verhindert, dass der Tropfen durch die Bewegung des Wafers durch den Tropfen hindurch vom unteren Tropfenhalter abgestreift wird. Dadurch, dass unterer Tropfenhalter 2 und oberer Tropfenhalter 3 gegeneinander beweglich sind, ist eine äußerst flexible Verfahrensführung möglich, bei welcher zudem eine separate Pipette zum Einsatz kommen kann. Zudem ist es bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung möglich, alle Elemente zu reinigen, was eine hohe Messgenauigkeit erlaubt.By means of the method according to the invention as well as the device according to the invention, it is also possible to detect the edge area of a wafer on the surface to analyze cleaning. Through the use of a lower and an upper drop holder, between which the drop is located in the method according to the invention, a good contact between the entire edge region of the wafer and the drop is ensured. Furthermore, it is prevented that the drop is stripped by the movement of the wafer through the droplets from the lower drop holder. By having lower drop holder 2 and upper drop holder 3 are movable against each other, an extremely flexible process control is possible, in which also a separate pipette can be used. In addition, it is possible in the device according to the invention to clean all elements, which allows a high measurement accuracy.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.This list The documents listed by the applicant have been automated generated and is solely for better information recorded by the reader. The list is not part of the German Patent or utility model application. The DPMA takes over no liability for any errors or omissions.

Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • - EP 787981 B1 [0002, 0004] - EP 787981 B1 [0002, 0004]
  • - JP 2003344243 A [0004] JP 2003344243 A [0004]
  • - JP 2004170222 A [0004] - JP 2004170222 A [0004]

Claims (32)

Verfahren zur Analyse von Verunreinigungen eines Wafers (1), mit den Schritten: – Bereitstellen eines Tropfens (10) einer Flüssigkeit zwischen einem unteren Tropfenhalter (2) und einem oberen Tropfenhalter (3), so dass eine Unterseite des Tropfens (10) mit dem unteren Tropfenhalter (2) und eine Oberseite des Tropfen (10) mit dem oberen Tropfenhalter (3) in Kontakt steht, – Abfahren einer Kante des Wafers (1) mit dem Tropfen (10), während die Kante mit einer Seitenfläche des Tropfens in Kontakt steht, – Absaugen und Analysieren des Tropfens (10).Method for analyzing impurities of a wafer ( 1 ), with the steps: - providing a drop ( 10 ) of a liquid between a lower drop holder ( 2 ) and an upper drop holder ( 3 ), leaving a bottom of the drop ( 10 ) with the lower drop holder ( 2 ) and an upper side of the drop ( 10 ) with the upper drop holder ( 3 ), - traversing an edge of the wafer ( 1 ) with the drop ( 10 ) while the edge is in contact with a side surface of the droplet, - aspirating and analyzing the droplet ( 10 ). Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Bereitstellen des Tropfens (10) die Schritte – Aufbringen des Tropfens (10) auf den unteren Tropfenhalter (2) und – Kontaktieren der Oberseite des Tropfens (10) mit dem oberen Tropfenhalter umfasst.The method of claim 1, wherein providing the drop ( 10 ) the steps - application of the drop ( 10 ) on the lower drop holder ( 2 ) and - contacting the top of the drop ( 10 ) with the upper drop holder. Verfahren nach Anspruch 2, wobei Aufbringen des Tropfens (10) auf den unteren Tropfenhalter (2) mittels einer separaten Pipette (4) erfolgt.The method of claim 2, wherein applying the drop ( 10 ) on the lower drop holder ( 2 ) by means of a separate pipette ( 4 ) he follows. Verfahren nach Anspruch 2, wobei der obere Tropfenhalter (3) von einem Seitenbereich in einen Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters (2) bewegt wird.Method according to claim 2, wherein the upper drop holder ( 3 ) from a side region into an area above the lower drop holder ( 2 ) is moved. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Bereitstellen des Tropfens (10) die Schritte – Bewegen einer Pipette (4) in einen Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters (2), – Aufbringen des Tropfens (10) auf den unteren Tropfenhalter (2) mittels der Pipette (4), – Wegbewegen der Pipette (4) aus dem Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters (2), – Bewegen des oberen Tropfenhalters (3) in den Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters (2) und – Kontaktieren der Oberseite des Tropfens (10) mit dem oberen Tropfenhalter (3) umfasst.Method according to one of the preceding claims, wherein the provision of the drop ( 10 ) the steps - moving a pipette ( 4 ) in an area above the lower drop holder ( 2 ), - application of the drop ( 10 ) on the lower drop holder ( 2 ) by means of the pipette ( 4 ), - Moving away the pipette ( 4 ) from the area above the lower drop holder ( 2 ), - moving the upper drop holder ( 3 ) in the area above the lower drop holder ( 2 ) and - contacting the top of the drop ( 10 ) with the upper drop holder ( 3 ). Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei nach dem Abfahren der Kante des Wafers (1) mit dem Tropfen die Schritte – Wegbewegen des oberen Tropfenhalters (3) aus dem Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters (2), – Bewegen einer Pipette (4) in einen Bereich oberhalb des unteren Tropfenhalters (2), – Absaugen des Tropfens (10) mittels der Pipette (4) und – Analysieren des Flüssigkeits Tropfens (10) erfolgen.Method according to one of the preceding claims, wherein after the edge of the wafer has traveled down ( 1 ) with the drops the steps - moving away the upper drop holder ( 3 ) from the area above the lower drop holder ( 2 ), - moving a pipette ( 4 ) in an area above the lower drop holder ( 2 ), - sucking the drop ( 10 ) by means of the pipette ( 4 ) and - analyzing the liquid drop ( 10 ) respectively. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei der untere und/oder der obere Tropfenhalter (3) von einem Seitenbereich in den Bereich der Kante des Wafers (1) bewegt wird.Method according to one of the preceding claims, wherein the lower and / or the upper drop holder ( 3 ) from a side region into the region of the edge of the wafer ( 1 ) is moved. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei der untere und/oder der obere Tropfenhalter (2, 3) zwischen den Einsätzen gereinigt werden.Method according to one of the preceding claims, wherein the lower and / or the upper drop holder ( 2 . 3 ) between uses. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei sich die Kante des Wafers (1) beim Abfahren mit dem Tropfen (10) in einem Bereich zwischen dem oberen und dem unteren Tropfenhalter (3, 2) befindet.Method according to one of the preceding claims, wherein the edge of the wafer ( 1 ) when driving off with the drop ( 10 ) in an area between the upper and the lower drop holder ( 3 . 2 ) is located. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei der obere Tropfenhalter (3) ein Röhrchen umfasst, dessen Öffnung mit der Oberseite des Tropfens (10) in Kontakt steht.Method according to one of the preceding claims, wherein the upper drop holder ( 3 ) comprises a tube having its opening with the top of the drop ( 10 ) is in contact. Verfahren nach Anspruch 10, wobei das Röhrchen mit einer Schallquelle in Verbindung steht, über welche eine stehende Welle im Röhrchen erzeugbar ist.The method of claim 10, wherein the tube communicates with a sound source through which a standing wave in the tube can be generated. Verfahren nach Anspruch 11, wobei der Tropfen durch eine Frequenzerkennung der stehenden Welle detektiert wird.The method of claim 11, wherein the droplet passes through a frequency detection of the standing wave is detected. Verfahren nach Anspruch 10, wobei der Tropfen (10) über das Röhrchen ausblasbar ist.The method of claim 10, wherein the drop ( 10 ) is blown over the tube. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei der untere Tropfenhalter (2) auf seiner Oberseite eine Vertiefung aufweist, in welcher die Unterseite des Tropfens (10) ruht.Method according to one of the preceding claims, wherein the lower drop holder ( 2 ) has on its top a recess in which the underside of the drop ( 10 ) rest. Vorrichtung zur Analyse von Verunreinigungen eines Wafers (1), mit einem unteren Tropfenhalter (2), einem oberen Tropfenhalter (3), einer Vorrichtung (4) zum Bereitstellen und/oder Absaugen eines Tropfens (10) einer Flüssigkeit und einer Vorrichtung zum Analysieren des Flüssigkeitstropfens.Device for analyzing impurities of a wafer ( 1 ), with a lower drop holder ( 2 ), an upper drop holder ( 3 ), a device ( 4 ) for providing and / or sucking a drop ( 10 ) a liquid and a device for analyzing the liquid drop. Vorrichtung nach Anspruch 15, wobei der obere Tropfenhalter (3) gegenüber dem unteren Tropfenhalter (2) beweglich ausgeführt ist.Device according to claim 15, wherein the upper drop holder ( 3 ) opposite the lower drop holder ( 2 ) is designed to be movable. Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei der untere Tropfenhalter (2), der obere Tropfenhalter (3) und die Vorrichtung (4) zum Bereitstellen und/oder Absaugen des Tropfens (10) jeweils als separate Elemente ausgeführt sind.Device according to one of the preceding claims, wherein the lower drop holder ( 2 ), the upper drop holder ( 3 ) and the device ( 4 ) for providing and / or sucking the drop ( 10 ) are each designed as separate elements. Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei die Vorrichtung (4) zum Bereitstellen und/oder Absaugen des Tropfens (10) und der untere Tropfenhalter (2) relativ zueinander beweglich ausgeführt sind.Device according to one of the preceding claims, wherein the device ( 4 ) for providing and / or sucking the drop ( 10 ) and the lower drop holder ( 2 ) are designed to be movable relative to each other. Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei der obere Tropfenhalter (3) und/oder die Vorrichtung (4) zum Bereitstellen und/oder Absaugen des Tropfens (10) von einem Seitenbereich in den Bereich des Randes des Wafers (1) bewegbar sind.Device according to one of the preceding claims, wherein the upper drop holder ( 3 ) and / or the device ( 4 ) for providing and / or sucking the drop ( 10 ) from a side region into the region of the edge of the wafer ( 1 ) are movable. Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei der untere Tropfenhalter (2) von einem Seitenbereich in den Bereich des Randes des Wafers (1) bewegbar ist.Device according to one of the preceding claims, wherein the lower drop holder ( 2 ) from a side region into the region of the edge of the wafer ( 1 ) is movable. Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei Reinigungsvorrichtungen (5) für den unteren Tropfenhalter (2) und/oder den oberen Tropfenhalter (3) vorgesehen sind.Device according to one of the preceding claims, wherein cleaning devices ( 5 ) for the lower drop holder ( 2 ) and / or the upper drop holder ( 3 ) are provided. Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei die Vorrichtung zum Bereitstellen und/oder Absaugen des Tropfens (10) eine Pipette (4) umfasst.Device according to one of the preceding claims, wherein the device for providing and / or sucking the drop ( 10 ) a pipette ( 4 ). Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei zumindest die Oberfläche des unteren und des oberen Tropfenhalters (2, 3), welche mit dem Tropfen in Kontakt tritt, aus PTFE (Polytetrafluorethylen) besteht.Device according to one of the preceding claims, wherein at least the surface of the lower and the upper drop holder ( 2 . 3 ), which comes into contact with the drop, consists of PTFE (polytetrafluoroethylene). Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei der untere Tropfenhalter (2) an seiner Oberseite eine Vertiefung zur Aufnahme der Unterseite des Tropfens (10) aufweist.Device according to one of the preceding claims, wherein the lower drop holder ( 2 ) at its top a recess for receiving the bottom of the drop ( 10 ) having. Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei der untere Tropfenhalter (2) im wesentlichen die Form eines Zylinders aufweist.Device according to one of the preceding claims, wherein the lower drop holder ( 2 ) has substantially the shape of a cylinder. Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei der obere Tropfenhalter (3) ein Röhrchen umfasst, dessen Öffnung nach unten gerichtet ist.Device according to one of the preceding claims, wherein the upper drop holder ( 3 ) comprises a tube whose opening is directed downwards. Vorrichtung nach Anspruch 27, wobei das Röhrchen mit einer Schallquelle in Verbindung steht, über welche eine stehende Welle im Röhrchen erzeugbar ist.The device of claim 27, wherein the tube communicates with a sound source through which a standing wave in the tube can be generated. Vorrichtung nach Anspruch 28, wobei das Röhrchen mit einer Vorrichtung zur Frequenzerkennung der stehenden Welle in Verbindung steht.The device of claim 28, wherein the tube with a device for frequency detection of the standing wave communicates. Vorrichtung nach Anspruch 27, wobei der Tropfen (10) über das Röhrchen ausblasbar ist.Apparatus according to claim 27, wherein the drop ( 10 ) is blown over the tube. Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei der Durchmesser des unteren Tropfenhalters (2) an dessen Oberkante größer als der Durchmesser des oberen Tropfenhalters (3) an dessen Unterkante ist.Device according to one of the preceding claims, wherein the diameter of the lower drop holder ( 2 ) at its upper edge greater than the diameter of the upper drop holder ( 3 ) is at the lower edge. Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche mit einer Steuerung zur Durchführung eines Verfahrens nach einem der vorangegangenen Ansprüche.Device according to one of the preceding claims with a controller for performing a method according to one of the preceding claims. Vorrichtung insbesondere nach einem der vorangegangenen Ansprüche mit Mitteln zur Durchführung eines Verfahrens nach einem der vorangegangenen Ansprüche.Device in particular according to one of the preceding Claims with means for carrying out a method according to any one of the preceding claims.
DE200710012754 2007-03-16 2007-03-16 Method for analyzing impurities of wafer, involves providing drop of fluid between lower drop support and upper drop support, such that lower side of drop is in contact with lower drop support Withdrawn DE102007012754A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE200710012754 DE102007012754A1 (en) 2007-03-16 2007-03-16 Method for analyzing impurities of wafer, involves providing drop of fluid between lower drop support and upper drop support, such that lower side of drop is in contact with lower drop support

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE200710012754 DE102007012754A1 (en) 2007-03-16 2007-03-16 Method for analyzing impurities of wafer, involves providing drop of fluid between lower drop support and upper drop support, such that lower side of drop is in contact with lower drop support

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102007012754A1 true DE102007012754A1 (en) 2008-09-25

Family

ID=39712911

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE200710012754 Withdrawn DE102007012754A1 (en) 2007-03-16 2007-03-16 Method for analyzing impurities of wafer, involves providing drop of fluid between lower drop support and upper drop support, such that lower side of drop is in contact with lower drop support

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102007012754A1 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003344243A (en) 2002-05-30 2003-12-03 Nisso Engineering Co Ltd Method for pretreatment for wafer inspection, and treating device
JP2004170222A (en) 2002-11-20 2004-06-17 Technos:Kk Scanning-cum-recovery nozzle
EP0787981B1 (en) 1988-04-25 2004-12-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Impurity measuring method

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0787981B1 (en) 1988-04-25 2004-12-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Impurity measuring method
JP2003344243A (en) 2002-05-30 2003-12-03 Nisso Engineering Co Ltd Method for pretreatment for wafer inspection, and treating device
JP2004170222A (en) 2002-11-20 2004-06-17 Technos:Kk Scanning-cum-recovery nozzle

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69837576T2 (en) Device for accessing a sealed container
DE1623006C3 (en) Device for the successive delivery of the contents of capillary tubes to a receiving medium
EP1213588B1 (en) Device for cleaning pipette needles or stirrers
DE4212821C2 (en) Device for removing a closure from the opening of a container and for removing liquid contents
DE69730893T2 (en) pretreatment device
EP3438674B1 (en) Method and device for cleaning pippeting tips
DE69914029T2 (en) Sample aspirator with two cooperating handling units
EP2398591B1 (en) Method and device for preparing blood components
EP1646902B1 (en) Device and method for examining chemical and/or biological samples and lens cap
DE2747744A1 (en) DEVICE FOR THE TRANSFER OF BIOLOGICAL FLUIDS AND REAGENT MIXTURES
WO2002093232A2 (en) Device for examining chemical and/or biological samples
DE3805808A1 (en) Automatic workstation for microbiological work
EP3025780B1 (en) Incubation tray
EP2695656A1 (en) Method and separation device for separating a filtrate from a sample liquid
WO2007093150A1 (en) Method and device for withdrawing a volume of liquid by suction, in particular for collecting a sample for analysis by means of a liquid chromatography device
DE102007047797A1 (en) Apparatus and method for applying a histological slice produceable on a blade of a microtome to a slide
DE3835207C1 (en)
EP2936144B1 (en) Method and device for carrying out thin-film chromatography
DE19509847A1 (en) Detecting boundary between two liquid layers medical research
EP2089508A1 (en) Devices and method for electrophysical cell analyses
DE102007012754A1 (en) Method for analyzing impurities of wafer, involves providing drop of fluid between lower drop support and upper drop support, such that lower side of drop is in contact with lower drop support
EP2389097B1 (en) System and method for analysing a body fluid
WO2014009067A1 (en) Device and method for incubating patient samples
DE19852947A1 (en) Micro-liter automatic dispensing apparatus comprises needle moving vertically to penetrate cover over micro-titration plate, to dispense liquid into cells
WO2019048570A1 (en) Sample injector and sampling method, in particular for liquid chromatography

Legal Events

Date Code Title Description
8139 Disposal/non-payment of the annual fee