DE102006045838A1 - Microscope for investigation of masks with different thickness, has illumination device, which has light source, and has illumination optical system that illuminates mask to be examined with illuminating radiation - Google Patents

Microscope for investigation of masks with different thickness, has illumination device, which has light source, and has illumination optical system that illuminates mask to be examined with illuminating radiation Download PDF

Info

Publication number
DE102006045838A1
DE102006045838A1 DE200610045838 DE102006045838A DE102006045838A1 DE 102006045838 A1 DE102006045838 A1 DE 102006045838A1 DE 200610045838 DE200610045838 DE 200610045838 DE 102006045838 A DE102006045838 A DE 102006045838A DE 102006045838 A1 DE102006045838 A1 DE 102006045838A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
illumination
microscope according
microscope
mask
beam path
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE200610045838
Other languages
German (de)
Inventor
Jörn Greif-Wüstenbecker
Thomas Dr. Engel
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss AG
Carl Zeiss SMS GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss AG
Carl Zeiss SMS GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss AG, Carl Zeiss SMS GmbH filed Critical Carl Zeiss AG
Priority to DE200610045838 priority Critical patent/DE102006045838A1/en
Publication of DE102006045838A1 publication Critical patent/DE102006045838A1/en
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/04—Measuring microscopes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00—Microscopes
    • G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
    • G02B21/0016—Technical microscopes, e.g. for inspection or measuring in industrial production processes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)

Abstract

The microscope has an illumination device (1), which has a light source (3) that emits illumination radiation. An illumination optical system (6,10) illuminates the mask to be examined with illuminating radiation (L1) and corrects for a predetermined mask thickness. A detection device (2) is provided for detection of illuminated mask (M). The spherical aberration of the microscope is corrected for a predetermined mask thickness. The microscope has a correction unit (17,18), which corrects the remaining part of the spherical aberration, which is caused in the illumination optical system.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Mikroskop zur Untersuchung von Masken mit unterschiedlicher Dicke. Da unterschiedliche Maskendicken die Abbildungseigenschaft des Mikroskops, insbesondere den sphärischen Abbildungsfehler, beeinflussen, wird häufig das Mikroskop für eine vorbestimmte Maskendicke korrigiert. Die auftretenden Abbildungsfehler, wenn Masken mit anderer Dicke untersucht werden, werden vernachlässigt, was jedoch zu einer Verschlechterung der Abbildungseigenschaften führt.The The present invention relates to a microscope for the examination of Masks with different thicknesses. Because different mask thicknesses the imaging characteristic of the microscope, in particular the spherical one Imaging errors often interfere with the microscope for a predetermined mask thickness corrected. The aberrations that occur when masks with others Thickness to be examined are neglected, but this leads to a deterioration of the imaging properties.

Ausgehend hiervon ist es Aufgabe der Erfindung, ein Mikroskop zur Untersuchung von Masken mit unterschiedlicher Dicke bereitzustellen, das hervorragende Abbildungseigenschaften unabhängig von der Maskendicke der zu untersuchenden Maske aufweist.outgoing It is the object of the invention to use a microscope for examination To provide masks of different thickness, the excellent Figure properties independent of has the mask thickness of the mask to be examined.

Erfindungsgemäß wird die Aufgabe gelöst durch ein Mikroskop zur Untersuchung von Masken mit unterschiedlicher Dicke, wobei das Mikroskop eine Beleuchtungsvorrichtung umfaßt, die eine Lichtquelle, die Beleuchtungsstrahlung abgibt, und eine Beleuchtungsoptik aufweist, die eine zu untersuchende Maske mit Beleuchtungsstrahlung beleuchtet, wobei das Mikroskop eine Detektionsvorrichtung zur Detektion der beleuchteten Maske aufweist, wobei der sphärische Abbildungsfehler des Mikroskops für eine vorbestimmte Maskendicke korrigiert ist und das Mikroskop eine Korrektureinheit aufweist, die den Restanteil des sphärischen Abbildungsfehlers korrigiert, der in der Beleuchtungsoptik durch den Unterschied der Maskendicke der zu untersuchenden Maske zur vorbestimmten Maskendicke bedingt ist.According to the invention Task solved by a microscope for the examination of masks with different Thickness, wherein the microscope comprises a lighting device, the a light source emitting illumination radiation and an illumination optic comprising a mask to be examined with illumination radiation illuminated, wherein the microscope is a detection device for detection the illuminated mask, wherein the spherical aberration of the Microscopes for a predetermined mask thickness is corrected and the microscope a Correction unit which has the remainder of the spherical Imaging error corrected in the illumination optics the difference of the mask thickness of the mask to be examined predetermined mask thickness is conditional.

Durch die erfindungsgemäß vorgesehene Korrektureinheit ist es somit möglich, den sphärischen Abbildungsfehler unabhängig von der Maskendicke ausgezeichnet korrigieren zu können, was zu hervorragenden Abbildungseigenschaften führt. Da der sphärische Abbildungsfehler mit dem Quadrat der numerischen Apertur der Beleuchtungsoptik ansteigt, wird gerade bei hochaperturigen Beleuchtungsoptiken eine ausgezeichnete Korrektur des sphärischen Abbildungsfehlers erreicht.By the correction unit provided according to the invention is it thus possible the spherical one Aberration independent from the mask thickness excellent to be able to correct what to excellent imaging properties. Because the spherical aberration increases with the square of the numerical aperture of the illumination optics, becomes an excellent choice for high-aperture illumination optics Correction of the spherical Aberration achieved.

Die Korrektureinheit kann Teil der Beleuchtungsoptik und/oder Teil der Detektionsvorrichtung sein.The Correction unit may be part of the illumination optics and / or part of Detection device.

Insbesondere kann die Korrektureinheit zumindest eine planparallele Ausgleichsplatte umfassen, die zur Korrektur des Restanteils des sphärischen Abbildungsfehlers von einer Stellung außerhalb des Beleuchtungsstrahlenganges der Beleuchtungsoptik in den Beleuchtungsstrahlengang eingebracht werden kann. Natürlich können auch mehrere planparallele Ausgleichsplatten mit unterschiedlicher optischer Dicke vorgesehen sein, so daß verschiedene Substratdicken ausgezeichnet korrigiert werden können.Especially the correction unit can at least one plane-parallel compensation plate which are used to correct the residual portion of the spherical Image error from a position outside the illumination beam path the illumination optics introduced into the illumination beam path can be. Naturally can also several plane-parallel compensating plates with different optical Thickness be provided so that different Substrate thicknesses can be corrected excellent.

Bevorzugt kann/können die Ausgleichsplatte(n) zwischen einem Kondensor der Beleuchtungsoptik und der zu untersuchenden Maske in den Beleuchtungsstrahlengang eingebracht werden.Prefers can / can the balance plate (s) between a condenser of the illumination optics and the mask to be examined in the illumination beam path be introduced.

Es ist ferner möglich, daß die Beleuchtungsoptik zumindest zwei Linsen aufweist, deren Abstand mittels der Korrektureinheit so veränderbar ist, daß der Restanteil des sphärischen Abbildungsfehlers korrigiert wird. Insbesondere können die beiden Linsen Teil einer Zoomeinheit der Beleuchtungsoptik sein.It is also possible that the Illumination optics has at least two lenses whose distance means the correction unit so changeable is that the Residual portion of the spherical Aberration is corrected. In particular, the be both lenses part of a zoom unit of the illumination optics.

Auch ist es möglich, daß die Detektionsoptik zumindest zwei Linsen aufweist, deren Abstand mittels der Korrektureinheit veränderbar ist, um den Restanteil des sphärischen Abbildungsfehlers zu korrigieren.Also Is it possible, that the Detection optics has at least two lenses whose distance means the correction unit changeable is to the residual portion of the spherical To correct aberration.

Der sphärische Restfehler kann auch mittels eines Phasenkorrekturelementes korrigiert werden, das von einer Stellung außerhalb des Beleuchtungsstrahlenganges der Beleuchtungsoptik in den Beleuchtungsstrahlengang in der Pupillenebene eingebracht werden kann, da der sphärische Restfehler als Phasenfehler in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik auftritt.Of the spherical Residual error can also be corrected by means of a phase correction element that is from a position outside the illumination beam path the illumination optics in the illumination beam path in the pupil plane can be introduced, since the spherical residual error as a phase error occurs in a pupil plane of the illumination optics.

Das Phasenkorrekturelement kann als diffraktives Element ausgebildet sein, wobei bevorzugt für jede unterschiedliche Maskendicke ein eigenes Phasenkorrekturelement vorgesehen und selektiv in der Pupillenebene im Beleuchtungsstrahlengang angeordnet werden kann.The Phase correction element can be designed as a diffractive element being preferred for each different mask thickness has its own phase correction element provided and selectively in the pupil plane in the illumination beam path can be arranged.

Ferner kann die Korrektureinheit zumindest eine Korrekturlinse umfassen, die zur Korrektur des Restanteils des sphärischen Abbildungsfehlers von einer Stellung außerhalb des Detektionsstrahlenganges der Detektionsvorrichtung in den Detektionsstrahlengang eingebracht werden kann.Further the correction unit can comprise at least one correction lens, to correct the residual portion of the spherical aberration of a Position outside the detection beam path of the detection device in the detection beam path can be introduced.

Die Beleuchturigsvorrichtung kann als Auflichtbeleuchtung oder als Durchlichtbeleuchtung ausgebildet sein.The Illumination device can be used as epi-illumination or as transmitted light illumination be educated.

Die Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die Zeichnung beispielhalber noch näher erläutert. Es zeigen:The Invention will now be described by way of example with reference to the drawings explained in more detail. It demonstrate:

1 eine erste Ausführungsform des erfindungsgemäßen Mikroskops; 1 a first embodiment of the microscope according to the invention;

2 eine zweite Ausführungsform des erfindungsgemäßen Mikroskops; 2 a second embodiment of the microscope according to the invention;

3 eine dritte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Mikroskops; 3 a third embodiment of the microscope according to the invention;

4 eine vierte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Mikroskops; 4 a fourth embodiment of the microscope according to the invention;

5 eine fünfte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Mikroskops, und 5 a fifth embodiment of the microscope according to the invention, and

6 eine sechste Ausführungsform des erfindungsgemäßen Mikroskops. 6 a sixth embodiment of the microscope according to the invention.

Bei der schematisch in 1 gezeigten Ausführungsform umfaßt das Mikroskop zur Untersuchung von Masken M mit unterschiedlicher Dicke eine Beleuchtungsvorrichtung 1 sowie eine Detektionsvorrichtung 2.At the schematic in 1 In the embodiment shown, the microscope for inspecting masks M of different thicknesses comprises a lighting device 1 and a detection device 2 ,

Die Beleuchtungsvorrichtung 1 umfaßt eine Laserlichtquelle 3, die Laserstrahlung mit einer Wellenlänge von 157 nm abgibt, die auf einen nachgeordneten Homogenisierer 4 trifft, der ein homogenisiertes Laserstrahlenbündel L1 abgibt.The lighting device 1 includes a laser light source 3 , which emits laser radiation with a wavelength of 157 nm on a downstream homogenizer 4 meets, which emits a homogenized laser beam L1.

Das Laserstrahlenbündel L1 läuft durch eine Blende 5, trifft dann auf eine Zoomoptik 6 mit drei Linsen 7, 8, 9 wird mittels eines Umlenkspiegels S um 90° nach oben (in 1) umgelenkt, trifft auf einen Kondensor (der hier schematisch durch eine Linse 10 dargestellt ist) und wird auf die Maske M fokussiert. Die Fokussierung erfolgt so, daß das Laserstrahlenbündel 11 auf die auf einem Maskenträger MT vorgesehene Maskenschicht MS fokussiert wird.The laser beam L1 passes through a diaphragm 5 , then applies to a zoom optics 6 with three lenses 7 . 8th . 9 is by means of a deflecting mirror S by 90 ° upwards (in 1 ), meets a condenser (here schematically through a lens 10 is shown) and is focused on the mask M. The focusing is done so that the laser beam 11 is focused on the provided on a mask support MT mask layer MS.

Die Detektionsvorrichtung 2 umfaßt ein Objektiv 11, von dem hier schematisch zwei Linsen 12, 13 eingezeichnet sind, eine nachgeordnete Tubuslinse 14, eine Blende B sowie eine Detektionsoptik 15 (die hier wiederum schematisch als Linse dargestellt ist) und einen nachgeordneten CCD-Sensor 16.The detection device 2 includes a lens 11 , of which schematically two lenses 12 . 13 are located, a subordinate tube lens 14 , a diaphragm B and a detection optics 15 (which in turn is shown schematically as a lens) and a downstream CCD sensor 16 ,

Die Maskendicke der Masken M unterscheiden sich beispielsweise von Maskenhersteller zu Maskenhersteller und kann 2,286 mm, 3,048 mm oder 6,35 mm aufweisen.The Mask thicknesses of the masks M differ, for example, from mask manufacturers to mask manufacturers and may be 2.286 mm, 3.048 mm or 6.35 mm.

Das hier beschriebene Mikroskop ist bezüglich des sphärischen Abbildungsfehlers beispielsweise für die größte Maskendicke (6,35 mm) optimiert. Wenn nun Masken mit diesem Mikroskop untersucht werden, die eine kleinere Maskendicke als die Maskendicke, für die das Mikroskop optimiert ist, aufweisen, wird dadurch in der Beleuchtungsvorrichtung 1 ein weiterer sphärischer Abbildungsfehler erzeugt, der die Abbildung und damit die Bildgüte in der Abbildung verschlechtert.The microscope described here is optimized with respect to the spherical aberration, for example for the largest mask thickness (6.35 mm). Now, when masks are examined with this microscope, which have a mask thickness smaller than the mask thickness for which the microscope is optimized, is thereby in the lighting device 1 produces a further spherical aberration that degrades the image and thus the image quality in the image.

Um diesen sphärischen Restfehler zu korrigieren, umfaßt das Mikroskop eine erste planparallele Ausgleichsplatte 17 und eine zweite planparallele Ausgleichsplatte 18, die eine zu der ersten Platte 17 unterschiedliche optische Dicke aufweist.To correct for this spherical residual error, the microscope comprises a first plane-parallel balancing plate 17 and a second plane-parallel balancing plate 18 one to the first plate 17 has different optical thickness.

Die beiden Ausgleichsplatten 17 und 18 sind mit einer (nicht gezeigten) Mechanik verbunden, mit der selektiv eine der Ausgleichsplatten 17 und 18 von ihrer in 1 gezeigten Stellung, bei der sie außerhalb des Beleuchtungsstrahlenganges angeordnet sind, in die gepunktet dargestellte Stellung 19 gebracht werden können, in der sie zwischen dem Kondensor 10 und der Maske M im Beleuchtungsstrahlengang positioniert sind (wie durch die Doppelpfeile P1 und P2 angedeutet ist). Die erste Ausgleichsplatte 17 ist so ausgelegt, daß sie den sphärischen Restfehler korrigiert, der bei Maskendicken von 3,048 mm auftritt und wird bei Masken dieser Dicke in die Stellung 19 gebracht. Die zweite Ausgleichsplatte 18 ist so ausgelegt, daß sie den sphärischen Restfehler korrigiert, der bei Maskendicken von 2,286 mm auftritt, und wird bei solchen Masken in die Stellung 19 gebracht. Bei Masken mit der Dicke von 6,35 mm sind beide Ausgleichsplatten 17, 18 außerhalb des Beleuchtungsstrahlenganges.The two balancing plates 17 and 18 are connected to a mechanism (not shown) with which selectively one of the balancing plates 17 and 18 from her in 1 shown position in which they are arranged outside the illumination beam path, in the dotted position shown 19 can be brought, in which they are between the condenser 10 and the mask M are positioned in the illumination beam path (as indicated by the double arrows P1 and P2). The first compensation plate 17 is designed to correct for the spherical residual error that occurs at mask thicknesses of 3.048 mm and will be in the position for masks of this thickness 19 brought. The second compensating plate 18 is designed to correct for the spherical residual error that occurs at mask thicknesses of 2.286 mm, and will be in the position for such masks 19 brought. For masks with the thickness of 6.35 mm both equalizing plates 17 . 18 outside the illumination beam path.

Es ist auch möglich, den sphärischen Restfehler bildseitig zu kompensieren, wie z.B. in Verbindung mit 2 beschrieben wird. In 2 ist eine zweite Ausführungsform des Mikroskops gezeigt, die sich von der Ausführungsform von 1 nur geringfügig unterscheidet, wobei gleiche Elemente durch gleiche Bezugszeichen bezeichnet sind und zu deren Beschreibung auf die obigen Ausführungen verwiesen wird. So kann beispielsweise der Abstand der Linse 13 im Objektiv 11 zur Linse 12 variiert werden, wie durch den Doppelpfeil P3 angedeutet ist. Dazu können beispielsweise bekannte Abstimmringe vorgesehen werden, deren Dicke in Stufen von wenigen Mikrometern unterschiedlich sein können. So kann beispielsweise mit einem Verschiebebereich von 0–1 mm der Linse 13 Unterschiede der Maskendicke von 2,2–9 mm optisch korrigiert werden. Gegebenenfalls ist es nötig, die Fokuslage der Detektionsoptik 2 etwas zu korrigieren.It is also possible to compensate the spherical residual error on the image side, as in connection with 2 is described. In 2 a second embodiment of the microscope is shown, which differs from the embodiment of 1 only slightly different, wherein like elements are designated by like reference numerals and reference is made to the description thereof to the above statements. For example, the distance of the lens 13 in the lens 11 to the lens 12 can be varied, as indicated by the double arrow P3. For this purpose, for example, known Abstimmringe be provided, the thickness of which may be different in steps of a few micrometers. Thus, for example, with a displacement range of 0-1 mm of the lens 13 Differences in mask thickness of 2.2-9 mm optically corrected. If necessary, it is necessary to focus the detection optics 2 to correct something.

Natürlich ist es auch möglich, eine Korrektur durch Verschieben eines optischen Elementes beleuchtungsseitig zu realisieren. So kann beispielsweise die Linse 8 der Zoomoptik 6 entlang der optischen Achse bewegbar sein (Doppelpfeil P4), wie in der Ausführungsform von 3 gezeigt ist. In dieser Ausführungsform wie auch in allen nachfolgenden Ausführungsformen sind gleiche Elemente wie in der Ausführungsform von 1 mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet und zur Beschreibung dieser Elemente wird auf die entsprechende obige Beschreibung verwiesen.Of course, it is also possible to realize a correction by moving an optical element on the lighting side. For example, the lens 8th the zoom optics 6 be movable along the optical axis (double arrow P4), as in the embodiment of 3 is shown. In this embodiment, as well as in all subsequent embodiments are the same elements as in the embodiment of 1 with the same reference numerals and to describe these elements, reference is made to the corresponding description above.

Ferner ist eine bildseitige Korrektur auch dadurch möglich, planparallele Platten 20, 21 zwischen Maske M und Objektiv 11 anzuordnen (4). Die Platte 20 wird in die gepunktet gezeichnete Stellung 22 bei Maskendicken von 2,286 mm (Pfeil P5) und die Platte 21 wird in die Stellung 22 bei Maskendicken von 3,048 mm gebracht (Pfeil P6).Furthermore, an image-side correction is also possible, plane-parallel plates 20 . 21 between mask M and lens 11 to arrange 4 ). The plate 20 is in the dotted line position 22 at mask thicknesses of 2.286 mm (arrow P5) and the plate 21 will be in the position 22 at mask thicknesses of 3.048 mm (arrow P6).

Natürlich können entsprechende Korrekturelemente auch dem Objektiv 11 nachgeordnet sein (5). In diesem Fall wird jedoch die Korrekturplatte im allgemeinen eine vorbestimmte Krümmung aufweisen müssen, wie dies durch die schematische Linsendarstellung der Elemente 23, 24 sowie in der gepunktet eingezeichneten Korrekturstellung 25 angedeutet ist. Das Element 23 wird bei Maskendicken von 2,286 mm (Pfeil P7) in die Stellung 25 gebracht, wohingegen das Element 24 bei Maskendicken von 3,048 mm in die Stellung 25 gebracht wird. Bei Maskendicken von 6,35 mm ist keines der Elemente 23, 24 in der Stellung 25 und sind somit beide Elemente 23, 24 außerhalb des Detektionsstrahlenganges.Of course, appropriate correction elements also the lens 11 be subordinate ( 5 ). In this case, however, the correction plate will generally have to have a predetermined curvature, as by the schematic lens representation of the elements 23 . 24 as well as in the dotted marked correction position 25 is indicated. The element 23 becomes in position with mask thickness of 2.286 mm (arrow P7) 25 whereas the element 24 at mask thicknesses of 3.048 mm in the position 25 is brought. For mask thicknesses of 6.35 mm is none of the elements 23 . 24 in the position 25 and are thus both elements 23 . 24 outside the detection beam path.

Da der sphärische Fehler in der Pupille des Abbildungssystems als Phasenfehler auftritt, kann man ein entsprechendes Phasenkorrekturelement 26 bzw. 27 in der Pupillenebene (gepunktet dargestellte Stellung 28 in 6) in der Beleuchtungsvorrichtung 1 anordnen, um den sphärischen Restfehler bei Maskendicken von 2,286 mm (Element 26) bzw. 3,048 mm (Element 27) zu korrigieren. Bei den Phasenkorrekturelementen 26, 27 handelt es sich bevorzugt jeweils um ein diffraktives optisches Element. Natürlich wird in der Regel für jede abweichende Maskendicke eine eigenes Phasenkorrekturelement 26, 27 vorzusehen sein.Since the spherical error in the pupil of the imaging system occurs as a phase error, one can use a corresponding phase correction element 26 respectively. 27 in the pupil plane (dotted position 28 in 6 ) in the lighting device 1 to resolve the spherical residual error at mask thicknesses of 2.286 mm (element 26 ) or 3.048 mm (element 27 ) to correct. In the phase correction elements 26 . 27 each is preferably a diffractive optical element. Of course, usually for each deviating mask thickness is a separate phase correction element 26 . 27 be provided.

Es ist ferner möglich zwei oder mehr der beschriebenen Ausführungsformen zu kombinieren, um eine ausgezeichnete Korrektur des sphärischen Restfehlers zu erreichen.It is also possible to combine two or more of the described embodiments, to achieve an excellent correction of the spherical residual error.

Claims (14)

Mikroskop zur Untersuchung von Masken (M) mit unterschiedlicher Dicke, mit einer Beleuchtungsvorrichtung (1), die eine Lichtquelle (3), die Beleuchtungsstrahlung abgibt, und eine Beleuchtungsoptik (6, 10) aufweist, die eine zu untersuchende Maske mit Beleuchtungsstrahlung (L1) beleuchtet und für eine vorbestimmte Maskendicke korrigiert ist, und mit einer Detektionsvorrichtung (2) zur Detektion der beleuchteten Maske (M), wobei der sphärische Abbildungsfehler des Mikroskops für eine vorbestimmte Maskendicke korrigiert ist und das Mikroskop eine Korrektureinheit (17, 18; P3; P4; 20, 21; 23, 24; 26, 27) aufweist, die den Restanteil des sphärischen Abbildungsfehlers korrigiert, der in der Beleuchtungsoptik (6, 10) durch den Unterschied der Maskendicke der zu untersuchenden Maske zur vorbestimmten Maskendicke bedingt ist.Microscope for the examination of masks (M) of different thickness, comprising a lighting device ( 1 ), which is a light source ( 3 ), which emits illuminating radiation, and an illumination optics ( 6 . 10 ) which illuminates a mask to be examined with illumination radiation (L1) and is corrected for a predetermined mask thickness, and with a detection device ( 2 ) for detecting the illuminated mask (M), wherein the spherical aberration of the microscope is corrected for a predetermined mask thickness and the microscope is a correction unit ( 17 . 18 ; P3; P4; 20 . 21 ; 23 . 24 ; 26 . 27 ), which corrects the residual portion of the spherical aberration that is present in the illumination optics ( 6 . 10 ) is due to the difference of the mask thickness of the mask to be examined to the predetermined mask thickness. Mikroskop nach Anspruch 1, wobei die Korrektureinheit Teil der Beleuchtungsoptik (1) ist.Microscope according to claim 1, wherein the correction unit is part of the illumination optics ( 1 ). Mikroskop nach einem der obigen Ansprüche, wobei die Korrektureinheit Teil der Detektionsvorrichtung (2) ist.Microscope according to one of the above claims, wherein the correction unit is part of the detection device ( 2 ). Mikroskop nach einem der obigen Ansprüche, wobei die Korrektureinheit zumindest eine planparallele Ausgleichsplatte (17, 18) umfallt, die zur Korrektur des Restanteils des sphärischen Abbildungsfehlers von einer Stellung außerhalb des Beleuchtungsstrahlenganges der Beleuchtungsoptik in den Beleuchtungsstrahlengang eingebracht werden kann.Microscope according to one of the above claims, wherein the correction unit has at least one plane-parallel compensating plate ( 17 . 18 ) which can be introduced into the illumination beam path from a position outside the illumination beam path of the illumination optical system for correcting the residual portion of the spherical aberration. Mikroskop nach Anspruch 4, wobei die Korrektureinheit mehrere planparallele Ausgleichsplatten (17, 18) mit unterschiedlicher optischer Dicke aufweist, die jeweils zur Korrektur des Restanteils des sphärischen Abbildungsfehlers von einer Stellung außerhalb des Beleuchtungsstrahlengangs in den Beleuchtungsstrahlengang eingebracht werden kann.Microscope according to claim 4, wherein the correction unit comprises a plurality of plane-parallel balancing plates ( 17 . 18 ) having different optical thickness, which can be introduced in each case for correcting the residual portion of the spherical aberration from a position outside the illumination beam path in the illumination beam path. Mikroskop nach Anspruch 4 oder 5, wobei die Beleuchtungsoptik (6, 10) einen Kondensor (10) aufweist, und die Ausgleichsplatte(n) (17, 18) zwischen Kondensor (10) und der zu untersuchenden Maske (M) in den Beleuchtungsstrahlengang eingebracht werden kann/können.Microscope according to claim 4 or 5, wherein the illumination optics ( 6 . 10 ) a condenser ( 10 ), and the balancing plate (s) ( 17 . 18 ) between condenser ( 10 ) and the mask (M) to be examined can be introduced into the illumination beam path. Mikroskop nach einem der obigen Ansprüche, wobei die Beleuchtungsoptik (6, 11) zumindest zwei Linsen aufweist (7, 8), deren Abstand mittels der Korrektureinheit veränderbar ist, um den Restanteil des sphärischen Abbildungsfehlers zu korrigieren.Microscope according to one of the above claims, wherein the illumination optics ( 6 . 11 ) has at least two lenses ( 7 . 8th ) whose distance can be changed by means of the correction unit in order to correct the residual portion of the spherical aberration. Mikroskop nach Anspruch 7, wobei die beiden Linsen (7, 8) Teil einer Zoomeinheit (6) der Beleuchtungsoptik sind.Microscope according to claim 7, wherein the two lenses ( 7 . 8th ) Part of a zoom unit ( 6 ) of the illumination optics. Mikroskop nach einem der obigen Ansprüche, wobei die Detektionsoptik zumindest zwei Linsen (12, 13) aufweist, deren Abstand mittels der Korrektureinheit veränderbar ist, um den Restanteil des sphärischen Abbildungsfehlers zu korrigieren.Microscope according to one of the above claims, wherein the detection optics at least two lenses ( 12 . 13 ) whose spacing can be changed by means of the correction unit in order to correct the residual portion of the spherical aberration. Mikroskop nach einem der obigen Ansprüche, bei dem der Restanteil des sphärischen Abbildungsfehlers, der in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik (1) als Phasenfehler auftritt, durch zumindest ein Phasenkorrekturelement (26, 27) korrigierbar ist, das von einer Stellung außerhalb des Beleuchtungsstrahlengangs der Beleuchtungsoptik (1) in den Beleuchtungsstrahlengang in der Pupillenebene eingebracht werden kann.Microscope according to one of the preceding claims, wherein the residual portion of the spherical aberration, which is in a pupil plane of the illumination optics ( 1 ) occurs as a phase error, by at least one phase correction element ( 26 . 27 ) that can be corrected, which differs from a position outside the illumination beam path of the illumination optics ( 1 ) can be introduced into the illumination beam path in the pupil plane. Mikroskop nach Anspruch 10, wobei das zumindest eine Phasenkorrekturelement (26, 27) als diffraktives optisches Element ausgebildet ist.Microscope according to claim 10, wherein the at least one phase correction element ( 26 . 27 ) is designed as a diffractive optical element. Mikroskop nach Anspruch einem der obigen Ansprüche, wobei die Korrektureinheit zumindest eine Korrekturlinse (23, 24) umfaßt, die zur Korrektur des Restanteils des sphärischen Abbildungsfehlers von einer Stellung außerhalb des Detektionsstrahlengangs der Detektionsvorrichtung (2) in den Detektionsstrahlengang eingebracht werden kann.Microscope according to one of the preceding claims, wherein the correction unit comprises at least one correction lens ( 23 . 24 ) for correcting the residual portion of the spherical aberration from a position outside the detection beam path of the detection device ( 2 ) can be introduced into the detection beam path. Mikroskop nach einem der obigen Ansprüche, wobei die Beleuchtungsvorrichtung (1) als Auflichtbeleuchtung ausgebildet ist.Microscope according to one of the above claims, wherein the illumination device ( 1 ) is designed as epi-illumination. Mikroskop nach einem der Ansprüche 1 bis 12, wobei die Beleuchtungsvorrichtung (1) als Durchlichtbeleuchtung ausgebildet ist.Microscope according to one of claims 1 to 12, wherein the illumination device ( 1 ) is designed as transmitted light illumination.
DE200610045838 2006-09-27 2006-09-27 Microscope for investigation of masks with different thickness, has illumination device, which has light source, and has illumination optical system that illuminates mask to be examined with illuminating radiation Ceased DE102006045838A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE200610045838 DE102006045838A1 (en) 2006-09-27 2006-09-27 Microscope for investigation of masks with different thickness, has illumination device, which has light source, and has illumination optical system that illuminates mask to be examined with illuminating radiation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE200610045838 DE102006045838A1 (en) 2006-09-27 2006-09-27 Microscope for investigation of masks with different thickness, has illumination device, which has light source, and has illumination optical system that illuminates mask to be examined with illuminating radiation

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102006045838A1 true DE102006045838A1 (en) 2008-04-03

Family

ID=39134226

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE200610045838 Ceased DE102006045838A1 (en) 2006-09-27 2006-09-27 Microscope for investigation of masks with different thickness, has illumination device, which has light source, and has illumination optical system that illuminates mask to be examined with illuminating radiation

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102006045838A1 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102053358A (en) * 2009-11-02 2011-05-11 索尼公司 Microscope system and method of controlling a microscope system
US9195074B2 (en) 2012-04-05 2015-11-24 Brien Holden Vision Institute Lenses, devices and methods for ocular refractive error
US9201250B2 (en) 2012-10-17 2015-12-01 Brien Holden Vision Institute Lenses, devices, methods and systems for refractive error
US9541773B2 (en) 2012-10-17 2017-01-10 Brien Holden Vision Institute Lenses, devices, methods and systems for refractive error

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19505071A1 (en) * 1994-02-17 1995-08-24 Nikon Corp Microscope objective for oil immersion viewing
US5973863A (en) * 1996-08-08 1999-10-26 Nikon Corporation Exposure projection apparatus
US20030011783A1 (en) * 2001-03-06 2003-01-16 Akiyoshi Suzuki Interferometer and interferance measurement method
EP1349201A1 (en) * 2000-12-06 2003-10-01 Nikon Corporation Observation device and its manufacturing method, exposure device, and method for manufacturing micro device
EP1670041A1 (en) * 2003-08-28 2006-06-14 Nikon Corporation Exposure method and apparatus, and device manufacturing method

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19505071A1 (en) * 1994-02-17 1995-08-24 Nikon Corp Microscope objective for oil immersion viewing
US5973863A (en) * 1996-08-08 1999-10-26 Nikon Corporation Exposure projection apparatus
EP1349201A1 (en) * 2000-12-06 2003-10-01 Nikon Corporation Observation device and its manufacturing method, exposure device, and method for manufacturing micro device
US20030011783A1 (en) * 2001-03-06 2003-01-16 Akiyoshi Suzuki Interferometer and interferance measurement method
EP1670041A1 (en) * 2003-08-28 2006-06-14 Nikon Corporation Exposure method and apparatus, and device manufacturing method

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102053358A (en) * 2009-11-02 2011-05-11 索尼公司 Microscope system and method of controlling a microscope system
CN102053358B (en) * 2009-11-02 2013-09-18 索尼公司 Microscope system and method of controlling a microscope system
US10203522B2 (en) 2012-04-05 2019-02-12 Brien Holden Vision Institute Lenses, devices, methods and systems for refractive error
US10838235B2 (en) 2012-04-05 2020-11-17 Brien Holden Vision Institute Limited Lenses, devices, and methods for ocular refractive error
US9535263B2 (en) 2012-04-05 2017-01-03 Brien Holden Vision Institute Lenses, devices, methods and systems for refractive error
US11809024B2 (en) 2012-04-05 2023-11-07 Brien Holden Vision Institute Limited Lenses, devices, methods and systems for refractive error
US9575334B2 (en) 2012-04-05 2017-02-21 Brien Holden Vision Institute Lenses, devices and methods of ocular refractive error
US11644688B2 (en) 2012-04-05 2023-05-09 Brien Holden Vision Institute Limited Lenses, devices and methods for ocular refractive error
US9195074B2 (en) 2012-04-05 2015-11-24 Brien Holden Vision Institute Lenses, devices and methods for ocular refractive error
US10209535B2 (en) 2012-04-05 2019-02-19 Brien Holden Vision Institute Lenses, devices and methods for ocular refractive error
US10466507B2 (en) 2012-04-05 2019-11-05 Brien Holden Vision Institute Limited Lenses, devices and methods for ocular refractive error
US10948743B2 (en) 2012-04-05 2021-03-16 Brien Holden Vision Institute Limited Lenses, devices, methods and systems for refractive error
US11320672B2 (en) 2012-10-07 2022-05-03 Brien Holden Vision Institute Limited Lenses, devices, systems and methods for refractive error
US9759930B2 (en) 2012-10-17 2017-09-12 Brien Holden Vision Institute Lenses, devices, systems and methods for refractive error
US10534198B2 (en) 2012-10-17 2020-01-14 Brien Holden Vision Institute Limited Lenses, devices, methods and systems for refractive error
US10520754B2 (en) 2012-10-17 2019-12-31 Brien Holden Vision Institute Limited Lenses, devices, systems and methods for refractive error
US11333903B2 (en) 2012-10-17 2022-05-17 Brien Holden Vision Institute Limited Lenses, devices, methods and systems for refractive error
US9201250B2 (en) 2012-10-17 2015-12-01 Brien Holden Vision Institute Lenses, devices, methods and systems for refractive error
US9541773B2 (en) 2012-10-17 2017-01-10 Brien Holden Vision Institute Lenses, devices, methods and systems for refractive error

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102016119268B3 (en) Wrong plane microscope
DE10063276C2 (en) scanning microscope
EP1260845A2 (en) Catadioptric reduction lens
DE102008004762A1 (en) Projection exposure apparatus for microlithography with a measuring device
DE102019008304B3 (en) Fluorescence microscope with stabilized adjustment and use of an assembly to upgrade a fluorescence microscope
DE102008049589A1 (en) Optical imaging device, particularly for microscopy, comprises two optical element groups that display object point of object plane on image plane, where one optical element group comprises optical element with reflective optical surface
EP3420392A1 (en) Light sheet microscope and method for imaging a sample by light sheet microscopy
US7564620B2 (en) Optical arrangement and method for the imaging of depth-structured objects
DE102012200851B3 (en) Infrared (= IR) microscope with field curvature compensation and additional illumination optimization in the visible light beam of visible light
EP0019263B2 (en) Microscope lens system
DE102006045838A1 (en) Microscope for investigation of masks with different thickness, has illumination device, which has light source, and has illumination optical system that illuminates mask to be examined with illuminating radiation
DE10018256A1 (en) Double confocal scanning microscope
DE102014110606B4 (en) Microscope with a beam splitter arrangement
WO2021139889A1 (en) Oblique plane microscope and method for correcting an aberration in an oblique plane microscope
EP1293817A2 (en) Apparatus and method for focus control of a microscope with digital imaging, in particular a confocal microscope
EP1624329A2 (en) Apparatus for correcting an optical arrangement and confocal microscope comprising this device
DE102005037531A1 (en) Method and apparatus for reducing systematic measurement errors in the microscopic examination of objects
DE102008049588B4 (en) Optical imaging device, microscope and imaging method for microscopy
DE102016120312B3 (en) Method for illuminating focus positions on the object side of a microscope objective and microscope
DE102015211699A1 (en) Imaging optical system and optical design method
EP1521067A2 (en) Optical imaging system
DE102008015996A1 (en) Microscope and microscopy method for the examination of a reflecting object
DE102013112212B4 (en) Optical zoom device, optical imaging device, optical zoom method and imaging method for microscopy
DE102008043243A1 (en) Projection lens for use in projection exposure system, has manipulator with aberration component that is adjusted such that it corrects defect in addition with other aberration component, while latter component corrects image defect
DE102018125995A1 (en) Method and microscope for determining the tilting of a cover slip

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8181 Inventor (new situation)

Inventor name: ENGEL, THOMAS, DR., 99102 NIEDERNISSA, DE

Inventor name: GREIF-WUESTENBECKER, JOERN, WIEN, AT

R012 Request for examination validly filed

Effective date: 20130704

R002 Refusal decision in examination/registration proceedings
R003 Refusal decision now final