DE102006026005A1 - Cold pressed sputtering targets - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Sputtertarget mit einem Sputtermaterial aus einer Legierung oder Materialmischung aus mindestens zwei Komponenten, wobei die beiden Komponenten im thermodynamischen Ungleichgewicht vorliegen und besteht darin, dass die Komponenten durch ein isostatisches oder unaxiales Kalt-Press-Verfahren kompaktiert sind.The invention relates to a sputtering target with a sputtering material of an alloy or material mixture of at least two components, wherein the two components are in thermodynamic imbalance and is that the components are compacted by an isostatic or unaxial cold-pressing process.

Description

Die Erfindung betrifft ein Sputtertarget mit einem Sputtermaterial aus einer Legierung oder Materialmischung aus mindestens zwei Komponenten sowie ein Verfahren zu seiner Herstellung.The The invention relates to a sputtering target with a sputtering material an alloy or material mixture of at least two components and a method for its production.

Sputtertargets zur Kathodenzerstäubung werden üblicherweise durch schmelzmetallurgische oder pulvermetallurgische Verfahren hergestellt. Pulvermetallurgische Verfahren werden unter anderem dann angewandt, wenn sich die gewünschten Komponenten nicht schmelztechnisch legieren lassen oder wenn die resultierenden Legierungen eine zu große Sprödigkeit aufweisen, um in die gewünschte Targetgeometrie gebracht zu werden.sputtering targets for sputtering are usually by melt metallurgical or powder metallurgical processes produced. Powder metallurgical processes will be among others applied when the desired Do not alloy components by melting technology or if the resulting alloys have too high a brittleness to in the desired target geometry to be brought.

Bislang eingesetzte pulvermetallurgische Verfahren sind:

  • – Kaltpressen und Sintern bei erhöhten Temperaturen
  • – heißaxiales Pressen der Pulver oder Pulvermischungen
  • – heißisostatisches Pressen der Pulver oder Pulvermischungen
  • – Pulverschmieden oder Pulverwalzen (im Regelfall in versiegelten Kannen)
  • – Plasmaspritzen und thermisches Spritzen.
Previously used powder metallurgical processes are:
  • - Cold pressing and sintering at elevated temperatures
  • - Hot axial pressing of the powder or powder mixtures
  • - Hot isostatic pressing of the powder or powder mixtures
  • - powder forging or powder rolling (usually in sealed jugs)
  • - Plasma spraying and thermal spraying.

Alle diese üblichen Verfahren haben gemeinsam, dass die Pulver währen des Herstellungsverfahrens beträchtlich erwärmt werden, teilweise über den Schmelzpunkt hinaus ( DE 41 15 663 A1 ), teilweise bis kurz unter den Schmelzpunkt (z. B. Sintern) oder zumindest bis knapp unter den Schmelzpunkt der am niedrigsten schmelzenden Komponente ( EP 0243 995 B1 , EP 0834 594 B1 ). Diese thermisch aktivierte pulvermetallurgischen Verfahren erfordern einerseits hohen aparativen Aufwand, wie z. B. Schutzgasöfen, Autoklaven, adäquate, thermisch stabile Pressformen, andererseits kann dieser Schritt der thermischen Pulververdichtung zu unerwünschten Nebeneffekten wie Oxidation oder Versprödung durch thermisch aktivierte Festkörperreaktionen führen.All these conventional methods have in common that the powders are considerably heated during the manufacturing process, in some cases beyond the melting point ( DE 41 15 663 A1 ), sometimes just below the melting point (eg sintering) or at least until just below the melting point of the lowest melting component ( EP 0243 995 B1 . EP 0834 594 B1 ). These thermally activated powder metallurgy process require on the one hand high aparativen expense, such. On the other hand, this step of the thermal powder compaction can lead to undesirable side effects such as oxidation or embrittlement by thermally activated solid-state reactions.

In jüngster Zeit haben sich Anwendungsfälle von Sputtertargets aufgetan, bei denen Legierungen oder Gemische gefragt sind, welche aus Elementen oder Komponenten bestehen, die einerseits extrem niedrig schmelzende, andererseits hochschmelzende Bestandteile enthalten. Beispiele dafür sind:

  • – Cu/In- oder Cu/In/Ga-Legierungen für Photovoltaik-Halbleiter
  • – Mischtargets bestehen einerseits aus niedrig schmelzenden Elementen wie Sn, Zn, In oder Bi, andererseits aus Komponenten wie Silizium, Titan, Niob, Mangan oder Tantal. Zweck dieser Mischtargets ist es z. B. durch Rekativsputterprozesse optisch funktionale Schichten mit gezielt einstellbarem Brechungsindex herzustellen.
In recent times, applications of sputtering targets have emerged in which alloys or mixtures are required, which consist of elements or components that contain on the one hand extremely low-melting, on the other hand high-melting constituents. Examples are:
  • - Cu / In or Cu / In / Ga alloys for photovoltaic semiconductors
  • - Mixed targets consist on the one hand of low-melting elements such as Sn, Zn, In or Bi, on the other hand of components such as silicon, titanium, niobium, manganese or tantalum. Purpose of this mixed targets, it is z. B. produce by Rekativsputterprozesse optically functional layers with selectively adjustable refractive index.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zur kostengünstigsten und qualitativ hochwertigen Herstellung von pulvermetallurgischen Sputtertargets sowie derartige Sputtertargets bereitzustellen.task It is the object of the present invention to provide a method of least cost and high quality manufacturing of powder metallurgy sputtering targets and to provide such sputtering targets.

Die Aufgabe wird durch die Merkmale der unabhängigen Ansprüche gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen ergeben sich aus den Unteransprüchen.The The object is solved by the features of the independent claims. advantageous Embodiments emerge from the subclaims.

Diese Aufgabe wird unter anderem dadurch gelöst, dass die beiden Komponenten des Sputtermaterials im thermodynamischen Ungleichgewicht vorliegen und durch ein isostatisches oder unaxiales Kalt-Press-Verfahren (also bei oder im Bereich der normalen Raumtemperatur) kompaktiert sind. Das Sputtermaterial kann aus Elementen/Komponenten gebildet sein, die einen sehr großen Unterschied in den jeweiligen Schmelzpunkten haben. Insbesondere sind die Komponenten des Mischtargets in Pulverform hergestellt, diese Pulver sind durch Kaltpressverfahren, wie z. B. Kaltaxialpressen oder kalt-isostatisches Pressen verdichtet. Der resultierende Pressling wird keinerlei thermischer Behandlung (oberhalb der Raumtemperatur) ausgesetzt, sondern direkt, d. h. im kaltgepressten Zustand eventuell nach geringfügiger spanabhebender Bearbeitung, als Sputtertarget eingesetzt. Diese Erfindung bricht somit mit dem bislang üblichen Paradigma, dass Sputtertargets nur dann eine sichere Funktionalität gewährleisten, wenn sie zumindest durch Sinterreaktionen eine stabile kompakte Gefügestruktur aufweisen. Überraschenderweise zeigt sich, dass sich bei bestimmten Materialkombinationen durchaus praxistaugliche Sputtertargets, allein durch diesen Kaltpressprozess herstellen lassen. Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Komponenten in Pulverform so vorbereitet werden, dass mindestens eine Komponente eine Härte von weniger als 100 MPa HB aufweist und diese besonders weiche Komponente mindestens 20 Vol% des Sputtermaterials ausmacht. Neben der Möglichkeit, allein Metallkomponenten (reine Metalle oder Legierungen) auf diese Art und Weise zu Sputtertargets zu verpressen, ist es ebenfalls möglich, Verbundtargets aus insbesondere weichen metallischen und harten keramischen Komponenten zu pressen.These The task is solved by, among other things, the two components the sputtering material is in thermodynamic imbalance and by an isostatic or uniaxial cold-press method (ie at or near the normal room temperature) compacted are. The sputtering material may be formed of elements / components be a very big one Have difference in the respective melting points. Especially the components of the mixing target are produced in powder form, These powders are by cold pressing method, such as. B. cold axial presses or cold isostatic pressing compacted. The resulting compact does not undergo any thermal treatment (above room temperature) exposed, but directly, d. H. in cold pressed condition possibly after minor machining, used as a sputtering target. These Invention thus breaks with the usual paradigm that sputtering targets only ensure a secure functionality, if at least have a stable compact microstructure by sintering reactions. Surprisingly shows that for certain material combinations quite Practical sputtering targets, solely through this cold-pressing process let produce. It is particularly advantageous if the components be prepared in powder form so that at least one component a hardness of less than 100 MPa HB and this particularly soft component at least 20% by volume of the sputtering material. Besides the possibility of being alone Metal components (pure metals or alloys) in this way and way to crimp sputtering targets, it is also possible to composite targets in particular soft metallic and hard ceramic components to squeeze.

Vorzugsweise ist mindestens eine der Komponenten aus mindestens einem Metall aus der Gruppe Indium, Zinn oder Wismuth oder aus einer Legierung auf Basis dieser Metalle gebildet. Insbesondere kann mindestens eine der Komponenten aus Indium oder aus einer Indiumbasislegierung gebildet sein. Zweckmäßig ist es, dass mindestens eine der Komponenten eine metallische Reinheit von größer 99,9 % aufweist. Das Sputtermaterial kann aus den Komponenten:

  • a) Indium oder Indiumbasislegierung
  • b) Kupfer- oder Kupferbasislegierung
gebildet sein. Es kann auf einer Trägerplatte stoffschlüssig angeordnet sein.Preferably, at least one of the components is formed from at least one metal from the group indium, tin or bismuth or from an alloy based on these metals. In particular, at least one of the components may be formed from indium or from an indium-based alloy. It is expedient that at least one of the components has a metallic purity of greater than 99.9%. The sputtering material may consist of the components:
  • a) indium or indium-based alloy
  • b) copper or copper base alloy
be formed. It can be cohesively arranged on a carrier plate.

Das erfindungsgemäße Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, dass die Komponenten durch ein isostatisches oder unaxiales Kalt-Press-Verfahren kompaktiert werden. Vorzugsweise werden die Komponenten nach dem Kaltpressen keiner thermischen Behandlung ausgesetzt. Vorteilhaft ist es, dass mindestens eine der Komponenten des Sputtermaterials durch ein axiales Pressverfahren auf eine metallische Trägerplatte aufgepresst und ein stoffschlüssiger Verbund aus Sputtermaterial und Trägerplatte gebildet wird. Es kann auch mindestens eine der Komponenten des Sputtermaterials durch ein axiales Pressverfahren zu einer Targetplatte verpresst und diese Targetplatte separat vom Pressvorgang auf eine Trägerplatte geklebt oder gelötet werden. Die Prozesstemperatur des Klebe- oder Lötvorgangs kann dabei niedriger sein, als die niedrigste Schmelztemperatur der Komponenten. Das Verfahren kann in einer Variante auch so ausgeführt werden, dass mindestens eine der Komponenten durch ein isostatisches Pressverfahren auf ein Trägerrohr aufgepresst und ein stoffschlüssiger Verbund aus Sputtermaterial und Trägerrohr gebildet wird.The inventive method is characterized in that the components are characterized by an isostatic or uniaxial cold-pressing process. Preferably the components are not subjected to thermal treatment after cold pressing exposed. It is advantageous that at least one of the components of the sputtering material by an axial pressing on a metallic support plate pressed on and a cohesive Composite of sputtering material and carrier plate is formed. It may also be at least one of the components of the sputtering material pressed an axial pressing process to a target plate and this Target plate separately from the pressing process on a carrier plate glued or soldered become. The process temperature of the bonding or soldering process can be lower be, as the lowest melting temperature of the components. The Method can also be carried out in a variant that at least one of the components by an isostatic pressing method a carrier tube pressed on and a cohesive one Composite of sputtering material and support tube is formed.

Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren können planare Sputtertargets hergestellt werden, indem sie durch ein axiales Pressverfahren auf eine metallische Trägerplatte aufgepresst werden. Dazu nimmt man vorzugsweise eine oberflächlich aufgeraute Trägerplatte und presst die Pulvermischung direkt auf diese Trägerplatte, so dass ein „mikroformschlüssiger" Verbund entsteht. Alternativ können planare Sputtertargets nach diesem Verfahren jedoch auch zu einer Platte aus Targetmaterial verpresst werden und die Verbindung zu einer Target-Trägerplatte nachträglich durch eine Klebe- oder Lötverbindung hergestellt werden.To The process according to the invention can be planar Sputtering targets are produced by applying an axial pressing process on a metal carrier plate be pressed on. For this one takes preferably a roughened surface support plate and presses the powder mixture directly onto this carrier plate, so that a "mikroformschlüssiger" composite arises. Alternatively you can planar sputtering targets according to this method but also to a Plate of target material to be pressed and the connection to a target carrier plate later through an adhesive or solder joint getting produced.

Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren können auch Rohrkathoden hergestellt werden, indem die Pulverkomponenten als Mischung durch übliche kaltisostatische Pressverfahren direkt auf ein aufgerautes Trägerrohr aufgepresst werden.To The method according to the invention can also Tube cathodes are produced by the powder components as Mix by usual cold isostatic pressing directly onto a roughened carrier tube be pressed on.

Besonders gute Ergebnisse erzielt man, wenn die „weiche" Komponente der Pulvermischung aus reinem Indium oder Indiumbasislegierung besteht. Auf diese Art und Weise können beispielsweise Cu-In-Gemische zum Sputtern von Kupfer-Indium-haltigen Dünnschicht-Photovoltaik-Schichten hergestellt werden.Especially good results are achieved when the "soft" component of the powder mixture of pure Indium or indium-based alloy. In this way can For example, Cu-In mixtures for sputtering of copper-indium-containing Thin-film photovoltaic layers produced become.

Im folgenden wird die Erfindung anhand von Beispielen erläutert.

  • 1. Ein Gemisch bestehend aus 50 Gew.-% Si-Pulver und 50 Gew.-% Sn-Pulver, mit Korngrößen jeweils im Bereich von 10 μm bis 140 μm (Silizium) und 45 μm bis 140 μm (Zinn) wird durch kaltaxiales Pressen in einer rechteckigen Pressform (300 X 100 mm) verdichtet. Auf dem Unterstempel der Pressform wird eine Cu-Platte der Größe 300 X 100 mm aufgelegt, welche auf ihrer Oberseite durch Sandstrahlen aufgeraut wurde. Nachdem das Pulver mit einem Druck von 2000 bar axial auf die Kupferplatte gepresst wurde, entnimmt man der Pressform ein Verbundteil, wobei die Dichte des komprimierten Si-Sn-Gemisches eine Dichte von 97 % der theoretischen Dichte aufweist. Dieses Verbundteil kann als Kathode zur Sputterbeschichtung eingesetzt werden, wobei die Kupferplatte des Verbundsystems direkt als Rückplatte zum Einsatz in der Sputterkathode dient.
  • 2. Ein Gemisch aus 60 Gew.-% Indium und 40 Gew.-% Kupfer, mit Korngrößen jeweils im Bereich von 5 μm bis 200 μm wird durch kaltaxiales Pressen in einer Pressform der Maße 300 X 100 mm bei einem Druck von 2000 bar gepresst. Ober- wie auch Unterstempel des Presswerkzeugs bestehen aus geschliffenen Stahlplatten. Nach Beendigung des Pressvorgangs kann eine Cu-In-Komposit-Platte dem Presswerkzeug entnommen werden, wobei die Dichte dieser Platte etwa 99,5 % der theoretischen Dichte entspricht. Diese Kupfer-Indium-Platte wird durch Weichlöten unter Verwendung eines Sn-In-Weichlotes (50/50 Gew.-%) zusammen mit weiteren auf die gleiche Art und Weise hergestellten Platten auf eine Kupfer-Kathodenplatte gelötet, so dass eine Sputterkathode der Dimension 900 × 100 mm bestückt werden kann. Diese Sputterkathode wird zum Herstellen von Kupfer-Indium-Legierungsschichten eingesetzt.
  • 3. Ein Gemisch bestehend aus 60 Gew.-% Indium Pulver und 40 Gew.-% Cu-Ga-Legierungspulver, wobei die Legierung wiederum eine Cu 70/Ga 30-Legierung darstellt, wird in ein Presswerkzeug gefüllt. Dieses Presswerkzeug weist einen inneren Hohlkern auf, welcher zum Beispiel aus Edelstahl besteht und welcher später als Trägerrohr einer Sputter-Rohrkathode dienen soll. Dieser innere Hohlkern trägt auf seiner Außenseite eine raue Flammspritzschicht, bestehend z. B. aus Ni-Al-Legierung. Der äußere Teil des Presswerkzeuges besteht aus einem Gummisack. Nach dem Befüllen des Zwischenraumes zwischen innerem Trägerrohr und äußerem Gummisack werden die Stirnseiten dieser zylindrischen Anordnung mit Gummi-Vergussmasse wasserdicht abgedichtet. Das Pulvergemisch wird sodann in einer kalt-isostatischen Presse (CIP-Verfahren) bei 2000 bar allseitigem Pressdruck verdichtet. Nach dem Verdichtungsschritt wird der äußere Gummisack entfernt. Das ehemalige Pulvergemisch liegt jetzt als kompaktierte Außenwand eines Verbundzylindersystems vor. Der Außendurchmesser dieses Verbundes wird drehtechnisch so bearbeitet, dass ein Rohr mit homogener Wandstärke entsteht. Das Cu-In-Ga-Verbundsystem auf Stahlrohr wird sodann als Rohrkathoden zum sputtertechnischen Herstellen von Cu-Ga-In-Schichten benutzt.
In the following the invention will be explained by way of examples.
  • 1. A mixture consisting of 50 wt .-% Si powder and 50 wt .-% Sn powder, with particle sizes in the range of 10 microns to 140 microns (silicon) and 45 microns to 140 microns (tin) is by Kaltaxiales Presses compacted in a rectangular mold (300 x 100 mm). On the lower die of the mold, a copper plate of size 300 X 100 mm is placed, which was roughened on its upper side by sandblasting. After the powder has been pressed axially onto the copper plate with a pressure of 2000 bar, a composite part is removed from the mold, the density of the compressed Si-Sn mixture having a density of 97% of the theoretical density. This composite part can be used as a cathode for sputter coating, wherein the copper plate of the composite system directly serves as a back plate for use in the sputtering cathode.
  • 2. A mixture of 60 wt .-% indium and 40 wt .-% copper, with particle sizes in the range of 5 microns to 200 microns is pressed by cold-axial pressing in a mold of dimensions 300 X 100 mm at a pressure of 2000 bar , Upper as well as lower punch of the pressing tool consist of ground steel plates. After completion of the pressing process, a Cu-In composite plate can be removed from the pressing tool, wherein the density of this plate corresponds to about 99.5% of the theoretical density. This copper-indium plate is soldered onto a copper cathode plate by soft soldering using a Sn-In solder (50/50 wt.%) Along with other plates prepared in the same manner to form a sputtering cathode of dimension 900 × 100 mm can be fitted. This sputtering cathode is used to make copper-indium alloy layers.
  • 3. A mixture consisting of 60 wt .-% indium powder and 40 wt .-% Cu-Ga alloy powder, wherein the alloy again represents a Cu 70 / Ga 30 alloy is filled in a pressing tool. This pressing tool has an inner hollow core, which consists for example of stainless steel and which is later to serve as a carrier tube of a sputtering tube cathode. This inner hollow core carries on its outside a rough flame spray layer consisting of z. B. of Ni-Al alloy. The outer part of the pressing tool consists of a rubber bag. After filling the gap between inner support tube and outer rubber bag, the end faces of this cylindrical arrangement are sealed watertight with rubber potting compound. The powder mixture is then compressed in a cold isostatic press (CIP process) at 2000 bar allseitigem pressing pressure. After the compaction step, the outer rubber bag is removed. The former powder mixture is now available as a compacted outer wall of a composite cylinder system. The outside diameter of this ver bundes is processed by turning technology so that a tube with homogeneous wall thickness is produced. The Cu-In-Ga composite system on steel pipe is then used as tube cathodes for sputtering of Cu-Ga-In layers.

Claims (15)

Sputtertarget mit einem Sputtermaterial aus einer Legierung oder Materialmischung aus mindestens zwei Komponenten, wobei die beiden Komponenten im thermodynamischen Ungleichgewicht vorliegen, dadurch gekennzeichnet, dass die Komponenten durch ein isostatisches oder unaxiales Kalt-Press-Verfahren kompaktiert sind.Sputtering target with a sputtering material of an alloy or material mixture of at least two components, wherein the two components are in thermodynamic imbalance, characterized in that the components are compacted by an isostatic or unaxial cold-pressing process. Sputtertarget nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Komponenten eine Härte von weniger als 100 MPa (Brinell Härte) aufweist, wobei diese Komponente mindestens 20 Vol% der gesamten Pulvermischung aufweist.Sputtering target according to claim 1, characterized in that that at least one of the components has a hardness of less than 100 MPa (Brinell hardness) which component is at least 20% by volume of the total Having powder mixture. Sputtertarget nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Komponenten als Pulver vorliegt.Sputtering target according to claim 1 or 2, characterized that at least one of the components is present as a powder. Sputtertarget nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Komponenten aus Metallen oder Legierungen oder aus einem Gemisch aus Metall oder Legierung mit keramischem Material gebildet sind.Sputtering target according to one of claims 1 to 3, characterized in that the components of metals or alloys or a mixture of metal or alloy with ceramic material are formed. Sputtertarget nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Komponenten aus mindestens einem Metall aus der Gruppe Indium, Zinn oder Wismuth oder aus einer Legierung auf Basis dieser Metalle besteht.Sputtering target according to one of claims 1 to 4, characterized in that at least one of the components at least one metal from the group indium, tin or bismuth or consists of an alloy based on these metals. Sputtertarget nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Komponenten aus Indium oder aus einer Indiumbasislegierung gebildet ist.Sputtering target according to one of claims 1 to 5, characterized in that at least one of the components Indium or indium-based alloy is formed. Sputtertarget nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Komponenten eine metallische Reinheit von größer 99,9 % aufweist.Sputtering target according to one of claims 1 to 6, characterized in that at least one of the components a metallic purity greater than 99.9 % having. Sputtertarget nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Sputtermaterial aus den Komponenten: a. Indium oder Indiumbasislegierung b. Kupfer- oder Kupferbasislegierung gebildet ist.Sputtering target according to one of claims 1 to 7, characterized in that the sputtering material consists of the components: a. Indium or indium-based alloy b. Copper or copper base alloy educated is. Sputtertarget nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Sputtermaterial auf einer Trägerplatte oder auf einem Trägerrohr stoffschlüssig angeordnet ist.Sputtering target according to one of claims 1 to 8, characterized in that the sputtering material on a carrier plate or arranged cohesively on a support tube is. Verfahren zum Herstellen eines Sputtertargets nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Komponenten durch ein isostatisches oder unaxiales Kalt-Press-Verfahren kompaktiert werden.A method for producing a sputtering target after one of the claims 1 to 9, characterized in that the components by a isostatic or uniaxial cold-pressing method compacted. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Komponenten nach dem Kaltpressen keiner thermischen Behandlung ausgesetzt werden.Method according to claim 10, characterized in that that the components after cold pressing no thermal treatment get abandoned. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Komponenten des Sputtermaterials durch ein axiales Pressverfahren auf eine metallische Trägerplatte aufgepresst und ein stoffschlüssiger Verbund aus Sputtermaterial und Trägerplatte gebildet wird.Method according to claim 10 or 11, characterized that at least one of the components of the sputtering material by an axial pressing process on a metallic carrier plate pressed on and a cohesive Composite of sputtering material and carrier plate is formed. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Komponenten des Sputtermaterials durch ein axiales Pressverfahren zu einer Targetplatte verpresst wird und diese Targetplatte separat vom Pressvorgang auf eine Trägerplatte geklebt oder gelötet wird.Method according to claim 10 or 11, characterized that at least one of the components of the sputtering material by an axial pressing method is pressed to a target plate, and this target plate separately from the pressing process on a support plate glued or soldered becomes. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Prozesstemperatur des Klebe- oder Lötvorgangs niedriger ist, als die niedrigste Schmelztemperatur der Komponenten.Method according to claim 13, characterized in that that the process temperature of the bonding or soldering process is lower than the lowest melting temperature of the components. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Komponenten durch ein isostatisches Pressverfahren auf ein Trägerrohr aufgepresst und ein stoffschlüssiger Verbund aus Sputtermaterial und Trägerrohr gebildet wird.Method according to claim 10 or 11, characterized that the components by an isostatic pressing method on a carrier tube pressed on and a cohesive one Composite of sputtering material and support tube is formed.
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