DE102006015479A1

DE102006015479A1 - Laboratory resistor for providing measurement of current flow between strip conductors of Ampere, has potential pick-up connection staying electrically in contact with resistor unit between two strip conductor connections

Info

Publication number: DE102006015479A1
Application number: DE200610015479
Authority: DE
Inventors: Michael Pechtold
Original assignee: Conti Temic Microelectronic GmbH
Current assignee: Vitesco Technologies Germany GmbH
Priority date: 2006-04-03
Filing date: 2006-04-03
Publication date: 2007-10-04

Abstract

The resistor has a potential pick-up connection (7), that stays electrically in contact with a resistor unit (4) between two strip conductor connections (5, 6). A contact section (9) of the potential pick-up connection is connected with the resistor unit between a measuring strip conductor (8) of the potential pick-up connection and the resistor unit by a pick-up area (10). The pick-up area has an extension (A) between the two strip conductor connections in such a manner that a position change of a contact location is produced by processing of the contact section in the pick-up area. An independent claim is also included for a method for adjusting a measuring resistor for the measurement of current that is flowing between strip conductors in electronic circuits.

Description

Die Erfindung betrifft einen Messwiderstand nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Abgleichen eines derartigen Messwiderstandes.The The invention relates to a measuring resistor according to the preamble of Claim 1. Furthermore, the invention relates to a method for matching such a measuring resistor.

Ein Messwiderstand der eingangs genannten Art sowie ein Abgleichsverfahren hierfür sind durch offenkundige Vorbenutzung in Form sogenannter Hochleistungsshunts bekannt. Die Strommessung wird am Messwiderstand auf eine Spannungsmessung zurückgeführt. In diesem Zusammenhang ist es üblich, dass die Messwiderstände derart abgeglichen werden, dass bei gleichem zu messenden Stromfluss verschiedene Messwiderstände den gleichen Spannungswert anzeigen. Generell gilt, dass derartige Messwiderstände hochgenau, temperaturstabil und alterungsbeständig sein müssen sowie große Leistungskennwerte haben sollen. Beim bekannten Messwiderstand wird zum Abgleichen des Messwiderstandes das Widerstandselement durch materialabtragendes Einschneiden zwischen den Leiterbahnen in seinem für den Stromfluss nutzbaren Querschnitt gezielt eingeengt, sodass der ohmsche Widerstand des Widerstandselements gezielt erhöht wird. Nach dem Einschneiden in das Widerstandselement liegt im verbleibenden stromdurchflossenen Querschnitt eine im Vergleich zum Ausgangszustand erhöhte Stromdichte bzw. Verlustleistung vor. Dies kann zu unerwünschten sogenannten Hotspots führen, die die Leistungsfähigkeit des Messwiderstandes verringern.One Measuring resistor of the type mentioned above and a balancing method therefor are by public prior use in the form of so-called high-power shunts known. The current measurement is at the measuring resistor to a voltage measurement recycled. In it is customary in this context that the measuring resistors like that be matched, that at the same to be measured flow of electricity different Sense resistors show the same voltage value. Generally, such Sense resistors must be highly accurate, temperature stable and resistant to aging and large performance characteristics should have. The known measuring resistor will be adjusted of the measuring resistor, the resistor element by material removal Cut in between the tracks in its usable for the current flow Selective cross section narrowed so that the ohmic resistance of Targeted resistance elements increased becomes. After cutting into the resistor element lies in the remaining current-carrying cross-section one in comparison to the initial state increased Current density or power loss before. This can be undesirable lead to so-called hotspots, the performance reduce the measuring resistance.

Es ist daher eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Messwiderstand der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, dass ein Abgleich des Messwiderstandes zum Ausgleich herstellungsbedingter Widerstands-Toleranzen möglich ist, ohne die Leistungsfähigkeit des Messwiderstandes zu beeinträchtigen.It It is therefore an object of the present invention to provide a measuring resistor of the type mentioned in such a way that an adjustment of the Measuring resistor is possible to compensate for production-related resistance tolerances, without the efficiency of the measuring resistor.

Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch einen Messwiderstand mit den im Kennzeichnungsteil des Anspruchs 1 angegebenen Merkmalen.These The object is achieved by a measuring resistor with the in the characterizing part of claim 1 specified characteristics.

Ein erfindungsgemäßer Potentialabgriffsanschluss ermöglicht einen Widerstandsabgleich, ohne dass in den Querschnitt des Widerstandselements eingegriffen werden muss. Bereiche erhöhter Stromdichte bzw. Hotspots werden auch beim abgeglichenen Messwiderstand vermieden. Die Leistungsfähigkeit des Widerstandselements bleibt daher auch nach dem Abgleich voll erhalten.One inventive potential tap connection allows a resistance balance, without interfering in the cross section of the resistor element must become. Areas of increased Current density or hotspots are also measured when the measuring resistor avoided. The efficiency Therefore, the resistance element remains full even after adjustment receive.

Eine Ausgestaltung des Abgriffsbereichs nach Anspruch 2 ermöglicht den Abgleich von Messwiderständen, die auf Grund von Fertigungstoleranzen im ohmschen Widerstand des Widerstandselementes in entsprechenden Größenordnungen variieren. Je nach Art der Herstellung des Widerstandselementes werden dabei andere typische Toleranzabweichungen beobachtet. Die Ausdehnung des Abgriffsbereichs wird so gewählt, dass je nach Art der Herstellung des Widerstandselements ein gerade ausreichender Toleranzbereich abgedeckt wird.A Design of the tap area according to claim 2 allows the Adjustment of measuring resistors, due to manufacturing tolerances in ohmic resistance of the Resistance element vary in corresponding orders of magnitude. ever on the type of production of the resistive element are doing others typical tolerance deviations observed. The extent of the tap area is chosen that depending on the nature of the preparation of the resistive element just just sufficient Tolerance range is covered.

Mit einem Messwiderstand nach Anspruch 3 ist eine differentielle Spannungsmessung über die beiden Potentialabgriffsanschlüsse möglich. Zudem ist über die beiden Abgriffsbereiche ein feinerer Abgleich eröffnet.With A measuring resistor according to claim 3 is a differential voltage measurement across the two Potentialabgriffsanschlüsse possible. Moreover, over is the two tap areas open a finer balance.

Ein Widerstandselement nach Anspruch 4 eignet sich besonders zur Strommessung in elektronischen Schaltungen. Für derartige gedruckte Widerstände sollte der Abgriffsbereich insbesondere derart ausgedehnt sein, dass eine Veränderung des Spannungswertes beim Abgleich gegenüber einer Sollvorgabe um +/– 20% möglich ist.One Resistance element according to claim 4 is particularly suitable for current measurement in electronic circuits. For such printed resistors in particular, the tap area should be so extended that a change the voltage value during adjustment compared to a target specification by +/- 20% is possible.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, ein Abgleichverfahren für den erfindungsgemäßen Messwiderstand anzugeben.A Another object of the invention is an adjustment method for the measuring resistor according to the invention specify.

Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch ein Verfahren mit den im Anspruch 5 angegebenen Merkmalen.These The object is achieved by a method having the features specified in claim 5.

Die Vorteile dieses Verfahrens sowie der Verfahrensweiterbildung nach Anspruch 6 entsprechen den oben im Zusammenhang mit dem Messwiderstand nach den Ansprüchen 1 bis 4 angegebenen Vorteilen. Als Bezugspotential kann ein Messwiderstand nach Anspruch 6 mit zwei Potentialabgriffsanschlüssen entweder eine der Leiterbahnen oder, beim Messen zwischen den beiden Potentialabgriffsanschlüssen, einer der beiden Potentialabgriffsanschlüsse verwendet werden.The Advantages of this method and the process training after Claim 6 correspond to those above in connection with the measuring resistor according to the claims 1 to 4 indicated advantages. As a reference potential, a measuring resistor according to claim 6 with two Potentialabgriffsanschlüssen either one of the conductor tracks or, when measuring between the two Potentialabgriffsanschlüssen, one the two potential tap connections are used.

Eine Laserbearbeitung nach Anspruch 7 ist hoch präzise und erlaubt einen hohen Durchsatz. Ein Materialabtrag beim Bearbeiten der Kontaktabschnitte kann auch durch mechanische Bearbeitung, z.B. durch Schleifen, erfolgen.A Laser processing according to claim 7 is highly precise and allows a high Throughput. A material removal when editing the contact sections may also be obtained by mechanical processing, e.g. by grinding, done.

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. In dieser zeigen:embodiments The invention will be explained in more detail with reference to the drawing. In show this:

1 schematisch eine Aufsicht auf einen Messwiderstand zur Strommessung, angeschlossen zwischen zwei Leiterbahnen in einer elektronischen Schaltung; 1 schematically a plan view of a measuring resistor for current measurement, connected between two tracks in an electronic circuit;

2 den Messwiderstand nach 1 nach einem Bearbeitungsschritt zum Abgleich der an einem Potentialabgriff abgegriffenen Messspannung; 2 the measuring resistor after 1 After a processing step to adjust the tapped at a potential tap measurement voltage;

3 und 4 zwei weitere Messwiderstände nach 1, ebenfalls nach einem Abgleich-Bearbeitungsschritt; 3 and 4 two more measuring resistors after 1 also after an adjustment processing step;

5 schematisch ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Messwiderstandes mit zwei zueinander beabstandeten Potentialabgriffsanschlüssen, die zum Abgleich einer Messspannung jeweils bearbeitete Abgriffsbereiche aufweisen. 5 schematically another embodiment of a measuring resistor with two spaced-apart Potentialabgriffsanschlüssen which have for adjusting a measurement voltage respectively processed tap areas.

Ein Messwiderstand 1, ein sogenannter Hochleistungsshunt, dient zur Messung von zwischen Leiterbahnen 2, 3 fließenden Strömen in einer nicht dargestellten elektronischen Schaltung. Die Leiterbahnen 2, 3 sind in der Zeichnung nur abschnittsweise benachbart zum Messwiderstand 1 dargestellt. Die mit dem Messwiderstand 1 zu messenden Ströme liegen je nach Anwendung und entsprechender Dimensionierung des Messwiderstandes zum Beispiel im Bereich zwischen ca. 1 A und 30 A.A measuring resistor 1 , a so-called high power shunt, is used to measure between tracks 2 . 3 flowing currents in an electronic circuit, not shown. The tracks 2 . 3 are only partially adjacent to the measuring resistor in the drawing 1 shown. The with the measuring resistor 1 currents to be measured are, for example, in the range between approximately 1 A and 30 A, depending on the application and the corresponding dimensioning of the measuring resistor.

Die Messgröße des Messwiderstandes 1 ist der Spannungsabfall an einem Widerstandselement 4, während dieses vom zu messenden Strom durchflossen wird. Das Widerstandselement 4 ist ein auf einem geeigneten Schaltungsträger aufgedrucktes Dickschicht-Element.The measured variable of the measuring resistor 1 is the voltage drop across a resistor element 4 while flowing through the current to be measured. The resistance element 4 is a printed on a suitable circuit board thick-film element.

Zur Kontaktierung des Widerstandselements 4 mit der ersten Leiterbahn 2 dient ein erster Leiterbahnanschluss 5. Zur Kontaktierung des Widerstandselements 4 mit der zweiten Leiterbahn 3 dient ein zweiter Leiterbahnanschluss 6. Zwischen den beiden Leiterbahnanschlüssen 5, 6 steht ein Potentialabgriffsanschluss 7 elektrisch mit dem Widerstandselement 4 in Kontakt. Über eine Mess-Leiterbahn 8 des Potentialabgriffsanschlusses 7 wird als Messwert des Messwiderstandes 1 eine Ist-Spannung abgegriffen. Als Bezugspotential für die Mess-Leiterbahn 8 dient die zweite Leiterbahn 3. Ein Kontaktabschnitt 9 des Potentialabgriffsanschlusses 7 sorgt für einen elektrischen Kontakt zwischen dem Widerstandselement 4 und der Mess-Leiterbahn 8. Dabei steht der Kontaktabschnitt 9 über einen räumlich ausgedehnten Abgriffsbereich 10 mit dem Widerstandselement 4 in elektrischem Kontakt. Der Abgriffsbereich 10 hat zwischen den beiden Leiterbahnanschlüssen 5, 6 eine Ausdehnung A. Die Ist-Spannung, also die Messspannung, ist direkt abhängig vom Abstand B des Abgriffsbereichs 10 zum zweiten Leiterbahnanschluss 6 und vom Abstand C des Abgriffsbereichs 10 zum ersten Leiterbahnanschluss 5, da diese Abstände B und C ein Maß für die ohmschen Widerstände des Widerstandselements 4 zwischen der Mess-Leiterbahn 8 und den Leiterbahnen 3 und 2 darstellen.For contacting the resistor element 4 with the first trace 2 serves a first trace connection 5 , For contacting the resistor element 4 with the second trace 3 serves a second trace connection 6 , Between the two conductor connections 5 . 6 there is a potential tap connection 7 electrically with the resistive element 4 in contact. Via a measuring trace 8th the potential tap connection 7 is used as the measured value of the measuring resistor 1 an actual voltage tapped. As reference potential for the measuring trace 8th serves the second trace 3 , A contact section 9 the potential tap connection 7 provides electrical contact between the resistor element 4 and the measuring trace 8th , Here is the contact section 9 over a spatially extended tap range 10 with the resistance element 4 in electrical contact. The tap area 10 has between the two conductor connections 5 . 6 an extension A. The actual voltage, ie the measuring voltage, is directly dependent on the distance B of the tap area 10 to the second conductor connection 6 and the distance C of the tap area 10 to the first trace connection 5 because these distances B and C are a measure of the ohmic resistances of the resistance element 4 between the measuring trace 8th and the tracks 3 and 2 represent.

2 zeigt den Messwiderstand 1 nach einer durch Bearbeitung des Abgriffsbereichs 10 erzeugten Lageänderung eines Kontaktortes 11, über den der Kontaktabschnitt 9 des Potentialabgriffsanschlusses 7 mit dem Widerstandselement 4 in elektrischem Kontakt steht. Diese Bearbeitung des Kontaktabschnitts 9 erfolgte durch Materialabtrag parallel zum Widerstandselement 4 längs einer Materialabtragsbahn 12 mit Hilfe eines nicht dargestellten Bearbeitungslasers. Aufgrund dieses Materialabtrags, der in 2 von unten nach oben erfolgte, ist in 2 der Abstand B des Kontaktorts 11 zum zweiten Leiterbahnanschluss 6 gegenüber dem unbearbeiteten Messwiderstand 1 nach 1 vergrößert. Entsprechend ist der ohmsche Widerstand zwischen dem Potentialabgriffsanschluss 7 und der zweiten Leiterbahn 3 vergrößert, was wiederum zu einer Vergrößerung der gemessenen Ist-Spannung führt. Der Abstand C des Kontaktorts 11 zum ersten Leiterbahnanschluss 5 ist hingegen unverändert. 2 shows the measuring resistor 1 after processing the tap area 10 generated change in position of a contact location 11 over which the contact section 9 the potential tap connection 7 with the resistance element 4 is in electrical contact. This editing of the contact section 9 was carried out by material removal parallel to the resistive element 4 along a material removal path 12 with the help of a processing laser, not shown. Due to this material removal, which in 2 from bottom to top, is in 2 the distance B of the contact location 11 to the second conductor connection 6 opposite the unprocessed measuring resistor 1 to 1 increased. Accordingly, the ohmic resistance between the Potentialabgriffsanschluss 7 and the second conductor 3 increases, which in turn leads to an increase in the measured actual voltage. The distance C of the contact location 11 to the first trace connection 5 is unchanged.

3 zeigt den Fall einer Laserbearbeitung des Kontaktabschnitts 9 von oben. Es resultiert ein Abstand B, der dem Abstand B nach 1 entspricht, allerdings mit einer Übergangsbreite am Kontaktort 11 wie bei der Ausführung nach 2. Der Abstand C zwischen dem Kontaktort 11 und dem ersten Leiterbahnanschluss 5 und entsprechend der zugehörige ohmsche Widerstand hat sich durch die Bearbeitung von oben her hingegen vergrößert. Der Messwiderstand in der Bearbeitung nach 3 hat daher verglichen mit der Bearbeitung nach 2 einen geringeren ohmschen Widerstand zwischen dem Potentialabgriffsanschluss 7 und dem zweiten Leiterbahnanschluss 6 und einen größeren ohmschen Widerstand zwischen dem Potentialabgriffsanschluss 7 und dem ersten Leiterbahnanschluss 5, was zu einer entsprechend niedrigeren gemessenen Ist-Spannung führt. Widerstandstoleranzen des Widerstandselements 4 können durch die Laserbearbeitung des Kontaktabschnitts 9, also durch Anpassung der Abstände B und C, so ausgeglichen werden, dass trotz unterschiedlichem ohmschen Widerstand des Widerstandselements 4 zwischen den Leiterbahnen 2 und 3 bei vorgegebenem Stromfluss die gleiche Ist-Spannung zwischen den Leiterbahnen 8 und 3 resultiert. Die Ausdehnung A des Abgriffsbereichs 10 gibt dabei den maximal ausgleichbaren Toleranzwert vor. Die Ausdehnung A kann zum Beispiel so vorgegeben sein, dass ein Toleranzausgleich beim ohmschen Widerstand des Widerstandselements 4, also die Abweichung des Ist-Widerstandes von einem vorgegebenen Soll-Widerstand von bis zu +/– 30% durch entsprechende materialbearbeitende Einstellung des Kontaktortes 11 eingestellt werden kann. 2 zeigt in diesem Fall die Variante „Ist-Widerstand um 30% zu niedrig", sodass der gesamte Widerstand abgegriffen werden muss. 3 zeigt die Variante „Ist-Widerstand um 30% zu hoch", sodass ein minimaler Abstand B abgegriffen werden muss. 3 shows the case of a laser processing of the contact portion 9 from above. This results in a distance B, the distance B after 1 corresponds, but with a transition width at the contact point 11 as in the execution after 2 , The distance C between the contact location 11 and the first trace connection 5 and according to the associated ohmic resistance has increased by the processing from above, however. The measuring resistor in the processing after 3 has therefore compared to the processing after 2 a lower ohmic resistance between the Potentialabgriffsanschluss 7 and the second trace connection 6 and a larger ohmic resistance between the potential tap terminal 7 and the first trace connection 5 , which leads to a correspondingly lower measured actual voltage. Resistance tolerances of the resistive element 4 can by the laser processing of the contact section 9 , So by adjusting the distances B and C, are compensated so that, despite different ohmic resistance of the resistive element 4 between the tracks 2 and 3 for a given current flow, the same actual voltage between the tracks 8th and 3 results. The extent A of the tap area 10 specifies the maximum compensatable tolerance value. The extent A can be predetermined, for example, such that a tolerance compensation in the ohmic resistance of the resistive element 4 , So the deviation of the actual resistance of a predetermined target resistance of up to +/- 30% by appropriate material processing adjustment of the contact location 11 can be adjusted. 2 shows in this case the variant "actual resistance 30% too low", so that the entire resistance must be tapped. 3 shows the variant "actual resistance 30% too high" so that a minimum distance B has to be tapped.

4 zeigt eine Zwischenstellung des Kontaktorts 11 zwischen den beiden Maximalpositionen nach den 2 und 3. Der Kontaktabschnitt 9 des Messwiderstandes 1 nach 4 wurde von beiden Seiten her bearbeitet, sodass Abstände B und C resultieren, die zwischen den Abständen B und C der Ausführung nach den 2 und 3 liegen. Bei der Ausführung nach 4 entspricht der Ist-Widerstand des Widerstandselements 4 in etwa dem vorgegebenen Sollwert. 4 shows an intermediate position of the contact location 11 between the two maximum positions after the 2 and 3 , The contact section 9 of the measuring resistor 1 to 4 was machined from both sides, so that distances B and C result, which between the distances B and C of the execution after the 2 and 3 lie. In the execution after 4 corresponds to the actual resistance of the resistive element 4 in about the specified setpoint.

Je nach Ausdehnung A des Abgriffsabschnitts 10 können auch andere Widerstandstoleranzen des Widerstandselements 4 ausgeglichen werden, zum Beispiel +/– 20%, +/– 10% oder +/– 5%.Depending on the extent A of the tapping section 10 may also have other resistance tolerances of the resistive element 4 balanced, for example +/- 20%, +/- 10% or +/- 5%.

Das Abgleichen des Messwiderstands 1 nach 1 zur Messung von zwischen den Leiterbahnen 2, 3 fließenden Strömen insbesondere von mindestens 1 A in elektronischen Schaltungen läuft folgendermaßen ab: Zunächst wird der Messwiderstand 1 nach 1 bereitgestellt. Anschließend wird eine Ist-Spannung zwischen dem Potentialabgriffsanschluss 7 und dem zweiten Leiterbahnanschluss 6 als Bezugspotential bei vorgegebenem Stromfluss von z. B. 5 A zwischen den Leiterbahnanschlüssen 5 und 6 gemessen. Diese Ist-Spannung wird mit einer vorgegebenen Soll-Spannung verglichen. Falls die Abweichung zwischen der Ist-Spannung und der Soll-Spannung größer ist als ein vorgegebener Toleranzwert, wird der Kontaktabschnitt 9 im Abgriffsbereich 10 zur Lageänderung des Kontaktorts 11 derart bearbeitet, dass bei erneutem Messen der Ist-Spannung zwischen dem Potentialabgriffsanschluss 7 und dem Bezugspotential bei vorgegebenem Stromfluss die Ist-Spannung der Soll-Spannung innerhalb des Toleranzwertes entspricht.Adjusting the measuring resistor 1 to 1 for measuring between the tracks 2 . 3 flowing currents in particular of at least 1 A in electronic circuits proceeds as follows: First, the measuring resistor 1 to 1 provided. Subsequently, an actual voltage between the Potentialabgriffsanschluss 7 and the second trace connection 6 as a reference potential for a given current flow of z. B. 5 A between the conductor tracks 5 and 6 measured. This actual voltage is compared with a predetermined desired voltage. If the deviation between the actual voltage and the target voltage is greater than a predetermined tolerance value, the contact section becomes 9 in the tap area 10 to change the location of the contact 11 edited so that when re-measuring the actual voltage between the Potentialabgriffsanschluss 7 and the reference potential for a given current flow corresponds to the actual voltage of the desired voltage within the tolerance value.

5 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines durch Laser-Materialbearbeitung schon abgeglichenen Messwiderstandes 1. Komponenten, die denjenigen entsprechen, die vorstehend schon unter Bezugnahme auf 1 bis 4 beschrieben wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht noch einmal im Einzelnen diskutiert. 5 shows a further embodiment of an already calibrated by laser material processing measuring resistor 1 , Components corresponding to those already described with reference to 1 to 4 have the same reference numbers and will not be discussed again in detail.

Der Messwiderstand 1 nach 5 hat zwei zueinander beabstandete Potentialabgriffsanschlüsse 13, 14. Jeder der beiden Potentialabgriffsanschlüsse 13, 14 ist nach Art des Potentialabgriffsanschlusses 7 der Ausführung nach den 1 bis 4 aufgebaut. Durch Materialabtrag der Kontaktabschnitte 9 in deren Abgriffsbereichen 10 längs Materialabtragsbahnen 12 lassen sich die Kontaktorte 11, über die die Kontaktabschnitte 9 mit dem Widerstandselement 4 in elektrischem Kontakt stehen, in ihrer Lage gezielt einstellen. In 5 dargestellt ist ein Materialabtrag an beiden Kontaktabschnitten 9 von beiden Seiten her.The measuring resistor 1 to 5 has two spaced Potentialabgriffsanschlüsse 13 . 14 , Each of the two potential tap connections 13 . 14 is the type of potential tap connection 7 the execution after the 1 to 4 built up. By removal of material of the contact sections 9 in their tap areas 10 along material removal tracks 12 can be the contact places 11 about which the contact sections 9 with the resistance element 4 be in electrical contact, set in their position targeted. In 5 shown is a material removal at both contact sections 9 from both sides.

Die Messspannung kann bei der Ausführung nach 5 differentiell abgegriffen werden. In diesem Fall wird bei vorgegebenem Stromfluss einerseits die Spannung zwischen der Mess-Leiterbahn 8 des ersten Potentialabgriffsanschlusses 13 und der zweiten Leiterbahn 3 als Bezugspotential und andererseits die Spannung zwischen der Mess-Leiterbahn 8 des zweiten Potentialabgriffsanschlusses 14 und der zweiten Leiterbahn 3 als Bezugspotential gemessen. Prinzipiell ist es alternativ dazu auch möglich, die Spannung zwischen den Mess-Leiterbahnen 8 der beiden Potentialabgriffs anschlüsse 13, 14 zu messen. In diesem Fall dient einer der beiden Potentialabgriffsanschlüsse 13, 14 als Bezugspotential.The measuring voltage may be reduced during execution 5 be differentially tapped. In this case, for a given current flow on the one hand, the voltage between the measuring trace 8th of the first potential tap connection 13 and the second conductor 3 as a reference potential and on the other hand, the voltage between the measuring trace 8th of the second potential tap connection 14 and the second conductor 3 measured as reference potential. In principle, it is alternatively possible, the voltage between the measuring tracks 8th the two potential tap connections 13 . 14 to eat. In this case, one of the two Potentialabgriffsanschlüsse 13 . 14 as a reference potential.

Beim Abgleichen eines Messwiderstandes 1 nach 5 wird nach dem Bereitstellen des Messwiderstandes 1 zunächst eine Ist-Spannung, entweder zwischen den beiden Potentialabgriffsanschlüssen 13, 14 und einem Bezugspotential, also differentiell, oder zwischen den beiden Potentialabgriffsanschlüssen 13, 14 gemessen. Falls die Abweichung zwischen der Ist-Spannung und einer vorgegebenen Soll-Spannung größer ist als ein vorgegebener Toleranzwert, werden die Abgriffsbereiche 10 beider Potentialabgriffsanschlüsse 13, 14 zur Lageänderung der Kontaktorte 11 derart bearbeitet, dass bei erneutem Messen der Ist-Spannung zwischen den Potentialabgriffsanschlüssen 13, 14 bei vorgegebenem Stromfluss die Ist-Spannung der Soll-Spannung innerhalb des Toleranzwertes entspricht.When adjusting a measuring resistor 1 to 5 becomes after providing the measuring resistor 1 initially an actual voltage, either between the two Potentialabgriffsanschlüssen 13 . 14 and a reference potential, that is differentially, or between the two Potentialabgriffsanschlüssen 13 . 14 measured. If the deviation between the actual voltage and a predetermined target voltage is greater than a predetermined tolerance value, the tap areas become 10 both Potentialabgriffsanschlüsse 13 . 14 to change the location of the contact points 11 edited so that when re-measuring the actual voltage between the Potentialabgriffsanschlüssen 13 . 14 for a given current flow, the actual voltage corresponds to the setpoint voltage within the tolerance value.

Claims

Measuring resistor ( 1 ) for measuring between interconnects ( 2 . 3 ) flowing currents in particular of at least 1 A in electronic circuits - with a first trace connection ( 5 ) for contacting the measuring resistor ( 1 ) with a first conductor track ( 2 ), - with a second conductor connection ( 6 ) for contacting the measuring resistor ( 1 ) with a second conductor track ( 3 ), - with a resistive element ( 4 ) between the two conductor connections ( 5 . 6 ), characterized by - at least one potential tap connection ( 7 ; 13 . 14 ), which is located between the two conductor connections ( 5 . 6 ) electrically connected to the resistive element ( 4 ), wherein - a contact section ( 9 ) of the potential tap connection between a measuring strip conductor ( 8th ) of the potential tap connection ( 7 ; 13 . 14 ) and the resistance element ( 4 ) via a tap area ( 10 ) with the resistance element ( 4 ), the tapping range ( 10 ) between the two conductor connections ( 5 . 6 ) has an extent (A) in such a way that, by processing the contact portion (A), 9 ) in the tap area ( 10 ) produced change in position of a contact location ( 11 ) about which the Kon clock section ( 9 ) with the resistance element ( 4 ) is in electrical contact, a targeted adjustment of the voltage value at the potential tap connection ( 7 ; 13 . 14 ) against a reference potential ( 3 ) at a predetermined current flow between the tracks ( 2 . 3 ) given is.

Measuring resistor according to claim 1, characterized in that the extent (A) of the tap range ( 10 ) of the type is that by editing the tap area ( 10 ) a change in the voltage value at the potential tap connection ( 7 ; 13 . 14 ) is greater than +/- 5%, preferably greater than +/- 10%, more preferably greater than +/- 20%, even more preferably greater than +/- 30%.

Measuring resistor according to claim 1 or 2, characterized by two spaced-apart potential tap connections ( 13 . 14 ) between the two conductor connections ( 5 . 6 ) via contact sections ( 9 ) with extended tapping areas ( 10 ) electrically connected to the resistive element ( 4 ) stay in contact.

Measuring resistor according to one of Claims 1 to 3, characterized by a resistor element (10) printed on a substrate ( 4 ).

Method for adjusting a measuring resistor ( 1 ) for measuring between interconnects ( 2 . 3 ) flowing currents in particular of at least 1 A in electronic circuits with the following steps: - Providing a measuring resistor ( 1 ) according to any one of claims 1 to 4; Measuring an actual voltage between the potential tap connection ( 7 ; 13 . 14 ) and a reference potential ( 3 ; 14 ) at a given current flow; - Comparison of the actual voltage with a predetermined target voltage; If the deviation between the actual voltage and the setpoint voltage is greater than a predetermined tolerance value, processing of the at least one contact section ( 9 ) in the tap area ( 10 ) for changing the location of the contact ( 11 ) via which the contact section ( 9 ) with the resistance element ( 4 ) is in electrical contact such that upon re-measuring the actual voltage between the potential tap ( 7 ; 13 . 14 ) and the reference potential ( 3 ; 14 ) For a given current flow, the actual voltage corresponds to the setpoint voltage within the tolerance value.

A method according to claim 5 using a measuring resistor according to claim 3, characterized in that - an actual voltage between the two Potentialabgriffsanschlüssen ( 13 . 14 ) and a reference potential ( 3 ) or between the two potential tap connections ( 13 . 14 ), wherein - if the deviation between the actual voltage and the nominal voltage is greater than a predetermined tolerance value, the contact sections ( 9 ) in the tap areas ( 10 ) of both potential tap connections ( 13 . 14 ) for the change of location of the contact points ( 11 ) through which the contact sections ( 9 ) of both potential tap connections ( 13 . 14 ) with the resistance element ( 4 ) are in electrical contact, are machined so that when re-measuring the actual voltage between the Potentialabgriffsanschlüssen ( 13 . 14 ) For a given current flow, the actual voltage corresponds to the setpoint voltage within the tolerance value.

Method according to claim 5 or 6, characterized in that the processing of the contact sections ( 9 ) by material removal by means of laser irradiation.