DE102005046006A1 - Wafer inspection apparatus, has color filter wheel synchronized with camera for varying illumination or image pick-up procedures for the same image pick-up region - Google Patents
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Abstract
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Inspektion eines Wafers mit einer Beleuchtungseinrichtung und einer Aufnahmeeinrichtung, wobei zur Inspektion mehrere unterschiedliche Aufnahmen des Wafers bzw. eines Waferbereichs erstellt werden.The The invention relates to an apparatus and a method for inspection a wafer with a lighting device and a recording device, wherein for inspection several different shots of the wafer or a wafer area.
Eine
Vorrichtung und ein Verfahren der genannten Art ist nach
Nachteilig ist dem bekannten Stand der Technik, dass die Inspektion des Wafers in mehreren Beleuchtungsarten zeitaufwendig ist.adversely It is known in the art that the inspection of the wafer is time consuming in several types of lighting.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung und ein Verfahren der eingangs beschriebenen Art so weiterzubilden, dass der Inspektionsprozess beschleunigt erfolgt.Of the Invention is therefore based on the object, a device and to develop a method of the type described above in such a way that the inspection process is accelerated.
Diese Aufgabe wird durch die in Anspruch 1 bestimmte Vorrichtung ebenso wie durch das in Anspruch 11 bestimmte Verfahren gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den weiteren Unteransprüchen angegeben.These The object is achieved by the device defined in claim 1 as well as solved by the method defined in claim 11. Advantageous embodiments The invention are specified in the further subclaims.
Erfindungsgemäß ist die Aufgabe bei einer Vorrichtung zur Inspektion eines Wafers, umfassend eine Beleuchtungseinrichtung zur Beleuchtung eines Aufnahmebereichs der Oberfläche des Wafers in mindestens einem bestimmten Beleuchtungsverfahren und eine Aufnahmeeinrichtung mit einer Kamera zur Aufnahme des beleuchteten Aufnahmebereichs in mindestens einem bestimmten Aufnahmeverfahren und eine Transporteinrichtung zur Relativbewegung von Aufnahmebereich und Wafer, dadurch gelöst, dass mindestens eine der Einrichtungen ein Wechselmittel aufweist, welches mit der Kamera synchronisiert ist, zum synchronisierten Wechsel des Beleuchtungs- und/oder des Aufnahmeverfahrens für unterschiedliche Aufnahmen desselben Aufnahmebereichs.According to the invention Task in a device for inspecting a wafer, comprising a Lighting device for illuminating a receiving area of surface of the wafer in at least one particular lighting process and a recording device with a camera for receiving the illuminated Recording area in at least one specific recording procedure and a transport device for relative movement of receiving area and wafers, solved by at least one of the devices has a means of change, which is synchronized with the camera to sync Change of lighting and / or recording process for different Recordings of the same recording area.
Üblicherweise erfolgt die Aufnahme einer Waferoberfläche in Teilaufnahmen, sogenannten Stepper Area Windows, die meanderförmig aneinandergesetzt nacheinander von der Waferoberfläche gemacht werden. Dabei bewirkt die Transporteinrichtung den jeweiligen Versatz von einem zum anderen Aufnahmebereich. So wird etwa der Wafer meanderförmig unter der Beleuchtungs- und Aufnahmeeinrichtung hindurchgeführt. Die vorliegende Erfindung erlaubt es nun, unterschiedliche Aufnahmen des Wafers bei nur einem Transportdurchgang aufzunehmen. Damit ist die vorgeschlagene Vorrichtung schneller als bekannte Vorrichtungen.Usually the inclusion of a wafer surface is done in partial recordings, so-called stepper Area Windows, the meandering put together one after the other from the wafer surface become. The transport device causes the respective offset from one to another recording area. For example, the wafer is covered in meandering form passed the lighting and recording device. The present invention now allows different shots of the wafer in just one transport pass. This is the proposed device faster than known devices.
Vorzugsweise ist vorgesehen, dass das Wechselmittel ein Farbfilter ist. Auf diese Weise wird erreicht, dass mit lediglich einer Schwarz-Weiß-Kamera Farbaufnahmen des Wafers gewonnen werden. Eine Schwarz-Weiß-Kamera ist preiswerter als eine Farbkamera, die Erfindung spart Investitionskosten.Preferably it is provided that the change agent is a color filter. To this Way is achieved with just a black and white camera Color photographs of the wafer are obtained. A black and white camera is cheaper than a color camera, the invention saves investment costs.
Zweckmäßigerweise ist vorgesehen, dass der Farbfilter ein rotierendes Farbfilterrad mit den Filterfarben Rot, Grün und Blau ist, zur abwechselnden Transmission von rotem, grünem und blauem Licht. Durch die vorgeschlagene Anordnung erreichen die Kamera getrennt eine rote, ein grüne und blaue Farbdarstellung von der Waferoberfläche. Durch eine nachfolgende Überlagerung der Darstellungen durch eine Bildverarbeitung realisiert sich eine schnelle und einfache Lösung für eine Farbaufnahme.Conveniently, it is provided that the color filter is a rotating Farbfilterrad with the filter colors red, green and blue is, for the alternating transmission of red, green and blue light. By the proposed arrangement reach the camera separated one red, one green and blue color representation of the wafer surface. By a subsequent overlay the representations by an image processing realizes a fast and easy solution for one Color photograph.
Günstigerweise ist vorgesehen, dass der Farbfilter vor der Kamera angeordnet ist. Denkbar ist auch eine Anordnung zwischen Beleuchtungseinrichtung und Waferoberfläche.conveniently, it is provided that the color filter is arranged in front of the camera. An arrangement between lighting device is also conceivable and wafer surface.
Mit Vorteil ist vorgesehen, dass die Beleuchtungseinrichtung eine Einrichtung zur Hellfeldbeleuchtung und eine Einrichtung zur Dunkelfeldbeleuchtung umfasst und dass das Wechselmittel ein Umschalter zwischen der Hellfeldbeleuchtung und der Dunkelfeldbeleuchtung ist.With Advantage is provided that the illumination device means for bright field illumination and a device for dark field illumination includes and that the change means a switch between the bright field illumination and the dark field illumination is.
Es wird so ein Hellfeld- und ein Dunkelfeldbild der Waferoberfläche erzeugt, ohne dass der Wafer zweimal transportiert werden muss. Der Umschalter zwischen der Hellfeld- und Dunkelfeldbeleuchtung kann alternativ oder zusätzlich als Wechselmittel zum Farbfilter eingesetzt sein. Der Farbfilter ergänzt dabei vor allem die Hellfeldbeleuchtung, bei der ein Farbbild von der Oberfläche vorgesehen ist. Für die Dunkelfeldbeleuchtung kann vorgesehen sein, dass das rotierende Farbfilterrad einen zusätzlichen vierten filterlos transmittierenden Bereich aufweist. Auch kann vorgesehen sein, dass für die Dunkelfeldbeleuchtung ein farblich gefilterter Bereich des Farbfilters zur Anwendung kommt, was zur Erhöhung der Aufnahmeauflösung beitragen kann.It Thus, a bright field and a dark field image of the wafer surface is generated, without the wafer having to be transported twice. The switch between the brightfield and darkfield lighting can alternatively or additionally be used as a means of change to the color filter. The color filter added especially the bright field illumination, in which a color image of the surface is provided. For the dark field illumination can be provided that the rotating Color filter wheel an additional fourth non-transmissive region has. Also can be provided for that the dark field illumination a color filtered area of the color filter is used, what to increase the recording Resolution can contribute.
Idealerweise ist vorgesehen, dass die Kamera eine monochrome Flächenkamera mit einer Aufnahmewiederholfrequenz von größer gleich 100 Aufnahmen pro Sekunde, insbesondere größer gleich 1.000 Aufnahmen pro Sekunde, insbesondere größer gleich 10.000 Aufnahmen pro Sekunde ist.Ideally It is intended that the camera be a monochrome area camera with a recording repetition rate of greater than or equal to 100 shots per Second, in particular greater than or equal to 1,000 Recordings per second, in particular greater than or equal to 10,000 recordings per second.
Die Verwendung einer solchen, sogenannten Hochgeschwindigkeitskamera hat den Vorteil, dass aufgrund der hohen Aufnahmewiederholfrequenz während des Zeitraums, in dem Beleuchtungs- und Aufnahmeeinrichtung auf einen Aufnahmebereich gerichtet sind, eine Vielzahl von Aufnahmen vom Aufnahmebereich erfolgen. Diese Aufnahmen können beispielsweise nach den Farben Rot, Grün und Blau gefilterte Aufnahmen oder/und Hellfeld- und Dunkelfeldaufnahmen sein. Eine Hochgeschwindigkeitskamera ist aus Kostengründen und aus technologischen Gründen im allgemeinen eine Schwarz-Weiß-Kamera. Insofern korrespondiert die Verwendung von wechselnden Farbfiltern mit der Schwarz-Weiß-Kamera. Beispielsweise wird günstigerweise die Filterfarbe zwischen jeder Aufnahme der Kamera vom selben Aufnahmebereich wechseln.The Use of such a so-called high-speed camera has the advantage that due to the high recording repetition rate during the Period, in the lighting and recording device to a Shooting range, a variety of shots from the Recording area done. These shots, for example, after the Colors red, green and blue filtered footage and / or brightfield and darkfield footage be. A high speed camera is for cost reasons and for technological reasons generally a black and white camera. In this respect, the use of changing color filters corresponds with the black and white camera. For example, it will be convenient the filter color between each shot of the camera from the same shot area switch.
Zweckmäßigerweise ist vorgesehen, dass die Transporteinrichtung den Aufnahmebereich gegenüber dem Wafer kontinuierlich bewegt.Conveniently, it is provided that the transport device the receiving area across from the wafer moves continuously.
Auch die hohe Aufnahmewiederholfrequenz der Hochgeschwindigkeitskamera und eine kurze Belichtungszeit erlaubt die kontinuierliche Bewegung zwischen Aufnahmebereich und Wafer, ohne dass eine Bewegungsunschärfe auftritt. Durch die kontinuierliche Bewegung des Aufnahmebereichs gegenüber dem Wafer oder umgekehrt, wird die üblicherweise sprunghafte Bewegung von Aufnahmebereich zu Aufnahmebereich vermieden. Somit werden Erschütterungen in der Vorrichtung vermieden, die die Qualität der Aufnahme und die Justierung der Vorrichtung beeinträchtigen. Daneben erlaubt der kontinuierliche Transport einen schnelleren Durchsatz.Also the high recording repetition frequency of the high-speed camera and a short exposure time allows continuous movement between Recording area and wafer, without any motion blur occurs. Due to the continuous movement of the recording area in relation to the Wafer or vice versa, which is usually sudden movement from receiving area to receiving area avoided. Thus, shocks in the device avoided the quality of the recording and the adjustment affect the device. In addition, the continuous transport allows a faster Throughput.
Nach einer Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass das Wechselmittel und die das Wechselmittel aufweisende Einrichtung einen gemeinsamen Träger aufweisen, insbesondere ein gemeinsames Gehäuse aufweisen.To A development of the invention is provided that the change means and the device having the means of exchange a common carrier have, in particular have a common housing.
Nach einer bevorzugten Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass das Wechselmittel und die das Wechselmittel aufweisende Einrichtung als ein Modul ausgebildet sind.To A preferred embodiment of the invention is provided that the change means and the device having the means of change as a module are formed.
Durch die feste Anordnung an einem gemeinsamen Träger oder in einem gemeinsamen Gehäuse ist die Anordnung von Wechselmittel und Einrichtung stabiler und weniger anfällig für Dejustierung. Die Ausführung als Modul hat den Vorteil, dass die Einrichtung leicht in die übergeordnete Anlage eingeführt oder entnommen werden kann.By the fixed arrangement on a common carrier or in a common casing the arrangement of changing means and device is more stable and less vulnerable for misalignment. Execution As a module has the advantage that the facility easily into the parent Plant introduced or can be removed.
Entsprechend einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass die Vorrichtung in einer Waferinspektionsanlage angeordnet ist.Corresponding an embodiment is provided that the device in a wafer inspection system is arranged.
Erfindungsgemäß ist des weiteren die ursprünglich genannte Aufgabe bei einem Verfahren mit den folgenden Verfahrensschritten gelöst:
- – Beleuchten eines Aufnahmebereichs der Oberfläche des Wafers in mindestens einem bestimmten Belichtungsverfahren,
- – Aufnehmen des beleuchteten Aufnahmebereichs in mindestens einem bestimmten Aufnahmeverfahren,
- – mindestens einmal Wechseln des Beleuchtungs- und/oder des Aufnahmeverfahrens und
- – erneutes Beleuchten und Aufnehmen desselben Aufnahmebereichs mit dem gewechselten Verfahren,
- – Verschieben des Aufnahmebereichs relativ zum Wafer,
- – Beleuchten und Aufnehmen eines weiteren Aufnahmebereichs des Wafers.
- Illuminating a receiving area of the surface of the wafer in at least one specific exposure method,
- Recording the illuminated recording area in at least one specific recording method,
- - at least once changing the lighting and / or the recording process and
- - re-lighting and recording the same recording area with the changed procedure,
- Shifting the receiving area relative to the wafer,
- - Illuminate and record another area of the wafer.
Das erfindungsgemäße Verfahren samt seinen verschiedenen Ausführungsformen verwirklicht die oben genannten Vorteile.The inventive method including its various embodiments realizes the advantages mentioned above.
Im folgenden wird die Erfindung anhand einer schematischen Darstellung zu einem Ausführungsbeispiel näher erläutert. Es zeigt:in the The following is the invention with reference to a schematic representation to an embodiment explained in more detail. It shows:
Ein
Wafer
Die Erfindung beschränkt sich nicht nur auf das gezeigte Ausführungsbeispiel. Die Vorteile sind nur beispielhaft genannt.The Restricted invention not only to the embodiment shown. The advantages are just examples.
- 1010
- Waferwafer
- 1111
- Waferoberflächewafer surface
- 1212
- Aufnahmebereichreception area
- 2020
- Transporteinrichtungtransport means
- 2121
- Bewegungsrichtungendirections of movement
- 3030
- Beleuchtungseinrichtunglighting device
- 3131
- DunkelfeldlichtquelleDarkfield light source
- 3232
- Lichtstrahl der Dunkelfeldlichtquellebeam of light the dark field light source
- 3333
- HellfeldlichtquelleBright field light source
- 3434
- Lichtstrahl der Hellfeldlichtquellebeam of light the bright field light source
- 3535
- Teilerspiegelsplitter mirror
- 3636
- Umschalteinheitswitching
- 3737
- Verbindung zur Dunkellichtquelleconnection to the dark light source
- 3838
- Verbindung zur Hellfeldlichtquelleconnection to the bright field light source
- 4040
- BildaufnahmeeinrichtungImage recording device
- 4141
- Hochgeschwindigkeits-Schwarz-Weiß-KameraHigh-speed black and white camera
- 4242
- Aufnahmerichtung der Kamerashooting direction the camera
- 4343
- FarbteilerradFarbteilerrad
- 4444
- Antrieb des Farbteilerradsdrive of the color divider wheel
- 5050
- Steuer- und AuswerteeinrichtungTax- and evaluation
- 5151
- Verbindung zur SW-Kameraconnection to the SW camera
- 5252
- Verbindung Umschalteinheitconnection switching
- 5353
- Verbindung zum Antrieb des Farbfilterradsconnection for driving the color filter wheel
- 7070
- WaferinspektionsanlageWafer inspection system
- 7171
- Modulmodule
- 7272
- Trägercarrier
Claims (16)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE200510046006 DE102005046006A1 (en) | 2005-09-26 | 2005-09-26 | Wafer inspection apparatus, has color filter wheel synchronized with camera for varying illumination or image pick-up procedures for the same image pick-up region |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE200510046006 DE102005046006A1 (en) | 2005-09-26 | 2005-09-26 | Wafer inspection apparatus, has color filter wheel synchronized with camera for varying illumination or image pick-up procedures for the same image pick-up region |
Publications (1)
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---|---|
DE102005046006A1 true DE102005046006A1 (en) | 2007-04-12 |
Family
ID=37886790
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---|---|---|---|
DE200510046006 Withdrawn DE102005046006A1 (en) | 2005-09-26 | 2005-09-26 | Wafer inspection apparatus, has color filter wheel synchronized with camera for varying illumination or image pick-up procedures for the same image pick-up region |
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Country | Link |
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DE (1) | DE102005046006A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP3564654A1 (en) * | 2011-07-27 | 2019-11-06 | BYK-Gardner GmbH | Method and device for inspecting coatings with effect pigments |
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2005
- 2005-09-26 DE DE200510046006 patent/DE102005046006A1/en not_active Withdrawn
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