DE102005039182A1 - Low insertion force connector part, method of making same and substrate for same - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung stellt Niedrigeinführkraft-Steckverbinderteile bereit. Eine selbstassemblierte Monoschicht ist auf der Oberfläche von den Steckverbinderteilen abgeschieden. Die beschichteten Steckverbinderteile erfordern keinen speziellen Hebel zum Einstellen des Kontaktdrucks. Die Steckverbinderteile sind leicht ohne Kostenerhöhung herzustellen und von geringer Größe. Sie erhöhen nicht den Kontaktwiderstand, und sie sind mit geringer Einführkraft leicht miteinander zu verbinden, so dass sie als Steckverbinder von Fahrzeugen angewandt werden.The invention provides low insertion force connector parts. A self-assembled monolayer is deposited on the surface of the connector parts. The coated connector parts do not require a special lever for adjusting the contact pressure. The connector parts are easy to produce without cost increase and of small size. They do not increase the contact resistance, and they are easy to connect with low insertion force, so that they are used as connectors of vehicles.

Description

Die Erfindung betrifft ein Niedrigeinführkraft-Steckverbinderteil, ein Verfahren zum Herstellen desselben und ein Substrat für dasselbe.The The invention relates to a low insertion force connector part, a method for Making it and a substrate for the same.

Höchstleistungen von elektrischen Geräten und die Diversifikation von Fahrzeuggeräten verlangen mehr Steckverbinderteile.excellence of electrical appliances and the diversification of vehicle equipment requires more connector parts.

Dies verursacht eine große Kraft, um die Steckverbinder zu verbinden. Es ist dann erforderlich, die Kraft, um sie zu verbinden, zu reduzieren.This causes a big one Force to connect the connectors. It is then necessary to reduce the power to join them.

JP-2002-110276-A, JP-2001-257022-A und JP-H05-121128-A offenbaren eine Kraftreduktion von Steckverbinderteil-Federn, um die Kontaktkraft zu reduzieren. Dies jedoch verursacht einen Anstieg des Kontaktwiderstands.JP-2002-110276-A, JP-2001-257022-A and JP-H05-121128-A disclose a force reduction of connector part springs to reduce the contact force. However, this causes an increase in contact resistance.

JP-2002-280112-A und JP-2001-237026-A offenbaren einen Steckverbinder, welcher mit einem Hebel zusammengedrückt wird, nachdem die Steckverbinder mit niedriger Zusammendrückkraft miteinander verbunden worden sind. Dies führt jedoch zu einem Anstieg der Kosten.JP-2002-280112-A and JP-2001-237026-A disclose a connector, which with compressed a lever is after the connectors with low compression force have been joined together. However, this leads to an increase the cost.

Um die Gleitreibung zu reduzieren, wird auf die Gleitfläche von einem Steckverbinderteil ein Schmiermittel, wie z.B. Öl, angewandt oder ein Mehrschichtüberzug geformt. Diese Verfahren ergeben jedoch keine ausreichenden Effekte, aber führen zu einem Anstieg der Kosten.Around to reduce the sliding friction is applied to the sliding surface of a connector part, a lubricant, e.g. Oil, applied or a multi-layer coating shaped. However, these methods do not give sufficient effects but lead an increase in costs.

JP-2002-088496-A und JP-H11-317253-A offenbaren eine Anwendung eines MoS2 Schmierfilms auf der Gleitfläche von einem Steckverbinderteil. Dies jedoch verursacht einen Anstieg des Kontaktwiderstandes.JP-2002-088496-A and JP-H11-317253-A disclose application of a MoS 2 lubricating film on the sliding surface of a connector part. However, this causes an increase in contact resistance.

Ein Ziel der Erfindung ist das Bereitstellen eines Niedrigeinführkraft-Steckverbinderteils. Das Steckverbinderteil ist leicht herzustellen und mittels einer signifikant niedrigen Kraft ohne Verwendung eines Einstellhebels mit einem anderen Steckverbinderteil zu verbinden. Das Steckverbinderteil verursacht keinen Anstieg des Kontaktwiderstands.One The aim of the invention is to provide a low insertion force connector part. The connector part is easy to manufacture and by means of a significant low force without using one adjustment lever with another Connector part to connect. The connector part causes no increase in contact resistance.

Gemäß Anspruch 1 der Erfindung weist ein Niedrigeinführkraft-Steckverbinderteil eine selbstassemblierte Monoschicht (SAM) auf der Gleitfläche davon auf.According to claim 1 of the invention has a low insertion force connector part a self-assembled monolayer (SAM) on the sliding surface thereof on.

Gemäß Anspruch 4 der Erfindung weist ein Verfahren zum Herstellen eines Niedrigeinführkraft-Steckverbinderteils einen Schritt des Formens einer selbstassemblierten Monoschicht auf der Gleitfläche davon auf.According to claim FIG. 4 of the invention includes a method of manufacturing a low insertion force connector part a step of forming a self-assembled monolayer on the sliding surface of it.

Gemäß Anspruch 7 der Erfindung weist ein Substrat für ein Niedrigeinführkraft-Steckverbinderteil eine selbstassemblierte Monoschicht auf der Gleitfläche davon auf.According to claim 7 of the invention includes a substrate for a low insertion force connector part a self-assembled monolayer on the sliding surface thereof on.

1 zeigt ein XPS (Röntgen-Photoelektronen-Spektroskopie) Spektrum eines nicht beschichteten Substrats, 1 shows an XPS (X-ray photoelectron spectroscopy) spectrum of an uncoated substrate,

2A zeigt ein vergrößertes Spektrum von dem Kohlenstoff C1s Peak, 2A shows an enlarged spectrum of the carbon C1s peak,

2B zeigt ein vergrößertes Spektrum des Sauerstoff O1s Peaks, 2 B shows an enlarged spectrum of oxygen O1s peaks,

2C zeigt ein vergrößertes Spektrum des Zinn Sn3d Peaks, 2C shows an enlarged spectrum of the tin Sn3d peak,

2D zeigt ein vergrößertes Spektrum des Kupfer Cu2p Peaks, 2D shows an enlarged spectrum of the copper Cu2p peak,

2E zeigt ein vergrößertes Spektrum des Schwefel S2t Peaks, 2E shows an enlarged spectrum of the sulfur S2t peak,

3 zeigt ein XPS Spektrum von einem beschichteten Substrat aus Beispiel 1, 3 shows an XPS spectrum of a coated substrate of Example 1,

4A zeigt ein vergrößertes Spektrum des Kohlenstoff C1s Peaks, 4A shows an enlarged spectrum of carbon C1s peaks,

4B zeigt ein vergrößertes Spektrum des Sauerstoff O1s Peaks, 4B shows an enlarged spectrum of oxygen O1s peaks,

4C zeigt ein vergrößertes Spektrum des Zinn Sn3d Peaks, 4C shows an enlarged spectrum of the tin Sn3d peak,

4D zeigt ein vergrößertes Spektrum des Schwefel S2p Peaks, 4D shows an enlarged spectrum of the sulfur S2p peak,

5 zeigt die Änderung des Kontaktwiderstandes über der Kontaktkraft für das beschichtete Substrat A und das nicht beschichtete Substrat aus Beispiel 1, 5 shows the change of the contact resistance over the contact force for the coated substrate A and the uncoated substrate of Example 1,

6 stellt ein Verfahren zum Messen des Reibungswiderstandes dar, 6 illustrates a method of measuring frictional resistance

7A zeigt den Reibungskoeffizienten über der Verschiebung für das nicht beschichtete Substrat aus Beispiel 1, wobei die Messung zweimal durchgeführt wurde, 7A shows the coefficient of friction versus displacement for the uncoated substrate of Example 1, measuring twice,

7B zeigt den Reibungskoeffizienten über der Verschiebung für das beschichtete Substrat aus Beispiel 1, wobei die Messung zweimal durchgeführt wurde, 7B shows the coefficient of friction over the displacement for the coated substrate of Example 1, wherein the measurement is carried out twice was led,

8 zeigt ein Auger-Elektronen-Spektroskopie (AES) Spektrum für ein beschichtetes Substrat aus Beispiel 2, 8th shows an Auger electron spectroscopy (AES) spectrum for a coated substrate of Example 2,

9 zeigt eine Änderung der Last über der Gleitdistanz, wenn konventionelle Steckverbinder miteinander verbunden werden, 9 shows a change in load over the sliding distance when conventional connectors are connected together,

10 zeigt, dass das Steckteil von einem Stecker in die Feder von einer Buchse eingeführt wird, wenn die konventionellen Steckverbinder miteinander verbunden werden, 10 shows that the plug-in part is inserted from a plug into the spring of a socket when the conventional plug-in connectors are connected together,

11 zeigt die Laständerung, wenn die Steckverbinder in Beispiel 2 miteinander verbunden werden, 11 shows the load change when the connectors in Example 2 are connected together,

12A zeigt ein XPS Spektrum von einem beschichteten Substrat aus Beispiel 3, 12A shows an XPS spectrum of a coated substrate of Example 3,

12B zeigt ein vergrößertes Spektrum von dem Kohlenstoff C1s Peak, 12B shows an enlarged spectrum of the carbon C1s peak,

12C zeigt ein vergrößertes Spektrum von dem Schwefel S2p Peak, 12C shows an enlarged spectrum of the sulfur S2p peak,

13A zeigt ein XPS Spektrum von einem nicht beschichteten Substrat aus Beispiel 3, 13A shows an XPS spectrum of an uncoated substrate of Example 3,

13B zeigt ein vergrößertes Spektrum des Kohlenstoff C1s Peaks, 13B shows an enlarged spectrum of carbon C1s peaks,

13C zeigt ein vergrößertes Spektrum von dem Schwefel S2c Peak, und 13C shows an enlarged spectrum of the sulfur S2c peak, and

14 zeigt den Kontaktwiderstand über der Kontaktkraft für das beschichtete Substrat und das nicht beschichtete Substrat. 14 shows the contact resistance over the contact force for the coated substrate and uncoated substrate.

Eine selbstassemblierte Monoschicht gemäß der Erfindung ist mittels einer chemischen Bindung von organischen Molekülen mit Metallen der Steckverbinderteil-Oberfläche auf der Steckverbinderteil-Oberfläche geformt. Die organischen Moleküle bilden eine Monoschicht, welche aus über van der Waals Kräfte ausgerichteten bzw. orientierten Molekülen besteht. Die selbstassemblierte bzw. selbstorganisierte Monoschicht ist dicht und fest und gibt einen niedrigen Reibungswiderstand und einen hohen Flächenschutz.A self-assembled monolayer according to the invention is by means of a chemical bonding of organic molecules with metals of the connector part surface on the connector part surface shaped. The organic molecules form a monolayer, which is over van der Waals forces aligned or oriented molecules. The self-assembled or self-assembled monolayer is dense and firm and gives a low frictional resistance and a high surface protection.

Die selbstassemblierte Monoschicht ist zumindest auf der Gleitfläche von dem Steckverbinderteil-Metall, wie z. B. Kupfer, einschließlich Kupferlegierungen, Gold, Silber, Zinn oder einem Überzug davon, geformt.The self-assembled monolayer is at least on the sliding surface of the connector part metal, such. Copper, including copper alloys, Gold, silver, tin or a coating of it, shaped.

Ein Substrat aus Kupfer oder einer Kupferlegierung, welches billig und hoch leitend ist, wird verwendet, und eine Zinnschicht wird mittels Plattieren auf der Oberfläche von dem Substrat geformt. Der Oxidfilm der Zinnschicht ist dünn und leicht abzulösen, so dass leicht eine frische metallene Oberfläche erhalten wird.One Substrate made of copper or a copper alloy, which is cheap and is highly conductive, is used, and a tin layer is by means of Plating on the surface formed by the substrate. The oxide film of the tin layer is thin and light replace, so that a fresh metal surface is easily obtained.

Wenn die Gleitfläche von dem Steckverbinderteil-Metall verschmutzt, oxidiert oder sulfuriert ist, ist die Ausbildung der selbstassemblierten Monoschicht sehr beeinträchtigt, so dass ein Reinigen notwendig ist, um das Metalloxid und das Metallsulfid zu entfernen. Zum Reinigen werden saure Lösungen, wie z. B. Schwefelsäure, Salzsäure und Salpetersäure, verwendet.If the sliding surface contaminated by the connector part metal, oxidized or sulfurized is, the training of the self-assembled monolayer is very impaired so cleaning is necessary to the metal oxide and the metal sulfide to remove. For cleaning, acidic solutions such. As sulfuric acid, hydrochloric acid and Nitric acid, used.

Der Film des Zinnoxids ist stärker (dichter) als der des Kupferoxids, so dass es erstrebenswert ist, zum Reinigen der Fläche, welche Zinn aufweist, Salpetersäure zu verwenden.Of the Tin oxide film is stronger (denser) than that of copper oxide, so it is desirable for cleaning the surface, which contains tin, nitric acid to use.

Andere Säuren als Salpetersäure können Oxide kaum entfernen. Sie erzeugen nach der Entfernung der Oxide Nebenprodukte und verursachen einen Anstieg der Oberflächenrauhigkeit. Die Nebenprodukte verhindern die Ausbildung der selbstassemblierten Monoschicht, so dass die Reibungsreduktion verhindert wird.Other acids as nitric acid can be oxides barely remove. They produce by-products after removal of the oxides and cause an increase in surface roughness. The by-products prevent the formation of self-assembled monolayer, so that the friction reduction is prevented.

Zum Reinigen der Zinnfläche ist es erstrebenswert eine Salpetersäurekonzentration von 13Ma% bis 17Ma% bei einer Reinigungszeit von 8 bis 13 Sekunden zu verwenden. Es ist erstrebenswert die Lösung während dem Reinigen der Zinnfläche zu rühren. Unter dieser Bedingung wird der beste Zustand der Zinnfläche zum Formen der selbstassemblierten Monoschicht bereitgestellt.To the Cleaning the tin surface it is desirable to have a nitric acid concentration of 13Ma% to use up to 17Ma% with a cleaning time of 8 to 13 seconds. It is worth the solution while cleaning the tin surface to stir. Under this condition, the best state of the tin surface becomes Forms of self-assembled monolayer provided.

Ferner kann zumindest ein Reinigungsverfahren mit einem Lösemittel, Wasser oder einer alkalischen Flüssigkeit vor und nach dem Säurereinigungsprozess mit diesem kombiniert werden.Further at least one cleaning method with a solvent, Water or an alkaline liquid before and after the acid purification process be combined with this.

Wenn die Gleitfläche mit Gold, Platin oder Palladium geformt ist, welche kaum Oxide oder Sulfide auf der Oberfläche davon formen, ist es möglich das Reinigen auszulassen. Jedoch, wenn Rost bzw. Moderflecken, wie z. B. organische Substanzen, an der Metalloberfläche anhaften, ist es erstrebenswert die Fläche vor dem Herstellen der selbstassemblierten Monoschicht zu reinigen, um nachteilige Effekte auf die Eigenschaften von der Monoschicht, wie z. B. die Ausrichtung, zu vermeiden.If the sliding surface is formed with gold, platinum or palladium, which hardly oxides or Sulfides on the surface mold it, it is possible that To skip cleaning. However, if rust or mold stains, such. As organic substances adhere to the metal surface, it is desirable to area to clean before making the self-assembled monolayer, to adversely affect the properties of the monolayer, such as As the orientation to avoid.

Organische Moleküle zum Formen bzw. Ausbilden der selbstassemblierten Monoschicht auf der Metalloberfläche weisen Adsorptionsfunktionsgruppen auf. Spezifische Absorptionsfunktionsgruppen sind organische Thiolsubstanzen (R1SH) mit einem Thiolradikal, Disulfidverbindungen (R1SSR2) mit einem Disulfidradikal und Sulfidverbindungen (R1SR2) mit einem Sulfidradikal. Hier sind R1 und R2 geradkettige Kohlenwasserstoffgruppen, wie z. B. -(CH2)nCH3, fluorsubstituierte Kohlenwasserstoffgruppen, wie z. B. -(CH2)nCF3, –(CH2)nCF3-(CH2)n(CH2)mCF3, wobei Fluor zumindest einen Wasserstoff bzw. ein Wasserstoffatom in der Kohlenwasserstoffgruppe substituiert, carboxylsubstituierte Kohlenwasserstoffgruppen, wie z. B. -(CH2)nCOOH, wobei die Carboxylgruppe zumindest einen Wasserstoff in der Kohlenwasserstoffgruppe substituiert, aminosubstituierte Kohlenwasserstoffgruppen, wie z. B. -(CH2)nNH2, wobei die Aminogruppe zumindest einen Wasserstoff in der Kohlenwasserstoffgruppe substituiert, oder hydroxysubstituierte Kohlenwasserstoffgruppen, wie z. B. -(CH2)nCH2OH, wobei die Hydroxygruppe zumindest einen Wasserstoff in der Kohlenwasserstoffgruppe substituiert. Hier sind n und m natürliche Zahlen gleich oder größer als 3.Organic molecules for forming the self-assembled monolayer on the metal surface have adsorption functional groups. Specific absorption functional groups are organic thiol substances (R 1 SH) with a thiol radical, disulfide compounds (R 1 SSR 2 ) with ei a disulfide radical and sulfide compounds (R 1 SR 2 ) with a sulfide radical. Here R 1 and R 2 are straight-chain hydrocarbon groups, such as. B. - (CH 2 ) n CH 3 , fluorine-substituted hydrocarbon groups, such as. B. - (CH 2 ) n CF 3 , - (CH 2 ) n CF 3 - (CH 2 ) n (CH 2 ) m CF 3 , wherein fluorine substitutes at least one hydrogen or a hydrogen atom in the hydrocarbon group, carboxyl-substituted hydrocarbon groups, such as B. - (CH 2 ) n COOH, wherein the carboxyl group substituted at least one hydrogen in the hydrocarbon group, amino-substituted hydrocarbon groups, such as. B. - (CH 2 ) n NH 2 , wherein the amino group substituted at least one hydrogen in the hydrocarbon group, or hydroxy-substituted hydrocarbon groups, such as. B. - (CH 2 ) n CH 2 OH, wherein the hydroxy group substitutes at least one hydrogen in the hydrocarbon group. Here, n and m are natural numbers equal to or greater than 3.

Das R in den organischen Thiolsubstanzen (R1SH) ist eine Alkylgruppe aus -(CH2)nCH3, eine fluorierte Alkylgruppe aus -(CH2)nCF3, eine aliphatische Karbonsäuregruppe aus -(CH2)nCOOH oder eine aliphatische Alkoholgruppe aus -(CH2)nCH2OH, wobei n eine natürliche Zahl gleich oder größer als 3 ist.The R in the organic thiol substances (R 1 SH) is an alkyl group of - (CH 2 ) n CH 3 , a fluorinated alkyl group of - (CH 2 ) n CF 3 , an aliphatic carboxylic acid group of - (CH 2 ) n COOH or a Aliphatic alcohol group of - (CH 2 ) n CH 2 OH, where n is a natural number equal to or greater than 3.

Solch eine organische Thiolsubstanz wird in einem alkoholischen Lösungsmittel, wie z. B. Ethanol, Methanol oder Isopropylalkohol gelöst, um eine Thiol-Alkohol-Lösung zu erhalten. Der Gleitabschnitt von dem Steckverbinderteil wird eingetaucht in oder verwendet mit der Lösung, um die selbstassemblierte Monoschicht auf der Oberfläche von dem Steckverbinderteil zu formen.Such an organic thiol substance is dissolved in an alcoholic solvent, such as For example, ethanol, methanol or isopropyl alcohol dissolved to a thiol-alcohol solution receive. The sliding portion of the connector part is immersed in or used with the solution, around the self-assembled monolayer on the surface of to form the connector part.

Neben dem Eintauchverfahren kann die selbstassemblierte bzw. selbstassemblierende Monoschicht mittels Dampfabscheidung mittels in Kontaktbringen des Gleitabschnitts von dem Steckverbinderteil mit dem Dampf von organischer Thiolsubstanz geformt werden.Next The immersion process can be self-assembled or self-assembling Monolayer by means of vapor deposition by means of contacting the Sliding portion of the connector part with the vapor of organic Thiol substance are formed.

Beispiel 1: SubstratExample 1: Substrate

<Bildung von selbstassemblierter Monoschicht><Formation of self-assembled monolayer>

Es wurde ein zinnplattiertes Kupferlegierungssubstrat (Produktname NB109: Dowa Mining Co., Ltd.), welches allgemein für Steckverbinderteile verwendet wird, mit einer Dicke von 0,2 mm verwendet.It a tin-plated copper alloy substrate (product name NB109: Dowa Mining Co., Ltd.) commonly used for connector parts is used, with a thickness of 0.2 mm.

Als eine Vorbehandlung wurde das Substrat für 10 Sekunden in eine 15Ma% Salpetersäurelösung eingetaucht, um eine frische Oberfläche von dem Zinnmetall mittels Entfernen der Oxidschicht von der Substratoberfläche zu erhalten.When a pretreatment was the substrate for 10 seconds in a 15Ma% Dipped nitric acid solution, for a fresh surface from the tin metal by removing the oxide layer from the substrate surface.

Ein Oktadekanthiol (erhältlich bei Aldrich Corporation) wurde in Ethanol von 99,5Ma% gelöst, um eine Lösung von 1mM bereitzustellen. Das vorbehandelte Kupferlegierungssubstrat wurde für 48 Stunden in die Lösung eingetaucht und mittels Ultraschallreinigung in Ethanol gereinigt.One Octadecanethiol (available Aldrich Corporation) was dissolved in 99.5% ethanol to give a solution of 1mM. The pretreated copper alloy substrate was for 48 hours in the solution immersed and cleaned by means of ultrasonic cleaning in ethanol.

<Nachweis von selbstassemblierter Monoschicht><Detection of self-assembled monolayer>

Eine Betrachtung von dem beschichteten Substrat A mittels XPS (Röntgen-Photoelektronen-Spektroskopie) bestätigte eine Komponente aus Oktadekanthiol auf der Oberfläche von dem zinnplattierten Substrat.A View of Coated Substrate A by XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) confirmed a component of octadecanethiol on the surface of the tin plated substrate.

1 zeigt ein XPS Spektrum von dem nicht beschichteten Substrat, und zwar desjenigen, welches nur mit Salpetersäure vorbehandelt wurde. Die 2A bis 2E zeigen vergrößerte Spektren von dem Kohlenstoff C1s Peak (2A), dem Sauerstoff O1s Peak (2B), dem Zinn Sn3d Peak (2C) bzw. dem Kupfer Cu2p Peak (2D) von 1. 3 zeigt ein XPS Spektrum von dem beschichteten Substrat A. Die 4A bis 4D zeigen vergrößerte Spektren von dem Kohlenstoff C1s Peak (4A), dem Sauerstoff O1s Peak (4B), dem Zinn Sn3d Peak (4C) bzw. dem Schwefel S2p Peak (4D) von 3. 1 Figure 12 shows an XPS spectrum of the uncoated substrate, the one pretreated only with nitric acid. The 2A to 2E show enlarged spectra of the carbon C1s peak ( 2A ), the oxygen O1s peak ( 2 B ), the tin Sn3d peak ( 2C ) or copper Cu2p peak ( 2D ) from 1 , 3 shows an XPS spectrum of the coated substrate A. The 4A to 4D show enlarged spectra of the carbon C1s peak ( 4A ), the oxygen O1s peak ( 4B ), the tin Sn3d peak ( 4C ) or the sulfur S2p peak ( 4D ) from 3 ,

Mit der XPS Betrachtung wurde festgestellt, dass die selbstassemblierte Monoschicht nicht mittels der Ultraschallreinigung entfernt wurde und mit der zinnplattierten Fläche verbunden ist.With The XPS consideration was found to be self-assembled Monolayer was not removed by ultrasonic cleaning and with the tin-plated surface connected is.

<Evaluierung des Kontaktwiderstandes><Evaluation of contact resistance>

Der Kontaktwiderstand von dem beschichteten Substrat wurde gemessen, und der Effekt auf elektrische Eigenschaften wurde studiert. Jeweils zwei Proben wurden für das nicht beschichtete Substrat und das beschichtete Substrat gemessen. Der Wert wurde mit dem des nicht beschichteten Substrats verglichen.Of the Contact resistance of the coated substrate was measured and the effect on electrical properties was studied. Two each Samples were for measured the uncoated substrate and the coated substrate. The value was compared with that of the uncoated substrate.

Die Kontaktlast von einem Stempel auf das beschichtete Substrat A wurde von 0,908 - 9,8 N variiert, und der Kontaktwiderstand (R) wurde mit dem Vier-Sensor-Verfahren (Four-Probe-Verfahren) gemessen. Der Widerstand wurde aus der Gleichung R = V/I (Gln.1) erhalten, worin V die Spannungsdifferenz zwischen den Sensoren bzw. Kontakten ist, und worin I der angewandte Strom ist.The Contact load from a stamp on the coated substrate A was from 0.908 - 9.8 N, and the contact resistance (R) was measured with the four-sensor method (four-probe method). Of the Resistance was obtained from the equation R = V / I (Eqn.1), where V is the voltage difference between the sensors or contacts, and where I is the applied current.

5 zeigt das Resultat. Die Versuchsbedingungen waren wie folgt: Kontaktgewicht: 0,098 - 9,8 N, angewandte Stromstärke (I): 10 mA, Radius des Stempelendes: 1,0 mm. Der Stempel ist aus einer mit Reflow-Zinn plattierten Kupferlegierung hergestellt. Der Stempel wurde vor der Messung gründlich mit Trichlorethan gereinigt. 5 shows the result. The test conditions were as follows: contact weight: 0.098 - 9.8 N, applied current (I): 10 mA, radius of the punch end: 1.0 mm. The stamp is made of reflow tin plated copper alloy. The stamp was thoroughly cleaned with trichloroethane before measurement.

Wie in 5 gezeigt, ist der Kontaktwiderstand von dem beschichteten Substrat bei einer Kontaktlast von 5N gleich 0,9-4mΩ, welcher Wert dem Schließzustand eines tatsächlich verwendeten Steckverbinderteils entspricht, und weist fast den gleichen Wert wie das nicht beschichtete Substrat auf. Obgleich die selbstassemblierte Monoschicht geformt ist, ist der Kontaktwiderstand kaum verändert. Es wird angenommen, dass die selbstassemblierte Monoschicht eine Dicke von gleich oder weniger als ein paar Dutzend Angström aufweist und ein Tunnelstrom auftreten kann. Die selbstassemblierte Monoschicht beeinträchtigt die elektrischen Eigenschaften fast nicht und ist vermutlich für die Anwendung auf elektrische Kontaktabschnitte, wie zum Beispiel das Steckverbinderteil, geeignet.As in 5 As shown, the contact resistance of the coated substrate at a contact load of 5N is 0.9-4mΩ, which corresponds to the closing state of a connector part actually used, and has almost the same value as that of the uncoated substrate. Although the self-assembled monolayer is formed, the contact resistance is hardly changed. It is believed that the self-assembled monolayer has a thickness equal to or less than a few dozen angstroms and tunneling current may occur. The self-assembled monolayer almost does not affect the electrical properties and is believed to be suitable for use on electrical contact sections such as the connector part.

Es wurde festgestellt, dass der Reibungskoeffizient bei der schweren Last von 5N abnimmt. Dies bestätigt die Bildung von einer starken selbstassemblierten Monoschicht mit einer Ausrichtung zwischen den organischen Molekülen.It It was found that the coefficient of friction in the heavy Load of 5N decreases. This confirms the formation of a strong self-assembled monolayer with an alignment between the organic molecules.

<Evaluierung des Reibungskoeffizienten><Evaluation of the friction coefficient>

Der Reibungskoeffizient wurde auf dem beschichteten Substrat A und dem nicht beschichteten Substrat gemessen. Für die Bedingung einer tatsächlichen Anwendung hatte der Stempel von dem Messverfahren eine Kontaktform, welche gleich der des Steckverbinderteils ist. Wie in 6 gezeigt, wurde durch den Stempel eine gegebene Last von 5N auf das Substrat angewandt, und das Substrat wurde gleitbewegt, und die Kraft, welche auf das Substrat aufgebracht wurde (dynamische Reibungskraft), wurde mit einem Gleittester (Produkt von Yamazaki Seiki Laboratory) gemessen. Der Reibungskoeffizient ist wie folgt gegeben: Reibungskoeffizient = dynamische Reibungskraft/Kontaktlast (Gln. 2).The friction coefficient was measured on the coated substrate A and the uncoated substrate. For the condition of an actual application, the stamp of the measuring method had a contact shape equal to that of the connector part. As in 6 5N, a given load of 5N was applied to the substrate by the punch, and the substrate was slid and the force applied to the substrate (dynamic friction force) was measured with a slip tester (product of Yamazaki Seiki Laboratory). The friction coefficient is given as follows: coefficient of friction = dynamic friction force / contact load (equation 2).

Die Versuchsbedingungen sind wie folgt: Kontaktgewicht: 5N, Testgeschwindigkeit: 24mm/min, Verschiebung: 5mm (eine Richtung und einmal), zinnplattierter Kupferlegierungsstempel, aufweisend eine Halbkugel mit einem Radius von 1,0 mm an einem Kontaktabschnitt mit dem Substrat. 7A zeigt das Resultat von dem nicht beschichteten Substrat, und 7B zeigt das Resultat von dem beschichteten Substrat A.The test conditions are as follows: contact weight: 5N, test speed: 24mm / min, displacement: 5mm (one direction and once), tin plated copper alloy stamp, having a hemisphere with a radius of 1.0mm at a contact portion with the substrate. 7A shows the result of the uncoated substrate, and 7B shows the result of the coated substrate A.

Das Resultat zeigt, dass das beschichtete Substrat A gemäß der Erfindung den dynamischen Reibungskoeffizienten in hohem Maße, auf ein Drittel von dem des nicht beschichteten Substrats herabsetzt.The The result shows that the coated substrate A according to the invention the dynamic friction coefficient to a large extent, on one third of that of the uncoated substrate.

Beispiel 2: SteckverbinderExample 2: Connector

18 Steckverbinder-Steckerteile, hergestellt aus zinnplattiertem Messing, und 18 Steckverbinder-Buchsenteile, hergestellt aus einer zinnplattierten Kupferlegierung, wurden bereitgestellt. Sie wurden genauso wie das Substrat in die 15Ma% Salpetersäurelösung eingetaucht und für 48 Stunden in die 1mM Oktadekanthiol-Ethanol-Lösung eingetaucht, um die selbstassemblierte Monoschicht zu formen, und wurden mittels Ultraschallreinigung in Ethanol gereinigt. Ein Auger-Elektronen-Spektroskopie-Messgerät (AES) bestätigte die Präsenz einer Schwefelkomponente in der Steckverbinderteiloberfläche, wie in dem Spektrum von 8 gezeigt.18 connector plugs made of tin-plated brass and 18 connector bushings made of a tin-plated copper alloy were provided. They were immersed in the 15% by volume nitric acid solution as well as the substrate and immersed in the 1 mM octadecanethiol-ethanol solution for 48 hours to form the self-assembled monolayer, and were purified by ultrasonic cleaning in ethanol. An Auger Electron Spectroscopy Meter (AES) confirmed the presence of a sulfur component in the connector part surface as in the spectrum of 8th shown.

Es wurde die Einführkraft zwischen dem jeweiligen beschichteten Stecker und der jeweiligen beschichteten Buchse gemessen. Die Sicherungsstifte zum Verhindern des voneinander Lösens der Steckverbinderteile wurden für die Messung entfernt.It became the introductory force between the respective coated plug and the respective coated Socket measured. The locking pins to prevent each other solving the connector parts were for removed the measurement.

Ein EZGraph-Tester (Produkt von Shimadzu Corporation) wurde für die Einführkraftmessung verwendet. Das mit einer Lastzelle verbundene Steckverbinder-Buchsenteil wurde von oben mit einer Vorschubgeschwindigkeit von 25mm/min (gemäß JASOD 606) in Richtung des Steckverbinder-Steckerteils bewegt und vollständig verbunden. Der EZGraph-Tester maß die Laständerung während dem ineinander Gleiten der Steckverbinderteile.One EZGraph tester (product of Shimadzu Corporation) was used for insertion force measurement used. The connector socket connected to a load cell was from above with a feed rate of 25mm / min (according to JASOD 606) is moved in the direction of the connector plug part and fully connected. The EZGraph tester measured the load Regulation while the sliding into each other of the connector parts.

9 zeigt die Laständerung, wenn ein konventioneller Steckverbinder verbunden wird. Das Steckteil von dem Steckverbinder-Steckerteil bzw. Stecker wird in die Feder von dem Steckverbinder-Buchsenteil bzw. der Buchse eingeführt, wie in 10 gezeigt. Wenn das Steckteil von dem Stecker in die Feder eintritt, erreicht die Last einen Maximalwert, welcher in 9 mit A bezeichnet ist. Wenn das Steckteil mittels Gleiten weiter in die Buchse hinein bewegt wird, wird die Last ein konstanter Wert, welcher mit B gekennzeichnet ist. Es wird angenommen, dass die Last bei B mit dem Reibungskoeffizienten von dem Gleitabschnitt zwischen dem Stecker und der Buchse korelliert. 9 shows the load change when connecting a conventional connector. The male part of the male connector part is inserted into the spring from the female connector part or the female terminal, as in FIG 10 shown. When the male part enters the spring from the male connector, the load reaches a maximum value, which in 9 is denoted by A. When the male part is moved further into the socket by sliding, the load becomes a constant value, which is marked B. It is assumed that the load at B is correlated with the coefficient of friction of the sliding portion between the plug and the bushing.

11 zeigt die Resultate der Laständerung von der Erfindung. 11 zeigt eine typische Laständerung, ähnlich der von 9. In 11 beginnt das Steckteil von dem Stecker bei dem Peak nahe einer Gleitdistanz von 0,1 mm in die Feder der Buchse einzutreten. Die konstante Last bei einer Gleitdistanz von über 0,12 mm entspricht der Gleitlast zwischen dem Stecker und der Buchse. Da der Sicherungsstift für das Testen der Steckverbinderteile entfernt ist, wird die Last als konstant angenommen. 11 shows the results of the load change of the invention. 11 shows a typical load change, similar to that of 9 , In 11 At the peak, the male part starts to enter the spring of the socket at the peak near a sliding distance of 0.1 mm. The constant load with a sliding distance of more than 0.12 mm corresponds to the sliding load between the plug and the socket. Since the connector pin testing pin is removed, the load is assumed to be constant.

11 zeigt, dass der Wert der Last von dem beschichteten Steckverbinderteil oder demjenigen mit der selbstassemblierten Monoschicht bei über 0,12 mm ungefähr zwei Drittel von dem des nicht beschichteten Steckverbinderteils ist. Die Erfindung bestätigte die Reduktion der Einführkraft für den tatsächlichen Steckverbinder. 11 shows that the value of the load from the coated connector portion or that with the self-assembled monolayer at about 0.12 mm is about two-thirds that of the uncoated connector portion. The invention confirmed the reduction of the insertion force for the actual connector.

Die Verbindung von den nicht beschichteten Steckverbinderteilen oder denjenigen ohne die selbstassemblierte Monoschicht weist bei einer Gleitdistanz von über 0,12 mm einen Anstieg der Last auf, während die Verbindung von den beschichteten Steckverbinderteilen einen nahezu konstanten Wert aufweist. Es wird angenommen, dass die selbstassemblierte Monoschicht die Haftung oder Reibung von Zinn während dem Gleiten eines jeden Steckverbinderteils verhindern kann. Die Maximallast nahe einer Gleitdistanz von 0,1 mm, wo das Steckteil in die Buchsenfeder eintritt, nimmt ebenfalls ab. Die selbstassemblierte Monoschicht hat den Effekt, den statischen Reibungskoeffizienten bezüglich dem Beginn des Gleitens zu reduzieren.The Connection of uncoated connector parts or those without the self-assembled monolayer points at one Sliding distance of over 0.12 mm an increase in load while the connection of the coated connector parts has a nearly constant value. It is assumed that the self-assembled monolayer is the Adhesion or friction of tin during can prevent the sliding of each connector part. The Maximum load near a sliding distance of 0.1 mm, where the male part enters the bush spring, also decreases. The self-assembled Monolayer has the effect of static coefficient of friction in terms of to reduce the onset of gliding.

Beispiel 3: SubstratExample 3: Substrate

Es wurde eine Vorbehandlung mit 10Ma% Schwefelsäure anstelle der 15Ma% Salpetersäure aus Beispiel 1 mit dem Kupferlegierungssubstrat (NB109: Produkt von Dowa Mining Co., Ltd.) durchgeführt. Die anderen Prozesse waren die gleichen als diejenigen von Beispiel 1.It was pretreated with 10Ma% sulfuric acid instead of 15Ma% nitric acid Example 1 with the copper alloy substrate (NB109: product of Dowa Mining Co., Ltd.). The other processes were the same as those of example 1.

12A zeigt ein XPS Spektrum von dem beschichteten Substrat. 12B zeigt ein vergrößertes Spektrum von dem Kohlenstoff C1s Peak, und 12C zeigt ein vergrößertes Spektrum von dem Schwefel S2p Peak. 13A zeigt ein XPS Spektrum von dem nicht beschichteten Substrat. 13B zeigt ein vergrößertes Spektrum von dem Kohlenstoff C1s Peak, und 13C zeigt ein vergrößertes Spektrum von dem Schwefel S2p Peak. Die XPS Betrachtung bestätigte eine Komponente aus Oktadekanthiol auf der Oberfläche von dem beschichteten Substrat. 12A shows an XPS spectrum of the coated substrate. 12B shows an enlarged spectrum of the carbon C1s peak, and 12C shows an enlarged spectrum of the sulfur S2p peak. 13A shows an XPS spectrum of the uncoated substrate. 13B shows an enlarged spectrum of the carbon C1s peak, and 13C shows an enlarged spectrum of the sulfur S2p peak. XPS observation confirmed a component of octadecanethiol on the surface of the coated substrate.

Der Reibungswiderstand wurde für die Substrate mit einer Last von 5N auf den Stempel gemessen. Der Reibungswiderstand von dem beschichteten Substrat war 0,08, während der von dem nicht beschichteten Substrat 0,17 und fast doppelt so hoch war.Of the Friction resistance was for the substrates were measured with a load of 5N on the stamp. Of the Friction resistance of the coated substrate was 0.08, during the of the uncoated substrate was 0.17 and almost twice as high.

14 zeigt, dass der Reibungswiderstand von dem beschichteten Substrat bei der Last von 5N gleich 1mΩ wird, was nahezu der gleiche Wert wie der des nicht beschichteten Substrats ist. 14 shows that the frictional resistance of the coated substrate at the load of 5N becomes 1 mΩ, which is almost the same as that of the uncoated substrate.

Die Steckverbinderteile gemäß der Erfindung erfordern keinen speziellen Hebel zum Einstellen des Kontaktdrucks. Sie sind leicht ohne Kostenerhöhung herzustellen und von kleiner Größe. Sie erhöhen nicht den Kontaktwiderstand und sie sind mit geringer Einführkraft leicht miteinander zu verbinden, so dass sie als Steckverbinder von Fahrzeugen angewandt werden.The Connector parts according to the invention do not require a special lever for adjusting the contact pressure. They are easy without cost increase produce and of small size. she increase not the contact resistance and they are low insertion force easily connect to each other, making them as connectors be applied by vehicles.

Claims (7)

Niedrigeinführkraft-Steckverbinderteil, aufweisend eine selbstassemblierte Monoschicht auf einer Gleitfläche davon.Niedrigeinführkraft connector part, comprising a self-assembled monolayer on a sliding surface thereof. Steckverbinderteil nach Anspruch 1, wobei die Gleitfläche mit Oktadekanthiol behandelt ist.Connector part according to claim 1, wherein the sliding surface with Octadecanethiol is treated. Steckverbinderteil nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Gleitfläche vor dem Formen der selbstassemblierten Monoschicht Zinn aufweist.Connector part according to claim 1 or 2, wherein the sliding surface before forming the self-assembled monolayer tin. Verfahren zum Herstellen eines Niedrigeinführkraft-Steckverbinderteils, aufweisend den Schritt des Formens einer selbstassemblierten Monoschicht auf einer Gleitfläche davon.Method of manufacturing a low insertion force connector part, comprising the step of forming a self-assembled monolayer a sliding surface from that. Verfahren nach Anspruch 4, ferner aufweisend den Schritt des Entfernens eines Metalloxids auf der Gleitfläche vor dem Formen der selbstassemblierten Monoschicht.The method of claim 4, further comprising Step of removing a metal oxide on the sliding surface the molding of the self-assembled monolayer. Verfahren nach Anspruch 5, wobei das Metalloxid mittels Behandelns mit sauer-wässriger Lösung entfernt wird.The method of claim 5, wherein the metal oxide means Treating with acid-aqueous Solution removed becomes. Substrat für ein Niedrigeinführkraft-Steckverbinderteil, aufweisend eine selbstassemblierte Monoschicht auf einer Gleitfläche davon.Substrate for a low insertion force connector part, comprising a self-assembled monolayer on a sliding surface thereof.
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