DE102005019716A1 - Optical system including optical element with its support useful for projection objectives in microlithography has nickel or hard material coating of optical element surface and optical element consisting of refractive crystalline material - Google Patents

Optical system including optical element with its support useful for projection objectives in microlithography has nickel or hard material coating of optical element surface and optical element consisting of refractive crystalline material Download PDF

Info

Publication number
DE102005019716A1
DE102005019716A1 DE102005019716A DE102005019716A DE102005019716A1 DE 102005019716 A1 DE102005019716 A1 DE 102005019716A1 DE 102005019716 A DE102005019716 A DE 102005019716A DE 102005019716 A DE102005019716 A DE 102005019716A DE 102005019716 A1 DE102005019716 A1 DE 102005019716A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
optical element
coating
optical system
optical
storage facilities
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE102005019716A
Other languages
German (de)
Inventor
Thomas Petasch
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE102005019716A priority Critical patent/DE102005019716A1/en
Publication of DE102005019716A1 publication Critical patent/DE102005019716A1/en
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/02—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of crystals, e.g. rock-salt, semi-conductors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

Optical system including a optical element with its support where a partial region of the optical element surface corresponding to the optical element support has a coating containing a material having properties different from those of the optical element material. The optical element consists of a refractive crystalline material and the support is magnetically conductive. An independent claim is included for a method of applying the coating to the surface of the optical element.

Description

Die Erfindung betrifft ein optisches System mit einem optischen Element und mit Lagereinrichtungen für das optische Element nach der im Oberbegriff von Anspruch 1 näher definierten Art.The The invention relates to an optical system with an optical element and with storage facilities for the optical element according to the closer defined in the preamble of claim 1 Art.

Derartige optische Systeme mit einem optischen Element und entsprechenden Lagereinrichtungen, wie beispielsweise in einer Fassung gelagerte Linsen, Abschlußplatten oder dergleichen, sind allgemein bekannt. Häufig wird das optische Element dabei zum Erzielen einer sehr hohen Genauigkeit hinsichtlich seiner Position mit entsprechenden Lagereinrichtungen fest verbunden, beispielsweise verklebt. Um den Eintrag von Spannungen in das optische Element zu verhindern, sind die Lagereinrichtungen dabei häufig als einzelne Auflagefüßchen ausgebildet. Ein Verkleben mit diesen Füßchen bedeutet nun, dass das optische Element praktisch nicht mehr von der Lagereinrichtung zu entfernen ist, das optische System also nur unter sehr großem Aufwand demontiert werden kann.such optical systems with an optical element and corresponding Storage devices, such as lenses mounted in a socket, end plates or the like, are well known. Often the optical element becomes doing so to achieve a very high accuracy in terms of his Position firmly connected to corresponding storage facilities, for example bonded. To the entry of stresses in the optical element To prevent this, the storage facilities are often as formed individual support feet. A bonding with these feet means Now, that the optical element is practically out of the storage facility To remove, so the optical system only at great expense can be dismantled.

Ist es nun erforderlich, dass das optische Element in dem optischen System ohne allzu großen Aufwand auswechselbar ist, wie beispielsweise bei einer Abschlußplatte in einem Objektiv für die Halbleiter-Lithographie, ist es außerdem bekannt, das optische Element in der Art einer Dreipunktlagerung auf Kugelelementen oder dergleichen zu lagern. Damit wird erreicht, dass das optische Element, sofern es ausgetauscht bzw. demontiert und später wieder montiert wird, reproduzierbar und positionsgenau plaziert werden kann. Die Fixierung der Position muß dann jedoch über Federelemente oder dergleichen erfolgen, welche ihrerseits wiederum Kräfte und Verformungen auf das optische Element aufprägen.is it is now required that the optical element in the optical System without too much effort is interchangeable, such as in a closure plate in a lens for Semiconductor lithography, it is also known, the optical Element in the manner of a three-point bearing on ball elements or to store the like. This ensures that the optical element, if it is exchanged or disassembled and later reassembled, reproducible and can be placed accurately positioned. The fixation of the position must then however over Spring elements or the like take place, which in turn turn personnel and imprint deformations on the optical element.

Die eingesetzten optischen Elemente sind sehr häufig aus einem kristallinen Material. Insbesondere im Bereich der Halbleiter- Lithographie hat sich der Einsatz von Kalziumfluorid (CaF2), aufgrund seiner günstigen optischen Eigenschaften bewährt. Ein derartiges kristallines Material ist jedoch hinsichtlich seiner mechanischen Eigenschaften häufig sehr kritisch, so dass es beispielsweise bei Überschreiten einer punktuellen Spannung oder Flächenpressung sehr leicht zu einem Versatz einzelner Gitterebenen gegeneinander kommen kann, welche das optische Element hinsichtlich der optischen Abbildungsqualität unbrauchbar machen.The optical elements used are very often made of a crystalline material. Particularly in the field of semiconductor lithography, the use of calcium fluoride (CaF 2 ) has proven its worth due to its favorable optical properties. However, such a crystalline material is often very critical with regard to its mechanical properties, so that, for example, when a punctiform stress or surface pressure is exceeded, it is very easy to offset individual lattice planes which make the optical element unusable with regard to the optical imaging quality.

Des weiteren kennt der Stand der Technik Beschichtungen von optischen Elementen, beispielsweise reflektierende Metallbeschichtungen zur Herstellung von Spiegeln, wobei diese Beschichtung auf ein Trägermaterial, das sogenannte Substrat, aufgebracht wird.Of Further, the prior art knows coatings of optical Elements, such as reflective metal coatings for Production of mirrors, this coating being based on a carrier material, the so-called substrate is applied.

Es ist die Aufgabe der oben genannten Erfindung, ein optisches System mit einem optischen Element und Lagereinrichtungen zu schaffen, welches eine lösbare und exakte Lagerung des optischen Elements sicherstellt, wobei eine mechanische oder chemische Beeinträchtigung des optischen Elements unterbleibt bzw. minimiert wird.It is the object of the above invention, an optical system to provide with an optical element and storage facilities which is a detachable and ensures exact storage of the optical element, wherein a mechanical or chemical impairment of the optical element is omitted or minimized.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch die im kennzeichnenden Teil von Anspruch 1 genannten Merkmale gelöst.According to the invention this Object by the mentioned in the characterizing part of claim 1 Characteristics solved.

Dadurch, dass die Beschichtung des optischen Elements ausschließlich im Bereich der Lagereinrichtungen, also nicht im optisch wirksamen bzw. aktiven Bereich des optischen Elements erfolgt, muß an die Beschichtung keinerlei optischer Anspruch gestellt werden. Die Beschichtung kann also aus einem Material sein, welches hinsichtlich seiner Materialeigenschaft ideal an die Art und Ausführung der Lagereinrichtungen angepaßt ist. Die Beschichtung kann beispielsweise mechanische Belastungen des Materials des optischen Elements vermeiden oder ein Material beinhalten, welches eine wieder lösbare Anhaftung des optischen Elements erleichtert.Thereby, that the coating of the optical element exclusively in Area of storage facilities, so not in the optically effective or active region of the optical element, must be connected to the Coating no optical claim can be made. The coating can therefore be made of a material which, in terms of its material properties ideal for the type and design adapted to the storage facilities is. The coating can, for example, mechanical loads avoid the material of the optical element or a material include a releasable adhesion of the optical Elements facilitated.

In einer besonders günstigen Ausgestaltung der Erfindung ist dazu die Beschichtung zumindest in Teilbereichen als Hartstoffbeschichtung ausgebildet. Somit kann beispielsweise beim Einsatz einer Dreipunktlagerung die durch die Lagereinrichtungen in das optische Element eingetragene Spannung sowie die lokale Flächenpressung minimiert werden. Die Lagerelemente der Dreipunktlagerung, als Gegenelemente zu dem optischen Element, sind im allgemeinen Kugeln, welche eine wenigstens annähernd punktförmige Auflage sicherstellen. Eine derartige punktförmige Auflage bedeutet nun jedoch, dass eine besonders hohe Hertz'sche Pressung auftritt, welche das im allgemeinen sehr spröde, beispielsweise kristalline Material, des optischen Elements belastet. Es können hier punktuelle Spannungen auftreten, welche gegebenenfalls oberhalb der zulässigen Schubspannungen liegen.In a particularly favorable Embodiment of the invention is the coating at least formed in partial areas as hard material coating. Thus, can For example, when using a three-point bearing by the Storage facilities in the optical element registered voltage as well as the local surface pressure be minimized. The bearing elements of the three-point bearing, as counter-elements to the optical element, are generally balls, which a at least approximately punctiform edition to ensure. Such a punctiform edition now means However, that a particularly high Hertzian pressure occurs, which in the general very brittle, For example, crystalline material, the optical element charged. It can here point voltages occur, which may be above the permissible Shear stresses are.

Aufgrund der erfindungsgemäßen Hartstoffbeschichtung im Bereich dieses Auflagepunktes läßt sich nun ein Überschreiten von lokal zulässigen Werten der Schubspannung vermeiden. Die Flächenpressung wird aufgrund der Hartstoffbeschichtung nicht mehr punktuell eingeleitet, sondern auf einen etwas größeren Bereich verteilt, ihr Absolutwert sinkt lokal ab, die mechanische Belastung des optischen Elements geht zurück.by virtue of the hard material coating according to the invention In the area of this support point can now be exceeded from locally permissible Avoid values of shear stress. The surface pressure is due to the hard coating no longer punctually initiated, but on a slightly larger area distributed, their absolute value decreases locally, the mechanical load the optical element goes back.

Des weiteren bietet die Hartstoffbeschichtung den Vorteil, dass sich das Lagerelement, beispielsweise die Kugel, nicht mehr oder nicht mehr so stark wie bei unbeschichteten optischen Elementen in das Material des optischen Elements eindrückt. Kommt es nun zu einer thermischen Ausdehnung, kann eine rein gleitende Bewegung zwischen dem optischen Element und der punktuellen Auflagefläche stattfinden. Der Eintrag von Spannungen durch formschlüssiges Aneinanderhaften der Teile in das optische Element, welche wiederum die optischen Abbildungseigenschaften beeinflussen würden, läßt sich somit vermeiden oder zumindest reduzieren.Furthermore, the hard coating offers tion the advantage that the bearing element, for example, the ball, no longer or not as strong press as in uncoated optical elements in the material of the optical element. If there is now a thermal expansion, a purely sliding movement between the optical element and the punctiform bearing surface can take place. The introduction of stresses by form-fitting adherence of the parts in the optical element, which in turn would affect the optical imaging properties, can thus be avoided or at least reduced.

In einer besonders günstigen, entweder alternativ einsetzbaren oder auch mit der Hartstoffbeschichtung kombinierbaren Ausges taltung der Erfindung ist das Material der Beschichtung zumindest in Teilbereichen magnetisch leitend.In a particularly favorable, either alternatively usable or with the hard material coating Combinable Ausges taltung the invention is the material of Coating at least in some areas magnetically conductive.

Unter magnetisch leitend ist in diesem Zusammenhang zu verstehen, dass das Material beispielsweise als metallisches Material ausgebildet ist und von einem Magneten angezogen werden kann.Under magnetically conductive in this context is to be understood that the material is formed, for example, as a metallic material is and can be attracted by a magnet.

Dazu können beispielsweise die Lagereinrichtungen mit magnetischen Elementen versehen sein, so dass ein magnetisches Anhaften bzw. Lösen bei einer Veränderung des magnetischen Flusses bzw. einem Abschalten oder Entfernen des Magneten zwischen dem optischen Element und den Lagereinrichtungen erreicht werden kann. Auch dies fördert in idealer Weise die Austauschbarkeit des optischen Elements. In Kombination mit der oben genannten Dreipunktlagerung bleibt das optische Element außerdem in hohem Grad hinsichtlich seiner Position reproduzierbar.To can For example, the storage facilities with magnetic elements be provided so that a magnetic sticking or loosening at a change the magnetic flux or a shutdown or removal of the Magnet between the optical element and the storage facilities can be achieved. This also promotes the ideal Interchangeability of the optical element. In combination with the above-mentioned three-point bearing, the optical element also remains in high degree of its position reproducible.

Neben diesem rein magnetisch leitenden bzw. magnetisierbaren Material wäre es prinzipiell auch denkbar, dass die Beschichtung selbst permanentmagnetische Eigenschaften aufweist. Da jedoch zur Erzeugung von derartigen magnetischen Eigenschaften, also dem Umstand, dass die Beschichtung selbst als Magnet ausgebildet ist, eine entsprechende Warmbehandlung bzw. Hochtemperaturbehandlung des Materials erforderlich ist, macht dies beim Einsatz in optischen Elementen häufig keinen Sinn, da durch die Einleitung der hohen Temperaturen entsprechende Eigenspannungen oder dergleichen in dem optischen Element entstehen können.Next this purely magnetically conductive or magnetizable material would it be in principle also conceivable that the coating itself permanent magnetic Features. However, since for the production of such magnetic Properties, ie the fact that the coating itself as Magnet is formed, a corresponding heat treatment or high temperature treatment The material required makes this possible when used in optical Elements frequently no sense, as by the introduction of high temperatures appropriate Residual stresses or the like arise in the optical element can.

Bei einer entsprechenden Ausgestaltung des optischen Elements, beispielsweise wenn keine derartig hohen optischen Anforderungen an das optische Element gestellt werden, könnte jedoch durchaus auch eine Beschichtung mit permanentmagnetischen Eigenschaften zum Lagern bzw. Halten des optischen Elements sinnvoll sein. Die Qualitätsansprüche an die optischen Elemente sind in der Projektionsoptik in der Mikrolithographie sehr hoch. Geringere – verglichen mit normalen optischen Systemen immer noch hohe – Anforderungen stellt die Beleuchtungsoptik in der Mikrolithographie.at a corresponding embodiment of the optical element, for example if no such high optical demands on the optical Element could be put but also a coating with permanent magnetic Properties for storing or holding the optical element makes sense be. The quality demands on the optical elements are in the projection optics in microlithography very high. Lower - compared With normal optical systems still high demands Illumination optics in microlithography.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den restlichen Unteransprüchen und den anhand der Zeichnung nachfolgend dargestellten Ausführungsbeispielen.Further advantageous embodiments of the invention will become apparent from the remaining dependent claims and the embodiments illustrated below with reference to the drawing.

Es zeigt:It shows:

1 eine prinzipmäßige Darstellung eines optischen Systems mit einem optischen Element und Lagereinrichtungen, welche eine Punktauflage zwischen dem optischen Element und der Lagereinrichtung sicherstellen; 1 a schematic representation of an optical system with an optical element and storage devices, which ensure a dot support between the optical element and the storage device;

2 eine prinzipmäßige Darstellung eines optischen Systems mit einem optischen Element und Lagereinrichtungen, welche als magnetische Lagereinrichtungen ausgebildet sind; 2 a schematic representation of an optical system with an optical element and storage facilities, which are designed as magnetic storage facilities;

3 eine prinzipmäßige Darstellung eines möglichen Schichtaufbaus einer Beschichtung des optischen Elements gemäß der Erfindung; und 3 a schematic representation of a possible layer structure of a coating of the optical element according to the invention; and

4 eine Prinzipdarstellung einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, welche zur Belichtung von Strukturen auf mit photosensitiven Materialien beschichtete Wafer verwendbar ist. 4 a schematic representation of a projection exposure apparatus for microlithography, which is suitable for the exposure of structures on coated with photosensitive materials wafer.

In 1 ist ein optisches System 1 schematisch dargestellt, welches aus einem optischen Element 2 und entsprechenden Lagereinrichtungen 3 besteht, von denen hier zwei Stück prinzipmäßig angedeutet sind.In 1 is an optical system 1 shown schematically, which consists of an optical element 2 and corresponding storage facilities 3 exists, of which two are indicated in principle here.

Bei dem optischen Element 2 handelt es sich gemäß der hier gewählten Darstellung um ein refraktives optisches Element aus einem dementsprechend transparenten Material. Beispielsweise kann das optische Element 2 aus kristallinem Material, in bevorzugter Weise aus CaF2, ausgebildet sein, da ein derartiges Material hinsichtlich seiner optischen Eigenschaften in qualitativ sehr hochwertigen optischen Systemen, beispielsweise für den Einsatz in der Halbleiter-Lithographie sehr häufig Verwendung findet.In the optical element 2 According to the representation selected here, this is a refractive optical element made of a correspondingly transparent material. For example, the optical element 2 of crystalline material, preferably of CaF 2 , be formed because such a material is very often used in terms of its optical properties in high-quality optical systems, for example, for use in semiconductor lithography.

Handelt es sich bei dem optischen Element 2 nun beispielsweise um eine Abschlußplatte eines Objektivs, so ist es erforderlich, dass das optische Element 2 in reproduzierbarer Art und Weise austauschbar ist. Für den Zweck eines derartigen, hinsichtlich seiner Position im Bereich von wenigen Nanometern, reproduzierbar austauschbaren optischen Elements, haben sich nun gemäß dem Stand der Technik optische Systeme 1 bewährt, welche das optische Element 2 auf einer dritten Dreipunktlagerung statisch bestimmt aufnehmen. Dabei werden als Lagerelemente Kugeln 4 oder kugelförmige Abschnitte vorgesehen, welche eine wenigstens annähernd punktförmige Auflage zwischen den Lagereinrichtungen 3 und dem optischen Element 2 sicherstellen.Is it the optical element 2 Now, for example, to a terminal plate of a lens, it is necessary that the optical element 2 is replaceable in a reproducible manner. For the purpose of such a reproducible interchangeable optical element with respect to its position in the range of a few nanometers, according to the state of the art Technology optical systems 1 proven, which the optical element 2 Record statically determined on a third three-point bearing. There are balls as bearing elements 4 or spherical portions are provided, which at least an approximately point-like support between the storage facilities 3 and the optical element 2 to ensure.

Durch Halteelemente wird das optische Element 2 auf die Kugeln 4 oder Lagereinrichtungen 3 aufgedrückt, wozu beispielsweise Federn oder dergleichen denkbar wären. Diese Elemente sind aus dem Stand der Technik bekannt und daher nicht näher dargestellt. Des weiteren wäre selbstverständlich auch eine magnetische Halterung des optischen Elements denkbar, wie sie ein Teil der Erfindung ist und nachfolgend noch näher beschrieben wird.By holding elements, the optical element 2 on the balls 4 or storage facilities 3 pressed on, for example, springs or the like would be conceivable. These elements are known from the prior art and therefore not shown in detail. Furthermore, of course, a magnetic support of the optical element would be conceivable as part of the invention and will be described in more detail below.

Wie bereits vorstehend erwähnt, kann es sich um ein optisches Element 2 aus einem kristallinem Material, wie CaF2 oder dergleichen, handeln. Derartige Materialien sind hinsichtlich lokal eingetragener Spannungen sehr empfindlich und neigen beim Überschreiten einer zulässigen Schubspannung sehr leicht zum Versatz von einzelnen Gitterebenen gegeneinander. Ein derartiger Versatz würde das optische Element 2 hinsichtlich seiner Abbildungseigenschaften jedoch unbrauchbar machen und sollte daher vermieden werden.As already mentioned above, it can be an optical element 2 from a crystalline material such as CaF 2 or the like. Such materials are very sensitive to locally registered voltages and, when a permissible shear stress is exceeded, tend very easily to offset individual lattice planes from one another. Such an offset would be the optical element 2 However, in terms of its imaging properties make us unusable and should therefore be avoided.

Um nun die vergleichsweise hohen lokalen Kräfte, welche aufgrund der punktuellen Auflage auf den Kugeln 4 oder Lagereinrichtungen 3 im Bereich des optischen Elements 2 entstehen, besser oder gleichmäßiger auf eine größere Fläche des optischen Elements 2 zu verteilen ist es nun vorgesehen, dass in dem Bereich, in dem das optische Element 2 mit den Lagereinrichtungen 3 korrespondiert eine Beschichtung 5 vorgesehen ist.In order now to the relatively high local forces, which due to the punctual support on the balls 4 or storage facilities 3 in the area of the optical element 2 arise, better or more uniform on a larger surface of the optical element 2 it is now intended that in the area in which the optical element 2 with the storage facilities 3 corresponds to a coating 5 is provided.

In der Darstellung gemäß 1 ist die Beschichtung 5 dabei als Hartstoffbeschichtung vorgesehen, welche eine höhere Härte und mechanische Belastbarkeit aufweist als das Material des optischen Elements 2 selbst. Als geeignete Materialien für eine derartige Hartstoffbeschichtung können beispielsweise eine oder mehrere Schichten an Siliciumdioxid oder nickelhaltige Beschichtungen vorgesehen werden. Auch eine Beschichtung mit einem diamanthaltigen Material wäre denkbar. Je nach Verwendung der einzelnen Materialien kann die Beschichtung beispielsweise aufgedampft werden. Bei der Verwendung von entsprechenden, für ein Aufdampfen nicht geeigneten Materialien, welche beispielsweise keramische Hartstoffe oder dergleichen beinhalten, kann die Beschichtung 5 auch über Sputtern auf das optische Element 2 aufgebracht werden.In the illustration according to 1 is the coating 5 provided as a hard material coating, which has a higher hardness and mechanical strength than the material of the optical element 2 itself. As suitable materials for such a hard coating, for example, one or more layers of silica or nickel-containing coatings may be provided. A coating with a diamond-containing material would be conceivable. Depending on the use of the individual materials, the coating can be vapor-deposited, for example. When using appropriate, for a vapor deposition unsuitable materials, which include, for example, ceramic hard materials or the like, the coating 5 also via sputtering on the optical element 2 be applied.

2 zeigt nun eine andere Ausführungsform des optischen Systems 1, ebenfalls mit einem optischen Element 2 und entsprechenden Lagereinrichtungen 3. Die Lagereinrichtungen 3 sind in dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel als magnetische Elemente ausgebildet. Das Ausführungsbeispiel gemäß 2 zeigt dies in einer sehr einfachen und prinzipmäßig angedeuteten Ausgestaltung, so dass die Lagereinrichtungen 3 im Querschnitt betrachtet als eine Art Hufeisenmagnet mit einem Südpol 6 und einem Nordpol 7 ausgebildet sind. Die Beschichtung 5 des optischen Elements 2 ist im hier dargestellten Fall magnetisch leitend ausgebildet. Magnetisch leiten soll in diesem Zusammenhang bedeuten, dass das für die Beschichtung 5 eingesetzte Material magnetisierbar ist, also unter dem Einfluß der magnetischen Wirkung der Lagereinrichtungen von denselben angezogen wird. 2 now shows another embodiment of the optical system 1 , also with an optical element 2 and corresponding storage facilities 3 , The storage facilities 3 are formed in the embodiment shown here as magnetic elements. The embodiment according to 2 shows this in a very simple and principle indicated embodiment, so that the storage facilities 3 viewed in cross-section as a kind of horseshoe magnet with a south pole 6 and a north pole 7 are formed. The coating 5 of the optical element 2 is formed magnetically conductive in the case shown here. Magnetically conductive in this context means that the coating 5 material used is magnetizable, so under the influence of the magnetic effect of the storage facilities is attracted by the same.

Als Material für die Beschichtung 5 sind daher geeignete metallische Materialien, beispielsweise auf Basis von Nickel, Eisen oder dergleichen einsetzbar. Die Schichtstärke der Beschichtung 5 kann sich dabei hinsichtlich der gewünschten Haltekraft, welche zwischen der Beschichtung 5 und den Magnetpolen 6, 7 gewünscht wird, verändern. Zum Auftragen der Beschichtung (5) bietet sich bei der derartig magnetisch wirksamen Beschichtung 5 ein Verfahren an, bei dem die Beschichtung (5) zuerst auf den gewünschten Bereich des optischen Elements 2 aufgedampft wird. Die magnetisch leitende und im allgemeinen auch elektrisch leitende Beschichtung (5) kann dann, sofern die beim Verdampfen zu erzielende Schichtstärke von wenigen Mikrometern für die erforderliche Kraft nicht ausreicht, elektrisch kontaktiert und über galvanische Verfahren verstärkt werden. Da für die zu erzielende Schichtstärke bei galvanischen Verfahren eine sehr große Variabilität und sehr hohe Genauigkeit aufgrund der Stromstärke und der Einwirkzeit gegeben ist, kann die Schichtdicke sehr genau an die gewünschten Haltekräfte zwischen der Beschichtung 5 und den Magnetpolen 6, 7 angepaßt werden.As material for the coating 5 Therefore, suitable metallic materials, for example based on nickel, iron or the like can be used. The layer thickness of the coating 5 may be in terms of the desired holding force, which between the coating 5 and the magnetic poles 6 . 7 is desired, change. For applying the coating ( 5 ) lends itself to the thus magnetically active coating 5 a method in which the coating ( 5 ) first to the desired area of the optical element 2 is evaporated. The magnetically conductive and generally also electrically conductive coating ( 5 ) can, if the thickness of a few microns to be achieved during evaporation for the required force is insufficient, electrically contacted and amplified by galvanic methods. Since very high variability and very high accuracy due to the current intensity and the contact time are given for the layer thickness to be achieved in galvanic processes, the layer thickness can be very closely matched to the desired holding forces between the coating 5 and the magnetic poles 6 . 7 be adjusted.

Neben der direkten Verwendung von magnetischen Elementen für die Lagereinrichtungen 3, wie in 2 dargestellt, wäre es hier auch denkbar, dass die Lagereinrichtungen 3 aus magnetisch leitendem Material ausgebildet sind, welches mit einer magnetischen Einrichtung in Verbindung steht. Die Lagereinrichtungen 3 könnten dann einen induzierten Magneten bilden.In addition to the direct use of magnetic elements for the storage facilities 3 , as in 2 illustrated, it would also be conceivable that the storage facilities 3 are formed of magnetically conductive material which is in communication with a magnetic device. The storage facilities 3 could then form an induced magnet.

Besonders günstig für die Positionierung des optischen Elements 2 ist dabei, wenn der magnetische Fluß der magnetischen Elemente oder im Falle der magnetisch leitenden Lagereinrichtungen 3 mit denselben verbundenen magnetischen Elementen beeinflußbar ist. Die Beeinflussung kann beispielsweise dadurch erfolgen, dass die magnetischen Elemente als elektromagnetische Einrichtungen ausgebildet sind, deren magnetischer Fluß durch Stromstärke, Spannungen und dergleichen beeinflußt werden kann. Eine Alternative wäre es beispielsweise auch, wenn die magnetischen Elemente so ausgebildet sind, dass sie jeweils mehrere Polpaare aufweisen, wobei der magnetische Fluß dann durch ein mechanisches Verschieben der einzelnen Polpaare gegeneinander beeinflußbar ist. Das Funktionsprinzip muß hier sicherlich nicht näher erläutert werden, da es von zahlreichen magnetischen Halteeinrichtungen, wie sie als Ständer von Meßuhren oder dergleichen in der Meßtechnik eingesetzt werden, prinzipiell bekannt ist.Particularly favorable for the positioning of the optical element 2 is there when the magnetic flux of the magnetic elements or in the case of magnetically conductive storage facilities 3 can be influenced with the same connected magnetic elements. The influence can be effected, for example, in that the magnetic elements are designed as electromagnetic devices whose magnetic flux is due to current strength, voltages and the like can be influenced. An alternative would be, for example, when the magnetic elements are formed so that they each have a plurality of pole pairs, wherein the magnetic flux is then influenced by a mechanical displacement of the individual pole pairs against each other. The operating principle must certainly not be explained in detail here, since it is known in principle from numerous magnetic holding devices, such as those used as stands of dial gauges or the like in measuring technology.

Besonders günstig ist es nun, wenn sich die beiden oben genannten Eigenschaften der Beschichtung 5 entsprechend kombinieren lassen. Beispielsweise ließe sich über die Verwendung von nickelhaltigen, sehr harten und magnetisch leitenden Materialien ein Aufbau erreichen, welcher eine ideale Verteilung der eingeleiteten Kraft aufgrund von punktuellen Auflagen im Bereich der Lagereinrichtungen 3 in das optische Element 2 begünstigt und darüber hinaus die Möglichkeit zur Verfügung stellt, dass das optische Element über magnetische Kräfte zu lagern bzw. auf den Lagereinrichtungen 3 zu halten ist.It is particularly favorable, if the two above-mentioned properties of the coating 5 combine accordingly. For example, the use of nickel-containing, very hard and magnetically conductive materials would allow a structure to be achieved which would provide an ideal distribution of the applied force due to punctiform supports in the area of the bearing devices 3 in the optical element 2 favors and moreover makes it possible to store the optical element via magnetic forces or on the storage facilities 3 to hold.

Um derartige Eigenschaften zu erzielen, könnte die Beschichtung 5 beispielsweise aus mehreren Schichten aufgebaut werden. 3 zeigt einen prinzipmäßig angedeuteten Schichtaufbau der Beschichtung 5, welcher hier aus zwei diskreten Schichten 8, 9 besteht. Wegen der oben bereits erwähnten Integration von harten und magnetisch leitenden Eigenschaften in die Beschichtung 5 soll der Aufbau gemäß 3 erläutern, dass es durchaus denkbar wäre, eine dem optischen Element 2 abgewandte Schicht, hier die Schicht 8, mit der gewünschten Härte und/oder magnetisch leitenden Eigenschaften auszuführen. Da diese Schichten hinsichtlich der mechanischen Eigenschaften, der thermischen Ausdehnung und dergleichen häufig sehr stark von den Materialeigenschaften des optischen Elements 2 abweichen, ist im hier dargestellten Ausführungsbeispiel die dem optischen Element zugewandte Schicht 9 und die Beschichtung 5 als Zwischenschicht ausgebildet, welche entsprechend weicher ausgebildet ist als die in der Schicht 8 der Beschichtung 5.To achieve such properties, the coating could 5 for example, be built up of several layers. 3 shows a principle indicated layer structure of the coating 5 which here consists of two discrete layers 8th . 9 consists. Because of the already mentioned above integration of hard and magnetically conductive properties in the coating 5 should the structure according to 3 Explain that it would be quite possible, an optical element 2 opposite layer, here the layer 8th to perform with the desired hardness and / or magnetically conductive properties. Since these layers often have very much the material properties of the optical element in terms of mechanical properties, thermal expansion and the like 2 deviate, is in the embodiment shown here, the optical element facing layer 9 and the coating 5 formed as an intermediate layer, which is correspondingly softer than that formed in the layer 8th the coating 5 ,

Diese Pufferschicht bzw. Verbindungsschicht 9 dient also als Vermittler zwischen den unterschiedlichen Eigenschaften des optischen Elements 2 und der Schicht 8 der Beschichtung 5.This buffer layer or connecting layer 9 So serves as an intermediary between the different properties of the optical element 2 and the layer 8th the coating 5 ,

Neben dem hier dargestellten Aufbau mit zwei Schichten 8, 9 der Beschichtung 5 ist auch denkbar, dass hier eine Vielzahl von Schichten eingesetzt wird, welche jeweils über Verdampfen oder Sputtern sowie gegebenenfalls über galvanisches Verstärken der ursprünglich aufgedampften oder ursprünglich aufgesputterten metallisch leitenden Schicht verstärkt werden könnten.In addition to the structure shown here with two layers 8th . 9 the coating 5 It is also conceivable that a multiplicity of layers is used here, which could each be reinforced by evaporation or sputtering and possibly by galvanic reinforcement of the originally vapor-deposited or originally sputtered metallically conductive layer.

Der bevorzugte Einsatzzweck eines derartigen optischen Systems 1 ist sicherlich in der Halbleiter-Lithographie als optisches System 1' einer Beleuchtungseinrichtung oder – mit noch höheren Qualitätsanforderungen – als optisches System 1'' eines Projektionsobjektivs zu sehen, wobei aufgrund der reproduzierbaren Lage und der verschleißfreien Austauschbarkeit des optischen Elements, insbesondere an optische Bauteile, wie Abschlußplatten oder dergleichen gedacht werden kann.The preferred use of such an optical system 1 is certainly in semiconductor lithography as an optical system 1' a lighting device or - with even higher quality requirements - as an optical system 1'' a projection lens, which can be thought of due to the reproducible position and the wear-free interchangeability of the optical element, in particular to optical components such as end plates or the like.

In 4 ist eine Projektionsbelichtungsanlage 101 für die Mikrolithographie dargestellt. Diese dient zur Belichtung von Strukturen auf ein mit photosensitiven Materialien beschichtetes Substrat, welches im allgemeinen überwiegend aus Silizium besteht und als Wafer 102 bezeichnet wird, zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, wie z.B. Computerchips.In 4 is a projection exposure machine 101 shown for microlithography. This serves for the exposure of structures to a substrate coated with photosensitive materials, which generally consists predominantly of silicon and as wafers 102 is referred to, for the production of semiconductor devices, such as computer chips.

Die Projektionsbelichtungsanlage 101 besteht dabei im wesentlichen aus einer Beleuchtungseinrichtung 103 mit mehreren optischen Systemen 1', welche optische Elemente 2', die über Fassungen bzw. Lagereinrichtungen 3' gelagert sind, aufweisen, einer Einrichtung 104 zur Aufnahme und exakten Positionierung einer mit einer gitterartigen Struktur versehenen Maske, einem sogenannten Reticle 105, durch welches die späteren Strukturen auf dem Wafer 102 bestimmt werden, einer Einrichtung 106 zur Halterung, Bewegung und exakten Positionierung eben dieses Wafers 102 und einer Abbildungseinrichtung, nämlich einem Pro jektionsobjektiv 107, mit mehreren optischen Systemen 1'' welche optische Elemente, wie z.B. Linsen und Abschlussplatten 2'', die über Fassungen bzw. Lagereinrichtungen 3'' in einem Objektivgehäuse 108 des Projektionsobjektives 107 gelagert sind, aufweisen.The projection exposure machine 101 consists essentially of a lighting device 103 with several optical systems 1' , which optical elements 2 ' that about frames or storage facilities 3 ' are stored, have a device 104 for receiving and exact positioning of a mask provided with a grid-like structure, a so-called reticle 105 through which the later structures on the wafer 102 be determined, a facility 106 for holding, moving and exact positioning of just this wafer 102 and an imaging device, namely a projection lens 107 , with several optical systems 1'' which optical elements, such as lenses and end plates 2 '' that about frames or storage facilities 3 '' in a lens housing 108 of the projection lens 107 are stored have.

Das grundsätzliche Funktionsprinzip sieht dabei vor, dass die in das Reticle 105 eingebrachten Strukturen auf den Wafer 102 verkleinert abgebildet werden.The basic principle of operation provides that in the reticle 105 introduced structures on the wafer 102 be shown reduced in size.

Claims (19)

Optisches System mit einem optischen Element und mit Lagereinrichtungen für das optische Element, dadurch gekennzeichnet, dass in Teilbereichen der Oberfläche des optischen Elements (2, 2', 2''), welche mit den Lagereinrichtungen (3, 3', 3'') für das optische Element (2, 2', 2'') korrespondieren, eine Beschichtung (5) angebracht ist, wobei die Beschichtung (5) wenigstens ein Material aufweist, welches andere Materialeigenschaften als das Material des optischen Elements (2, 2', 2'') aufweist.Optical system comprising an optical element and bearing means for the optical element, characterized in that in subregions of the surface of the optical element ( 2 . 2 ' . 2 '' ), which with the storage facilities ( 3 . 3 ' . 3 '' ) for the optical element ( 2 . 2 ' . 2 '' ), a coating ( 5 ), the coating ( 5 ) has at least one material which has different material properties than the material of the optical element ( 2 . 2 ' . 2 '' ) having. Optisches System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Material des optischen Elements (2, 2', 2'') ein kristallines Material ist.Optical system according to claim 1, characterized characterized in that the material of the optical element ( 2 . 2 ' . 2 '' ) is a crystalline material. Optisches System nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element (2, 2', 2'') ein refraktives optisches Element ist.Optical system according to claim 1 or 2, characterized in that the optical element ( 2 . 2 ' . 2 '' ) is a refractive optical element. Optisches System nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (5) zumindest in Teilbereichen als Hartstoffbeschichtung ausgebildet ist.Optical system according to claim 1, 2 or 3, characterized in that the coating ( 5 ) is formed at least in some areas as hard material coating. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Material der Beschichtung (5) zumindest in Teilbereichen magnetisch leitend ist.Optical system according to one of claims 1 to 4, characterized in that the material of the coating ( 5 ) is magnetically conductive at least in some areas. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (5) wenigstens zwei Schichten (8, 9) aufweist, wobei die dem optischen Element (2, 2', 2'') zugewandte Schicht (9) weicher ist als die dem optischen Element (2, 2', 2'') abgewandte Schicht (8).Optical system according to one of claims 1 to 5, characterized in that the coating ( 5 ) at least two layers ( 8th . 9 ), wherein the optical element ( 2 . 2 ' . 2 '' ) facing layer ( 9 ) is softer than that of the optical element ( 2 . 2 ' . 2 '' ) facing away layer ( 8th ). Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (5) Nickel aufweist.Optical system according to one of claims 1 to 6, characterized in that the coating ( 5 ) Has nickel. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (5) Hartstoffe aufweist.Optical system according to one of claims 1 to 7, characterized in that the coating ( 5 ) Has hard materials. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Lagereinrichtungen (3, 3', 3'') als Dreipunktlagerungen mit kugelförmigen Auflageelementen (4) für das optische Element (2, 2', 2'') ausgebildet sind.Optical system according to one of claims 1 to 8, characterized in that the storage facilities ( 3 . 3 ' . 3 '' ) as three-point bearings with spherical bearing elements ( 4 ) for the optical element ( 2 . 2 ' . 2 '' ) are formed. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Lagereinrichtungen (3, 3', 3'') als magnetische Elemente (Pole 6, 7), deren magnetischer Fluß beeinflußbar ist, ausgebildet sind.Optical system according to one of claims 1 to 8, characterized in that the storage facilities ( 3 . 3 ' . 3 '' ) as magnetic elements (poles 6 . 7 ), whose magnetic flux can be influenced, are formed. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Lagereinrichtungen (3, 3', 3'') magnetisch leitend ausgebildet sind und mit einem magnetischen Element in Verbindung stehen.Optical system according to one of claims 1 to 8, characterized in that the storage facilities ( 3 . 3 ' . 3 '' ) are magnetically conductive and are in communication with a magnetic element. Optisches System nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass der magnetische Fluß der magnetischen Elemente (Pole 6, 7) beeinflußbar ist.Optical system according to claim 10 or 11, characterized in that the magnetic flux of the magnetic elements (poles 6 . 7 ) is influenced. Optisches System nach Anspruch 10, 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass die magnetischen Elemente (Pole 6, 7) mehrere Polpaare aufweisen, wobei der magnetische Fluß über ein mechanisches Verschieben der einzelnen Polpaare gegeneinander beeinflußbar ist.Optical system according to claim 10, 11 or 12, characterized in that the magnetic elements (poles 6 . 7 ) have a plurality of pole pairs, wherein the magnetic flux via a mechanical displacement of the individual pole pairs can be influenced against each other. Optisches System nach Anspruch 10, 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass der magnetische Fluß über elektromagnetische Einrichtungen beeinflußbar ist.An optical system according to claim 10, 11 or 12, characterized characterized in that the magnetic flux via electromagnetic devices impressionable is. Verfahren zum Aufbringen einer Beschichtung auf ein optisches Element für ein optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (5) auf Teilbereiche des optischen Elements (2, 2', 2'') aufgedampft wird.Method for applying a coating to an optical element for an optical system according to one of Claims 1 to 14, characterized in that the coating ( 5 ) on portions of the optical element ( 2 . 2 ' . 2 '' ) is evaporated. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine abschließende Schicht aus einem elektrisch leitfähigen Material aufgedampft wird, wonach über galvanische Vorgänge die Schichtdicke der Beschichtung (5) vergrößert wird.Process according to Claim 15, characterized in that at least one final layer of an electrically conductive material is vapor-deposited, after which the layer thickness of the coating ( 5 ) is increased. Verfahren zum Aufbringen einer Beschichtung auf ein optisches Element für ein optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (5) auf Teilbereiche des optischen Elements (2, 2', 2'') aufgesputtert wird.Method for applying a coating to an optical element for an optical system according to one of Claims 1 to 14, characterized in that the coating ( 5 ) on portions of the optical element ( 2 . 2 ' . 2 '' ) is sputtered. Verwendung eines optischen Systems (1'') nach einem der Ansprüche 1 bis 14 in einem Projektionsobjektiv (107) einer Projektionsbelichtungsanlage (101) für die Mikrolithographie.Use of an optical system ( 1'' ) according to one of claims 1 to 14 in a projection objective ( 107 ) of a projection exposure apparatus ( 101 ) for microlithography. Verwendung eines optischen Systems (1') nach einem der Ansprüche 1 bis 14 in einem Beleuchtungssystem (103) einer Projektionsbelichtungsanlage (101) für die Mikrolithographie.Use of an optical system ( 1' ) according to one of claims 1 to 14 in a lighting system ( 103 ) of a projection exposure apparatus ( 101 ) for microlithography.
DE102005019716A 2005-04-28 2005-04-28 Optical system including optical element with its support useful for projection objectives in microlithography has nickel or hard material coating of optical element surface and optical element consisting of refractive crystalline material Ceased DE102005019716A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005019716A DE102005019716A1 (en) 2005-04-28 2005-04-28 Optical system including optical element with its support useful for projection objectives in microlithography has nickel or hard material coating of optical element surface and optical element consisting of refractive crystalline material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005019716A DE102005019716A1 (en) 2005-04-28 2005-04-28 Optical system including optical element with its support useful for projection objectives in microlithography has nickel or hard material coating of optical element surface and optical element consisting of refractive crystalline material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102005019716A1 true DE102005019716A1 (en) 2006-11-02

Family

ID=37085057

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102005019716A Ceased DE102005019716A1 (en) 2005-04-28 2005-04-28 Optical system including optical element with its support useful for projection objectives in microlithography has nickel or hard material coating of optical element surface and optical element consisting of refractive crystalline material

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102005019716A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013215203A1 (en) * 2013-08-02 2014-08-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Holder for mirror assembly of projection exposure system, has base body including magnet, which is arranged such that magnetic field is created in region of support surface

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69017208T2 (en) * 1990-08-24 1995-06-22 Hashimoto Forming Kogyo Co Resin windows for motor vehicles or the like.
DE19735760A1 (en) * 1997-08-18 1999-02-25 Zeiss Carl Fa Soldering an optical component to a metal mounting
EP0932061A2 (en) * 1998-01-23 1999-07-28 Lucent Technologies Inc. Optical components having magnetic thin films for orientation and method of assembling same
DE10156884A1 (en) * 2001-11-20 2003-05-28 Zeiss Carl Smt Ag Arrangement for mounting holder for optical element, especially for semiconductor microlithography, has magnetic flux in component inhibited by lower permeability region
DE10228053A1 (en) * 2002-06-19 2004-01-15 Carl Zeiss Jena Gmbh Focusing system for optical components of projector comprises e.g. cylindrical adjusters which cooperate with sloping surfaces attached to components
WO2004011984A2 (en) * 2002-07-31 2004-02-05 Canon Kabushiki Kaisha Retainer, exposure apparatus, and semiconductor device fabrication method
EP0952490B1 (en) * 1998-04-23 2004-07-14 Canon Kabushiki Kaisha Lens barrel and projection aligner

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69017208T2 (en) * 1990-08-24 1995-06-22 Hashimoto Forming Kogyo Co Resin windows for motor vehicles or the like.
DE19735760A1 (en) * 1997-08-18 1999-02-25 Zeiss Carl Fa Soldering an optical component to a metal mounting
EP0932061A2 (en) * 1998-01-23 1999-07-28 Lucent Technologies Inc. Optical components having magnetic thin films for orientation and method of assembling same
EP0952490B1 (en) * 1998-04-23 2004-07-14 Canon Kabushiki Kaisha Lens barrel and projection aligner
DE10156884A1 (en) * 2001-11-20 2003-05-28 Zeiss Carl Smt Ag Arrangement for mounting holder for optical element, especially for semiconductor microlithography, has magnetic flux in component inhibited by lower permeability region
DE10228053A1 (en) * 2002-06-19 2004-01-15 Carl Zeiss Jena Gmbh Focusing system for optical components of projector comprises e.g. cylindrical adjusters which cooperate with sloping surfaces attached to components
WO2004011984A2 (en) * 2002-07-31 2004-02-05 Canon Kabushiki Kaisha Retainer, exposure apparatus, and semiconductor device fabrication method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013215203A1 (en) * 2013-08-02 2014-08-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Holder for mirror assembly of projection exposure system, has base body including magnet, which is arranged such that magnetic field is created in region of support surface

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2008034636A2 (en) Optical element and method
DE102016201445A1 (en) Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus
DE102013214989A1 (en) Mirror assembly for projection exposure system, for microlithography, has body magnets and counter magnets that are attached with poles such that part of magnets is aligned opposite to alignment of another part of magnets
WO2016087092A1 (en) Surface correction on coated reflective optical elements
DE102009018977A1 (en) Device for aligning and prefixing a wafer
DE102020211696A1 (en) Measuring arrangement for determining the position and / or the orientation of an optical element and projection exposure system
EP1922586B1 (en) Replacement device for an optical element
DE602004011705T2 (en) Lithographic apparatus, method of making a device and device therewith
DE102005019716A1 (en) Optical system including optical element with its support useful for projection objectives in microlithography has nickel or hard material coating of optical element surface and optical element consisting of refractive crystalline material
DE102015201255A1 (en) Arrangement and lithographic system with arrangement
DE19853588B4 (en) Holding device for a substrate
DE102012200732A1 (en) Mirror assembly for optical system of microlithography projection exposure apparatus used for manufacture of LCD, has fixing elements and solid-portion joints that are arranged on opposite sides of carrier
DE10303902B4 (en) Method and device for aligning an adjustment microscope using a mirrored adjustment mask
DE102013100535B4 (en) Apparatus and method for aligning a substrate and a mask
DE102018216964A1 (en) Actuator device for aligning an element, projection exposure system for semiconductor lithography and method for aligning an element
DE102018207146A1 (en) Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus
DE102012214232A1 (en) Bearing device for mirror of mirror arrangement for projection exposure system, has three supports, and support bearing, which is formed such that only force component is transferred in direction opposite to gravitational force
WO2004066010A1 (en) Method for production of a facetted mirror
DE102015200532A1 (en) module
DE102015213253A1 (en) Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus
DE102018203241A1 (en) Optical element, and method for correcting the wavefront effect of an optical element
DE102008040874A1 (en) Projection exposure system for use in semiconductor lithography, has optical component with optical and carrier elements, and surface elements of joining surface lying opposite to each other on outer surface of connecting element
DE102011004961A1 (en) Arrangement for holding optical element of e.g. optical system in extreme UV-projection exposure system utilized in microlithography for manufacturing e.g. LCD, has adjusting element varying relative position of ball-cap-shaped components
WO2022002372A1 (en) Device and method for aligning substrates
DE102005057325A1 (en) Mirror`s image characteristics variation device, has bar or rod-shaped units variable in their length independent of each other during activation of actuators, such that changes lead to local deformations on mirror surface

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8131 Rejection