DE102004032533A1 - Production of multiple layer ceramic composite used in electronics industry comprises forming metallic layer structures on film-like intermediate support, positioning support between films and forming composite - Google Patents

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Abstract

The production of a multiple layer ceramic composite comprises forming metallic layer structures on a film-like intermediate support (2) made from a material which is fired, vaporized and/or sublimed in a region between the baking temperature of the binder materials and the sintering temperature of the ceramic foils, positioning the intermediate support between at least two films or plates made from non-fired ceramic and forming a composite under the influence of pressure and temperature. A baking and sintering process is carried out, in which the intermediate support is fired, vaporized and/or sublimed and removed from the composite. A force exerting a uniaxial pressure is applied to the composite temporarily during the baking and sintering process.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines mehrschichtigen Keramikverbundes mit innenliegenden metallischen Strukturen nach den Merkmalen des ersten Patentanspruches.The The invention relates to a method for producing a multilayered Ceramic composite with internal metallic structures according to the features of the first claim.

Nach dem Stand der Technik werden metallische Schichtstrukturen, die vorwiegend als Leiterbahnen für den elektrischen Strom genutzt werden, direkt auf ungebrannte Keramik- oder Glaskeramikfolien mit Hilfe von zumindest teilweise aus Metallpartikeln bestehenden Pasten oder Schlickern aufgebracht. Dies geschieht hauptsächlich durch Siebdruck, teilweise auch in Kombination mit fotolithografischen Verfahren. Die mit den metallischen Strukturen versehenen Keramikfolien werden anschließend unter Einfluss von Druck und Temperatur verbunden. In dem folgenden Ausbrenn- und Sinterprozess entsteht ein Keramikverbund mit innenliegenden Leitbahnen und gegebenenfalls mit Wirkstrukturen wie Widerständen, Kapazitäten u.ä. Um während des Herstellungsprozesses des Keramikverbundes seine laterale Schrumpfung zu verringern oder zu verhindern, können an den Außenseiten des Verbundes höhersinternde Keramikfolien aufgebracht und/oder während des Brennprozesses ein uniaxialer Druck auf den herzustellenden Verbund ausgeübt werden.To the prior art are metallic layer structures, the mainly as tracks for Electricity can be used directly on unfired ceramic or glass-ceramic foils with the aid of at least partially of metal particles applied to existing pastes or slips. This happens mainly through Screen printing, sometimes in combination with photolithographic Method. The provided with the metallic structures ceramic films are then submerged Influence of pressure and temperature connected. In the following burnout and sintering process creates a ceramic composite with internal Channels and possibly with active structures such as resistors, capacitances and the like. To during the manufacturing process the ceramic composite to reduce its lateral shrinkage or to prevent on the outside of the association of higher - order Applied ceramic films and / or during the firing process uniaxial pressure on the composite to be produced.

Nachteil dieser bekannten Verfahren ist, dass die Aufbringung der metallhaltigen Schichtstrukturen auf die ungebrannten Keramik- oder Glaskeramikfolien nur mit Verfahren erfolgen kann, die die ungebrannten Keramikfolien chemisch nicht belasten. In Folge dessen sind die geometrischen und elektrischen Eigenschaften der erzeugten metallischen Schichtstrukturen im Vergleich zu Schichtstrukturen auf anderen Substraten erheblich eingeschränkt und die allgemeinen Vorzüge keramischer Mehrschichtsysteme können folglich nur teilweise genutzt werden.disadvantage This known method is that the application of the metal-containing layer structures on the unfired ceramic or glass ceramic foils only with process can be done, which does not chemically the unfired ceramic films strain. As a result, the geometric and electrical Properties of the generated metallic layer structures in comparison significantly limited to layer structures on other substrates and the general benefits ceramic multilayer systems can consequently only partially used.

Zur Minimierung dieser chemischen Belastungen sind Verfahren bekannt, bei denen für die Aufbringung der Schichtstrukturen Zwischenträger verwendet werden. Die in einem ersten Verfahrensschritt auf dem Zwischenträger strukturierten Schichten werden anschließend auf die ungebrannten Keramikfolien mechanisch übertragen.to Minimization of these chemical stresses are known methods where for the application of the layer structures intermediate carrier can be used. In the structured a first step on the intermediate carrier Layers are subsequently mechanically transferred to the unfired ceramic films.

Bei diesen Verfahren sind die Schichtstrukturen sowie die ungebrannten Keramikfolien entsprechend starken mechanischen Belastungen ausgesetzt.at These methods are the layer structures as well as the unfired ones Ceramic films exposed to correspondingly strong mechanical loads.

Aus der DE 100 39 296.2 ist ein Verfahren zur Herstellung keramischer Bauteile bekannt, bei dem ein Zwischenträger mit den aufgebrachten Schichtstrukturen zwischen die Keramikfolien positioniert wird und während des anschließenden Ausbrenn- und Sinterprozesses der Zwischenträger nahezu rückstandsfrei zersetzt wird. Die Ausgangsmischung für die Beschichtung ist in diesem Verfahren ebenfalls eine Paste oder ein Schlicker. Während des folgenden Ausbrenn- und Sinterprozesses findet eine Versinterung der Keramikfolien und der aufgebrachten Schichtstrukturen statt, die mit einer Schrumpfung der Keramikfolien und der Schichtstrukturen verbunden ist.From the DE 100 39 296.2 a method for the production of ceramic components is known, in which an intermediate carrier is positioned with the applied layer structures between the ceramic films and decomposed during the subsequent Ausbrenn- and sintering process of the intermediate carrier almost residue-free. The starting mixture for the coating is likewise a paste or a slip in this process. During the subsequent burn-out and sintering process, sintering of the ceramic films and the applied layer structures takes place, which is associated with a shrinkage of the ceramic films and the layer structures.

Die mittels aller dieser bekannten Verfahren aufgebrachten Wirkstrukturen aus zumindest teilweise aus Metallpartikeln bestehenden Pasten oder Schlicker weisen hinsichtlich ihrer Auflösung, Schichtdicke, Kontur, Form und elektrischen Parameter Nachteile auf. Sie besitzen eine geringe Formstabilität und infolge der Sinterschrumpfung ist ihre Endform sehr toleranzbehaftet. Daneben haben sie eine geringe Leitfähigkeit und ein schlechtes Rauschverhalten.The by means of all these known methods applied active structures from at least partially made of metal particles pastes or slip with regard to their resolution, layer thickness, Contour, shape and electrical parameters disadvantages. You own a low dimensional stability and due to the sintering shrinkage their final shape is very tolerant. In addition, they have a low conductivity and a poor noise performance.

Zur Überwindung dieser Nachteile sollen die aufzubringenden Wirkstrukturen aus einem massiven metallischen bzw. vollmetallischen Material gefertigt werden. Problematisch bei der Herstellung dieser vollmetallischen Strukturen ist jedoch, dass die zu deren Aufbringung notwendigen chemischen oder elektrochemischen Prozesse und/oder Dünnschichtprozesse, wie Aufdampfen und Sputtern, nur mit sehr hohem Aufwand oder unter starker Beanspruchung der ungesinterten Keramikfolien durchgeführt werden können.To overcome These disadvantages are the applied active structures of a solid metallic or full metallic material are made. Problematic in the production of these fully metallic structures is, however, that necessary for their application chemical or electrochemical processes and / or thin-film processes, such as vapor deposition and sputtering, only with great effort or under heavy use of the unsintered ceramic films can be performed.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, ein Verfahren zur Herstellung eines mehrschichtigen Keramikverbundes bereitzustellen, mit dem die chemische und mechanische Belastung der ungebrannten Keramikfolien und der aufzubringenden Wirkstrukturen minimiert und gleichzeitig die elektrischen und die Formgebungseigenschaften der Wirkstrukturen verbessert werden.task Therefore, the present invention is a process for production to provide a multilayer ceramic composite, with the the chemical and mechanical loading of the unfired ceramic films and the applied active structures minimized and simultaneously the electrical and the shaping properties of the active structures be improved.

Erfindungsgemäß gelingt die Lösung dieser Aufgabe mit den Merkmalen des ersten Patentanspruches.According to the invention succeeds the solution this task with the features of the first claim.

Vorteilhafte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Verfahrens sind in den Unteransprüchen angegeben.advantageous Embodiments of the method according to the invention are in the dependent claims specified.

Die Erfindung wird im Folgenden anhand von Zeichnungen näher erläutert. Die zugehörigen Zeichnungen zeigen:The The invention is explained in more detail below with reference to drawings. The associated Drawings show:

1 Erzeugung von metallischen Strukturen auf einem Zwischenträger 1 Generation of metallic structures on an intermediate carrier

2 Herstellung eines Verbundes unter dem Einfluss von Druck und Temperatur 2 Production of a composite under the influence of pressure and temperature

3 Ausbrenn- und Sinterprozess mit Ausgasung des Zwischenträgers und Verbinden der Keramikfolien unter uniaxialem Druck 3 Burn-out and sintering process with outgassing of the intermediate carrier and bonding the ceramic films under uniaxial pressure

4 versinterter Keramikverbund mit innenliegenden metallischen Strukturen 4 Sintered ceramic composite with internal metallic structures

Im ersten Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens (1) wird eine nicht pasten- oder schlickerförmige metallische Struktur (1) auf einem vorzugsweise folienförmigen Zwischenträger (2) aufgebracht. Dies kann durch Bedampfen, Besputtern, Aufpressen, Aufkleben und/oder chemische oder elektrochemische Verfahren, bei Bedarf in Kombination mit lithografischen Prozessen geschehen. Ein besonderer Vorzug des vorgeschlagenen Verfahrens ist, dass der verwendete Zwischenträger so gewählt werden kann, dass Strukturierungsprozesse zum Einsatz kommen können, die auf ungesinterter Keramik- oder Glaskeramikfolie nicht oder nur eingeschränkt möglich sind. Das Material aus dem der folienförmige Zwischenträger beschaffen ist, muss bei Temperaturen die im Bereich zwischen der Ausbrenntemperatur der Bindermaterialien und der Sintertemperatur der Keramikfolien liegen, verbrennen, verdampfen und/oder sublimieren. Auf dem Zwischenträger können sich auch noch weitere organische oder anorganische Schichten oder Strukturen befinden, die als Haftvermittler oder zur Erhöhung der chemischen Beständigkeit dienen.In the first step of the process according to the invention ( 1 ) is a non-pasty or slip-shaped metallic structure ( 1 ) on a preferably foil-shaped intermediate carrier ( 2 ) applied. This can be done by vapor deposition, sputtering, pressing, gluing and / or chemical or electrochemical processes, if necessary in combination with lithographic processes. A particular advantage of the proposed method is that the intermediate carrier used can be selected so that structuring processes can be used which are not or only to a limited extent possible on unsintered ceramic or glass ceramic foil. The material from which the film-shaped intermediate carrier is designed must burn, vaporize and / or sublime at temperatures which are in the range between the burnout temperature of the binder materials and the sintering temperature of the ceramic films. The intermediate carrier may also contain other organic or inorganic layers or structures which serve as adhesion promoters or to increase the chemical resistance.

Der folienförmige Zwischenträger (2) mit den erzeugten Strukturen (1) wird anschließend zwischen mindestens zwei ungebrannten Keramikfolien oder -platten (3) positioniert (2). Unter Einfluss von Druck und Temperatur werden Zwischenträger und Keramikfolien miteinander verbunden. An den Außenseiten des Verbundes werden spezielle ungebrannte Keramikfolien (Releasetape) (6) positioniert, die eine höhere Sintertemperatur besitzen und dem Zweck dienen, die laterale (x-y-Schrumpfung) einzuschränken und das Anhaften des Verbundes an die Presswerkzeuge zu verhindern. Sie können nach dem Sinterprozess wieder entfernt werden.The foil-shaped intermediate carrier ( 2 ) with the generated structures ( 1 ) is then between at least two unfired ceramic sheets or plates ( 3 ) ( 2 ). Under the influence of pressure and temperature, intermediate carriers and ceramic films are connected to each other. On the outer sides of the composite, special unfired ceramic films (release tape) ( 6 ), which have a higher sintering temperature and serve the purpose of limiting the lateral (xy shrinkage) and preventing the adhesion of the composite to the pressing tools. They can be removed after the sintering process.

In dem nächsten Verfahrensschritt (3) findet ein Ausbrenn- und Sinterprozess statt, wobei zumindest zeitweise ein vorzugsweise uniaxialer Druck auf den Verbund ausgeübt wird, der ganz oder teilweise die Bildung von Hohlräumen im Verbund verhindert und ein dichtes Zusammensintern der Keramik- oder Glaskeramikfolien bzw. -platten unterstützt. Im Ergebnis entsteht ein mechanisch stabiler Keramikverbund, ohne dass zusätzliche Haftvermittler (z.B. niedrigschmelzende Gläser etc.) nötig sind (4). Während des Brennprozesses tritt ein Temperaturbereich auf, in dem die anfangs ungebrannten Keramikfolien durch Ausbrennen der enthaltenen Bindermaterialien teilweise porös werden. Aufgrund der Materialeigenschaften des Zwischenträgers beginnt gleichzeitig oder später auch er in diesem Temperaturbereich zu verbrennen, zu verdampfen und/oder zu sublimieren und so über die entstandenen Poren aus dem Verbund zu entweichen. Nach dem Erreichen der Sintertemperatur der Keramikfolien verschließen sich die Poren und der entstandene Keramikverbund enthält die gewünschten innenliegenden metallischen Strukturen.In the next step ( 3 ) takes place a burn-out and sintering process, wherein at least temporarily a preferably uniaxial pressure is exerted on the composite, which completely or partially prevents the formation of voids in the composite and supports a close together sintering of the ceramic or glass ceramic sheets or plates. The result is a mechanically stable ceramic composite, without the need for additional adhesion promoters (eg low-melting glasses, etc.) ( 4 ). During the firing process, a temperature range occurs in which the initially unfired ceramic films become partially porous by burning out of the binder materials contained. Due to the material properties of the intermediate carrier, at the same time or later, it also begins to burn, evaporate and / or sublime in this temperature range and thus escape from the composite via the resulting pores. After reaching the sintering temperature of the ceramic films, the pores close and the resulting ceramic composite contains the desired internal metallic structures.

Bei dem erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren wird das sogenannte druckunterstützte 0-Schrumpfungsverfahren, bei dem während des Ausbrenn- und Sinterprozesses zumindest zeitweise ein uniaxialer Druck auf das Substrat ausgeübt wird, angewendet. Dadurch kann die Sinterschrumpfung der Keramikmaterialien so gesteuert werden, dass die Herstellung von mehrschichtigen Keramikverbünden mit innenliegenden Wirkstrukturen aus vollmetallischen Materialien, die im Gegensatz zu Pasten oder Schlickern während des Sinterprozesses nicht oder nur minimal schrumpfen (< 10%), in Kombination mit einem sich während des Sinterprozesses auflösenden Trägermaterials möglich wird.at the production process according to the invention becomes the so-called pressure-assisted 0-shrinkage process, during that the Ausbrenn- and sintering process at least temporarily a uniaxial Pressure exerted on the substrate is applied. This can reduce the sintering shrinkage of the ceramic materials be controlled so that the production of multilayer ceramic composites internal active structures made of fully metallic materials, unlike pastes or slips during the sintering process or shrink only minimally (<10%), in combination with a while of the sintering process dissolving support material possible becomes.

Der Ausbrenn- und Sinterprozess kann durch den Einsatz von oxidierenden, reduzierenden oder inerten Gasen oder durch Arbeiten unter Vakuum gesteuert werden.Of the Burn-out and sintering process can be achieved by the use of oxidizing, reducing or inert gases or by working under vacuum to be controlled.

Durch das beschriebene Verfahren ist es möglich, einen mehrlagigen Keramikverbund mit innenliegenden metallischen Strukturen in hoher Präzision und Strukturauflösung herzustellen. Dabei können die metallischen Strukturen auf dem folienförmigen Zwischenträger hergestellt werden, ohne dass die ungebrannten Keramikfolien chemisch oder mechanisch beansprucht werden. Die Lösung der erzeugten Strukturen vom Zwischenträger erfolgt während des Brennprozesses innerhalb des Verbundes, wodurch die Strukturen fixiert und durch das langsame Entfernen (Ausgasen) des Zwischenträgermaterials kaum mechanischen Belastungen ausgesetzt sind.By The method described makes it possible to have a multilayer ceramic composite with internal metallic structures in high precision and structural resolution manufacture. It can the metallic structures made on the foil-shaped intermediate carrier be without the unfired ceramic films chemically or mechanically be claimed. The solution the generated structures from the subcarrier takes place during the Burning process within the composite, which fixes the structures and by the slow removal (outgassing) of the intermediate carrier material are hardly exposed to mechanical stress.

Das erfindungsgemäße Verfahren wird an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert.The inventive method is an embodiment explained in more detail.

Auf einem Zwischenträger aus Polyimidfolie wird durch Aufsputtern von Silber eine für die galvanische Abscheidung erforderliche, leitfähige Startschicht aufgebracht. Diese wird dann mit einem Resist versehen, der fotolithografisch strukturiert wird. Anschließend wird die Silberschicht in den Öffnungen des Resists galvanisch verstärkt. Dann werden Resist und unbedeckte Teile der Startschicht entfernt, so dass nur die galvanisch verstärkten Strukturen verbleiben. Anschließend wird der Zwischenträger zwischen mehrere Lagen ungebrannter Keramikfolien, im speziellen Fall LTCC (Low Temperature Cofired Ceramics) positioniert. An der Ober- und Unterseite wird noch jeweils eine als Releasetape bezeichnete ungebrannte Keramikfolie (z.B. Aluminiumoxidkeramik) aufgebracht, die einerseits die laterale Sinterschrumpfung verringert und andererseits ein späteres Anhaften des Verbundes am Drucksinterofen bzw. den Druckverteilerplatten verhindert. Durch Zusammenpressen der übereinander geschichteten Folien werden diese bei Temperaturen über 30°C miteinander verbunden. Dabei kann das LTCC- Material selbst noch metallische und/oder nichtmetallische Strukturen sowie Durchführungen enthalten.On an intermediate carrier made of polyimide film, a conductive starting layer required for the electrodeposition is applied by sputtering on silver. This is then provided with a resist, which is structured photolithographically. Subsequently, the silver layer is galvanically reinforced in the openings of the resist. Then resist and uncovered parts of the starting layer are removed, so that only the galvanically reinforced structures remain. Subsequently, the intermediate carrier between several layers of unfired ceramic films, in the special case LTCC (Low Temperature Cofired Ceramics) positioned. At the top and bottom of each still designated as a release tape unfired ceramic film (eg alumina ceramic) is applied, on the one hand reduces the lateral sintering shrinkage and on the other hand prevents subsequent adhesion of the composite pressure sintering or the pressure distribution plates. By compressing the stacked films, these are bonded together at temperatures above 30 ° C. The LTCC material itself may still contain metallic and / or non-metallic structures as well as feedthroughs.

Anschließend wird das Substrat einem Sinterprozess unterzogen, bei dem erfindungsgemäß eine uniaxiale Kraft auf dass Substrat ausgeübt wird. Ab einer bestimmten Temperatur (ca. 250°C) findet ein Ausbrand der organischen Binder des LTCC- Materials statt. Gleichzeitig oder später beginnt der Zwischenträger zu verbrennen und/oder zu sublimieren. Dabei können die entstehenden, hauptsächlich gasförmigen Abprodukte durch das nun poröse LTCC- Material austreten. Nachdem der Zwischenträger weitgehend aus dem Substrat entwichen und der Ausbrand der Bindermaterialien beendet ist, verbleiben die ehemals auf dem Zwischenträger befindlichen Strukturen im LTCC- Verbund und dieser wird unter Temperaturen zwischen 800°C und 1000°C versintert.Subsequently, will subjected the substrate to a sintering process, in accordance with the invention a uniaxial Force on that substrate is exercised becomes. From a certain temperature (about 250 ° C) is a burnout of the organic Binder of the LTCC material. At the same time or later begins the subcarrier to burn and / or sublimate. In this case, the resulting, mainly gaseous waste products through the now porous Leak LTCC material. After the intermediate carrier largely from the substrate escaped and the burnout of the binder materials is completed, remain the former on the intermediate carrier structures in the LTCC composite and this is under temperatures between 800 ° C and sintered at 1000 ° C.

Am Ende des Prozesses liegt ein mehrschichtiger Keramikverbund mit innenliegenden metallischen Strukturen vor, der gegenüber den auf herkömmliche Weise hergestellten Keramikverbünden verbesserte elektrische und Formgebungseigenschaften (Auflösung, Formstabilität, Kontur, Schichtdicke) aufweist.At the End of the process is a multi-layer ceramic composite with inside metallic structures in front of the on conventional Improved manner produced ceramic composites electrical and shaping properties (resolution, dimensional stability, contour, Layer thickness).

11
metallische Strukturenmetallic structures
22
Zwischenträgersubcarrier
33
ungebrannte „grüne" Keramikfolienunfired "green" ceramic films
44
ungebrannte Keramikfolien (Releasetape) mitunfired Ceramic films (release tape) with
höherer Sintertemperaturhigher sintering temperature
55
versinterter Keramikverbundversinterter ceramic Composition

Claims (9)

Verfahren zur Herstellung eines mehrschichtigen Keramikverbundes mit innenliegenden metallischen Strukturen aus ungebrannten Keramikfolien dadurch gekennzeichnet, dass • auf einem vorzugsweise folienförmigen Zwischenträger aus einem Material, welches in einem Bereich zwischen der Ausbrenntemperatur der Bindermaterialien und der Sintertemperatur der Keramikfolien verbrennt, verdampft und/oder sublimiert, metallische Schichtstrukturen erzeugt werden, • der Zwischenträger zwischen mindestens zwei Folien oder Platten aus ungebrannter Keramik positioniert wird und unter Einfluss von Druck und Temperatur ein Verbund erzeugt wird, • ein Ausbrenn- und Sinterprozess erfolgt, bei dem der Zwischenträger verbrennt, verdampft und/oder sublimiert und aus dem Verbund entweicht, wobei mindestens zeitweise während dieses Ausbrenn- und Sinterprozesses eine Kraft auf den Verbund wirkt, die vorzugsweise einen uniaxialen Druck erzeugt.A method for producing a multilayer ceramic composite with internal metallic structures of unfired ceramic films, characterized in that • on a preferably foil-shaped intermediate carrier of a material which burns in a range between the burn-off of the binder materials and the sintering temperature of the ceramic films evaporated and / or sublimated, metallic Layered structures are produced, • the intermediate carrier is positioned between at least two sheets or plates of unfired ceramic and is produced under the influence of pressure and temperature, a composite, • a burn-out and sintering process takes place, in which the intermediate carrier burns, evaporates and / or sublimated and escapes from the composite, wherein at least temporarily acts a force on the composite during this burn-out and sintering process, which preferably produces a uniaxial pressure. Verfahren nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, dass das Verbinden der Keramikfolien mit dem dazwischen positionierten Zwischenträger unter Druck und Temperatur und der Ausbrenn- und Sinterprozess mit mindestens zeitweise auf den Verbund ausgeübtem uniaxialen Druck, zeitgleich erfolgen.Method according to claim 1, characterized in that the bonding of the ceramic foils to the one positioned therebetween subcarrier under pressure and temperature and the burnout and sintering process with at least temporarily uniaxial pressure applied to the composite, at the same time respectively. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2 dadurch gekennzeichnet, dass die metallischen Strukturen auf dem Zwischenträger durch chemische oder elektrochemische Verfahren und/oder durch Dünnschichttechniken, teilweise in Kombination mit lithografischen Verfahren, erzeugt werden.Method according to one of claims 1 or 2, characterized that the metallic structures on the subcarrier through chemical or electrochemical processes and / or by thin-film techniques, partially in combination with lithographic processes become. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3 dadurch gekennzeichnet, dass auf den Zwischenträger weitere organische oder anorganische Schichten oder Strukturen aufgebracht werden.Method according to one of claims 1 to 3, characterized that on the subcarrier applied further organic or inorganic layers or structures become. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4 dadurch gekennzeichnet, dass an den Außenseiten des Verbundes ungebrannte Keramikfolien oder Pasten aufgebracht werden, deren Sintertemperaturen über den Verfahrenstemperaturen liegen.Method according to one of Claims 1 to 4, characterized that on the outsides of the Composite unfired ceramic films or pastes are applied, their sintering temperatures over the process temperatures are. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5 dadurch gekennzeichnet, dass die verwendeten Keramikfolien hauptsächlich in eine Richtung (z-Richtung) während des Sinterprozesses schrumpfen.Method according to one of claims 1 to 5, characterized that the ceramic films used mainly in one direction (z-direction) while of the sintering process shrink. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6 dadurch gekennzeichnet, dass während des Ausbrenn- und Sinterprozesses oxidierende, reduzierende oder inerte Gase oder Vakuum eingesetzt werden.Method according to one of Claims 1 to 6, characterized that while the burn-out and sintering oxidizing, reducing or inert gases or vacuum can be used. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7 dadurch gekennzeichnet, dass die ungebrannten Keramikfolien mit metallischen oder nichtmetallischen Schichtstrukturen und Durchführungen versehen sind.Method according to one of claims 1 to 7, characterized that the unfired ceramic films with metallic or non-metallic layer structures and bushings are provided. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8 dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Zwischenträger und Keramikfolien gestapelt werden.Method according to one of claims 1 to 8, characterized that several intermediate carriers and ceramic sheets are stacked.
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