DE102004007640A1 - Kompaktpräzisionsstrahlmanipulierer - Google Patents

Kompaktpräzisionsstrahlmanipulierer Download PDF

Info

Publication number
DE102004007640A1
DE102004007640A1 DE102004007640A DE102004007640A DE102004007640A1 DE 102004007640 A1 DE102004007640 A1 DE 102004007640A1 DE 102004007640 A DE102004007640 A DE 102004007640A DE 102004007640 A DE102004007640 A DE 102004007640A DE 102004007640 A1 DE102004007640 A1 DE 102004007640A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
wedge
optical
angle
bracket
attached
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102004007640A
Other languages
English (en)
Inventor
James B. Santa Clara Prince
Scott M. Los Altos Detro
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agilent Technologies Inc
Original Assignee
Agilent Technologies Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agilent Technologies Inc filed Critical Agilent Technologies Inc
Publication of DE102004007640A1 publication Critical patent/DE102004007640A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/1805Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for prisms
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0875Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more refracting elements
    • G02B26/0883Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more refracting elements the refracting element being a prism
    • G02B26/0891Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more refracting elements the refracting element being a prism forming an optical wedge

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)

Abstract

Kompaktstrahlmanipulierer verwenden einen oder mehrere Risley-Prismensätze mit oder ohne einen Parallelplattentranslator. Ein Strahlmanipulierer enthält eine Platte, die befestigt ist, um Neigungs- und Gierwerteinstellungen zu erlauben, und einen Prismensatz, der befestigt ist, um Drehungen zu erlauben. Die Drehungen der Prismen stellen eine Strahlrichtung ein und eine Einstellung der Platte stellt die Strahlposition ein. Ein weiterer Strahlmanipulierer enthält einen Prismensatz, der befestigt ist, um Drehungen und Neigungs- und Gierwerteinstellungen der Prismen zu erlauben. Die Drehungen und die Neigungs- und Gierwerteinstellungen liefern gekoppelte Veränderungen an der Position und Richtung eines Strahls und iterative Einstellungen wechseln zwischen einem Drehen der Prismen, um die Strahlrichtung einzustellen, und einem Einstellen von Neigung und Gierwert, um die Strahlposition zu verändern, ab. Die iterativen Einstellungen sind abgeschlossen, wenn der Strahl eine Zielposition und eine Zielrichtung innerhalb erforderlicher Toleranzen aufweist. Ein Kleben von Elementen an optische Halterungen minimiert eine belastungsinduzierte Doppelbrechung und Temperatur- und Feuchtigkeitseffekte.

Description

  • Optische Präzisionssysteme, wie z. B. Interferometer, verwenden oftmals Strahlen, die präzise gesteuerte Positionen und Richtungen aufweisen. Viele Typen von Strahlquellen liefern jedoch Strahlen, die Positionen und/oder Richtungen aufweisen, die von einer Strahlquelle zu der nächsten variieren. Ein Strahl, der von einem entfernten Laser durch eine optische Faser geliefert wird, weist z. B. eine Position und eine Richtung auf, die von einer Faserausrichtung und einer Kollimatorlinsenposition abhängen. Folglich ist eine einfache mechanische Ausrichtung der Strahlquelle (z. B. der optischen Faser) unter Umständen nicht in der Lage, einen Strahl bereitzustellen, der eine Position und eine Richtung aufweist, die innerhalb der annehmbaren Toleranzen eines optischen Präzisionssystems liegen. Strahlmanipulierer werden so benötigt, um den Strahl präzise aus der Position und der Richtung, die die Quelle vorgibt, in die Position und die Richtung zu verschieben oder abzulenken, die die Präzisionsoptik benötigt.
  • Strahlmanipulierer verwenden oft Reflexionsoberflächen oder Spiegel, die eingestellt werden können, um einen Strahl auf den geeigneten Winkel oder die geeignete Richtung abzulenken. Wenn ein Reflexionsmanipulierer eingestellt ist, um die Richtung des Strahls zu verändern, gibt es eine Vergrößerung des Faktors 2 zwischen der Einstellung des Manipulierers und dem Winkel, in dem sich der Strahl bewegt. Diese Winkelvergrößerung und die Stabilität von Reflexionsmanipulierern sind beim Erzielen einer höchsten Stabilität in optischen Präzisionssystemen von Belang.
  • Strahlmanipulierer können ebenso eine durchlässige Optik verwenden, um einen Laserstrahl in Position oder Richtung zu lenken. Die 1A und 1B stellen ein Ablenkersystem 100 unter Verwendung angepaßter Keile 110 und 120 dar, die manchmal als ein Risley-Prismensatz bezeichnet werden, um die Richtung eines Strahls 130 einzustellen. Der Strahl 130, der auf den Keil 110 auftrifft, bricht sich gemäß dem Snelliusschen Gesetz an jeder der vier Luft-Glas-Grenzflächen 111, 112, 121 und 122 der beiden Keile 110 und 120.
  • In der Konfiguration aus 1A sind aufeinanderfolgende Grenzflächen 112 und 121 parallel zueinander und die Winkelablenkung des Strahls 130 an der Grenzfläche 121 ist gleich und entgegengesetzt zu der Winkelablenkung des Strahls 130 an der Grenzfläche 112. Ähnlich sind die Grenzflächen 111 und 122 parallel zueinander und da die Grenzflächen 112 und 121 keine Nettowinkelablenkung bewirken, ist die Winkelablenkung des Strahls 130 an der Grenzfläche 122 gleich und entgegengesetzt zu der Winkelablenkung an der Grenzfläche 111. Folglich bewirkt in der Konfiguration aus 1A das System 100 keine Nettowinkelablenkung des Strahls 130.
  • Die Keile 110 und 120 können bezüglich einander gedreht werden, um den relativen Winkel zwischen den Grenzflächen 112 und 121 zu verändern. 1B stellt eine Konfiguration des Systems 100 dar, bei der der Keil 120 so gedreht wurde, daß die Grenzflächen 112 und 121 einen maximalen Winkel zueinander bilden. In der Konfiguration aus 1B lenken Brechungen an den Grenzflächen 112, 121 und 122 den Strahl 130 in der gleichen Richtung ab, was die größte Winkelablenkung θmax bewirkt, die das System 100 erzielen kann. Kleinere Drehungen des Keils 120 relativ zu dem Keil 110 erzeugen kleinere Winkelablenkungen, so daß das System 100 jede erwünschte Winkelablenkung des Strahls 130 zwischen 0 und θmax erreichen kann. Die relativen Ausrichtungen der Keile 110 und 120 können so eingestellt werden, um die erwünschte (polare) Winkelablenkung zu liefern. Das System 100 kann ebenso als eine Einheit um seine optische Achse gedreht werden, um einen Azimutwinkel der Ablenkung einzustellen.
  • Ein Variieren eines Keilwinkels (d. h. des Winkels zwischen den Oberflächen 111 und 112 und zwischen 121 und 122) oder des Brechungsindex der Keile 110 und 120 verändert die maximale Winkelablenkung θmax des Systems 100. Der Winkelbereich, der durch das System 100 erzielt wird, ist so eine Funktion des Keilwinkels und des Brechungsindex des Glases. Ein größerer Keilwinkel oder Brechungsindex liefert ein System 100 mit größerem Bereich für die Winkelablenkungen des Strahls, macht jedoch eine Feinabstimmung auf den erwünschten Winkel schwieriger. Insbesondere ist die Winkelauflösung des Systems 100 eine Funktion des Keilwinkels, des Brechungsindex der Keile 110 und 120 und der Präzision, die für Drehungen der Keile 110 und 120 erzielt wird.
  • Translatoren, die die Position der Strahlen steuern, können ähnlich unter Verwendung von nur durchlässigen optischen Elementen implementiert sein. 2 stellt einen Translator 200 dar, der eine optische Platte 210 umfaßt, die zwei planparallele Oberflächen 211 und 212 aufweist. Die Oberflächen 211 und 212 sind parallel, so daß eine Brechung an der Oberfläche 211 einen Strahl 230 um einen Winkel ablenkt, der gleich, jedoch entgegengesetzt zu der Ablenkung ist, die durch eine Brechung an der Oberfläche 212 bewirkt wird. Entsprechend behält der Translator 200 die Richtung des Strahls 230 bei, die Platte 210 jedoch setzt den Strahl 230 um eine Verschiebung D um, die von der Dicke L der Platte 210, ihrem Brechungsindex und dem Winkel abhängt, den die Platte 210 mit dem einfallenden Strahl 230 bildet. Ein Einstellen von Neigung bzw. Pitch und Gierwert bzw. Yaw der Platte 210 stellt wirksam die Größe und Richtung der Verschiebung D ein.
  • Ein optisches Präzisionssystem, das ein Ablenkersystem 100, wie in den 1A und 1B dargestellt ist, oder einen Translator 200, wie in 2 dargestellt ist, verwendet, erfordert eine optische Befestigung, die eine präzise Steuerung der Ausrichtung der optischen Elemente erlaubt.
  • Zusätzlich sollte eine Veränderung der Temperatur der optischen Befestigung nicht die Ausrichtungen der optischen Elemente ändern. Vorzugsweise würde die optische Befestigung eine niedrige Teilzahl aufweisen, um Kosten zu reduzieren, und wäre ebenso kompakt, um eine Verwendung in Anwendungen mit eingeschränktem Raum zu erlauben.
  • Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Strahlmanipulierer mit verbesserten Charakteristika oder ein verbessertes Verfahren zum Steuern eines Pfads eines Strahls zu schaffen.
  • Diese Aufgabe wird durch einen Strahlmanipulierer gemäß Anspruch 1, 10 oder 14 oder ein Verfahren gemäß Anspruch 21 gelöst.
  • Gemäß einem Aspekt der Erfindung kombiniert ein Kompakt-Modulstrahlmanipulierer einen Risley-Prismensatz und einen Parallelplattentranslator, um ungekoppelte Einstellungen von sowohl der Richtung als auch der Position eines Strahls zu liefern. Die optischen Elemente können in optischen Halterungen fest sein, die eine relative Drehung liefern. Die Befestigungen erlauben eine Drehung der optischen Elemente um ausgewählte Achsen. Die Ausrichtung oder Drehung der optischen Halterungen kann von Hand oder mit einem Werkzeug (z. B. einem Werkzeugstab) durchgeführt werden, was eine Ausrichtungspräzision verbessert. Sobald die Position und die Richtung eines Strahls wie erwünscht eingestellt sind, können die optischen Elemente durch mechanische Mittel (z. B. Preßpassen oder Einspannen) und/oder durch ein Haftmittel an ihrem Ort „verriegelt" werden. Haftmittel werden verwendet, um die optischen Elemente an den optischen Halterungen anzubringen. Das Haftmittel kann auf eine derartige Weise aufgebracht werden, um die Wirkungen von Temperatur, Feuchtigkeit und Bewegung der optischen Elementen zu minimieren und belastungsinduzierte Doppelbrechung zu minimieren, wenn die optischen Halterungen an ihrem Ort eingespannt werden.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung ist ein Risley-Prismensatz angebracht, um eine relative und übereinstimmende Drehung um eine erste Achse, die eine Richtung nahe der Richtung eines Strahls aufweist, der manipuliert wird, sowie um eine zweite und eine dritte Achse zu erlauben, die im wesentlichen senkrecht zu der ersten Achse und zueinander sind. Ein Verwenden dicker Keile in dem Risley-Prismensatz erlaubt eine Einstellung von sowohl der Strahlrichtung als auch der Strahlposition und liefert einen sehr kompakten Strahlmanipulierer, der in einer Anwendung verwendet werden kann, die eingeschränkten Raum aufweist. Drehungen um jede der Achsen können sowohl die Richtung als auch die Position des Ausgabestrahls beeinflussen und ein iterativer Einstellungsprozeß wird unter Umständen benötigt, um die erwünschte Position und Richtung des Strahls zu erzielen.
  • Ein spezifisches Ausführungsbeispiel der Erfindung ist ein Strahlmanipulierer, der Strahlpositionseinstellungen liefert, die unabhängig von den Strahlrichtungseinstellungen sind. Der Strahlmanipulierer umfaßt eine optische Platte, die gegenüberliegende parallele Oberflächen aufweist, einen ersten und einen zweiten optischen Keil entlang eines optischen Pfades durch die Platte und eine Befestigungsstruktur für die Platte und den ersten und den zweiten Keil. Die Befestigungsstruktur liefert im allgemeinen folgende Einstellungen: Drehung des ersten Keils um den optischen Pfad; unabhängige Drehung des zweiten Keils um den optischen Pfad und Einstellung von Neigungs- und Gierwinkel der Platte relativ zu dem optischen Pfad.
  • Eine exemplarische Konfiguration der Befestigungsstruktur umfaßt eine Basis, eine erste optische Befestigung für die Platte und eine zweite optische Befestigung für die Keile. Die erste und die zweite optische Befestigung sind an der Basis angebracht, um einen Modulstrahlmanipulierer zu liefern, der in einer Vielzahl optischer Systeme verwendet werden kann. Die erste optische Befestigung kann eine optische Halterung, an der die Platte angebracht ist, und eine Struktur umfassen, die an der Basis auf eine Weise angebracht ist, die eine Drehung der Struktur um eine erste Achse erlaubt. Die optische Halterung ist auf eine Weise an der Struktur angebracht, die eine Drehung der optischen Halterung um eine zweite Achse, senkrecht zu der ersten Achse, erlaubt. Die zweite optische Befestigung kann eine Struktur umfassen, die an der Basis angebracht ist, wobei der erste Keil auf einer ersten Seite einer Öffnung durch die Struktur befestigt ist und der zweite Keil auf einer zweiten Seite der Öffnung befestigt ist.
  • Ein weiteres spezifisches Ausführungsbeispiel der Erfindung ist ein Strahlmanipulierer, der einen ersten und einen zweiten Keil und eine Befestigungsstruktur umfaßt. Die Befestigungsstruktur liefert folgende Einstellungen: Drehung des ersten Keils um einen optischen Pfad des Strahls; unabhängige Drehung des zweiten Keils um den optischen Pfad und Einstellung eines Neigungswinkels bzw. Pitchwinkels und eines Gierwinkels des Keilsatzes relativ zu dem optischen Pfad.
  • Ein Ausführungsbeispiel der Befestigungsstruktur für diesen „Trans-Keil"-Strahlmanipulierer umfaßt eine erste und eine zweite Struktur. Der erste Keil ist auf einer ersten Seite einer Öffnung durch die erste Struktur befestigt und der zweite Keil ist auf einer zweiten Seite der Öffnung befestigt. Eine Klemme für die erste Struktur weist einen ausgespannten Zustand, der Drehungen des ersten und des zweiten Keils erlaubt, und einen eingespannten Zustand auf, der die Ausrichtungen des ersten Keils und des zweiten Keils relativ zu der ersten Struktur fixiert. Die zweite Struktur ist an der ersten Struktur auf eine Weise angebracht, die eine Drehung der ersten Struktur um eine erste Achse erlaubt, während die zweite Struktur um eine zweite Achse gedreht werden kann.
  • Noch ein weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung ist ein Verfahren zum Steuern eines Pfades eines Strahls unter Verwendung eines „Trans-Keil"-Manipulierers. Das Verfahren umfaßt folgende Schritte: (a) Plazieren eines Keilsatzes, der einen ersten Keil und einen zweiten Keil umfaßt, in einem Pfad des Strahls; (b) Drehen des ersten Keils und/oder des zweiten Keils um den Pfad, um den Strahl in Richtung einer Zielrichtung abzulenken; und (c) Einstellen eines Winkels zwischen dem Pfad und einer Achse durch den Keilsatz, um den Strahl in Richtung einer Zielposition umzusetzen. Eine Bestimmung dessen, ob Schritt (c) den Strahl innerhalb eines erforderlichen Winkels der Zielrichtung hinterläßt, kann durchgeführt werden, wobei nach der Bestimmung Schritt (b) wiederholt wird, wenn der Strahl außerhalb des erforderlichen Winkels liegt. Ähnlich kann eine Bestimmung dessen, ob Schritt (b) den Strahl innerhalb einer erforderlichen Entfernung der Zielposition hinterläßt, durchgeführt werden, wobei nach dieser Bestimmung Schritt (c) wiederholt wird, wenn der Strahl außerhalb der erforderlichen Entfernung liegt. Ein iterativer Prozeß ist so möglich, der zwischen den Schritten (b) und (c) abwechselt, bis der Strahl die Zielrichtung und -position erreicht.
  • Der „Trans-Keil"-Strahlmanipulierer erfährt eine gekoppelte Winkel- und Umsetzungseinstellung, mit Ausnahme des Falls, bei dem die beiden Keile ausgerichtet sind, um einander aufzuheben. Ein Drehen des ersten Keils und/oder des zweiten Keils kann beabsichtigterweise eine Winkeltrennung oder ein -überschreiten zwischen dem Strahl und der Zielposition hinterlassen, so daß ein Einstellen des Winkels zwischen dem Pfad und der Achse den Strahl näher zu der Zielposition ablenkt. Ähnlich kann ein Einstellen des Winkels zwischen dem Pfad und der Achse den Strahl von der Zielposition versetzt hinterlassen, so daß ein Drehen des ersten Keils und/oder des zweiten Keils den Strahl näher an die Zielposition verschiebt. Drehungen und Einstellungen, die beabsichtigte Überschreitungen liefern, sind besonders nütz lich, wenn relativ große Einstellungen an der Richtung und/oder Position des Strahls vorgenommen werden.
  • Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend Bezug nehmend auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert, wobei eine Verwendung der gleichen Bezugszeichen in unterschiedlichen Figuren ähnliche oder identische Gegenstände anzeigt. Es zeigen:
  • 1A und 1B einen bekannten Strahlablenker unter Verwendung eines Risley-Prismensatzes zur Einstellung der Richtung eines Strahls;
  • 2 einen bekannten Strahltranslator, der eine Platte verwendet, die parallele Seiten aufweist, um die Position eines Strahls einzustellen;
  • 3A und 3B jeweilige Ansichten eines Strahlmanipulierers ge mäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung, der eine Einstellung der Richtung eines Strahls und eine entkoppelte Einstellung der Position des Strahls erlaubt;
  • 4 eine Querschnittsansicht einer optischen Halterung, die ein Prisma hält, zur Verwendung in dem Strahlmanipulierer der 3A und 3B;
  • 5 eine Vorderansicht einer Einspann-/Befestigungsstruktur der optischen Halterung aus 4;
  • 6A und 6B einen Aufriß bzw. eine perspektivische Ansicht eines Strahlmanipulierers unter Verwendung eines Risley-Prismensatzes zur Einstellung von sowohl der Richtung als auch der Position eines Strahls;
  • 7 ein Diagramm, das eine Abhängigkeit der Strahlposition von einer Winkelablenkung in dem Strahlmanipulierer der 6A und 6B darstellt;
  • 8 ein Flußdiagramm eines iterativen Einstellungsprozesses für einen Trans-Keil-Manipulierer gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung; und
  • 9 eine perspektivische Ansicht eines Manipulierers, der einen groben Keilsatz für grobe Winkelstrahleinstellungen und einen feinen Trans-Keil-Satz für Strahlumsetzung und Feinwinkelstrahleinstellungen umfaßt.
  • Gemäß einem Aspekt der Erfindung stellen Kompaktstrahlmanipulierer sowohl die Richtung als auch die Position eines Strahls, wie z. B. eines Laserstrahls, ein. Bei einem Ausführungsbeispiel der Erfindung liefert ein Strahlmanipulierer eine Einstellung der Position des Strahls, die von der Einstellung der Richtung des Strahls entkoppelt ist. Folglich kann eine erste Einstellung des Strahlmanipulierers den Strahl aus einer anfänglichen Richtung, die eine Strahlquelle liefert, zu einer letztendlichen Richtung, die ein optisches System benötigt, ablenken. Eine zweite Einstellung des Strahlmanipulierers kann dann den Strahl in die erforderliche Position verschieben, ohne die zuvor eingestellte Strahlrichtung zu verändern. Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung stellt ein Kompaktstrahlmanipulierer sowohl die Richtung als auch die Position des Strahls unter Verwendung eines Risley-Prismensatzes in einer Befestigung ein, die Drehungen um drei Achsen erlaubt.
  • Die 3A und 3B zeigen perspektivische Ansichten eines Strahlmanipulierers 300, der in der Lage ist, sowohl die Position als auch die Richtung eines Strahls einzustellen, wobei die Positionseinstellung von der Richtungseinstellung entkoppelt ist. Der Strahlmanipulierer 300 umfaßt Keile 310 und 320, die einen Risley-Prismensatz bilden, zur Winkeleinstellung eines Strahls und eine planparallele Platte 330 zur Positionseinstellung des Strahls. Ein Laser oder eine andere Strahlquelle (nicht gezeigt) kann einen Eingangsstrahl auf den Keil 310 oder in der entgegengesetzten Richtung auf die Platte 330 leiten. Unabhängig von der Richtung, mit der der Strahl über die Keile 310 und 320 und die Platte 330 läuft, stellt der Risley-Prismensatz (d. h. die Keile 310 und 320) die Richtung des Strahls ein und die planparallele optische Platte 330 stellt die Position des Strahls ein.
  • Bei einem exemplarischen Ausführungsbeispiel der Erfindung ist jeder Keil 310 und 320 ein Prisma aus einem optischen Material, wie z. B. BK7-Glas, das einen kreisförmigen Querschnitt und gegenüberliegende Seiten aufweist, die sich in einem physischen Keilwinkel zwischen 100 μrad und 20 mrad befinden. Der Keil 310 ist vorzugsweise identisch zu dem Keil 320 und sollte insbesondere den gleichen Keilwinkel wie der Keil 320 aufweisen, um eine Ausrichtung zu liefern, die eine Winkelablenkung von Null liefert. Wie oben angemerkt wurde, liefern größere Keilwinkel im allgemeinen einen größeren Bereich einer Winkeleinstellung des Strahls und kleinere Keilwinkel liefern im allgemeinen eine bessere Auflösung oder Präzision beim Einstellen der Richtung des Strahls. Jeder Keil 310 oder 320 ist vorzugsweise etwa 3 mm oder weniger dick, um die Strahlverschiebung zu minimieren, die die Keile 310 und 320 bewirken, wenn sie den Strahl ablenken.
  • Die Prismen 310 und 320 können wie in 1 ausgerichtet sein, wobei parallele Seiten 111 und 122 am weitesten voneinander entfernt sind und gewinkelte Seiten 112 und 121 benachbart zueinander sind. Alternativ können die parallelen Seiten der Keile 310 und 320 benachbart zueinander sein, während die gewinkelten Seiten am weitesten voneinander entfernt sind. Eine Funktionsweise der Keile 310 und 320 zur Ablenkung eines Strahls ist in beiden Fällen ähnlich.
  • Die Keile 310 und 320 befinden sich in jeweiligen optischen Halterungen 312 und 322. Die optischen Halterungen 312 und 322, die im wesentlichen identisch zueinander sind, passen in gegenüberliegende Seiten einer Öffnung in einer optischen Befestigung 340. Die Halterungen 312 und 322 sind kreisförmig, um eine Drehung einer oder beider Halterungen 312 und 322 in der Befestigung 340 zu erlauben, wenn die Strahlrichtung eingestellt wird.
  • 4 ist eine Querschnittsansicht eines Ausführungsbeispiels der optischen Halterung 322. Wie dies dargestellt ist, ist die optische Halterung 322 im allgemeinen ringförmig und kann aus einem Metall oder einem weiteren elastischen Material hergestellt sein, das vorzugsweise einen Wärmeausdehnungskoeffizienten aufweist, der mit dem der optischen Befestigung 340 übereinstimmt. Bei einem exemplarischen Ausführungsbeispiel der Erfindung ist die Halterung 322 aus rostfreiem Stahl der Serie 400 hergestellt, der gehärtet sein kann, um eine Reibabnutzung zwischen der optischen Halterung 322 und der optischen Befestigung 340 während einer Einstellung zu minimieren. Die optische Halterung 322 weist eine innere Leiste 410 auf, an der der Keil 320 unter Verwendung eines Haftmittels 420, wie z. B. Dow Corning 6-1104, angebracht sein kann. Mit Ausnahme der inneren Leiste 410 ist der innere Durchmesser der Halterung 322 größer als der Durchmesser des Keils 320, was eine unterschiedliche Wärmeausdehnung des Keils 320 und der optischen Halterung 322 ohne Kontakt an den Seiten der optischen Halterung 322 erlaubt. Ein Verwenden eines flexiblen Haftmittels 420 zur Anbringung des Keils 320 an der inneren Leiste 410 minimiert die Wirkungen von Veränderungen der optischen Halterung 322 aufgrund von Temperatur oder belastungsinduzierter Verformung, wenn die optische Halterung 322 an ihrem Platz eingespannt ist. Eine Fehlausrichtung, bewirkt durch Temperaturveränderungen, Feuchtigkeitsveränderungen und belastungsinduzierte Doppelbrechung in dem Keil 320, wird so minimiert.
  • Eine äußere Leiste 430 der optischen Halterung 322 erstreckt sich über die Seiten der optischen Befestigung 340 hinaus und kann Merkmale umfassen, wie z. B. Stege, die eine Drehung der optischen Halterung 322 innerhalb der optischen Befestigung 340 erleichtern.
  • 5 zeigt ein Ausführungsbeispiel der optischen Befestigung 340. Die optische Befestigung 340 umfaßt eine Öffnung 510, in die die optischen Halterungen 312 und 322 passen. Die Öffnung 510, anstatt rein kreisförmig zu sein, weist bogenförmige oder konkave Abschnitte 520 auf, so daß nur getrennte Regionen 530 um den Umfang der Öffnung 510 die optischen Halterungen 312 und 322 kontaktieren. Eine Einspannschraube 342 in der optischen Befestigung 340 ist angezogen, um die optischen Halterungen 312 und 322 an festen Positionen zu halten, wenn die Keile 310 und 320 ordnungsgemäß ausgerichtet sind, um die erwünschte Ablenkung des Strahls zu liefern. Ein Lösen der Einspannschraube 342 erlaubt eine Drehung der optischen Halterungen 312 und 322 für den Ausrichtungsprozeß und eine entfernbare Klemme 344 verhindert, daß die optischen Halterungen 312 und 322 aus der optischen Befestigung 340 fallen, wenn die Einspannschraube 342 lose ist.
  • Die Platte 330, wie in den 3A und 3B gezeigt ist, befindet sich in einer optischen Halterung 332, die eine konkave Oberfläche aufweist, an der die Platte 330 z. B. unter Verwendung eines Haftmittels angebracht ist. Die Platte 330 ist bei dem exemplarischen Ausführungsbeispiel der Erfindung ein zylindrischer Block aus einem optischen Qualitätsmaterial, wie z. B. BK7, das eine Höhe oder Dicke von etwa 36 mm und einen Durchmesser von etwa 20 mm aufweist. Die Abmessungen für die Platte 330 variieren abhängig von der Anwendung. Die optische Halterung 332 kann aus einem elastischen Material, wie z. B. rostfreiem Stahl 416, hergestellt sein.
  • Die optische Halterung 332 weist einen kreisförmigen Abschnitt 334 auf, der in eine Öffnung in einer optischen Befestigung 350 paßt. Eine Schraube 336 fesselt die optische Halterung 332 an die optische Befestigung 350, was die optische Halterung 332 während einer Neigungseinstellung hält. Wenn eine Einspannschraube 352 in der optischen Befestigung 350 lose ist, kann die optische Halterung 332 zur Einstellung der Neigung der Platte 330 gedreht werden. Die Kontaktflächen der Öffnung in der optischen Befestigung 350, die ähnlich wie die Kontaktflächen 530 der Befestigung 340 sein können, definieren die Rotationsachse für die Neigung der Platte 330. Die Neigung der Platte 330 steuert die Größe der Verschiebung des Strahls in einer Z-Richtung in den 3A und 3B. Nachdem die Neigung der Platte 330 eingestellt wurde, um die erwünschte Verschiebung des Strahls in der Z-Richtung zu liefern, wird die Einspannschraube 352 angezogen, um die optische Halterung 332 und deshalb die Platte 330 an ihrem Ort einzuspannen.
  • Die optische Befestigung 350 weist ebenso einen kreisförmigen Basisabschnitt 354 auf, der in eine Klemme 360 paßt, was eine Rotationsachse bildet. Eine Halteschraube 356 fesselt die optische Befestigung 350 an die Basisplatte 370. Wenn eine Einspannschraube 362 in der Klemme 360 lose ist, kann die optische Befestigung 350 um eine Achse gedreht werden, die parallel zu der Z-Achse ist, um den Gierwert der Platte 330 zu steuern. Der Gierwinkel der Platte 330 steuert die Komponente der Strahlverschiebung in der Y-Richtung und die Einspannschraube 360 wird angezogen, um die optische Befestigung 350 an ihrem Ort zu verriegeln, nachdem eine Einstellung die erwünschte Strahlverschiebung in der Y-Richtung erzielt hat. Die Klemme 360 kann auf die gleiche Weise wie die Öffnung 510 in der optischen Befestigung 340 für ein besseres Einspannen der optischen Befestigung 350 bogenförmig sein und die optische Befestigung 350 kann gehärtet sein, um eine Reibabnutzung an der Klemme 360 und der Basisplatte 370 während einer Einstellung zu verhindern.
  • Die optische Befestigung 340, die die Keile 310 und 320 enthält, und die optische Befestigung 350, die die parallele Platte 330 enthält, sind an einer gemeinsamen Basis 370 befestigt. Der Strahlmanipulierer 300 liefert so ein integriertes Modul, das sowohl Position als auch Richtung eines Strahls einstellen kann, und das Modul ist in vielen Typen von Laserstrahl-Bereitstellungssystemen leicht zu verwenden, einschließlich denjenigen, die für Silizium-Wafer-Lithographie-Metrologie-Anwendungen verwendet werden.
  • Die Keile 310 und 320 und die Platte 330 können von Hand oder mit einem Werkzeug, wie z. B. einem Werkzeugstab 380, ausgerichtet werden. Zur Verwendung des Werkzeugstabs 380 mit dem Strahlmanipulierer 300 weist die optische Befestigung 350, wie in 3A dargestellt ist, eine Öffnung 358 auf, durch die ein Werkzeugstab 380 Merkmale, wie z. B. Einkerbungen oder Löcher in der optischen Halterung 332, in Eingriff nehmen kann. Der Werkzeugstab 380 wirkt als ein Hebel mit einem Drehpunkt nahe an der optischen Halterung 332, so daß eine relativ große Bewegung des Endes des Werkzeugstabs 380 eine kleine Drehung der optischen Halterung 332 um eine Achse bewirkt, die parallel zu der Y-Richtung ist. Eine größere Präzision bei der Einstellung der optischen Halterung 332 kann so erzielt werden. Ein Werkzeugstab 380 ist etwa 100 mm lang, wobei eine Spitze z. B., die sich etwa 2,5 mm von dem Drehpunkt entfernt befindet, die Auflösung der Neigungswinkeleinstellung um bis zu 40 mal verbessern kann.
  • 3B zeigt ähnlich eine Einkerbung 359 in der optischen Befestigung 350, durch die der Werkzeugstab 380 Einkerbungen in der Basis 370 in Eingriff nehmen kann. Eine relativ große Bewegung des Endes des Werkzeugstabes 380 bewirkt dann eine relativ kleine Drehung der Befestigung 350 um die Achse durch die Schraube 356 für eine Verbesserung der Auflösung der Gierwinkeleinstellung.
  • Sobald die Einstellung der Ausrichtungen der Elemente 310, 320 und 330 den Strahl in die erwünschte Richtung und Position verschiebt, werden die optischen Komponenten 310, 320 und 330 durch ein Anziehen von Einspannschrauben 342, 352 und 362 in ihren Ort „verriegelt". Alternativ könnten weitere mechanische Mittel, wie z. B. Preßpassen und/oder ein Haftmittel (z. B. ein Epoxid oder dergleichen), die optischen Komponenten in die eingestellten Positionen in ihren jeweiligen optischen Befestigungen verriegeln.
  • Die Basisplatte 370 ist als vier Befestigungsfüße aufweisend gezeigt. Die Basisplatte 370 könnte kinematische Merkmale für eine präzise Ortswiederholbarkeit und Belastungsdämpfung enthalten. Traditionelle kinematische Merkmale umfassen einen Kegel, V-förmig und flach oder drei nichtparallele Vs. Diese Typen von Merkmalen können in die Basisplatte 370 eingearbeitet werden und verhindern, daß der Manipulierer 300 sich relativ zu der Strahlquelle oder dem optischen System bewegt, das den Strahl aufnimmt.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung stellt ein dickes Paar von Keilen, das hierin manchmal als ein „Trans-Keil" bezeichnet wird, sowohl die Richtung als auch die Position eines Strahls ein. Ein Manipulierer, der die dicken Keile enthält, erzielt die erwünschte Verschiebung und Ablenkung eines Strahls durch Drehungen der Keile und eine Neigungs- und Gierwertsteuerung der Keile. Das Ergebnis ist ein Kompaktstrahlmanipulierer, der ideal Produktkosten reduziert, indem der Bedarf nach einer separaten Translatoroptik und einer zugeordneten Translatorhardware beseitigt wird.
  • Die 6A und 6B stellen ein exemplarisches Ausführungsbeispiel eines Trans-Keil-Manipulierers 600 dar. Der Trans-Keil-Manipulierer 600 umfaßt ein Paar dicker Keile 610 und 620, die in jeweiligen optischen Halterungen 612 und 622 befestigt sind, die von dem gleichen Entwurf wie die optische Halterung 322 aus 4 sein können. Bei einem exemplarischen Ausführungsbeispiel der Erfindung ist jeder Keil 610 und 620 ein Prisma aus einem optischen Material, wie z. B. BK7, das einen kreisförmigen Querschnitt und gegenüberliegende Seiten aufweist, die sich in einem physischen Keilwinkel zwischen 100 μrad und 20 mrad befinden. Jeder Keil 310 oder 320 ist abhängig von der erwünschten maximalen Ablenkfähigkeit etwa 3 mm bis etwa 18 mm dick. Die Keile 610 und 620 müssen im allgemeinen den gleichen physischen Keilwinkel aufweisen, um eine Konfiguration mit einer Null-Winkelablenkung zu liefern, der Keil 610 könnte jedoch dicker oder dünner als der Keil 620 sein. Üblicherweise sind die Keile 610 und 620 im wesentlichen identisch.
  • Der Luftzwischenraum zwischen den Keilen 610 und 620 ist vorzugsweise so klein wie möglich. Bei einem exemplarischen Ausführungsbeispiel beträgt der Luftzwischenraum etwa 2 mm.
  • Die optischen Halterungen 612 und 622 passen in gegenüberliegende Enden einer Öffnung durch eine Klemme 630 und können einzeln oder gemeinsam als eine Einheit gedreht werden, wenn die Einspannschraube 632 lose ist. Da die Keile 610 und 620 dick sind, kann eine Drehung der optischen Halterungen 612 und 622 in der Klemme 630 sowohl die Ablenkung als auch die Verschiebung eines durchlaufenden Strahls wesentlich verändern.
  • Eine Schraube 642 bringt die Klemme 630 an einer Befestigung 640 an, wenn dieselbe jedoch lose ist, erlaubt sie eine Drehung der Klemme 630 zur Steuerung der Neigung der Klemme 630 und der Keile 610 und 620. Für eine präzise Steuerung der Neigung der Keile 610 und 620 umfaßt die Befestigung 640 eine Einkerbung 648, durch die ein Werkzeug 380 die Klemme 630 in Eingriff nehmen und drehen kann. Eine Schraube 646 bringt die Befestigung 640 an einer Basis 650 an und eine Drehbefestigung 640 um die Schraube 646 (wenn die Schraube 646 lose ist) steuert den Gierwinkel der Keile 610 und 620. Für eine präzise Steuerung des Gierwerts der Keile 610 und 620 umfaßt die Befestigung 640 eine Einkerbung 644, durch die ein Werkzeug 380 die Befestigung 640 in Eingriff nehmen und um eine Achse, die parallel zu der Z-Achse ist, drehen kann.
  • Ein Verändern der Neigung und des Gierwerts der Keile 610 und 620 verändert hauptsächlich die Z- und die Y-Komponente der Strahlverschiebung, kann jedoch auch die Richtung des Strahls verändern. Ähnlich verändern die sich drehenden Keile 610 und/oder 620 hauptsächlich die Richtung des Strahls, jedoch auch die Position des Strahls. Die Neigungs- und die Gierwerteinstellung und Drehungen der Keile 610 und 620 in der Klemme 630 koppeln so sowohl Winkel- als auch Positionseinstellung des Strahls miteinander.
  • Die Gleichung 1 gibt eine annäherungsweise Formel für die Winkelablenkung δ durch einen Trans-Keil, wie z. B. den Trans-Keil 600, wobei α der Keilwinkel ist, n der Brechungsindex der Keile und Φ der Einfallswinkel des Strahls auf der ersten optischen Oberfläche des Keilsatzes. Bei einem exemplarischen Ausführungsbeispiel der Erfindung beträgt der Keilwinkel α etwa 15 mrad und der Brechungsindex n beträgt etwa 1,515. Der Einfallswinkel Φ hängt von dem Neigungs- und dem Gierwinkel des Trans-Keil-Manipulierers ab. Wenn der Einfallswinkel Φ 0 ist, weist der Ausdruck in eckigen Klammern in Gleichung 1 einen Wert 1 auf. Dies ist der Fall für einen feststehenden Keilsatz, der mit dem einfallenden Strahl ausgerichtet und nicht frei ist, um sich relativ zu dem einfallenden Strahl zu neigen oder zu gieren. Für den Trans-Keil ist, wenn der Einfallswinkel im allgemeinen ungleich 0 ist, der Ausdruck von Gleichung 1 in eckigen Klammern größer oder gleich 1.
  • Figure 00170001
  • 7 ist ein Diagramm 700 des Verhältnisses δ/δ0 der Winkelablenkung δ für den Einfallswinkel Φ zu der Strahlablenkung δ0 bei einem Null-Einfallswinkel. Das Diagramm 700 zeigt, daß eine Drehung des Keilsatzes eine zusätzliche Strahlablenkung hervorruft und größere Drehungen größere Ablenkungen bewirken. Die Ausnahme hierfür besteht dann, wenn der Keilsatz so eingestellt ist, daß die Winkelablenkung eines Keils die Winkelablenkung des anderen Keils aufhebt und deshalb die Strahlablenkung δ0 bei einem Null-Einfallswinkel Null ist. In diesem Fall verhält sich der Keilsatz wie eine planparallele Platte und die Abhängigkeit von dem physischen Keilwinkel α wird aufgehoben.
  • Wenn der Keilsatz nicht so eingestellt ist, daß die Winkelablenkung δ0 Null ist, erfordert eventuell die Kopplung des Einfallswinkels Φ mit sowohl der Verschiebung des Strahls als auch der Winkelablenkung des Strahls einen iterativen Einstellprozeß, um die erwünschte Genauigkeit bei Strahlposition und -richtung zu erzielen.
  • 8 ist ein Flußdiagramm, das einen iterativen Prozeß 800 darstellt, der die Ausrichtungen der Keile und die Neigung und den Gierwert des Keilsatzes einstellt, um eine erwünschte Strahlposition und -richtung zu erzielen. Der Prozeß 800 beginnt bei einem Schritt 810 durch ein Einrichten einer Zielrichtung und einer Zielposition für den gerade eingestellten Strahl. Ein Beispiel, bei dem der Prozeß 800 verwendet werden kann, ist für eine Kombination aus zwei Laserstrahlen, so daß die beiden Strahlen konzentrisch sind und sich in die gleiche Richtung bewegen. In derartigen Situationen kann einer der Strahlen ausgewählt sein, um das Datum zu sein, das das Ziel definiert, und der Prozeß 800 verwendet einen Trans-Keil-Strahlmanipulierer 600, um den anderen Strahl einzustellen, um mit der Richtung und Position des Zielstrahls an dem Ausgang eines Strahlkombinierers übereinzustimmen. Ohne Einstellung könnten die beiden Strahlen anfängliche Richtungen und Positionen aufweisen, die bis zu bestimmten anfänglichen Toleranzen ordnungsgemäß ausgerichtet sind, die von der Quelle oder Quellen der Strahlen abhängen. Ein Faserkollimator z. B., der einen kollimierten Laserstrahl erzeugt, liefert unter Umständen einen Strahl mit einer Winkelfehlausrichtung von weniger als 5 mrad und einer Umsetzungsfehlausrichtung von weniger als etwa 0,5 mm bezüglich seiner Befestigungsoberflächen. Die erwünschten Ausrichtungstoleranzen für die kombinierten Strahlen sind kleiner, als die Strahlquelle erzielen kann, z. B. ein Winkelversatz von weniger als 2 μrad und ein Umsetzungsversatz von weniger als 10 μm.
  • Sobald die Zielstrahlrichtung und -strahlposition ausgewählt sind, dreht Schritt 820 die Keile 610 und 620 einzeln und/oder gemeinsam als eine Einheit, um die Zielstrahlrichtung innerhalb der erwünschten Winkeltoleranz zu erzielen. Wie oben angemerkt wurde, verändert eine Drehung eines Keils relativ zu dem anderen den Winkel des Strahls relativ zu einer Achse durch die Keile 610 und 620 und eine Drehung der Keile 610 und 620 gemeinsam als eine Einheit treibt den Strahl entlang eines Kegels, der eine Winkelöffnung aufweist, die durch die relativen Positionen der Keile 610 und 620 eingestellt wird.
  • Schritt 830 prüft, ob der Strahl nach der Winkeleinstellung von Schritt 820 innerhalb der erforderlichen Toleranz der Zielposition ist. Falls dies der Fall ist, hat der Einstellungsprozeß 800 den Strahl auf die Zielposition und -richtung innerhalb der erwünschten Toleranzen eingestellt und der Prozeß 800 ist abgeschlossen. Falls dies nicht der Fall ist, bewegt sich der Prozeß 800 zu Schritt 840 und stellt die Neigung und/oder den Gierwert des Keilsatzes zur Neupositionierung des Strahls ein.
  • Der Positionseinstellschritt 840 stellt die Position des Strahls so ein, daß der Strahl innerhalb der erforderlichen Toleranz der Zielposition ist. Wie jedoch oben erläutert und in 7 dargestellt ist, verändert die Einstellung der Position im allgemeinen auch die Richtung des Strahls. Schritt 850 prüft deshalb nach dem Positionseinstellschritt 840, um zu bestimmen, ob die Strahlrichtung innerhalb der erforderlichen Toleranz der Zielrichtung ist. Falls dies der Fall ist, ist der Prozeß 800 fertig. Falls dies nicht der Fall ist, kehrt der Prozeß 800 von Schritt 850 zu Schritt 820 zurück, um die Richtung des Strahls neu einzustellen.
  • Der Prozeß 800 kann im allgemeinen auf die Zielstrahlrichtung und -position in einigen wenigen Iterationen konvergieren, wenn die Größe der erforderlichen Einstellung nicht zu groß ist. Wenn der Einfallswinkel Φ unter etwa 15° gehalten wird, zeigt 7, daß die Winkelablenkung, die durch Neigungs- und Gierwerteinstellung bewirkt wird, weniger als etwa 5 % der Winkelablenkung beträgt, die durch eine Keildrehung bewirkt wird, und eine schnelle Konvergenz auf das Ziel ist zu erwarten. Bei dem exemplarischen Ausführungsbeispiel der Erfindung konvergiert der Prozeß 800 für Strahlablenkungen von bis zu etwa 7 mrad und Strahlverschiebungen bis zu etwa 0,8 mm schnell auf das Ziel.
  • Große Winkel- oder Positionseinstellungen machen es unter Umständen erforderlich, daß die erste Einstellung (z. B. Winkeleinstellung durch Drehungen der Keile 610 und 620) das Datum überschreitet oder unterschreitet, so daß die zweite Einstellung (z. B. Einstellung von Neigung und Gierwert) sowohl die Position als auch die Richtung des Strahls korrigieren kann. Ähnlich kann die erste Umsetzung des Strahls durch Neigungs- und Gierwerteinstellung die Zielposition überschreiten oder unterschreiten, so daß die nächste Winkeleinstellung durch eine Keildrehung Position und Richtung in Richtung der Ziele bringt.
  • Der Trans-Keil 600, wie oben angemerkt wurde, kann eine hervorragende Umsetzungs- und Winkeleinstellungsauflösung liefern, wenn er bei einem Einfallswinkel nahe Null arbeitet, und der Trans-Keil 600 kann der einzige Strahlmanipulierer sein, wenn ein System eine derartige Operation erlaubt. Der Trans-Keil kann so den Raum reduzieren, der benötigt wird, um einen Laserstrahl in Winkel und Position zu manipulieren, wobei so Produktmasse und Gesamtgröße eines optischen Systems, das eine präzise Strahlsteuerung benötigt, reduziert werden können. Der Trans-Keil-Manipulierer liefert außerdem ein relativ billiges Verfahren zum Erzielen einer erwünschten Strahlführung.
  • Zwei oder mehr Manipulierer können großwinklige Korrekturen in Systemen implementieren, in denen der Einstellprozeß unter Verwendung eines einzelnen Trans-Keil-Manipulierers unpassend wäre. 9 zeigt ein Beispiel eines Manipulierers 900, der einen ersten Manipulierer 910 und einen zweiten Trans-Keil-Manipulierer 920 umfaßt. Der erste Manipulierer 910, der eine Befestigungsstruktur umfassen kann, die identisch zu der Befestigung 340 der 3A und 3B ist, weist einen groben Keilsatz auf (z. B. mit einem physischen Keilwinkel von etwa 17 mrad). Der zweite Trans-Keil-Manipulierer 920, der im wesentlichen identisch zu dem Trans-Keil-Manipulierer 600 der 6A und 6B sein kann, weist einen feinen Keilsatz auf (z. B. mit einem physischen Keilwinkel von etwa 250 μrad). Der Manipulierer 910, der den groben Keilsatz enthält, bringt nominell einen Eingangsstrahl auf eine Datum-Achsenrichtung, was es erlaubt, daß der Trans-Keil-Manipulierer 920, der den feinen Keilsatz enthält, bei einem Einfangswinkel nahe Null arbeitet und sich ähnlich wie ein planparalleler Plattentranslator verhält, mit dem Vorteil, daß über eine feine Winkeleinstellung für eine erhöhte Winkelauflösung verfügt wird.
  • Obwohl die Erfindung Bezug nehmend auf bestimmte Ausführungsbeispiele beschrieben wurde, ist die Beschreibung nur ein Beispiel für die Anwendung der Erfindung und sollte nicht als Einschränkung aufgefaßt werden. Obwohl die obige Beschreibung z. B. Beispiele bestimmter Abmessungen und Einstellungstoleranzen umfaßt, sind Manipulierer gemäß der Erfindung nicht auf die bestimmten Einstellbereiche oder -auflösungen in den beschriebenen Beispielen eingeschränkt. Zusätzlich können die oben beschriebenen exemplarischen Strahlmanipulierer neu dimensioniert sein, um einen Strahl jeder Größe zu manipulieren, einschließlich, jedoch nicht ausschließlich, denjenigen, die in Interferometer-Verschiebungs-Meßausrüstung verwendet werden. Verschiedene andere Anpassungen und Kombinationen von Merkmalen der offenbarten Ausführungsbeispiele sind innerhalb des Schutzbereichs der Erfindung, wie durch die folgenden Ansprüche definiert ist.

Claims (25)

  1. Strahlmanipulierer mit folgenden Merkmalen: einer Platte (330), die gegenüberliegende parallele Oberflächen aufweist; einem ersten Keil (310) entlang eines optischen Pfades durch die Platte; einem zweiten Keil (320) entlang des optischen Pfades; und einer Befestigungsstruktur für die Platte, den ersten Keil und den zweiten Keil, wobei die Befestigungsstruktur folgende Einstellungen liefert: Drehung des ersten Keils um den optischen Pfad; Drehung des zweiten Keils um den optischen Pfad, wobei die Drehung des zweiten Keils unabhängig von der Drehung des ersten Keils ist; und Einstellung eines Pitchwinkels und eines Gierwinkels der Platte relativ zu dem optischen Pfad.
  2. Strahlmanipulierer gemäß Anspruch 1, bei dem die Befestigungsstruktur folgende Merkmale aufweist: eine Basis (370); eine erste optische Befestigung (350), die an der Basis (370) angebracht ist, wobei die Platte (330) in der ersten optischen Befestigung (350) befestigt ist; und eine zweite optische Befestigung (340), die an der Basis (370) angebracht ist, wobei der erste Keil (310) und der zweite Keil (320) in der zweiten optischen Befestigung (340) befestigt sind.
  3. Strahlmanipulierer gemäß Anspruch 2, bei dem die erste optische Befestigung (350) folgende Merkmale aufweist eine optische Halterung, an der die Platte angebracht ist; und eine Struktur, die auf eine Weise an der Basis angebracht ist, die eine Drehung der Struktur um eine erste Achse erlaubt, wobei die optische Halterung auf eine Weise an der Struktur angebracht ist, die eine Drehung der optischen Halterung um eine zweite Achse erlaubt.
  4. Strahlmanipulierer gemäß Anspruch 3, bei dem die zweite Achse senkrecht zu der ersten Achse ist.
  5. Strahlmanipulierer gemäß einem der Ansprüche 2 bis 4, bei dem die zweite optische Befestigung (340) eine Struktur aufweist, die an der Basis angebracht ist, wobei der erste Keil (310) auf einer ersten Seite einer Öffnung durch die Struktur befestigt ist und der zweite Keil (320) auf einer zweiten Seite der Öffnung befestigt ist.
  6. Strahlmanipulierer gemäß einem der Ansprüche 2 bis 5, bei dem die Platte (330) an die optische Halterung geklebt ist.
  7. Strahlmanipulierer gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, der ferner eine optische Halterung für die Platte aufweist, wobei die Platte einen konvexen Umfangsabschnitt aufweist, der in einen konkaven Abschnitt der optischen Halterung paßt, wobei der konvexe Umfangsabschnitt der Platte an den konkaven Abschnitt der Halterung geklebt ist.
  8. Strahlmanipulierer gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, der ferner eine optische Halterung für den ersten Keil aufweist, wobei der erste Keil an die optische Halterung geklebt ist.
  9. Strahlmanipulierer gemäß einem der Ansprüche 6 bis 8, bei dem die optische Halterung ringförmig ist und einen inneren Durchmesser aufweist, der größer als ein Durchmesser des ersten Keils ist, wobei der erste Keil an eine innere Leiste der optischen Halterung geklebt ist, wobei sich die innere Leiste radial von dem inneren Durchmesser der optischen Halterung nach innen erstreckt.
  10. Strahlmanipulierer mit folgenden Merkmalen: einer Befestigungsstruktur, die eine Öffnung (510) aufweist; einer ersten optischen Halterung (312), die einen ersten Keil (310) enthält, wobei die erste optische Halterung auf eine Weise in eine erste Seite der Öffnung (510) paßt, die eine Drehung der ersten optischen Halterung (312) um einen optischen Pfad durch die Öffnung (510) erlaubt; und einer zweiten optischen Halterung (322), die einen zweiten Keil enthält, wobei die zweite optische Halterung (322) auf eine Weise in eine zweite Seite der Öffnung (510) paßt, die eine Drehung der zweiten optischen Halterung (322) um den optischen Pfad durch die Öffnung (510) erlaubt.
  11. Strahlmanipulierer gemäß Anspruch 10, bei dem die erste optische Halterung (322) ringförmig ist und einen inneren Durchmesser aufweist, der größer als ein Durchmesser des ersten Keils (310) ist, wobei der er ste Keil an eine innere Leiste (410) der optischen Halterung (322) geklebt ist, wobei sich die innere Leiste (410) radial von dem inneren Durchmesser der optischen Halterung nach innen erstreckt.
  12. Strahlmanipulierer gemäß Anspruch 10 oder 11, bei dem die Befestigungsstruktur eine Klemme (340) aufweist, die gelöst wird, um die Größe der Öffnung (510) zu erweitern, um eine Drehung der ersten (312) und der zweiten optischen Halterung (322) zu erlauben, und angezogen wird, um eine Drehung der ersten und der zweiten optischen Halterung zu verhindern.
  13. Strahlmanipulierer gemäß einem der Ansprüche 10 bis 12, bei dem die Öffnung bogenförmig ist, so daß nur getrennte Regionen um die Öffnung die erste optische Halterung (312) kontaktieren.
  14. Strahlmanipulierer mit folgenden Merkmalen: einem ersten Keil; einem zweiten Keil entlang eines optischen Pfads durch den ersten Keil; und einer Befestigungsstruktur für den ersten Keil und den zweiten Keil, wobei die Befestigungsstruktur folgende Einstellungen liefert: Drehung des ersten Keils (610) um den optischen Pfad; Drehung des zweiten Keils (620) um den optischen Pfad, wobei die Drehung des zweiten Keils (620) unabhängig von der Drehung des ersten Keils (610) ist; und Einstellung eines Pitchwinkels und eines Gierwinkels des ersten Keils (610) und des zweiten Keils (620) relativ zu dem optischen Pfad.
  15. Strahlmanipulierer gemäß Anspruch 14, bei dem die Befestigungsstruktur folgende Merkmale aufweist: eine erste Struktur (630), die eine Öffnung aufweist, wobei der erste Keil auf einer ersten Seite der Öffnung befestigt ist und der zweite Keil auf einer zweiten Seite der Öffnung befestigt ist; und eine zweite Struktur (640), die auf eine Weise an der ersten Struktur (630) angebracht ist, die eine Drehung der ersten Struktur (630) um eine erste Achse erlaubt, wobei die zweite Struktur um eine zweite Achse drehbar ist.
  16. Strahlmanipulierer gemäß Anspruch 15, bei dem die erste Struktur eine Klemme umfaßt, die einen ausgespannten Zustand, der die Drehungen des ersten Keils und des zweiten Keils erlaubt, und einen eingespannten Zustand aufweist, der Ausrichtungen des ersten Keils und des zweiten Keils relativ zu der ersten Struktur fixiert.
  17. Strahlmanipulierer gemäß einem der Ansprüche 14 bis 16, bei dem der erste Keil einen Keilwinkel aufweist, der gleich einem Keilwinkel des zweiten Keils ist.
  18. Strahlmanipulierer gemäß einem der Ansprüche 14 bis 17, bei dem der erste Keil im wesentlichen identisch zu dem zweiten Keil ist.
  19. Strahlmanipulierer gemäß einem der Ansprüche 14 bis 18, der ferner eine optische Halterung für den ersten Keil aufweist, wobei der erste Keil an die optische Halterung geklebt ist.
  20. Strahlmanipulierer gemäß Anspruch 19, bei dem die optische Halterung ringförmig ist und einen inneren Durchmesser aufweist, der größer als ein Durchmesser des ersten Keils ist, wobei der erste Keil an eine innere Leiste der optischen Halterung geklebt ist, und wobei sich die innere Leiste radial von dem inneren Durchmesser der optischen Halterung nach innen erstreckt.
  21. Verfahren zum Steuern eines Pfades eines Strahls, mit folgenden Schritten: (a) Plazieren eines Keilsatzes, der einen ersten Keil (610) und einen zweiten Keil (620) umfaßt, in dem Pfad des Strahls; (b) Drehen zumindest eines des ersten Keils (610) und des zweiten Keils (620) um den Pfad, um den Strahl in Richtung einer Zielrichtung abzulenken; und (c) Einstellen eines Winkels zwischen dem Pfad und einer Achse durch den Keilsatz, um den Strahl in Richtung einer Zielposition zu verschieben.
  22. Verfahren gemäß Anspruch 21, das ferner folgende Schritte aufweist: Bestimmen, ob Schritt (c) den Strahl innerhalb eines erforderlichen Winkels von der Zielrichtung hinterlassen hat; und Wiederholen von Schritt (b) ansprechend darauf, daß der Strahl außerhalb des erforderlichen Winkels liegt.
  23. Verfahren gemäß Anspruch 21 oder 22, das ferner folgende Schritte aufweist: Bestimmen, ob Schritt (b) den Strahl innerhalb einer erforderlichen Entfernung von der Zielposition hinterlassen hat; und Wiederholen von Schritt (c) ansprechend darauf, daß der Strahl außerhalb der erforderlichen Entfernung liegt.
  24. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 21 bis 23, bei dem das Drehen zumindest eines des ersten Keils (610) und des zweiten Keils (620) eine Winkeltrennung zwischen dem Strahl und der Zielrichtung hinterläßt und das Einstellen des Winkels zwischen dem Pfad und der Achse den Strahl näher zu der Zielrichtung ablenkt.
  25. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 21 bis 24, bei dem das Einstellen des Winkels zwischen dem Pfad und der Achse den Strahl von der Zielposition versetzt hinterläßt und das Drehen zumindest eines des ersten Keils (610) und des zweiten Keils (620) den Strahl näher zu der Zielposition verschiebt.
DE102004007640A 2003-05-28 2004-02-17 Kompaktpräzisionsstrahlmanipulierer Withdrawn DE102004007640A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/447,429 US7035025B2 (en) 2003-05-28 2003-05-28 Compact precision beam manipulators
US10/447429 2003-05-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102004007640A1 true DE102004007640A1 (de) 2004-12-30

Family

ID=33451218

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102004007640A Withdrawn DE102004007640A1 (de) 2003-05-28 2004-02-17 Kompaktpräzisionsstrahlmanipulierer

Country Status (4)

Country Link
US (2) US7035025B2 (de)
JP (1) JP2004354994A (de)
DE (1) DE102004007640A1 (de)
NL (1) NL1026264C2 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010031674B4 (de) 2009-09-23 2022-05-05 Keysight Technologies, Inc. (n.d.Ges.d.Staates Delaware) Kopplungseinheit für Lichtwellenleiter

Families Citing this family (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7119972B2 (en) * 2004-06-24 2006-10-10 Agilent Technologies, Inc. Apparatus and method for the manipulation of a laser beam in reflection
US8545488B2 (en) 2004-09-17 2013-10-01 The Spectranetics Corporation Cardiovascular imaging system
EP2826436B1 (de) 2007-09-06 2018-03-28 Alcon LenSx, Inc. Präzises Zielen von chirurgischer Photodisruption
WO2009126546A1 (en) * 2008-04-07 2009-10-15 University Of Florida Research Foundation, Inc. High-precision monolithic optical assemblies and methods for fabrication and alignment thereof
US8369661B2 (en) * 2009-02-20 2013-02-05 Agilent Technologies, Inc. Optical multiplexer system
US9492322B2 (en) * 2009-11-16 2016-11-15 Alcon Lensx, Inc. Imaging surgical target tissue by nonlinear scanning
US10120112B2 (en) 2010-01-29 2018-11-06 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Diffractive waveplate lenses for correcting aberrations and polarization-independent functionality
US20110188120A1 (en) 2010-01-29 2011-08-04 Beam Engineering For Advanced Measurement Co. Broadband optics for manipulating light beams and images
US9557456B2 (en) 2010-01-29 2017-01-31 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Broadband optics for manipulating light beams and images
US11366254B2 (en) 2010-01-29 2022-06-21 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. High-efficiency wide-angle beam steering system
US8265364B2 (en) 2010-02-05 2012-09-11 Alcon Lensx, Inc. Gradient search integrated with local imaging in laser surgical systems
US8414564B2 (en) 2010-02-18 2013-04-09 Alcon Lensx, Inc. Optical coherence tomographic system for ophthalmic surgery
US10114239B2 (en) 2010-04-21 2018-10-30 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Waveplate lenses and methods for their fabrication
US9983479B2 (en) 2010-04-21 2018-05-29 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Fabrication of high efficiency, high quality, large area diffractive waveplates and arrays
US20110262844A1 (en) 2010-04-21 2011-10-27 Beam Engineering For Advanced Measurement Co. Fabrication of high efficiency, high quality, large area diffractive waveplates and arrays
US10197715B1 (en) 2013-03-15 2019-02-05 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Methods of diffractive lens and mirror fabrication
US9532708B2 (en) 2010-09-17 2017-01-03 Alcon Lensx, Inc. Electronically controlled fixation light for ophthalmic imaging systems
US8049886B1 (en) * 2010-10-14 2011-11-01 Alcon Lensx, Inc. Spectrometer with adjustable-deflector-controlled alignment for optical coherence tomography
JP5709543B2 (ja) * 2011-01-17 2015-04-30 日本オクラロ株式会社 干渉計、復調器および送受信器
US8459794B2 (en) 2011-05-02 2013-06-11 Alcon Lensx, Inc. Image-processor-controlled misalignment-reduction for ophthalmic systems
US9622913B2 (en) 2011-05-18 2017-04-18 Alcon Lensx, Inc. Imaging-controlled laser surgical system
WO2013028285A1 (en) * 2011-08-25 2013-02-28 Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. End-pumped alignment and temperature insensitive laser target designator and marker
US8398238B1 (en) 2011-08-26 2013-03-19 Alcon Lensx, Inc. Imaging-based guidance system for ophthalmic docking using a location-orientation analysis
US9066784B2 (en) 2011-12-19 2015-06-30 Alcon Lensx, Inc. Intra-surgical optical coherence tomographic imaging of cataract procedures
US9023016B2 (en) 2011-12-19 2015-05-05 Alcon Lensx, Inc. Image processor for intra-surgical optical coherence tomographic imaging of laser cataract procedures
US8994836B2 (en) * 2012-03-14 2015-03-31 Raytheon Company Beam steering element feed forward command aiding architecture
CN103048760B (zh) * 2012-11-20 2015-02-11 北京空间机电研究所 一种滤光片的安装方法
US9658512B2 (en) 2013-01-28 2017-05-23 Beam Engineering for Advanced Materials Co. Cycloidal diffractive waveplate and method of manufacture
US10107945B2 (en) 2013-03-01 2018-10-23 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Vector vortex waveplates
US10185182B2 (en) * 2013-03-03 2019-01-22 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Mechanical rubbing method for fabricating cycloidal diffractive waveplates
US9623211B2 (en) 2013-03-13 2017-04-18 The Spectranetics Corporation Catheter movement control
US10758308B2 (en) 2013-03-14 2020-09-01 The Spectranetics Corporation Controller to select optical channel parameters in a catheter
US11642169B2 (en) * 2013-03-14 2023-05-09 The Spectranetics Corporation Smart multiplexed medical laser system
US9757200B2 (en) 2013-03-14 2017-09-12 The Spectranetics Corporation Intelligent catheter
US10987168B2 (en) 2014-05-29 2021-04-27 Spectranetics Llc System and method for coordinated laser delivery and imaging
US10646274B2 (en) 2014-12-30 2020-05-12 Regents Of The University Of Minnesota Laser catheter with use of reflected light and force indication to determine material type in vascular system
US10646275B2 (en) 2014-12-30 2020-05-12 Regents Of The University Of Minnesota Laser catheter with use of determined material type in vascular system in ablation of material
US10646118B2 (en) 2014-12-30 2020-05-12 Regents Of The University Of Minnesota Laser catheter with use of reflected light to determine material type in vascular system
EP3249422B1 (de) * 2015-01-21 2021-12-29 Mitsubishi Electric Corporation Laserradarvorrichtung
CN104793334B (zh) * 2015-04-02 2017-03-01 同济大学 一种级联粗精耦合光学扫描装置
US9976911B1 (en) 2015-06-30 2018-05-22 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Full characterization wavefront sensor
US10191296B1 (en) 2015-06-30 2019-01-29 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Laser pointer with reduced risk of eye injury
CN105093463B (zh) * 2015-09-17 2018-04-03 天津港东科技发展股份有限公司 一种光学镜架
US10436957B2 (en) 2015-10-27 2019-10-08 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Broadband imaging with diffractive waveplate coated mirrors and diffractive waveplate objective lens
US10423045B2 (en) 2016-11-14 2019-09-24 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Electro-optical diffractive waveplate beam shaping system
US10274805B2 (en) 2017-06-13 2019-04-30 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Polarization-independent switchable lens system
CN107976763B (zh) * 2017-12-28 2023-06-20 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种五维光栅调整架
US11982906B1 (en) 2018-03-05 2024-05-14 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Polarization-independent diffractive optical structures
US11175441B1 (en) 2018-03-05 2021-11-16 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Polarization-independent diffractive optical structures
US10634849B1 (en) * 2019-03-22 2020-04-28 Rosemount Aerospace Inc. Ruggedized two-axis optical beam steering device
US11294240B2 (en) 2019-08-10 2022-04-05 Beam Engineering For Advanced Measurements Co. Diffractive waveplate devices that operate over a wide temperature range
CN110361828B (zh) * 2019-08-22 2024-02-09 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 一种大口径光学元件精密调整镜架
CN111880282B (zh) * 2020-07-31 2021-10-08 同济大学 一种大范围光轴粗精调整装置
CN112230239B (zh) * 2020-07-31 2022-07-05 同济大学 一种基于光轴折反射的监测装置
US11718029B2 (en) * 2021-01-07 2023-08-08 United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Three-dimensional printer resin curing system using Risley prisms
DE102021120871B4 (de) * 2021-08-11 2023-02-23 Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie Gesellschaft mit beschränkter Haftung Vorrichtung und Verfahren zur Justierung einer Achse

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0153243A1 (de) * 1984-02-16 1985-08-28 Societe D'optique, Precision Electronique Et Mecanique - Sopelem Faseroptisches Schaltgerät
JPS60257189A (ja) * 1984-06-01 1985-12-18 Nippon Sekigaisen Kogyo Kk レ−ザ装置
DE3702330A1 (de) * 1986-01-31 1988-11-17 Ferranti Plc Vorrichtung zum steuern der richtung eines strahles einer optischen strahlung
JPH05100181A (ja) * 1991-10-04 1993-04-23 Minolta Camera Co Ltd 走査方式
WO2001075506A1 (en) * 2000-03-30 2001-10-11 Raytheon Company Beam steering optical arrangement using risley prisms with surface contours for aberration correction
US20010046345A1 (en) * 2000-02-01 2001-11-29 Snyder James J. Single channel M x N optical fiber switch
CA2069895C (en) * 1990-08-22 2002-09-17 William D. Fountain System for scanning a surgical laser beam
US20020159685A1 (en) * 2001-04-27 2002-10-31 Cormack Robert H. 1xN optical fiber switch
DE10133847A1 (de) * 2001-07-12 2003-02-06 Rodenstock Praez Soptik Gmbh & Vorrichtung zur Ablenkung des Laserstrahls

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1680534A (en) * 1923-03-10 1928-08-14 Famous Players Lasky Corp Double prism-registering device
US2672786A (en) * 1951-11-24 1954-03-23 Eastman Kodak Co Motion-picture register gauge
US4586787A (en) * 1983-07-29 1986-05-06 The Perkin-Elmer Corporation Lens assembly
US4822974A (en) * 1988-02-18 1989-04-18 United Technologies Corporation Laser hold drilling system with lens and two wedge prisms including axial displacement of at least one prism
US5237457A (en) * 1990-10-04 1993-08-17 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Apparatus for adjusting an optical axis including a laser beam source and a beam shaping prism
US5610771A (en) * 1994-08-01 1997-03-11 Lockheed Missiles & Space Company, Inc. Non-deviating prism with continuously variable dispersion
US7119972B2 (en) * 2004-06-24 2006-10-10 Agilent Technologies, Inc. Apparatus and method for the manipulation of a laser beam in reflection

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0153243A1 (de) * 1984-02-16 1985-08-28 Societe D'optique, Precision Electronique Et Mecanique - Sopelem Faseroptisches Schaltgerät
JPS60257189A (ja) * 1984-06-01 1985-12-18 Nippon Sekigaisen Kogyo Kk レ−ザ装置
DE3702330A1 (de) * 1986-01-31 1988-11-17 Ferranti Plc Vorrichtung zum steuern der richtung eines strahles einer optischen strahlung
CA2069895C (en) * 1990-08-22 2002-09-17 William D. Fountain System for scanning a surgical laser beam
JPH05100181A (ja) * 1991-10-04 1993-04-23 Minolta Camera Co Ltd 走査方式
US20010046345A1 (en) * 2000-02-01 2001-11-29 Snyder James J. Single channel M x N optical fiber switch
WO2001075506A1 (en) * 2000-03-30 2001-10-11 Raytheon Company Beam steering optical arrangement using risley prisms with surface contours for aberration correction
US20020159685A1 (en) * 2001-04-27 2002-10-31 Cormack Robert H. 1xN optical fiber switch
DE10133847A1 (de) * 2001-07-12 2003-02-06 Rodenstock Praez Soptik Gmbh & Vorrichtung zur Ablenkung des Laserstrahls

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010031674B4 (de) 2009-09-23 2022-05-05 Keysight Technologies, Inc. (n.d.Ges.d.Staates Delaware) Kopplungseinheit für Lichtwellenleiter

Also Published As

Publication number Publication date
US7035025B2 (en) 2006-04-25
JP2004354994A (ja) 2004-12-16
US20040240088A1 (en) 2004-12-02
US20060139779A1 (en) 2006-06-29
NL1026264A1 (nl) 2004-11-30
NL1026264C2 (nl) 2007-01-04
US7319566B2 (en) 2008-01-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102004007640A1 (de) Kompaktpräzisionsstrahlmanipulierer
EP1643284B1 (de) Vorrichtung zur Fokussierung eines Laserstrahls
EP0090218B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Justieren und Montieren von optischen Bauteilen in optischen Geräten
EP1297372B1 (de) Vorrichtung zur übertragung optischer signale
DE68918644T2 (de) Variabler Verhältnis-Strahlenteiler und Ankoppelungs-Optik.
DE10140608A1 (de) Vorrichtung zur Justage eines optischen Elements
DE102007021981B4 (de) Optisches Gerät mit Vibrationskompensation
EP1477763B2 (de) Vorrichtung zur Befestigung einer Kamera an einem Beobachtungsfernrohr
DE102005057860A1 (de) Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für die Halbleiterlithographie
DE3650509T2 (de) Zoom-Mikroskop mit Kurbel und Gestängemechanismus
DE2202626B2 (de) Vorrichtung zum Ausrichten von optischen Elementen
EP2135124B1 (de) Optikfassung und optisches bauelement mit einer derartigen optikfassung
DE102013223017A1 (de) Optisches Modul
DE10226655A1 (de) Vorrichtung zur Positionierung eines optischen Elements in einer Struktur
EP1412692B1 (de) Zielfernrohr
EP2606390B1 (de) Mehrstufig justierbare fassungsbaugruppe für zwei optische bauteile
DE102021201412A1 (de) Kipplagerungseinrichtung und Projektionsbelichtungsanlage
EP2458421A1 (de) Einrichtung zum Fokussieren eines Mikroskopobjektivs auf eine Probe
DE102017209794B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Ausrichtung eines optischen Elements, sowie Projektionsbelichtungsanlage
DE102018216964A1 (de) Aktuatoreinrichtung zur Ausrichtung eines Elements, Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie und Verfahren zur Ausrichtung eines Elements
DE102016004742A1 (de) Ablenkvorrichtung für Strahlung
WO2003003099A2 (de) Mikroskoptubus
EP1666944B1 (de) Optischer Faserkoppler
DE102018216951A1 (de) Verstellbarer mechanischer Halter zur Feinjustage der Position eines Elements wie einer Linse
DE102021107413B3 (de) Kompakte Justierfassung zur Justierung von zwei optischen Tuben

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: AGILENT TECHNOLOGIES, INC. (N.D.GES.D. STAATES, US

8139 Disposal/non-payment of the annual fee