DE10113190B4 - Humidity sensor based on a dew point principle based on a thin membrane - Google Patents

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Abstract

Feuchtesensor mit
einer Membran (4) und einer Trägereinrichtung (2) für die Membran (4);
einer Einrichtung (6, 8, 10) zum Kühlen der Membran (4);
einer Einrichtung (20; 22; 24) zum Erwärmen der Membran (4); und
einer Einrichtung zum Bestimmen einer Aufheizkurve, die sich beim Erwärmen der Membran (4) ergibt, zum Bestimmen einer Änderung eines Niederschlagszustands auf der Membran (4) aus einer Analyse der Kurvenform der Aufheizkurve und zum Ermitteln der Feuchte aus der bestimmten Niederschlagszustandsänderung.
Humidity sensor with
a membrane (4) and a carrier device (2) for the membrane (4);
means (6, 8, 10) for cooling the membrane (4);
means (20; 22; 24) for heating the membrane (4); and
means for determining a heating curve which results upon heating of the membrane (4), for determining a change of a precipitation state on the membrane (4) from an analysis of the curve shape of the heating curve and for determining the moisture from the determined precipitation state change.

Figure 00000001
Figure 00000001

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Feuchtesensor und insbesondere auf einen Feuchtesensor nach dem Taupunktprinzip.The The present invention relates to a humidity sensor, and more particularly to a humidity sensor according to the dew point principle.

Feuchtesensoren nach dem Taupunktprinzip sind neben Psychrometern die präzisesten, aber auch aufwendigsten und teuersten Geräte zur Messung der Luftfeuchtigkeit. Bei diesen Sensoren wird eine Oberfläche durch Kühlen bis an den Taupunkt gebracht. Auf der Oberfläche bildet sich ein Niederschlag in Form eines Wasserfilms oder von Wassertropfen (Tau). Die Betauung wird durch verschiedene Verfahren festgestellt. Dabei wird ausgenutzt, daß eine Betauung der Oberfläche optische Reflexionseigenschaften der Oberfläche, eine elektrische Kapazität zwischen isolierten Elektroden an der Oberfläche oder einen elektrischen Widerstand zwischen nicht isolierten Elektroden an der Oberfläche verändert. Anschließend wird der Sensor wieder beheizt, bis die Betauung verdampft ist. Auf diese Art pendelt der Sensor um die Taupunkttemperatur, die zusammen mit der Umgebungstemperatur ein Maß für die Luftfeuchte ist. Die Taupunkttemperatur wird dabei durch einen Temperatursensor an der Oberfläche zu dem Zeitpunkt gemessen, zu dem die Betauung verschwindet.humidity sensors according to the dew point principle, psychrometers are the most precise, but also costly and expensive devices for measuring humidity. With these sensors, a surface is brought to the dew point by cooling. On the surface a precipitate forms in the form of a water film or of Water drops (dew). The condensation is by different methods detected. It is exploited that a condensation of the surface optical Reflection properties of the surface, an electrical capacitance between isolated electrodes on the surface or an electrical Resistance between non-insulated electrodes on the surface changed. Subsequently, will the sensor is heated again until the condensation has evaporated. To this The sensor oscillates around the dew point temperature, which together with the ambient temperature is a measure of the humidity is. The dew point temperature is determined by a temperature sensor on the surface measured at the time the condensation disappears.

Dieses Prinzip hat bei den derzeitigen Realisierungen folgende Nachteile:

  • – zum periodischen Heizen und Kühlen des Sensors ist eine erhebliche Energie und Zeit notwendig;
  • – die genannten Meßverfahren werden durch eine Verschmutzung der Oberfläche beeinflußt, die das Meßergebnis verfälschen oder seine Gewinnung verhindern kann;
  • – das optische Meßverfahren ist aufgrund der benötigten optischen Einrichtungen aufwendig und teuer;
  • – das kapazitive Meßverfahren ist relativ ungenau; und
  • – das Widerstandsmeßverfahren ist u. a. aufgrund seiner offenliegenden Elektroden gegenüber seiner Umwelt besonders empfindlich.
This principle has the following disadvantages in current implementations:
  • - Periodic heating and cooling of the sensor requires considerable energy and time;
  • - The above measuring methods are affected by contamination of the surface, which can falsify the measurement result or prevent its extraction;
  • - The optical measuring method is complicated and expensive due to the required optical devices;
  • - The capacitive measuring method is relatively inaccurate; and
  • The resistance measuring method is particularly sensitive to its environment, inter alia because of its exposed electrodes.

Taupunktmeßgeräte gemäß dem Stand der Technik sind aus diesem Grund teuer, langsam und werden hauptsächlich im Laborbetrieb für genaue Messungen eingesetzt.Dew point measuring devices according to the state For this reason, the technology is expensive, slow and mainly used in the Laboratory operation for accurate measurements are used.

Die DE 3633015 A1 beschreibt ein Verfahren und eine Anordnung zur Messung einer Taupunkttemperatur, wobei eine einer zu untersuchenden Atmosphäre ausgesetzte Oberfläche eines Sensors durch eine regelbare Temperiervorrichtung auf eine solche Temperatur gebracht wird, die zur Bildung eines Taubeschlages auf der Sensoroberfläche führt, und wobei die Temperiervorrichtung auf eine konstante Tauschichtdicke an der Sensoroberfläche geregelt wird. Die dabei jeweils durch einen Temperaturfühler festgestellte Sensortemperatur ist die Taupunkttemperatur. Um kurzfristig auftretende Veränderungen bzw. Schwankungen der Taupunkttemperatur erfassen bzw. nachvollziehen zu können, schlägt die Druckschrift vor, mittels einer Kühlvorrichtung mit einer vorgegebenen einstellbaren Kühlleistung mehr Wärme, als zur Erreichung der Taupunkttemperatur notwendig ist, zu entziehen, und durch eine zusätzliche Heizvorrichtung mit einer regelbaren Heizleistung die Sensoroberfläche bis zur Taupunkttemperatur zu erwärmen. Zur Erfassung der Tauschichtdicke ist ein kapazitiver Sensor vorgesehen, dessen Kapazität von der Tauschichtdicke abhängt.The DE 3633015 A1 describes a method and an arrangement for measuring a dew point temperature, wherein a surface of a sensor exposed to an atmosphere to be examined is brought to a temperature by means of a controllable temperature control device, which leads to the formation of a deafening impact on the sensor surface, and wherein the temperature control device has a constant thickness layer thickness is controlled at the sensor surface. The temperature of each sensor detected by a temperature sensor is the dew point temperature. In order to detect or understand short-term changes or fluctuations in the dew point temperature, the document proposes to extract more heat than is necessary to achieve the dew point temperature by means of a cooling device with a predetermined adjustable cooling capacity, and by an additional heating device with a adjustable heating power to heat the sensor surface up to the dew point temperature. To detect the layer thickness, a capacitive sensor is provided whose capacity depends on the layer thickness.

Die DE 4116322 A1 beschreibt eine Anordnung zur Messung einer Taupunkttemperatur mit einem Sensor-Chip, auf dem ein Multikomponentensensor aufgebracht ist, wobei ein Kapazitäts- und Frequenzwandler innerhalb des Sensor-Chips realisiert ist. Der Multikomponentensensor umfaßt einen Streufeldkondensator, einen Temperatursensor und einen ionensensitiven Feldeffekttransistor. Unter dem Sensor-Chip 1 ist ein Kühlelement angebracht, während zum Einsatz der Anordnung als Betauungssensor vorzugsweise ein Heizelement verwendet wird. Die Taupunkttemperatur wird als die Temperatur des Multikomponentensensors zu dem Zeitpunkt während eines Abkühlens bestimmt, zu dem sich die Kapazität des Streufeldkondensators aufgrund einer Betauung der Sensoroberfläche ändert.The DE 4116322 A1 describes an arrangement for measuring a dew point temperature with a sensor chip on which a multicomponent sensor is applied, wherein a capacitance and frequency converter is realized within the sensor chip. The multicomponent sensor includes a stray field capacitor, a temperature sensor and an ion-sensitive field effect transistor. Under the sensor chip 1 a cooling element is mounted, while for use of the arrangement as a condensation sensor preferably a heating element is used. The dew point temperature is determined as the temperature of the multicomponent sensor at the time during cooling, at which the capacitance of the stray field capacitor changes due to dew of the sensor surface.

Die DE 39 35 610 A1 beschreibt ein monolithisch integrierbares Peltier-Kühlelement, das eine Mehrzahl von sternförmig auf einer Membran angeordneten einzelnen Peltier-Elementen aufweist, die abwechselnd einen p-Typ und einen n-Typ aufweisen, durch Metallbrücken in Serie geschaltet sind und so ein einziges Kühl- oder Heizelement bilden. Es wird insbesondere eine Verwendung dieser Anordnung als Taupunktfühler beschrieben, wobei im Gegensatz zur vorliegenden Erfindung mit dem Peltier-Element lediglich eine einzige Kühl- bzw. Heiz-Einrichtung vorgesehen ist. Durch die Miniaturisierung des Peltier-Elements und seine Anordnung unmittelbar auf der Folie bzw. Membran stellt die Druckschrift eine, allerdings herstellungstechnisch aufwendige, Alternative zur vorliegenden Erfindung dar und lehrt damit vom Gegenstand der vorliegenden Erfindung weg, die eine nicht notwendigerweise miniaturisierte Kühleinrichtung und ferner eine Einrichtung zum Erwärmen der Membran vorsieht.The DE 39 35 610 A1 describes a monolithically integrable Peltier cooling element having a plurality of star-shaped arranged on a membrane individual Peltier elements having alternately a p-type and an n-type, are connected in series by metal bridges and so a single cooling or heating element form. In particular, a use of this arrangement is described as a dew point sensor, wherein in contrast to the present invention with the Peltier element only a single cooling or heating device is provided. Due to the miniaturization of the Peltier element and its arrangement directly on the film or membrane, the document is an, however, technically complex, alternative to the present invention and thus teaches away from the subject of the present invention, the not necessarily miniaturized cooling device and further Device for heating the membrane provides.

Die DE 4104327 C2 beschreibt eine Vorrichtung zur Wärmeableitung in einem Chip mittels einer als Peltier-Element ausgebildeten Kühlstelle, die in einem zungenförmig in eine Ausnehmung eines Si-Wafers ragenden Abschnitt einer Schichtstruktur aus einer Si-Epitaxieschicht, einer Iso lierschicht und einer Metallschicht ausgebildet ist. Als Beispiel für eine Integration der Peltier-Kühlstelle mit einem Sensor auf einem Chip wird ein mikromechanischer Taupunktspiegel als Feuchtesensor angegeben.The DE 4104327 C2 describes a device for heat dissipation in a chip by means of a cooling element designed as a Peltier element, the lierschicht in a tongue-shaped projecting into a recess of a Si wafer portion of a layer structure of a Si epitaxial layer, an Iso a metal layer is formed. As an example of an integration of the Peltier cooling point with a sensor on a chip, a micromechanical dew point mirror is specified as a moisture sensor.

R. Jachowicz u.a. beschreiben in "Evaluation of thin Film Water Behaviour in Silicon Dew Point Sensor", Proc. Of the 13th European Conference on Solid-State Transducers EUROSENSORS XIII, The Hague, The Netherlands, September 12-15, 1999, Seiten 355 bis 358, ein Verfahren zur Feuchtemessung, bei dem zur Taupunkterfassung ebenfalls kapazitive oder optische Sensoren verwendet werden.R. Jachowicz et al. Describe in "Evaluation of Thin Film Water Behavior in Silicon Dew Point Sensor", Proc. Of the 13 th European Conference on Solid-State Transducers EUROSENSORS XIII, The Hague, The Netherlands, September 12-15, 1999, pages 355 to 358, a method of moisture measurement in which capacitive or optical sensors are also used for dew point detection.

Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, einen unaufwendigen, gegenüber Verschmutzungen unempfindlichen, schnellen und miniaturisierbaren Feuchtesensor nach dem Taupunktprinzip zu schaffen.A The object of the present invention is to provide an inexpensive, across from Soiling insensitive, fast and miniaturizable Moisture sensor to create the dew point principle.

Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein gegenüber Verschmutzungen unempfindliches, schnelles Verfahren zum Bestimmen einer Feuchte nach dem Taupunktprinzip zu schaffen, das unaufwendig und auf kleinem Raum durchführbar ist.A Another object of the present invention is to insensitive to contamination, fast method for determining a humidity based on the dew point principle to create, which is inexpensive and feasible in a small space.

Diese Aufgaben werden durch eine Vorrichtung gemäß Anspruch 1 bzw. ein Verfahren gemäß Anspruch 11 gelöst.These Tasks are achieved by a device according to claim 1 and a method according to claim 11 solved.

Ein Vorteil der vorliegenden Erfindung besteht in ihrem einfachen Aufbau, ihrer Kleinheit bzw. Miniaturisierbarkeit und ihrer Robustheit gegenüber Verschmutzungen. Insbesondere ist die Wärmekapazität der Membran viel kleiner als die Wärmekapazität der Trägereinrichtung. Ein geringer Energieverbrauch folgt insbesondere daraus, daß wechselnde Temperaturen nur auf der Membran erzeugt werden, die eine sehr geringe Wärmekapazität aufweist, was ferner eine hohe Meßgeschwindigkeit zur Folge hat.One Advantage of the present invention is its simple structure, their smallness or miniaturization and their robustness against soiling. In particular, the heat capacity of the membrane much smaller than the heat capacity of the carrier device. Low energy consumption follows in particular from the fact that changing temperatures be produced only on the membrane, which has a very low heat capacity, which also has a high measuring speed entails.

Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung umfaßt die Membran eine Siliziumnitridmembran oder eine Siliziumoxidmembran oder eine Siliziumcarbidmembran. Die Trägereinrichtung umfaßt vorzugsweise einen Siliziumchip. Dadurch wird eine Realisierung in herkömmlicher Siliziumchiptechnologie, eine sehr weitgehende Miniaturisierung, eine Herstellung mit herkömmlichen Verfahren der Halbleitertechnologie und eine weitgehende Integration eines Großteils der Funktions- und Bauelemente des Feuchtesensors auf einem einzelnen, kleinen Siliziumchip möglich.According to one preferred embodiment of the present invention the membrane is a silicon nitride membrane or a silicon oxide membrane or a silicon carbide membrane. The support means preferably comprises a silicon chip. This will be a realization in conventional Silicon chip technology, a very extensive miniaturization, a manufacture with conventional Process of semiconductor technology and extensive integration a large part the functional and structural elements of the humidity sensor on a single, small silicon chip possible.

Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel umfaßt die Einrichtung zum Kühlen der Trägereinrichtung und der Membran ein Peltier-Element. Sie kann ferner einen Kühlfinger aufweisen, der über einen schmalen Luftspalt eine großflächige Wärmeleitverbindung mit der Membran schafft, um diese räumlich gleichmäßig, d. h. mit einem flachen räumlichen Temperaturprofil, zu kühlen.According to one preferred embodiment comprises the device for cooling the carrier device and the membrane is a Peltier element. It can also have a cold finger have over one narrow air gap a large-area heat conduction connection with the membrane creates this spatially evenly, d. H. with a flat spatial Temperature profile, to cool.

Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel ist ferner die Einrichtung zum Erwärmen der Membran durch eine auf der Membran gebildete elektrische Leiterstruktur ausgeführt. Mittels eines durch die Leiterstruktur fließenden Stroms und aufgrund des ohmschen Widerstands derselben kann so die Membran erwärmt werden. Vorzugsweise ist die Leiterstruktur so ausgeführt, daß die Membran beim Erwärmen ein flaches räumliches Temperaturprofil aufweist. Eine Änderung des Niederschlagszustands findet dann auf der ganzen Membran zum gleichen Zeitpunkt statt. Ein flaches Temperaturprofil der Membran wird beispielsweise erzielt, indem die Leiterstruktur die Form einer einfachen oder doppelten Spirale oder Schleife aufweist.According to one preferred embodiment is also the means for heating the membrane by a executed on the membrane formed electrical conductor structure. through a current flowing through the conductor pattern and due to the ohmic resistance of the same can be heated so the membrane. Preferably, the conductor structure is designed so that the membrane when heated flat spatial Temperature profile has. A change the precipitation state then finds itself on the whole membrane same time. A flat temperature profile of the membrane is achieved, for example, by the conductor structure in the form of a single or double spiral or loop.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel umfaßt die Einrichtung zum Bestimmen und Ermitteln einen ersten Temperatursensor zum Bestimmen der Temperatur der Membran zu dem Zeitpunkt einer Änderung des Niederschlagszustands auf der Membran, einen zweiten Temperatursensor zum Bestimmen einer Umgebungstemperatur, und eine Einrichtung zum Bestimmen der Feuchte aus den beiden von den beiden Temperatursensoren gemessenen Temperaturen.According to one embodiment includes the Device for determining and determining a first temperature sensor for determining the temperature of the membrane at the time of a change the precipitation state on the membrane, a second temperature sensor for determining an ambient temperature, and means for Determine the moisture from the two of the two temperature sensors measured temperatures.

Gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung ist der Feuchtesensor ferner von einer wärmeisolierenden Vorrichtung umgeben, die im wesentlichen nur im Bereich der Membran eine Öffnung aufweist. Dadurch wird ein Kälteverlust des Feuchtesensors bzw. eine Energiezufuhr aus der Umgebung, außer über die Membran, im wesentlichen vermieden und der Energieaufwand zum Kühlen weiter verringert.According to one another embodiment of the In the present invention, the humidity sensor is further comprised of a heat-insulating Surrounding device, which is essentially only in the region of the membrane an opening having. This will be a cold loss of the humidity sensor or an energy supply from the environment, except on the Membrane, substantially avoided and the energy required for cooling on reduced.

Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend Bezug nehmend auf die beiliegenden Zeichnungen näher beschrieben. Es zeigen:preferred embodiments The present invention will be described below with reference to FIG the enclosed drawings closer described. Show it:

1 eine schematische Querschnittansicht eines Feuchtesensors gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; 1 a schematic cross-sectional view of a humidity sensor according to a preferred embodiment of the present invention;

2 eine schematische Darstellung einer Aufheizkurve, aus der gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel eine Änderung eines Niederschlagszustands der Membran bestimmt werden kann; 2 a schematic representation of a heating curve, from which according to a preferred embodiment, a change in a precipitation state of the membrane can be determined;

3a, 4a, 5a schematische Darstellungen von Leiterstrukturen zum Erwärmen der Membran gemäß Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung; 3a . 4a . 5a schematic diagrams of conductor structures for heating the membrane according to embodiments of the present invention;

3b, 4b, 5b schematische Darstellungen von Temperaturprofi len, die beim Verwenden der Leiterstrukturen aus 3a, 4a bzw. 5a folgen; und 3b . 4b . 5b schematic representations of Temperaturprofi len, when using the conductor structures from 3a . 4a respectively. 5a consequences; and

6 eine schematische Darstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung. 6 a schematic representation of another embodiment of the present invention.

1 zeigt ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Ein Siliziumchip 2 trägt eine Membran 4 aus Siliziumnitrid. Der Siliziumchip 2 mit der Membran 4 ist auf ein Peltier-Element 6, 8, 10 aufgesetzt, das aus einem Kupferblock 6 und zwei Metallblöcken 8, 10 besteht, die unterschiedliche thermoelektrische Spannungen aufwei sen. Das Peltier-Element 6, 8, 10 ist an einer Grundplatte 12 so angebracht, daß durch eine nicht dargestellte Stromquelle ein Stromfluß durch den Metallblock 8, den Kupferblock 6 und den Metallblock 10 erzeugt werden kann. Die Membran 4 trägt eine nicht dargestellte Leiterstruktur, damit die Membran 4 elektrisch erwärmt werden kann. 1 shows a preferred embodiment of the present invention. A silicon chip 2 carries a membrane 4 made of silicon nitride. The silicon chip 2 with the membrane 4 is on a Peltier element 6 . 8th . 10 put on that from a copper block 6 and two metal blocks 8th . 10 exists, the different thermoelectric voltages aufwei sen. The Peltier element 6 . 8th . 10 is on a base plate 12 mounted so that a current flow through the metal block by a power source, not shown 8th , the copper block 6 and the metal block 10 can be generated. The membrane 4 carries a conductor structure, not shown, so that the membrane 4 can be electrically heated.

Zur Herstellung der dünnen Membran 4 kann beispielsweise durch ein LPCVD- oder PECVD-Verfahren eine wenige 100 nm dicke Siliziumnitridschicht auf einem Siliziumsubstrat abgeschieden werden. Statt einer Siliziumnitridschicht kann auch eine Siliziumoxid- oder eine Siliziumcarbidschicht verwendet werden. Die Siliziumnitridschicht (bzw. Siliziumoxid- bzw. Siliziumcarbidschicht) wird auf ihrer Oberseite mit bekannten Verfahren mit der genannten Leiterstruktur versehen, und eine Teilfläche des Siliziumsubstrats wird durch einen Ätzschritt fensterförmig entfernt, so daß in diesem Bereich nur noch die Siliziumnitridmembran 4 zurückbleibt. Die so hergestellte Siliziumnitridmembran 4 zeichnet sich durch eine sehr geringe Wärmeleitfähigkeit und große Robustheit aus, bei einer Dicke von 200 nm widersteht sie beispielsweise einer Druckdifferenz von 1 bar.For the production of the thin membrane 4 For example, by a LPCVD or PECVD method, a few 100 nm thick silicon nitride layer may be deposited on a silicon substrate. Instead of a silicon nitride layer, it is also possible to use a silicon oxide or a silicon carbide layer. The silicon nitride layer (or silicon oxide or Siliziumcarbidschicht) is provided on its upper side by known methods with said conductor pattern, and a partial surface of the silicon substrate is removed by an etching step window-like, so that in this area only the silicon nitride membrane 4 remains. The silicon nitride membrane thus prepared 4 is characterized by a very low thermal conductivity and high robustness, with a thickness of 200 nm, it resists, for example, a pressure difference of 1 bar.

Das Peltier-Element 6, 8, 10 und der mit ihm wärmeleitfähig verbundene Siliziumchip 2 wird durch einen von einer nicht dargestellten Stromquelle erzeugten Stromfluß durch den Metallblock 8, den Kupferblock 6 und den Metallblock 10 gekühlt. Wenn die Membran 4 den Taupunkt bzw. die Taupunkttemperatur bei der gegebenen, zu messenden Luftfeuchtigkeit unterschreitet, bildet sich auf der Oberfläche der Membran 4 durch Kondensation des in der umgebenden Atmosphäre enthaltenen Wassers ein Niederschlag. Bei einer dünnen Siliziumnitridmembran ist der Wärmeaustausch mit der umgebenden Luft über den Wandwärmeübergang stärker als der Wärmeaustausch mit dem Siliziumchip durch Wärmeleitung in der Membran. Wird durch ein Peltier-Element der Siliziumchip gekühlt, so wird die Membran der Temperaturerniedrigung nur zum Teil folgen. Daher ist es sinnvoll, die Kühlung über einen Kühlfinger, der nur durch einen dünnen Luftspalt von der Membran getrennt ist, direkt auf die ganze Fläche wirken zu lassen.The Peltier element 6 . 8th . 10 and the thermally conductive bonded silicon chip 2 is caused by a current flow generated by a power source, not shown, through the metal block 8th , the copper block 6 and the metal block 10 cooled. If the membrane 4 the dew point or the dew point temperature falls below the given, to be measured humidity, forms on the surface of the membrane 4 by condensation of the water contained in the surrounding atmosphere a precipitate. For a thin silicon nitride membrane, the heat exchange with the surrounding air via the wall heat transfer is stronger than the heat exchange with the silicon chip by heat conduction in the membrane. If the silicon chip is cooled by a Peltier element, then the membrane will only partially follow the temperature reduction. Therefore, it makes sense to let the cooling effect directly on the entire surface via a cold finger, which is separated from the membrane only by a thin air gap.

In 1 weist der Kupferblock 6 einen Abschnitt 14 auf, der die Gestalt und die Funktion eines Kühlfingers für die Membran 4 hat. Er reicht von unten an die Membran 4 heran und ist im wesentlichen über die gesamte Fläche der Membran 4 nur durch einen dünnen Luftspalt von der Membran 4 getrennt. Eine Abkühlung der Membran 4 erfolgt deshalb über ihre gesamte Fläche im wesentlichen gleichmäßig, d. h. es stellt sich während des Abkühlens ein im wesentlichen über die gesamte Membran 4 flach verlaufendes räumliches Temperaturprofil der Membran 4 ein. Dadurch findet die Bildung eines Niederschlags auf der Oberfläche der Membran 4 während des Abkühlens an allen Orten an der Oberfläche der Membran 4 im wesentlichen zur selben Zeit statt.In 1 shows the copper block 6 a section 14 on, the shape and function of a cold finger for the membrane 4 Has. It reaches from below to the membrane 4 approach and is essentially over the entire surface of the membrane 4 only through a thin air gap from the membrane 4 separated. A cooling of the membrane 4 Therefore, it takes place over its entire surface substantially uniformly, that is, it turns during cooling a substantially over the entire membrane 4 flat running spatial temperature profile of the membrane 4 one. This causes the formation of a precipitate on the surface of the membrane 4 during cooling at all locations on the surface of the membrane 4 essentially at the same time.

Beim Erreichen einer Temperatur der Membran 4 unter dem Taupunkt, d. h. nach der Bildung eines Niederschlags, wird die Membran 4 mittels eines Stromflusses durch die Leiterstruktur erwärmt, so daß ihre Temperatur wieder ansteigt. Wenn die Temperatur der Membran 4 den Taupunkt überschreitet, löst sich der Niederschlag auf der Oberfläche der Membran 4 wieder auf, d. h. das kondensierte Wasser verdampft und geht in die umgebende Atmosphäre über. Beim Erreichen einer Temperatur oberhalb des Taupunkts, d.h. nach dem Verdampfen des Niederschlags, wird der Stromfluß durch die Leiterstruktur auf der Membran 4 ausgeschaltet. Die Membran 4 wird dadurch nicht mehr weiter erwärmt, sondern durch die Wirkung des Peltier-Elements und über den Kühlfinger 14 wieder abgekühlt und unterschreitet erneut den Taupunkt.Upon reaching a temperature of the membrane 4 below the dew point, ie after the formation of a precipitate, the membrane becomes 4 heated by a current flow through the conductor structure, so that their temperature rises again. When the temperature of the membrane 4 exceeds the dew point, the precipitate dissolves on the surface of the membrane 4 again, ie the condensed water evaporates and passes into the surrounding atmosphere. Upon reaching a temperature above the dew point, ie after evaporation of the precipitate, the flow of current through the conductor structure on the membrane 4 switched off. The membrane 4 is no longer heated by this, but by the action of the Peltier element and the cold finger 14 cooled again and falls below the dew point again.

Der beschriebene Zyklus des Abkühlens der Membran 4 unter den Taupunkt und des Erwärmens der Membran 4 über den Taupunkt wird beliebig oft wiederholt.The described cycle of cooling the membrane 4 below the dew point and heating the membrane 4 The dew point is repeated as often as you like.

Es ist eine wichtige Eigenschaft der vorliegenden Erfindung, daß der Zyklus des Abkühlens unter den Taupunkt und des Erwärmens über den Taupunkt nur von der Membran 4 durchlaufen wird. Die vorliegende Erfindung unterscheidet sich dadurch sehr wesentlich vom Stand der Technik, bei dem Feuchtesensoren nach dem Taupunktprinzip im wesentlichen vollständig einen Zyklus des Abkühlens unter den Taupunkt und des Erwärmens über den Taupunkt durchlaufen. Die Membran 4 weist aufgrund ihrer geringen Dicke eine sehr geringe auf ihre Fläche bezogene Wärmekapazität auf. Da sie im wesentlichen nur die Leiterstruktur zum elektrischen Erwärmen trägt, die stark miniaturisierbar ist, können auch die lateralen Abmessungen der Membran 4 klein gewählt werden. Aus der Kleinheit und der geringen Wärmekapazität der Membran 4 folgt, daß zum Erwärmen derselben über die Leiterstruktur nur eine vergleichsweise sehr geringe elektrische Leistung erforderlich ist. Ferner wird durch das gute Verhältnis zwischen der Oberfläche der Membran 4 und ihrer Wärmekapazität eine Bestimmung des Taupunkts aus der Analyse der Kurvenform der Aufheizkurve möglich, die bisher nicht bzw. nicht annähernd mit einer vergleichbaren Genauigkeit möglich war.It is an important feature of the present invention that the cycle of cooling below the dew point and heating above the dew point only from the membrane 4 is going through. The present invention thus differs very significantly from the prior art, in which moisture sensors according to the dew point principle substantially complete a cycle of cooling below the dew point and heating above the dew point. The membrane 4 Because of its small thickness, it has a very small heat capacity related to its area. Since it carries essentially only the conductor structure for electrical heating, which is highly miniaturized, and the lateral dimensions of the membrane 4 be chosen small. From the small size and the low heat capacity of the membrane 4 follows that for heating the same over the conductor structure only a comparatively very low electrical power is required. Furthermore, the good ratio between the surface of the membrane 4 and their heat capacity, a determination of the dew point from the analysis of the waveform of the heating curve possible, which was previously not or not nearly possible with a comparable accuracy.

Die Membran 4, die Leiterstruktur auf der Membran 4, die zum Erwärmen der Membran 4 verwendete elektrische Heizleistung, das Peltier-Element 6, 8, 10, die Kühlleistung des Peltier-Elements 6, 8, 10, der Kühlfinger 14 und der Luftspalt zwischen der Membran 4 und dem Kühlfinger 14 sind hinsichtlich ihres Aufbaus, ihrer Abmessungen und ihrer relativen räumlichen Anordnung so ausgelegt, daß die Heizleistung der Leiterstruktur auf der Membran 4 größer ist als die von der Membran 4 über den Siliziumchip 2 und den Kühlfinger 14 an das Peltier-Element 6, 8, 10 abgeführte Wärmeleistung. Dies ermöglicht einen kontinuierlichen Betrieb des Peltier-Elements 6, 8, 10 mit einer konstanten Kühlleistung, während die Membran 4 den oben beschriebenen Zyklus des Abkühlens unter den Taupunkt und des Erwärmens über den ausschließlich aufgrund eines An- und Ausschaltens der Heizleistung der Leiterstruktur durchläuft.The membrane 4 , the conductor structure on the membrane 4 used to warm the membrane 4 used electric heating power, the Peltier element 6 . 8th . 10 , the cooling power of the Peltier element 6 . 8th . 10 , the cold finger 14 and the air gap between the membrane 4 and the cold finger 14 are designed in terms of their structure, their dimensions and their relative spatial arrangement so that the heat output of the conductor structure on the membrane 4 larger than that of the membrane 4 over the silicon chip 2 and the cold finger 14 to the Peltier element 6 . 8th . 10 dissipated heat output. This allows for continuous operation of the Peltier element 6 . 8th . 10 with a constant cooling capacity, while the membrane 4 the above-described cycle of cooling below the dew point and the heating on the solely on the basis of turning on and off the heating power of the conductor structure.

Vorzugsweise ist der Siliziumchip zusammen mit der Kühlseite des Peltier-Elements, d. h. dem Kupferblock 6 und den an diesen grenzenden Enden der Metallblöcke 8, 10, von einer Wärmeisolation umgeben, die nur im Bereich der Membran 4 eine Öffnung, beispielsweise in Form eines Fensters, aufweist, um die Membran 4 der Umgebungsluft auszusetzen. Durch die Wärmeisolation wird ein Kälteverlust des Peltier-Elements und des Siliziumchips reduziert und findet im wesentlichen nur noch über Wärmeleitung zur Membran 4 und über die Metallblöcke 8, 10 bzw. daran anschließende Verbindungskabel zu der durch den Betrieb des Peltier-Elements erwärmten Lötstelle statt. Die Kühlleistung des Peltier-Elements muß somit im wesentlichen nur die mittlere Heizleistung der Leiterstruktur auf der Membran 4 und den Kälteverlust über die Membran 4 an die Umgebung kompensieren. Da die Membran 4 sehr klein ausgeführt sein kann, kann auch die Kühlleistung sehr klein sein.Preferably, the silicon chip is co-located with the cooling side of the Peltier element, ie, the copper block 6 and at these adjacent ends of the metal blocks 8th . 10 , surrounded by a thermal insulation, only in the area of the membrane 4 an opening, for example in the form of a window, around the membrane 4 to expose to the ambient air. Due to the heat insulation, a cold loss of the Peltier element and the silicon chip is reduced and essentially takes place only via heat conduction to the membrane 4 and over the metal blocks 8th . 10 or adjoining connecting cable to the heated by the operation of the Peltier element solder joint instead. The cooling capacity of the Peltier element must therefore essentially only the average heating power of the conductor structure on the membrane 4 and the loss of cold across the membrane 4 to compensate for the environment. Because the membrane 4 can be made very small, the cooling capacity can be very small.

Insgesamt ermöglicht die Erfindung die Realisierung eines Feuchtesensors, dessen Betrieb eine nur geringe Leistung erfordert, da sowohl aufgrund der geringen Wärmekapazität und der kleinen Fläche der Membran 4 eine geringe Heizleistung der Leiterstruktur auf der Membran 4 als auch aufgrund der geringen Heizleistung der Leiterstruktur auf der Membran 4 und des geringen Wärmeverlusts im wesentlichen nur über die kleine Fläche der Membran 4 eine geringe Kühlleistung erforderlich ist.Overall, the invention enables the realization of a humidity sensor whose operation requires only low power, since both due to the low heat capacity and the small area of the membrane 4 a low heat output of the conductor structure on the membrane 4 as well as due to the low heating power of the conductor structure on the membrane 4 and the low heat loss substantially only over the small area of the membrane 4 a low cooling capacity is required.

Das Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung weist neben den beschriebenen Elementen und Merkmalen eine Einrichtung zum Bestimmen einer Änderung eines Niederschlagszustands auf der Membran 4 und zum Ermitteln der Feuchte aus der bestimmten Niederschlagszustandsänderung auf.The embodiment of the present invention includes, in addition to the described elements and features, means for determining a change in a precipitation condition on the membrane 4 and for determining the humidity from the determined precipitation state change.

Die geringe Wärmekapazität der dünnen Membran 4, insbesondere das günstige, d. h. große Verhältnis zwischen der Oberfläche der Membran 4 und ihrer Wärmekapazität, ermöglicht bei einem Feuchtesensor gemäß der vorliegenden Erfindung eine Bestimmung einer Änderung des Niederschlagszustands auf der Membran 4 aus einer Analyse der Kurvenform einer Aufheizkurve. Die Aufheizkurve ist eine Darstellung der Zeitabhängigkeit der Temperatur der Membran 4 während des Erwärmens der Membran 4 mittels der Leiterstruktur.The low heat capacity of the thin membrane 4 , in particular the favorable, ie large ratio between the surface of the membrane 4 and their heat capacity, in a humidity sensor according to the present invention, allows a determination of a change in the state of precipitation on the membrane 4 from an analysis of the waveform of a heating curve. The heating curve is a representation of the time dependence of the temperature of the membrane 4 during heating of the membrane 4 by means of the ladder structure.

Eine typische Aufheizkurve ist in 2 schematisch dargestellt. Eine Spannung U an einem von einem konstanten Strom durchflossenen temperaturabhängigen elektrischen Widerstand oder an einem andersartigen Temperatursensor stellt ein Maß für die Temperatur am Ort des Temperatursensors auf der Membran 4 dar. Ausgehend von einer Temperatur unter dem Taupunkt wird beim Erwärmen der Membran 4 zunächst ein Bereich A der in 2 dargestellten Aufheizkurve durchlau fen. Die effektive Wärmekapazität der Membran 4 setzt sich hier zusammen aus der eigentlichen Wärmekapazität der Membran 4 und der Wärmekapazität des Niederschlags auf der Membran 4. Die Erhöhung der Temperatur der Membran 4 erfolgt mit einer bestimmten Rate entsprechend einer bestimmten Steigung der Aufheizkurve, die im wesentlichen von der Leistung der Leiterstruktur auf der Membran 4, von dem Wärmeübergang von der Membran 4 auf den Siliziumchip 2, den Kühlfinger 14 und die Umgebung, von der eigentlichen Wärmekapazität der Membran 4 und von der Wärmekapazität des Niederschlags auf der Membran 4, d. h. von der spezifischen Wärmekapazität und der Dicke des Niederschlags, ab. Über dem Taupunkt durchläuft die Aufheizkurve einen Bereich C. Hier ist die effektive Wärmekapazität der Membran 4 gleich der eigentlichen Wärmekapazität der Membran 4, da kein Niederschlag mehr vorhanden ist. Die Rate des Temperaturanstiegs bzw. die Steigung der Aufheizkurve ist somit nicht mehr von einer Wärmekapazität eines Niederschlags abhängig und entsprechend steiler.A typical heating curve is in 2 shown schematically. A voltage U at a temperature-dependent electrical resistance through which a constant current flows or at another type of temperature sensor provides a measure of the temperature at the location of the temperature sensor on the membrane 4 Starting from a temperature below the dew point is when heating the membrane 4 first an area A of in 2 Run through the heating curve shown. The effective heat capacity of the membrane 4 is composed here of the actual heat capacity of the membrane 4 and the heat capacity of the precipitate on the membrane 4 , Increase of temperature of a membrane 4 takes place at a certain rate corresponding to a certain slope of the heating curve, which essentially depends on the power of the conductor structure on the membrane 4 , from the heat transfer from the membrane 4 on the silicon chip 2 , the cold finger 14 and the environment, from the actual heat capacity of the membrane 4 and the heat capacity of the precipitate on the membrane 4 , ie the specific heat capacity and the thickness of the precipitate, from. Above the dew point, the heating curve goes through a region C. Here is the effective heat capacity of the membrane 4 equal to the actual heat capacity of the membrane 4 , as there is no more rainfall. The rate of temperature rise or the slope of the heating curve is therefore no longer dependent on a heat capacity of a precipitate and correspondingly steeper.

Zwischen den Bereichen A und C der Aufheizkurve kann sich bei dem Taupunkt bzw. der Taupunkttemperatur ein Plateau in der Aufheizkurve ausbilden. Nach Erreichen des Taupunkts wird durch die Heizleistung der Leiterstruktur auf der Membran 4 zunächst der Niederschlag auf der Membran 4 verdampft. Die zeitliche Dauer des Plateaus B der Aufheizkurve hängt außer von der Heizleistung der Leiterstruktur und dem Wärmeübergang von der Membran 4 auf den Siliziumchip 2, den Kühlfinger 14 und die Umgebung vor allem von der latenten Wärme des Phasenübergangs flüssig-gasförmig des Niederschlags, d. h. von seiner spezifischen latenten Wärme und seiner Dicke ab.Between the regions A and C of the heating curve, a plateau in the heating curve can form at the dew point or the dew point temperature. After reaching the dew point, the heat output of the conductor structure on the membrane 4 First, the precipitate on the membrane 4 evaporated. The duration of plateau B of the heating curve depends on the heat output of the lei terstruktur and the heat transfer from the membrane 4 on the silicon chip 2 , the cold finger 14 and the environment above all from the latent heat of the phase transition liquid-gas of the precipitate, ie from its specific latent heat and its thickness.

Eine Bestimmung einer Änderung des Niederschlagszustands auf der Membran 4 ist somit bei der erfindungsgemäßen Verwendung einer dünnen Membran 4 aus einer Analyse der Steigung der Aufheizkurve, d. h. der Rate der Erhöhung der Temperatur der Membran 4 während des Erwärmens, oder durch Er fassen der Temperatur eines Plateaus der Aufheizkurve, d. h. der Temperatur, bei der die Rate der Erhöhung der Temperatur der Membran 4 stark abnimmt oder im Idealfall verschwindet, möglich. Beide möglichen Analysen der Aufheizkurve sind durch digitale oder analoge elektronische Schaltungen realisierbar.A determination of a change in the precipitation state on the membrane 4 is thus in the inventive use of a thin membrane 4 from an analysis of the slope of the heating curve, ie the rate of increase in the temperature of the membrane 4 during heating, or by taking the temperature of a plateau of the heating curve, ie the temperature at which the rate of increase in the temperature of the membrane 4 decreases sharply or, ideally, disappears, possible. Both possible analyzes of the heating curve can be realized by digital or analog electronic circuits.

Die Temperatur der Membran 4 kann durch einen beliebigen Temperatursensor gemessen werden, beispielsweise durch einen an der Membran 4 angebrachten temperaturabhängigen Widerstand, ein Thermoelement oder aber einen Sensor, der die Wärmestrahlung der Membran 4 mißt. Ein besonders einfacher Aufbau des Feuchtesensors ist möglich, wenn die Leiterstruktur auf der Membran 4 einen temperaturabhängigen Widerstand aufweist und gleichzeitig zum Erwärmen der Membran 4 und zum Messen ihrer Temperatur verwendet wird. Dazu wird die Leiterstruktur mit einem vorbestimmten, konstanten Strom geheizt und gleichzeitig die an ihr abfallende Spannung U als Maß für die Temperatur der Membran 4 gemessen. Diese Konfiguration ist nicht nur in Hinsicht auf eine Vereinfachung des Aufbaus und der Herstellung des Feuchtesensors und auf eine Miniaturisierung der Membran 4 vorteilhaft, sondern bietet darüber hinaus auch eine Temperaturmessung, die einen großflächigen Mittelwert über die Membran 4 bildet.The temperature of the membrane 4 can be measured by any temperature sensor, for example by one on the membrane 4 attached temperature-dependent resistor, a thermocouple or a sensor, the heat radiation of the membrane 4 measures. A particularly simple construction of the moisture sensor is possible if the conductor structure on the membrane 4 having a temperature-dependent resistance and at the same time for heating the membrane 4 and used to measure its temperature. For this purpose, the conductor structure is heated with a predetermined, constant current and at the same time the voltage U dropping on it as a measure of the temperature of the membrane 4 measured. This configuration is not only in terms of simplifying the construction and manufacture of the humidity sensor and miniaturization of the diaphragm 4 advantageous, but also provides a temperature measurement, a large mean across the membrane 4 forms.

Anstatt der oben beschriebenen Speisung der Leiterstruktur auf der Membran 4 mit einem konstanten Strom und der Messung der aufgrund des Stroms an der Leiterstruktur abfallenden Spannung als Maß für die Temperatur kann auch umgekehrt eine vorbestimmte, konstante Spannung an die Leiterstruktur angelegt werden und der infolge dieser Spannung durch die Leiterstruktur fließende Strom als Maß für die Temperatur der Membran 4 gemessen werden. Unter bestimmten Umständen kann aber auch eine Verwendung eines separaten oder sogar von mehreren von der Leiterstruktur getrennten Temperatursensoren, beispielsweise in Form von einem oder mehreren Thermoelementen und/oder temperaturabhängigen Wi derständen, auf der Membran 4 vorteilhaft sein. Die durch eine Aufteilung der Funktionalitäten von Heizern und Temperaturmessern auf getrennte Bauelemente mögliche galvanische Trennung bietet Vorteile bei der elektronischen Auswertung der Signale.Instead of the above-described supply of the conductor structure on the membrane 4 With a constant current and the measurement of the voltage dropping due to the current across the conductor structure as a measure of the temperature, conversely, a predetermined, constant voltage can be applied to the conductor structure and the current flowing as a result of this voltage through the conductor structure as a measure of the temperature membrane 4 be measured. In certain circumstances, however, it is also possible to use a separate or even a plurality of temperature sensors separate from the conductor structure, for example in the form of one or more thermocouples and / or temperature-dependent resistors, on the membrane 4 be beneficial. The possible by separating the functionalities of heaters and temperature meters on separate components galvanic isolation offers advantages in the electronic evaluation of the signals.

Neben einer Analyse der oben beschriebenen Aufheizkurve, die während eines Erwärmens der Membran 4 aufgenommen bzw. gemessen wird, ist auch die Erfassung einer "Abkühlkurve" während des Abkühlens der Membran 4 ohne Heizung über die Leiterstruktur möglich. Diese Abkühlkurve hat abhängig von der Leistung der durch das Peltier-Element 6, 8, 10 auf die Membran 4 übertragenen Kühlleistung eine ähnliche Gestalt wie die in 2 dargestellte Aufheizkurve, jedoch mit umgekehrter Zeitabhängigkeit. Da eine Kondensation von Luftfeuchtigkeit auf der Membran 4 zur Bildung eines Niederschlags jedoch durch eine damit automatisch einher gehende lokale Verringerung der Luftfeuchtigkeit in der Nähe der Membran 4 gebremst wird, tritt das Plateau B aubgeschwächt oder nicht auf, stattdessen kann auch lediglich eine Verringerung der Rate der Temperaturverringerung bzw. der Steigung der Abkühlkurve unter dem Taupunkt beobachtbar sein.In addition to an analysis of the heating curve described above, during heating of the membrane 4 is recorded or measured, is also the detection of a "cooling curve" during the cooling of the membrane 4 possible without heating via the conductor structure. This cooling curve depends on the power of the Peltier element 6 . 8th . 10 on the membrane 4 transferred cooling power a similar shape as in 2 shown heating curve, but with reversed time dependence. As a condensation of humidity on the membrane 4 to form a precipitate, however, by thus automatically accompanying local reduction of humidity near the membrane 4 the plateau B is weakened or not, instead only a reduction in the rate of temperature reduction or the slope of the cooling curve below the dew point can be observed.

Eine Erfassung der Abkühlkurve ist auch dann möglich, wenn neben der Leiterstruktur kein weiterer Temperatursensor an der Membran 4 vorhanden ist, und die Messung der Temperatur der Membran 4 während des Erwärmens durch eine Messung der Spannung an bzw. des Stroms durch die Leiterstruktur erfolgt. Zum Messen der Temperatur der Membran 4 während des Abkühlens wird in diesem Fall an der Leiterstruktur ein so kleiner Strom bzw. eine so kleine Spannung angelegt, daß die resultierende Heizleistung kleiner als die Leistung der durch das Peltier-Element 6, 8, 10 auf die Membran 4 übertragene Kühlwirkung ist. Eine weitere Verbesserung der Genauigkeit der Feuchtemessung mit dem erfindungsgemäßen Feuchtesensor ist durch eine Kombination der Analysen von Aufheizkurve und Abkühlkurve, beispielsweise durch eine Mittelung der aus beiden bestimmten Meßwerte des Taupunkts, erfolgen.A detection of the cooling curve is also possible if, in addition to the conductor structure, no further temperature sensor on the membrane 4 is present, and the measurement of the temperature of the membrane 4 during heating by measuring the voltage across the current through the conductor pattern. To measure the temperature of the membrane 4 During cooling, in this case, such a small current or voltage is applied to the conductor structure that the resulting heating power is less than the power of the Peltier element 6 . 8th . 10 on the membrane 4 transferred cooling effect is. A further improvement in the accuracy of the moisture measurement with the moisture sensor according to the invention is achieved by a combination of the analyzes of the heating curve and the cooling curve, for example by an averaging of the measured values of the dew point determined from both.

Die Einrichtung zum Bestimmen einer Änderung eines Niederschlagszustands auf der Membran und zum Ermitteln der Feuchte aus der bestimmten Niederschlagszustandsänderung umfaßt neben den beschriebenen Merkmalen zum Bestimmen einer Änderung eines Niederschlagszustandes ferner vorzugsweise eine Einrichtung zum Erfassen einer Umgebungstemperatur. Dies kann ein dem Feuchtesensor zugeordneter Temperatursensor sein, der so angebracht ist, daß er die Temperatur der den Feuchtesensor umgebenden Atmosphäre mißt. Zur Vermeidung einer Beeinflussung dieser Temperaturmessung durch die Kühl- bzw. Heizwirkung des Peltier-Elements kann dieser beispielsweise von dem Peltier-Element räumlich getrennt oder durch ein Wärmeschild von dem Peltier-Element 6, 8, 10 thermisch entkoppelt angeordnet sein. Alternativ kann die Einrichtung zum Bestimmen und zum Ermitteln beispielsweise eine Schnittstelle aufweisen, über die sie eine von einer anderen Vorrichtung gemessene Umgebungstemperatur in Form eines analogen oder digitalen Signals erhält.The means for determining a change in a precipitation condition on the membrane and for determining the humidity from the determined precipitation condition change further comprises, in addition to the described features for determining a change in a precipitation condition, means for detecting an ambient temperature. This may be a temperature sensor associated with the humidity sensor mounted to measure the temperature of the atmosphere surrounding the humidity sensor. To avoid influencing this temperature measurement by the cooling or heating effect of the Peltier element, this can for example be spatially separated from the Peltier element or by a heat shield of the Peltier element 6 . 8th . 10 ther be arranged decoupled mixed. Alternatively, the means for determining and determining may for example have an interface through which it receives an ambient temperature measured by another device in the form of an analog or digital signal.

Ferner umfaßt die Einrichtung zum Bestimmen und zum Ermitteln eine Vorrichtung zum Ermitteln der Feuchte aus dem bestimmten Taupunkt und der bestimmten Umgebungstemperatur, beispielsweise mittels des sogenannten Molier-hx-Diagramms. Diese Vorrichtung kann beispielsweise eine analoge oder digitale Vorrichtung sein, wie sie von herkömmlichen Feuchtesensoren nach dem Taupunktprinzip bekannt sind, beispielsweise ein Mikroprozessor.Further comprises the device for determining and determining a device for determining the moisture from the determined dew point and the determined Ambient temperature, for example by means of the so-called Molier-hx diagram. This device may, for example, an analog or digital Device, as is the case with conventional humidity sensors the dew point principle are known, for example, a microprocessor.

Die Einrichtung zum Bestimmen und zum Ermitteln steuert oder regelt ferner vorzugsweise die Kühlleistung des Peltier-Elements 6, 8, 10, die Heizleistung der Leiterstruktur auf der Membran 4, die Zeitdauer des Erwärmens der Membran 4 und die Dauer des oben erwähnten Zyklusses aus dem Abkühlen unter den Taupunkt und dem Erwärmen über den Taupunkt oder einen oder mehrere der erwähnten Parameter, um eine Anpassung an die Meßaufgabe, die gewünschte Wiederholungsrate der Messung, die gewünschte Genauigkeit der Messung, die vorhandene Feuchte bzw. Feuchtigkeit, den Luftdruck, die Umgebungstemperatur, etc. zu erzielen. Insbesondere werden dabei die genannten Parameter vorzugsweise so eingestellt, daß der während jedes Zyklusses durchlaufende Temperaturbereich ein kleiner Temperaturbereich ist, der den Taupunkt umfaßt. Je kleiner der Temperaturhub während des Erwärmens der Membran 4 bzw. während des Abkühlens der Membran 4 ist, desto geringer ist der mit seiner Erzeugung verbundene Energieaufwand und desto häufiger kann der Zyklus durchlaufen werden, d. h. desto häufiger kann ein Meßwert des Taupunkts und in der Folge ein Meßwert der Feuchte bestimmt werden.The means for determining and determining further preferably controls or regulates the cooling performance of the Peltier element 6 . 8th . 10 , the heating power of the conductor structure on the membrane 4 , the duration of heating the membrane 4 and the duration of the above-mentioned cycle of cooling below the dew point and heating above the dew point, or one or more of the mentioned parameters to accommodate the measurement task, the desired measurement repetition rate, the desired accuracy of the measurement, the humidity or humidity present Humidity, air pressure, ambient temperature, etc. In particular, the said parameters are preferably set so that the temperature range passing through during each cycle is a small temperature range encompassing the dew point. The smaller the temperature swing during the heating of the membrane 4 or during the cooling of the membrane 4 is, the lower is the energy expenditure associated with its generation and the more frequently the cycle can be run through, ie the more frequently a measured value of the dew point and subsequently a measured value of the moisture can be determined.

Die Genauigkeit der oben beschriebenen Bestimmung des Taupunkts hängt wesentlich von dem räumlichen Temperaturprofil auf der Membran 4 ab. Für die Messung des Taupunkts ist es wichtig, daß das Temperaturprofil auf der Membran 4 flach ist, insbesondere während des Erwärmens. Andernfalls wird beim Erwärmen der Membran 4 der Taupunkt nicht an allen Orten auf der Membran 4 gleichzeitig erreicht, sondern der Taupunkt läuft beim Erwärmen über die Membran 4. Dadurch wird der Effekt auf der Temperatur-Zeit-Kurve bzw. der Aufheizkurve verschmiert. Insbesondere vergrößert sich beispielsweise der Übergangsbereich zwischen den Bereichen A und C der in 2 schematisch gezeigten Aufheizkurve, und anstatt eines Plateaus B ist nur noch ein Bereich verringerter Steigung zu beobachten.The accuracy of the dew point determination described above depends largely on the spatial temperature profile on the membrane 4 from. For the measurement of the dew point, it is important that the temperature profile on the membrane 4 is flat, especially during heating. Otherwise, when heating the membrane 4 the dew point is not in all places on the membrane 4 reached simultaneously, but the dew point passes through the membrane during heating 4 , As a result, the effect on the temperature-time curve or the heating curve is smeared. In particular, for example, the transitional area between areas A and C of in 2 schematically shown heating curve, and instead of a plateau B, only a region of reduced slope is observed.

Um ein flaches räumliches Temperaturprofil auf der Membran 4 zu erhalten, gibt es neben der oben bereits erwähnten Gestaltung eines der Membran 4 flächig gegenüberliegenden Kühlfingers 14 die Möglichkeit, die Leiterstruktur auf der Membran 4 geeignet zu gestalten. In den 3a, 4a, 5a sind verschiedene Ausführungsbeispiele einer Leiterstruktur 20 auf der Membran 4 schematisch dargestellt. Die 3b, 4b und 5b zeigen schematisch die entsprechenden Temperaturprofile im Schnitt durch die Membran 4 entlang der durch die gestrichelte Linie dargestellten Achse x.To get a flat spatial temperature profile on the membrane 4 To obtain, there is in addition to the above-mentioned design of the membrane 4 flat opposite cold finger 14 the possibility of the conductor structure on the membrane 4 suitable to design. In the 3a . 4a . 5a are different embodiments of a ladder structure 20 on the membrane 4 shown schematically. The 3b . 4b and 5b schematically show the corresponding temperature profiles in section through the membrane 4 along the axis x shown by the dashed line.

In 3a ist ein auf einer kleinen Teilfläche der Membran 4 lokalisierter Einzelheizer 20 dargestellt. Er erzeugt das in 3b gezeigte näherungsweise parabelförmige Profil. Der auf einer großen Fläche stattfindende Temperaturabfall zum Rand der Membran 4 hin, der durch den Siliziumchip 2 gekühlt ist, bedeutet eine ausgeprägte Temperaturinhomogenität der Membran 4. 4a zeigt einen umlaufenden Ringheizer 22. Wie in 4b zu sehen ist, ist der Temperaturabfall zum Rand der Membran 4 hin auf eine deutlich kleinere Fläche beschränkt. Jedoch tritt im Inneren der Leiterschleife des Ringheizers 22 ein ausgeprägtes Minimum auf. Eine oder mehrere weitere Schleifen führen dazu, daß das Profil noch flacher wird. In 5a ist eine Leiterstruktur 24 mit einer zusätzlichen Schleife gezeigt. In 5b ist zu erkennen, daß das Temperaturprofil der Membran 4 dadurch auch in einem mittleren Bereich der Membran 4 flacher wird.In 3a is one on a small part of the membrane 4 isolated single heater 20 shown. He creates that in 3b shown approximately parabolic profile. The temperature drop occurring over a large area to the edge of the membrane 4 out through the silicon chip 2 Chilled, means a pronounced temperature inhomogeneity of the membrane 4 , 4a shows a circulating ring heater 22 , As in 4b can be seen, the temperature drop to the edge of the membrane 4 limited to a much smaller area. However, inside the conductor loop of the ring heater occurs 22 a pronounced minimum. One or more additional loops cause the profile to flatten even more. In 5a is a ladder structure 24 shown with an additional loop. In 5b It can be seen that the temperature profile of the membrane 4 thereby also in a central region of the membrane 4 becomes flatter.

Wie oben erwähnt, hängt die zeitliche Länge des Plateaus bzw. Absatzes C der Aufheizkurve aus 2 von der Dicke bzw. der Menge des Niederschlags auf der Membran 4 ab. Daraus resultiert ein weiterer möglicher Betriebsmodus des Feuchtesensors gemäß der vorliegenden Erfindung, bei dem aus der Breite des Plateaus B der Aufheizkurve die Menge der niedergeschlagenen Feuchtigkeit ermittelt wird. Die Membran 4 wird eine definierte Zeit lang gekühlt. Aus der Menge des Wassers, das sich danach auf der Membran 4 befin det, d. h. aus der Breite des Absatzes der Aufheizkurve, wird die relative Feuchte ermittelt. Dieses Verfahren kann auch auf Eisbildung ausgedehnt werden. Wird die Membran 4 unter 0°C gekühlt und dort eine definierte Zeit lang gehalten, so bildet sich auf der Membran 4 ein gefrorener Niederschlag. Beim Aufheizen wird dessen Masse gemessen und die Feuchte daraus ermittelt. Damit kann der Einsatzbereich des Sensors erweitert werden. Insbesondere ist ein Betrieb bei niedrigen Temperaturen möglich. Bei Raumtemperatur wird eine Messung von Luft mit geringer relativer Feuchte (unter 20%) möglich.As mentioned above, the length of time of the plateau or paragraph C depends on the heating curve 2 the thickness or amount of precipitate on the membrane 4 from. This results in another possible mode of operation of the humidity sensor according to the present invention, in which the amount of precipitated moisture is determined from the width of the plateau B of the heating curve. The membrane 4 is cooled for a defined time. From the amount of water, which afterwards on the membrane 4 is determined, ie from the width of the paragraph of the heating curve, the relative humidity is determined. This process can also be extended to ice formation. Will the membrane 4 cooled below 0 ° C and held there for a defined time, so it forms on the membrane 4 a frozen precipitate. During heating, its mass is measured and the moisture is determined from it. Thus, the range of application of the sensor can be extended. In particular, operation at low temperatures is possible. At room temperature, a measurement of air with low relative humidity (below 20%) is possible.

Ein Niederschlagszustand auf der Membran 4, dessen Änderung durch die Einrichtung zum Bestimmen und zum Ermitteln zu bestimmen ist, umfaßt somit nicht nur die Zustände "betaut" bzw. "Niederschlag vorhanden" und "nicht betaut" bzw. "kein Niederschlag vorhanden", sondern auch die Zustände "flüssiger Niederschlag vorhanden" und "gefrorener Niederschlag vorhanden". Die Einrichtung zum Bestimmen und zum Ermitteln kann folglich als Änderungen des Niederschlagszustands auf der Membran 4 nicht nur das Betauen bzw. Kondensieren eines Niederschlags bzw. Bilden eines Niederschlags und des Abtauens bzw. Verdampfens eines Niederschlags bzw. Auflösen eines Niederschlags umfassen, sondern auch das Gefrieren eines Niederschlags bzw. das Bilden eines gefrorenen Niederschlags, das Verflüssigen eines gefrorenen Niederschlags oder das Verdampfen eines gefrorenen Niederschlags umfassen.A precipitate on the membrane 4 whose change is to be determined by the means for determining and determining comprises Thus, not only the states "dew" or "precipitation present" and "not dewatered" or "no precipitate available", but also the states "liquid precipitate present" and "frozen precipitate present". The means for determining and determining may thus be considered changes in the precipitation state on the membrane 4 include not only the condensation of a precipitate and the defrosting of a precipitate, but also the freezing of a precipitate or the formation of a frozen precipitate, the liquefaction of a frozen precipitate or the Vaporizing a frozen precipitate.

Die Betauung einer Oberfläche ist von deren Beschaffenheit abhängig. Durch eine Veränderung der Benetzbarkeit und der Rauhigkeit der Oberfläche kann deren Betauung gezielt beeinflußt und geändert werden. Dadurch kann der Einsatzbereich des Feuchtesensors im Sinne der meßbaren Feuchte, des dabei vorliegenden Drucks und der Temperatur verändert und gegebenenfalls erweitert werden. Ferner wird dadurch auch eine Messung von Dämpfen von anderen Substanzen als Wasser und in anderen Gasen als Luft möglich.The Condensation of a surface depends on their condition. Through a change in the Wettability and the roughness of the surface can target their condensation affected and changed. As a result, the application of the humidity sensor in the sense of measurable Humidity, the pressure and the temperature present changed and be extended if necessary. Furthermore, this also becomes a measurement of fumes from substances other than water and gases other than air.

Die oben beschriebene Membran 4 aus Siliziumnitrid weist für die Verwendung in dem erfindungsgemäßen Feuchtesensor vorteilhafte Eigenschaften auf, da sie eine geringe Wärmeleitfähigkeit besitzt, mit einer Dicke von 200 nm oder weniger sehr dünn ausführbar ist, gleichzeitig eine hohe Robustheit aufweist und einen großen Differenzdruck bzw. eine große Differenz zwischen den auf beiden Seiten der Membran 4 herrschenden Drücken standhält und im Rahmen herkömmlicher Technologien zur Herstellung und Bearbeitung von Halbleitern hergestellt werden kann. Für den erfindungsgemäßen Feuchtesensor sind jedoch alle Arten von Membranen geeignet, die eine geringe Wärmeleitfähigkeit aufweisen und möglichst dünn ausführbar sind. Beispielsweise kann die Membran 4 auch aus Siliziumkarbid oder einer sehr dünnen Kunststoff-Folie hergestellt werden.The membrane described above 4 silicon nitride has advantageous properties for use in the humidity sensor according to the invention, since it has a low thermal conductivity, with a thickness of 200 nm or less very thin executable, at the same time has a high robustness and a large differential pressure or a large difference between the on both sides of the membrane 4 withstanding prevailing pressures and can be produced using conventional semiconductor manufacturing and processing technologies. For the humidity sensor according to the invention, however, all types of membranes are suitable which have a low thermal conductivity and are as thin as possible executable. For example, the membrane 4 also be made of silicon carbide or a very thin plastic film.

Ferner ist unter einer Membran im Sinne dieser Erfindung jedes Bauelement zu verstehen, das eine geringe Wärmekapazität und eine große Oberfläche aufweist, d. h., bei dem das Verhältnis aus seiner betaubaren Oberfläche und seiner Wärmekapazität groß ist. Dazu muß die Membran nicht notwendigerweise die Form eines flachen Körpers mit zwei planparallelen Oberflächen aufweisen, sondern kann beispielsweise auch gewölbt oder gewellt ausgestaltet sein, eine Oberfläche mit Kühlrippen ähnlichen Stegen oder allgemein nicht planparallele Oberflächen aufweisenFurther is under a membrane in the context of this invention, each component to understand that has a low heat capacity and a size surface has, d. h., where the ratio of its betreibaren surface and its heat capacity is great. To must the Membrane does not necessarily have the shape of a flat body two plane-parallel surfaces have, for example, curved or wavy designed its a surface with cooling fins similar webs or generally not have plane-parallel surfaces

Als Trägereinrichtung für die Membran 4 wurde oben ein Siliziumchip 2 beschrieben, wobei auch der Kupferblock 6 als Bestandteil der Trägereinrichtung angesehen werden kann. Der Siliziumchip 2 ist vorzugsweise mit der Membran 4 einstückig ausgeführt, wobei zunächst die Siliziumnitridschicht auf dem Siliziumchip gebildet wird und dann eine Teilfläche des Siliziumchips in Form eines Fensters entfernt wird, um die Siliziumnitridschicht freizulegen und somit die Membran 4 zu bilden, wie es oben beschrieben wurde. Wesentlich für die vorliegende Erfindung ist jedoch nur die Verwendung einer Membran 4 mit den genannten vorteilhaften Eigenschaften. Form, Gestalt und Aufbau einer Trägereinrichtung für die Membran 4 sind nur insofern für die Erfindung wesentlich, als sie eine nicht zu starke thermische Kopplung der Membran 4 mit der Trägereinrichtung und ein flaches räumliches Temperaturprofil der Membran 4 ermöglichen.As support means for the membrane 4 was a silicon chip on top 2 wherein also the copper block 6 can be considered as part of the support device. The silicon chip 2 is preferably with the membrane 4 carried out in one piece, wherein first the silicon nitride layer is formed on the silicon chip and then a partial surface of the silicon chip is removed in the form of a window to expose the silicon nitride layer and thus the membrane 4 to form as described above. Essential to the present invention, however, is only the use of a membrane 4 with the mentioned advantageous properties. Shape, shape and structure of a support means for the membrane 4 are only so far essential to the invention, as they are not too strong thermal coupling of the membrane 4 with the support means and a flat spatial temperature profile of the membrane 4 enable.

Als Einrichtung zum Kühlen der Trägereinrichtung und der Membran 4 wurde oben ein Peltier-Element 6, 8, 10 beschrieben. Dieses ist gut bekannt und einfach herstellbar und weist darüber hinaus den Vorteil auf, elektrisch betrieben zu werden und keine mechanisch bewegbaren Teile aufzuweisen. Als Einrichtung zum Kühlen kann jedoch jede Einrichtung verwendet werden, die geeignet ist, die Trägereinrichtung und die Membran 4 unter den Taupunkt abzukühlen. Dies kann beispielsweise eine Verbindung zu einem anderweitig bereits vorhandenen Kältereservoir sein.As means for cooling the support means and the membrane 4 above was a Peltier element 6 . 8th . 10 described. This is well known and easy to manufacture and also has the advantage of being electrically operated and having no mechanical moving parts. As means for cooling, however, any means may be used which is suitable, the support means and the membrane 4 to cool below the dew point. This can be, for example, a connection to an otherwise existing cold reservoir.

Als Einrichtung zum Erwärmen der Membran 4 wurde eine Leiterstruktur auf der Membran 4 beschrieben, deren elektrischer Widerstand zur ohmschen Heizung der Membran 4 verwendet wird. Daneben kann jede andere Einrichtung verwendet werden, die geeignet ist, um die Membran 4 in Überkompensation der Kühlleistung der Einrichtung zum Kühlen bis über den Taupunkt zu erwärmen und die an- und ausgeschaltet oder deren Leistung zumindest hinreichend moduliert werden kann. Insbesondere kann ein Erwärmen der Membran 4 auch durch Bestrahlen mit elektromagnetischer Strahlung, beispielsweise mit sichtbarem oder Infrarot-Licht erfolgen. Die Einrichtung zum Erwärmen umfaßt dazu eine Lichtquelle oder eine optische Einrichtung zum Leiten von Licht einer externen Lichtquelle auf die Membran 4 und zum Modulieren der dadurch vermittelten Heizleistung.As means for heating the membrane 4 became a ladder structure on the membrane 4 whose electrical resistance to the ohmic heating of the membrane 4 is used. In addition, any other device suitable for the membrane may be used 4 be heated in over-compensation of the cooling capacity of the device for cooling to above the dew point and on and off or their performance can be at least modulated sufficiently. In particular, heating the membrane 4 also by irradiation with electromagnetic radiation, for example, with visible or infrared light. The means for heating for this purpose comprises a light source or an optical device for directing light of an external light source on the membrane 4 and for modulating the heating power communicated thereby.

Claims (12)

Feuchtesensor mit einer Membran (4) und einer Trägereinrichtung (2) für die Membran (4); einer Einrichtung (6, 8, 10) zum Kühlen der Membran (4); einer Einrichtung (20; 22; 24) zum Erwärmen der Membran (4); und einer Einrichtung zum Bestimmen einer Aufheizkurve, die sich beim Erwärmen der Membran (4) ergibt, zum Bestimmen einer Änderung eines Niederschlagszustands auf der Membran (4) aus einer Analyse der Kurvenform der Aufheizkurve und zum Ermitteln der Feuchte aus der bestimmten Niederschlagszustandsänderung.Humidity sensor with a membrane ( 4 ) and a carrier device ( 2 ) for the membrane ( 4 ); a facility ( 6 . 8th . 10 ) for cooling the membrane ( 4 ); a facility ( 20 ; 22 ; 24 ) for heating the Membrane ( 4 ); and means for determining a heating curve which occurs when the membrane ( 4 ) for determining a change of a precipitation state on the membrane ( 4 ) from an analysis of the curve shape of the heating curve and to determine the moisture from the determined precipitation state change. Feuchtesensor gemäß Anspruch 1, bei dem die Membran 4 eine Siliziumnitridmembran oder eine Siliziumoxidmembran oder eine Siliziumcarbidmembran umfaßt.Moisture sensor according to claim 1, wherein the membrane 4 a silicon nitride membrane or a silicon oxide membrane or a silicon carbide membrane. Feuchtesensor gemäß Anspruch 1 oder 2, bei dem die Trägereinrichtung einen Siliziumchip (2) umfaßt.Moisture sensor according to Claim 1 or 2, in which the carrier device comprises a silicon chip ( 2 ). Feuchtesensor gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem die Einrichtung zum Kühlen ein Peltier-Element (6, 8, 10) umfaßt.Moisture sensor according to one of claims 1 to 3, wherein the means for cooling a Peltier element ( 6 . 8th . 10 ). Feuchtesensor gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem die Einrichtung zum Kühlen (6, 8, 10) über einen Kühlfinger (14) und einen Luftspalt mit der Membran (4) wärmeleitfähig verbunden ist.Moisture sensor according to one of Claims 1 to 4, in which the device for cooling ( 6 . 8th . 10 ) via a cold finger ( 14 ) and an air gap with the membrane ( 4 ) is thermally conductive connected. Feuchtesensor gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem die Einrichtung zum Erwärmen der Membran (4) eine auf der Membran (4) gebildete Leiterstruktur (20; 22; 24) aufweist.Moisture sensor according to one of claims 1 to 5, wherein the means for heating the membrane ( 4 ) one on the membrane ( 4 ) formed ladder structure ( 20 ; 22 ; 24 ) having. Feuchtesensor gemäß Anspruch 6, bei dem die Leiterstruktur auf der Membran (4) die Form einer Schleife (22) oder eines Mäanders aufweist.Humidity sensor according to Claim 6, in which the conductor structure on the membrane ( 4 ) the shape of a loop ( 22 ) or a meander. Feuchtesensor gemäß Anspruch 6, bei dem die Leiterstruktur auf der Membran (4) die Form einer spiralförmigen Schleife (24) aufweist.Humidity sensor according to Claim 6, in which the conductor structure on the membrane ( 4 ) the shape of a spiral loop ( 24 ) having. Feuchtesensor gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Einrichtung zum Bestimmen und zum Ermitteln folgende Merkmale aufweist: einen ersten Temperatursensor zur Bestimmung der Temperatur der Membran (4) zum Zeitpunkt einer Änderung des Niederschlagszustands auf der Membran (4); einen zweiten Temperatursensor zur Bestimmung einer Umgebungstemperatur; und eine Einrichtung zur Bestimmung der Feuchte aus der Temperatur der Membran (4) und der Umgebungstemperatur.Moisture sensor according to one of the preceding claims, wherein the means for determining and determining comprises the following features: a first temperature sensor for determining the temperature of the membrane ( 4 ) at the time of a change of the precipitation state on the membrane ( 4 ); a second temperature sensor for determining an ambient temperature; and a device for determining the moisture from the temperature of the membrane ( 4 ) and the ambient temperature. Feuchtesensor gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Trägereinrichtung (2) von einer Wärmeisolierungseinrichtung umgeben ist, die im Bereich der Membran (4) eine Öffnung aufweist.Moisture sensor according to one of the preceding claims, in which the support device ( 2 ) is surrounded by a heat insulating device, which in the region of the membrane ( 4 ) has an opening. Verfahren zum wiederholten Erfassen einer Luftfeuchtigkeit mit folgenden Schritten: ununterbrochenes Kühlen einer Membran (4), welche von einer Trägereinrichtung (2) gehalten wird, derart, daß eine Temperatur der Membran (4) unter einem Taupunkt der umgebenden Luft liegt; Erwärmen der Membran (4) bis zu einer Temperatur über dem Taupunkt; Bestimmen einer Aufheizkurve, die sich beim Erwärmen der Membran (4) ergibt, zum Bestimmen einer Änderung eines Niederschlagszustands auf der Membran (4) aus einer Analyse der Kurvenform der Aufheizkurve, um eine erste Temperatur zu bestimmen, bei der eine Änderung eines Niederschlagszustands auf der Membran (4) auftritt; Bestimmen einer Umgebungstemperatur; und Bestimmen der Luftfeuchtigkeit aus der ersten Temperatur und der Umgebungstemperatur.Method for repeatedly detecting a humidity with the following steps: continuous cooling of a membrane ( 4 ), which from a carrier device ( 2 ), such that a temperature of the membrane ( 4 ) is below a dew point of the surrounding air; Heating the membrane ( 4 ) to a temperature above the dew point; Determining a heating curve that occurs when heating the membrane ( 4 ) for determining a change of a precipitation state on the membrane ( 4 ) from an analysis of the curve shape of the heating curve to determine a first temperature at which a change of a precipitation state on the membrane ( 4 ) occurs; Determining an ambient temperature; and determining the humidity from the first temperature and the ambient temperature. Verfahren gemäß Anspruch 11, bei dem die Schritte zyklisch wiederholt werden.Method according to claim 11, in which the steps are repeated cyclically.
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