DE10038968A1 - Circuit arrangement with at least two semiconductor bodies and a heat sink - Google Patents

Circuit arrangement with at least two semiconductor bodies and a heat sink

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Schaltungsanordnung, die ein Halbleiterschaltelement (T; T12, T14, T16), das in einem ersten Halbleiterkörper (10; 12, 14, 16) integriert ist, und ein dazu in Reihe geschaltetes weiteres Halbleiterbauelement (DD; D22, D24, D26), das in einem zweiten Halbleiterkörper (D22, D24, D26) integriert ist, aufweist, wobei der zweite Halbleiterkörper (20; 22, 24, 26) auf einem Kühlkörper (30; 32) angeordnet ist und dass der erste Halbleiterkörper (10; 12, 14, 16) auf dem zweiten Halbleiterkörper (20; 22, 24, 26) angeordnet ist.The invention relates to a circuit arrangement comprising a semiconductor switching element (T; T12, T14, T16) which is integrated in a first semiconductor body (10; 12, 14, 16) and a further semiconductor component (DD; D22, D24) connected in series , D26), which is integrated in a second semiconductor body (D22, D24, D26), the second semiconductor body (20; 22, 24, 26) being arranged on a heat sink (30; 32) and the first semiconductor body ( 10; 12, 14, 16) is arranged on the second semiconductor body (20; 22, 24, 26).

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Schaltungsanordnung, die ein Halbleiterschaltelement, das in einem ersten Halblei­ terkörper integriert ist, und dazu ein in Reihe geschaltetes weiteres Halbleiterbauelement, das in einem zweiten Halblei­ terkörper integriert ist, aufweist. Das Halbleiterschaltele­ ment ist dabei insbesondere ein Leistungstransistor und das dazu in Reihe geschaltete Halbleiterbauelement ist insbeson­ dere eine Diode.The present invention relates to a circuit arrangement, which is a semiconductor switching element that is in a first half lead body is integrated, and a series connected Another semiconductor device in a second half lead body is integrated, has. The semiconductor switch ment is in particular a power transistor and that this is connected in series semiconductor device in particular another a diode.

Reihenschaltungen mit Leistungstransistoren und Dioden finden in der Schaltungstechnik vielfach Verwendung. Ein Beispiel hierfür ist ein in Fig. 1 dargestellter Hochsetz- Schaltregler, dessen Aufgabe es ist, aus einer Eingangsspan­ nung Vin eine wenigstens annäherungsweise konstante Ausgangs­ spannung Vout zu erzeugen. Ein Leistungstransistor T ist hierbei in Reihe zu einer Spule L an die Eingangsspannung Vin angeschlossen, wobei parallel zu dem Leistungstransistor T eine Reihenschaltung einer Diode DD und eines Kondensator C geschaltet ist, wobei die Diode DD und der Leistungstransis­ tor T aneinander angeschlossen sind. Der Leistungstransistor T wird mittels einer Ansteuerschaltung IC angesteuert, wobei die Stromaufnahme der Spule L und ein Stromfluss von der Spu­ le L über die Diode DD auf den Kondensator C abhängig von der Ansteuerung des Leistungstransistors T erfolgt. Die Diode DD verhindert, dass der Kondensator C bei leitendem Leistungs­ transistor T über den Leistungstransistor T entladen wird. Series circuits with power transistors and diodes are widely used in circuit technology. An example of this is a step-up switching regulator shown in FIG. 1, the task of which is to generate an at least approximately constant output voltage Vout from an input voltage Vin. A power transistor T is connected in series with a coil L to the input voltage Vin, a series circuit of a diode DD and a capacitor C being connected in parallel with the power transistor T, the diode DD and the power transistor T being connected to one another. The power transistor T is controlled by means of a control circuit IC, the current consumption of the coil L and a current flow from the coil L via the diode DD to the capacitor C being dependent on the control of the power transistor T. The diode DD prevents the capacitor C from being discharged through the power transistor T when the power transistor T is conductive.

Leistungstransistoren, die in der Lage sind Spannungen bis zu einigen hundert Volt und Ströme bis zu einigen Ampere zu schalten erfordern Kühlmaßnahmen um eine Zerstörung des Leis­ tungstransistors während des Betriebs infolge einer Überhit­ zung zu verhindern. Zur Kühlung eines Leistungstransistors ist es bekannt, den Halbleiterkörper, bzw. den Chip, in dem der Leistungstransistor integriert ist, direkt auf einen Kühlkörper, der aus einem gut wärmeleitenden Material, bei­ spielsweise einem Metall, besteht, aufzubringen. Der Leis­ tungstransistor wird dabei mit dem Kühlkörper verlötet, um eine optimale wärmeleitende Verbindung zwischen dem Halblei­ terkörper und dem Kühlkörper zu erreichen. Hieraus resultiert auch eine elektrisch leitende Verbindung zwischen dem Halb­ leiterkörper und dem Kühlkörper, was bei bestimmten Schal­ tungsanwendungen, bzw. bei Verwendung bestimmter Leistungs­ transistoren zu Problemen führen kann.Power transistors that are capable of voltages up to a few hundred volts and currents up to a few amps switching require cooling measures to destroy the leis tung transistor during operation due to an overhit to prevent tongue. For cooling a power transistor it is known, the semiconductor body, or the chip in which the power transistor is integrated directly on one Heatsink, which is made of a good heat-conducting material a metal, for example, is to be applied. The Leis Tung transistor is soldered to the heat sink an optimal heat-conducting connection between the half lead to reach the body and the heat sink. This results in also an electrically conductive connection between the half conductor body and the heat sink, what with certain scarf applications, or when using certain performance transistors can cause problems.

Bei sogenannten vertikalen Transistoren befinden sich ein erster Laststreckenanschluss (Source-Anschluss) und ein Steu­ eranschluss (Gate-Anschluss) des Leistungstransistors übli­ cherweise auf einer Vorderseite des plättchenförmigen Halb­ leiterkörpers, während sich der zweite Laststreckenanschluss (Drain-Anschluss) auf einer der Vorderseite abgewandten Rück­ seite des Halbleiterkörpers befindet. Wird der Halbleiterkör­ per an seiner Rückseite auf den Kühlkörper gelötet, weist der Kühlkörper dasselbe elektrische Potential wie der Drain- Anschluss des Leistungstransistors auf. Dies führt dann zu Problemen, wenn der Leistungstransistor wie in dem Beispiel gemäss Fig. 1 als sogenannter Low-Side-Schalter eingesetzt wird, d. h., wenn der Source-Anschluss des Leistungstransis­ tors an ein Bezugspotential angeschlossen ist und wenn der Drain-Anschluss über eine Last an ein Versorgungspotential angeschlossen ist. Das Potential an dem Drain-Anschluss ändert sich bei derartigen Anwendungen abhängig vom Schaltungs­ zustand des Leistungstransistors. Bei schnell getakteten Leistungstransistoren, wie sie beispielsweise in Hochsetz- Schaltreglern Verwendung finden, resultiert daraus ein Ände­ rung des Potentials an dem Drain-Anschluss mit hoher Frequenz und großer Flankensteilheit. Der elektrisch mit dem Drain- Anschluss verbundene Kühlkörper wirkt dabei wie eine Antenne, die eine unerwünschte hochfrequente elektromagnetische Stör­ strahlung abgibt.In so-called vertical transistors, a first load path connection (source connection) and a control connection (gate connection) of the power transistor are usually on a front side of the platelet-shaped semiconductor body, while the second load path connection (drain connection) faces away from the front side Rear side of the semiconductor body is located. If the semiconductor body is soldered onto the back of the heat sink, the heat sink has the same electrical potential as the drain connection of the power transistor. This leads to problems if the power transistor is used as a so-called low-side switch, as in the example according to FIG. 1, ie if the source connection of the power transistor is connected to a reference potential and if the drain connection is connected via a Load is connected to a supply potential. The potential at the drain connection changes in such applications depending on the circuit state of the power transistor. In the case of rapidly clocked power transistors, such as those used in step-up switching regulators, this results in a change in the potential at the drain connection with a high frequency and a steep slope. The heat sink, which is electrically connected to the drain connection, acts like an antenna that emits undesired high-frequency electromagnetic interference.

Zur Lösung dieses Problems ist es bekannt, eine elektrisch isolierende Schicht zwischen den Halbleiterkörper des Leis­ tungstransistors und den Kühlkörper einzubringen. Allerdings wird dadurch die Montage des Leistungstransistors auf den Kühlkörper relativ aufwändig und zudem resultiert aus der e­ lektrisch isolierenden Zwischenschicht ein nicht zu vernach­ lässigender zusätzlicher Wärmewiderstend zwischen dem Leis­ tungstransistor und dem Kühlkörper, welcher die Kühlung des Leistungstransistors verschlechtert.To solve this problem it is known to be an electrical insulating layer between the semiconductor body of the Leis device transistor and the heat sink. Indeed is thereby the assembly of the power transistor on the Heatsink relatively complex and also results from the e electrically insulating intermediate layer a not to be neglected casual additional heat resistance between the leis tung transistor and the heat sink, which is the cooling of the Power transistor deteriorated.

Des Weiteren gibt es voll isolierte Gehäuse, bei denen frei­ liegende Bereiche des Kühlkörpers vollständig mit einer dün­ nen Kunststoffschicht umspritzt sind, um die Abgabe elektro­ magnetischer Störstrahlung zu unterbinden. Diese Kunststoff­ schicht erhöht jedoch den Wärmewiederstand zwischen dem Kühl­ körper und der umgebenden Luft, wodurch die Kühlung ver­ schlechtert ist. Außerdem kann diese Kunststoffummantelung leicht beschädigt werden, was dann wiederum zur Abgabe einer elektromagnetischen Störstrahlung führen kann.There are also fully insulated housings where free lying areas of the heat sink completely with a thin NEN plastic layer are overmolded to the electro prevent magnetic interference. This plastic However, layer increases the thermal resistance between the cooling body and the surrounding air, which reduces cooling is worse. In addition, this plastic coating easily damaged, which in turn leads to the delivery of a can cause electromagnetic interference.

Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, eine Schaltungsanord­ nung mit einem Halbleiterschalter und einem weiteren Halblei­ terbauelement zur Verfügung zu stellen, bei der auf einfach zu realisierende Weise eine Kühlung des Halbleiterschaltele­ ments gewährleistet ist, ohne dass eine elektromagnetische Störstrahlung abgegeben wird und die insbesondere die oben genannten Nachteile nicht aufweist.The aim of the present invention is to provide a circuit arrangement voltage with a semiconductor switch and another half lead to provide the building element at which on simple  Cooling of the semiconductor switch to be realized is guaranteed without an electromagnetic Interference radiation is emitted and in particular the above does not have the disadvantages mentioned.

Diese Aufgabe wird durch eine Schaltungsanordnung gemäß den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.This object is achieved by a circuit arrangement according to the Features of claim 1 solved.

Danach ist bei der erfindungsgemäßen Schaltungsanordnung der zweite Halbleiterkörper, in dem das weitere Halbleiterbauele­ ment integriert ist, direkt auf dem Kühlkörper aufgebracht, während der erste Halbleiterkörper, in dem das Halbleiter­ schaltelement integriert ist, auf einer dem Kühlkörper abge­ wandten Seite des zweiten Halbleiterkörpers aufgebracht ist. Die Erfindung macht sich dabei zunutze, dass bei der Reihen­ schaltung eines Leistungstransistors und einer Diode in einem Hochsetz-Schaltregler, für welchen die vorliegende Erfindung besonders geeignet ist, an dem Anschluss der Diode, der dem Leistungstransistor abgewandt ist, ein Potential anliegt, welches sich nicht oder welches sich nur langsam ändert. Der zweite Halbleiterkörper kann daher elektrisch leitend mit dem Kühlkörper verbunden werden, ohne dass es zur Abgabe einer elektromagnetischen Störstrahlung kommt. Zwischen dem zweiten Halbleiterkörper und dem Kühlkörper sind somit keine aufwän­ digen Isolationsmaßnahmen erforderlich und der zweite Halb­ leiterkörper kann beispielsweise mittels üblicher Montagever­ fahren auf den Kühlkörper aufgelötet werden. Da eine elekt­ risch leitende Verbindung zwischen dem ersten Halbleiterkör­ per, bzw. dem Leistungstransistor, und dem zweiten Halblei­ terkörper, bzw. der Diode, gewünscht und erforderlich ist, kann auch der erste Halbleiterkörper mittels üblicher Monta­ getechniken auf den zweiten Halbleiterkörper aufgelötet wer­ den. Aufgrund der guten Wärmeübergänge zwischen dem Kühlkörper und dem zweiten Halbleiterkörper und zwischen dem zweiten Halbleiterkörper und dem ersten Halbleiterkörper besteht ein guter Wärmeübergang zwischen dem ersten Halbleiterkörper und dem Kühlkörper, wodurch eine gute Kühlung des ersten Halblei­ terkörpers über den zweiten Halbleiterkörper und den Kühlkör­ per erfolgt.Thereafter, in the circuit arrangement according to the invention second semiconductor body in which the further semiconductor device ment is integrated, applied directly to the heat sink, during the first semiconductor body in which the semiconductor switching element is integrated, abge on the heat sink facing side of the second semiconductor body is applied. The invention takes advantage of that in the rows circuit of a power transistor and a diode in one Step-up switching regulators for which the present invention is particularly suitable at the connection of the diode that the Power transistor is turned away, a potential is present, which does not change or which changes only slowly. The second semiconductor body can therefore be electrically conductive with the Heatsink can be connected without giving up a electromagnetic interference comes. Between the second The semiconductor body and the heat sink are therefore not expensive insulation measures required and the second half conductor body can for example by means of usual Montagever drive to be soldered onto the heat sink. Since an elect risch conductive connection between the first semiconductor body per, or the power transistor, and the second half lead body, or the diode, is desired and required, can also the first semiconductor body using conventional assembly techniques soldered onto the second semiconductor body the. Because of the good heat transfer between the heat sink  and the second semiconductor body and between the second There is a semiconductor body and the first semiconductor body good heat transfer between the first semiconductor body and the heat sink, which ensures good cooling of the first half lead body over the second semiconductor body and the heat sink per done.

Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.Advantageous embodiments of the invention are the subject of subclaims.

Neben einem Verlöten des ersten und zweiten Halbleiterkörpers und des zweiten Halbleiterkörpers mit dem Kühlkörper sind selbstverständlich beliebige weitere Verbindungsmaßnahmen im Zusammenhang mit der Erfindung geeignet, welche einen guten Wärmeübergang zwischen den Halbleiterkörpern und zwischen dem zweiten Halbleiterkörper und dem Kühlkörper und eine elekt­ risch leitende Verbindung zwischen diese Bauelementen gewähr­ leisten. Die Halbleiterkörper und der zweite Halbleiterkörper und der Kühlkörper können beispielsweise miteinander verklebt werden.In addition to soldering the first and second semiconductor bodies and the second semiconductor body with the heat sink of course any other connection measures in the Suitable in connection with the invention, which a good Heat transfer between the semiconductor bodies and between the second semiconductor body and the heat sink and an elect rically conductive connection between these components Afford. The semiconductor body and the second semiconductor body and the heat sink can be glued together, for example become.

Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass auf den ersten Halbleiterkörper, in dem der Halbleiter­ schalter integriert ist, ein weiterer Halbleiterkörper aufge­ bracht ist, in dem eine Ansteuerschaltung für den Halbleiter­ schalter integriert ist. Der weitere Halbleiterkörper kann dabei beispielsweise durch Löten oder Kleben auf den ersten Halbleiterkörper aufgebracht werden.According to one embodiment of the invention, that on the first semiconductor body in which the semiconductor integrated switch, another semiconductor body opened is brought, in which a drive circuit for the semiconductor switch is integrated. The further semiconductor body can doing so, for example, by soldering or gluing at first Semiconductor body are applied.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist vorge­ sehen, dass ein weiterer Halbleiterschalter, der in einem vierten Halbleiterkörper integriert ist, auf dem Kühlkörper angeordnet ist. Dadurch lässt sich in einfacher Weise eine Reihenschaltung zweier Halbleiterschalter realisieren, wobei die in dem zweiten Halbleiterkörper integrierte Diode schal­ tungstechnisch parallel zu den weiteren Halbleiterschalter geschaltet ist und für diesen als Freilaufdiode wirkt.According to a further embodiment of the invention is pre see that another semiconductor switch that is in one fourth semiconductor body is integrated on the heat sink is arranged. This allows a simple  Realize series connection of two semiconductor switches, whereby the diode integrated in the second semiconductor body technically parallel to the other semiconductor switches is switched and acts as a freewheeling diode for this.

Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausfüh­ rungsbeispielen in Figuren näher erläutert. Es zeigen:The present invention will hereinafter be described with reference to embodiment tion examples explained in more detail. Show it:

Fig. 1 Hochsetzschaltregler nach dem Stand der Technik zur Verwendung der erfindungsgemäßen Schaltungsanord­ nung; Fig. 1 step-up switching regulator according to the prior art for using the circuit arrangement according to the invention;

Fig. 2 erfindungsgemäße Schaltungsanordnung mit einem ers­ ten Halbleiterkörper, einem zweiten Halbleiterkör­ per und einem Kühlkörper, die übereinander angeord­ net sind; Fig. 2 circuit arrangement according to the invention with a first semiconductor body, a second semiconductor body and a heat sink, which are arranged one above the other;

Fig. 3 weitere Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Schaltungsanordnung mit einem auf dem ersten Halb­ leiterkörper angeordneten weiteren Halbleiterkör­ per, der eine integrierte Ansteuerschaltung auf­ weist; FIG. 3 shows another embodiment of an inventive circuit arrangement with a on the first semiconductor body disposed further Halbleiterkör by which includes a driving integrated circuit on;

Fig. 4 Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Schaltungs­ anordnung, bei der mehrere Halbleiterkörper mit weiteren integrierten Halbleiterschaltern neben mehreren ersten und zweiten Halbleiterkörpern auf dem Kühlkörper angeordnet sind; Fig. 4 embodiment of a circuit arrangement according to the invention, in which a plurality of semiconductor bodies with further integrated semiconductor switches are arranged next to a plurality of first and second semiconductor bodies on the heat sink;

Fig. 5 elektrisches Ersatzschaltbild der Schaltungsanord­ nung gemäß Fig. 4. Fig. 5 equivalent electrical circuit diagram of the Schaltungsanord voltage of FIG. 4.

In den Figuren bezeichnen, sofern nicht anders angegeben, gleiche Bezugszeichen gleiche Teile mit gleicher Bedeutung.In the figures, unless otherwise stated, same reference numerals same parts with the same meaning.

Fig. 1 zeigt einen sogenannten Hochsetz-Schaltregler nach dem Stand der Technik, der eine Reihenschaltung eines Leis­ tungstransistors T und einer Diode DD aufweist, wobei ein Source-Anschluss S des Leistungstransistors T an ein Bezugs­ potential GND angeschlossen ist, und wobei ein Drain- Anschluss D des Leistungstransistors T an einen Anodenan­ schluss der Diode DD angeschlossen ist. Zur Ansteuerung des Leistungstransistors T ist eine Ansteuerschaltung IC vorgese­ hen, die mittels einer Ausgangsklemme an einen Gate-Anschluss G des Leistungstransistors T angeschlossen ist. Fig. 1 shows a so-called step-up switching regulator according to the prior art, which has a series circuit of a power device transistor T and a diode DD, a source terminal S of the power transistor T being connected to a reference potential GND, and a drain Terminal D of the power transistor T is connected to an anode terminal of the diode DD. To control the power transistor T, a control circuit IC is provided, which is connected by means of an output terminal to a gate terminal G of the power transistor T.

Der Drain-Anschluss D des Leistungstransistors T ist über ei­ ne Spule L an ein Versorgungspotential Vin angeschlossen. Der Kathodenanschluss K der Diode DD ist an einen Anschluss eines Kondensators C angeschlossen, dessen anderer Anschluss an Be­ zugspotential GND liegt. Über dem Kondensator C ist eine Aus­ gangsspannung Vout abgreifbar. Während des Betriebs des Hoch­ setz-Schaltreglers ändert sich das Potential an dem Drain- Anschluss D des Leistungstransistors T, bzw. an dem Anodenan­ schluss A der Diode DD nach Maßgabe eines Taktes, mit dem der Leistungstransistor T angesteuert wird. Das Source-Potential des Leistungstransistors T bleibt während des Betriebs stets auf Bezugspotential GND. Das Potential an der Kathode K der Diode DD, welches dem Ausgangspotential Vout entspricht, bleibt während des Betriebes weitgehend konstant oder ändert sich im Vergleich zu dem Ansteuertakt nur langsam.The drain terminal D of the power transistor T is via egg ne coil L connected to a supply potential Vin. The The cathode connection K of the diode DD is connected to a connection Capacitor C connected, the other connection to Be potential is GND. There is an off across capacitor C. output voltage Vout can be tapped. During the operation of the high set switching regulator changes the potential at the drain Terminal D of the power transistor T, or at the anode circuit A of the diode DD in accordance with a clock with which the Power transistor T is driven. The source potential of the power transistor T always remains during operation to reference potential GND. The potential at the cathode K Diode DD, which corresponds to the output potential Vout, remains largely constant or changes during operation is slow compared to the control clock.

Fig. 2 zeigt in seitlicher Schnittdarstellung eine Schal­ tungsanordnung zur Realisierung der in Fig. 1 dargestellten Reihenschaltung des Leistungstransistors T und der Diode DD, bei der eine gute Kühlung des Leistungstransistors T gewähr­ leistet ist, ohne dass elektromagnetische Störstrahlung abge­ strahlt wird. Entsprechende Anschlüsse sind in den Fig. 1 und 2 durch dieselben Bezugszeichen gekennzeichnet. Fig. 2 shows a side sectional view of a circuit arrangement for realizing the series circuit shown in Fig. 1 of the power transistor T and the diode DD, in which good cooling of the power transistor T is guaranteed without electromagnetic interference radiation being emitted. Corresponding connections are identified in FIGS. 1 and 2 by the same reference numerals.

Die erfindungsgemäße Schaltungsanordnung weist einen ersten Halbleiterkörper 10, in dem der Leistungstransistor T integ­ riert ist, und einen zweiten Halbleiterkörper 20, in dem die Diode DD integriert ist, auf. Sowohl der Leistungstransistor T als auch die Diode DD sind als sogenannte vertikale Bauele­ mente ausgebildet, das heißt, Anschlüsse eines Bauelements befinden sich auf gegenüberliegenden Oberflächen des Halblei­ terkörpers. Der erste Halbleiterkörper 10 weist eine Vorder­ seite 101 auf, an welcher eine Kontaktierung 41 für den Gate- Anschluss G und eine Kontaktierung 11 für den Source-An­ schluss S des Leistungstransistors T ausgebildet ist. Der zweite Halbleiterkörper weist eine Vorderseite 201 auf, wel­ che den Anodenanschluss der Diode DD bildet, und er weist ei­ ne Rückseite 202 auf, welche den Kathodenanschluss der Diode DD bildet. Zur Verbindung des Anodenanschlusses A der Diode DD und des Drain-Anschlusses D des Leistungstransistors T ist die Rückseite 102 des ersten Halbleiterkörpers 10 elektrisch leitend mit der Vorderseite 201 des zweiten Halbleiterkörpers verbunden. Dazu ist zwischen diesen beiden Halbleiterkörpern 10, 20 eine elektrisch leitende Zwischenschicht 21 ausgebil­ det, die vorzugsweise aus einem Metall besteht, und mittels derer die beiden Halbleiterkörper 10, 20 miteinander verbun­ den sind.The circuit arrangement according to the invention has a first semiconductor body 10 , in which the power transistor T is integrated, and a second semiconductor body 20 , in which the diode DD is integrated. Both the power transistor T and the diode DD are designed as so-called vertical components, that is, connections of a component are located on opposite surfaces of the semiconductor body. The first semiconductor body 10 has a front side 101 , on which a contact 41 for the gate connection G and a contact 11 for the source connection S of the power transistor T is formed. The second semiconductor body has a front side 201 , which forms the anode connection of the diode DD, and it has a rear side 202 , which forms the cathode connection of the diode DD. To connect the anode terminal A of the diode DD and the drain terminal D of the power transistor T, the rear side 102 of the first semiconductor body 10 is electrically conductively connected to the front side 201 of the second semiconductor body. For this purpose, an electrically conductive intermediate layer 21 is formed between these two semiconductor bodies 10 , 20 , which preferably consists of a metal, and by means of which the two semiconductor bodies 10 , 20 are connected to one another.

Der zweite Halbleiterkörper 20 ist größer als der erste Halb­ leiterkörper 10 ausgebildet, so dass der zweite Halbleiter­ körper 20 unter dem aufgebrachten ersten Halbleiterkörper 10 hervorragt. Die leitende Zwischenschicht 21 ragt ebenfalls unter dem ersten Halbleiterkörper 10 hervor und ermöglicht über einen Bereich 42 neben dem ersten Halbleiterkörper 10 eine Kontaktierung der Rückseite 102 des ersten Halbleiter­ körpers 10, bzw. des Drain-Anschlusses D des Transistors T. Vorzugsweise überdeckt die leitende Zwischenschicht 21 zwi­ schen dem ersten und zweiten Halbleiterkörper 10, 20 die Vor­ derseite 201 des zweiten Halbleiterkörpers 20 vollständig.The second semiconductor body 20 is larger than the first semiconductor body 10 , so that the second semiconductor body 20 protrudes under the applied first semiconductor body 10 . The conductive intermediate layer 21 also protrudes from under the first semiconductor body 10 and enables the rear side 102 of the first semiconductor body 10 , or the drain terminal D of the transistor T, to be contacted via an area 42 next to the first semiconductor body 10. The conductive intermediate layer preferably covers 21 between the first and second semiconductor bodies 10 , 20 completely in front of the front side 201 of the second semiconductor body 20 .

Der zweite Halbleiterkörper 20 mit dem darüberliegenden ers­ ten Halbleiterkörper 10 ist auf einen Kühlkörper 30 aufge­ bracht, der dazu dient, insbesondere die in dem ersten Halb­ leiterkörper 10 des Leistungstransistors T anfallende Wärme aufzunehmen und an die Umgebung abzugeben. Der Kühlkörper 30 ist hierfür vorzugsweise wesentlich großflächiger als der erste und zweite Halbleiterkörper 10, 20 ausgebildet. Zwi­ schen dem zweiten Halbleiterkörper 20 und dem Kühlkörper 30 ist eine Verbindungsschicht 31 vorgesehen, welche einen nied­ rigen Wärmewiderstand aufweist, um die Wärme aus den Halblei­ terkörpern 10, 20 gut abführen zu können. Die Verbindungs­ schicht 31 besteht vorzugsweise aus einem Metall, wobei der zweite Halbleiterkörper 20 mittels der Zwischenschicht 31 auf den Kühlkörper 30 aufgelötet sein kann. Zur Kontaktierung des auf der Rückseite 202 des zweiten Halbleiterkörpers 20 ange­ ordneten Kathodenanschlusses der Diode DD ist auf dem Kühl­ körper 30 eine Kontaktierung 43 vorgesehen.The second semiconductor body 20 with the overlying first semiconductor body 10 is brought up to a heat sink 30 , which serves, in particular, to absorb the heat accumulating in the first semiconductor body 10 of the power transistor T and to release it to the environment. For this purpose, the heat sink 30 is preferably of substantially larger area than the first and second semiconductor bodies 10 , 20 . Between the second semiconductor body 20 and the heat sink 30 , a connection layer 31 is provided which has a low thermal resistance in order to be able to dissipate the heat from the semiconductor bodies 10 , 20 well. The connection layer 31 is preferably made of a metal, said second semiconductor body may be soldered 20 by means of the intermediate layer 31 on the heat sink 30th A contact 43 is provided on the cooling body 30 for contacting the cathode terminal of the diode DD arranged on the rear side 202 of the second semiconductor body 20 .

Probleme einer elektromagnetischen Abstrahlung über den Kühl­ körper 30 bestehen bei der in Fig. 2 dargestellten Anordnung nicht, da der Kathodenanschluss K wenigstens annäherungsweise auf einem konstanten Potential Vout bleibt. Die Kühlung des ersten Halbleiterkörpers 10 erfolgt über den zweiten Halblei­ terkörper 20 und den Kühlkörper 30, wobei die Wärmewiderstän­ de zwischen dem ersten Halbleiterkörper 10 und dem zweiten Halbleiterkörper 20 und zwischen dem zweiten Halbleiterkörper 20 und dem Kühlkörper 30 durch die Verwendung metallischer Zwischenschichten 21, 31 gering sind, so dass eine gute Wär­ meabfuhr aus dem ersten Halbleiterkörper 10 gewährleistet ist. Selbstverständlich können neben metallischen Zwischen­ schichten 21, 31 beliebige weitere Zwischenschichten verwen­ det werden, welche einen geringen Wärmewiderstand aufweisen und welche eine elektrisch leitende Verbindung zwischen dem ersten Halbleiterkörper 10 und dem zweiten Halbleiterkörper 20 bzw. zwischen dem zweiten Halbleiterkörper 20 und dem Kühlkörper 30 gewährleisten.Problems of electromagnetic radiation via the cooling body 30 do not exist in the arrangement shown in FIG. 2, since the cathode connection K remains at least approximately at a constant potential Vout. The first semiconductor body 10 is cooled via the second semiconductor body 20 and the heat sink 30 , the heat resistances between the first semiconductor body 10 and the second semiconductor body 20 and between the second semiconductor body 20 and the heat sink 30 through the use of metallic intermediate layers 21 , 31 are low, so that good heat dissipation from the first semiconductor body 10 is ensured. Of course, in addition to metallic intermediate layers 21 , 31, any further intermediate layers can be used which have a low thermal resistance and which ensure an electrically conductive connection between the first semiconductor body 10 and the second semiconductor body 20 or between the second semiconductor body 20 and the heat sink 30 .

Fig. 3 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel einer erfin­ dungsgemäßen Schaltungsanordnung, welches sich von dem in Fig. 2 dargestellten Ausführungsbeispiel dadurch unterschei­ det, dass auf den ersten Halbleiterkörper 10 ein dritter Halbleiterkörper 40 aufgebracht ist, in welchen eine Ansteu­ erschaltung IC für den in dem ersten Halbleiterkörper integ­ rierten Leistungsschalter T integriert ist. Eine Anschluss­ klemme AK der Ansteuerschaltung IC ist an den Gate-Anschluss G, 41 des ersten Halbleiterkörpers 10 angeschlossen. Der dritte Halbleiterkörper 40 ist vorzugsweise mittels einer e­ lektrisch isolierenden Zwischenschicht 44 auf den ersten Halbleiterkörper 10 aufgebracht. Fig. 3 shows a further embodiment of a circuit arrangement according to the invention, which differs from the embodiment shown in Fig. 2 in that a third semiconductor body 40 is applied to the first semiconductor body 10 , in which a control circuit IC for the in the first Integrated semiconductor circuit breaker T is integrated. A connection terminal AK of the control circuit IC is connected to the gate connection G, 41 of the first semiconductor body 10 . The third semiconductor body 40 is preferably applied to the first semiconductor body 10 by means of an electrically insulating intermediate layer 44 .

Bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 3 ist eine Metallisie­ rungsebene 211 auf die Vorderseite 201 des zweiten Halblei­ terkörpers 20 aufgebracht, welche die Vorderseite 201 vor­ zugsweise vollständig überdeckt. Zwischen der Rückseite 102 des ersten Halbleiterkörpers 10 und der Metallisierungsebene 211 ist eine elektrisch leitende Verbindungsschicht 212 - vorzugsweise ein Lötmaterial- ausgebildet, um die Rückseite 102 des ersten Halbleiterkörpers 10 und die Vorderseite 201 des zweiten Halbleiterkörpers 20 elektrisch leitend miteinan­ der zu verbinden. Die Metallisierungsebene 211 und die Ver­ bindungsschicht 212 bilden eine elektrisch leitende Zwischen­ schicht 21.In the embodiment of FIG. 3, a metallization level 211 is applied to the front side 201 of the second semiconductor body 20 , which preferably completely covers the front side 201 . Between the rear side 102 of the first semiconductor body 10 and the metallization level 211 , an electrically conductive connection layer 212 - preferably a solder material - is formed in order to connect the rear side 102 of the first semiconductor body 10 and the front side 201 of the second semiconductor body 20 to one another in an electrically conductive manner. The metallization level 211 and the connection layer 212 form an electrically conductive intermediate layer 21 .

Ein neben dem ersten Halbleiterkörper 10 freiliegender Be­ reich 42 der Metallisierungsebene 211 bildet einen Kontakt D, A für den Drain-Anschluss des Transistors T in dem ersten Halbleiterkörper 10 bzw. für die Anode der Diode DD in dem zweiten Halbleiterkörper 20. Die im Bereich der Rückseite 102 des ersten Halbleiterkörpers 10 angeordnete Drainzone kann über den Kontakt 42 auf einfache Weise kontaktiert werden. Der Kontakt 42 bildet einen gemeinsamen Anschluss für die A­ node A der Diode DD und das Drain D des Transistors T.An adjacent to the first semiconductor body 10 loading area 42 of the metallization level 211 forms a contact D, A for the drain connection of the transistor T in the first semiconductor body 10 or for the anode of the diode DD in the second semiconductor body 20 . The drain zone arranged in the area of the rear side 102 of the first semiconductor body 10 can be contacted in a simple manner via the contact 42 . The contact 42 forms a common connection for the A node A of the diode DD and the drain D of the transistor T.

Fig. 4 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel einer erfin­ dungsgemäßen Schaltungsanordnung in perspektivischer Darstel­ lung, bei der mehrere zweite Halbleiterkörper 22, 24, 26 mit darüberliegenden ersten Halbleiterkörpern 12, 14, 16 auf ei­ nem Kühlkörper 32 aufgebracht sind. Wie auch bei dem Ausfüh­ rungsbeispiel gemäß Fig. 2 ist jeder erste Halbleiterkörper, in dem ein vertikaler Transistor integriert ist, 12, 14, 16 gut wärmeleitend und elektrisch leitend mit dem jeweiligen zweiten Halbleiterkörper 22, 24, 26 verbunden. Des Weiteren ist jeder zweite Halbleiterkörper 22, 24, 26, in dem eine Di­ ode integriert ist, gut wärmeleitend und elektrisch leitend mit dem Kühlkörper 32 verbunden. Auf dem Kühlkörper 32 sind vierte Halbleiterkörper 52, 54, 56 aufgebracht, in denen wei­ tere Halbleiterschalter integriert sind. Diese Halbleiter­ schalter sind ebenfalls als vertikale Transistoren ausgebil­ det, wobei Rückseiten der Halbleiterkörper 52, 54, 56 elekt­ risch leitend und gut wärmeleitend mit dem Kühlkörper 32 ver­ bunden sind. Die Kathodenanschlüsse aller in den zweiten Halbleiterkörpern 22, 24, 26 integrierten Dioden und die Drain-Anschlüsse aller in den vierten Halbleiterkörpern 52, 54, 56 integrierten weiteren Leistungstransistoren befinden sich über dem Kühlkörper 32 auf einem gemeinsamen Potential. Auf Vorderseiten der vierten Halbleiterkörper 52, 54, 56 sind Source-Anschlüsse S52, S54, S56 und Gate-Anschlüsse G52, G54, G56 der weiteren Leistungstransistoren zugänglich. Außerdem sind auf den Vorderseiten der ersten Halbleiterkörper 12, 14, 16 sowohl Source-Anschlüsse S12, S14, S16 als auch Gate- Anschlüsse G12, G14, G16 zugänglich. Fig. 4 shows a further embodiment of an inventive circuit arrangement in perspective presen- tation, in which a plurality of second semiconductor bodies 22 , 24 , 26 with overlying first semiconductor bodies 12 , 14 , 16 are applied to egg NEM heat sink 32 . As with the exporting approximately example of FIG. 2, each first semiconductor body, in which a vertical transistor is integrated, 12, 14, 16 well conductively connected thermally conductive and electrically connected to the respective second semiconductor body 22, 24, 26. Furthermore, every second semiconductor body 22 , 24 , 26 , in which a diode is integrated, is connected to the heat sink 32 with good heat and electrical conductivity. Fourth semiconductor bodies 52 , 54 , 56 , in which further semiconductor switches are integrated, are applied to the heat sink 32 . These semiconductor switches are also ausgebil det as vertical transistors, the rear sides of the semiconductor body 52 , 54 , 56 are electrically conductive and good heat conductor with the heat sink 32 a related party. The cathode connections of all the diodes integrated in the second semiconductor bodies 22 , 24 , 26 and the drain connections of all further power transistors integrated in the fourth semiconductor bodies 52 , 54 , 56 are at a common potential above the heat sink 32 . Source connections S52, S54, S56 and gate connections G52, G54, G56 of the further power transistors are accessible on the front sides of the fourth semiconductor bodies 52 , 54 , 56 . In addition, both source connections S12, S14, S16 and gate connections G12, G14, G16 are accessible on the front sides of the first semiconductor bodies 12 , 14 , 16 .

Fig. 5 zeigt das elektrische Ersatzschaltbild der in Fig. 4 dargestellten Schaltungsanordnung. Das Ersatzschaltbild weist drei Reihenschaltungen eines ersten Leistungstransistors T12, T14, T16 und eines zweiten Leistungstransistors T52, T54, T56 auf, wobei ein Source-Anschluss S52, S54, S56 eines zweiten Leistungstransistors T52, T54, T56 an jeweils einen Drain- Anschluss eines ersten Leistungstransistors T12, T14, T16 an­ geschlossen ist. Hierzu sind in Fig. 4 schematisch elektri­ sche Verbindungen 62, 64, 66 eingezeichnet, die den Source- Anschluss S52, S54, S56 jedes weiteren Leistungstransistors mit der Vorderseite jeweils eines der zweiten Halbleiterkör­ per 22, 24, 26 verbindet, wobei die Vorderseite elektrisch mit der Rückseite eines der ersten Halbleiterkörper 12, 14, 16 und damit elektrisch leitend mit jeweils einem Drain- Anschluss eines ersten Leistungstransistors T12, T14, T16 verbunden ist. In Reihe zu den ersten Leistungstransistoren T12, T14, T16 und damit parallel zu den zweiten Leistungs­ transistoren T52, T54, T56 ist jeweils eine Diode D22, D24, D26 geschaltet, die in den zweiten Halbleiterkörpern 22, 24, 26 integriert ist. Die Kathodenanschlüsse K der Dioden D22, D24, D26 und die Drain-Anschlüsse der zweiten Leistungstransistoren T52, T54, T56 sind über den Kühlkörper 32 miteinan­ der verbunden. FIG. 5 shows the electrical equivalent circuit diagram of the circuit arrangement shown in FIG. 4. The equivalent circuit diagram has three series connections of a first power transistor T12, T14, T16 and a second power transistor T52, T54, T56, with a source connection S52, S54, S56 of a second power transistor T52, T54, T56 each connected to a drain connection of a first Power transistor T12, T14, T16 is closed. For this purpose, electrical connections 62 , 64 , 66 are shown schematically in FIG. 4, which connects the source connection S52, S54, S56 of each further power transistor to the front side of one of the second semiconductor bodies by 22 , 24 , 26 , the front side being electrical with the back of one of the first semiconductor bodies 12 , 14 , 16 and thus electrically conductively connected to a drain connection of a first power transistor T12, T14, T16. In series with the first power transistors T12, T14, T16 and thus in parallel with the second power transistors T52, T54, T56, a diode D22, D24, D26 is connected, which is integrated in the second semiconductor bodies 22 , 24 , 26 . The cathode connections K of the diodes D22, D24, D26 and the drain connections of the second power transistors T52, T54, T56 are connected to one another via the heat sink 32 .

Die in den Fig. 4, 5 dargestellte Halbbrückenschaltung eignet sich zur Ansteuerung von Motoren, wobei hierzu paral­ lel zu den ersten Leistungstransistoren T12, T14, T16 weitere Freilaufdioden parallel zu schalten sind, die in Fig. 5 ge­ strichelt eingezeichnet sind.The half-bridge circuit shown in FIGS . 4, 5 is suitable for driving motors, with additional freewheeling diodes to be connected in parallel to the first power transistors T12, T14, T16, which are shown in dashed lines in FIG. 5.

Die erfindungsgemäße Schaltungsanordnung ermöglicht auf ein­ fache Weise die Realisierung der Reihenschaltung eines Leis­ tungstransistors und einer Diode, wobei eine gute Kühlung des Leistungstransistors gewährleistet ist und bei der keine e­ lektromagnetische Störstrahlung von dem Kühlkörper abge­ strahlt wird, ohne dass eine elektrische Isolation zwischen den auf dem Kühlkörper aufgebrachten Halbleiterkörpern und dem Kühlkörper erforderlich ist. Als Leistungstransistoren sind im Zusammenhang mit der Erfindung beliebige Leistungs­ transistoren einsetzbar, die in vertikaler Bauweise ausge­ führt sind. Als Leistungstransistoren eignen sich insbesonde­ re MOSFET (Metal Oxid Semiconductor Field Effect Transistor) und IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor). The circuit arrangement according to the invention enables on simple way to implement the series connection of a Lei tung transistor and a diode, good cooling of the Power transistor is guaranteed and in which no e Electromagnetic interference radiation abge from the heat sink is radiated without electrical insulation between the semiconductor bodies applied to the heat sink and the heat sink is required. As power transistors are any performance in connection with the invention transistors can be used, the vertical construction leads are. Particularly suitable as power transistors right MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) and IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor).  

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

A Anode
AK Ausgangsklemme
C Kondensator
D Drain-Anschluss
DD Diode
D22, D24, D26 Dioden
G Gate-Anschluss
GND Bezugspotential
G12, G14, G16 Gate-Anschlüsse
G52, G54, G56 Gate-Anschlüsse
IC Ansteuerschaltung
K Kathode
S Source-Anschluss
S12, S14, S16 Source-Anschlüsse
S52, S54, S56 Source-Anschlüsse
T Leistungstransistor
T12, T14, T16 erster Leistungstransistor
T52, T54, T56 zweiter Leistungstransistor
Vin Eingangsspannung
Vout Ausgangsspannung
A anode
AK output terminal
C capacitor
D drain connector
DD diode
D22, D24, D26 diodes
G gate connector
GND reference potential
G12, G14, G16 gate connections
G52, G54, G56 gate connections
IC control circuit
K cathode
S source connector
S12, S14, S16 source connections
S52, S54, S56 source connections
T power transistor
T12, T14, T16 first power transistor
T52, T54, T56 second power transistor
Vin input voltage
Vout output voltage

1010

erster Halbleiterkörper
first semiconductor body

1111

Source-Elektrode
Source electrode

1212

, .

1414

, .

1616

erster Halbleiterkörper
first semiconductor body

2020

zweiter Halbleiterkörper
second semiconductor body

2222

, .

2424

, .

2626

zweiter Halbleiterkörper
second semiconductor body

2121

Zwischenschicht
interlayer

211211

Metallisierungsebene
metallization

212212

Verbindungsschicht
link layer

3030

Kühlkörper
heatsink

3131

Zwischenschicht
interlayer

4040

dritter Halbleiterkörper
third semiconductor body

4141

Gate-Elektrode
Gate electrode

4242

Drain-Anschluss
Drain

4343

Kathoden-Anschluss
Cathode terminal

4444

isolierende Zwischenschicht
insulating intermediate layer

6262

, .

6464

, .

6666

elektrisch leitende Verbindungen
electrically conductive connections

101101

Vorderseite des ersten Halbleiterkörpers
Front of the first semiconductor body

102102

Rückseite des ersten Halbleiterkörpers
Back of the first semiconductor body

201201

Vorderseite des zweiten Halbleiterkörpers
Front of the second semiconductor body

202202

Rückseite des zweiten Halbleiterkörpers
Back of the second semiconductor body

Claims (11)

1. Schaltungsanordnung, die ein Halbleiterschaltelement (T; T12, T14, T16), das in einem ersten Halbleiterkörper (10; 12, 14, 16) integriert ist, und ein dazu in Reihe geschaltetes weiteres Halbleiterbauelement (DD; D22, D24, D26), das in ei­ nem zweiten Halbleiterkörper (D22, D24, D26) integriert ist, aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Halbleiterkörper (20; 22, 24, 26) auf einem Kühl­ körper (30; 32) angeordnet ist und dass der erste (10; 12, 14, 16) Halbleiterkörper auf dem zweiten Halbleiterkörper (20; 22, 24, 26) angeordnet ist.1. A circuit arrangement which has a semiconductor switching element (T; T12, T14, T16) which is integrated in a first semiconductor body ( 10 ; 12 , 14 , 16 ) and a further semiconductor component (DD; D22, D24, D26) connected in series ), which is integrated in a second semiconductor body (D22, D24, D26), characterized in that the second semiconductor body ( 20 ; 22 , 24 , 26 ) is arranged on a cooling body ( 30 ; 32 ) and that first ( 10 ; 12 , 14 , 16 ) semiconductor body is arranged on the second semiconductor body ( 20 ; 22 , 24 , 26 ). 2. Schaltungsanordnung nach Anspruch 1, bei dem das Halblei­ terschaltelement (T; T12, T14, T16) ein Transistor und bei dem das weitere Halbleiterbauelement (DD; D12, D14, D16) eine Diode ist.2. Circuit arrangement according to claim 1, wherein the half lead terschaltelement (T; T12, T14, T16) a transistor and at which the further semiconductor component (DD; D12, D14, D16) one Is diode. 3. Schaltungsanordnung nach Anspruch 1 oder 2, bei dem eine dem zweiten Halbleiterkörper (20; 22, 24, 26) zugewandte Flä­ che des ersten Halbleiterkörpers (10; 12, 14, 16) kleiner ist als eine dem ersten Halbleiterkörper (10; 12, 14, 16) zuge­ wandte Fläche des zweiten Halbleiterkörpers (20; 22, 24, 26) ist.3. Circuit arrangement according to claim 1 or 2, in which a surface of the first semiconductor body ( 10 ; 12 , 14 , 16 ) facing the second semiconductor body ( 20 ; 22 , 24 , 26 ) is smaller than one surface of the first semiconductor body ( 10 ; 12 , 14 , 16 ) facing surface of the second semiconductor body ( 20 ; 22 , 24 , 26 ). 4. Schaltungsanordnung nach einem der vorangehenden Ansprü­ che, bei dem der zweite Halbleiterkörper (20; 22, 24, 26) auf den Kühlkörper (30; 32) aufgelötet oder aufgeklebt ist.4. Circuit arrangement according to one of the preceding and workman surface, in which the second semiconductor body ( 20 ; 22 , 24 , 26 ) is soldered or glued to the heat sink ( 30 ; 32 ). 5. Schaltungsanordnung nach einem der vorangehenden Ansprü­ che, bei dem der erste Halbleiterkörper (10; 12, 14, 16) auf den zweiten Halbleiterkörper (20; 22, 24, 26) aufgelötet oder aufgeklebt ist.5. Circuit arrangement according to one of the preceding claims, in which the first semiconductor body ( 10 ; 12 , 14 , 16 ) is soldered or glued to the second semiconductor body ( 20 ; 22 , 24 , 26 ). 6. Schaltungsanordnung nach einem der vorangehenden Ansprü­ che, bei dem ein weiterer Halbleiterkörper (40), in dem eine Ansteuerschaltung für den Halbleiterschalter integriert ist, auf den ersten Halbleiterkörper (10) aufgebracht ist.6. Circuit arrangement according to one of the preceding claims, in which a further semiconductor body ( 40 ), in which a control circuit for the semiconductor switch is integrated, is applied to the first semiconductor body ( 10 ). 7. Schaltungsanordnung nach einem der vorangehenden Ansprü­ che, bei der ein weiterer Halbleiterschalter (T52, T54, T56), der in einem vierten Halbleiterkörper (52, 54, 56) integ­ riert ist, auf dem Kühlkörper (32) angeordnet ist.7. Circuit arrangement according to one of the preceding claims, in which a further semiconductor switch (T52, T54, T56) which is integrated in a fourth semiconductor body ( 52 , 54 , 56 ) is arranged on the heat sink ( 32 ). 8. Schaltungsanordnung nach Anspruch 7, bei der mehrere zwei­ te Halbleiterkörper (22, 24, 26), auf denen jeweils ein ers­ ter Halbleiterkörper (12, 14, 16) mit einem integrierten Halbleiterschalter (T12, T14, T16) angeordnet ist, und bei der mehrere vierte Halbleiterkörper (52, 54, 56) mit integ­ rierten weiteren Halbleiterschaltern (T52, T54, T56) auf dem Kühlkörper (32) angeordnet sind.8. The circuit arrangement as claimed in claim 7, in which a plurality of second semiconductor bodies ( 22 , 24 , 26 ), on each of which a first semiconductor body ( 12 , 14 , 16 ) with an integrated semiconductor switch (T12, T14, T16) is arranged, and in which a plurality of fourth semiconductor bodies ( 52 , 54 , 56 ) with integrated further semiconductor switches (T52, T54, T56) are arranged on the heat sink ( 32 ). 9. Schaltungsanordnung nach einem der vorangehenden Ansprü­ che, bei dem ein auf einer Vorderseite 201 des zweiten Halb­ leiterkörpers 20 freiliegender Bereich einer elektrisch lei­ tenden Zwischenschicht (21; 211) einen Anschluss für die Rückseite 102 des ersten Halbleiterkörpers 10 bildet.9. Circuit arrangement according to one of the preceding claims, in which an exposed area of an electrically conductive intermediate layer ( 21 ; 211 ) on a front side 201 of the second semiconductor body 20 forms a connection for the rear side 102 of the first semiconductor body 10 . 10. Verwendung einer Schaltungsanordnung nach einem der vo­ rangehenden Ansprüche in einem Schaltnetzteil.10. Use of a circuit arrangement according to one of the vo ranked claims in a switching power supply. 11. Verwendung einer Schaltungsanordnung nach einem der vo­ rangehenden Ansprüche in einer Halbbrückenschaltung.11. Use of a circuit arrangement according to one of the vo ranking claims in a half-bridge circuit.
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